表示装置
【課題】表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、低コストで、外光反射を効果的に抑制しつつ、色味の発生をも十分に抑制しうる手段を提供する。
【解決手段】表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、円偏光板として、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有するものを用い、表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすように表示装置を構成する。
（式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である。）
【解決手段】表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、円偏光板として、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有するものを用い、表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすように表示装置を構成する。
（式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半透過型液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、タッチパネル付き表示装置等の表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置よりも高コントラスト、薄型化、低コストが可能な表示装置として、有機ＥＬ表示装置が注目されている。現在の有機ＥＬ表示装置は、視認側と反対側の電極に反射型の電極が用いられている。そのため、外光下で使用する際、外光反射によるコントラスト低下が問題となる。また、この外光反射の問題は、半透過型液晶表示装置や、視認側にタッチパネルを備えた表示装置においても同様に生じうる（タッチパネルは屈折率の高い透明導電膜を有しているため、その界面での反射率が高く、外光反射が問題となる）。このような外光反射を抑止する手段として、従来、表示装置の視認側に円偏光板を配置する方法（例えば、特許文献１および２を参照）や、光干渉を利用する方法等が提案されており、円偏光板を配置する方法が主流である。
【０００３】
円偏光板は、偏光子とλ／４板（λ／４位相差フィルム）とが積層されてなる構成を有している。なお、λ／４板としては可視光全域においてλ／４の位相差を付与できる機能を有するものが理想であるが、現状のフィルムでは達成が困難である。特に、単層フィルムでの達成は非常に難しく、特殊な樹脂構造とすることで、ある程度理想に近づいてはいるが、依然として不十分である。
【０００４】
ここで、表示装置の視認側に円偏光板を配置すると、円偏光板を通過して表示装置の内部に侵入した光の反射（内部反射）が防止される。しかしながら、円偏光板それ自体の表面における反射（表面反射）は防止できないことから、当該表面反射を防止するには、円偏光板の視認側に表面反射抑止層をさらに設置する必要がある。このように、表面反射の防止を目的として表面反射抑止層を配置することは、従来、液晶表示装置等においても行われている。例えば、表面凹凸による散乱によって反射防止する方法や、光干渉を利用して反射防止する方法等が知られているが、主流は散乱による反射防止である。
【０００５】
光干渉を利用した方法は、異なる屈折率を有する複数の層が積層されてなる構成を有する表面反射抑止層を円偏光板の視認側に配置するものである。この技術では、散乱による反射防止よりも高精細で、かつ、少ない層数で可視光全域の反射を抑止することが課題である。特に、視認性の高い緑色の光（５５０ｎｍ近傍）の反射率をいかに低くするかという点が、従来、非常に重要であるとされてきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１９８６１４号公報
【特許文献２】特開２００７−２３２９３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、上述したような背景技術のもと、鋭意研究を重ねる過程で、従来理想とされてきた５５０ｎｍ近傍の緑色光の反射を重点的に抑止するように設計された表面反射抑止層を円偏光板の視認側に配置した場合には、青色光や赤色光の光漏れによる色味が発生するという問題が生じることを見出した。また、液晶表示装置とは異なり、円偏光板のみによって内部反射を防止することが求められる有機ＥＬ表示装置において、かような色味発生の問題が顕著に発現することも見出した。そして、表面反射抑止層を配置することで可視光全域で一律に反射率を低くしたり、従来のように５５０ｎｍ近傍の緑色光の反射防止に重点が置かれた表面反射抑止層を配置するのみでは、上述したような色味発生の問題を解決することができなかった。
【０００８】
また、上述したような理想に近いλ／４板は、構成材料である樹脂の製造が困難であり、かつ高コストであるため、大量生産には不向きであるという問題もある。
【０００９】
そこで本発明は、表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、低コストで、外光反射を効果的に抑制しつつ、色味の発生をも十分に抑制しうる手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記目的に鑑み、鋭意研究を重ねた。その結果、表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、青色光・緑色光・赤色光の三者のそれぞれの正面反射率の差がいずれも所定の値以下となるように表示装置を構成することで、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１１】
すなわち、本発明によれば、以下の構成により上記課題は解決される。
１．表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置であって、前記円偏光板が、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有し、表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすことを特徴とする、表示装置：
【００１２】
【数１】
【００１３】
式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である；
２．前記λ／４板が、下記数式２を満たすことを特徴とする、上記１に記載の表示装置：
【００１４】
【数２】
【００１５】
式中、Ｒｏ（４８０ｎｍ）およびＲｏ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍまたは６５０ｎｍにおけるλ／４板の面内リターデーション値である；
３．表示装置の視認側の表面の法線に対して７０°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される７０°斜め反射率（Ｒ７０）が、下記数式３を満たすことを特徴とする、上記１または２に記載の表示装置：
【００１６】
【数３】
【００１７】
式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ７０（λ１）およびＲ７０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の７０°斜め反射率である；
４．前記７０°斜め反射率が、下記数式４を満たすことを特徴とする、上記３に記載の表示装置：
【００１８】
【数４】
【００１９】
式中、Ｒ７０（４８０ｎｍ）、Ｒ７０（５５０ｎｍ）およびＲ７０（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の７０°斜め反射率である；
５．前記表面反射抑止層の視認側の表面の法線方向から入射した光の表面反射抑止層の表面における反射率として定義される表面反射率（ＲＳ）が、下記数式５を満たすことを特徴とする、上記１〜４のいずれか１項に記載の表示装置：
【００２０】
【数５】
【００２１】
式中、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の表面反射率である；
６．前記表面反射率（ＲＳ）が、下記数式６を満たすことを特徴とする、上記５に記載の表示装置：
【００２２】
【数６】
【００２３】
式中、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ上記と同様の定義であり、ｍａｘ｛｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜，｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜｝は、｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜および｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜のうち小さくない方を表す；
７．前記表示装置本体が、有機ＥＬパネル、または半透過型液晶パネルを備えることを特徴とする、上記１〜６のいずれか１項に記載の表示装置；
８．前記表示装置本体と前記円偏光板との間に、タッチパネルが介在することを特徴とする、上記１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、外光反射を効果的に抑制しつつ、色味の発生をも十分に抑制しうる手段が提供されうる。また、本発明では、製造が困難で高コストな、理想に近いλ／４板を利用した円偏光板よりも、むしろ安価に製造可能な汎用の円偏光板を利用した方がより優れた反射防止効果が達成されうることから、工業的にもきわめて優位性の高い技術が提供されうる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を模式的に表した断面概略図である。
【図２】本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置を模式的に表した断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００２７】
本発明の一形態は、表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置であって、前記円偏光板が、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有し、表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすことを特徴とする、表示装置である。
【００２８】
【数７】
【００２９】
数式１において、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である。本明細書において、「４８０ｎｍ」は青色光の波長の代表値であり、「５５０ｎｍ」は緑色光の波長の代表値であり、「６５０ｎｍ」は赤色光の波長の代表値である。つまり、数式１は、青色光・緑色光・赤色光の三者のそれぞれの正面反射率の差がいずれも０．５％以下であることを表現したものである。
【００３０】
正面反射率は、後述する実施例の欄に記載のように、ＣＭ−２５００（コニカミノルタ社製）を用いて、それぞれの波長の光を入射光とし、入射角５°で入射した光が出射角−５°で反射した反射光の反射率として測定される。
【００３１】
本形態の表示装置の具体的な構成について特に制限はなく、上記正面反射率（Ｒ０）が上述した数式１で表される関係を満たすものであればよい。正面反射率（Ｒ０）が数式１を満たすように表示装置を構成するには、以下のように、表示装置における正面反射を表面反射と内部反射とに分解して考えることが有用である。
【００３２】
まず、ある波長λにおける正面反射率Ｒ０（λ）は、下記数式７に示すように、波長λにおける表面反射率ＲＳ（λ）と内部反射率ＲＩ（λ）との和として表現することができる。
【００３３】
【数８】
【００３４】
そして、波長λにおける内部反射率ＲＩ（λ）は、波長λにおける表面反射率ＲＳ（λ）および円偏光板を構成するλ／４板の波長λにおける位相差Ｒｅ（λ）を用いて、下記数式８に示すように表現することができることが判明した。
【００３５】
【数９】
【００３６】
したがって、上述した数式１における「Ｒ０（λ１）−Ｒ０（λ２）」の値は、波長λ１および波長λ２の値、波長λ１および波長λ２のそれぞれにおける表面反射率ＲＳ（λ１）およびＲＳ（λ２）の値、並びに、円偏光板を構成するλ／４板の波長λ１および波長λ２のそれぞれにおける位相差Ｒｅ（λ１）およびＲｅ（λ２）の値を用いて、下記数式９に示すように展開することができる。
【００３７】
【数１０】
【００３８】
以上の数式９で展開された最後の式において、右辺の第１項（つまり、｛ＲＳ（λ１）−ＲＳ（λ２）｝）は、波長λ１と波長λ２との間の表面反射率の差に相当する。また、同式において、右辺の第２項（つまり、｛γ（１００−ＲＳ（λ１））（０．６γ＋０．０１３）−ε（１００−ＲＳ（λ２））（０．６ε＋０．０１３）｝）は、波長λ１と波長λ２との間の内部反射率の差に相当する。このように、波長λ１および波長λ２における正面反射率の差（Ｒ０（λ１）−Ｒ０（λ２））は、波長λ１および波長λ２における表面反射率ＲＳ（λ１）およびＲＳ（λ２）、並びに、波長λ１および波長λ２における位相差Ｒｅ（λ１）およびＲｅ（λ２）を用いて表現されうる。よって、これらの表面反射率ＲＳ（λ１）およびＲＳ（λ２）、並びに、波長λ１および波長λ２における位相差Ｒｅ（λ１）およびＲｅ（λ２）を実測することで波長λ１および波長λ２における正面反射率の差（Ｒ０（λ１）−Ｒ０（λ２））が算出され、本発明の要件を満たすものであるか否かを判定することが可能である。
【００３９】
以下、図面を参照しつつ、本発明に係る表示装置の具体的な構成について、説明する。
【００４０】
［有機ＥＬ表示装置（表示装置）］
まず、表示装置の全体的な構成について、説明する。
【００４１】
図１は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を模式的に表した断面概略図である。図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１は、表示装置本体としての有機ＥＬパネル１０の視認側に、円偏光板２０が配置されてなる構成を有している。そして、円偏光板２０は、視認側から、表面反射抑止層２２と、偏光板保護フィルム２４と、偏光子２６と、λ／４板２８と、がこの順に積層されてなる構成を有している。また、表面反射抑止層２２は、屈折率の異なる３つの層が積層されてなる構成を有している。具体的には、視認側から、低屈折率層（屈折率が１．３８程度）２２ａ、高屈折率層（屈折率が１．８７程度）２２ｂ、中屈折率層（屈折率が１．６４程度）２２ｃがこの順に積層され、表面反射抑止層２２を構成している。以下、有機ＥＬ表示装置１を構成するそれぞれの構成要素について、説明する。
【００４２】
［有機ＥＬパネル（表示装置本体）］
有機ＥＬパネルは、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の表示装置本体であり、薄型であることによる省スペース性および軽量性、１０Ｖ程度の印加電圧であっても高輝度な発光が得られるなどの特徴を有するものである。この有機ＥＬパネルは、発光可能な有機層を電極で挟んだ構成を有する。有機層は基本的に正孔輸送層、発光層、および電子輸送層を積層したものである。電極としては、光を取り出す側に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明電極を用い、対向する基板に例えばアルミニウムなどの金属電極を用いる。このような構成において、両電極より各々電子と正孔を、電子輸送層および正孔輸送層を介して発光層に注入し、発光層において電子と正孔を再結合させて発光させるのである。なお、有機ＥＬ表示装置は、ＴＦＴが配置される位置に応じて、これが発光層よりも視認側に配置されるボトムエミッション方式と、これが発光層よりも奥面に配置されるトップエミッション方式とに分類されるが、本発明はいずれの方式にも適用可能である。
【００４３】
上述したように、有機ＥＬパネルには、視認側と反対側の電極に反射型の電極（金属電極）が用いられている。そのため、外光下で使用する際には外光反射が問題となるが、本実施形態によれば、視認側に表面反射抑止層２２が設けられていることで、このような外光反射が防止される。このような有機ＥＬパネルの具体的な構成について特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。
【００４４】
上述した実施形態では、表示装置本体が有機ＥＬパネルである場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、表示装置本体としてその他のものが用いられてもよい。例えば、反射型液晶パネル、または半透過型液晶パネルなどが表示装置本体として用いられてもよい。これらの表示装置本体を備えた表示装置においても、上述したような外光反射の問題は同様に生じうるが、本発明の構成とすることで、これらの表示装置についてもかような外光反射の問題を解決することが可能である。
【００４５】
さらに、本発明は、他の実施形態として、図２に示すような視認側にタッチパネルを備えた表示装置にも適用可能である。図２に示す実施形態の表示装置２では、上述した図１に示す実施形態の表示装置１とは異なり、表示装置本体１０と円偏光板２０との間に、タッチパネル３０が配置されている。本発明によれば、タッチパネル３０を用いたことによる外光反射についても防止することができる。なお、タッチパネル３０の形態は図２に示すものに限られず、外光を反射しうる構成を有するものであれば、他の形態も採用されうる。例えば、表示素子内部にタッチパネルが組み込まれたインセルタッチパネルといった形態であってもよい。
【００４６】
また、図２に示す実施形態の表示装置２においては、少なくともタッチパネル３０において外光反射が生じうるものである限り、表示装置本体１０による外光反射は生じうるものであってもそうでなくてもよい。したがって、図２に示す実施形態の表示装置２における表示装置本体１０は、上述したような有機ＥＬパネル、半透過型液晶パネルのほか、外光反射の問題を生じないもの（例えば、透過型液晶パネル）であってもよい。
