虚像現出装飾体の製造方法、及び虚像現出装飾体
【課題】虚像現出装飾体の画像表示領域に現出させる虚像の階調を調整可能な虚像現出装飾体の製造方法、及び虚像現出装飾体を提供する。
【解決手段】虚像現出装飾体の製造方法は、画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備える虚像現出装飾体の製造方法であって、画素ドットを所定の位置に配設することによって画素ユニットの画像部分を形成して、ユニット集合体を形成するユニット集合体形成工程を有し、ユニット集合体形成工程では、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含むユニット集合体を形成する。
【解決手段】虚像現出装飾体の製造方法は、画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備える虚像現出装飾体の製造方法であって、画素ドットを所定の位置に配設することによって画素ユニットの画像部分を形成して、ユニット集合体を形成するユニット集合体形成工程を有し、ユニット集合体形成工程では、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含むユニット集合体を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、規則的に配設された画素ユニットと、画素ユニットを覆う位置に規則的に配設されたレンズ状の集光素とを備え、画素ユニットに形成されている画像が拡大された虚像を現出させる虚像現出装飾体、及び虚像現出装飾体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、規則的に配設された画素ユニットと、画素ユニットを覆う位置に規則的に配設されたレンズ状の集光素とを備え、画素ユニットに形成されている画像が拡大された虚像を現出させる虚像現出装飾体が知られている。
特許文献１には、レンズ状集光素が、１０＜＝線数＜＝７０を満たす紗体を形成する紗線によってできた升目を単位として形成されており、画素（画素ユニット）が、上記紗体の線数未満の線数からなる紗体を形成する紗線によってできた升目を単位として形成されており、拡大虚像を画素（画素ユニット）層の上方に出現させることができる虚像現出装飾体が開示されている。また、レンズ状集光素が、１０＜＝線数＜＝７０を満たす紗体を形成する紗線によってできた升目を単位として形成されており、画素（画素ユニット）が、上記紗体の線数を超える線数からなる紗体を形成する紗線によってできた升目を単位として形成されており、拡大虚像を画素（画素ユニット）層の下方に出現させることができる虚像現出装飾体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３５０５６１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に開示されたような虚像現出装飾体においては、拡大虚像における画素ユニットの画像の階調は、画素ユニットの画像を形成する画素ドットの階調によって定まる。このため、虚像における画像の階調は画像の有無の２階調のみであり、表現の自由度が乏しいという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法は、画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が前記画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備える虚像現出装飾体の製造方法であって、前記画素ドットを所定の位置に配設することによって前記画素ユニットの画像部分を形成して、前記ユニット集合体を形成するユニット集合体形成工程を有し、前記ユニット集合体形成工程では、前記画素ドットの色調が前記画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含む前記ユニット集合体を形成することを特徴とする。
【０００７】
本適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法によれば、ユニット集合体形成工程では、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含むユニット集合体を形成する。画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットは、例えば、画素ドットが配置されない画素ユニットである。虚像現出装飾体に現出する虚像は、レンズ体によって形成された画素ユニットの一部分の虚像の集合体である。虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分は、レンズ体によって形成された画素ユニットの画像部分の一部分の虚像の集合体である。背景色画素ユニットにおいては、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調であるため、背景色画素ユニットの画像部分の虚像は、背景部分の色調を有する。背景色画素ユニットが存在することによって、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分の中に、背景部分の色調を有する虚像が存在する。当該部分は、虚像現出装飾体に現出する虚像をレンズ体が個別に視認可能な程度に拡大して観察すれば個別に判別可能であるが、それより小さい虚像においては、他の画像部分と一体に見える。これにより、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分全体としては、色調が、画像部分の色調より背景部分の色調側にずれた虚像に見える。同様に、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分全体としては、階調が、画像部分の階調より背景部分の階調側にずれた虚像に見える。当該階調のずれ量は、背景色画素ユニットの数によって異なるため、背景色画素ユニットの数を調整することによって、画像部分の階調を調整することができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法において、前記ユニット集合体形成工程では、前記背景色画素ユニットを、前記ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することが好ましい。
【０００９】
この虚像現出装飾体の製造方法によれば、背景色画素ユニットは、ユニット集合体におけるランダムな位置に配置される。虚像現出装飾体に現出する虚像は、レンズ体によって形成された画素ユニットの一部分の虚像の集合体である。１個の背景色画素ユニットは、１個のレンズ体を介して、その一部分が虚像として視認される。虚像現出装飾体に現出する虚像において、１個のレンズ体が占める面積は微小である。虚像現出装飾体に現出する虚像において、１個の背景色画素ユニットが、１個のレンズ体を介して個別に視認できることは実際的にない。したがって、背景色画素ユニットは、単独で存在する状態では、レンズ体を介しても視認され難い。しかし、多数の背景色画素ユニットが互いに近くに位置すると、レンズ体を介して形成された背景色の画素ドットの虚像が、虚像現出装飾体に現出する虚像において、かたまって存在し、視認されやすくなる。背景色の画素ドットが虚像として視認されると、画像が欠けて見える。背景色画素ユニットを、ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することで、背景色画素ユニットが近接して配置されることに起因して背景色画素ユニットの虚像が視認されやすくなることを、抑制することができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法において、前記画素ユニットの前記背景部分に背景色材を配置して、前記背景部分を形成する背景形成工程をさらに有し、前記背景形成工程では、前記背景部分が前記画素ユニットを形成する基材の表面である基材面背景ユニットを、少なくとも１個形成することが好ましい。
【００１１】
この虚像現出装飾体の製造方法によれば、背景形成工程を有し、背景形成工程では、背景部分が画素ユニットを形成する基材の表面である基材面背景ユニットを、形成する。背景部分が基材の表面である基材面背景ユニットは、例えば、背景色材が配置されないユニット集合体である。虚像現出装飾体に現出する虚像は、レンズ体によって形成された画素ユニットの一部分の虚像の集合体である。虚像現出装飾体に現出する虚像における背景部分は、レンズ体によって形成された画素ユニットの背景部分の一部分の虚像の集合体である。基材面背景ユニットにおいては、背景部分の色調が基材面の色調であるため、基材面背景ユニットの背景部分の虚像は、基材面の色調を有する。基材面背景ユニットが存在することによって、虚像現出装飾体に現出する虚像における背景部分の中に、基材面の色調を有する虚像が存在する。当該部分は、虚像現出装飾体に現出する虚像をレンズ体が個別に視認可能な程度に拡大して観察すれば個別に判別可能であるが、それより小さい虚像においては、他の背景部分と一体に見える。これにより、虚像現出装飾体に現出する虚像における背景部分全体としては、色調が、画像部分の色調より背景部分の色調側にずれた虚像に見える。同様に、虚像現出装飾体に現出する虚像における背景部分全体としては、階調が、背景部分の階調より基材面の階調側にずれた虚像に見える。当該階調のずれ量は、基材面背景ユニットの数によって異なるため、基材面背景ユニットの数を調整することによって、背景部分の階調を調整することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法において、前記背景形成工程では、前記基材面背景ユニットを、前記ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することが好ましい。
【００１３】
この虚像現出装飾体の製造方法によれば、背景形成工程において、基材面背景ユニットは、ユニット集合体におけるランダムな位置に配置される。虚像現出装飾体に現出する虚像の背景部分は、レンズ体によって形成された画素ユニットの背景部分の一部分の虚像の集合体である。１個の基材面背景ユニットは、１個のレンズ体を介して、その一部分が虚像として視認される。虚像現出装飾体に現出する虚像において、１個のレンズ体が占める面積は微小である。虚像現出装飾体に現出する虚像において、１個の基材面背景ユニットが、１個のレンズ体を介して個別に視認できることは実際的にない。したがって、基材面背景ユニットは、単独で存在する状態では、レンズ体を介しても視認され難い。しかし、多数の基材面背景ユニットが互いに近くに位置すると、レンズ体を介して形成された基材面の虚像が、虚像現出装飾体に現出する虚像において、かたまって存在し、視認されやすくなる。基材面が虚像として視認されると、背景色の中に基材面の点が存在するように見える。基材面背景ユニットを、ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することで、基材面背景ユニットが近接して配置されることに起因して基材面背景ユニットの虚像が視認されやすくなることを、抑制することができる。
【００１４】
［適用例５］上記適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法において、前記ユニット集合体における、前記背景色画素ユニット、又は前記基材面背景ユニットの少なくとも一方の配設位置を、ランダムディザパターンによって決定することが好ましい。
【００１５】
この虚像現出装飾体の製造方法によれば、ユニット集合体における、背景色画素ユニットや基材面背景ユニットの配設位置を、ランダムディザパターンによって決定する。ランダムディザパターンに、ディザ法を用いて、点の座標位置をランダムに配置したパターンである。ユニット集合体における、背景色画素ユニットの配設位置を、ランダムディザパターンにおけるドットの座標位置と重ならない位置にすることで、虚像現出装飾体に現出する虚像を視点を変えて観察した場合の、画像部分の階調のゆらぎを抑制することができる。ユニット集合体における、基材面背景ユニットの配設位置を、ランダムディザパターンにおけるドットの座標位置と重ならない位置にすることで、虚像現出装飾体に現出する虚像を視点を変えて観察した場合の、背景部分の階調のゆらぎを抑制することができる。
【００１６】
［適用例６］本適用例にかかる虚像現出装飾体は、画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が前記画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備え、前記ユニット集合体は、前記画素ドットの色調が前記画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含むことを特徴とする。
【００１７】
本適用例にかかる虚像現出装飾体によれば、ユニット集合体は、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含んでいる。画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットは、例えば、画素ドットが配置されない画素ユニットである。虚像現出装飾体に現出する虚像は、レンズ体によって形成された画素ユニットの一部分の虚像の集合体である。虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分は、レンズ体によって形成された画素ユニットの画像部分の一部分の虚像の集合体である。背景色画素ユニットにおいては、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調であるため、背景色画素ユニットの画像部分の虚像は、背景部分の色調を有する。背景色画素ユニットが存在することによって、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分の中に、背景部分の色調を有する虚像が存在する。当該部分は、虚像現出装飾体に現出する虚像をレンズ体が個別に視認可能な程度に拡大して観察すれば個別に判別可能であるが、それより小さい虚像においては、他の画像部分と一体に見える。これにより、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分全体としては、色調が、画像部分の色調より背景部分の色調側にずれた虚像に見える。同様に、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分全体としては、階調が、画像部分の階調より背景部分の階調側にずれた虚像に見える。当該階調のずれ量は、背景色画素ユニットの数によって異なるため、背景色画素ユニットの数を調整することによって、画像部分の階調を調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】（ａ）は、液滴吐出装置全体の概略構成を示す外観斜視図。（ｂ）は、液滴吐出装置が備える液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図。
【図２】（ａ）は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図。（ｂ）は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図。（ｃ）は、液滴を吐出走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図。（ｄ）は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図。
【図３】（ａ）は、虚像現出装飾体の構成の要部を示す断面図。（ｂ）は、虚像現出装飾体に形成される虚像を示す模式平面図。
【図４】（ａ）は、虚像現出装飾体のレンズアレイの構成を示す平面図。（ｂ）は、レンズアレイの拡大平面図。（ｃ）は、虚像現出装飾体の画素集合体の構成を示す平面図。（ｄ）は、画素集合体の拡大平面図。（ｅ）は、虚像現出装飾体のレンズアレイと画素集合体との構成を示す平面図。（ｆ）は、レンズアレイと画素集合体との拡大平面図。
【図５】（ａ）は、虚像現出装飾体における、画素ユニットを備える画素集合体の構成を示す平面図。（ｂ）は、画素集合体における、画素ユニットの構成を示す平面図。
【図６】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）は、画素ユニットを画素ドットで示した説明図。（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、及び（ｈ）は、画素ユニットを画素ドット区画で示した説明図。
【図７】（ａ）は、階調の調整を実施していない画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。（ｂ）は、（ａ）に示した画素集合体において階調を調整した調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。（ｃ）は、背景部分に背景色が配置されており、階調の調整を実施していない画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。（ｄ）、（ｅ）、及び（ｆ）は、（ｃ）に示した画素集合体において階調を調整した調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。
【図８】（ａ）は、ランダムディザマスクの説明図。（ｂ）は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。
【図９】（ａ）は、ランダムディザマスクの説明図。（ｂ）は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明に係る虚像現出装飾体の製造方法、及び虚像現出装飾体の一実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態は、インクジェット方式の液滴吐出装置を用いて、虚像現出装飾体が備える画像表示部が備えるユニット集合体を構成する画素ユニットを描画することによって、画像表示部を形成する工程を例にして説明する。液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドと被描画媒体とを相対移動させると共に、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから機能液の液滴を吐出して、被描画媒体上の所定の位置に着弾させることによって、所定の画像などを形成する装置である。なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。
