説明

被覆部材

【課題】被削材の高硬度化などの厳しい切削加工条件において長寿命を実現できる被覆部材の提供を目的とする。
【解決手段】基材と基材の表面に被覆された被膜とからなり、被膜の少なくとも1層はPVD法により被覆された(MAD)XR(但し、MはCr,Al,Ti,Hf,V,Zr,Ta,Mo,W,Y,Nbの中から選ばれた2種以上の金属元素を表し、LはMn,Cu,Ni,Co,B,Si,Sの中から選ばれた少なくとも1種の添加元素を表し、XはC,N,Oの中から選ばれた少なくとも1種の非金属元素を表し、AはMとLの合計に対するMの原子比を表し、DはMとLの合計に対するLの原子比を表し、RはMとLの合計に対するXの原子比を表し、0.90≦A≦0.99、0.01≦D≦0.10、A+D=1、0.95≦R≦1.10を満足する。)で表される硬質膜であり、硬質膜はX線回折における最高ピーク強度を(220)面に示す被覆部材。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、焼結合金、セラミックス、cBN焼結体、ダイヤモンド焼結体などの基材の表面に被膜を被覆した被覆部材に関する。その中でも、特にチップ、ドリル、エンドミルに代表される切削工具や各種の耐摩耗工具、耐摩耗部品に好適な被覆部材に関する。
【背景技術】
【0002】
焼結合金、セラミックス、cBN焼結体、ダイヤモンド焼結体などの基材の表面にPVD法によりTiC、TiCN、TiN、(Ti,Al)N、Al23などの被膜を被覆してなる被覆部材は、基材の高強度、高靱性と被膜の優れた耐摩耗性、耐酸化性、潤滑性、耐溶着性などを兼備しているため、切削工具、耐摩耗工具、耐摩耗部品として多用されている。これらの性能向上のために被膜の硬さや耐酸化性などが改良されてきた。
【0003】
PVD法により被覆された硬質皮膜の従来技術としては、(Ti,Al,Cr)(C,N)からなる切削工具用硬質皮膜がある(例えば、特許文献1参照。)。また、耐酸化性に優れた皮膜として、Al−Cr−N系皮膜がある。しかしながら、被削材、切削条件などの変化から、これらの皮膜を被覆した切削工具では、長寿命が得られないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2003−71610号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近年、切削加工において高速度、高送り、被削材の高硬度化など厳しい加工条件が増えている。従来の被覆部材からなる切削工具では、近年の厳しい加工要求に応えられなくなってきた。本発明はこのような事情を鑑みてなされたものであり、切削加工において長寿命化を実現する被覆部材の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
従来のPVD法により被覆された(TiAl)N、(CrAl)N、(TiAlCr)Nなどの立方晶の硬質膜は、(111)面または(200)面に配向していた。本発明者は、PVD法で被覆された(TiAlSi)N、(CrAlB)N、(TiAlCrSi)Nなどの立方晶の硬質膜を被覆した被覆部材の切削性能の向上に取り組んできたところ、立方晶の硬質膜を(220)面に配向させることで、硬さが高くなり、高温における耐摩耗性が向上するとともに、耐酸化性が向上するという知見を得ることができた。本発明の硬質膜を被覆した被覆部材は、耐摩耗性および耐酸化性に優れるため、切削工具として用いると長寿命化を実現できることを見出した。
【0007】