【００４７】
［円偏光板］
続いて、円偏光板の構成について、説明する。図１や図２に示すように、本発明に係る円偏光板２０は、視認側から、表面反射抑止層２２と、偏光子２６と、λ／４板２８と、がこの順に積層されてなる構成を必須に有する。そして、図１や図２に示すように、表面反射抑止層２２と偏光子２６との間には、偏光板保護フィルム２４が介在することが好ましい。
【００４８】
（偏光子）
偏光子２６は、円偏光板の主構成要素であり、一定方向の偏波面の光だけを通す素子である。そして、偏光子２６は、後述するλ／４板２８と積層されることで、円偏光板としての機能を発揮するようになる。
【００４９】
現在知られている代表的な偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性の染料を吸着・配向させた染料系偏光フィルムなどの吸収型偏光子が挙げられる。これらの偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを１軸延伸させて染色するか、染色した後１軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。このほかにも、ポリビニルアルコール系フィルムを用いない偏光子として、フィルム上に塗布等により二色性の染料を配向させる（配向膜を用いラビング、光配向等で二色性の染料を配向させるか、塗布の際の剪断を利用する方法、フィルムの凹凸で配向させる方法等）ことで得られる偏光子についても好ましく用いられる。
【００５０】
（偏光板保護フィルム）
なお、このような偏光子を用いる場合には、偏光子２６の表面反射抑止層２２側に偏光板保護フィルム２４を配置することが必要である。偏光板保護フィルム２４としては、従来公知のフィルムが適宜用いられ、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート等のアクリル系樹脂、ポリカーボネートや、ポリカーボネートとスチレン系化合物の共重合体、または混合体、ポリカーボネートとフルオレン系化合物の共重合体または混合体等のポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。このなかでも特に、セルロース系樹脂からなるフィルム（特に、セルロースエステルフィルム）が好適に用いられる。市販のセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が好ましく用いられる。
【００５１】
なお、偏光板保護フィルム２４を用いる場合、当該フィルムは、それ自体が位相差発現性能を有していてもよい。偏光板保護フィルム２４が位相差発現性能を有するものである場合、これが示す位相差（面内リターデーション）は、５５０ｎｍの波長に対して、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍであり、より好ましくは１００〜１８０ｎｍであり、最も好ましくは１２０〜１６０ｎｍである。かような構成とすることで、偏光サングラス装着時の視認性が改善される。例えば、偏光板保護フィルム２４が位相差発現性能を持たない場合、表示装置を面内方向に回転させたときの偏光サングラス装着時の視認性はサインカーブを描き、偏光サングラスと表示装置の偏光子の透過軸が直交関係のとき、黒くなる。しかし、偏光板保護フィルム２４に上述したような位相差発現性能を持たせることで、表示装置側の偏光子から出射した光が楕円偏光となるため、偏光サングラスと表示装置の偏光子の透過軸が直交関係となっても、黒くなることがなくなるため、視認性が改善される。
【００５２】
また、偏光板保護フィルム２４が位相差発現性能を有していると、立体表示をする際にも有効である。立体表示には、眼鏡タイプおよび裸眼タイプがあるが、本発明は眼鏡タイプに有効である。眼鏡タイプには、液晶シャッター眼鏡と偏光眼鏡があり、双方とも、偏光板保護フィルム２４を位相差フィルムとすることで、眼鏡の角度による光量変化や、クロストークを低減することができる。
【００５３】
偏光板保護フィルム２４としては、さらにディスコティック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号公報に記載の方法で光学異方性層を形成することができる。なお、偏光板保護フィルム２４を用いる場合、その表面反射抑止層２２側には、表示装置の品質を向上させる目的で、他の機能性を有する層を配置することも可能である。このような他の層としては、例えば、耐キズ（ハードコート（ＨＣ））を目的とした層が挙げられる。なお、偏光子２６と偏光板保護フィルム２４との貼り合わせには、好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤が用いられる。
【００５４】
一方、上述したような偏光板保護フィルム２４の使用を必須としない偏光子も知られている。例えば、リオトロピック液晶状態の二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光子（特開２００７−２３２９３５号公報などを参照）や、特開２０１１−４８３６０号公報に開示されているような反射型偏光子などを用いる場合には、偏光板保護フィルム２４の配置を省略することができる。本発明においては、いずれの偏光子も採用されうるが、偏光性能に優れるという観点からは、偏光板保護フィルム２４の使用を前提とするポリビニルアルコール系偏光フィルムからなる偏光子を用いることが好ましい。
【００５５】
なお、偏光板保護フィルム２４が用いられる場合、偏光板保護フィルム２４の表面反射抑止層２２の側の表面には、ハードコート層（図示せず）が配置されることが好ましい。これにより、耐久性や耐衝撃性が向上しうる。
【００５６】
ハードコート層は、一般的にバインダー成分として活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とした塗布液を塗布して作製される層である。したがって、ハードコート層は「活性エネルギー線硬化樹脂層」とも称される。活性エネルギー線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。
【００５７】
ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。ハードコート層は、バインダーとしてアクリル系の活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするものが好ましい。活性エネルギー線硬化アクリレート系樹脂としては、例えば、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアクリレート系樹脂等が挙げられる。
【００５８】
これら活性エネルギー線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。活性エネルギー線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【００５９】
ハードコート層は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．１μｍのクリアハードコート層であり、Ｒａが０．００２〜０．０５μｍであることが好ましい。中心線平均粗さ（Ｒａ）は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製非接触表面微細形状計測装置ＷＹＫＯ ＮＴ−２０００を用いて測定することができる。
【００６０】
ハードコート層の膜厚は、十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から１〜２０μｍが好ましく、１．５〜１０μｍがより好ましい。
【００６１】
偏光板保護フィルム２４の表面にハードコート層が配置される場合、当該ハードコート層と偏光板保護フィルム２４との間に、さらに密着層、接着層を設けてもよく、この場合は０．１μｍ以下の膜厚とすることが好ましい。また、偏光板保護フィルム２４上にハードコート層を塗布により形成する場合、前処理として、偏光板保護フィルム２４の表面に火炎処理、コロナ放電、プラズマ加工などの処理を施してもよい。
【００６２】
ハードコート層に接する偏光板保護フィルム２４の表面の屈折率に対して、当該偏光板保護フィルム２４に接する側のハードコート層表面の屈折率が±０．０２の範囲となるように調整することが好ましい。
【００６３】
（λ／４板）
λ／４板２８は、上述した偏光子２４と積層されることで、円偏光板としての機能を発揮する。この際、円偏光板としての機能に優れるという観点から、偏光子２４の吸収軸と、λ／４板２８の面内の遅相軸とのなす角は４５°であることが理想である。実際には、この角が４５°±２°の範囲であることが好ましい。
【００６４】
「λ／４板」とは、面内リターデーション（Ｒｏ）の値が、広い波長領域でλ／４を示すような位相差フィルムをいう。より詳細には、波長５５０ｎｍで測定した面内リターデーションＲｏ（５５０ｎｍ）は、１０８〜１６８ｎｍであることが好ましく、１２８〜１４８ｎｍであることがさらに好ましく、１３８±５ｎｍであることが最も好ましい。ここで、面内リターデーション（Ｒｏ）は、下記式に従って算出する。
【００６５】
【数１１】
【００６６】
（式中、ｎｘは、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは、フィルム面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、ｄは、フィルムの厚み（ｎｍ）である。）
λ／４板の具体的な構成について特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。ただし、λ／４板は透明樹脂から構成されることが好ましく、当該透明樹脂の可視光の透過率は、好ましくは６０％以上であり、より好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。また、λ／４板を構成する透明樹脂は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。また、この透明樹脂は、固有複屈折値が正である樹脂であることが好ましい。λ／４板を構成する透明樹脂としては、例えばセルロースエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。
【００６７】
λ／４板は、これらの樹脂を用いて溶液流延法、または溶融流延法によって製膜し、延伸操作（流延方向、幅手方向、または斜め方向等の組み合わせ）等により上述したようなリターデーションを付与することで製造されうる。λ／４板の製造には、斜め延伸装置等も好適に用いることができる。このような斜め延伸装置を用いてλ／４板を製造することで、フィルムの長手方向に対する遅相軸の角度が実質的に４５°であるλ／４板を製造することができ、偏光子との貼合をロール・トゥ・ロールで行うことが可能となることから、円偏光板を製造する際の生産性が格段に向上しうる。なお、λ／４板を偏光子と貼合する際には、好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤が用いられる。
【００６８】
本発明においては、λ／４板２８が、下記数式２を満たすことが好ましい。
【００６９】
【数１２】
【００７０】
数式２において、Ｒｏ（４８０ｎｍ）およびＲｏ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍまたは６５０ｎｍの場合のλ／４板の面内リターデーション値である。そして、Ｒｏ（４８０ｎｍ）／Ｒｏ（６５０ｎｍ）の値は「波長分散」と称され、λ／４板の重要な機能の１つである逆波長分散性の指標である。λ／４板２８の波長分散の値は、好ましくは０．８０〜１．００であり、より好ましくは０．８０〜０．９５である。
【００７１】
ここで、後述する実施例の欄において表２に示すように、すべての波長に対してλ／４板として機能するような位相差発現性能（逆波長分散性）を有する「理想」のλ／４板では、理論上、４８０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍのそれぞれに対する面内リターデーション（Ｒｏ）の値は以下のようになる：
【００７２】
【数１３】
【００７３】
したがって、「理想」のλ／４板の波長分散の値は、１２０／１６２．５≒０．７４である。波長分散の値が０．８０未満のλ／４板２８はこの「理想」の広帯域λ／４板に近いことから、偏光子を透過した入射光は反射電極やタッチパネルによって反射された後、ほとんどが偏光子に吸収される。この場合、表示装置の正面反射（Ｒ０）を構成する表面反射（ＲＳ）と内部反射（ＲＩ）のうち、内部反射（ＲＳ）の光がすべて円偏光板によって遮断されて表示装置の内部に閉じ込められることから、表示装置の正面反射（Ｒ０）には表面反射（ＲＳ）のみが寄与することになる（Ｒ０≒ＲＳ）。そうすると、表面反射抑止層２２のみの作用によって表面反射を防止する必要が出てくるが、この場合、可視光全域の表面反射を低下させる表面反射抑止層２２を用いなくてはならない。一方、このような表面反射抑止層２２を用いて表示装置を構成することは困難であり、これまでに提案されている表面反射抑止層を波長分散の小さい（理想に近い）λ／４板と組み合わせて表示装置を構成すると、いずれかの波長の光の表面反射が十分に防止されず、対応する波長の色味が悪化してしまう虞がある。
【００７４】
また、波長分散が小さいλ／４板は複数のフィルムを積層したり、フィルムを特殊な樹脂構造とする必要があるため高価であり、また一般に厚膜であるという問題もあるため、安価で大量生産を行いたい場合、不適である。
【００７５】
一方、λ／４板の波長分散が１．１以上の場合には、円偏光板の光漏れが大きすぎるため、表面反射抑止層で色味を改善しても、全体の反射率が高くなってしまい、視認性が低下する虞がある。
【００７６】
これに対し、波長分散が上記数式２の範囲内の値であるλ／４板２８を用いると、後述する表面反射抑止層２２との組み合わせによって、数式１の関係を満たす表示装置を有利に構成することができ、色味の発生という問題の発生が効果的に防止されうる。また、低コストなλ／４板２８を利用できることから、大量生産にも適した技術が提供されることになる。
【００７７】
なお、偏光子２６とλ／４板２８との間にさらに偏光板保護フィルムが配置されてもよい。この場合に配置される偏光板保護フィルムは、面内リターデーション（Ｒｏ）が−１０ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは−５ｎｍ〜５ｎｍであり、最も好ましくは−２ｎｍ〜２ｎｍである。
【００７８】
（表面反射抑止層）
表面反射抑止層２２は、表示装置１、２（円偏光板２０）の最も視認側に配置される層であり、表示装置１、２の視認側の表面における反射（表面反射ＲＳ）を防止する層である。
【００７９】
図１や図２に示す実施形態では、表面反射抑止層２２が屈折率の異なる３つの層（低屈折率層２２ａ、高屈折率層２２ｂ、中屈折率層２２ｃ）が積層されてなる構成を有しているが、これは光の干渉作用を利用して表面反射を防止するものである。
【００８０】
図１〜図２に示すように、表面反射抑止層２２は、偏光板保護フィルム２４または偏光板保護フィルム２４上に設けたハードコート層上に、中屈折率層２２ｃ、高屈折率層２２ｂ等のその他の光学層を介して低屈折率層２２ａを有する。
【００８１】
低屈折率層２２ａは、活性エネルギー線硬化樹脂、金属酸化物微粒子、ポリマー微粒子および金属アルコキシドの少なくとも１種を含有する塗布液を塗布した後、加熱乾燥または活性エネルギー線照射により硬化することで形成することができる。なお、低屈折率層２２ａの屈折率は、好ましくは１．００〜１．５０であり、より好ましくは１．００〜１．４０である。また、低屈折率層２２ａの膜厚は、好ましくは１０〜２００ｎｍである。
【００８２】
また、反射率の低減のためには、偏光板保護フィルム２４または偏光板保護フィルム２４上に設けたハードコート層と低屈折率層２２ａとの間に、図１〜図２に示すように中屈折率層２２ｃおよび高屈折率層２２ｂを設けることが好ましい。ただし、中屈折率層２２ｃを省略して偏光板保護フィルム２４と低屈折率層２２ａとの間に高屈折率層２２ｂのみを設ける形態も好ましい。
【００８３】
中屈折率層２２ｃおよび高屈折率層２２ｂは、低屈折率層２２ａと同様の活性エネルギー線硬化樹脂、ポリマー微粒子、金属アルコキシドおよび下記金属酸化物微粒子の少なくとも１種を含有する塗布液を塗布した後、加熱乾燥または活性エネルギー線照射により硬化することで形成することができる。
【００８４】
ただし、高屈折率層２２ｂおよび中屈折率層２２ｃに用いる金属酸化物粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好ましく、１．９０〜２．８０であることがさらに好ましい。また、高屈折率層２２ｂおよび中屈折率層２２ｃに用いる金属酸化物粒子は、表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することができる。なお、高屈折率層２２ｂの屈折率は、好ましくは１．６０〜２．５０であり、より好ましくは１．７０〜１．８５であり、特に好ましくは１．７５〜１．８５である。また、高屈折率層の膜厚は、好ましくは１０〜２００ｎｍである。さらに、中屈折率層２２ｃの屈折率は、好ましくは１．４０〜２．００であり、より好ましくは１．５５〜１．８０であり、特に好ましくは１．５５〜１．７０である。また、中屈折率層２２ｃの膜厚は、好ましくは１０〜２００ｎｍである。これらの範囲で、屈折率が低屈折率層＜高屈折率層の関係を満たし（中屈折率層を用いる場合、さらに低屈折率層＜中屈折率層＜高屈折率層の関係を満たし）、かつ、本発明の上述した構成要件（数式１）を満たすように、屈折率と膜厚を調整すればよい。なお、複数の層が積層されてなる構成の表面反射抑止層２２を用いる場合、偏光板保護フィルム２４に隣接する層（図１や図２では中屈折率層２２ｃ）にハードコート層の機能を持たせてもよい。この場合には、上述したように偏光板保護フィルムの表面にハードコート層を別途設けるための工数が削減されるという利点がある。
【００８５】
