表示装置および電子機器
【課題】防湿性の向上と共に狭額縁化された表示装置を提供する。
【解決手段】表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、前記表示領域に設けられた表示層と、前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜とを備えた表示装置。
【解決手段】表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、前記表示領域に設けられた表示層と、前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜とを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、表示層に対して防湿膜を備えた表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在テレビジョンなどの平面表示装置として液晶表示装置が幅広く利用されているが、更に薄型化・低消費電力化の可能な表示装置が注目されている。
【０００３】
このような表示装置では、表示層が水分によって劣化しやすいことから表示層への水分の浸入を防止する技術がいくつか提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。特許文献２では最表面に配置された膜（基板から積層方向に最も離間した膜）により表示層を基板に封止する構成を採用し、表示装置の防湿性を向上させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１１４８２０号公報
【特許文献２】特表２００９−５２９７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、最表面に配置される膜は、外力から表示層等を保護するために膜厚が厚く、表示層等の積層構造の側面に沿うよう急な角度で折り曲げることが難しい。つまり、当該膜と基板とを密着させる際に、表示領域から表示領域以外の領域（額縁領域）にかけて当該膜の形状をなだらかにする必要があり、その結果額縁領域の面積が大きくなる。
【０００６】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、防湿性に優れると共に狭額縁化の可能な表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本技術の表示装置は、表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、表示領域に設けられた表示層と、表示層の表示面に対向配置された表面膜と、表示層と表面膜との間に介在し、接着領域において駆動基板に接すると共に駆動基板との間で表示層を封止する防湿膜とを備えたものである。
【０００８】
本技術の電子機器は、本技術の表示装置を備えたものである。
【０００９】
本技術の表示装置または電子機器では、表示層上の膜が、表示層を封止する防湿膜と、最表面の表面膜とに分離されているので、防湿膜自体の膜厚を薄くし容易に変形可能とすることができる。このため防湿膜を表示層の形状に倣って変形させることができ、よって表示領域に近い領域において防湿膜と駆動基板とが接着され、その接着領域と表示領域との間隔が狭まる。
【発明の効果】
【００１０】
本技術の表示装置および電子機器によれば、表示層を封止する防湿膜と、最表面に配置される表面膜とを分離するようにしたので、防湿性が向上すると共に、表示領域と接着領域との間の距離を小さくして狭額縁化が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した駆動基板の構成を表す平面図である。
【図３】図１に示した表示装置の製造方法の工程を表す断面図である。
【図４】図３に続く工程を表す断面図である。
【図５】比較例１に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図６】比較例２に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図７】変形例１に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図８】変形例２に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図９】図８に示した表示装置の製造方法の工程を表す断面図である。
【図１０】図９に続く工程を表す断面図である。
【図１１】紫外線遮断機能を有する膜の波長と透過率との関係を表す図である。
【図１２】変形例３に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図１３】図１２に示した表示装置の製造方法の工程を表す断面図である。
【図１４】図１３に続く工程を表す断面図である。
【図１５】適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１６】適用例２の外観を表す斜視図である。
【図１７】（Ａ）は適用例３の表側から見た外観を表す斜視図、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１８】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１９】適用例５の外観を表す斜視図である。
【図２０】（Ａ）は適用例６の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以
下の順序で行う。
１．実施の形態
表示層の側面を防湿膜で覆った表示装置
２．変形例１
表示層の側面に密着する水分遮断部を有する表示装置
３．変形例２
駆動基板に回路基板を備えた表示装置
４．変形例３
ドライバＩＣが直接駆動基板に搭載された表示装置
５．適用例
【００１３】
＜実施の形態＞
[表示装置１の構成]
図１は本開示の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の断面構成を表すものである。この表示装置１は、駆動基板１０上に、表示層１１、対向基板１２、防湿膜１３および光学機能膜１４をこの順に有している。なお、図１は表示装置１の形状を模式的に表したものであり、実際の寸法、形状とは異なる。
【００１４】
駆動基板１０には、図２に示したように、中央領域（表示領域１０−１）の周囲にこの表示領域１０−１を完全に取り囲むように接着領域１０−２が設けられている。表示領域１０−１上には表示層１１が設けられ、接着領域１０−２には、防湿膜１３の端部が接着されている。表示領域１０−１と接着領域１０−２との間の距離をＤ1とする。
【００１５】
駆動基板１０は、基体１０ａ上にバリア層１０ｂおよびＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路１０ｃをこの順に積層させたものである。基体１０ａは、例えば、ガラス、石英、シリコン、ガリウム砒素等の無機材料、ステンレス等の金属材料あるいは、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）等のプラスチック材料等からなる。この基体１０ａは、ウェハなどの剛性を有するものであってもよく、薄層ガラス、フィルムまたは金属箔など可撓性を有するものであってもよい。基体１０ａが可撓性を有するものであれば、折り曲げ可能な表示装置を実現できる。基体１０ａの厚み（積層方向の厚み。以下単に厚みという。）は、例えば１０μｍ〜１００μｍである。
【００１６】
バリア層１０ｂは、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により形成されたＡｌＯxＮ1-X（ただし、Ｘ＝０．０１〜０．２）膜または窒化シリコン（Ｓｉ3Ｎ4）膜であり、水分や有機ガスによるＴＦＴ回路１０ｃおよび表示層１１の劣化を防止する。バリア層１０ｂは、ＣＶＤ法により成膜される場合がほとんどであり、蒸着法により成膜した場合と比較すると緻密で、透湿性がより低くなる。本実施の形態では、このようなバリア層１０ｂと防湿膜１３との間に表示層１１を封止するようにしているので、外部からの水分の浸入をより効果的に遮断することができる。
【００１７】
ＴＦＴ回路１０ｃは画素を選択するためのスイッチング機能を有している。このＴＦＴ回路１０ｃは、チャネル層として無機半導体層を用いた無機ＴＦＴあるいは、有機半導体層を用いた有機ＴＦＴのどちらにより構成されていてもよい。