【００２０】
＜液滴吐出装置＞
最初に、液滴吐出装置１について、図１を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置の概略構成を示す外観斜視図である。図１（ａ）は、液滴吐出装置全体の概略構成を示す外観斜視図であり、図１（ｂ）は、液滴吐出装置が備える液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図である。
【００２１】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、ヘッド機構部２と、ワーク機構部３と、機能液供給部４と、メンテナンス装置部５と、吐出装置制御部７と、を備えている。ヘッド機構部２は、機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッド２０を備えている。ヘッド機構部２は、また、図示省略した紫外線照射部を有している。ワーク機構部３は、液滴吐出ヘッド２０から吐出された液滴の吐出対象（描画対象物）であるワークＷを載置するワーク載置台３３を備えている。機能液供給部４は、液滴吐出ヘッド２０へ機能液を供給する。メンテナンス装置部５は、液滴吐出ヘッド２０の保守を行う。吐出装置制御部７は、これら各機構部などを総括的に制御する。さらに、液滴吐出装置１は、床上に設置された複数の支持脚８と、支持脚８の上側に設置された定盤９とを備えている。
【００２２】
定盤９の上面には、ワーク機構部３が配設されている。ワーク機構部３は、定盤９の長手方向（Ｘ軸方向）に延在している。ワーク機構部３の上方には、定盤９に固定された２本の支持柱で支持されているヘッド機構部２が配設されている。ヘッド機構部２は、ワーク機構部３と略直交する方向（Ｙ軸方向）に延在している。定盤９の傍らには、ヘッド機構部２の液滴吐出ヘッド２０に連通する供給管を有する機能液供給部４の機能液タンクなどが配置されている。ヘッド機構部２の一方の支持柱の近傍には、メンテナンス装置部５がワーク機構部３と並んでＸ軸方向に延在して配設されている。さらに、定盤９の下側に、吐出装置制御部７が収容されている。
【００２３】
ヘッド機構部２は、液滴吐出ヘッド２０を有するヘッドユニット２１と、ヘッドユニット２１を支持するヘッドキャリッジ２２とを備えている。ヘッドキャリッジ２２をＹ軸方向に移動させることで、液滴吐出ヘッド２０をＹ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。ワーク機構部３は、ワーク載置台３３をＸ軸方向に移動させることで、ワーク載置台３３に載置されたワークＷをＸ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。
【００２４】
液滴吐出ヘッド２０を、Ｙ軸方向の吐出位置まで移動させて停止させ、下方にあるワークＷのＸ軸方向の移動に同調させて、機能液を液滴として吐出させる。液滴吐出ヘッド２０からの機能液の吐出をともなう、液滴吐出ヘッド２０とワークＷとの相対移動方向（走査方向）であるＸ軸方向を、吐出走査方向と表記する。
Ｘ軸方向に移動させるワークＷと、Ｙ軸方向に移動させる液滴吐出ヘッド２０とを相対的に制御することにより、ワークＷ上の任意の位置に液滴を着弾させることで、所望する描画などを行うことが可能である。
【００２５】
図１（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド２０は、ノズル基板２５を備えている。ノズル基板２５には、多数の吐出ノズル２４が略一直線状に並んだノズル列２４Ａが２列形成されている。吐出ノズル２４から機能液を液滴として吐出し、対向する位置にあるワークＷなどに着弾させることで、当該位置に機能液を配置する。ノズル列２４Ａは、液滴吐出ヘッド２０が液滴吐出装置１に装着された状態で、図１（ａ）に示したＹ軸方向に延在している。ノズル列２４Ａにおいて吐出ノズル２４は等間隔のノズルピッチで並んでおり、２列のノズル列２４Ａ間で、吐出ノズル２４の位置がＹ軸方向に半ノズルピッチずれている。したがって、液滴吐出ヘッド２０としては、Ｙ軸方向に半ノズルピッチ間隔で機能液の液滴を配置することができる。
【００２６】
Ｙ軸方向の描画範囲を広げるためには、液滴吐出ヘッド２０をＹ軸方向に連ねてもよいし、液滴吐出ヘッド２０をＹ軸方向に移動させて、液滴吐出ヘッド２０のＹ軸方向における位置ごとに、ワークＷのＸ軸方向の移動と液滴吐出ヘッド２０からの吐出を実施してもよい。
Ｙ軸方向の液滴の配置ピッチを小さくするためには、複数の液滴吐出ヘッド２０を、Ｙ軸方向における吐出ノズル２４の位置を互いにずらしてＸ軸方向に並べてもよいし、３列以上のノズル列を備える液滴吐出ヘッドを用いてもよい。もちろん、製造可能な範囲であれば、ノズルピッチが小さい液滴吐出ヘッドを用いることもできる。
【００２７】
＜着弾位置＞
次に、液滴吐出ヘッド２０の吐出ノズル２４と、それぞれの吐出ノズル２４から吐出された液滴の着弾位置と、の関係について、図２を参照して説明する。図２は、吐出ノズルと、それぞれの吐出ノズルから吐出された液滴の着弾位置と、の関係を示す説明図である。図２（ａ）は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図であり、図２（ｂ）は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図２（ｃ）は、液滴を吐出走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図２（ｄ）は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図である。図２に示したＸ軸方向及びＹ軸方向は、ヘッドユニット２１が液滴吐出装置１に取り付けられた状態において、図１に示したＸ軸方向又はＹ軸方向と一致している。Ｘ軸方向が吐出走査方向であって、図２に示した矢印ａの方向に吐出ノズル２４（液滴吐出ヘッド２０）を相対移動させながら、任意の位置において機能液の液滴を吐出することによって、Ｘ軸方向の任意の位置に液滴を着弾させることができる。
【００２８】
図２（ａ）に示すように、ノズル列２４Ａを構成する吐出ノズル２４は、Ｙ軸方向にノズルピッチＰの中心間距離で配列されている。上述したように、２列のノズル列２４Ａをそれぞれ構成する吐出ノズル２４同士は、Ｙ軸方向において、相互に、ノズルピッチＰの１／２ずつ位置がずれている。
【００２９】
図２（ｂ）に示すように、着弾位置を示す着弾点９１と、着弾した液滴の濡れ広がり状態を示す着弾円９１Ａとで、着弾した１滴の液滴の状態を示している。２列のノズル列２４Ａの全部の吐出ノズル２４から、図２（ｂ）に二点鎖線で示した仮想線Ｌ上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチＰの１／２の中心間間隔で着弾円９１Ａが直線状に連なるパターンが形成される。
【００３０】
図２（ｃ）に示すように、一つの吐出ノズル２４から連続して液滴を吐出させることによって、Ｘ軸方向に着弾円９１Ａが直線状に連なるパターンが形成される。Ｘ軸方向における着弾点９１間の中心間距離の最小値を、最小着弾距離ｄと表記する。最小着弾距離ｄは、Ｘ軸方向における相対移動速度と、吐出ノズル２４の最小吐出間隔（時間）との積である。
【００３１】
図２（ｄ）に示すように、二点鎖線で示した仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチＰの１／２の中心間間隔で着弾円９１Ａが連なる直線が、Ｘ軸方向に並列した着弾面が形成される。図２（ｄ）に示した仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３間の距離が最小着弾距離ｄの場合のそれぞれの着弾点９１が、液滴吐出装置１によって機能液の液滴を配置可能な位置である。
【００３２】
画像の描画に際しては、画像の情報に従って、図２（ｄ）に示したそれぞれの着弾点９１の位置について、液滴を配置する位置を定める。例えば、当該配置位置、及び配置位置に液滴を吐出する吐出ノズル２４を指定した画素配置図を形成し、当該画素配置図に従って機能液を着弾させることによって、画像の情報によって規定される画像を描画する。なお、図２（ｄ）に示した例では、着弾円９１Ａの間に隙間が存在するが、ノズルピッチＰや最小着弾距離ｄに対して、吐出する液滴の１滴あたりの吐出重量を適切に定めることによって、隙間なく機能液を配置することが可能である。もちろん、他の液滴と重ねることなく、１滴の液滴を独立させて配置することも可能である。
【００３３】
＜虚像現出装飾体＞
次に、画素ユニットを有する画素集合体、及びマイクロレンズアレイを備える虚像現出装飾体の構成について、図３及び図４を参照して説明する。図３は、虚像現出装飾体の構成を示す模式図である。図３（ａ）は、虚像現出装飾体の構成の要部を示す断面図であり、図３（ｂ）は、虚像現出装飾体に形成される虚像を示す模式平面図である。図４は、虚像現出装飾体を構成する要素の構成を示す模式図である。図４（ａ）は、虚像現出装飾体のレンズアレイの構成を示す平面図であり、図４（ｂ）は、レンズアレイの拡大平面図であり、図４（ｃ）は、虚像現出装飾体の画素集合体の構成を示す平面図であり、図４（ｄ）は、画素集合体の拡大平面図であり、図４（ｅ）は、虚像現出装飾体のレンズアレイと画素集合体との構成を示す平面図であり、図４（ｆ）は、レンズアレイと画素集合体との拡大平面図である。
【００３４】
図３（ａ）に示すように、虚像現出装飾体５１は、基材５３と、マイクロレンズアレイ６１と、画素集合体７１とを備えている。基材５３は、透明な素材で形成されたフィルム状の部材である。基材５３の素材としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などが挙げられる。基材５３の一面には、撥液層５５が形成されている。撥液層５５の上には、マイクロレンズアレイ６１を構成するマイクロレンズ６２が形成されている。基材５３の撥液層５５が形成されている面の反対側の面には、画素集合体７１を構成する画素ユニット７２が形成されている。
【００３５】
図３（ａ）に示した矢印ｓの方向から見ると、図３（ｂ）に示すように、画素虚像７３を視認することができる。図３（ｂ）には、画素虚像７３として、文字Ａ、文字Ｂ、文字Ｃ、及び文字Ｄが例示してある。文字Ａ、文字Ｂ、文字Ｃ、又は文字Ｄの形状を有する画素虚像７３を、画素虚像７３Ａ、画素虚像７３Ｂ、画素虚像７３Ｃ、又は画素虚像７３Ｄと表記する。１個の画素集合体７１に対応して１個の画素虚像７３が現出する。１個の画素集合体７１が形成されており、１個の画素虚像７３が現出する領域を集合体領域７１０と表記する。画素虚像７３Ａ、画素虚像７３Ｂ、画素虚像７３Ｃ、又は画素虚像７３Ｄが形成される集合体領域７１０を、集合体領域７１０ａ、集合体領域７１０ｂ、集合体領域７１０ｃ、又は集合体領域７１０ｄと表記する。
【００３６】
マイクロレンズアレイ６１は、マイクロレンズ６２が格子状に等ピッチ間隔で並べられて形成されている。１個の集合体領域７１０に対応する位置に形成されているマイクロレンズ６２の集合をマイクロレンズアレイ６１と表記し、虚像現出装飾体５１全体に形成されているマイクロレンズ６２の集合をマイクロレンズアレイ６１０と表記する。図４（ａ）に二点鎖線で示した領域に、マイクロレンズアレイ６１０が形成されている。図４（ｂ）に示すように、マイクロレンズアレイ６１は、マイクロレンズ６２がピッチＰ１で、縦横に配列されている。マイクロレンズアレイ６１には、例えば、４５行×４５列で、２０２５個のマイクロレンズ６２が形成されている。ピッチＰ１は、例えば１８０μｍである。
【００３７】
図４（ｃ）に示した二点鎖線で囲まれた領域が、１個所の集合体領域７１０を示している。１個所の集合体領域７１０には、１個の画素集合体７１が形成されている。集合体領域７１０ａ、集合体領域７１０ｂ、集合体領域７１０ｃ、又は集合体領域７１０ｄに形成されている画素集合体７１を、画素集合体７１ａ、画素集合体７１ｂ、画素集合体７１ｃ、又は画素集合体７１ｄと表記する。図４（ｄ）に示すように、画素集合体７１は、画素ユニット７２がピッチＰ２で、縦横に配列されている。ピッチＰ２と、ピッチＰ１とは、ピッチＰ１×（マイクロレンズアレイ６１におけるマイクロレンズ６２の行数又は列数−１）＝ピッチＰ２×（画素集合体７１における画素ユニット７２の行数又は列数）の関係を満たす値に設定されている。図４（ｄ）に示した画素集合体７１は、画素集合体７１ａであり、画素虚像７３Ａと略相似形状を有する画素ユニット７２ａがピッチＰ２で配列されている。図４（ｃ）に示した画素集合体７１ｂ、画素集合体７１ｃ、及び画素集合体７１ｄは、画素虚像７３Ｂ、画素虚像７３Ｃ、又は画素虚像７３Ｄと略相似形状を有する画素ユニット７２ｂ、画素ユニット７２ｃ、又は画素ユニット７２ｄがピッチＰ２で配列されている。
画素集合体７１には、例えば、４５行×４５列で、２０２５個の画素ユニット７２が形成されている。ピッチＰ２は、例えば１７６μｍである。
【００３８】
図４（ｅ）に示すように、虚像現出装飾体５１では、マイクロレンズアレイ６１と画素集合体７１とが、基材５３の面に平行な方向において重なる状態で形成されている。画素虚像７３を現出させるマイクロレンズアレイ６１と画素集合体７１との組を、虚像ユニット７６と表記する。画素虚像７３Ａ、画素虚像７３Ｂ、画素虚像７３Ｃ、又は画素虚像７３Ｄを現出させる虚像ユニット７６を、虚像ユニット７６ａ、虚像ユニット７６ｂ、虚像ユニット７６ｃ、虚像ユニット７６ｄと表記する。
【００３９】
図４（ｆ）に示すように、虚像ユニット７６（虚像ユニット７６ａ）において、マイクロレンズアレイ６１のマイクロレンズ６２０と、画素集合体７１の画素ユニット７２０とが、中心が合致している。マイクロレンズ６２０は、マイクロレンズアレイ６１の中央のマイクロレンズ６２であり、画素ユニット７２０は、画素集合体７１の中央の画素ユニット７２である。マイクロレンズ６２０の隣のマイクロレンズ６２と、画素ユニット７２０の隣の画素ユニット７２とは、中心位置が、ピッチＰ１とピッチＰ２との差に相当する量だけずれている。Ｐ１が１８０μｍであり、ピッチＰ２が１７６μｍである場合、４μｍずれている。
虚像ユニット７６の端においては、画素集合体７１が有する画素ユニット７２の行又は列における端の行又は列を構成する画素ユニット７２の中心位置は、マイクロレンズアレイ６１が有するマイクロレンズ６２の行又は列における端の行又は列を構成するマイクロレンズ６２の中心位置と端から２番目の行又は列を構成するマイクロレンズ６２の中心位置との中点に位置する。
画素集合体７１が、ユニット集合体に相当する。マイクロレンズ６２が、レンズ体に相当する。マイクロレンズアレイ６１が、レンズ集合体に相当する。
【００４０】
このように構成された虚像現出装飾体５１において、画素ユニット７２と対応するマイクロレンズ６２とによって、画素ユニット７２の一部分の虚像が形成される。虚像ユニット７６において、画素ユニット７２と対応するマイクロレンズ６２ごとに、虚像として形成する画素ユニット７２の部分が異なっている。このため、虚像ユニット７６において、マイクロレンズ６２によって画素ユニット７２が拡大された画素虚像７３が、視認可能に形成される。
【００４１】
＜画素集合体及び画素ユニット＞
次に、虚像現出装飾体５１が備える画素集合体７１の構成、及び画素集合体７１が備える画素ユニット７２の構成について、図５及び図６を参照して説明する。図５は、虚像現出装飾体における画素集合体の構成を示す模式図である。図５（ａ）は、虚像現出装飾体における、画素集合体の構成を示す平面図であり、図５（ｂ）は、画素集合体における、画素ユニットの構成を示す平面図である。図６は、画素ユニットの構成を示す説明図である。図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）は、画素ユニットを画素ドットで示した説明図であり、図６（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、及び（ｈ）は、画素ユニットを画素ドット区画で示した説明図である。
【００４２】
図５（ａ）は、図４（ｃ）と同様の図である。図５（ａ）に示したように、虚像現出装飾体５１は、４個所の集合体領域７１０を備えている。図４（ｃ）を参照して説明したように、１個所の集合体領域７１０には、１個の画素集合体７１が形成されている。集合体領域７１０ａ、集合体領域７１０ｂ、集合体領域７１０ｃ、及び集合体領域７１０ｄには、画素集合体７１ａ、画素集合体７１ｂ、画素集合体７１ｃ、又は画素集合体７１ｄが形成されている。
【００４３】
図５（ｂ）に示したように、画素集合体７１ａには、４５行×４５列で、２０２５個の画素ユニット７２ａが形成されている。画素ユニット７２ａの配設ピッチは、行ピッチも列ピッチも、例えば、１７６μｍである。画素集合体７１ｂなどの、画素集合体７１ａ以外の画素集合体７１においても同様である。画素集合体７１ｂ、画素集合体７１ｃ、及び画素集合体７１ｄには、４５行×４５列で、２０２５個の、画素ユニット７２ｂ、画素ユニット７２ｃ、又は画素ユニット７２ｄが形成されている。
【００４４】
図６（ａ）に示したように、画素ユニット７２ａは、１６個の画素ドット７５が所定の位置関係に配設されることによって形成されている。画素ユニット７２は、画素ドット７５を１６行×１６列に配置できる画素ユニット領域７２１に、１個の画素ユニット７２を形成する。図６（ｅ）では、画素ユニット領域７２１を１６行×１６列の画素ドット区画７５１に区切って示している。画素ドット区画７５１における、画素ドット７５に対応する画素ドット区画７５１を画素区画７５１ａと表記する。画素ユニット７２の背景部分に相当する画素ドット区画７５１であって、基材５３の面のままである画素ドット区画７５１を基材色区画７５１ｂと表記する。図６（ｅ）に示すように、画素ユニット７２ａは、１６個の画素区画７５１ａが所定の相対位置に配設されて形成されている。画素ユニット７２ａが形成されている画素ユニット領域７２１ａには、１６×１６−１６＝２４０個の、基材色区画７５１ｂが存在する。
【００４５】
図６（ｂ）に示したように、画素ユニット７２ｂは、１８個の画素ドット７５が所定の位置関係に配設されることによって形成されている。図６（ｆ）に示すように、画素ユニット７２ｂは、１８個の画素区画７５１ａが所定の相対位置に配設されて形成されている。画素ユニット７２ｂが形成されている画素ユニット領域７２１ｂには、２３８個の、基材色区画７５１ｂが存在する。