好ましい実施形態として、ハードコート層をバインダー成分としてアクリル系の前記活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とする塗布液で形成し、中屈折率層および高屈折率層を金属酸化物微粒子または金属アルコキシドを主成分とする塗布液で形成し、低屈折率層をアルコキシシラン化合物またはフッ素系樹脂を主成分とする塗布液で形成するという形態が挙げられる。
【００８６】
本発明では、偏光板保護フィルム２４または偏光板保護フィルム２４上に設けたハードコート層上に直接または間接に設けた表面反射抑止層２２（中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の３層または、高屈折率層、中屈折率層の２層）に加えて、透明導電層、帯電防止層、防汚層等をさらに形成してもよい。
【００８７】
本発明における表面反射抑止層２２周辺の好ましい層構成の例は以下のとおりである。
偏光板保護フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／帯電防止層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
もちろん、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、帯電防止層は導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子（例えば、ＳｎＯ２、ＩＴＯなど）を含む層であることが好ましく、塗布または大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。帯電防止層はハードコート層や、中、高屈折率層を兼ねることができ、特に中、高屈折率層と兼ねることが、性能上および生産上好ましい。
【００８８】
以上、光学干渉作用によって表面反射の抑止を達成しうる実施形態を例に挙げて説明したが、表面反射抑止層２２の具体的な形態はこれに限定されず、他のメカニズムによるものであってもよい。例えば、表面反射抑止層２２は、表面凹凸による散乱や、表面微細凹凸による屈折率グラデーション（モスアイ形状）を利用したものであってもよい。表面凹凸による散乱で表面反射抑止する手段は、凹凸のサイズや形状、密度で調整される。凹凸のサイズは２００〜６００ｎｍであり、これより小さいものであれば、光が散乱せず、また大きければ、可視光全波長を散乱するため、効果が薄い。また、凹凸サイズの分布は極大値が２つ以上あることが好ましい。形状は、どのような形状であってもよいが、モアレ等が出ない構造である必要がある。凹凸のサイズや密度によって形状は調整される。密度は必要な散乱強度によって調整される。
【００８９】
（表面反射抑止層の表面反射率の好ましい形態）
表面反射抑止層２２自体の反射率の値について特に制限はなく、表示装置全体として上述した数式１の関係を満たすものであればよい。
【００９０】
従来、一般的に用いられてきた表面反射抑止層は、緑色光である５５０ｎｍ近傍の波長の光に対する反射率が最も小さくなるように設計されており、青色光（≒４８０ｎｍ）や赤色光（≒６５０ｎｍ）に対する反射率は相対的に見ればある程度大きいものであった。本発明では、このように緑色光に最適化された従来の表面反射抑止層（反射防止フィルム）を用いるよりも、むしろ緑色光の反射率を犠牲にしたものを用いることが好ましい。これを定量的に表現すれば、表面反射抑止層２２の視認側の表面の法線方向から入射した光の表面反射抑止層の表面における反射率として定義される表面反射率（ＲＳ）は、下記数式５を満たすことが好ましい。
【００９１】
【数１４】
【００９２】
数式５において、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の表面反射率である。数式５は、表面反射抑止層２２の表面における緑色光（波長５５０ｎｍ）の反射率が、青色光（波長４８０ｎｍ）や赤色光（波長６５０ｎｍ）の反射率よりも大きいことを表現している。
【００９３】
また、数式５における３つの表面反射率の値（ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ））は、下記数式６を満たすことが好ましい。
【００９４】
【数１５】
【００９５】
数式６において、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ上記と同様の定義であり、ｍａｘ｛｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜，｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜｝は、｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜および｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜のうち小さくない方を表す。数式６は、表面反射抑止層２２の表面における緑色光（波長５５０ｎｍ）の反射率の、青色光（波長４８０ｎｍ）の反射率と赤色光（波長６５０ｎｍ）の反射率のそれぞれとの差分のうち小さくない方が所定の範囲内の値となることを表現している。
【００９６】
なお、数式５における３つの表面反射率の値（ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ））のそれぞれの値について特に制限はないが、それぞれの値が小さいほど表示装置全体としての外光反射が小さいことを意味するため、いずれも小さいほど好ましい。例えば、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ、好ましくは４．０％以下であり、より好ましくは１．５％以下である。
【００９７】
（表示装置の反射率の好ましい形態）
上述したように、本発明に係る表示装置は、視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が数式１を満たすことを必須の構成要件とするものである。そして、本発明に係る表示装置は、より好ましくは、斜め方向からの入射光に対しても、数式１のように波長依存性が低減されたものである。かような構成とすることで、表示装置を斜め方向から視認した際における色味の発生も防止されうる。具体的には、本発明に係る表示装置において、視認側の表面の法線に対して７０°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される７０°斜め反射率（Ｒ７０）は、下記数式３を満たすことが好ましい。
【００９８】
【数１６】
【００９９】
数式３において、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ７０（λ１）およびＲ７０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の７０°斜め反射率である。つまり、数式３は、青色光・緑色光・赤色光の三者のそれぞれの７０°斜め反射率の差がいずれも０．５５％以下であることを表現したものである。
【０１００】
７０°斜め反射率は、後述する実施例の欄に記載のように、絶対反射測定装置（日本分光社製、Ｖ−６７０・ＡＲＭＮ−７３５）を用いて、それぞれの波長の光を入射光とし、入射角７０°で入射した光が出射角−７０°で反射した反射光の反射率として測定される。
【０１０１】
また、３つの波長のそれぞれにおける７０°斜め反射率の具体的な値について特に制限はないが、それぞれの値が小さいほど表示装置全体としての外光反射が小さいことを意味するため、いずれも小さいほど好ましい。具体的には、３つの波長のそれぞれにおける７０°斜め反射率は、下記数式４を満たすことが好ましい。
【０１０２】
【数１７】
【０１０３】
数式４において、Ｒ７０（４８０ｎｍ）、Ｒ７０（５５０ｎｍ）およびＲ７０（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の７０°斜め反射率である。つまり、数式４は、青色光・緑色光・赤色光の三者のそれぞれの７０°斜め反射率の値がいずれも１３％以下であることを表現したものである。
【０１０４】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、上述した実施形態のみに制限されるべきではない。
【実施例】
【０１０５】
以下、実施例（実施例１〜８）および比較例（比較例１〜１５）を用いて本発明の実施形態をより詳細に説明するが、本発明の技術的範囲が下記の形態のみに限定されるわけではない。
【０１０６】
［各部材の準備（作製）］
≪偏光子の準備≫
液晶ディスプレイ（ＳＯＮＹ社製、ＫＤＬ−５５ＨＸ９２０）の偏光板から偏光板保護フィルムを剥離することで偏光子（ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたもの）を単離し、以下のすべての実施例および比較例において用いた。
【０１０７】
≪偏光板保護フィルムの作製≫
以下の手法により、セルロースエステルフィルムからなる偏光板保護フィルムを作製し、以下のすべての実施例および比較例において用いた。
【０１０８】
（ドープ液の調製）
下記の材料を順次密閉容器中に投入し、容器内温度を２０℃から８０℃まで昇温した後、温度を８０℃に保ったままで３時間攪拌を行って、セルロースエステルを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙（安積濾紙株式会社製、安積濾紙Ｎｏ．２４４）を使用して濾過し、ドープ液Ａを得た。
【０１０９】
（ドープ液Ａの調製）
セルローストリアセテート（アセチル基置換度２．９） １００質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート ５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート ５質量部
酸化ケイ素微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ、日本アエロジル株式会社製）
０．１質量部
チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） １質量部
チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） １質量部
メチレンクロライド ４００質量部
エタノール ４０質量部
ブタノール ５質量部
上記の材料を混合してドープ液Ａを調製し、得られたドープ液Ａを、温度３５℃に保温した流延ダイを通より、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度３５℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。
【０１１０】
次いで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が８０質量％になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
【０１１１】
次いで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で９０℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、１３０℃で幅方向に延伸前の１．１倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で１３５℃の乾燥風にて乾燥させた。乾燥工程の雰囲気置換率１５（回／時間）とした雰囲気内で１５分間熱処理した後、室温まで冷却して巻き取り、幅１．５ｍ、膜厚８０μｍ、長さ４０００ｍ、屈折率１．４９の長尺のセルロースエステルフィルムを作製し、偏光板保護フィルムとした。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向の延伸倍率は１．１倍であった。
【０１１２】
≪表面反射抑止層の形成≫
以下の手法により、上記で作製した偏光板保護フィルムの一方の面に、表面反射抑止層を形成した。
【０１１３】
まず、上記で作製した偏光板保護フィルムの一方の面に、以下の手法によってハードコート層を形成した。
【０１１４】
下記のハードコート層塗布組成物を押出しコートし、次いで８０℃に設定された乾燥部で３０分間乾燥した後、紫外線を１５０ｍＪ／ｃｍ２照射して塗布層を硬化させた。
【０１１５】
（ハードコート層塗布組成物）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（２量体以上の成分を２割程度含む）
１０８質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製） ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １８０質量部
酢酸エチル １２０質量部
これにより、厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５５）を形成した。
【０１１６】
次いで、以下の手法により、上記ハードコート層の露出表面に、中屈折率層塗布組成物、高屈折率層塗布組成物、および低屈折率層塗布組成物をこの順にダイを用いて塗布し、１２０℃で乾燥した後、上述したハードコート層の形成と同様の条件で紫外線照射を行い各層を硬化させ、３層構造からなる表面反射抑止層を形成した。なお、形成される層の膜厚をオンラインで測定しながら流量条件を制御した。
【０１１７】
（中屈折率層塗布組成物１）
テトラ（ｎ）ブトキシチタン ２５０質量部
末端反応性ジメチルシリコーンオイル（日本ユニカー社製Ｌ−９０００）
０．４８質量部
アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＥ９０３）
２２質量部
ＵＶ硬化性エポキシ樹脂（旭電化社製ＫＲ５００） ２１質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４９００質量部
イソプロピルアルコール ４８４０質量部
（高屈折率層塗布組成物）
テトラ（ｎ）ブトキシチタン ３１０質量部
末端反応性ジメチルシリコーンオイル（日本ユニカー社製Ｌ−９０００）
０．４質量部
アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＥ９０３）
４．８質量部
ＵＶ硬化性エポキシ樹脂（旭電化社製ＫＲ５００） ４．６質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４９００質量部
イソプロピルアルコール ４８００質量部
（低屈折率層塗布組成物１）
下記のシリカ系微粒子Ｐ−１ ３５質量部
フッ素含有樹脂オプスターＪＭ５０１０（ＪＳＲ（株）製） ６４．５質量部
ＦＺ−２２２２（日本ユニカー製、１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液） ０．５質量部
イソプロピルアルコール ５００質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ３００質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
〈シリカ系微粒子Ｐ−１の調製〉
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ２濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ２として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ２Ｏ３として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３核粒子分散液を調製した（工程（ａ））。
【０１１８】
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ２濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た（工程（ｂ））。
【０１１９】
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇおよび２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ２２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（Ｐ−１）の分散液を調製した。
【０１２０】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯｘ／ＳｉＯ２（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。
【０１２１】
以上の手法により、中屈折層、高屈折層、および低屈折率層をハードコート層の露出表面にこの順に形成し、表面反射抑止層とした。
【０１２２】
なお、各層の屈折率と膜厚は、各層を単独で塗工したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求める。分光光度計はＵ−４０００型（日立製作所製）を用いて、サンプルの裏面を粗面化した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行い、裏面の光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射率測定を行う。このようにして上記各層の屈折率を測定したところ、中屈折率層塗布組成物１を用いて形成された中屈折率層の屈折率は１．６４であり、高屈折率層塗布組成物を用いて形成された高屈折率層の屈折率は１．８７であり、低屈折率層塗布組成物１を用いて形成された低屈折率層の屈折率は１．３８であった（下記の表１を参照）。
【０１２３】
また、下記の表１に示すように、実施例１では、中屈折率層として、中屈折率層塗布組成物１に代えて、テトラ（ｎ）ブトキシチタンの配合量を２５５質量部とした中屈折率層塗布組成物２を用いて形成した層（屈折率１．６５）を用いた。また、実施例１では、低屈折率層として、低屈折率層塗布組成物２に代えて、下記の低屈折率層塗布組成物２を用いて形成した層（屈折率１．５１）を用いた。
【０１２４】
（低屈折率層塗布組成物２）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部
光反応開始剤（イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製））