【００１８】
表示層１１は、例えば、画素電極と共通電極との間に、液晶層、有機ＥＬ（Electroluminescence）層、無機ＥＬ層あるいは電気泳動型等の表示体を有するものである。画素電極はＴＦＴ回路１０ｃ、共通電極は対向基板１２にそれぞれ接している。表示層１１の積層方向の厚みは、例えば４０μｍ〜１６５μｍ程度である。画素電極は画素ごとに設けられており、例えばクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、アルミニウム（Ａｌ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金からなる。共通電極は、対向基板１２の一面に亘り設けられており、例えば、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモン−酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）またはアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）等の透光性導電材料（透明電極材料）により構成されている。
【００１９】
対向基板１２は、表示層１１と同様に表示領域１０−１上に設けられており例えば１２５μｍ程度の厚みを有する。本実施の形態では、対向基板１２側において画像が表示されるため、対向基板１２には光透過性の材料が用いられるが、この点を除き、基体１０ａと同様の材料を用いることができる。
【００２０】
防湿膜１３はこの対向基板１２に対して透明接着剤１６ａにより固定されている。この透明接着剤１６ａは、例えば、２５μｍの厚みのＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）等からなる。基体１０ａを可撓性基板により構成するときには、透明接着剤１６ａも可撓性であることが好ましい。後述の透明接着剤１６ｂ、接着剤１７も同様である。
【００２１】
防湿膜１３は、表示層１１と光学機能膜１４との間に介在して表示層１１への水分の浸入を防止するものである。防湿膜１３の面積は、表示領域１０−１の面積よりも大きく、表示層１１の上面および側面を覆っている。防湿膜１３は、接着領域１０−２において表示層１１の下面を覆う駆動基板１０に接着剤１７で固定されている。すなわち、防湿膜１３は表示層１１を駆動基板１０に封止している。これにより、表示装置１の外部、特に側面から表示層１１への水分の浸入を防ぐことができ、防湿性が向上する。
【００２２】
防湿膜１３は、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ナイロン−６、ナイロン−６６、ポリ塩化ビニリデン、ポリエーテルスルホン等により構成されている。なお、この防湿膜１３は上記のような樹脂膜に蒸着法やＣＶＤ法によりＡｌＯx膜や窒化シリコン膜が形成されたものであってもよく、複数の樹脂膜からなる積層構造であってもよい。防湿膜１３は、例えば０．０１ｇ／ｍ2／日〜０．１ｇ／ｍ2／日、好ましくは０．０５ｇ／ｍ2／日以下の透湿度を有し、かつ光透過性の高いものであることが好ましい。防湿膜１３の膜厚は、例えば５０μｍ以下であり、特に１０μｍ〜４０μｍであることが好ましい。
【００２３】
本実施の形態では、防湿膜１３と表面の光学機能膜１４とが分離されているため、表示層１１に沿って設けられる防湿膜１３を薄くすることができ、柔軟性を持たせることができる。よって、表示領域１０−１に近い領域で防湿膜１３と駆動基板１０とを接着することができる。すなわち、表示領域１０−１と接着領域１０−２との間隔が狭くなり、距離Ｄ1（図１）を小さくすることができる。距離Ｄ1は例えば１０μｍ〜５００μｍである。
【００２４】
接着剤１７の透湿度は、防湿効果を高めるため５０ｇ／ｍ2／日以下であることが好ましい。接着剤１７の厚みは、例えば１μｍ以上３０μｍ以下であり、接着剤１７の幅（接着領域１０−２の幅）は０．５ｍｍ以下である。接着剤１７の可視光透過率が高い場合、接着剤１７と同様の材料により透明接着剤１６ａを構成してもよい。
【００２５】
光学機能膜１４（表面膜）は、例えば反射防止機能あるいは防眩機能を有し、防湿膜１３を間にして、表示層１１の表示面（上面）と対向するように配置されている。光学機能膜１４は単層構造あるいは複数の膜からなる積層構造のどちらであってもよく、駆動基板１０と略同一の大きさを有する。例えば光学機能膜１４が反射防止機能を有する場合には、光学機能膜１４は屈折率の異なる複数の薄膜の積層体であり、これらの薄膜の界面で発生する反射光の干渉を利用して反射光を減衰する。また、例えば光学機能膜１４が防眩機能を有する場合には、光学機能膜１４の表面には、塗料により凹凸面が形成され、この凹凸面により外光を乱反射させる。なお、光学機能膜１４に代えて、表面膜として、ハードコート等の表示面を物理的な刺激（外力）から保護する膜、紫外光遮断機能を有する膜あるいは指紋の付着を防止または指紋の拭き取りを容易にする膜を形成してもよい。また、表面膜が、それぞれの機能を有する複数の膜からなる積層体であってもよい。光学機能膜１４の厚みは、例えば８０μｍである。この光学機能膜１４と防湿膜１３とを接着するための透明接着剤１６ｂは、例えば２５μｍの厚みで透明接着剤１６ａと同様の材料により構成される。
【００２６】
平坦化層１５は、光学機能膜１４の表面を、駆動基板１０上の全面に亘り平らにするために設けられたものであり、表示領域１０−１の外側の領域において防湿膜１３と光学機能膜１４との間に配置されている。換言すれば、防湿膜１３を駆動基板１０と接着することにより生じた、防湿膜１３と光学機能膜１４との間の間隙部分に平坦化層１５が設けられている。平坦化層１５は、例えば光硬化性樹脂、熱硬化樹脂あるいは室温硬化性樹脂等の種々の樹脂から選択して用いることができる。表示装置１の防湿性を高めるためには平坦化層１５は透湿度の低いものが好ましい。例えば、平坦化層１５の透湿度は４０℃で５０ｇ／ｍ2／日以下であることが好ましい。具体的には、例えばエポキシ樹脂を使用することができる。基体１０ａが可撓性基板により構成されている場合は、平坦化層１５も可撓性を有していることが好ましい。
【００２７】
防湿膜１３により封止された表示領域１０−１と接着領域１０−２との間（表示層１１および対向基板１２の側面と防湿膜１３との間）は空隙１８となっており、表示層１１および対向基板１２の側面は空隙１８により囲まれている。
【００２８】
[表示装置１の製造方法]
この表示装置１は、例えば以下のようにして製造することができる。
【００２９】
図３および図４は表示装置１の製造工程を順に表したものである。まず、図３（Ａ）に示したように、基体１０ａに例えばＣＶＤ法により窒化シリコンからなるバリア層１０ｂを形成した後、上述のＴＦＴ回路１０ｃを形成して駆動基板１０とする。
【００３０】
駆動基板１０を形成した後、例えばクロム、金、白金、ニッケル、銅、タングステン、アルミニウムあるいは銀からなる金属膜を駆動基板１０の全面に形成し、これをパターニングすることにより、画素電極を形成する。次いで図３（Ｂ）に示したように、駆動基板１０上に表示層１１および対向基板１２を形成する。
【００３１】
対向基板１２を貼合した後、透明接着剤１６ａにより防湿膜１３を対向基板１２上に固定する。このとき、防湿膜１３には、その全ての辺において表示領域１０−１の辺よりも大きく、その面積が表示領域１０−１の面積よりも大きいものを用いる。これにより、防湿膜１３に表示領域１０−１の外側に張り出す部分が形成される。次いで、図４（Ａ）に示したように、防湿膜１３の表示領域１０−１から張り出した部分を駆動基板１０側に折り曲げ、表示層１１の側面を覆うようにして駆動基板１０の接着領域１０−２に接着剤１７により固定する。
【００３２】
防湿膜１３を駆動基板１０に接着させた後、図４（Ｂ）に示したように、防湿膜１３に光学機能膜１４を透明接着剤１６ｂにより貼り合わせる。光学機能膜１４が複数の膜から構成された積層体であれば、積層構造の光学機能膜１４を形成した後、防湿膜１３に貼り合わせてもよく、あるいは、順次防湿膜１３に貼り合わせて、光学機能膜１４を形成してもよい。次いで、表示領域１０−１の外側の領域に形成された、防湿膜１３と光学機能膜１４との間の間隙に、例えば光硬化性樹脂を充填し、これに光を照射させて平坦化層１５を形成する。以上により、図１に示した表示装置１が完成する。
【００３３】
［表示装置１の作用・効果］