図６（ｃ）に示したように、画素ユニット７２ｃは、１５個の画素ドット７５が所定の位置関係に配設されることによって形成されている。図６（ｇ）に示すように、画素ユニット７２ｃは、１５個の画素区画７５１ａが所定の相対位置に配設されて形成されている。画素ユニット７２ｃが形成されている画素ユニット領域７２１ｃには、２４１個の、基材色区画７５１ｂが存在する。
図６（ｄ）に示したように、画素ユニット７２ｄは、１８個の画素ドット７５が所定の位置関係に配設されることによって形成されている。図６（ｈ）に示すように、画素ユニット７２ｄは、１８個の画素区画７５１ａが所定の相対位置に配設されて形成されている。画素ユニット７２ｄが形成されている画素ユニット領域７２１ｄには、２３８個の、基材色区画７５１ｂが存在する。
【００４６】
なお、画素ドット７５及び画素ドット区画７５１は、説明を判りやすくするために、画素ユニット７２を構成する要素を模式的に示したものである。画素集合体７１を上述した液滴吐出装置１を用いて形成する場合、画素ドット７５が、図２を参照して説明した着弾点９１に対応し、画素ドット区画７５１が着弾円９１Ａに対応する。図２（ｄ）に示したそれぞれの着弾点９１の位置について、描画する画素集合体７１における画素ユニット７２の画素ドット７５の位置に対応して、液滴を着弾させる着弾点９１と液滴を着弾させない着弾点９１とを定めることによって、液状体の液滴を着弾させる位置を規定する画素配置図が形成される。形成した画素配置図における着弾点９１に対応する位置に液滴を着弾させることで、画素集合体７１を描画する。
【００４７】
図２を参照して説明したように、吐出する液滴の１滴あたりの吐出重量を適切に定めることによって、隙間なく機能液を配置することが可能である。着弾した液滴が濡れ広がることで、画素ユニット７２は、画素ドット７５又は画素ドット区画７５１がつながって形成された形状となる。当該画素ユニット７２の集合である画素集合体７１がマイクロレンズアレイ６１を介して虚像として視認されることで、図３（ｂ）に示したような、画素虚像７３として視認される。
【００４８】
＜調整画素集合体例１＞
次に、現出させる虚像における、画像の階調や背景の階調を調整した調整画素集合体について、図７を参照して説明する。調整画素集合体は、画素集合体７１における画素ユニット７２の数などを調整して形成する。図７は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。図７（ａ）は、階調の調整を実施していない画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示した画素集合体において階調を調整した調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。図７（ｃ）は、背景部分に背景色が配置されており、階調の調整を実施していない画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図であり、図７（ｄ）、図７（ｅ）、及び図７（ｆ）は、図７（ｃ）に示した画素集合体において階調を調整した調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。
【００４９】
図７（ａ）に一部分を示した画素集合体７１は、図５などを参照して説明した画素集合体７１（画素集合体７１ａ）である。上述したように、画素集合体７１は、画素ユニット領域７２１に形成された画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１において、画素ユニット領域７２１は、４５行×４５列に配列されている。画素ユニット領域７２１は、所定の相対位置に配設された画素区画７５１ａと、基材色区画７５１ｂとを備えている。画素ユニット７２は、基材色区画７５１ｂの中に、画素区画７５１ａを所定の相対位置関係に配置して形成されている。
【００５０】
図７（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１５は、画素ユニット７２と、基材色ユニット７４５とを備えている。画素集合体７１５は、調整集合体領域７０５に形成されている。調整集合体領域７０５は、画素ユニット領域７２１と、画素ユニット領域７２５とを備えている。基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂが、１６行×１６列に配列されて形成されている。すなわち、画素ユニット領域７２５は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域である。言い換えると、基材色ユニット７４５は、画素ユニット７２から画素ドット７５を削除したものである。画素集合体７１５における基材色ユニット７４５が、背景色画素ユニットに相当する。
【００５１】
画素集合体７１５を形成する工程では、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２１における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２５には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されず、画素ユニット領域７２５では、基材５３の表面がそのまま維持される。
図７（ｂ）に示すように、画素集合体７１５は、略同数の画素ユニット７２と、基材色ユニット７４５と、を備えている。したがって、画素集合体７１５は、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の、半分の数の画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１５を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。
【００５２】
図７（ｃ）に一部分を示した画素集合体７１４は、画素ユニット７４を備えている。画素集合体７１４は、集合体領域７０４に形成されている。集合体領域７０４は、画素ユニット領域７２６を備えている。集合体領域７０４において、画素ユニット領域７２６は、４５行×４５列に配列されている。
画素ユニット７４は、画素ユニット領域７２６に形成されている。画素ユニット領域７２６は、画素ユニット領域７２１と同様に、画素ドット区画７５１が、１６行×１６列に配列されて形成されている。
【００５３】
画素ユニット領域７２６は、画素区画７５１ａと、背景色区画７５１ｃとを、備えている。画素区画７５１ａは、上述したように、画素ドット７５が配置される画素ドット区画７５１である。画素ユニット領域７２６において、画素区画７５１ａは、画素ユニット領域７２１における画素区画７５１ａと同様に配列されている。画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）は、マイクロレンズ６２を介して形成された画素区画７５１ａの一部分の虚像の集合体である。画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の色調は、略画素区画７５１ａの色調であり、階調は、略画素区画７５１ａの階調である。
背景色区画７５１ｃは、背景色に彩色された画素ドット区画７５１である。画素ユニット領域７２６において、画素区画７５１ａ以外の画素ドット区画７５１は、背景色区画７５１ｃである。画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された背景色区画７５１ｃの一部分の虚像の集合体である。画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の色調は、略背景色区画７５１ｃの色調であり、階調は、略背景色区画７５１ｃの階調である。
【００５４】
画素集合体７１４を形成する工程では、最初に、背景色区画７５１ｃの位置に、背景色の材料を配置する。例えば、調整集合体領域７０６の全面に、背景色を形成するための液滴を配置して、集合体領域７０４の全面を背景色にする。次に、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２６における、画素区画７５１ａの位置に配置する。
【００５５】
図７（ｄ）に一部分を示した画素集合体７１６は、画素ユニット７４と、背景色ユニット７４７とを備えている。画素集合体７１６は、調整集合体領域７０６に形成されている。調整集合体領域７０６は、画素ユニット領域７２６と、画素ユニット領域７２７とを備えている。
背景色ユニット７４７は、画素ユニット領域７２７に形成されている。画素ユニット領域７２７は、背景色区画７５１ｃを備えている。画素ユニット領域７２７は、背景色区画７５１ｃが、１６行×１６列に配列されて形成されている。すなわち、画素ユニット領域７２７は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域である。言い換えると、背景色ユニット７４７は、画素ユニット７４から画素ドット７５を削除したものである。画素集合体７１６における背景色ユニット７４７が、背景色画素ユニットに相当する。
【００５６】
画素集合体７１６を形成する工程では、最初に、背景色区画７５１ｃの位置に、背景色の材料を配置する。例えば、調整集合体領域７０６の全面に、背景色を形成するための液滴を配置して、調整集合体領域７０６の全面を背景色にする。次に、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２６における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２７には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されず、画素ユニット領域７２７では、背景色の面がそのまま維持される。
【００５７】
図７（ｄ）に示すように、画素集合体７１６は、略同数の画素ユニット７４と、背景色ユニット７４７と、を備えている。したがって、画素集合体７１６は、画素集合体７１４が備える画素ユニット７４の、略半分の数の画素ユニット７４を備えている。画素集合体７１６を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。
画素集合体７１６を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された、画素ユニット７４における背景部分の一部分の虚像、及び背景色ユニット７４７の一部分の虚像の集合体である。画素ユニット７４における背景部分は、背景色区画７５１ｃである。背景色ユニット７４７は、全面が背景色区画７５１ｃである。したがって、画素集合体７１６を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された背景色区画７５１ｃの一部分の虚像の集合体である。画素集合体７１６を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の色調は、略背景色区画７５１ｃの色調であり、階調は、略背景色区画７５１ｃの階調である。
【００５８】
図７（ｅ）に一部分を示した画素集合体７１７は、画素ユニット７４と、基材色ユニット７４５とを備えている。画素集合体７１７は、調整集合体領域７０７に形成されている。調整集合体領域７０７は、画素ユニット領域７２６と、画素ユニット領域７２５とを備えている。
画素ユニット７４は、画素ユニット領域７２６に形成されている。上述したように、画素ユニット領域７２６は、画素ドット区画７５１が、１６行×１６列に配列されて形成されている。画素ユニット領域７２６は、画素区画７５１ａと、背景色区画７５１ｃとを、備えている。
基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。上述したように、画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えており、基材色区画７５１ｂが、１６行×１６列に配列されて形成されている。画素ユニット領域７２５は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域である。画素集合体７１７における基材色ユニット７４５が、基材面背景ユニットに相当する。
【００５９】
画素集合体７１７を形成する工程では、最初に、背景色区画７５１ｃの位置に、背景色の材料を配置する。例えば、調整集合体領域７０７における、画素ユニット領域７２６の位置の全面に、背景色を形成するための液滴を配置して、調整集合体領域７０７における画素ユニット領域７２６の部分を背景色にする。次に、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２６における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２５には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されない。画素ユニット領域７２５では、背景色を形成するための液滴も配置されず、画素ドット７５を形成するための液滴も配置されないため、基材５３の表面がそのまま維持される。
【００６０】
図７（ｅ）に示すように、画素集合体７１７は、略同数の画素ユニット７４と、基材色ユニット７４５と、を備えている。したがって、画素集合体７１７は、画素集合体７１４が備える画素ユニット７４の、略半分の数の画素ユニット７４を備えている。画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）は、マイクロレンズ６２を介して形成された、画素ユニット７４における画素ドット７５の一部分の虚像の集合体である。画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。
【００６１】
画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された、画素ユニット７４における背景部分の一部分の虚像、及び基材色ユニット７４５の一部分の虚像の集合体である。画素ユニット領域７２６における背景部分は、背景色区画７５１ｃである。基材色ユニット７４５は、全面が基材色区画７５１ｂである。画素集合体７１７は、略同数の画素ユニット７４と、基材色ユニット７４５と、を備えており、画素集合体７１７は、画素集合体７１４が備える画素ユニット７４の、略半分の数の画素ユニット７４を備えている。したがって、画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調の、略５０％である。
【００６２】
図７（ｆ）に一部分を示した画素集合体７１８は、画素ユニット７４と、基材色ユニット７４５と、背景色ユニット７４７とを備えている。画素集合体７１８は、調整集合体領域７０８に形成されている。調整集合体領域７０８は、画素ユニット領域７２６と、画素ユニット領域７２５と、画素ユニット領域７２７とを備えている。
画素ユニット７４は、画素ユニット領域７２６に形成されている。基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。背景色ユニット７４７は、画素ユニット領域７２７に形成されている。画素ユニット領域７２６は、画素区画７５１ａと、背景色区画７５１ｃとを備えている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えている。画素ユニット領域７２７は、背景色区画７５１ｃを備えている。
【００６３】
画素集合体７１８を形成する工程では、最初に、背景色区画７５１ｃの位置に、背景色の材料を配置する。例えば、調整集合体領域７０８における、画素ユニット領域７２６の位置の全面、及び画素ユニット領域７２７の位置の全面に、背景色を形成するための液滴を配置して、調整集合体領域７０８における画素ユニット領域７２６及び画素ユニット領域７２７の部分を背景色にする。次に、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２６における、画素区画７５１ａの位置に配置する。
画素ユニット領域７２５及び画素ユニット領域７２７には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されない。画素ユニット領域７２５では、背景色を形成するための液滴も配置されず、画素ドット７５を形成するための液滴も配置されないため、基材５３の表面がそのまま維持される。画素ユニット領域７２７では、背景色を形成するための液滴が配置され、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されないため、背景色の面がそのまま維持される。
画素集合体７１８における基材色ユニット７４５が、基材面背景ユニットに相当する。画素集合体７１８における基材色ユニット７４５及び背景色ユニット７４７が、背景色画素ユニットに相当する。
【００６４】
図７（ｆ）に示すように、画素集合体７１８における画素ユニット７４は、画素集合体７１６や画素集合体７１７における画素ユニット７４と同様に配置されている。したがって、画素集合体７１８を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１６又は画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調と略同じである。また、画素集合体７１８を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。
【００６５】
画素集合体７１８を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された、画素ユニット７４における背景部分の一部分の虚像、基材色ユニット７４５の一部分の虚像、及び背景色ユニット７４７の一部分の虚像の集合体である。画素ユニット領域７２６における背景部分は、背景色区画７５１ｃである。背景色ユニット７４７は、全面が背景色区画７５１ｃである。基材色ユニット７４５は、全面が基材色区画７５１ｂである。
画素集合体７１８は、略同数の背景色ユニット７４７と、基材色ユニット７４５と、を備えており、背景色ユニット７４７の数と基材色ユニット７４５の数との合計の数に略等しい数の画素ユニット７４を備えている。画素集合体７１８が備える背景色ユニット７４７と基材色ユニット７４５と画素ユニット７４とにおいて、背景色ユニット７４７及び画素ユニット７４は、７５％を占めている。したがって、画素集合体７１８を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調の、略７５％である。