４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５質量部
メチルエチルケトン ７５質量部
それぞれの実施例および比較例における表面反射抑止層を構成する３つの層の屈折率および膜厚を下記の表１に示す。また、それぞれの実施例および比較例における表面反射抑止層（比較例１〜６については表面反射抑止層を形成していないため、ハードコート層）の表面における５°正面反射率および７０°斜め反射率の測定値も下記の表１に併せて示す。なお表面反射率の測定には、まず、表面反射抑止層もハードコート層も形成していない偏光板保護フィルムの一方の面に黒色テープを貼付した。そして、黒色テープを貼付した側とは反対側の面から、３つの波長（４８０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ）について、ＣＭ−２５００（コニカミノルタ社製）を用いて５°正面反射率を測定し、絶対反射測定装置（日本分光社製、Ｖ−６７０・ＡＲＭＮ−７３５）を用いて７０°斜め反射率を測定した。これらの測定値から、偏光板保護フィルムの屈折率に基づき理論的に計算される表面反射率の値を引いて得られた値を、黒色テープと偏光板保護フィルムとの間の５°正面反射率および７０°斜め反射率とした。そして、それぞれの実施例および比較例における表面反射抑止層における表面反射抑止層（またはハードコート層）についての測定値から、上述した偏光板保護フィルムの屈折率に基づき理論的に計算される表面反射率の値および黒色テープと偏光板保護フィルムとの間の反射率の値を引き、得られた値を表面反射抑止層（またはハードコート層）の５°正面反射率および７０°斜め反射率とした。
【０１２５】
【表１】
【０１２６】
≪λ／４板の準備（作製）≫
λ／４板としては、以下のものを準備（作製）した。
（１）帝人社製、ＴＴ−１３８（ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム）
（２）下記の手法で作製したシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム
熱可塑性ノルボルネン系樹脂のペレットを、熱風乾燥機を用いて１００℃で４時間乾燥したのち押出機に供給した。溶融樹脂温度２６０℃で押し出し、Ｔ型ダイスから第１冷却ロールまでの間のフィルムから１０ｍｍ以内の雰囲気温度が２６０℃になるように加熱し、フィルムの両端部に静電気を印加した。第１冷却ロールの温度１２０℃、引き取り速度１８.０ｍ／ｍｉｎ、第２冷却ロールの温度１２５℃、引き取り速度１８.１ｍ／ｍｉｎ、第３冷却ロールの温度１１０℃、引き取り速度１７.９ｍ／ｍｉｎとした。得られた未延伸フィルムの平均厚さは７１μｍであった。
【０１２７】
得られた未延伸フィルムの両端をクリップに把持させて、第１ゾーン、第２ゾーンおよび第３ゾーンからなるテンター延伸機内に導入し、横方向の一軸延伸を行った。仕切り板で仕切られた各ゾーンの長さは１,１５０ｍｍであり、フィルム送り速度は３.５ｍ／ｍｉｎとした。第１ゾーンは温風温度Ｔ１を１４４℃とし、延伸を行わずに予熱した。第２ゾーンは温風温度Ｔ２を１４４℃とし、第２ゾーンでフィルムが１.２５倍に延伸されるクリップ設定とした。第３ゾーンは温風温度Ｔ３を１４０℃とし、第３ゾーン出口でフィルムが初期幅に対して１.５倍に延伸されるクリップ設定とした。第３ゾーンから出た延伸フィルムをクリップから脱離させ、両端を連続的に裁断して巻き取った。得られた延伸フィルムは、平均厚さ４５．９μｍであり、面内リターデーション（Ｒｏ（５５０ｎｍ））は１３８ｎｍであった。なお、面内リターデーションの測定については、得られたフィルムから試料３５ｍｍ×３５ｍｍを切り出し、２３℃，５５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））で、５５０ｎｍにおける測定した値をＲｏ（５５０ｎｍ）とした。
（３）帝人社製、ピュアエースＷＲＳ（ポリカーボネート系共重合体フィルム）
（４）帝人社製、ピュアエースＷＲＷ（ポリカーボネート系共重合体フィルム）
（５）帝人社製、ピュアエースＷＲＺ（ポリカーボネート系共重合体フィルム）
（６）下記の手法で作製したセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）フィルム
（ポリエステル系可塑剤の合成）
窒素雰囲気下、テレフタル酸ジメチル４．８５ｇ、１，２−プロピレングリコール４．４ｇ、テトライソプロピルチタネート１０ｍｇを混合し、１４０℃で２時間攪拌を行った後、ｐ−トルイル酸６．８ｇを加え、さらに２時間撹拌した。その後２１０℃で１６時間攪拌を行った。次に、１７０℃まで降温し、未反応物の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、下記の構造を有するポリエステル系可塑剤を得た。
【０１２８】
この際、分子量の制御は反応温度および反応時間を調整することにより行い、また分子量分布については、分子量の異なるポリエステル系可塑剤を混合することにより制御した。具体的には、ポリエステル系可塑剤の数平均分子量（Ｍｎ）が１１５０となるように、また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．６となるように調整した。
【０１２９】
【化１】
【０１３０】
（糖エステル化合物の合成）
撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖３４．２ｇ（０．１モル）、無水安息香酸１８０．８ｇ（０．８モル）、ピリジン３７９．７ｇ（４．８モル）を仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、７０℃で５時間エステル化反応を行なった。次に、コルベン内を４×１０２Ｐａ以下に減圧し、６０℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を１．３×１０Ｐａ以下に減圧し、１２０℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン１Ｌ、０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液３００ｇを添加し、５０℃で３０分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水１００ｇを添加し、常温で３０分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下（４×１０２Ｐａ以下）、６０℃でトルエンを留去させ、下記の構造を有する糖エステル化合物を得た。
【０１３１】
【化２】
【０１３２】
（微粒子分散液）
微粒子（アエロジル Ｒ８１２ 日本アエロジル（株）製） １１質量部
エタノール ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
【０１３３】
（微粒子添加液）
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。
【０１３４】
メチレンクロライド ９９質量部
微粒子分散液 ５質量部
（主ドープ液の調製）
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクに溶剤としてメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクに上記で製造したＣＥ−１を攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
【０１３５】
メチレンクロライド ３４０質量部
エタノール ６４質量部
セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．５、プロピオニル基置換度０．９、総置換度２．４） １００質量部
糖エステル化合物 ７．０質量部
下記の構造を有するポリエステル系可塑剤 ２．５質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ９２８（ＢＡＳＦジャパン社製） １．５質量部
微粒子添加液 １１質量部
次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に流延した。ステンレスベルトの温度は３０℃に制御した。
【０１３６】
ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１１０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルフィルムを、１６０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に５％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。
【０１３７】
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、テンタークリップで挟んだ端部をレーザーカッターでスリットし、その後巻き取った。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。
【０１３８】
この原反フィルムを、従来公知のオフライン延伸装置を用いて延伸した。なお、延伸の際には、得られたフィルムの面内の遅相軸の角度がフィルム搬送方向に対して４５°となるように調整した。また、延伸温度は１８０℃とし、延伸倍率は１．７８倍とした。得られたフィルムの面内リターデーション（Ｒｏ（５５０ｎｍ））は１３３ｎｍであった。
【０１３９】
なお、上述したλ／４板に加えて、「理想」のλ／４板を用いた場合についても検討を行った（後述する比較例１３を参照）。「理想」のλ／４板とは、λ／４板として理論上最も好ましい位相差発現性能を有するものであり、上述したセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）フィルムの膜厚を変えることで、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍのそれぞれの波長の光に対してλ／４板として機能するような異なる膜厚のフィルムをそれぞれ作製したものである。このような「理想」のλ／４板の波長分散は、０．７４となる（表２を参照）。
【０１４０】
以上で準備（作製）したそれぞれのλ／４板について、上述した面内リターデーション（Ｒｏ（５５０ｎｍ））の測定と同様の手法により、波長４８０ｎｍの光に対する面内リターデーション（Ｒｏ（４８０ｎｍ））および波長６５０ｎｍの光に対する面内リターデーション（Ｒｏ（６５０ｎｍ））を測定した。結果を下記の表２に示す。また、Ｒｏ（４８０ｎｍ）とＲｏ（６５０ｎｍ）との比の値（Ｒｏ（４８０ｎｍ）／Ｒｏ（６５０ｎｍ））として算出される波長分散の値についても、下記の表２に示す。
【０１４１】
【表２】
【０１４２】
また、それぞれの実施例および比較例で用いたλ／４板の種類について、その波長分散の値と併せて下記の表３に示す。なお、実施例７〜８および比較例１４〜１５では、λ／４板の偏光子とは反対側の面にポジティブＣプレートとして機能する位相差層（ｐ−Ｃ層）を配置した（表３に記載の「ｐ−Ｃ層」）。具体的には、液晶材料をその液晶分子が光軸方向に沿った配向状態のまま硬化させることで、当該ｐ−Ｃ層を形成した。このｐ−Ｃ層は、面方向における屈折率（ｎｘ、ｎｙ）と、これらに直交する光軸方向における屈折率ｎｚとが、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙとなる関係を満たすように構成されている。かような構成を有することで、ｐ−Ｃ層は、面内において屈折率が等方性を有し、厚さ方向の屈折率が大きい媒体であるポジティブＣプレートとして機能することになるのである。
【０１４３】
≪円偏光板の作製≫
上記で準備した偏光子の各面に、上記で作製した偏光板保護フィルムとλ／４板とを、粘着剤を介してそれぞれ貼合した。その際、λ／４板の面内の遅相軸が偏光子の吸収軸となす角が４５°となるように、貼合の向きを調整した。
【０１４４】
≪有機ＥＬ表示装置の作製≫
Ｃｌｉｘ２（ｉＲｉｖｅｒ社製）に貼合されている円偏光板を剥離し、上記で作製した円偏光板を粘着剤を介して貼合して、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０１４５】
［評価］
（反射率の測定）
上記と同様の測定装置を用い、それぞれの実施例および比較例で作製した有機ＥＬ表示装置の表面反射抑止層（比較例１〜６については表面反射抑止層を形成していないため、ハードコート層）の側から入射した光の５°正面反射率および７０°斜め反射率を測定した。結果を下記の表３に示す。なお、比較例１３の「理想」のλ／４板については、理論上内部反射がゼロとみなせることから、上記の表１に記載の表面反射率の値がそのまま、表３においても反射率の値として記載されている。
【０１４６】
（色味目視評価）
外光の照度が１０００Ｌｘの環境、および、外光の照度が２０００Ｌｘの環境において、有機ＥＬ表示装置の正面（面法線）の方向、および面法線に対して５０°の方向から、目視で色味を評価した。黒を○、他の色づきをわずかに感じるものを△、他の色づきを明確に感じるものを×とした。結果を表３に示すが、表３に示す目視評価の結果は１０名による評価結果の平均である。また、「理想」のλ／４板を用いている比較例１３では有機ＥＬ表示装置の作製ができないことから、色味目視評価は行わなかった。
【０１４７】
【表３】
【０１４８】
表３に示す結果から、本発明の構成とすることで、有機ＥＬパネルの視認側に円偏光板が配置された有機ＥＬ表示装置において、外光反射が効果的に抑制され、色味の発生も十分に抑制されることがわかる。特に、比較例１４〜１５では、黒表示の安定化に寄与するｐ−Ｃ層を形成した場合であっても、色味の問題が依然として発生したのに対し、実施例１〜６では、このようなｐ−Ｃ層を配置しなくても、反射防止および色味の低減という効果が達成されている。また、本発明の構成によれば、円偏光板に理想のλ／４板を用いるよりも、より波長分散の大きい（低コストで製造可能な）λ／４板を用いる方が、上述の効果を発現させやすいことも示される。
【０１４９】
以上のことから、本発明は、色味に優れ外光反射も防止できる手段を低コストで提供できるという、極めて優位性の高いものであるといえる。
【符号の説明】
【０１５０】
１ 表示装置
１０ 有機ＥＬパネル（表示装置本体）、
２０ 円偏光板、
２２ 表面反射抑止層、
２２ａ 低屈折率層、
２２ｂ 高屈折率層、
２２ｃ 中屈折率層、
２４ 偏光板保護フィルム、
２６ 偏光子、
２８ λ／４板、
３０ タッチパネル、
３２ａ、３２ｂ 透明導電膜、
３４ ガラス層。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半透過型液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、タッチパネル付き表示装置等の表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置よりも高コントラスト、薄型化、低コストが可能な表示装置として、有機ＥＬ表示装置が注目されている。現在の有機ＥＬ表示装置は、視認側と反対側の電極に反射型の電極が用いられている。そのため、外光下で使用する際、外光反射によるコントラスト低下が問題となる。また、この外光反射の問題は、半透過型液晶表示装置や、視認側にタッチパネルを備えた表示装置においても同様に生じうる（タッチパネルは屈折率の高い透明導電膜を有しているため、その界面での反射率が高く、外光反射が問題となる）。このような外光反射を抑止する手段として、従来、表示装置の視認側に円偏光板を配置する方法（例えば、特許文献１および２を参照）や、光干渉を利用する方法等が提案されており、円偏光板を配置する方法が主流である。
【０００３】
円偏光板は、偏光子とλ／４板（λ／４位相差フィルム）とが積層されてなる構成を有している。なお、λ／４板としては可視光全域においてλ／４の位相差を付与できる機能を有するものが理想であるが、現状のフィルムでは達成が困難である。特に、単層フィルムでの達成は非常に難しく、特殊な樹脂構造とすることで、ある程度理想に近づいてはいるが、依然として不十分である。
【０００４】
ここで、表示装置の視認側に円偏光板を配置すると、円偏光板を通過して表示装置の内部に侵入した光の反射（内部反射）が防止される。しかしながら、円偏光板それ自体の表面における反射（表面反射）は防止できないことから、当該表面反射を防止するには、円偏光板の視認側に表面反射抑止層をさらに設置する必要がある。このように、表面反射の防止を目的として表面反射抑止層を配置することは、従来、液晶表示装置等においても行われている。例えば、表面凹凸による散乱によって反射防止する方法や、光干渉を利用して反射防止する方法等が知られているが、主流は散乱による反射防止である。
【０００５】
光干渉を利用した方法は、異なる屈折率を有する複数の層が積層されてなる構成を有する表面反射抑止層を円偏光板の視認側に配置するものである。この技術では、散乱による反射防止よりも高精細で、かつ、少ない層数で可視光全域の反射を抑止することが課題である。特に、視認性の高い緑色の光（５５０ｎｍ近傍）の反射率をいかに低くするかという点が、従来、非常に重要であるとされてきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１９８６１４号公報
【特許文献２】特開２００７−２３２９３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、上述したような背景技術のもと、鋭意研究を重ねる過程で、従来理想とされてきた５５０ｎｍ近傍の緑色光の反射を重点的に抑止するように設計された表面反射抑止層を円偏光板の視認側に配置した場合には、青色光や赤色光の光漏れによる色味が発生するという問題が生じることを見出した。また、液晶表示装置とは異なり、円偏光板のみによって内部反射を防止することが求められる有機ＥＬ表示装置において、かような色味発生の問題が顕著に発現することも見出した。そして、表面反射抑止層を配置することで可視光全域で一律に反射率を低くしたり、従来のように５５０ｎｍ近傍の緑色光の反射防止に重点が置かれた表面反射抑止層を配置するのみでは、上述したような色味発生の問題を解決することができなかった。
【０００８】