本実施の形態の表示装置１では、表示層１１上の膜が、この表示層１１を覆う防湿膜１３と表面の光学機能膜１４とに分離されているため、防湿性が向上すると共に、狭額縁化が可能になる。以下、比較例を用いつつこれについて詳細に説明する。
【００３４】
図５は比較例１としての表示装置１０１を表したものである。この表示装置１０１は、表面に配置された保護膜１１３により表示層１１を駆動基板１０に封止している。保護膜１１３は、防湿機能に加え、反射防止機能あるいは防眩機能等の光学機能、更には外力に対する保護機能を兼ねたものであり、その膜厚は、例えば数百μｍ程度と厚くなる。このように保護膜１１３の膜厚が厚いと、表示層１１への影響を考慮した場合、保護膜１１３を表示層１１の表面から側面の角度に沿って急な角度で折り曲げることができない。すなわち表示層１１を封止する際の保護膜１１３の曲率は大きくなる。そのため表示領域１０−１と接着領域１０−２との間の距離Ｄ101が大きくなり、額縁面積が広くなってしまう。
【００３５】
図６は、比較例２として、防湿膜１１３が折り曲げられていない表示装置１０２の断面構成を表したものである。この表示装置１０２では、表示層１１および対向基板１２の側面を水分遮断部１１９で覆うことにより、防湿性の向上を図っている。水分遮断部１１９は、その外端から表示領域１０−１までの距離Ｄ102が長くなるにつれて、防湿効果が向上する。すなわち、防湿性を向上させると表示装置１０２の額縁面積が広くなってしまう。
【００３６】
これに対し、本実施の形態の表示装置１では、防湿膜１３により表示層１１が駆動基板１０に封止されている。これにより、外部から表示装置１への水分の浸入経路、特に側面からの浸入経路が遮断され、防湿性が向上する。
【００３７】
また、この表示装置１では、防湿膜１３と最表面の光学機能膜１４とが別部材となっているので、防湿膜１３の膜厚は薄くし、表示層１１を封止する際の防湿膜１３の曲率を小さくすることができる。よって、表示領域１０−１と接着領域１０−２との間の距離Ｄ1および額縁面積は小さくなる。
【００３８】
以上のように本実施の形態の表示装置１では、表示層１１を封止する薄い防湿膜１３と、最表面の光学機能膜１４というように機能別に２つの部材に分離するようにしたので、防湿性が向上すると共に、表示領域１０−１と接着領域１０−２との間の距離Ｄ1を小さくして狭額縁化を実現できる。
【００３９】
また、平坦化層１５を設けることにより光学機能膜１４の表面を平らにすることができる。よって、表示部周辺の設計上の制約が減り、デザイン上の自由度を向上させることができる。
【００４０】
以下、上記実施の形態の変形例について説明するが、以降の説明において上記実施の形態と同一構成部分については同一符号を付してその説明は適宜省略する。
【００４１】
＜変形例１＞
図７は変形例１に係る表示装置１Ａの断面構成を表したものである。この表示装置１Ａは、表示装置１の空隙１８に代えて水分遮断部１９を設けたものである。その点を除き、表示装置１Ａは上記実施の形態の表示装置１と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００４２】
水分遮断部１９は、表示領域１０−１と接着領域１０−２との間に表示層１１および対向基板１２の各側面に密着して設けられている。換言すれば、表示層１１および対向基板１２の周囲を囲むように水分遮断部１９が設けられ、表示層１１と共に防湿膜１３により駆動基板１０に封止されている。この表示装置１Ａでは、側面からの水分の浸入をより効果的に防止することができ、表示装置１よりも防湿性が向上する。また、表示層１１および対向基板１２の側面と防湿膜１３との間に空隙１８（図１）を有しないため、表示装置１Ａの機械的強度も向上する。水分遮断部１９は、例えば透湿度の低い、熱または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、シリコーン樹脂あるいはエポキシ樹脂等により構成される。水分遮断部１９の透湿度は５０g／ｍ2／日未満であることが好ましい。
【００４３】
＜変形例２＞
図８は変形例２に係る表示装置１Ｂの断面構成を表したものである。この表示装置１Ｂは、ドライバＩＣ２１を実装した回路基板２０を駆動基板１０と平坦化層１５との間に設けたものである。その点を除き、表示装置１Ｂは上記変形例１の表示装置１Ａと同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００４４】
回路基板２０は駆動基板１０の表示層１１側の面から駆動基板１０の側面を介して反対側の面へと折り曲げられている。このように回路基板２０を光学機能膜１４よりも下側（駆動基板１０側）に配置することにより、表示装置１Ｂの表示面を全面に亘り平面にすることができる。回路基板２０は、例えばＴＡＢ（Tape Automated Bonding）基板またはＣＯＦ（Chip On Film）基板等であり、ドライバＩＣ２１を実装している。回路基板２０と駆動基板１０に設けられた電極（図示せず）とが例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film;異方性導電膜）を介して電気的に接続され、表示層１１が駆動される。表示装置１Ｂでは、この回路基板２０と電極との接続部分が平坦化層１５により覆われているため、接続部分への水分の浸入を防ぐことができ、別途、防湿コート剤等のコーティング剤を設ける必要がない。なお、回路基板２０が接続される分、額縁面積は広くなるものの、回路基板２０が接続される以外の領域については上記実施の形態と同様に狭額縁化が可能である。
【００４５】
この表示装置１Ｂは、例えば以下のようにして製造することができる。
【００４６】
まず、上記実施の形態と同様にして対向基板１２まで形成した後（図３（Ｂ））、防湿膜１３を対向基板１２に透明接着剤１６ａにより貼り合わせ、続いて、駆動基板１０への接着前に水分遮断部１９を形成する。水分遮断部１９は例えば、光硬化性樹脂を水分遮断部１９の形成予定領域に塗布し、これを硬化させることにより形成する。このとき防湿膜１３の全面あるいは少なくとも光硬化性樹脂と接触する部分に予め例えば酸素等のプラズマ処理を行っておくことが好ましい。防湿膜１３の濡れ性が向上し、光硬化性樹脂の塗布が容易となるためである。
【００４７】
また、例えば防湿膜１３が紫外線遮断機能を有する場合は、遮断される紫外線の波長範囲外の光により硬化可能な樹脂材料を用いて、水分遮断部１９を形成すればよい。図１１は、紫外線遮断機能を有する防湿膜１３における波長と光の透過率との関係の一例を示したものである。このような防湿膜１３を使用する場合は、３８０ｎｍより長波長の光（可視光）の照射により硬化可能な樹脂材料を用いればよい。
【００４８】
水分遮断部１９を形成した後、図９（Ａ）に示したように接着剤１７により防湿膜１３を駆動基板１０に固定する。接着剤１７は、水分遮断部１９と同一の樹脂材料により構成することも可能である。防湿膜１３を駆動基板１０に固定した後、図９（Ｂ）に示したように、ドライバＩＣ２１を実装した回路基板２０を、例えばＡＣＦにより、駆動基板１０上の電極（図示せず）に接続する。
【００４９】
回路基板２０を接続した後、図１０（Ａ）に示したように光学機能膜１４を透明接着剤１６ｂにより防湿膜１３上に固定し、次いで、図１０（Ｂ）に示したように平坦化層１５を形成する。平坦化層１５を形成した後、回路基板２０を折り曲げることにより表示装置１Ｂが完成する。
【００５０】
＜変形例３＞
図１２は変形例３に係る表示装置１Ｃの断面構成を表したものである。この表示装置１Ｃは、ドライバＩＣ２１を直接、駆動基板１０上に搭載したものである。その点を除き、表示装置１Ｃは上記変形例２の表示装置１Ｂと同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００５１】
ドライバＩＣ２１は、例えばＣＯＧ（Chip On Glass）またはＣＯＦ等の方法により駆動基板１０に実装されている。ドライバＩＣ２１とは別に、制御信号を入力するため、駆動基板１０に回路基板２０が接続されている。
【００５２】
この表示装置１Ｃは、例えば以下のようにして製造することができる。
【００５３】
上記変形例２と同様にして、防湿膜１３と駆動基板１０とを接着した後（図９（Ａ））、図１３（Ａ）に示したように、ドライバＩＣ２１を駆動基板１０上に例えばＣＯＦにより実装する。次いで、図１３（Ｂ）に示したように、回路基板２０を例えばＡＣＦにより、駆動基板１０上の電極（図示せず）に接続する。
【００５４】