図７（ｆ）に示した画素集合体７１８における基材色ユニット７４５の位置は、図示した範囲が狭いため、規則的に配列しているが、ランダムな位置に配置することが好ましい。基材色ユニット７４５をランダムな位置に配設することで、規則的に配置する場合にくらべて、画素虚像７３における像部分の背景部分において、基材色ユニット７４５の虚像が分別されて視認される可能性を小さくすることができる。また、画素虚像７３における像部分の背景部分に階調の斑ができることを抑制することができる。
【００６６】
＜調整画素集合体例２＞
次に、上述した画素集合体７１５などと一部の構成が異なる調整画素集合体について、図８を参照して説明する。図８は、ランダムディザマスクを用いて画素ユニットの位置を設定した画素集合体の説明図である。図８（ａ）は、ランダムディザマスクの説明図であり、図８（ｂ）は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。
【００６７】
上述したように、集合体領域７１０における画素ユニット７２の数を減らすことによって、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａなど）の階調を調整する。例えば、画素集合体７１５においては、画素ユニット７２の数を画素集合体７１の半分にすることによって、画素集合体７１５を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調を、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％にしている。
【００６８】
図８（ａ）に示したランダムディザマスク８１は、５％階調のランダムディザマスクである。図８（ａ）に示すように、ランダムディザマスク８１は、黒点部８２と、白点部８３とを備えている。黒点部８２の数と、白点部８３の数との合計は、例えば、画素集合体７１が備える４５×４５＝２０２５個の画素ユニット７２に対応した２０２５個である。ランダムディザマスク８１は、５％階調であり、ランダムディザマスク８１が備える黒点部８２は、２０２５個の略５％である。
ランダムディザマスク８１における黒点部８２の位置は、ディザ法を用いて形成されたランダムディザパターンに基づいて、ランダムな位置に設定されている。
【００６９】
図８（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１１は、画素ユニット７２と、基材色ユニット７４５と、を備えている。画素集合体７１１は、調整集合体領域７０１に形成されている。調整集合体領域７０１は、画素ユニット領域７２１と、画素ユニット領域７２５と、を備えている。
画素ユニット７２は、画素ユニット領域７２１に形成されている。画素ユニット領域７２１は、画素区画７５１ａを備え、画素ユニット７２は、所定の相対位置に配設された画素区画７５１ａに画素ドット７５が配設されて形成されている。
基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えている。画素ユニット領域７２５は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域であり、基材色ユニット７４５は、画素ドット７５が配設されない領域である。
【００７０】
画素集合体７１１を形成する工程では、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２１における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２５には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されず、画素ユニット領域７２５では、基材５３の表面がそのまま維持される。
【００７１】
図８（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１１は、画素ユニット７２の位置を、ランダムディザマスク８１における黒点部８２の位置に対応させて設定してある。すなわち、調整集合体領域７０１における画素ユニット領域７２１の位置は、ランダムディザマスク８１における黒点部８２の位置に対応している。画素集合体７１１の図８（ｂ）に示した部分は、図８（ａ）に示した部分領域８１ａに対応する部分である。
ランダムディザマスク８１は５％階調であり、画素集合体７１１は、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の、５％の数の画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５％である。
【００７２】
＜調整画素集合体例３＞
次に、上述した画素集合体７１５などと一部の構成が異なる調整画素集合体について、図９を参照して説明する。図９は、ランダムディザマスクを用いて画素ユニットの位置を設定した画素集合体の説明図である。図９（ａ）は、ランダムディザマスクの説明図であり、図９（ｂ）は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。
【００７３】
上述したように、集合体領域７１０における画素ユニット７２の数を減らすことによって、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａなど）の階調を調整する。例えば、画素集合体７１５においては、画素ユニット７２の数を画素集合体７１の半分にすることによって、画素集合体７１５を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調を、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％にしている。
【００７４】
図９（ａ）に示したランダムディザマスク８９は、９５％階調のランダムディザマスクである。図９（ａ）に示すように、ランダムディザマスク８９は、黒点部８２と、白点部８３とを備えている。黒点部８２の数と、白点部８３の数との合計は、例えば、画素集合体７１が備える４５×４５＝２０２５個の画素ユニット７２に対応した２０２５個である。ランダムディザマスク８９は、９５％階調であり、ランダムディザマスク８９が備える黒点部８２は、２０２５個の略９５％である。
ランダムディザマスク８９における黒点部８２の位置は、ディザ法を用いて形成されたランダムディザパターンに基づいて、ランダムな位置に設定されている。
【００７５】
図９（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１９は、画素ユニット７２と、基材色ユニット７４５と、を備えている。画素集合体７１９は、調整集合体領域７０９に形成されている。調整集合体領域７０９は、画素ユニット領域７２１と、画素ユニット領域７２５と、を備えている。
画素ユニット７２は、画素ユニット領域７２１に形成されている。画素ユニット領域７２１は、画素区画７５１ａを備え、画素ユニット７２は、所定の相対位置に配設された画素区画７５１ａに画素ドット７５が配設されて形成されている。
基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えている。画素ユニット領域７２５は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域であり、基材色ユニット７４５は、画素ドット７５が配設されない領域である。
【００７６】
画素集合体７１９を形成する工程では、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２１における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２５には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されず、画素ユニット領域７２５では、基材５３の表面がそのまま維持される。
【００７７】
図９（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１９は、画素ユニット７２の位置を、ランダムディザマスク８９における黒点部８２の位置に対応させて設定してある。すなわち、調整集合体領域７０９における画素ユニット領域７２１の位置は、ランダムディザマスク８９における黒点部８２の位置に対応している。画素集合体７１９の図９（ｂ）に示した部分は、図９（ａ）に示した部分領域８９ａに対応する部分である。
ランダムディザマスク８９は９５％階調であり、画素集合体７１９は、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の、９５％の数の画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１９を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略９５％である。
【００７８】
以下、実施形態による効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）画素集合体７１５は、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の、半分の数の画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１５を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。このように、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の数を調整することによって、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調を調整することができる。
【００７９】
（２）画素集合体７１７は、画素集合体７１４が備える画素ユニット７４の、略半分の数の画素ユニット７４を備えている。画素ユニット７４における画像（文字）部分の背景部分には、背景色の材料が配置されている。画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調の、略５０％である。このように、画素ユニット７４のように画像の背景部分に色彩を施された画素ユニットを備える、画素集合体７１４などのような画素集合体において、画素集合体が備える背景部分に色彩を施された画素ユニットの数を調整することによって、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調を調整することができる。
【００８０】
（３）画素集合体７１１及び画素集合体７１９は、ディザ法を用いて形成されたランダムディザパターンに基づいて形成されたランダムディザマスク８１又はランダムディザマスク８９に拠って、画素ユニット７２の配設位置が規定されている。ランダムディザパターンに基づくことにより、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分に、階調の斑ができることを抑制することができる。また、観る方向を変動させた場合に、階調のゆらぎが発生することを抑制することができる。
【００８１】
以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下の変形例のように実施することもできる。
【００８２】
（変形例１）前記実施形態においては、ランダムディザマスク８１及びランダムディザマスク８９における黒点部８２の位置は、ディザ法を用いて形成されたランダムディザパターンに基づいて決定されていた。しかし、画素ユニットを配置する位置又は間引く画素ユニットの位置などをランダムに設定するために、ディザ法を用いることは必須ではない。位置をランダムに設定する方法は、設定した階調に応じたランダムな位置を設定することが可能であれば、どのような方法であってもよい。
【００８３】
（変形例２）前記実施形態においては、虚像現出装飾体５１のマイクロレンズアレイ６１におけるマイクロレンズ６２の配設ピッチＰ１と、画素集合体７１における画素ユニット７２の配設ピッチＰ２との関係は、ピッチＰ１＞ピッチＰ２であった。また、ピッチＰ１×（マイクロレンズアレイ６１におけるマイクロレンズ６２の行数又は列数−１）＝ピッチＰ２×（画素集合体７１における画素ユニット７２の行数又は列数）を満たす関係であった。しかし、マイクロレンズアレイにおけるマイクロレンズの配設ピッチＰ１と、画素集合体における画素ユニットの配設ピッチＰ２との関係は、ピッチＰ１＜ピッチＰ２であってもよい。ピッチＰ１＜ピッチＰ２の場合、ピッチＰ１×（マイクロレンズアレイにおけるマイクロレンズの行数又は列数＋１）＝ピッチＰ２×（画素集合体における画素ユニットの行数又は列数）となるように、ピッチＰ１、ピッチＰ２、マイクロレンズアレイにおけるマイクロレンズの行数及び列数、及び画素集合体における画素ユニットの行数及び列数を設定する。
ピッチＰ１＞ピッチＰ２の場合、形成される虚像は、画素集合体の位置より沈んで（奥側に）見える。ピッチＰ１＜ピッチＰ２の場合、形成される虚像は、画素集合体の位置より浮かんで（手前側に）見える。
【００８４】
（変形例３）前記実施形態においては、画素集合体７１は４５行４５列に配列された画素ユニット７２を備えていたが、ユニット集合体における画素ユニットの配列が４５行４５列であることは必須ではない。行数及び列数は、他の数であってもよい。また、列方向と行方向とが略直交する方向であることも必須ではない。画素ユニットとレンズ体との位置を関連付けて配置可能であれば、どのような配列であってもよい。
【００８５】
（変形例４）前記実施形態においては、インクジェット方式の液滴吐出装置１を用いて、虚像現出装飾体５１が備える画素集合体７１を構成する画素ユニット７２の画素ドット７５を描画することによって、画素集合体７１を形成していた。しかし、液滴吐出装置を用いて、画素ドットの材料を配置することは必須ではない。画素ドットは、他の印刷方法などを用いて形成してもよい。
【００８６】
（変形例５）前記実施形態においては、虚像現出装飾体５１が備える画素集合体７１は４個であったが、虚像現出装飾体が備える画像表示部は、何個であってもよい。
【００８７】
（変形例６）前記実施形態においては、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３は、１個の画素ユニット７２に相当する虚像であった。しかし、虚像ユニットに現出する虚像が画素ユニット１個分の虚像であることは必須ではない。虚像現出装飾体は、例えば４個の画素ユニットが並んだ虚像が現出するなど、並列した複数の画素ユニットの像が虚像として現出するような構成であってもよい。
【符号の説明】
【００８８】
１…液滴吐出装置、２０…液滴吐出ヘッド、２４…吐出ノズル、５１…虚像現出装飾体、５３…基材、５５…撥液層、６１…マイクロレンズアレイ、６２…マイクロレンズ、７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄ…画素集合体、７２…画素ユニット、７２ａ，７２ｂ，７２ｃ，７２ｄ…画素ユニット、７３…画素虚像、７３Ａ，７３Ｂ，７３Ｃ，７３Ｄ…画素虚像、７４…画素ユニット、７６…虚像ユニット、７６ａ，７６ｂ，７６ｃ，７６ｄ…虚像ユニット、８１…ランダムディザマスク、８２…黒点部、８３…白点部、８９…ランダムディザマスク、９１…着弾点、９１Ａ…着弾円、６１０…マイクロレンズアレイ、６２０…マイクロレンズ、７０１，７０５，７０６，７０７，７０８，７０９…調整集合体領域、７０４…集合体領域、７１０…集合体領域、７１０ａ，７１０ｂ，７１０ｃ，７１０ｄ…集合体領域、７１１，７１４，７１５，７１６，７１７，７１８，７１９…画素集合体、７２０…画素ユニット、７２１…画素ユニット領域、７２１ａ，７２１ｂ，７２１ｃ，７２１ｄ…画素ユニット領域、７２５，７２６，７２７…画素ユニット領域、７４５…基材色ユニット、７４７…背景色ユニット、７５１…画素ドット区画、７５１ａ…画素区画、７５１ｂ…基材色区画、７５１ｃ…背景色区画。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、規則的に配設された画素ユニットと、画素ユニットを覆う位置に規則的に配設されたレンズ状の集光素とを備え、画素ユニットに形成されている画像が拡大された虚像を現出させる虚像現出装飾体、及び虚像現出装飾体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、規則的に配設された画素ユニットと、画素ユニットを覆う位置に規則的に配設されたレンズ状の集光素とを備え、画素ユニットに形成されている画像が拡大された虚像を現出させる虚像現出装飾体が知られている。
特許文献１には、レンズ状集光素が、１０＜＝線数＜＝７０を満たす紗体を形成する紗線によってできた升目を単位として形成されており、画素（画素ユニット）が、上記紗体の線数未満の線数からなる紗体を形成する紗線によってできた升目を単位として形成されており、拡大虚像を画素（画素ユニット）層の上方に出現させることができる虚像現出装飾体が開示されている。また、レンズ状集光素が、１０＜＝線数＜＝７０を満たす紗体を形成する紗線によってできた升目を単位として形成されており、画素（画素ユニット）が、上記紗体の線数を超える線数からなる紗体を形成する紗線によってできた升目を単位として形成されており、拡大虚像を画素（画素ユニット）層の下方に出現させることができる虚像現出装飾体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３５０５６１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に開示されたような虚像現出装飾体においては、拡大虚像における画素ユニットの画像の階調は、画素ユニットの画像を形成する画素ドットの階調によって定まる。このため、虚像における画像の階調は画像の有無の２階調のみであり、表現の自由度が乏しいという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法は、画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が前記画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備える虚像現出装飾体の製造方法であって、前記画素ドットを所定の位置に配設することによって前記画素ユニットの画像部分を形成して、前記ユニット集合体を形成するユニット集合体形成工程を有し、前記ユニット集合体形成工程では、前記画素ドットの色調が前記画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含む前記ユニット集合体を形成することを特徴とする。