また、上述したような理想に近いλ／４板は、構成材料である樹脂の製造が困難であり、かつ高コストであるため、大量生産には不向きであるという問題もある。
【０００９】
そこで本発明は、表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、低コストで、外光反射を効果的に抑制しつつ、色味の発生をも十分に抑制しうる手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記目的に鑑み、鋭意研究を重ねた。その結果、表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、青色光・緑色光・赤色光の三者のそれぞれの正面反射率の差がいずれも所定の値以下となるように表示装置を構成することで、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１１】
すなわち、本発明によれば、以下の構成により上記課題は解決される。
１．表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置であって、前記円偏光板が、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有し、表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすことを特徴とする、表示装置：
【００１２】
【数１】
【００１３】
式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である；
２．前記λ／４板が、下記数式２を満たすことを特徴とする、上記１に記載の表示装置：
【００１４】
【数２】
【００１５】
式中、Ｒｏ（４８０ｎｍ）およびＲｏ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍまたは６５０ｎｍにおけるλ／４板の面内リターデーション値である；
３．表示装置の視認側の表面の法線に対して７０°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される７０°斜め反射率（Ｒ７０）が、下記数式３を満たすことを特徴とする、上記１または２に記載の表示装置：
【００１６】
【数３】
【００１７】
式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ７０（λ１）およびＲ７０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の７０°斜め反射率である；
４．前記７０°斜め反射率が、下記数式４を満たすことを特徴とする、上記３に記載の表示装置：
【００１８】
【数４】
【００１９】
式中、Ｒ７０（４８０ｎｍ）、Ｒ７０（５５０ｎｍ）およびＲ７０（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の７０°斜め反射率である；
５．前記表面反射抑止層の視認側の表面の法線方向から入射した光の表面反射抑止層の表面における反射率として定義される表面反射率（ＲＳ）が、下記数式５を満たすことを特徴とする、上記１〜４のいずれか１項に記載の表示装置：
【００２０】
【数５】
【００２１】
式中、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の表面反射率である；
６．前記表面反射率（ＲＳ）が、下記数式６を満たすことを特徴とする、上記５に記載の表示装置：
【００２２】
【数６】
【００２３】
式中、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ上記と同様の定義であり、ｍａｘ｛｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜，｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜｝は、｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜および｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜のうち小さくない方を表す；
７．前記表示装置本体が、有機ＥＬパネル、または半透過型液晶パネルを備えることを特徴とする、上記１〜６のいずれか１項に記載の表示装置；
８．前記表示装置本体と前記円偏光板との間に、タッチパネルが介在することを特徴とする、上記１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、外光反射を効果的に抑制しつつ、色味の発生をも十分に抑制しうる手段が提供されうる。また、本発明では、製造が困難で高コストな、理想に近いλ／４板を利用した円偏光板よりも、むしろ安価に製造可能な汎用の円偏光板を利用した方がより優れた反射防止効果が達成されうることから、工業的にもきわめて優位性の高い技術が提供されうる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を模式的に表した断面概略図である。
【図２】本発明の他の実施形態に係る液晶表示装置を模式的に表した断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。
【００２７】
本発明の一形態は、表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置であって、前記円偏光板が、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有し、表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすことを特徴とする、表示装置である。
【００２８】
【数７】
【００２９】
数式１において、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である。本明細書において、「４８０ｎｍ」は青色光の波長の代表値であり、「５５０ｎｍ」は緑色光の波長の代表値であり、「６５０ｎｍ」は赤色光の波長の代表値である。つまり、数式１は、青色光・緑色光・赤色光の三者のそれぞれの正面反射率の差がいずれも０．５％以下であることを表現したものである。
【００３０】
正面反射率は、後述する実施例の欄に記載のように、ＣＭ−２５００（コニカミノルタ社製）を用いて、それぞれの波長の光を入射光とし、入射角５°で入射した光が出射角−５°で反射した反射光の反射率として測定される。
【００３１】
本形態の表示装置の具体的な構成について特に制限はなく、上記正面反射率（Ｒ０）が上述した数式１で表される関係を満たすものであればよい。正面反射率（Ｒ０）が数式１を満たすように表示装置を構成するには、以下のように、表示装置における正面反射を表面反射と内部反射とに分解して考えることが有用である。
【００３２】
まず、ある波長λにおける正面反射率Ｒ０（λ）は、下記数式７に示すように、波長λにおける表面反射率ＲＳ（λ）と内部反射率ＲＩ（λ）との和として表現することができる。
【００３３】
【数８】
【００３４】
そして、波長λにおける内部反射率ＲＩ（λ）は、波長λにおける表面反射率ＲＳ（λ）および円偏光板を構成するλ／４板の波長λにおける位相差Ｒｅ（λ）を用いて、下記数式８に示すように表現することができることが判明した。
【００３５】
【数９】
【００３６】
したがって、上述した数式１における「Ｒ０（λ１）−Ｒ０（λ２）」の値は、波長λ１および波長λ２の値、波長λ１および波長λ２のそれぞれにおける表面反射率ＲＳ（λ１）およびＲＳ（λ２）の値、並びに、円偏光板を構成するλ／４板の波長λ１および波長λ２のそれぞれにおける位相差Ｒｅ（λ１）およびＲｅ（λ２）の値を用いて、下記数式９に示すように展開することができる。
【００３７】
【数１０】
【００３８】
以上の数式９で展開された最後の式において、右辺の第１項（つまり、｛ＲＳ（λ１）−ＲＳ（λ２）｝）は、波長λ１と波長λ２との間の表面反射率の差に相当する。また、同式において、右辺の第２項（つまり、｛γ（１００−ＲＳ（λ１））（０．６γ＋０．０１３）−ε（１００−ＲＳ（λ２））（０．６ε＋０．０１３）｝）は、波長λ１と波長λ２との間の内部反射率の差に相当する。このように、波長λ１および波長λ２における正面反射率の差（Ｒ０（λ１）−Ｒ０（λ２））は、波長λ１および波長λ２における表面反射率ＲＳ（λ１）およびＲＳ（λ２）、並びに、波長λ１および波長λ２における位相差Ｒｅ（λ１）およびＲｅ（λ２）を用いて表現されうる。よって、これらの表面反射率ＲＳ（λ１）およびＲＳ（λ２）、並びに、波長λ１および波長λ２における位相差Ｒｅ（λ１）およびＲｅ（λ２）を実測することで波長λ１および波長λ２における正面反射率の差（Ｒ０（λ１）−Ｒ０（λ２））が算出され、本発明の要件を満たすものであるか否かを判定することが可能である。
【００３９】
以下、図面を参照しつつ、本発明に係る表示装置の具体的な構成について、説明する。
【００４０】
［有機ＥＬ表示装置（表示装置）］
まず、表示装置の全体的な構成について、説明する。
【００４１】
図１は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を模式的に表した断面概略図である。図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１は、表示装置本体としての有機ＥＬパネル１０の視認側に、円偏光板２０が配置されてなる構成を有している。そして、円偏光板２０は、視認側から、表面反射抑止層２２と、偏光板保護フィルム２４と、偏光子２６と、λ／４板２８と、がこの順に積層されてなる構成を有している。また、表面反射抑止層２２は、屈折率の異なる３つの層が積層されてなる構成を有している。具体的には、視認側から、低屈折率層（屈折率が１．３８程度）２２ａ、高屈折率層（屈折率が１．８７程度）２２ｂ、中屈折率層（屈折率が１．６４程度）２２ｃがこの順に積層され、表面反射抑止層２２を構成している。以下、有機ＥＬ表示装置１を構成するそれぞれの構成要素について、説明する。
【００４２】
［有機ＥＬパネル（表示装置本体）］
有機ＥＬパネルは、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の表示装置本体であり、薄型であることによる省スペース性および軽量性、１０Ｖ程度の印加電圧であっても高輝度な発光が得られるなどの特徴を有するものである。この有機ＥＬパネルは、発光可能な有機層を電極で挟んだ構成を有する。有機層は基本的に正孔輸送層、発光層、および電子輸送層を積層したものである。電極としては、光を取り出す側に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明電極を用い、対向する基板に例えばアルミニウムなどの金属電極を用いる。このような構成において、両電極より各々電子と正孔を、電子輸送層および正孔輸送層を介して発光層に注入し、発光層において電子と正孔を再結合させて発光させるのである。なお、有機ＥＬ表示装置は、ＴＦＴが配置される位置に応じて、これが発光層よりも視認側に配置されるボトムエミッション方式と、これが発光層よりも奥面に配置されるトップエミッション方式とに分類されるが、本発明はいずれの方式にも適用可能である。
【００４３】
上述したように、有機ＥＬパネルには、視認側と反対側の電極に反射型の電極（金属電極）が用いられている。そのため、外光下で使用する際には外光反射が問題となるが、本実施形態によれば、視認側に表面反射抑止層２２が設けられていることで、このような外光反射が防止される。このような有機ＥＬパネルの具体的な構成について特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。
【００４４】
上述した実施形態では、表示装置本体が有機ＥＬパネルである場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、表示装置本体としてその他のものが用いられてもよい。例えば、反射型液晶パネル、または半透過型液晶パネルなどが表示装置本体として用いられてもよい。これらの表示装置本体を備えた表示装置においても、上述したような外光反射の問題は同様に生じうるが、本発明の構成とすることで、これらの表示装置についてもかような外光反射の問題を解決することが可能である。
【００４５】
さらに、本発明は、他の実施形態として、図２に示すような視認側にタッチパネルを備えた表示装置にも適用可能である。図２に示す実施形態の表示装置２では、上述した図１に示す実施形態の表示装置１とは異なり、表示装置本体１０と円偏光板２０との間に、タッチパネル３０が配置されている。本発明によれば、タッチパネル３０を用いたことによる外光反射についても防止することができる。なお、タッチパネル３０の形態は図２に示すものに限られず、外光を反射しうる構成を有するものであれば、他の形態も採用されうる。例えば、表示素子内部にタッチパネルが組み込まれたインセルタッチパネルといった形態であってもよい。
【００４６】
また、図２に示す実施形態の表示装置２においては、少なくともタッチパネル３０において外光反射が生じうるものである限り、表示装置本体１０による外光反射は生じうるものであってもそうでなくてもよい。したがって、図２に示す実施形態の表示装置２における表示装置本体１０は、上述したような有機ＥＬパネル、半透過型液晶パネルのほか、外光反射の問題を生じないもの（例えば、透過型液晶パネル）であってもよい。
【００４７】
［円偏光板］
続いて、円偏光板の構成について、説明する。図１や図２に示すように、本発明に係る円偏光板２０は、視認側から、表面反射抑止層２２と、偏光子２６と、λ／４板２８と、がこの順に積層されてなる構成を必須に有する。そして、図１や図２に示すように、表面反射抑止層２２と偏光子２６との間には、偏光板保護フィルム２４が介在することが好ましい。
【００４８】
（偏光子）
偏光子２６は、円偏光板の主構成要素であり、一定方向の偏波面の光だけを通す素子である。そして、偏光子２６は、後述するλ／４板２８と積層されることで、円偏光板としての機能を発揮するようになる。
【００４９】
現在知られている代表的な偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性の染料を吸着・配向させた染料系偏光フィルムなどの吸収型偏光子が挙げられる。これらの偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを１軸延伸させて染色するか、染色した後１軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。このほかにも、ポリビニルアルコール系フィルムを用いない偏光子として、フィルム上に塗布等により二色性の染料を配向させる（配向膜を用いラビング、光配向等で二色性の染料を配向させるか、塗布の際の剪断を利用する方法、フィルムの凹凸で配向させる方法等）ことで得られる偏光子についても好ましく用いられる。
【００５０】
（偏光板保護フィルム）
なお、このような偏光子を用いる場合には、偏光子２６の表面反射抑止層２２側に偏光板保護フィルム２４を配置することが必要である。偏光板保護フィルム２４としては、従来公知のフィルムが適宜用いられ、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート等のアクリル系樹脂、ポリカーボネートや、ポリカーボネートとスチレン系化合物の共重合体、または混合体、ポリカーボネートとフルオレン系化合物の共重合体または混合体等のポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。このなかでも特に、セルロース系樹脂からなるフィルム（特に、セルロースエステルフィルム）が好適に用いられる。市販のセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が好ましく用いられる。
【００５１】
なお、偏光板保護フィルム２４を用いる場合、当該フィルムは、それ自体が位相差発現性能を有していてもよい。偏光板保護フィルム２４が位相差発現性能を有するものである場合、これが示す位相差（面内リターデーション）は、５５０ｎｍの波長に対して、好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍであり、より好ましくは１００〜１８０ｎｍであり、最も好ましくは１２０〜１６０ｎｍである。かような構成とすることで、偏光サングラス装着時の視認性が改善される。例えば、偏光板保護フィルム２４が位相差発現性能を持たない場合、表示装置を面内方向に回転させたときの偏光サングラス装着時の視認性はサインカーブを描き、偏光サングラスと表示装置の偏光子の透過軸が直交関係のとき、黒くなる。しかし、偏光板保護フィルム２４に上述したような位相差発現性能を持たせることで、表示装置側の偏光子から出射した光が楕円偏光となるため、偏光サングラスと表示装置の偏光子の透過軸が直交関係となっても、黒くなることがなくなるため、視認性が改善される。
【００５２】
また、偏光板保護フィルム２４が位相差発現性能を有していると、立体表示をする際にも有効である。立体表示には、眼鏡タイプおよび裸眼タイプがあるが、本発明は眼鏡タイプに有効である。眼鏡タイプには、液晶シャッター眼鏡と偏光眼鏡があり、双方とも、偏光板保護フィルム２４を位相差フィルムとすることで、眼鏡の角度による光量変化や、クロストークを低減することができる。
【００５３】
偏光板保護フィルム２４としては、さらにディスコティック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８号公報に記載の方法で光学異方性層を形成することができる。なお、偏光板保護フィルム２４を用いる場合、その表面反射抑止層２２側には、表示装置の品質を向上させる目的で、他の機能性を有する層を配置することも可能である。このような他の層としては、例えば、耐キズ（ハードコート（ＨＣ））を目的とした層が挙げられる。なお、偏光子２６と偏光板保護フィルム２４との貼り合わせには、好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤が用いられる。
【００５４】