回路基板２０を接続した後、図１４（Ａ）に示したように光学機能膜１４を透明接着剤１６ｂにより防湿膜１３上に固定し、次いで、図１４（Ｂ）に示したように平坦化層１５を形成する。平坦化層１５を形成した後、回路基板２０を折り曲げることにより表示装置１Ｃが完成する。
【００５５】
上記表示装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃは、額縁面積を狭くすると共に、最表面を平面に維持することができるため、例えば電子ブックと呼ばれる電子書籍を表示する電子機器やタッチパネルを内蔵させた電子機器に適用できる。また、その他、上記表示装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃは、次の適用例１〜６に示した電子機器にも搭載することができる。このとき、駆動基板１０の下面（表示層１１と反対側の面）に例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）からなる支持基板を備えた状態で搭載してもよい。
【００５６】
＜適用例１＞
図１５（Ａ）および図１５（Ｂ）は、電子ブックの外観を表したものである。この電子ブックは、例えば、表示部２１０、非表示部２２０および操作部２３０を有している。操作部２３０は、図１５（Ａ）に示したように表示部２１０と同じ面（前面）に形成されていても、図１５（Ｂ）に示したように表示部２１０とは異なる面（上面）に形成されていてもよい。
【００５７】
＜適用例２＞
図１６は、テレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有している。
【００５８】
＜適用例３＞
図１７は、デジタルスチルカメラの外観を表したものである。このデジタルスチルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有している。
【００５９】
＜適用例４＞
図１８は、ノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０、文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有している。
【００６０】
＜適用例５＞
図１９は、ビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０、この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０、撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有している。
【００６１】
＜適用例６＞
図２０は、携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０、サブディスプレイ７５０、ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。
【００６２】
以上、実施の形態および変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、防湿膜が表示層の側面を覆う場合について説明したが、駆動基板が可撓性材料から構成されている場合には、駆動基板により表示層の側面を覆うようにしてもよい。
【００６３】
また、例えば、上記実施の形態等において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【００６４】
更に、上記実施の形態等では、表示装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。
【００６５】
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
（１）表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、前記表示領域に設けられた表示層と、前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜とを備えた表示装置。
（２）前記防湿膜が前記表示層の上面および側面、前記駆動基板が前記表示層の下面をそれぞれ覆っている前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記表示領域の外側の前記防湿膜と前記表面膜との間に、平坦化層を有する前記（２）に記載の表示装置。
（４）前記平坦化層は樹脂により構成されている前記（３）に記載の表示装置。
（５）前記表示領域と前記接着領域との間に前記表示層の側面に密着した水分遮断部を有する前記（１）乃至（４）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（６）前記表面膜は、反射防止機能、防眩機能、紫外線遮断機能あるいは外力に対する保護機能を有する前記（１）乃至（５）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（７）前記駆動基板に前記表示層駆動用の回路基板を備えた前記（１）乃至（６）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（８）表示装置を備え、前記表示装置は、表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、前記表示領域に設けられた表示層と、前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、
前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜とを備えた電子機器。
【符号の説明】
【００６６】
１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ・・・表示装置、１０・・・駆動基板、１０ａ・・・基体、１０ｂ・・・バリア層、１０ｃ・・・ＴＦＴ回路、１０−１・・・表示領域、１０−２・・・接着領域、１１・・・表示層、１２・・・対向基板、１３・・・防湿膜、１４・・・光学機能膜、１５・・・平坦化層、１６ａ、１６ｂ・・・透明接着剤、１７・・・接着剤、１８・・・空隙、１９・・・水分遮断部、２０・・・回路基板、２１・・・ドライバＩＣ。
【技術分野】
【０００１】
本技術は、表示層に対して防湿膜を備えた表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在テレビジョンなどの平面表示装置として液晶表示装置が幅広く利用されているが、更に薄型化・低消費電力化の可能な表示装置が注目されている。
【０００３】
このような表示装置では、表示層が水分によって劣化しやすいことから表示層への水分の浸入を防止する技術がいくつか提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。特許文献２では最表面に配置された膜（基板から積層方向に最も離間した膜）により表示層を基板に封止する構成を採用し、表示装置の防湿性を向上させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１１４８２０号公報
【特許文献２】特表２００９−５２９７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、最表面に配置される膜は、外力から表示層等を保護するために膜厚が厚く、表示層等の積層構造の側面に沿うよう急な角度で折り曲げることが難しい。つまり、当該膜と基板とを密着させる際に、表示領域から表示領域以外の領域（額縁領域）にかけて当該膜の形状をなだらかにする必要があり、その結果額縁領域の面積が大きくなる。
【０００６】
本技術はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、防湿性に優れると共に狭額縁化の可能な表示装置、およびこの表示装置を備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本技術の表示装置は、表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、表示領域に設けられた表示層と、表示層の表示面に対向配置された表面膜と、表示層と表面膜との間に介在し、接着領域において駆動基板に接すると共に駆動基板との間で表示層を封止する防湿膜とを備えたものである。
【０００８】
本技術の電子機器は、本技術の表示装置を備えたものである。