請求項1に係る被覆部材は、基材と基材の表面に被覆された被膜とからなり、被膜の少なくとも1層は、PVD法により被覆された(MAD)XR(但し、MはCr,Al,Ti,Hf,V,Zr,Ta,Mo,W,Y,Nbの中から選ばれた2種以上の金属元素を表し、LはMn,Cu,Ni,Co,B,Si,Sの中から選ばれた少なくとも1種の添加元素を表し、XはC,N,Oの中から選ばれた少なくとも1種の非金属元素を表し、AはMとLの合計に対するMの原子比を表し、DはMとLの合計に対するLの原子比を表し、RはMとLの合計に対するXの原子比を表し、0.90≦A≦0.99、0.01≦D≦0.10、A+D=1、0.95≦R≦1.10を満足する。)で表される硬質膜であり、硬質膜はX線回折における最高ピーク強度を(220)面に示すものである。
【0008】
本発明の被覆部材の基材として、焼結合金、セラミックス、cBN焼結体、ダイヤモンド焼結体などを挙げることができる。その中でも焼結合金は耐欠損性と耐摩耗性に優れるため好ましく、その中でも超硬合金とサーメットがさらに好ましく、その中でも超硬合金がさらに好ましい。
【0009】
請求項1に係る被覆部材の被膜の少なくとも1層は、PVD法により被覆された(MAD)XR(但し、MはCr,Al,Ti,Hf,V,Zr,Ta,Mo,W,Y,Nbの中から選ばれた2種以上の金属元素を表し、LはMn,Cu,Ni,Co,B,Si,Sの中から選ばれた少なくとも1種の添加元素を表し、XはC,N,Oの中から選ばれた少なくとも1種の非金属元素を表し、AはMとLの合計に対するMの原子比を表し、DはMとLの合計に対するLの原子比を表し、RはMとLの合計に対するXの原子比を表し、0.90≦A≦0.99、0.01≦D≦0.10、A+D=1、0.95≦R≦1.10を満足する。)で表される立方晶系のNaCl型構造の硬質膜からなる。
【0010】
Aが0.90未満になると耐摩耗性が低下し、Aが0.99を超えると耐酸化性が低下するので、Aは0.90≦A≦0.99の範囲とした。Dが0.01未満になると耐酸化性が低下し、Dが0.10を超えると耐摩耗性が低下するので、Dは0.01≦D≦0.10の範囲とした。Rが0.95未満になると非晶質の金属相が偏析して耐酸化性と硬さが低下し、Rが1.10を超えると被膜の硬さが急速に低下するので、Rは0.95≦R≦1.10の範囲とした。硬質膜として具体的には、((TiAl)0.950.05)N1.00、((TiAl)0.96Mn0.04)N1.00、((TiAl)0.970.03)N1.00、((TiAl)0.95Si0.05)N1.00、((TiCr)0.950.05)N1.00、((CrAl)0.970.03)N1.06、((CrAl)0.95Si0.05)N1.00、((CrAl)0.980.02)N0.98、((CrAl)0.900.10)N0.95、((CrZr)0.960.04)N1.07、((TiAlCr)0.95Si0.05)N1.00、((TiAlV)0.95Si0.05)N1.09、((TiAlZr)0.95Si0.05)N1.00、((CrAlZr)0.900.10)N1.09、((CrAlZr)0.95Si0.05)N1.00、((CrAlW)0.950.05)N1.00、((TiAlZrY)0.900.10)N1.00などを挙げることができる。その中でも硬質膜は、組成の異なる平均膜厚1〜100nmの薄膜が積層された積層膜であると被膜の硬さが高くなり耐摩耗性が向上するので、さらに好ましい。
【0011】
本発明の硬質膜は、X線回折における最高ピーク強度を(220)面に示すので、従来の被膜よりも、硬さが高く、高温において優れた耐摩耗性を示すとともに、優れた耐酸化性を示す。
【0012】
本発明の被膜は、本発明の硬質膜のみからなる単層膜、または、Cr,Al,Ti,Hf,V,Zr,Ta,Mo,W,Nb,Y,Si,Bの炭化物、窒化物、酸化物およびこれらの相互固溶体の中から選ばれた少なくとも1種からなる膜と本発明の硬質膜とを被覆した多層膜からなる。なお本発明の硬質層とともに多層化する膜として具体的には、TiN,TiCN、TiC、Al23などを挙げることができる。また、本発明の硬質層とともに多層化する膜は、PVD法またはCVD法により被覆することができる。その中でもPVD法は、本発明の硬質膜と連続的に被覆され膜間の密着性に優れるので、さらに好ましい。