一方、上述したような偏光板保護フィルム２４の使用を必須としない偏光子も知られている。例えば、リオトロピック液晶状態の二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光子（特開２００７−２３２９３５号公報などを参照）や、特開２０１１−４８３６０号公報に開示されているような反射型偏光子などを用いる場合には、偏光板保護フィルム２４の配置を省略することができる。本発明においては、いずれの偏光子も採用されうるが、偏光性能に優れるという観点からは、偏光板保護フィルム２４の使用を前提とするポリビニルアルコール系偏光フィルムからなる偏光子を用いることが好ましい。
【００５５】
なお、偏光板保護フィルム２４が用いられる場合、偏光板保護フィルム２４の表面反射抑止層２２の側の表面には、ハードコート層（図示せず）が配置されることが好ましい。これにより、耐久性や耐衝撃性が向上しうる。
【００５６】
ハードコート層は、一般的にバインダー成分として活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とした塗布液を塗布して作製される層である。したがって、ハードコート層は「活性エネルギー線硬化樹脂層」とも称される。活性エネルギー線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。
【００５７】
ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。ハードコート層は、バインダーとしてアクリル系の活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするものが好ましい。活性エネルギー線硬化アクリレート系樹脂としては、例えば、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアクリレート系樹脂等が挙げられる。
【００５８】
これら活性エネルギー線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。活性エネルギー線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【００５９】
ハードコート層は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．１μｍのクリアハードコート層であり、Ｒａが０．００２〜０．０５μｍであることが好ましい。中心線平均粗さ（Ｒａ）は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製非接触表面微細形状計測装置ＷＹＫＯ ＮＴ−２０００を用いて測定することができる。
【００６０】
ハードコート層の膜厚は、十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から１〜２０μｍが好ましく、１．５〜１０μｍがより好ましい。
【００６１】
偏光板保護フィルム２４の表面にハードコート層が配置される場合、当該ハードコート層と偏光板保護フィルム２４との間に、さらに密着層、接着層を設けてもよく、この場合は０．１μｍ以下の膜厚とすることが好ましい。また、偏光板保護フィルム２４上にハードコート層を塗布により形成する場合、前処理として、偏光板保護フィルム２４の表面に火炎処理、コロナ放電、プラズマ加工などの処理を施してもよい。
【００６２】
ハードコート層に接する偏光板保護フィルム２４の表面の屈折率に対して、当該偏光板保護フィルム２４に接する側のハードコート層表面の屈折率が±０．０２の範囲となるように調整することが好ましい。
【００６３】
（λ／４板）
λ／４板２８は、上述した偏光子２４と積層されることで、円偏光板としての機能を発揮する。この際、円偏光板としての機能に優れるという観点から、偏光子２４の吸収軸と、λ／４板２８の面内の遅相軸とのなす角は４５°であることが理想である。実際には、この角が４５°±２°の範囲であることが好ましい。
【００６４】
「λ／４板」とは、面内リターデーション（Ｒｏ）の値が、広い波長領域でλ／４を示すような位相差フィルムをいう。より詳細には、波長５５０ｎｍで測定した面内リターデーションＲｏ（５５０ｎｍ）は、１０８〜１６８ｎｍであることが好ましく、１２８〜１４８ｎｍであることがさらに好ましく、１３８±５ｎｍであることが最も好ましい。ここで、面内リターデーション（Ｒｏ）は、下記式に従って算出する。
【００６５】
【数１１】
【００６６】
（式中、ｎｘは、フィルム面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは、フィルム面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、ｄは、フィルムの厚み（ｎｍ）である。）
λ／４板の具体的な構成について特に制限はなく、従来公知の知見が適宜参照されうる。ただし、λ／４板は透明樹脂から構成されることが好ましく、当該透明樹脂の可視光の透過率は、好ましくは６０％以上であり、より好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。また、λ／４板を構成する透明樹脂は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。また、この透明樹脂は、固有複屈折値が正である樹脂であることが好ましい。λ／４板を構成する透明樹脂としては、例えばセルロースエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。
【００６７】
λ／４板は、これらの樹脂を用いて溶液流延法、または溶融流延法によって製膜し、延伸操作（流延方向、幅手方向、または斜め方向等の組み合わせ）等により上述したようなリターデーションを付与することで製造されうる。λ／４板の製造には、斜め延伸装置等も好適に用いることができる。このような斜め延伸装置を用いてλ／４板を製造することで、フィルムの長手方向に対する遅相軸の角度が実質的に４５°であるλ／４板を製造することができ、偏光子との貼合をロール・トゥ・ロールで行うことが可能となることから、円偏光板を製造する際の生産性が格段に向上しうる。なお、λ／４板を偏光子と貼合する際には、好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤が用いられる。
【００６８】
本発明においては、λ／４板２８が、下記数式２を満たすことが好ましい。
【００６９】
【数１２】
【００７０】
数式２において、Ｒｏ（４８０ｎｍ）およびＲｏ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍまたは６５０ｎｍの場合のλ／４板の面内リターデーション値である。そして、Ｒｏ（４８０ｎｍ）／Ｒｏ（６５０ｎｍ）の値は「波長分散」と称され、λ／４板の重要な機能の１つである逆波長分散性の指標である。λ／４板２８の波長分散の値は、好ましくは０．８０〜１．００であり、より好ましくは０．８０〜０．９５である。
【００７１】
ここで、後述する実施例の欄において表２に示すように、すべての波長に対してλ／４板として機能するような位相差発現性能（逆波長分散性）を有する「理想」のλ／４板では、理論上、４８０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍのそれぞれに対する面内リターデーション（Ｒｏ）の値は以下のようになる：
【００７２】
【数１３】
【００７３】
したがって、「理想」のλ／４板の波長分散の値は、１２０／１６２．５≒０．７４である。波長分散の値が０．８０未満のλ／４板２８はこの「理想」の広帯域λ／４板に近いことから、偏光子を透過した入射光は反射電極やタッチパネルによって反射された後、ほとんどが偏光子に吸収される。この場合、表示装置の正面反射（Ｒ０）を構成する表面反射（ＲＳ）と内部反射（ＲＩ）のうち、内部反射（ＲＳ）の光がすべて円偏光板によって遮断されて表示装置の内部に閉じ込められることから、表示装置の正面反射（Ｒ０）には表面反射（ＲＳ）のみが寄与することになる（Ｒ０≒ＲＳ）。そうすると、表面反射抑止層２２のみの作用によって表面反射を防止する必要が出てくるが、この場合、可視光全域の表面反射を低下させる表面反射抑止層２２を用いなくてはならない。一方、このような表面反射抑止層２２を用いて表示装置を構成することは困難であり、これまでに提案されている表面反射抑止層を波長分散の小さい（理想に近い）λ／４板と組み合わせて表示装置を構成すると、いずれかの波長の光の表面反射が十分に防止されず、対応する波長の色味が悪化してしまう虞がある。
【００７４】
また、波長分散が小さいλ／４板は複数のフィルムを積層したり、フィルムを特殊な樹脂構造とする必要があるため高価であり、また一般に厚膜であるという問題もあるため、安価で大量生産を行いたい場合、不適である。
【００７５】
一方、λ／４板の波長分散が１．１以上の場合には、円偏光板の光漏れが大きすぎるため、表面反射抑止層で色味を改善しても、全体の反射率が高くなってしまい、視認性が低下する虞がある。
【００７６】
これに対し、波長分散が上記数式２の範囲内の値であるλ／４板２８を用いると、後述する表面反射抑止層２２との組み合わせによって、数式１の関係を満たす表示装置を有利に構成することができ、色味の発生という問題の発生が効果的に防止されうる。また、低コストなλ／４板２８を利用できることから、大量生産にも適した技術が提供されることになる。
【００７７】
なお、偏光子２６とλ／４板２８との間にさらに偏光板保護フィルムが配置されてもよい。この場合に配置される偏光板保護フィルムは、面内リターデーション（Ｒｏ）が−１０ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは−５ｎｍ〜５ｎｍであり、最も好ましくは−２ｎｍ〜２ｎｍである。
【００７８】
（表面反射抑止層）
表面反射抑止層２２は、表示装置１、２（円偏光板２０）の最も視認側に配置される層であり、表示装置１、２の視認側の表面における反射（表面反射ＲＳ）を防止する層である。
【００７９】
図１や図２に示す実施形態では、表面反射抑止層２２が屈折率の異なる３つの層（低屈折率層２２ａ、高屈折率層２２ｂ、中屈折率層２２ｃ）が積層されてなる構成を有しているが、これは光の干渉作用を利用して表面反射を防止するものである。
【００８０】
図１〜図２に示すように、表面反射抑止層２２は、偏光板保護フィルム２４または偏光板保護フィルム２４上に設けたハードコート層上に、中屈折率層２２ｃ、高屈折率層２２ｂ等のその他の光学層を介して低屈折率層２２ａを有する。
【００８１】
低屈折率層２２ａは、活性エネルギー線硬化樹脂、金属酸化物微粒子、ポリマー微粒子および金属アルコキシドの少なくとも１種を含有する塗布液を塗布した後、加熱乾燥または活性エネルギー線照射により硬化することで形成することができる。なお、低屈折率層２２ａの屈折率は、好ましくは１．００〜１．５０であり、より好ましくは１．００〜１．４０である。また、低屈折率層２２ａの膜厚は、好ましくは１０〜２００ｎｍである。
【００８２】
また、反射率の低減のためには、偏光板保護フィルム２４または偏光板保護フィルム２４上に設けたハードコート層と低屈折率層２２ａとの間に、図１〜図２に示すように中屈折率層２２ｃおよび高屈折率層２２ｂを設けることが好ましい。ただし、中屈折率層２２ｃを省略して偏光板保護フィルム２４と低屈折率層２２ａとの間に高屈折率層２２ｂのみを設ける形態も好ましい。
【００８３】
中屈折率層２２ｃおよび高屈折率層２２ｂは、低屈折率層２２ａと同様の活性エネルギー線硬化樹脂、ポリマー微粒子、金属アルコキシドおよび下記金属酸化物微粒子の少なくとも１種を含有する塗布液を塗布した後、加熱乾燥または活性エネルギー線照射により硬化することで形成することができる。
【００８４】
ただし、高屈折率層２２ｂおよび中屈折率層２２ｃに用いる金属酸化物粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好ましく、１．９０〜２．８０であることがさらに好ましい。また、高屈折率層２２ｂおよび中屈折率層２２ｃに用いる金属酸化物粒子は、表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することができる。なお、高屈折率層２２ｂの屈折率は、好ましくは１．６０〜２．５０であり、より好ましくは１．７０〜１．８５であり、特に好ましくは１．７５〜１．８５である。また、高屈折率層の膜厚は、好ましくは１０〜２００ｎｍである。さらに、中屈折率層２２ｃの屈折率は、好ましくは１．４０〜２．００であり、より好ましくは１．５５〜１．８０であり、特に好ましくは１．５５〜１．７０である。また、中屈折率層２２ｃの膜厚は、好ましくは１０〜２００ｎｍである。これらの範囲で、屈折率が低屈折率層＜高屈折率層の関係を満たし（中屈折率層を用いる場合、さらに低屈折率層＜中屈折率層＜高屈折率層の関係を満たし）、かつ、本発明の上述した構成要件（数式１）を満たすように、屈折率と膜厚を調整すればよい。なお、複数の層が積層されてなる構成の表面反射抑止層２２を用いる場合、偏光板保護フィルム２４に隣接する層（図１や図２では中屈折率層２２ｃ）にハードコート層の機能を持たせてもよい。この場合には、上述したように偏光板保護フィルムの表面にハードコート層を別途設けるための工数が削減されるという利点がある。
【００８５】
好ましい実施形態として、ハードコート層をバインダー成分としてアクリル系の前記活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とする塗布液で形成し、中屈折率層および高屈折率層を金属酸化物微粒子または金属アルコキシドを主成分とする塗布液で形成し、低屈折率層をアルコキシシラン化合物またはフッ素系樹脂を主成分とする塗布液で形成するという形態が挙げられる。
【００８６】
本発明では、偏光板保護フィルム２４または偏光板保護フィルム２４上に設けたハードコート層上に直接または間接に設けた表面反射抑止層２２（中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の３層または、高屈折率層、中屈折率層の２層）に加えて、透明導電層、帯電防止層、防汚層等をさらに形成してもよい。
【００８７】
本発明における表面反射抑止層２２周辺の好ましい層構成の例は以下のとおりである。
偏光板保護フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
偏光板保護フィルム／帯電防止層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
もちろん、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。また、帯電防止層は導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子（例えば、ＳｎＯ２、ＩＴＯなど）を含む層であることが好ましく、塗布または大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。帯電防止層はハードコート層や、中、高屈折率層を兼ねることができ、特に中、高屈折率層と兼ねることが、性能上および生産上好ましい。
【００８８】
以上、光学干渉作用によって表面反射の抑止を達成しうる実施形態を例に挙げて説明したが、表面反射抑止層２２の具体的な形態はこれに限定されず、他のメカニズムによるものであってもよい。例えば、表面反射抑止層２２は、表面凹凸による散乱や、表面微細凹凸による屈折率グラデーション（モスアイ形状）を利用したものであってもよい。表面凹凸による散乱で表面反射抑止する手段は、凹凸のサイズや形状、密度で調整される。凹凸のサイズは２００〜６００ｎｍであり、これより小さいものであれば、光が散乱せず、また大きければ、可視光全波長を散乱するため、効果が薄い。また、凹凸サイズの分布は極大値が２つ以上あることが好ましい。形状は、どのような形状であってもよいが、モアレ等が出ない構造である必要がある。凹凸のサイズや密度によって形状は調整される。密度は必要な散乱強度によって調整される。
【００８９】
（表面反射抑止層の表面反射率の好ましい形態）
表面反射抑止層２２自体の反射率の値について特に制限はなく、表示装置全体として上述した数式１の関係を満たすものであればよい。
【００９０】
従来、一般的に用いられてきた表面反射抑止層は、緑色光である５５０ｎｍ近傍の波長の光に対する反射率が最も小さくなるように設計されており、青色光（≒４８０ｎｍ）や赤色光（≒６５０ｎｍ）に対する反射率は相対的に見ればある程度大きいものであった。本発明では、このように緑色光に最適化された従来の表面反射抑止層（反射防止フィルム）を用いるよりも、むしろ緑色光の反射率を犠牲にしたものを用いることが好ましい。これを定量的に表現すれば、表面反射抑止層２２の視認側の表面の法線方向から入射した光の表面反射抑止層の表面における反射率として定義される表面反射率（ＲＳ）は、下記数式５を満たすことが好ましい。
【００９１】
【数１４】
【００９２】
数式５において、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の表面反射率である。数式５は、表面反射抑止層２２の表面における緑色光（波長５５０ｎｍ）の反射率が、青色光（波長４８０ｎｍ）や赤色光（波長６５０ｎｍ）の反射率よりも大きいことを表現している。
【００９３】
また、数式５における３つの表面反射率の値（ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ））は、下記数式６を満たすことが好ましい。
【００９４】
【数１５】
【００９５】
数式６において、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ上記と同様の定義であり、ｍａｘ｛｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜，｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜｝は、｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜および｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜のうち小さくない方を表す。数式６は、表面反射抑止層２２の表面における緑色光（波長５５０ｎｍ）の反射率の、青色光（波長４８０ｎｍ）の反射率と赤色光（波長６５０ｎｍ）の反射率のそれぞれとの差分のうち小さくない方が所定の範囲内の値となることを表現している。
【００９６】