【０００９】
本技術の表示装置または電子機器では、表示層上の膜が、表示層を封止する防湿膜と、最表面の表面膜とに分離されているので、防湿膜自体の膜厚を薄くし容易に変形可能とすることができる。このため防湿膜を表示層の形状に倣って変形させることができ、よって表示領域に近い領域において防湿膜と駆動基板とが接着され、その接着領域と表示領域との間隔が狭まる。
【発明の効果】
【００１０】
本技術の表示装置および電子機器によれば、表示層を封止する防湿膜と、最表面に配置される表面膜とを分離するようにしたので、防湿性が向上すると共に、表示領域と接着領域との間の距離を小さくして狭額縁化が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した駆動基板の構成を表す平面図である。
【図３】図１に示した表示装置の製造方法の工程を表す断面図である。
【図４】図３に続く工程を表す断面図である。
【図５】比較例１に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図６】比較例２に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図７】変形例１に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図８】変形例２に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図９】図８に示した表示装置の製造方法の工程を表す断面図である。
【図１０】図９に続く工程を表す断面図である。
【図１１】紫外線遮断機能を有する膜の波長と透過率との関係を表す図である。
【図１２】変形例３に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図１３】図１２に示した表示装置の製造方法の工程を表す断面図である。
【図１４】図１３に続く工程を表す断面図である。
【図１５】適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１６】適用例２の外観を表す斜視図である。
【図１７】（Ａ）は適用例３の表側から見た外観を表す斜視図、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１８】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１９】適用例５の外観を表す斜視図である。
【図２０】（Ａ）は適用例６の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以
下の順序で行う。
１．実施の形態
表示層の側面を防湿膜で覆った表示装置
２．変形例１
表示層の側面に密着する水分遮断部を有する表示装置
３．変形例２
駆動基板に回路基板を備えた表示装置
４．変形例３
ドライバＩＣが直接駆動基板に搭載された表示装置
５．適用例
【００１３】
＜実施の形態＞
[表示装置１の構成]
図１は本開示の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の断面構成を表すものである。この表示装置１は、駆動基板１０上に、表示層１１、対向基板１２、防湿膜１３および光学機能膜１４をこの順に有している。なお、図１は表示装置１の形状を模式的に表したものであり、実際の寸法、形状とは異なる。
【００１４】
駆動基板１０には、図２に示したように、中央領域（表示領域１０−１）の周囲にこの表示領域１０−１を完全に取り囲むように接着領域１０−２が設けられている。表示領域１０−１上には表示層１１が設けられ、接着領域１０−２には、防湿膜１３の端部が接着されている。表示領域１０−１と接着領域１０−２との間の距離をＤ1とする。
【００１５】
駆動基板１０は、基体１０ａ上にバリア層１０ｂおよびＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路１０ｃをこの順に積層させたものである。基体１０ａは、例えば、ガラス、石英、シリコン、ガリウム砒素等の無機材料、ステンレス等の金属材料あるいは、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）等のプラスチック材料等からなる。この基体１０ａは、ウェハなどの剛性を有するものであってもよく、薄層ガラス、フィルムまたは金属箔など可撓性を有するものであってもよい。基体１０ａが可撓性を有するものであれば、折り曲げ可能な表示装置を実現できる。基体１０ａの厚み（積層方向の厚み。以下単に厚みという。）は、例えば１０μｍ〜１００μｍである。
【００１６】
バリア層１０ｂは、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により形成されたＡｌＯxＮ1-X（ただし、Ｘ＝０．０１〜０．２）膜または窒化シリコン（Ｓｉ3Ｎ4）膜であり、水分や有機ガスによるＴＦＴ回路１０ｃおよび表示層１１の劣化を防止する。バリア層１０ｂは、ＣＶＤ法により成膜される場合がほとんどであり、蒸着法により成膜した場合と比較すると緻密で、透湿性がより低くなる。本実施の形態では、このようなバリア層１０ｂと防湿膜１３との間に表示層１１を封止するようにしているので、外部からの水分の浸入をより効果的に遮断することができる。
【００１７】
ＴＦＴ回路１０ｃは画素を選択するためのスイッチング機能を有している。このＴＦＴ回路１０ｃは、チャネル層として無機半導体層を用いた無機ＴＦＴあるいは、有機半導体層を用いた有機ＴＦＴのどちらにより構成されていてもよい。
【００１８】
表示層１１は、例えば、画素電極と共通電極との間に、液晶層、有機ＥＬ（Electroluminescence）層、無機ＥＬ層あるいは電気泳動型等の表示体を有するものである。画素電極はＴＦＴ回路１０ｃ、共通電極は対向基板１２にそれぞれ接している。表示層１１の積層方向の厚みは、例えば４０μｍ〜１６５μｍ程度である。画素電極は画素ごとに設けられており、例えばクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、アルミニウム（Ａｌ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金からなる。共通電極は、対向基板１２の一面に亘り設けられており、例えば、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモン−酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）またはアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）等の透光性導電材料（透明電極材料）により構成されている。
【００１９】
対向基板１２は、表示層１１と同様に表示領域１０−１上に設けられており例えば１２５μｍ程度の厚みを有する。本実施の形態では、対向基板１２側において画像が表示されるため、対向基板１２には光透過性の材料が用いられるが、この点を除き、基体１０ａと同様の材料を用いることができる。
【００２０】
防湿膜１３はこの対向基板１２に対して透明接着剤１６ａにより固定されている。この透明接着剤１６ａは、例えば、２５μｍの厚みのＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）等からなる。基体１０ａを可撓性基板により構成するときには、透明接着剤１６ａも可撓性であることが好ましい。後述の透明接着剤１６ｂ、接着剤１７も同様である。
【００２１】
防湿膜１３は、表示層１１と光学機能膜１４との間に介在して表示層１１への水分の浸入を防止するものである。防湿膜１３の面積は、表示領域１０−１の面積よりも大きく、表示層１１の上面および側面を覆っている。防湿膜１３は、接着領域１０−２において表示層１１の下面を覆う駆動基板１０に接着剤１７で固定されている。すなわち、防湿膜１３は表示層１１を駆動基板１０に封止している。これにより、表示装置１の外部、特に側面から表示層１１への水分の浸入を防ぐことができ、防湿性が向上する。
【００２２】