【０００７】
本適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法によれば、ユニット集合体形成工程では、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含むユニット集合体を形成する。画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットは、例えば、画素ドットが配置されない画素ユニットである。虚像現出装飾体に現出する虚像は、レンズ体によって形成された画素ユニットの一部分の虚像の集合体である。虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分は、レンズ体によって形成された画素ユニットの画像部分の一部分の虚像の集合体である。背景色画素ユニットにおいては、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調であるため、背景色画素ユニットの画像部分の虚像は、背景部分の色調を有する。背景色画素ユニットが存在することによって、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分の中に、背景部分の色調を有する虚像が存在する。当該部分は、虚像現出装飾体に現出する虚像をレンズ体が個別に視認可能な程度に拡大して観察すれば個別に判別可能であるが、それより小さい虚像においては、他の画像部分と一体に見える。これにより、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分全体としては、色調が、画像部分の色調より背景部分の色調側にずれた虚像に見える。同様に、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分全体としては、階調が、画像部分の階調より背景部分の階調側にずれた虚像に見える。当該階調のずれ量は、背景色画素ユニットの数によって異なるため、背景色画素ユニットの数を調整することによって、画像部分の階調を調整することができる。
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法において、前記ユニット集合体形成工程では、前記背景色画素ユニットを、前記ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することが好ましい。
【０００９】
この虚像現出装飾体の製造方法によれば、背景色画素ユニットは、ユニット集合体におけるランダムな位置に配置される。虚像現出装飾体に現出する虚像は、レンズ体によって形成された画素ユニットの一部分の虚像の集合体である。１個の背景色画素ユニットは、１個のレンズ体を介して、その一部分が虚像として視認される。虚像現出装飾体に現出する虚像において、１個のレンズ体が占める面積は微小である。虚像現出装飾体に現出する虚像において、１個の背景色画素ユニットが、１個のレンズ体を介して個別に視認できることは実際的にない。したがって、背景色画素ユニットは、単独で存在する状態では、レンズ体を介しても視認され難い。しかし、多数の背景色画素ユニットが互いに近くに位置すると、レンズ体を介して形成された背景色の画素ドットの虚像が、虚像現出装飾体に現出する虚像において、かたまって存在し、視認されやすくなる。背景色の画素ドットが虚像として視認されると、画像が欠けて見える。背景色画素ユニットを、ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することで、背景色画素ユニットが近接して配置されることに起因して背景色画素ユニットの虚像が視認されやすくなることを、抑制することができる。
【００１０】
［適用例３］上記適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法において、前記画素ユニットの前記背景部分に背景色材を配置して、前記背景部分を形成する背景形成工程をさらに有し、前記背景形成工程では、前記背景部分が前記画素ユニットを形成する基材の表面である基材面背景ユニットを、少なくとも１個形成することが好ましい。
【００１１】
この虚像現出装飾体の製造方法によれば、背景形成工程を有し、背景形成工程では、背景部分が画素ユニットを形成する基材の表面である基材面背景ユニットを、形成する。背景部分が基材の表面である基材面背景ユニットは、例えば、背景色材が配置されないユニット集合体である。虚像現出装飾体に現出する虚像は、レンズ体によって形成された画素ユニットの一部分の虚像の集合体である。虚像現出装飾体に現出する虚像における背景部分は、レンズ体によって形成された画素ユニットの背景部分の一部分の虚像の集合体である。基材面背景ユニットにおいては、背景部分の色調が基材面の色調であるため、基材面背景ユニットの背景部分の虚像は、基材面の色調を有する。基材面背景ユニットが存在することによって、虚像現出装飾体に現出する虚像における背景部分の中に、基材面の色調を有する虚像が存在する。当該部分は、虚像現出装飾体に現出する虚像をレンズ体が個別に視認可能な程度に拡大して観察すれば個別に判別可能であるが、それより小さい虚像においては、他の背景部分と一体に見える。これにより、虚像現出装飾体に現出する虚像における背景部分全体としては、色調が、画像部分の色調より背景部分の色調側にずれた虚像に見える。同様に、虚像現出装飾体に現出する虚像における背景部分全体としては、階調が、背景部分の階調より基材面の階調側にずれた虚像に見える。当該階調のずれ量は、基材面背景ユニットの数によって異なるため、基材面背景ユニットの数を調整することによって、背景部分の階調を調整することができる。
【００１２】
［適用例４］上記適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法において、前記背景形成工程では、前記基材面背景ユニットを、前記ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することが好ましい。
【００１３】
この虚像現出装飾体の製造方法によれば、背景形成工程において、基材面背景ユニットは、ユニット集合体におけるランダムな位置に配置される。虚像現出装飾体に現出する虚像の背景部分は、レンズ体によって形成された画素ユニットの背景部分の一部分の虚像の集合体である。１個の基材面背景ユニットは、１個のレンズ体を介して、その一部分が虚像として視認される。虚像現出装飾体に現出する虚像において、１個のレンズ体が占める面積は微小である。虚像現出装飾体に現出する虚像において、１個の基材面背景ユニットが、１個のレンズ体を介して個別に視認できることは実際的にない。したがって、基材面背景ユニットは、単独で存在する状態では、レンズ体を介しても視認され難い。しかし、多数の基材面背景ユニットが互いに近くに位置すると、レンズ体を介して形成された基材面の虚像が、虚像現出装飾体に現出する虚像において、かたまって存在し、視認されやすくなる。基材面が虚像として視認されると、背景色の中に基材面の点が存在するように見える。基材面背景ユニットを、ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することで、基材面背景ユニットが近接して配置されることに起因して基材面背景ユニットの虚像が視認されやすくなることを、抑制することができる。
【００１４】
［適用例５］上記適用例にかかる虚像現出装飾体の製造方法において、前記ユニット集合体における、前記背景色画素ユニット、又は前記基材面背景ユニットの少なくとも一方の配設位置を、ランダムディザパターンによって決定することが好ましい。
【００１５】
この虚像現出装飾体の製造方法によれば、ユニット集合体における、背景色画素ユニットや基材面背景ユニットの配設位置を、ランダムディザパターンによって決定する。ランダムディザパターンに、ディザ法を用いて、点の座標位置をランダムに配置したパターンである。ユニット集合体における、背景色画素ユニットの配設位置を、ランダムディザパターンにおけるドットの座標位置と重ならない位置にすることで、虚像現出装飾体に現出する虚像を視点を変えて観察した場合の、画像部分の階調のゆらぎを抑制することができる。ユニット集合体における、基材面背景ユニットの配設位置を、ランダムディザパターンにおけるドットの座標位置と重ならない位置にすることで、虚像現出装飾体に現出する虚像を視点を変えて観察した場合の、背景部分の階調のゆらぎを抑制することができる。
【００１６】
［適用例６］本適用例にかかる虚像現出装飾体は、画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が前記画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備え、前記ユニット集合体は、前記画素ドットの色調が前記画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含むことを特徴とする。
【００１７】
本適用例にかかる虚像現出装飾体によれば、ユニット集合体は、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含んでいる。画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットは、例えば、画素ドットが配置されない画素ユニットである。虚像現出装飾体に現出する虚像は、レンズ体によって形成された画素ユニットの一部分の虚像の集合体である。虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分は、レンズ体によって形成された画素ユニットの画像部分の一部分の虚像の集合体である。背景色画素ユニットにおいては、画素ドットの色調が画素ユニットの背景部分の色調であるため、背景色画素ユニットの画像部分の虚像は、背景部分の色調を有する。背景色画素ユニットが存在することによって、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分の中に、背景部分の色調を有する虚像が存在する。当該部分は、虚像現出装飾体に現出する虚像をレンズ体が個別に視認可能な程度に拡大して観察すれば個別に判別可能であるが、それより小さい虚像においては、他の画像部分と一体に見える。これにより、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分全体としては、色調が、画像部分の色調より背景部分の色調側にずれた虚像に見える。同様に、虚像現出装飾体に現出する虚像における画像部分全体としては、階調が、画像部分の階調より背景部分の階調側にずれた虚像に見える。当該階調のずれ量は、背景色画素ユニットの数によって異なるため、背景色画素ユニットの数を調整することによって、画像部分の階調を調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】（ａ）は、液滴吐出装置全体の概略構成を示す外観斜視図。（ｂ）は、液滴吐出装置が備える液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図。
【図２】（ａ）は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図。（ｂ）は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図。（ｃ）は、液滴を吐出走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図。（ｄ）は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図。
【図３】（ａ）は、虚像現出装飾体の構成の要部を示す断面図。（ｂ）は、虚像現出装飾体に形成される虚像を示す模式平面図。
【図４】（ａ）は、虚像現出装飾体のレンズアレイの構成を示す平面図。（ｂ）は、レンズアレイの拡大平面図。（ｃ）は、虚像現出装飾体の画素集合体の構成を示す平面図。（ｄ）は、画素集合体の拡大平面図。（ｅ）は、虚像現出装飾体のレンズアレイと画素集合体との構成を示す平面図。（ｆ）は、レンズアレイと画素集合体との拡大平面図。
【図５】（ａ）は、虚像現出装飾体における、画素ユニットを備える画素集合体の構成を示す平面図。（ｂ）は、画素集合体における、画素ユニットの構成を示す平面図。
【図６】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）は、画素ユニットを画素ドットで示した説明図。（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、及び（ｈ）は、画素ユニットを画素ドット区画で示した説明図。
【図７】（ａ）は、階調の調整を実施していない画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。（ｂ）は、（ａ）に示した画素集合体において階調を調整した調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。（ｃ）は、背景部分に背景色が配置されており、階調の調整を実施していない画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。（ｄ）、（ｅ）、及び（ｆ）は、（ｃ）に示した画素集合体において階調を調整した調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。
【図８】（ａ）は、ランダムディザマスクの説明図。（ｂ）は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。
【図９】（ａ）は、ランダムディザマスクの説明図。（ｂ）は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明に係る虚像現出装飾体の製造方法、及び虚像現出装飾体の一実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態は、インクジェット方式の液滴吐出装置を用いて、虚像現出装飾体が備える画像表示部が備えるユニット集合体を構成する画素ユニットを描画することによって、画像表示部を形成する工程を例にして説明する。液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドと被描画媒体とを相対移動させると共に、液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから機能液の液滴を吐出して、被描画媒体上の所定の位置に着弾させることによって、所定の画像などを形成する装置である。なお、以下の説明において参照する図面では、図示の便宜上、部材又は部分の縦横の縮尺を実際のものとは異なるように表す場合がある。
【００２０】
＜液滴吐出装置＞
最初に、液滴吐出装置１について、図１を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置の概略構成を示す外観斜視図である。図１（ａ）は、液滴吐出装置全体の概略構成を示す外観斜視図であり、図１（ｂ）は、液滴吐出装置が備える液滴吐出ヘッドの概略構成を示す外観斜視図である。
【００２１】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、ヘッド機構部２と、ワーク機構部３と、機能液供給部４と、メンテナンス装置部５と、吐出装置制御部７と、を備えている。ヘッド機構部２は、機能液を液滴として吐出する液滴吐出ヘッド２０を備えている。ヘッド機構部２は、また、図示省略した紫外線照射部を有している。ワーク機構部３は、液滴吐出ヘッド２０から吐出された液滴の吐出対象（描画対象物）であるワークＷを載置するワーク載置台３３を備えている。機能液供給部４は、液滴吐出ヘッド２０へ機能液を供給する。メンテナンス装置部５は、液滴吐出ヘッド２０の保守を行う。吐出装置制御部７は、これら各機構部などを総括的に制御する。さらに、液滴吐出装置１は、床上に設置された複数の支持脚８と、支持脚８の上側に設置された定盤９とを備えている。
【００２２】
定盤９の上面には、ワーク機構部３が配設されている。ワーク機構部３は、定盤９の長手方向（Ｘ軸方向）に延在している。ワーク機構部３の上方には、定盤９に固定された２本の支持柱で支持されているヘッド機構部２が配設されている。ヘッド機構部２は、ワーク機構部３と略直交する方向（Ｙ軸方向）に延在している。定盤９の傍らには、ヘッド機構部２の液滴吐出ヘッド２０に連通する供給管を有する機能液供給部４の機能液タンクなどが配置されている。ヘッド機構部２の一方の支持柱の近傍には、メンテナンス装置部５がワーク機構部３と並んでＸ軸方向に延在して配設されている。さらに、定盤９の下側に、吐出装置制御部７が収容されている。
【００２３】
ヘッド機構部２は、液滴吐出ヘッド２０を有するヘッドユニット２１と、ヘッドユニット２１を支持するヘッドキャリッジ２２とを備えている。ヘッドキャリッジ２２をＹ軸方向に移動させることで、液滴吐出ヘッド２０をＹ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。ワーク機構部３は、ワーク載置台３３をＸ軸方向に移動させることで、ワーク載置台３３に載置されたワークＷをＸ軸方向に自在に移動させる。また、移動した位置に保持する。
【００２４】
液滴吐出ヘッド２０を、Ｙ軸方向の吐出位置まで移動させて停止させ、下方にあるワークＷのＸ軸方向の移動に同調させて、機能液を液滴として吐出させる。液滴吐出ヘッド２０からの機能液の吐出をともなう、液滴吐出ヘッド２０とワークＷとの相対移動方向（走査方向）であるＸ軸方向を、吐出走査方向と表記する。
Ｘ軸方向に移動させるワークＷと、Ｙ軸方向に移動させる液滴吐出ヘッド２０とを相対的に制御することにより、ワークＷ上の任意の位置に液滴を着弾させることで、所望する描画などを行うことが可能である。
【００２５】