なお、数式５における３つの表面反射率の値（ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ））のそれぞれの値について特に制限はないが、それぞれの値が小さいほど表示装置全体としての外光反射が小さいことを意味するため、いずれも小さいほど好ましい。例えば、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ、好ましくは４．０％以下であり、より好ましくは１．５％以下である。
【００９７】
（表示装置の反射率の好ましい形態）
上述したように、本発明に係る表示装置は、視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が数式１を満たすことを必須の構成要件とするものである。そして、本発明に係る表示装置は、より好ましくは、斜め方向からの入射光に対しても、数式１のように波長依存性が低減されたものである。かような構成とすることで、表示装置を斜め方向から視認した際における色味の発生も防止されうる。具体的には、本発明に係る表示装置において、視認側の表面の法線に対して７０°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される７０°斜め反射率（Ｒ７０）は、下記数式３を満たすことが好ましい。
【００９８】
【数１６】
【００９９】
数式３において、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ７０（λ１）およびＲ７０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の７０°斜め反射率である。つまり、数式３は、青色光・緑色光・赤色光の三者のそれぞれの７０°斜め反射率の差がいずれも０．５５％以下であることを表現したものである。
【０１００】
７０°斜め反射率は、後述する実施例の欄に記載のように、絶対反射測定装置（日本分光社製、Ｖ−６７０・ＡＲＭＮ−７３５）を用いて、それぞれの波長の光を入射光とし、入射角７０°で入射した光が出射角−７０°で反射した反射光の反射率として測定される。
【０１０１】
また、３つの波長のそれぞれにおける７０°斜め反射率の具体的な値について特に制限はないが、それぞれの値が小さいほど表示装置全体としての外光反射が小さいことを意味するため、いずれも小さいほど好ましい。具体的には、３つの波長のそれぞれにおける７０°斜め反射率は、下記数式４を満たすことが好ましい。
【０１０２】
【数１７】
【０１０３】
数式４において、Ｒ７０（４８０ｎｍ）、Ｒ７０（５５０ｎｍ）およびＲ７０（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の７０°斜め反射率である。つまり、数式４は、青色光・緑色光・赤色光の三者のそれぞれの７０°斜め反射率の値がいずれも１３％以下であることを表現したものである。
【０１０４】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明したが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、上述した実施形態のみに制限されるべきではない。
【実施例】
【０１０５】
以下、実施例（実施例１〜８）および比較例（比較例１〜１５）を用いて本発明の実施形態をより詳細に説明するが、本発明の技術的範囲が下記の形態のみに限定されるわけではない。
【０１０６】
［各部材の準備（作製）］
≪偏光子の準備≫
液晶ディスプレイ（ＳＯＮＹ社製、ＫＤＬ−５５ＨＸ９２０）の偏光板から偏光板保護フィルムを剥離することで偏光子（ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたもの）を単離し、以下のすべての実施例および比較例において用いた。
【０１０７】
≪偏光板保護フィルムの作製≫
以下の手法により、セルロースエステルフィルムからなる偏光板保護フィルムを作製し、以下のすべての実施例および比較例において用いた。
【０１０８】
（ドープ液の調製）
下記の材料を順次密閉容器中に投入し、容器内温度を２０℃から８０℃まで昇温した後、温度を８０℃に保ったままで３時間攪拌を行って、セルロースエステルを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙（安積濾紙株式会社製、安積濾紙Ｎｏ．２４４）を使用して濾過し、ドープ液Ａを得た。
【０１０９】
（ドープ液Ａの調製）
セルローストリアセテート（アセチル基置換度２．９） １００質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート ５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート ５質量部
酸化ケイ素微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ、日本アエロジル株式会社製）
０．１質量部
チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） １質量部
チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） １質量部
メチレンクロライド ４００質量部
エタノール ４０質量部
ブタノール ５質量部
上記の材料を混合してドープ液Ａを調製し、得られたドープ液Ａを、温度３５℃に保温した流延ダイを通より、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度３５℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。
【０１１０】
次いで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が８０質量％になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
【０１１１】
次いで、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で９０℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、１３０℃で幅方向に延伸前の１．１倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で１３５℃の乾燥風にて乾燥させた。乾燥工程の雰囲気置換率１５（回／時間）とした雰囲気内で１５分間熱処理した後、室温まで冷却して巻き取り、幅１．５ｍ、膜厚８０μｍ、長さ４０００ｍ、屈折率１．４９の長尺のセルロースエステルフィルムを作製し、偏光板保護フィルムとした。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向の延伸倍率は１．１倍であった。
【０１１２】
≪表面反射抑止層の形成≫
以下の手法により、上記で作製した偏光板保護フィルムの一方の面に、表面反射抑止層を形成した。
【０１１３】
まず、上記で作製した偏光板保護フィルムの一方の面に、以下の手法によってハードコート層を形成した。
【０１１４】
下記のハードコート層塗布組成物を押出しコートし、次いで８０℃に設定された乾燥部で３０分間乾燥した後、紫外線を１５０ｍＪ／ｃｍ２照射して塗布層を硬化させた。
【０１１５】
（ハードコート層塗布組成物）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（２量体以上の成分を２割程度含む）
１０８質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製） ２質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １８０質量部
酢酸エチル １２０質量部
これにより、厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５５）を形成した。
【０１１６】
次いで、以下の手法により、上記ハードコート層の露出表面に、中屈折率層塗布組成物、高屈折率層塗布組成物、および低屈折率層塗布組成物をこの順にダイを用いて塗布し、１２０℃で乾燥した後、上述したハードコート層の形成と同様の条件で紫外線照射を行い各層を硬化させ、３層構造からなる表面反射抑止層を形成した。なお、形成される層の膜厚をオンラインで測定しながら流量条件を制御した。
【０１１７】
（中屈折率層塗布組成物１）
テトラ（ｎ）ブトキシチタン ２５０質量部
末端反応性ジメチルシリコーンオイル（日本ユニカー社製Ｌ−９０００）
０．４８質量部
アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＥ９０３）
２２質量部
ＵＶ硬化性エポキシ樹脂（旭電化社製ＫＲ５００） ２１質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４９００質量部
イソプロピルアルコール ４８４０質量部
（高屈折率層塗布組成物）
テトラ（ｎ）ブトキシチタン ３１０質量部
末端反応性ジメチルシリコーンオイル（日本ユニカー社製Ｌ−９０００）
０．４質量部
アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製ＫＢＥ９０３）
４．８質量部
ＵＶ硬化性エポキシ樹脂（旭電化社製ＫＲ５００） ４．６質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４９００質量部
イソプロピルアルコール ４８００質量部
（低屈折率層塗布組成物１）
下記のシリカ系微粒子Ｐ−１ ３５質量部
フッ素含有樹脂オプスターＪＭ５０１０（ＪＳＲ（株）製） ６４．５質量部
ＦＺ−２２２２（日本ユニカー製、１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液） ０．５質量部
イソプロピルアルコール ５００質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ３００質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １００質量部
〈シリカ系微粒子Ｐ−１の調製〉
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ２濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ２として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ２Ｏ３として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３核粒子分散液を調製した（工程（ａ））。
【０１１８】
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ２濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た（工程（ｂ））。
【０１１９】
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、さらに濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ２・Ａｌ２Ｏ３多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇおよび２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ２２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％のシリカ系微粒子（Ｐ−１）の分散液を調製した。
【０１２０】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯｘ／ＳｉＯ２（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。
【０１２１】
以上の手法により、中屈折層、高屈折層、および低屈折率層をハードコート層の露出表面にこの順に形成し、表面反射抑止層とした。
【０１２２】
なお、各層の屈折率と膜厚は、各層を単独で塗工したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求める。分光光度計はＵ−４０００型（日立製作所製）を用いて、サンプルの裏面を粗面化した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行い、裏面の光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射率測定を行う。このようにして上記各層の屈折率を測定したところ、中屈折率層塗布組成物１を用いて形成された中屈折率層の屈折率は１．６４であり、高屈折率層塗布組成物を用いて形成された高屈折率層の屈折率は１．８７であり、低屈折率層塗布組成物１を用いて形成された低屈折率層の屈折率は１．３８であった（下記の表１を参照）。
【０１２３】
また、下記の表１に示すように、実施例１では、中屈折率層として、中屈折率層塗布組成物１に代えて、テトラ（ｎ）ブトキシチタンの配合量を２５５質量部とした中屈折率層塗布組成物２を用いて形成した層（屈折率１．６５）を用いた。また、実施例１では、低屈折率層として、低屈折率層塗布組成物２に代えて、下記の低屈折率層塗布組成物２を用いて形成した層（屈折率１．５１）を用いた。
【０１２４】
（低屈折率層塗布組成物２）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部
光反応開始剤（イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製））
４質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５質量部
メチルエチルケトン ７５質量部
それぞれの実施例および比較例における表面反射抑止層を構成する３つの層の屈折率および膜厚を下記の表１に示す。また、それぞれの実施例および比較例における表面反射抑止層（比較例１〜６については表面反射抑止層を形成していないため、ハードコート層）の表面における５°正面反射率および７０°斜め反射率の測定値も下記の表１に併せて示す。なお表面反射率の測定には、まず、表面反射抑止層もハードコート層も形成していない偏光板保護フィルムの一方の面に黒色テープを貼付した。そして、黒色テープを貼付した側とは反対側の面から、３つの波長（４８０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ）について、ＣＭ−２５００（コニカミノルタ社製）を用いて５°正面反射率を測定し、絶対反射測定装置（日本分光社製、Ｖ−６７０・ＡＲＭＮ−７３５）を用いて７０°斜め反射率を測定した。これらの測定値から、偏光板保護フィルムの屈折率に基づき理論的に計算される表面反射率の値を引いて得られた値を、黒色テープと偏光板保護フィルムとの間の５°正面反射率および７０°斜め反射率とした。そして、それぞれの実施例および比較例における表面反射抑止層における表面反射抑止層（またはハードコート層）についての測定値から、上述した偏光板保護フィルムの屈折率に基づき理論的に計算される表面反射率の値および黒色テープと偏光板保護フィルムとの間の反射率の値を引き、得られた値を表面反射抑止層（またはハードコート層）の５°正面反射率および７０°斜め反射率とした。
【０１２５】
【表１】
【０１２６】
≪λ／４板の準備（作製）≫
λ／４板としては、以下のものを準備（作製）した。
（１）帝人社製、ＴＴ−１３８（ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム）
（２）下記の手法で作製したシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム
熱可塑性ノルボルネン系樹脂のペレットを、熱風乾燥機を用いて１００℃で４時間乾燥したのち押出機に供給した。溶融樹脂温度２６０℃で押し出し、Ｔ型ダイスから第１冷却ロールまでの間のフィルムから１０ｍｍ以内の雰囲気温度が２６０℃になるように加熱し、フィルムの両端部に静電気を印加した。第１冷却ロールの温度１２０℃、引き取り速度１８.０ｍ／ｍｉｎ、第２冷却ロールの温度１２５℃、引き取り速度１８.１ｍ／ｍｉｎ、第３冷却ロールの温度１１０℃、引き取り速度１７.９ｍ／ｍｉｎとした。得られた未延伸フィルムの平均厚さは７１μｍであった。
【０１２７】
得られた未延伸フィルムの両端をクリップに把持させて、第１ゾーン、第２ゾーンおよび第３ゾーンからなるテンター延伸機内に導入し、横方向の一軸延伸を行った。仕切り板で仕切られた各ゾーンの長さは１,１５０ｍｍであり、フィルム送り速度は３.５ｍ／ｍｉｎとした。第１ゾーンは温風温度Ｔ１を１４４℃とし、延伸を行わずに予熱した。第２ゾーンは温風温度Ｔ２を１４４℃とし、第２ゾーンでフィルムが１.２５倍に延伸されるクリップ設定とした。第３ゾーンは温風温度Ｔ３を１４０℃とし、第３ゾーン出口でフィルムが初期幅に対して１.５倍に延伸されるクリップ設定とした。第３ゾーンから出た延伸フィルムをクリップから脱離させ、両端を連続的に裁断して巻き取った。得られた延伸フィルムは、平均厚さ４５．９μｍであり、面内リターデーション（Ｒｏ（５５０ｎｍ））は１３８ｎｍであった。なお、面内リターデーションの測定については、得られたフィルムから試料３５ｍｍ×３５ｍｍを切り出し、２３℃，５５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））で、５５０ｎｍにおける測定した値をＲｏ（５５０ｎｍ）とした。
（３）帝人社製、ピュアエースＷＲＳ（ポリカーボネート系共重合体フィルム）
（４）帝人社製、ピュアエースＷＲＷ（ポリカーボネート系共重合体フィルム）
（５）帝人社製、ピュアエースＷＲＺ（ポリカーボネート系共重合体フィルム）
（６）下記の手法で作製したセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）フィルム
（ポリエステル系可塑剤の合成）
窒素雰囲気下、テレフタル酸ジメチル４．８５ｇ、１，２−プロピレングリコール４．４ｇ、テトライソプロピルチタネート１０ｍｇを混合し、１４０℃で２時間攪拌を行った後、ｐ−トルイル酸６．８ｇを加え、さらに２時間撹拌した。その後２１０℃で１６時間攪拌を行った。次に、１７０℃まで降温し、未反応物の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、下記の構造を有するポリエステル系可塑剤を得た。