防湿膜１３は、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ナイロン−６、ナイロン−６６、ポリ塩化ビニリデン、ポリエーテルスルホン等により構成されている。なお、この防湿膜１３は上記のような樹脂膜に蒸着法やＣＶＤ法によりＡｌＯx膜や窒化シリコン膜が形成されたものであってもよく、複数の樹脂膜からなる積層構造であってもよい。防湿膜１３は、例えば０．０１ｇ／ｍ2／日〜０．１ｇ／ｍ2／日、好ましくは０．０５ｇ／ｍ2／日以下の透湿度を有し、かつ光透過性の高いものであることが好ましい。防湿膜１３の膜厚は、例えば５０μｍ以下であり、特に１０μｍ〜４０μｍであることが好ましい。
【００２３】
本実施の形態では、防湿膜１３と表面の光学機能膜１４とが分離されているため、表示層１１に沿って設けられる防湿膜１３を薄くすることができ、柔軟性を持たせることができる。よって、表示領域１０−１に近い領域で防湿膜１３と駆動基板１０とを接着することができる。すなわち、表示領域１０−１と接着領域１０−２との間隔が狭くなり、距離Ｄ1（図１）を小さくすることができる。距離Ｄ1は例えば１０μｍ〜５００μｍである。
【００２４】
接着剤１７の透湿度は、防湿効果を高めるため５０ｇ／ｍ2／日以下であることが好ましい。接着剤１７の厚みは、例えば１μｍ以上３０μｍ以下であり、接着剤１７の幅（接着領域１０−２の幅）は０．５ｍｍ以下である。接着剤１７の可視光透過率が高い場合、接着剤１７と同様の材料により透明接着剤１６ａを構成してもよい。
【００２５】
光学機能膜１４（表面膜）は、例えば反射防止機能あるいは防眩機能を有し、防湿膜１３を間にして、表示層１１の表示面（上面）と対向するように配置されている。光学機能膜１４は単層構造あるいは複数の膜からなる積層構造のどちらであってもよく、駆動基板１０と略同一の大きさを有する。例えば光学機能膜１４が反射防止機能を有する場合には、光学機能膜１４は屈折率の異なる複数の薄膜の積層体であり、これらの薄膜の界面で発生する反射光の干渉を利用して反射光を減衰する。また、例えば光学機能膜１４が防眩機能を有する場合には、光学機能膜１４の表面には、塗料により凹凸面が形成され、この凹凸面により外光を乱反射させる。なお、光学機能膜１４に代えて、表面膜として、ハードコート等の表示面を物理的な刺激（外力）から保護する膜、紫外光遮断機能を有する膜あるいは指紋の付着を防止または指紋の拭き取りを容易にする膜を形成してもよい。また、表面膜が、それぞれの機能を有する複数の膜からなる積層体であってもよい。光学機能膜１４の厚みは、例えば８０μｍである。この光学機能膜１４と防湿膜１３とを接着するための透明接着剤１６ｂは、例えば２５μｍの厚みで透明接着剤１６ａと同様の材料により構成される。
【００２６】
平坦化層１５は、光学機能膜１４の表面を、駆動基板１０上の全面に亘り平らにするために設けられたものであり、表示領域１０−１の外側の領域において防湿膜１３と光学機能膜１４との間に配置されている。換言すれば、防湿膜１３を駆動基板１０と接着することにより生じた、防湿膜１３と光学機能膜１４との間の間隙部分に平坦化層１５が設けられている。平坦化層１５は、例えば光硬化性樹脂、熱硬化樹脂あるいは室温硬化性樹脂等の種々の樹脂から選択して用いることができる。表示装置１の防湿性を高めるためには平坦化層１５は透湿度の低いものが好ましい。例えば、平坦化層１５の透湿度は４０℃で５０ｇ／ｍ2／日以下であることが好ましい。具体的には、例えばエポキシ樹脂を使用することができる。基体１０ａが可撓性基板により構成されている場合は、平坦化層１５も可撓性を有していることが好ましい。
【００２７】
防湿膜１３により封止された表示領域１０−１と接着領域１０−２との間（表示層１１および対向基板１２の側面と防湿膜１３との間）は空隙１８となっており、表示層１１および対向基板１２の側面は空隙１８により囲まれている。
【００２８】
[表示装置１の製造方法]
この表示装置１は、例えば以下のようにして製造することができる。
【００２９】
図３および図４は表示装置１の製造工程を順に表したものである。まず、図３（Ａ）に示したように、基体１０ａに例えばＣＶＤ法により窒化シリコンからなるバリア層１０ｂを形成した後、上述のＴＦＴ回路１０ｃを形成して駆動基板１０とする。
【００３０】
駆動基板１０を形成した後、例えばクロム、金、白金、ニッケル、銅、タングステン、アルミニウムあるいは銀からなる金属膜を駆動基板１０の全面に形成し、これをパターニングすることにより、画素電極を形成する。次いで図３（Ｂ）に示したように、駆動基板１０上に表示層１１および対向基板１２を形成する。
【００３１】
対向基板１２を貼合した後、透明接着剤１６ａにより防湿膜１３を対向基板１２上に固定する。このとき、防湿膜１３には、その全ての辺において表示領域１０−１の辺よりも大きく、その面積が表示領域１０−１の面積よりも大きいものを用いる。これにより、防湿膜１３に表示領域１０−１の外側に張り出す部分が形成される。次いで、図４（Ａ）に示したように、防湿膜１３の表示領域１０−１から張り出した部分を駆動基板１０側に折り曲げ、表示層１１の側面を覆うようにして駆動基板１０の接着領域１０−２に接着剤１７により固定する。
【００３２】
防湿膜１３を駆動基板１０に接着させた後、図４（Ｂ）に示したように、防湿膜１３に光学機能膜１４を透明接着剤１６ｂにより貼り合わせる。光学機能膜１４が複数の膜から構成された積層体であれば、積層構造の光学機能膜１４を形成した後、防湿膜１３に貼り合わせてもよく、あるいは、順次防湿膜１３に貼り合わせて、光学機能膜１４を形成してもよい。次いで、表示領域１０−１の外側の領域に形成された、防湿膜１３と光学機能膜１４との間の間隙に、例えば光硬化性樹脂を充填し、これに光を照射させて平坦化層１５を形成する。以上により、図１に示した表示装置１が完成する。
【００３３】
［表示装置１の作用・効果］
本実施の形態の表示装置１では、表示層１１上の膜が、この表示層１１を覆う防湿膜１３と表面の光学機能膜１４とに分離されているため、防湿性が向上すると共に、狭額縁化が可能になる。以下、比較例を用いつつこれについて詳細に説明する。
【００３４】
図５は比較例１としての表示装置１０１を表したものである。この表示装置１０１は、表面に配置された保護膜１１３により表示層１１を駆動基板１０に封止している。保護膜１１３は、防湿機能に加え、反射防止機能あるいは防眩機能等の光学機能、更には外力に対する保護機能を兼ねたものであり、その膜厚は、例えば数百μｍ程度と厚くなる。このように保護膜１１３の膜厚が厚いと、表示層１１への影響を考慮した場合、保護膜１１３を表示層１１の表面から側面の角度に沿って急な角度で折り曲げることができない。すなわち表示層１１を封止する際の保護膜１１３の曲率は大きくなる。そのため表示領域１０−１と接着領域１０−２との間の距離Ｄ101が大きくなり、額縁面積が広くなってしまう。
【００３５】
図６は、比較例２として、防湿膜１１３が折り曲げられていない表示装置１０２の断面構成を表したものである。この表示装置１０２では、表示層１１および対向基板１２の側面を水分遮断部１１９で覆うことにより、防湿性の向上を図っている。水分遮断部１１９は、その外端から表示領域１０−１までの距離Ｄ102が長くなるにつれて、防湿効果が向上する。すなわち、防湿性を向上させると表示装置１０２の額縁面積が広くなってしまう。
【００３６】
これに対し、本実施の形態の表示装置１では、防湿膜１３により表示層１１が駆動基板１０に封止されている。これにより、外部から表示装置１への水分の浸入経路、特に側面からの浸入経路が遮断され、防湿性が向上する。
【００３７】
また、この表示装置１では、防湿膜１３と最表面の光学機能膜１４とが別部材となっているので、防湿膜１３の膜厚は薄くし、表示層１１を封止する際の防湿膜１３の曲率を小さくすることができる。よって、表示領域１０−１と接着領域１０−２との間の距離Ｄ1および額縁面積は小さくなる。
【００３８】
以上のように本実施の形態の表示装置１では、表示層１１を封止する薄い防湿膜１３と、最表面の光学機能膜１４というように機能別に２つの部材に分離するようにしたので、防湿性が向上すると共に、表示領域１０−１と接着領域１０−２との間の距離Ｄ1を小さくして狭額縁化を実現できる。
【００３９】
また、平坦化層１５を設けることにより光学機能膜１４の表面を平らにすることができる。よって、表示部周辺の設計上の制約が減り、デザイン上の自由度を向上させることができる。
【００４０】
以下、上記実施の形態の変形例について説明するが、以降の説明において上記実施の形態と同一構成部分については同一符号を付してその説明は適宜省略する。
【００４１】
＜変形例１＞
図７は変形例１に係る表示装置１Ａの断面構成を表したものである。この表示装置１Ａは、表示装置１の空隙１８に代えて水分遮断部１９を設けたものである。その点を除き、表示装置１Ａは上記実施の形態の表示装置１と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００４２】