図１（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド２０は、ノズル基板２５を備えている。ノズル基板２５には、多数の吐出ノズル２４が略一直線状に並んだノズル列２４Ａが２列形成されている。吐出ノズル２４から機能液を液滴として吐出し、対向する位置にあるワークＷなどに着弾させることで、当該位置に機能液を配置する。ノズル列２４Ａは、液滴吐出ヘッド２０が液滴吐出装置１に装着された状態で、図１（ａ）に示したＹ軸方向に延在している。ノズル列２４Ａにおいて吐出ノズル２４は等間隔のノズルピッチで並んでおり、２列のノズル列２４Ａ間で、吐出ノズル２４の位置がＹ軸方向に半ノズルピッチずれている。したがって、液滴吐出ヘッド２０としては、Ｙ軸方向に半ノズルピッチ間隔で機能液の液滴を配置することができる。
【００２６】
Ｙ軸方向の描画範囲を広げるためには、液滴吐出ヘッド２０をＹ軸方向に連ねてもよいし、液滴吐出ヘッド２０をＹ軸方向に移動させて、液滴吐出ヘッド２０のＹ軸方向における位置ごとに、ワークＷのＸ軸方向の移動と液滴吐出ヘッド２０からの吐出を実施してもよい。
Ｙ軸方向の液滴の配置ピッチを小さくするためには、複数の液滴吐出ヘッド２０を、Ｙ軸方向における吐出ノズル２４の位置を互いにずらしてＸ軸方向に並べてもよいし、３列以上のノズル列を備える液滴吐出ヘッドを用いてもよい。もちろん、製造可能な範囲であれば、ノズルピッチが小さい液滴吐出ヘッドを用いることもできる。
【００２７】
＜着弾位置＞
次に、液滴吐出ヘッド２０の吐出ノズル２４と、それぞれの吐出ノズル２４から吐出された液滴の着弾位置と、の関係について、図２を参照して説明する。図２は、吐出ノズルと、それぞれの吐出ノズルから吐出された液滴の着弾位置と、の関係を示す説明図である。図２（ａ）は、吐出ノズルの配置位置を示す説明図であり、図２（ｂ）は、液滴をノズル列の延在方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図２（ｃ）は、液滴を吐出走査方向に直線状に着弾させた状態を示す説明図であり、図２（ｄ）は、液滴を面状に着弾させた状態を示す説明図である。図２に示したＸ軸方向及びＹ軸方向は、ヘッドユニット２１が液滴吐出装置１に取り付けられた状態において、図１に示したＸ軸方向又はＹ軸方向と一致している。Ｘ軸方向が吐出走査方向であって、図２に示した矢印ａの方向に吐出ノズル２４（液滴吐出ヘッド２０）を相対移動させながら、任意の位置において機能液の液滴を吐出することによって、Ｘ軸方向の任意の位置に液滴を着弾させることができる。
【００２８】
図２（ａ）に示すように、ノズル列２４Ａを構成する吐出ノズル２４は、Ｙ軸方向にノズルピッチＰの中心間距離で配列されている。上述したように、２列のノズル列２４Ａをそれぞれ構成する吐出ノズル２４同士は、Ｙ軸方向において、相互に、ノズルピッチＰの１／２ずつ位置がずれている。
【００２９】
図２（ｂ）に示すように、着弾位置を示す着弾点９１と、着弾した液滴の濡れ広がり状態を示す着弾円９１Ａとで、着弾した１滴の液滴の状態を示している。２列のノズル列２４Ａの全部の吐出ノズル２４から、図２（ｂ）に二点鎖線で示した仮想線Ｌ上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチＰの１／２の中心間間隔で着弾円９１Ａが直線状に連なるパターンが形成される。
【００３０】
図２（ｃ）に示すように、一つの吐出ノズル２４から連続して液滴を吐出させることによって、Ｘ軸方向に着弾円９１Ａが直線状に連なるパターンが形成される。Ｘ軸方向における着弾点９１間の中心間距離の最小値を、最小着弾距離ｄと表記する。最小着弾距離ｄは、Ｘ軸方向における相対移動速度と、吐出ノズル２４の最小吐出間隔（時間）との積である。
【００３１】
図２（ｄ）に示すように、二点鎖線で示した仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３上に着弾させるタイミングで、それぞれ液滴を吐出させることによって、ノズルピッチＰの１／２の中心間間隔で着弾円９１Ａが連なる直線が、Ｘ軸方向に並列した着弾面が形成される。図２（ｄ）に示した仮想線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３間の距離が最小着弾距離ｄの場合のそれぞれの着弾点９１が、液滴吐出装置１によって機能液の液滴を配置可能な位置である。
【００３２】
画像の描画に際しては、画像の情報に従って、図２（ｄ）に示したそれぞれの着弾点９１の位置について、液滴を配置する位置を定める。例えば、当該配置位置、及び配置位置に液滴を吐出する吐出ノズル２４を指定した画素配置図を形成し、当該画素配置図に従って機能液を着弾させることによって、画像の情報によって規定される画像を描画する。なお、図２（ｄ）に示した例では、着弾円９１Ａの間に隙間が存在するが、ノズルピッチＰや最小着弾距離ｄに対して、吐出する液滴の１滴あたりの吐出重量を適切に定めることによって、隙間なく機能液を配置することが可能である。もちろん、他の液滴と重ねることなく、１滴の液滴を独立させて配置することも可能である。
【００３３】
＜虚像現出装飾体＞
次に、画素ユニットを有する画素集合体、及びマイクロレンズアレイを備える虚像現出装飾体の構成について、図３及び図４を参照して説明する。図３は、虚像現出装飾体の構成を示す模式図である。図３（ａ）は、虚像現出装飾体の構成の要部を示す断面図であり、図３（ｂ）は、虚像現出装飾体に形成される虚像を示す模式平面図である。図４は、虚像現出装飾体を構成する要素の構成を示す模式図である。図４（ａ）は、虚像現出装飾体のレンズアレイの構成を示す平面図であり、図４（ｂ）は、レンズアレイの拡大平面図であり、図４（ｃ）は、虚像現出装飾体の画素集合体の構成を示す平面図であり、図４（ｄ）は、画素集合体の拡大平面図であり、図４（ｅ）は、虚像現出装飾体のレンズアレイと画素集合体との構成を示す平面図であり、図４（ｆ）は、レンズアレイと画素集合体との拡大平面図である。
【００３４】
図３（ａ）に示すように、虚像現出装飾体５１は、基材５３と、マイクロレンズアレイ６１と、画素集合体７１とを備えている。基材５３は、透明な素材で形成されたフィルム状の部材である。基材５３の素材としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などが挙げられる。基材５３の一面には、撥液層５５が形成されている。撥液層５５の上には、マイクロレンズアレイ６１を構成するマイクロレンズ６２が形成されている。基材５３の撥液層５５が形成されている面の反対側の面には、画素集合体７１を構成する画素ユニット７２が形成されている。
【００３５】
図３（ａ）に示した矢印ｓの方向から見ると、図３（ｂ）に示すように、画素虚像７３を視認することができる。図３（ｂ）には、画素虚像７３として、文字Ａ、文字Ｂ、文字Ｃ、及び文字Ｄが例示してある。文字Ａ、文字Ｂ、文字Ｃ、又は文字Ｄの形状を有する画素虚像７３を、画素虚像７３Ａ、画素虚像７３Ｂ、画素虚像７３Ｃ、又は画素虚像７３Ｄと表記する。１個の画素集合体７１に対応して１個の画素虚像７３が現出する。１個の画素集合体７１が形成されており、１個の画素虚像７３が現出する領域を集合体領域７１０と表記する。画素虚像７３Ａ、画素虚像７３Ｂ、画素虚像７３Ｃ、又は画素虚像７３Ｄが形成される集合体領域７１０を、集合体領域７１０ａ、集合体領域７１０ｂ、集合体領域７１０ｃ、又は集合体領域７１０ｄと表記する。
【００３６】
マイクロレンズアレイ６１は、マイクロレンズ６２が格子状に等ピッチ間隔で並べられて形成されている。１個の集合体領域７１０に対応する位置に形成されているマイクロレンズ６２の集合をマイクロレンズアレイ６１と表記し、虚像現出装飾体５１全体に形成されているマイクロレンズ６２の集合をマイクロレンズアレイ６１０と表記する。図４（ａ）に二点鎖線で示した領域に、マイクロレンズアレイ６１０が形成されている。図４（ｂ）に示すように、マイクロレンズアレイ６１は、マイクロレンズ６２がピッチＰ１で、縦横に配列されている。マイクロレンズアレイ６１には、例えば、４５行×４５列で、２０２５個のマイクロレンズ６２が形成されている。ピッチＰ１は、例えば１８０μｍである。
【００３７】
図４（ｃ）に示した二点鎖線で囲まれた領域が、１個所の集合体領域７１０を示している。１個所の集合体領域７１０には、１個の画素集合体７１が形成されている。集合体領域７１０ａ、集合体領域７１０ｂ、集合体領域７１０ｃ、又は集合体領域７１０ｄに形成されている画素集合体７１を、画素集合体７１ａ、画素集合体７１ｂ、画素集合体７１ｃ、又は画素集合体７１ｄと表記する。図４（ｄ）に示すように、画素集合体７１は、画素ユニット７２がピッチＰ２で、縦横に配列されている。ピッチＰ２と、ピッチＰ１とは、ピッチＰ１×（マイクロレンズアレイ６１におけるマイクロレンズ６２の行数又は列数−１）＝ピッチＰ２×（画素集合体７１における画素ユニット７２の行数又は列数）の関係を満たす値に設定されている。図４（ｄ）に示した画素集合体７１は、画素集合体７１ａであり、画素虚像７３Ａと略相似形状を有する画素ユニット７２ａがピッチＰ２で配列されている。図４（ｃ）に示した画素集合体７１ｂ、画素集合体７１ｃ、及び画素集合体７１ｄは、画素虚像７３Ｂ、画素虚像７３Ｃ、又は画素虚像７３Ｄと略相似形状を有する画素ユニット７２ｂ、画素ユニット７２ｃ、又は画素ユニット７２ｄがピッチＰ２で配列されている。
画素集合体７１には、例えば、４５行×４５列で、２０２５個の画素ユニット７２が形成されている。ピッチＰ２は、例えば１７６μｍである。
【００３８】
図４（ｅ）に示すように、虚像現出装飾体５１では、マイクロレンズアレイ６１と画素集合体７１とが、基材５３の面に平行な方向において重なる状態で形成されている。画素虚像７３を現出させるマイクロレンズアレイ６１と画素集合体７１との組を、虚像ユニット７６と表記する。画素虚像７３Ａ、画素虚像７３Ｂ、画素虚像７３Ｃ、又は画素虚像７３Ｄを現出させる虚像ユニット７６を、虚像ユニット７６ａ、虚像ユニット７６ｂ、虚像ユニット７６ｃ、虚像ユニット７６ｄと表記する。
【００３９】
図４（ｆ）に示すように、虚像ユニット７６（虚像ユニット７６ａ）において、マイクロレンズアレイ６１のマイクロレンズ６２０と、画素集合体７１の画素ユニット７２０とが、中心が合致している。マイクロレンズ６２０は、マイクロレンズアレイ６１の中央のマイクロレンズ６２であり、画素ユニット７２０は、画素集合体７１の中央の画素ユニット７２である。マイクロレンズ６２０の隣のマイクロレンズ６２と、画素ユニット７２０の隣の画素ユニット７２とは、中心位置が、ピッチＰ１とピッチＰ２との差に相当する量だけずれている。Ｐ１が１８０μｍであり、ピッチＰ２が１７６μｍである場合、４μｍずれている。
虚像ユニット７６の端においては、画素集合体７１が有する画素ユニット７２の行又は列における端の行又は列を構成する画素ユニット７２の中心位置は、マイクロレンズアレイ６１が有するマイクロレンズ６２の行又は列における端の行又は列を構成するマイクロレンズ６２の中心位置と端から２番目の行又は列を構成するマイクロレンズ６２の中心位置との中点に位置する。
画素集合体７１が、ユニット集合体に相当する。マイクロレンズ６２が、レンズ体に相当する。マイクロレンズアレイ６１が、レンズ集合体に相当する。
【００４０】
このように構成された虚像現出装飾体５１において、画素ユニット７２と対応するマイクロレンズ６２とによって、画素ユニット７２の一部分の虚像が形成される。虚像ユニット７６において、画素ユニット７２と対応するマイクロレンズ６２ごとに、虚像として形成する画素ユニット７２の部分が異なっている。このため、虚像ユニット７６において、マイクロレンズ６２によって画素ユニット７２が拡大された画素虚像７３が、視認可能に形成される。
【００４１】
＜画素集合体及び画素ユニット＞
次に、虚像現出装飾体５１が備える画素集合体７１の構成、及び画素集合体７１が備える画素ユニット７２の構成について、図５及び図６を参照して説明する。図５は、虚像現出装飾体における画素集合体の構成を示す模式図である。図５（ａ）は、虚像現出装飾体における、画素集合体の構成を示す平面図であり、図５（ｂ）は、画素集合体における、画素ユニットの構成を示す平面図である。図６は、画素ユニットの構成を示す説明図である。図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）は、画素ユニットを画素ドットで示した説明図であり、図６（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、及び（ｈ）は、画素ユニットを画素ドット区画で示した説明図である。
【００４２】
図５（ａ）は、図４（ｃ）と同様の図である。図５（ａ）に示したように、虚像現出装飾体５１は、４個所の集合体領域７１０を備えている。図４（ｃ）を参照して説明したように、１個所の集合体領域７１０には、１個の画素集合体７１が形成されている。集合体領域７１０ａ、集合体領域７１０ｂ、集合体領域７１０ｃ、及び集合体領域７１０ｄには、画素集合体７１ａ、画素集合体７１ｂ、画素集合体７１ｃ、又は画素集合体７１ｄが形成されている。
【００４３】
図５（ｂ）に示したように、画素集合体７１ａには、４５行×４５列で、２０２５個の画素ユニット７２ａが形成されている。画素ユニット７２ａの配設ピッチは、行ピッチも列ピッチも、例えば、１７６μｍである。画素集合体７１ｂなどの、画素集合体７１ａ以外の画素集合体７１においても同様である。画素集合体７１ｂ、画素集合体７１ｃ、及び画素集合体７１ｄには、４５行×４５列で、２０２５個の、画素ユニット７２ｂ、画素ユニット７２ｃ、又は画素ユニット７２ｄが形成されている。
【００４４】
図６（ａ）に示したように、画素ユニット７２ａは、１６個の画素ドット７５が所定の位置関係に配設されることによって形成されている。画素ユニット７２は、画素ドット７５を１６行×１６列に配置できる画素ユニット領域７２１に、１個の画素ユニット７２を形成する。図６（ｅ）では、画素ユニット領域７２１を１６行×１６列の画素ドット区画７５１に区切って示している。画素ドット区画７５１における、画素ドット７５に対応する画素ドット区画７５１を画素区画７５１ａと表記する。画素ユニット７２の背景部分に相当する画素ドット区画７５１であって、基材５３の面のままである画素ドット区画７５１を基材色区画７５１ｂと表記する。図６（ｅ）に示すように、画素ユニット７２ａは、１６個の画素区画７５１ａが所定の相対位置に配設されて形成されている。画素ユニット７２ａが形成されている画素ユニット領域７２１ａには、１６×１６−１６＝２４０個の、基材色区画７５１ｂが存在する。
【００４５】
図６（ｂ）に示したように、画素ユニット７２ｂは、１８個の画素ドット７５が所定の位置関係に配設されることによって形成されている。図６（ｆ）に示すように、画素ユニット７２ｂは、１８個の画素区画７５１ａが所定の相対位置に配設されて形成されている。画素ユニット７２ｂが形成されている画素ユニット領域７２１ｂには、２３８個の、基材色区画７５１ｂが存在する。
図６（ｃ）に示したように、画素ユニット７２ｃは、１５個の画素ドット７５が所定の位置関係に配設されることによって形成されている。図６（ｇ）に示すように、画素ユニット７２ｃは、１５個の画素区画７５１ａが所定の相対位置に配設されて形成されている。画素ユニット７２ｃが形成されている画素ユニット領域７２１ｃには、２４１個の、基材色区画７５１ｂが存在する。
図６（ｄ）に示したように、画素ユニット７２ｄは、１８個の画素ドット７５が所定の位置関係に配設されることによって形成されている。図６（ｈ）に示すように、画素ユニット７２ｄは、１８個の画素区画７５１ａが所定の相対位置に配設されて形成されている。画素ユニット７２ｄが形成されている画素ユニット領域７２１ｄには、２３８個の、基材色区画７５１ｂが存在する。
【００４６】
なお、画素ドット７５及び画素ドット区画７５１は、説明を判りやすくするために、画素ユニット７２を構成する要素を模式的に示したものである。画素集合体７１を上述した液滴吐出装置１を用いて形成する場合、画素ドット７５が、図２を参照して説明した着弾点９１に対応し、画素ドット区画７５１が着弾円９１Ａに対応する。図２（ｄ）に示したそれぞれの着弾点９１の位置について、描画する画素集合体７１における画素ユニット７２の画素ドット７５の位置に対応して、液滴を着弾させる着弾点９１と液滴を着弾させない着弾点９１とを定めることによって、液状体の液滴を着弾させる位置を規定する画素配置図が形成される。形成した画素配置図における着弾点９１に対応する位置に液滴を着弾させることで、画素集合体７１を描画する。
【００４７】
図２を参照して説明したように、吐出する液滴の１滴あたりの吐出重量を適切に定めることによって、隙間なく機能液を配置することが可能である。着弾した液滴が濡れ広がることで、画素ユニット７２は、画素ドット７５又は画素ドット区画７５１がつながって形成された形状となる。当該画素ユニット７２の集合である画素集合体７１がマイクロレンズアレイ６１を介して虚像として視認されることで、図３（ｂ）に示したような、画素虚像７３として視認される。
【００４８】
＜調整画素集合体例１＞
次に、現出させる虚像における、画像の階調や背景の階調を調整した調整画素集合体について、図７を参照して説明する。調整画素集合体は、画素集合体７１における画素ユニット７２の数などを調整して形成する。図７は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。図７（ａ）は、階調の調整を実施していない画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示した画素集合体において階調を調整した調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。図７（ｃ）は、背景部分に背景色が配置されており、階調の調整を実施していない画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図であり、図７（ｄ）、図７（ｅ）、及び図７（ｆ）は、図７（ｃ）に示した画素集合体において階調を調整した調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。
【００４９】
図７（ａ）に一部分を示した画素集合体７１は、図５などを参照して説明した画素集合体７１（画素集合体７１ａ）である。上述したように、画素集合体７１は、画素ユニット領域７２１に形成された画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１において、画素ユニット領域７２１は、４５行×４５列に配列されている。画素ユニット領域７２１は、所定の相対位置に配設された画素区画７５１ａと、基材色区画７５１ｂとを備えている。画素ユニット７２は、基材色区画７５１ｂの中に、画素区画７５１ａを所定の相対位置関係に配置して形成されている。
【００５０】