【０１２８】
この際、分子量の制御は反応温度および反応時間を調整することにより行い、また分子量分布については、分子量の異なるポリエステル系可塑剤を混合することにより制御した。具体的には、ポリエステル系可塑剤の数平均分子量（Ｍｎ）が１１５０となるように、また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．６となるように調整した。
【０１２９】
【化１】
【０１３０】
（糖エステル化合物の合成）
撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖３４．２ｇ（０．１モル）、無水安息香酸１８０．８ｇ（０．８モル）、ピリジン３７９．７ｇ（４．８モル）を仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、７０℃で５時間エステル化反応を行なった。次に、コルベン内を４×１０２Ｐａ以下に減圧し、６０℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を１．３×１０Ｐａ以下に減圧し、１２０℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン１Ｌ、０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液３００ｇを添加し、５０℃で３０分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水１００ｇを添加し、常温で３０分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下（４×１０２Ｐａ以下）、６０℃でトルエンを留去させ、下記の構造を有する糖エステル化合物を得た。
【０１３１】
【化２】
【０１３２】
（微粒子分散液）
微粒子（アエロジル Ｒ８１２ 日本アエロジル（株）製） １１質量部
エタノール ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
【０１３３】
（微粒子添加液）
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液をゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。
【０１３４】
メチレンクロライド ９９質量部
微粒子分散液 ５質量部
（主ドープ液の調製）
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクに溶剤としてメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクに上記で製造したＣＥ−１を攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
【０１３５】
メチレンクロライド ３４０質量部
エタノール ６４質量部
セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．５、プロピオニル基置換度０．９、総置換度２．４） １００質量部
糖エステル化合物 ７．０質量部
下記の構造を有するポリエステル系可塑剤 ２．５質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ９２８（ＢＡＳＦジャパン社製） １．５質量部
微粒子添加液 １１質量部
次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に流延した。ステンレスベルトの温度は３０℃に制御した。
【０１３６】
ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１１０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルフィルムを、１６０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に５％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。
【０１３７】
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、テンタークリップで挟んだ端部をレーザーカッターでスリットし、その後巻き取った。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。
【０１３８】
この原反フィルムを、従来公知のオフライン延伸装置を用いて延伸した。なお、延伸の際には、得られたフィルムの面内の遅相軸の角度がフィルム搬送方向に対して４５°となるように調整した。また、延伸温度は１８０℃とし、延伸倍率は１．７８倍とした。得られたフィルムの面内リターデーション（Ｒｏ（５５０ｎｍ））は１３３ｎｍであった。
【０１３９】
なお、上述したλ／４板に加えて、「理想」のλ／４板を用いた場合についても検討を行った（後述する比較例１３を参照）。「理想」のλ／４板とは、λ／４板として理論上最も好ましい位相差発現性能を有するものであり、上述したセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）フィルムの膜厚を変えることで、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍのそれぞれの波長の光に対してλ／４板として機能するような異なる膜厚のフィルムをそれぞれ作製したものである。このような「理想」のλ／４板の波長分散は、０．７４となる（表２を参照）。
【０１４０】
以上で準備（作製）したそれぞれのλ／４板について、上述した面内リターデーション（Ｒｏ（５５０ｎｍ））の測定と同様の手法により、波長４８０ｎｍの光に対する面内リターデーション（Ｒｏ（４８０ｎｍ））および波長６５０ｎｍの光に対する面内リターデーション（Ｒｏ（６５０ｎｍ））を測定した。結果を下記の表２に示す。また、Ｒｏ（４８０ｎｍ）とＲｏ（６５０ｎｍ）との比の値（Ｒｏ（４８０ｎｍ）／Ｒｏ（６５０ｎｍ））として算出される波長分散の値についても、下記の表２に示す。
【０１４１】
【表２】
【０１４２】
また、それぞれの実施例および比較例で用いたλ／４板の種類について、その波長分散の値と併せて下記の表３に示す。なお、実施例７〜８および比較例１４〜１５では、λ／４板の偏光子とは反対側の面にポジティブＣプレートとして機能する位相差層（ｐ−Ｃ層）を配置した（表３に記載の「ｐ−Ｃ層」）。具体的には、液晶材料をその液晶分子が光軸方向に沿った配向状態のまま硬化させることで、当該ｐ−Ｃ層を形成した。このｐ−Ｃ層は、面方向における屈折率（ｎｘ、ｎｙ）と、これらに直交する光軸方向における屈折率ｎｚとが、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙとなる関係を満たすように構成されている。かような構成を有することで、ｐ−Ｃ層は、面内において屈折率が等方性を有し、厚さ方向の屈折率が大きい媒体であるポジティブＣプレートとして機能することになるのである。
【０１４３】
≪円偏光板の作製≫
上記で準備した偏光子の各面に、上記で作製した偏光板保護フィルムとλ／４板とを、粘着剤を介してそれぞれ貼合した。その際、λ／４板の面内の遅相軸が偏光子の吸収軸となす角が４５°となるように、貼合の向きを調整した。
【０１４４】
≪有機ＥＬ表示装置の作製≫
Ｃｌｉｘ２（ｉＲｉｖｅｒ社製）に貼合されている円偏光板を剥離し、上記で作製した円偏光板を粘着剤を介して貼合して、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【０１４５】
［評価］
（反射率の測定）
上記と同様の測定装置を用い、それぞれの実施例および比較例で作製した有機ＥＬ表示装置の表面反射抑止層（比較例１〜６については表面反射抑止層を形成していないため、ハードコート層）の側から入射した光の５°正面反射率および７０°斜め反射率を測定した。結果を下記の表３に示す。なお、比較例１３の「理想」のλ／４板については、理論上内部反射がゼロとみなせることから、上記の表１に記載の表面反射率の値がそのまま、表３においても反射率の値として記載されている。
【０１４６】
（色味目視評価）
外光の照度が１０００Ｌｘの環境、および、外光の照度が２０００Ｌｘの環境において、有機ＥＬ表示装置の正面（面法線）の方向、および面法線に対して５０°の方向から、目視で色味を評価した。黒を○、他の色づきをわずかに感じるものを△、他の色づきを明確に感じるものを×とした。結果を表３に示すが、表３に示す目視評価の結果は１０名による評価結果の平均である。また、「理想」のλ／４板を用いている比較例１３では有機ＥＬ表示装置の作製ができないことから、色味目視評価は行わなかった。
【０１４７】
【表３】
【０１４８】
表３に示す結果から、本発明の構成とすることで、有機ＥＬパネルの視認側に円偏光板が配置された有機ＥＬ表示装置において、外光反射が効果的に抑制され、色味の発生も十分に抑制されることがわかる。特に、比較例１４〜１５では、黒表示の安定化に寄与するｐ−Ｃ層を形成した場合であっても、色味の問題が依然として発生したのに対し、実施例１〜６では、このようなｐ−Ｃ層を配置しなくても、反射防止および色味の低減という効果が達成されている。また、本発明の構成によれば、円偏光板に理想のλ／４板を用いるよりも、より波長分散の大きい（低コストで製造可能な）λ／４板を用いる方が、上述の効果を発現させやすいことも示される。
【０１４９】
以上のことから、本発明は、色味に優れ外光反射も防止できる手段を低コストで提供できるという、極めて優位性の高いものであるといえる。
【符号の説明】
【０１５０】
１ 表示装置
１０ 有機ＥＬパネル（表示装置本体）、
２０ 円偏光板、
２２ 表面反射抑止層、
２２ａ 低屈折率層、
２２ｂ 高屈折率層、
２２ｃ 中屈折率層、
２４ 偏光板保護フィルム、
２６ 偏光子、
２８ λ／４板、
３０ タッチパネル、
３２ａ、３２ｂ 透明導電膜、
３４ ガラス層。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置であって、
前記円偏光板が、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有し、
表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすことを特徴とする、表示装置：
【数１】
式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である。
【請求項２】
前記λ／４板が、下記数式２を満たすことを特徴とする、請求項１に記載の表示装置：
【数２】
式中、Ｒｏ（４８０ｎｍ）およびＲｏ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍまたは６５０ｎｍの場合のλ／４板の面内リターデーション値である。
【請求項３】
表示装置の視認側の表面の法線に対して７０°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される７０°斜め反射率（Ｒ７０）が、下記数式３を満たすことを特徴とする、請求項１または２に記載の表示装置：
【数３】
式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ７０（λ１）およびＲ７０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の７０°斜め反射率である。
【請求項４】
前記７０°斜め反射率が、下記数式４を満たすことを特徴とする、請求項３に記載の表示装置：
【数４】
式中、Ｒ７０（４８０ｎｍ）、Ｒ７０（５５０ｎｍ）およびＲ７０（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の７０°斜め反射率である。
【請求項５】
前記表面反射抑止層の視認側の表面の法線方向から入射した光の表面反射抑止層の表面における反射率として定義される表面反射率（ＲＳ）が、下記数式５を満たすことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置：
【数５】
式中、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の表面反射率である。
【請求項６】
前記表面反射率（ＲＳ）が、下記数式６を満たすことを特徴とする、請求項５に記載の表示装置：
【数６】
式中、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ上記と同様の定義であり、ｍａｘ｛｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜，｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜｝は、｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜および｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜のうち小さくない方を表す。
【請求項７】
前記表示装置本体が、有機ＥＬパネル、反射型液晶パネル、または半透過型液晶パネルを備えることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記表示装置本体と前記円偏光板との間に、タッチパネルが介在することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１】
表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置であって、
前記円偏光板が、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有し、
表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすことを特徴とする、表示装置：
【数１】
式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である。
【請求項２】
前記λ／４板が、下記数式２を満たすことを特徴とする、請求項１に記載の表示装置：
【数２】
式中、Ｒｏ（４８０ｎｍ）およびＲｏ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍまたは６５０ｎｍの場合のλ／４板の面内リターデーション値である。
【請求項３】
表示装置の視認側の表面の法線に対して７０°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される７０°斜め反射率（Ｒ７０）が、下記数式３を満たすことを特徴とする、請求項１または２に記載の表示装置：
【数３】
式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ７０（λ１）およびＲ７０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の７０°斜め反射率である。
【請求項４】
前記７０°斜め反射率が、下記数式４を満たすことを特徴とする、請求項３に記載の表示装置：
【数４】
式中、Ｒ７０（４８０ｎｍ）、Ｒ７０（５５０ｎｍ）およびＲ７０（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の７０°斜め反射率である。
【請求項５】
前記表面反射抑止層の視認側の表面の法線方向から入射した光の表面反射抑止層の表面における反射率として定義される表面反射率（ＲＳ）が、下記数式５を満たすことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置：
【数５】
式中、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ波長が４８０ｎｍ、５５０ｎｍまたは６５０ｎｍを有する光の表面反射率である。
【請求項６】
前記表面反射率（ＲＳ）が、下記数式６を満たすことを特徴とする、請求項５に記載の表示装置：
【数６】
式中、ＲＳ（４８０ｎｍ）、ＲＳ（５５０ｎｍ）およびＲＳ（６５０ｎｍ）は、それぞれ上記と同様の定義であり、ｍａｘ｛｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜，｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜｝は、｜ＲＳ（４８０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜および｜ＲＳ（６５０ｎｍ）−ＲＳ（５５０ｎｍ）｜のうち小さくない方を表す。
【請求項７】
前記表示装置本体が、有機ＥＬパネル、反射型液晶パネル、または半透過型液晶パネルを備えることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記表示装置本体と前記円偏光板との間に、タッチパネルが介在することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表示装置。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１３−９２６３２（Ｐ２０１３−９２６３２Ａ）
【公開日】平成２５年５月１６日（２０１３．５．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２３４２７４（Ｐ２０１１−２３４２７４）
【出願日】平成２３年１０月２５日（２０１１．１０．２５）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月１６日（２０１３．５．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１０月２５日（２０１１．１０．２５）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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