水分遮断部１９は、表示領域１０−１と接着領域１０−２との間に表示層１１および対向基板１２の各側面に密着して設けられている。換言すれば、表示層１１および対向基板１２の周囲を囲むように水分遮断部１９が設けられ、表示層１１と共に防湿膜１３により駆動基板１０に封止されている。この表示装置１Ａでは、側面からの水分の浸入をより効果的に防止することができ、表示装置１よりも防湿性が向上する。また、表示層１１および対向基板１２の側面と防湿膜１３との間に空隙１８（図１）を有しないため、表示装置１Ａの機械的強度も向上する。水分遮断部１９は、例えば透湿度の低い、熱または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、シリコーン樹脂あるいはエポキシ樹脂等により構成される。水分遮断部１９の透湿度は５０g／ｍ2／日未満であることが好ましい。
【００４３】
＜変形例２＞
図８は変形例２に係る表示装置１Ｂの断面構成を表したものである。この表示装置１Ｂは、ドライバＩＣ２１を実装した回路基板２０を駆動基板１０と平坦化層１５との間に設けたものである。その点を除き、表示装置１Ｂは上記変形例１の表示装置１Ａと同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００４４】
回路基板２０は駆動基板１０の表示層１１側の面から駆動基板１０の側面を介して反対側の面へと折り曲げられている。このように回路基板２０を光学機能膜１４よりも下側（駆動基板１０側）に配置することにより、表示装置１Ｂの表示面を全面に亘り平面にすることができる。回路基板２０は、例えばＴＡＢ（Tape Automated Bonding）基板またはＣＯＦ（Chip On Film）基板等であり、ドライバＩＣ２１を実装している。回路基板２０と駆動基板１０に設けられた電極（図示せず）とが例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film;異方性導電膜）を介して電気的に接続され、表示層１１が駆動される。表示装置１Ｂでは、この回路基板２０と電極との接続部分が平坦化層１５により覆われているため、接続部分への水分の浸入を防ぐことができ、別途、防湿コート剤等のコーティング剤を設ける必要がない。なお、回路基板２０が接続される分、額縁面積は広くなるものの、回路基板２０が接続される以外の領域については上記実施の形態と同様に狭額縁化が可能である。
【００４５】
この表示装置１Ｂは、例えば以下のようにして製造することができる。
【００４６】
まず、上記実施の形態と同様にして対向基板１２まで形成した後（図３（Ｂ））、防湿膜１３を対向基板１２に透明接着剤１６ａにより貼り合わせ、続いて、駆動基板１０への接着前に水分遮断部１９を形成する。水分遮断部１９は例えば、光硬化性樹脂を水分遮断部１９の形成予定領域に塗布し、これを硬化させることにより形成する。このとき防湿膜１３の全面あるいは少なくとも光硬化性樹脂と接触する部分に予め例えば酸素等のプラズマ処理を行っておくことが好ましい。防湿膜１３の濡れ性が向上し、光硬化性樹脂の塗布が容易となるためである。
【００４７】
また、例えば防湿膜１３が紫外線遮断機能を有する場合は、遮断される紫外線の波長範囲外の光により硬化可能な樹脂材料を用いて、水分遮断部１９を形成すればよい。図１１は、紫外線遮断機能を有する防湿膜１３における波長と光の透過率との関係の一例を示したものである。このような防湿膜１３を使用する場合は、３８０ｎｍより長波長の光（可視光）の照射により硬化可能な樹脂材料を用いればよい。
【００４８】
水分遮断部１９を形成した後、図９（Ａ）に示したように接着剤１７により防湿膜１３を駆動基板１０に固定する。接着剤１７は、水分遮断部１９と同一の樹脂材料により構成することも可能である。防湿膜１３を駆動基板１０に固定した後、図９（Ｂ）に示したように、ドライバＩＣ２１を実装した回路基板２０を、例えばＡＣＦにより、駆動基板１０上の電極（図示せず）に接続する。
【００４９】
回路基板２０を接続した後、図１０（Ａ）に示したように光学機能膜１４を透明接着剤１６ｂにより防湿膜１３上に固定し、次いで、図１０（Ｂ）に示したように平坦化層１５を形成する。平坦化層１５を形成した後、回路基板２０を折り曲げることにより表示装置１Ｂが完成する。
【００５０】
＜変形例３＞
図１２は変形例３に係る表示装置１Ｃの断面構成を表したものである。この表示装置１Ｃは、ドライバＩＣ２１を直接、駆動基板１０上に搭載したものである。その点を除き、表示装置１Ｃは上記変形例２の表示装置１Ｂと同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００５１】
ドライバＩＣ２１は、例えばＣＯＧ（Chip On Glass）またはＣＯＦ等の方法により駆動基板１０に実装されている。ドライバＩＣ２１とは別に、制御信号を入力するため、駆動基板１０に回路基板２０が接続されている。
【００５２】
この表示装置１Ｃは、例えば以下のようにして製造することができる。
【００５３】
上記変形例２と同様にして、防湿膜１３と駆動基板１０とを接着した後（図９（Ａ））、図１３（Ａ）に示したように、ドライバＩＣ２１を駆動基板１０上に例えばＣＯＦにより実装する。次いで、図１３（Ｂ）に示したように、回路基板２０を例えばＡＣＦにより、駆動基板１０上の電極（図示せず）に接続する。
【００５４】
回路基板２０を接続した後、図１４（Ａ）に示したように光学機能膜１４を透明接着剤１６ｂにより防湿膜１３上に固定し、次いで、図１４（Ｂ）に示したように平坦化層１５を形成する。平坦化層１５を形成した後、回路基板２０を折り曲げることにより表示装置１Ｃが完成する。
【００５５】
上記表示装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃは、額縁面積を狭くすると共に、最表面を平面に維持することができるため、例えば電子ブックと呼ばれる電子書籍を表示する電子機器やタッチパネルを内蔵させた電子機器に適用できる。また、その他、上記表示装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃは、次の適用例１〜６に示した電子機器にも搭載することができる。このとき、駆動基板１０の下面（表示層１１と反対側の面）に例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）からなる支持基板を備えた状態で搭載してもよい。
【００５６】
＜適用例１＞
図１５（Ａ）および図１５（Ｂ）は、電子ブックの外観を表したものである。この電子ブックは、例えば、表示部２１０、非表示部２２０および操作部２３０を有している。操作部２３０は、図１５（Ａ）に示したように表示部２１０と同じ面（前面）に形成されていても、図１５（Ｂ）に示したように表示部２１０とは異なる面（上面）に形成されていてもよい。
【００５７】
＜適用例２＞
図１６は、テレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有している。
【００５８】
＜適用例３＞
図１７は、デジタルスチルカメラの外観を表したものである。このデジタルスチルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有している。
【００５９】
＜適用例４＞
図１８は、ノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０、文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有している。
【００６０】
＜適用例５＞
図１９は、ビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０、この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０、撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有している。
【００６１】
＜適用例６＞
図２０は、携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０、サブディスプレイ７５０、ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。