図７（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１５は、画素ユニット７２と、基材色ユニット７４５とを備えている。画素集合体７１５は、調整集合体領域７０５に形成されている。調整集合体領域７０５は、画素ユニット領域７２１と、画素ユニット領域７２５とを備えている。基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂが、１６行×１６列に配列されて形成されている。すなわち、画素ユニット領域７２５は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域である。言い換えると、基材色ユニット７４５は、画素ユニット７２から画素ドット７５を削除したものである。画素集合体７１５における基材色ユニット７４５が、背景色画素ユニットに相当する。
【００５１】
画素集合体７１５を形成する工程では、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２１における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２５には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されず、画素ユニット領域７２５では、基材５３の表面がそのまま維持される。
図７（ｂ）に示すように、画素集合体７１５は、略同数の画素ユニット７２と、基材色ユニット７４５と、を備えている。したがって、画素集合体７１５は、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の、半分の数の画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１５を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。
【００５２】
図７（ｃ）に一部分を示した画素集合体７１４は、画素ユニット７４を備えている。画素集合体７１４は、集合体領域７０４に形成されている。集合体領域７０４は、画素ユニット領域７２６を備えている。集合体領域７０４において、画素ユニット領域７２６は、４５行×４５列に配列されている。
画素ユニット７４は、画素ユニット領域７２６に形成されている。画素ユニット領域７２６は、画素ユニット領域７２１と同様に、画素ドット区画７５１が、１６行×１６列に配列されて形成されている。
【００５３】
画素ユニット領域７２６は、画素区画７５１ａと、背景色区画７５１ｃとを、備えている。画素区画７５１ａは、上述したように、画素ドット７５が配置される画素ドット区画７５１である。画素ユニット領域７２６において、画素区画７５１ａは、画素ユニット領域７２１における画素区画７５１ａと同様に配列されている。画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）は、マイクロレンズ６２を介して形成された画素区画７５１ａの一部分の虚像の集合体である。画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の色調は、略画素区画７５１ａの色調であり、階調は、略画素区画７５１ａの階調である。
背景色区画７５１ｃは、背景色に彩色された画素ドット区画７５１である。画素ユニット領域７２６において、画素区画７５１ａ以外の画素ドット区画７５１は、背景色区画７５１ｃである。画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された背景色区画７５１ｃの一部分の虚像の集合体である。画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の色調は、略背景色区画７５１ｃの色調であり、階調は、略背景色区画７５１ｃの階調である。
【００５４】
画素集合体７１４を形成する工程では、最初に、背景色区画７５１ｃの位置に、背景色の材料を配置する。例えば、調整集合体領域７０６の全面に、背景色を形成するための液滴を配置して、集合体領域７０４の全面を背景色にする。次に、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２６における、画素区画７５１ａの位置に配置する。
【００５５】
図７（ｄ）に一部分を示した画素集合体７１６は、画素ユニット７４と、背景色ユニット７４７とを備えている。画素集合体７１６は、調整集合体領域７０６に形成されている。調整集合体領域７０６は、画素ユニット領域７２６と、画素ユニット領域７２７とを備えている。
背景色ユニット７４７は、画素ユニット領域７２７に形成されている。画素ユニット領域７２７は、背景色区画７５１ｃを備えている。画素ユニット領域７２７は、背景色区画７５１ｃが、１６行×１６列に配列されて形成されている。すなわち、画素ユニット領域７２７は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域である。言い換えると、背景色ユニット７４７は、画素ユニット７４から画素ドット７５を削除したものである。画素集合体７１６における背景色ユニット７４７が、背景色画素ユニットに相当する。
【００５６】
画素集合体７１６を形成する工程では、最初に、背景色区画７５１ｃの位置に、背景色の材料を配置する。例えば、調整集合体領域７０６の全面に、背景色を形成するための液滴を配置して、調整集合体領域７０６の全面を背景色にする。次に、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２６における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２７には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されず、画素ユニット領域７２７では、背景色の面がそのまま維持される。
【００５７】
図７（ｄ）に示すように、画素集合体７１６は、略同数の画素ユニット７４と、背景色ユニット７４７と、を備えている。したがって、画素集合体７１６は、画素集合体７１４が備える画素ユニット７４の、略半分の数の画素ユニット７４を備えている。画素集合体７１６を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。
画素集合体７１６を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された、画素ユニット７４における背景部分の一部分の虚像、及び背景色ユニット７４７の一部分の虚像の集合体である。画素ユニット７４における背景部分は、背景色区画７５１ｃである。背景色ユニット７４７は、全面が背景色区画７５１ｃである。したがって、画素集合体７１６を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された背景色区画７５１ｃの一部分の虚像の集合体である。画素集合体７１６を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の色調は、略背景色区画７５１ｃの色調であり、階調は、略背景色区画７５１ｃの階調である。
【００５８】
図７（ｅ）に一部分を示した画素集合体７１７は、画素ユニット７４と、基材色ユニット７４５とを備えている。画素集合体７１７は、調整集合体領域７０７に形成されている。調整集合体領域７０７は、画素ユニット領域７２６と、画素ユニット領域７２５とを備えている。
画素ユニット７４は、画素ユニット領域７２６に形成されている。上述したように、画素ユニット領域７２６は、画素ドット区画７５１が、１６行×１６列に配列されて形成されている。画素ユニット領域７２６は、画素区画７５１ａと、背景色区画７５１ｃとを、備えている。
基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。上述したように、画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えており、基材色区画７５１ｂが、１６行×１６列に配列されて形成されている。画素ユニット領域７２５は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域である。画素集合体７１７における基材色ユニット７４５が、基材面背景ユニットに相当する。
【００５９】
画素集合体７１７を形成する工程では、最初に、背景色区画７５１ｃの位置に、背景色の材料を配置する。例えば、調整集合体領域７０７における、画素ユニット領域７２６の位置の全面に、背景色を形成するための液滴を配置して、調整集合体領域７０７における画素ユニット領域７２６の部分を背景色にする。次に、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２６における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２５には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されない。画素ユニット領域７２５では、背景色を形成するための液滴も配置されず、画素ドット７５を形成するための液滴も配置されないため、基材５３の表面がそのまま維持される。
【００６０】
図７（ｅ）に示すように、画素集合体７１７は、略同数の画素ユニット７４と、基材色ユニット７４５と、を備えている。したがって、画素集合体７１７は、画素集合体７１４が備える画素ユニット７４の、略半分の数の画素ユニット７４を備えている。画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）は、マイクロレンズ６２を介して形成された、画素ユニット７４における画素ドット７５の一部分の虚像の集合体である。画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。
【００６１】
画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された、画素ユニット７４における背景部分の一部分の虚像、及び基材色ユニット７４５の一部分の虚像の集合体である。画素ユニット領域７２６における背景部分は、背景色区画７５１ｃである。基材色ユニット７４５は、全面が基材色区画７５１ｂである。画素集合体７１７は、略同数の画素ユニット７４と、基材色ユニット７４５と、を備えており、画素集合体７１７は、画素集合体７１４が備える画素ユニット７４の、略半分の数の画素ユニット７４を備えている。したがって、画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調の、略５０％である。
【００６２】
図７（ｆ）に一部分を示した画素集合体７１８は、画素ユニット７４と、基材色ユニット７４５と、背景色ユニット７４７とを備えている。画素集合体７１８は、調整集合体領域７０８に形成されている。調整集合体領域７０８は、画素ユニット領域７２６と、画素ユニット領域７２５と、画素ユニット領域７２７とを備えている。
画素ユニット７４は、画素ユニット領域７２６に形成されている。基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。背景色ユニット７４７は、画素ユニット領域７２７に形成されている。画素ユニット領域７２６は、画素区画７５１ａと、背景色区画７５１ｃとを備えている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えている。画素ユニット領域７２７は、背景色区画７５１ｃを備えている。
【００６３】
画素集合体７１８を形成する工程では、最初に、背景色区画７５１ｃの位置に、背景色の材料を配置する。例えば、調整集合体領域７０８における、画素ユニット領域７２６の位置の全面、及び画素ユニット領域７２７の位置の全面に、背景色を形成するための液滴を配置して、調整集合体領域７０８における画素ユニット領域７２６及び画素ユニット領域７２７の部分を背景色にする。次に、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２６における、画素区画７５１ａの位置に配置する。
画素ユニット領域７２５及び画素ユニット領域７２７には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されない。画素ユニット領域７２５では、背景色を形成するための液滴も配置されず、画素ドット７５を形成するための液滴も配置されないため、基材５３の表面がそのまま維持される。画素ユニット領域７２７では、背景色を形成するための液滴が配置され、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されないため、背景色の面がそのまま維持される。
画素集合体７１８における基材色ユニット７４５が、基材面背景ユニットに相当する。画素集合体７１８における基材色ユニット７４５及び背景色ユニット７４７が、背景色画素ユニットに相当する。
【００６４】
図７（ｆ）に示すように、画素集合体７１８における画素ユニット７４は、画素集合体７１６や画素集合体７１７における画素ユニット７４と同様に配置されている。したがって、画素集合体７１８を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１６又は画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調と略同じである。また、画素集合体７１８を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。
【００６５】
画素集合体７１８を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分は、マイクロレンズ６２を介して形成された、画素ユニット７４における背景部分の一部分の虚像、基材色ユニット７４５の一部分の虚像、及び背景色ユニット７４７の一部分の虚像の集合体である。画素ユニット領域７２６における背景部分は、背景色区画７５１ｃである。背景色ユニット７４７は、全面が背景色区画７５１ｃである。基材色ユニット７４５は、全面が基材色区画７５１ｂである。
画素集合体７１８は、略同数の背景色ユニット７４７と、基材色ユニット７４５と、を備えており、背景色ユニット７４７の数と基材色ユニット７４５の数との合計の数に略等しい数の画素ユニット７４を備えている。画素集合体７１８が備える背景色ユニット７４７と基材色ユニット７４５と画素ユニット７４とにおいて、背景色ユニット７４７及び画素ユニット７４は、７５％を占めている。したがって、画素集合体７１８を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調の、略７５％である。
図７（ｆ）に示した画素集合体７１８における基材色ユニット７４５の位置は、図示した範囲が狭いため、規則的に配列しているが、ランダムな位置に配置することが好ましい。基材色ユニット７４５をランダムな位置に配設することで、規則的に配置する場合にくらべて、画素虚像７３における像部分の背景部分において、基材色ユニット７４５の虚像が分別されて視認される可能性を小さくすることができる。また、画素虚像７３における像部分の背景部分に階調の斑ができることを抑制することができる。
【００６６】
＜調整画素集合体例２＞
次に、上述した画素集合体７１５などと一部の構成が異なる調整画素集合体について、図８を参照して説明する。図８は、ランダムディザマスクを用いて画素ユニットの位置を設定した画素集合体の説明図である。図８（ａ）は、ランダムディザマスクの説明図であり、図８（ｂ）は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。
【００６７】
上述したように、集合体領域７１０における画素ユニット７２の数を減らすことによって、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａなど）の階調を調整する。例えば、画素集合体７１５においては、画素ユニット７２の数を画素集合体７１の半分にすることによって、画素集合体７１５を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調を、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％にしている。
【００６８】
図８（ａ）に示したランダムディザマスク８１は、５％階調のランダムディザマスクである。図８（ａ）に示すように、ランダムディザマスク８１は、黒点部８２と、白点部８３とを備えている。黒点部８２の数と、白点部８３の数との合計は、例えば、画素集合体７１が備える４５×４５＝２０２５個の画素ユニット７２に対応した２０２５個である。ランダムディザマスク８１は、５％階調であり、ランダムディザマスク８１が備える黒点部８２は、２０２５個の略５％である。
ランダムディザマスク８１における黒点部８２の位置は、ディザ法を用いて形成されたランダムディザパターンに基づいて、ランダムな位置に設定されている。
【００６９】
図８（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１１は、画素ユニット７２と、基材色ユニット７４５と、を備えている。画素集合体７１１は、調整集合体領域７０１に形成されている。調整集合体領域７０１は、画素ユニット領域７２１と、画素ユニット領域７２５と、を備えている。
画素ユニット７２は、画素ユニット領域７２１に形成されている。画素ユニット領域７２１は、画素区画７５１ａを備え、画素ユニット７２は、所定の相対位置に配設された画素区画７５１ａに画素ドット７５が配設されて形成されている。
基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えている。画素ユニット領域７２５は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域であり、基材色ユニット７４５は、画素ドット７５が配設されない領域である。
【００７０】
画素集合体７１１を形成する工程では、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２１における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２５には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されず、画素ユニット領域７２５では、基材５３の表面がそのまま維持される。
【００７１】