【0013】
本発明の被膜の平均膜厚が0.5μm以上であると耐摩耗性と耐酸化性が向上し、本発明の被膜の平均膜厚が15.0μmを超えて厚くなると耐欠損性が低下するため、本発明の被膜の平均膜厚は0.5〜15.0μmの範囲が好ましい。
【0014】
本発明の被膜の組成は、二次イオン質量分析装置(SIMS)、エネルギー分散元素分析装置(EDS)、グロー放電型分析装置(GDS)などの元素分析装置を使って測定することができる。
【0015】
本発明の硬質膜はPVD法により被覆される。本発明の硬質膜を被覆した被覆部材は耐欠損性に優れるので、特に耐欠損性が要求されるフライス工具、ドリルなどの転削工具に使用すると好ましい。PVD法としてアークイオンプレーティング法、スパッタリング法などを挙げることができる。その中でも被膜と基材との密着性に優れるアークイオンプレーティング法がさらに好ましい。
【0016】
従来のアークイオンプレーティング装置(以下、AIP装置という。)では、被膜を被覆する場合、炉内の圧力を2.5〜5.0Paとし、アーク放電の制御は電流値を一定とする定電流制御を行っていた。定電流制御とは炉内の放電抵抗が変わると電圧が変化して放電電流が一定になるように制御する方式である。一方、本発明の硬質膜の被覆条件は、炉内の圧力を従来の方式よりも高真空側の領域である0.5〜2.0Paとし、さらにアーク放電の制御を電圧一定とする定電圧制御とし、アーク放電電圧を高くした。すなわち、アーク放電を高い電圧で一定にして、炉内の圧力を下げると、本発明の(220)面に配向した硬質膜を得ることができる。なおアーク放電を高電圧にするとアーク放電の電流値が上昇し、基材およびAIP装置の温度が上昇する。その場合、温度上昇を防ぐためにアーク放電を間欠にするパルス制御と定電圧制御を組み合わせた電圧制御を用いても好ましい。
【0017】
AIP装置を用いた本発明の硬質膜の被覆条件として、具体的には、基材を573〜973Kまで加熱した後、炉内の圧力:0.5〜2.0Pa、アーク放電電圧:DC変調30〜150V(定電圧制御)、基材のバイアス電圧:−30〜−200Vにて被覆する条件を挙げることができる。
【発明の効果】
【0018】
本発明の被覆部材は、耐摩耗性および耐酸化性に優れる。本発明の被覆部材は切削工具の長寿命化を実現する。その中でも特に、高速度加工、高送り加工、硬さの高い被削材の加工など加工条件が厳しい切削加工において長寿命化を実現する。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】本発明の被覆部材のX線回折測定結果の一例
【図2】従来の被覆部材のX線回折測定結果の一例
【発明を実施するための形態】
【0020】
(実施例1)
基材として形状がSDKN1203AETNのK20相当超硬合金製チップを用意した。メタルボンバード用電極を含めて6極のターゲットを着装することが可能なAIP装置内に、用意した基材を装入して圧力:1×10-3Paまで真空排気を行った後、AIP装置内のヒーターで773Kまで基材を加熱した。メタルボンバードは、圧力:1×10-2Pa、基材のバイアス電位:−600V、アーク電流:100A、時間:6分というボンバード条件で行った後、発明品1〜10は表1に示す膜構成の被膜を被覆した。被膜は、各膜の金属元素と添加元素の成分比を持つターゲットを用い、N2を反応ガスとして導入し、圧力:0.6〜2.0Pa、アーク放電電圧:DC変調30〜70V(定電圧制御)、基材のバイアス電圧:−30〜−80Vというコーティング条件で被覆した。このとき、発明品1〜10は、基材側から第1層、第2層、第3層、再び第1層、第2層、第3層と繰り返して薄膜を積層した。
【0021】
【表1】