【００６２】
以上、実施の形態および変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、防湿膜が表示層の側面を覆う場合について説明したが、駆動基板が可撓性材料から構成されている場合には、駆動基板により表示層の側面を覆うようにしてもよい。
【００６３】
また、例えば、上記実施の形態等において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【００６４】
更に、上記実施の形態等では、表示装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。
【００６５】
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
（１）表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、前記表示領域に設けられた表示層と、前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜とを備えた表示装置。
（２）前記防湿膜が前記表示層の上面および側面、前記駆動基板が前記表示層の下面をそれぞれ覆っている前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記表示領域の外側の前記防湿膜と前記表面膜との間に、平坦化層を有する前記（２）に記載の表示装置。
（４）前記平坦化層は樹脂により構成されている前記（３）に記載の表示装置。
（５）前記表示領域と前記接着領域との間に前記表示層の側面に密着した水分遮断部を有する前記（１）乃至（４）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（６）前記表面膜は、反射防止機能、防眩機能、紫外線遮断機能あるいは外力に対する保護機能を有する前記（１）乃至（５）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（７）前記駆動基板に前記表示層駆動用の回路基板を備えた前記（１）乃至（６）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（８）表示装置を備え、前記表示装置は、表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、前記表示領域に設けられた表示層と、前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、
前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜とを備えた電子機器。
【符号の説明】
【００６６】
１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ・・・表示装置、１０・・・駆動基板、１０ａ・・・基体、１０ｂ・・・バリア層、１０ｃ・・・ＴＦＴ回路、１０−１・・・表示領域、１０−２・・・接着領域、１１・・・表示層、１２・・・対向基板、１３・・・防湿膜、１４・・・光学機能膜、１５・・・平坦化層、１６ａ、１６ｂ・・・透明接着剤、１７・・・接着剤、１８・・・空隙、１９・・・水分遮断部、２０・・・回路基板、２１・・・ドライバＩＣ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、
前記表示領域に設けられた表示層と、
前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、
前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜と
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記防湿膜が前記表示層の上面および側面、前記駆動基板が前記表示層の下面をそれぞれ覆っている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記表示領域の外側の前記防湿膜と前記表面膜との間に、平坦化層を有する
請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記平坦化層は樹脂により構成されている
請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記表示領域と前記接着領域との間に前記表示層の側面に密着した水分遮断部を有する
請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記表面膜は、反射防止機能、防眩機能、紫外線遮断機能あるいは外力に対する保護機能を有する
請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記駆動基板に前記表示層駆動用の回路基板を備えた
請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、
前記表示領域に設けられた表示層と、
前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、
前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜とを備えた
電子機器。
【請求項１】
表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、
前記表示領域に設けられた表示層と、
前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、
前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜と
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記防湿膜が前記表示層の上面および側面、前記駆動基板が前記表示層の下面をそれぞれ覆っている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記表示領域の外側の前記防湿膜と前記表面膜との間に、平坦化層を有する
請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記平坦化層は樹脂により構成されている
請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記表示領域と前記接着領域との間に前記表示層の側面に密着した水分遮断部を有する
請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記表面膜は、反射防止機能、防眩機能、紫外線遮断機能あるいは外力に対する保護機能を有する
請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記駆動基板に前記表示層駆動用の回路基板を備えた
請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
表示領域の周囲に接着領域を有する駆動基板と、
前記表示領域に設けられた表示層と、
前記表示層の表示面に対向配置された表面膜と、
前記表示層と前記表面膜との間に介在し、前記接着領域において前記駆動基板に接すると共に前記駆動基板との間で前記表示層を封止する防湿膜とを備えた
電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【公開番号】特開２０１３−１０５１４４（Ｐ２０１３−１０５１４４Ａ）
【公開日】平成２５年５月３０日（２０１３．５．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２５０７１６（Ｐ２０１１−２５０７１６）
【出願日】平成２３年１１月１６日（２０１１．１１．１６）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月３０日（２０１３．５．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月１６日（２０１１．１１．１６）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
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