図８（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１１は、画素ユニット７２の位置を、ランダムディザマスク８１における黒点部８２の位置に対応させて設定してある。すなわち、調整集合体領域７０１における画素ユニット領域７２１の位置は、ランダムディザマスク８１における黒点部８２の位置に対応している。画素集合体７１１の図８（ｂ）に示した部分は、図８（ａ）に示した部分領域８１ａに対応する部分である。
ランダムディザマスク８１は５％階調であり、画素集合体７１１は、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の、５％の数の画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５％である。
【００７２】
＜調整画素集合体例３＞
次に、上述した画素集合体７１５などと一部の構成が異なる調整画素集合体について、図９を参照して説明する。図９は、ランダムディザマスクを用いて画素ユニットの位置を設定した画素集合体の説明図である。図９（ａ）は、ランダムディザマスクの説明図であり、図９（ｂ）は、調整画素集合体における画素ユニットの配置を示す説明図である。
【００７３】
上述したように、集合体領域７１０における画素ユニット７２の数を減らすことによって、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａなど）の階調を調整する。例えば、画素集合体７１５においては、画素ユニット７２の数を画素集合体７１の半分にすることによって、画素集合体７１５を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調を、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％にしている。
【００７４】
図９（ａ）に示したランダムディザマスク８９は、９５％階調のランダムディザマスクである。図９（ａ）に示すように、ランダムディザマスク８９は、黒点部８２と、白点部８３とを備えている。黒点部８２の数と、白点部８３の数との合計は、例えば、画素集合体７１が備える４５×４５＝２０２５個の画素ユニット７２に対応した２０２５個である。ランダムディザマスク８９は、９５％階調であり、ランダムディザマスク８９が備える黒点部８２は、２０２５個の略９５％である。
ランダムディザマスク８９における黒点部８２の位置は、ディザ法を用いて形成されたランダムディザパターンに基づいて、ランダムな位置に設定されている。
【００７５】
図９（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１９は、画素ユニット７２と、基材色ユニット７４５と、を備えている。画素集合体７１９は、調整集合体領域７０９に形成されている。調整集合体領域７０９は、画素ユニット領域７２１と、画素ユニット領域７２５と、を備えている。
画素ユニット７２は、画素ユニット領域７２１に形成されている。画素ユニット領域７２１は、画素区画７５１ａを備え、画素ユニット７２は、所定の相対位置に配設された画素区画７５１ａに画素ドット７５が配設されて形成されている。
基材色ユニット７４５は、画素ユニット領域７２５に形成されている。画素ユニット領域７２５は、基材色区画７５１ｂを備えている。画素ユニット領域７２５は、画素区画７５１ａを備えておらず、画素ドット７５が配置されない領域であり、基材色ユニット７４５は、画素ドット７５が配設されない領域である。
【００７６】
画素集合体７１９を形成する工程では、画素ドット７５を形成するための液滴を、画素ユニット領域７２１における、画素区画７５１ａの位置に配置する。画素ユニット領域７２５には、画素区画７５１ａが存在しないため、画素ドット７５を形成するための液滴は配置されず、画素ユニット領域７２５では、基材５３の表面がそのまま維持される。
【００７７】
図９（ｂ）に一部分を示した画素集合体７１９は、画素ユニット７２の位置を、ランダムディザマスク８９における黒点部８２の位置に対応させて設定してある。すなわち、調整集合体領域７０９における画素ユニット領域７２１の位置は、ランダムディザマスク８９における黒点部８２の位置に対応している。画素集合体７１９の図９（ｂ）に示した部分は、図９（ａ）に示した部分領域８９ａに対応する部分である。
ランダムディザマスク８９は９５％階調であり、画素集合体７１９は、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の、９５％の数の画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１９を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略９５％である。
【００７８】
以下、実施形態による効果を記載する。本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）画素集合体７１５は、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の、半分の数の画素ユニット７２を備えている。画素集合体７１５を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調は、画素集合体７１を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調の、略５０％である。このように、画素集合体７１が備える画素ユニット７２の数を調整することによって、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の階調を調整することができる。
【００７９】
（２）画素集合体７１７は、画素集合体７１４が備える画素ユニット７４の、略半分の数の画素ユニット７４を備えている。画素ユニット７４における画像（文字）部分の背景部分には、背景色の材料が配置されている。画素集合体７１７を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調は、画素集合体７１４を備える虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調の、略５０％である。このように、画素ユニット７４のように画像の背景部分に色彩を施された画素ユニットを備える、画素集合体７１４などのような画素集合体において、画素集合体が備える背景部分に色彩を施された画素ユニットの数を調整することによって、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分（文字Ａ）の背景部分の階調を調整することができる。
【００８０】
（３）画素集合体７１１及び画素集合体７１９は、ディザ法を用いて形成されたランダムディザパターンに基づいて形成されたランダムディザマスク８１又はランダムディザマスク８９に拠って、画素ユニット７２の配設位置が規定されている。ランダムディザパターンに基づくことにより、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３における像部分に、階調の斑ができることを抑制することができる。また、観る方向を変動させた場合に、階調のゆらぎが発生することを抑制することができる。
【００８１】
以上、添付図面を参照しながら好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。実施形態は、要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下の変形例のように実施することもできる。
【００８２】
（変形例１）前記実施形態においては、ランダムディザマスク８１及びランダムディザマスク８９における黒点部８２の位置は、ディザ法を用いて形成されたランダムディザパターンに基づいて決定されていた。しかし、画素ユニットを配置する位置又は間引く画素ユニットの位置などをランダムに設定するために、ディザ法を用いることは必須ではない。位置をランダムに設定する方法は、設定した階調に応じたランダムな位置を設定することが可能であれば、どのような方法であってもよい。
【００８３】
（変形例２）前記実施形態においては、虚像現出装飾体５１のマイクロレンズアレイ６１におけるマイクロレンズ６２の配設ピッチＰ１と、画素集合体７１における画素ユニット７２の配設ピッチＰ２との関係は、ピッチＰ１＞ピッチＰ２であった。また、ピッチＰ１×（マイクロレンズアレイ６１におけるマイクロレンズ６２の行数又は列数−１）＝ピッチＰ２×（画素集合体７１における画素ユニット７２の行数又は列数）を満たす関係であった。しかし、マイクロレンズアレイにおけるマイクロレンズの配設ピッチＰ１と、画素集合体における画素ユニットの配設ピッチＰ２との関係は、ピッチＰ１＜ピッチＰ２であってもよい。ピッチＰ１＜ピッチＰ２の場合、ピッチＰ１×（マイクロレンズアレイにおけるマイクロレンズの行数又は列数＋１）＝ピッチＰ２×（画素集合体における画素ユニットの行数又は列数）となるように、ピッチＰ１、ピッチＰ２、マイクロレンズアレイにおけるマイクロレンズの行数及び列数、及び画素集合体における画素ユニットの行数及び列数を設定する。
ピッチＰ１＞ピッチＰ２の場合、形成される虚像は、画素集合体の位置より沈んで（奥側に）見える。ピッチＰ１＜ピッチＰ２の場合、形成される虚像は、画素集合体の位置より浮かんで（手前側に）見える。
【００８４】
（変形例３）前記実施形態においては、画素集合体７１は４５行４５列に配列された画素ユニット７２を備えていたが、ユニット集合体における画素ユニットの配列が４５行４５列であることは必須ではない。行数及び列数は、他の数であってもよい。また、列方向と行方向とが略直交する方向であることも必須ではない。画素ユニットとレンズ体との位置を関連付けて配置可能であれば、どのような配列であってもよい。
【００８５】
（変形例４）前記実施形態においては、インクジェット方式の液滴吐出装置１を用いて、虚像現出装飾体５１が備える画素集合体７１を構成する画素ユニット７２の画素ドット７５を描画することによって、画素集合体７１を形成していた。しかし、液滴吐出装置を用いて、画素ドットの材料を配置することは必須ではない。画素ドットは、他の印刷方法などを用いて形成してもよい。
【００８６】
（変形例５）前記実施形態においては、虚像現出装飾体５１が備える画素集合体７１は４個であったが、虚像現出装飾体が備える画像表示部は、何個であってもよい。
【００８７】
（変形例６）前記実施形態においては、虚像ユニット７６に現出する画素虚像７３は、１個の画素ユニット７２に相当する虚像であった。しかし、虚像ユニットに現出する虚像が画素ユニット１個分の虚像であることは必須ではない。虚像現出装飾体は、例えば４個の画素ユニットが並んだ虚像が現出するなど、並列した複数の画素ユニットの像が虚像として現出するような構成であってもよい。
【符号の説明】
【００８８】
１…液滴吐出装置、２０…液滴吐出ヘッド、２４…吐出ノズル、５１…虚像現出装飾体、５３…基材、５５…撥液層、６１…マイクロレンズアレイ、６２…マイクロレンズ、７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄ…画素集合体、７２…画素ユニット、７２ａ，７２ｂ，７２ｃ，７２ｄ…画素ユニット、７３…画素虚像、７３Ａ，７３Ｂ，７３Ｃ，７３Ｄ…画素虚像、７４…画素ユニット、７６…虚像ユニット、７６ａ，７６ｂ，７６ｃ，７６ｄ…虚像ユニット、８１…ランダムディザマスク、８２…黒点部、８３…白点部、８９…ランダムディザマスク、９１…着弾点、９１Ａ…着弾円、６１０…マイクロレンズアレイ、６２０…マイクロレンズ、７０１，７０５，７０６，７０７，７０８，７０９…調整集合体領域、７０４…集合体領域、７１０…集合体領域、７１０ａ，７１０ｂ，７１０ｃ，７１０ｄ…集合体領域、７１１，７１４，７１５，７１６，７１７，７１８，７１９…画素集合体、７２０…画素ユニット、７２１…画素ユニット領域、７２１ａ，７２１ｂ，７２１ｃ，７２１ｄ…画素ユニット領域、７２５，７２６，７２７…画素ユニット領域、７４５…基材色ユニット、７４７…背景色ユニット、７５１…画素ドット区画、７５１ａ…画素区画、７５１ｂ…基材色区画、７５１ｃ…背景色区画。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が前記画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備える虚像現出装飾体の製造方法であって、
前記画素ドットを所定の位置に配設することによって前記画素ユニットの画像部分を形成して、前記ユニット集合体を形成するユニット集合体形成工程を有し、
前記ユニット集合体形成工程では、前記画素ドットの色調が前記画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含む前記ユニット集合体を形成することを特徴とする虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項２】
前記ユニット集合体形成工程では、前記背景色画素ユニットを、前記ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することを特徴とする、請求項１に記載の虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項３】
前記画素ユニットの前記背景部分に背景色材を配置して、前記背景部分を形成する背景形成工程をさらに有し、
前記背景形成工程では、前記背景部分が前記画素ユニットを形成する基材の表面である基材面背景ユニットを、少なくとも１個形成することを特徴とする、請求項１又は２に記載の虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項４】
前記背景形成工程では、前記基材面背景ユニットを、前記ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することを特徴とする、請求項３に記載の虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項５】
前記ユニット集合体における、前記背景色画素ユニット、又は前記基材面背景ユニットの少なくとも一方の配設位置を、ランダムディザパターンによって決定することを特徴とする、請求項４に記載の虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項６】
画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が前記画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備え、
前記ユニット集合体は、前記画素ドットの色調が前記画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含むことを特徴とする虚像現出装飾体。
【請求項１】
画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が前記画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備える虚像現出装飾体の製造方法であって、
前記画素ドットを所定の位置に配設することによって前記画素ユニットの画像部分を形成して、前記ユニット集合体を形成するユニット集合体形成工程を有し、
前記ユニット集合体形成工程では、前記画素ドットの色調が前記画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含む前記ユニット集合体を形成することを特徴とする虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項２】
前記ユニット集合体形成工程では、前記背景色画素ユニットを、前記ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することを特徴とする、請求項１に記載の虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項３】
前記画素ユニットの前記背景部分に背景色材を配置して、前記背景部分を形成する背景形成工程をさらに有し、
前記背景形成工程では、前記背景部分が前記画素ユニットを形成する基材の表面である基材面背景ユニットを、少なくとも１個形成することを特徴とする、請求項１又は２に記載の虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項４】
前記背景形成工程では、前記基材面背景ユニットを、前記ユニット集合体におけるランダムな位置に配置することを特徴とする、請求項３に記載の虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項５】
前記ユニット集合体における、前記背景色画素ユニット、又は前記基材面背景ユニットの少なくとも一方の配設位置を、ランダムディザパターンによって決定することを特徴とする、請求項４に記載の虚像現出装飾体の製造方法。
【請求項６】
画素ドットが所定の位置関係に配置されて形成された画素ユニットが規則的に２次元配列されたユニット集合体と、複数のレンズ体のそれぞれのレンズ体が前記画素ユニットの位置と関連付けられた位置に配設されたレンズ集合体と、を備え、
前記ユニット集合体は、前記画素ドットの色調が前記画素ユニットの背景部分の色調である背景色画素ユニットを少なくとも１個含むことを特徴とする虚像現出装飾体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１３−９１１９９（Ｐ２０１３−９１１９９Ａ）
【公開日】平成２５年５月１６日（２０１３．５．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２３３６６６（Ｐ２０１１−２３３６６６）
【出願日】平成２３年１０月２５日（２０１１．１０．２５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【公開日】平成２５年５月１６日（２０１３．５．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１０月２５日（２０１１．１０．２５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
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