【0022】
比較品1〜6は、基材をAIP装置に入れて加熱した後、発明品1〜8と同じ条件でメタルボンバードを行った後、圧力:3.0Pa、アーク電流:120A(定電流制御)、基材のバイアス電圧:−30Vというコーティング条件で表2に示す膜構成の被膜を被覆した。なお、比較品3〜5は、基材側から第1層、第2層、再び第1層、第2層と繰り返して薄膜を積層した。
【0023】
【表2】

【0024】
得られた試料についてX線回折装置を用いて、Cukα1線による2θ=10〜120度のX線回折測定を行い、被膜は立方晶系のNaCl構造であることを確認し、被膜の最高ピーク強度を示す結晶面を測定した。その結果は、表3、4に示した。発明品1〜8の被膜のX線回折ピーク強度は(220)面が最も高かった。比較品1〜6の被膜のX線回折ピーク強度は、(111)面または(200)面が最も高かった。
【0025】
得られた試料について、松沢精機株式会社製マイクロビッカース硬度計を用いて印加荷重50gfでの被膜の硬さを測定した。得られた値は表3、4に併記した。表3、4から発明品1〜8は比較品1〜6に比べて硬さが高いことが分かる。
【0026】
【表3】

【0027】
【表4】

【0028】
次に、得られた試料を用いて、被削材:SCM440、切削速度:212m/min、切り込み:2.0mm、送り:0.2mm/toothの条件で乾式フライス試験を行った。工具寿命は、逃げ面摩耗量VB=0.3mmを目安とした。切削長6mまでに逃げ面摩耗量VB=0.3mmに達しない場合は、切削長6m時の逃げ面摩耗量VBを測定した。これらの結果を表5に示す。
【0029】
【表5】

寿命判定:VB=0.3mm
【0030】
表5に示されるように、発明品1〜8は同じ切削長でも比較品1〜6よりも逃げ面摩耗量VBが小さい。これは耐摩耗性に優れることを示す。また、表5から発明品1〜8は、比較品1〜6よりも寿命が長いことが分かる。
【0031】
市販のモリブデン基板に発明品1〜3と比較品1〜5の被膜を被覆した。被膜の耐酸化性を評価するために、大気中にて600℃から900℃まで加熱して、結晶構造の変化をX線回折法により調べた。その結果は表6に示す。
【0032】
【表6】

【0033】
表6に示されるように、発明品1〜3の被膜は900℃までほとんど変化が見られなった。一方、比較品1〜5の被膜は800℃以上になると被膜のX線回折ピーク強度が低下し、TiO2、Cr23、Al23などの酸化物のX線回折ピークが確認された。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と基材の表面に被覆された被膜とからなり、被膜の少なくとも1層はPVD法により被覆された(MAD)XR(但し、MはCr,Al,Ti,Hf,V,Zr,Ta,Mo,W,Y,Nbの中から選ばれた2種以上の金属元素を表し、LはMn,Cu,Ni,Co,B,Si,Sの中から選ばれた少なくとも1種の添加元素を表し、XはC,N,Oの中から選ばれた少なくとも1種の非金属元素を表し、AはMとLの合計に対するMの原子比を表し、DはMとLの合計に対するLの原子比を表し、RはMとLの合計に対するXの原子比を表し、0.90≦A≦0.99、0.01≦D≦0.10、A+D=1、0.95≦R≦1.10を満足する。)で表される硬質膜であり、硬質膜はX線回折における最高ピーク強度を(220)面に示す被覆部材。
【請求項2】
硬質膜は、組成の異なる平均膜厚1〜100nmの薄膜が積層された積層膜である請求項1に記載の被覆部材。
【請求項3】
被膜の平均膜厚は、0.1μm〜15μmである請求項1または2に記載の被覆部材。
【請求項4】
硬質膜は、アークイオンプレーティング法により被覆された請求項1〜3のいずれか1項に記載の被覆部材。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2012−36506(P2012−36506A)
【公開日】平成24年2月23日(2012.2.23)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−244077(P2011−244077)
【出願日】平成23年11月8日(2011.11.8)
【分割の表示】特願2007−83320(P2007−83320)の分割
【原出願日】平成19年3月28日(2007.3.28)
【出願人】(000221144)株式会社タンガロイ (185)
【Fターム(参考)】