調光シート、調光体、合わせガラス用中間膜及び合わせガラス
【課題】電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シートを提供する。
【解決手段】電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層を有する調光シートであって、前記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する調光シート。
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
【解決手段】電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層を有する調光シートであって、前記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する調光シート。
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
電圧を印加することにより光の透過率が変化する調光体は、広く用いられている。この調光体を合わせガラス用中間膜として用いた合わせガラスを、自動車用窓ガラスや建築用窓ガラスに用いることが提案されている。このような合わせガラス用中間膜を用いれば、合わせガラスの光線透過率を制御して、車内や室内の温度を調整することができると考えられる。
【０００３】
上記調光体は、液晶材料を用いた調光体と、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体とに大別される。エレクトロクロミック化合物を用いた調光体は、液晶材料を用いた調光体に比べて光散乱が少なく、偏光の影響を受けない等の優れた性質を有している。
【０００４】
エレクトロクロミック化合物を用いた調光体として、対向する一対の電極基板の間に、エレクトロクロミック層と電解質層とからなる調光シートが挟み込まれている調光体が提案されている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層、イオン伝導層、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層の３層が順次積層された積層体が、２枚の導電性基板間に挟み込まれている調光体が開示されている。また、特許文献３及び特許文献４には、対向する一対の電極基板の間に、有機エレクトロクロミック材料を含有するエレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−０６２０３０号公報
【特許文献２】特開２００５−０６２７７２号公報
【特許文献３】特表２００２−５２６８０１号公報
【特許文献４】特表２００４−５３１７７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来公知の調光シートを合わせガラス用中間膜として用いた場合、長期間野外で用いる等、長期に渡って紫外線照射を受けたときに合わせガラス用中間膜が変色してしまうという問題があった。これに対して、紫外線吸収剤を調光シートに用いることが試みられた。しかしながら、調光シートに紫外線吸収剤を用いると、紫外線照射による黄変や退色を充分には防止しきれないことを見出した。さらに、紫外線吸収剤が黄変を引き起こす原因であることも見出した。
【０００７】
本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層を有する調光シートであって、前記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する調光シートである。
【０００９】
【化１】
【００１０】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。なお、Ｒ１とＲ２とは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
以下に本発明を詳述する。
【００１１】
本発明者は、鋭意検討の結果、紫外線吸収剤を電解質層に配合した場合に、電解質層に含まれる支持電解質塩と紫外線吸収剤とが相互作用することが、黄変の原因であり、紫外線照射による変色や退色を充分には防止できないことの原因であることを見出した。即ち、電解質層がハロゲン原子を含む紫外線吸収剤を含有する場合には、電解質層中の支持電解質塩に由来するカチオンやアニオンと、紫外線吸収剤のハロゲン原子との化学的な反応や相互作用が生じるため、電解質層が黄変すると考えられる。
そして本発明者は、更に鋭意検討の結果、上記一般式（１）で表される、ハロゲン原子を含まないベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を選択して用いた場合には、黄変が発生しにくく、かつ、紫外線照射による黄変や退色を充分に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
本発明の調光シートは、電解質層と、該電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層とを有する。
上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加し、エレクトロクロミック層の光の透過率を変化させる役割を有する。
【００１３】
上記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する。上記電解質層が特定の紫外線吸収剤を含有することにより、本発明の調光シートは、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れる。
【００１４】
上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤は、例えば、２−（２ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−ＰＳ）、２−（３，５−Ｄｉ−ｔｅｒｔ−ａｍｙｌ−２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−３２８）、２−［２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３，５−ｂｉｓ（α，α−ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−２３４）、２−（２ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−Ｐ）、２−［２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｔｅｒｔ−ｏｃｔｙｌｐｈｅｎｙｌ］−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−３２９）、２−［２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３，５−ｂｉｓ（α，α−ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−９００）等が挙げられる。
【００１５】
上記電解質層中における上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は０．０５重量部、好ましい上限は１０重量部である。上記紫外線吸収剤の配合量が０．０５重量部以上であると、得られる調光シートの耐光性がより高くなり、長期の紫外線照射による黄変や退色をより一層防止することができる。上記紫外線吸収剤の配合量が１０重量部以下であると、得られる調光シートの透明性が高くなる。上記紫外線吸収剤の配合量のより好ましい下限は０．１重量部、更に好ましい下限は０．５重量部、より好ましい上限は５重量部、更に好ましい上限は２重量部である。
【００１６】
上記一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
上記アルキル基の炭素数の好ましい下限は１であり、好ましい上限は１０である。上記アルキル基は分岐構造を有するアルキル基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基であってもよい。上記アルキル基の炭素数のより好ましい下限は２、更に好ましい下限は３、特に好ましい下限は４、より好ましい上限は９、更に好ましい上限は８、特に好ましい上限は７である。上記アルキル基の炭素鎖は直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れることから、上記アルキル基の炭素鎖は分岐構造を有することが好ましい。
上記アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。
【００１７】
上記シクロアルキル基は未置換であってもよく、１以上の基で置換されていてもよい。上記シクロアルキル基の環構造を形成する炭素数のより好ましい下限は３であり、更に好ましい下限は５、特に好ましい下限は６であり、より好ましい上限は１２であり、更に好ましい上限は１０、特に好ましい上限は８である。
上記シクロアルキル基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等が挙げられる。
【００１８】
上記アリール基の炭素数の好ましい下限は６であり、好ましい上限は１４である。
上記アリール基は、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、α，α−ジメチルベンジルフェニル基等が挙げられる。
【００１９】
上記アラルキル基の炭素数の好ましい下限は７であり、好ましい上限は１１である。上記アラルキル基は、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基等が挙げられる。
【００２０】
即ち、上記一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数が１〜１０のアルキル基、環を形成する炭素数が３〜１２のシクロアルキル基、炭素数が６〜１４のアリール基、又は炭素数が７〜１１のアラルキル基であることが好ましく、Ｒ２は炭素数が１〜１０のアルキル基、環を形成する炭素数が３〜１２のシクロアルキル基、炭素数が６〜１４のアリール基、又は炭素数が７〜１１のアラルキル基を表すことが好ましい。
なお、Ｒ１とＲ２とは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００２１】
上記電解質層は、更に、下記一般式（２）で表される化合物又は下記一般式（３）で表される化合物を含有することが好ましい。上記電解質層に上記特定の構造を有する化合物を添加することにより、更に応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体が得られる。
【００２２】
【化２】
【００２３】
一般式（２）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ４はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ４又はＲ６の何れかはアシル基を有する。
【００２４】
【化３】
【００２５】
一般式（３）中、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ７は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ８は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ６及びＲ８は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００２６】
上記一般式（２）で表される化合物又は上記一般式（３）で表される化合物は、単独で用いてもよく、併用してもよい。なかでも、耐久性が向上し、かつ、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、上記一般式（２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【００２７】
上記一般式（２）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ３は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００２８】
上記一般式（２）中のＲ３を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００２９】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００３０】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００３１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００３２】
上記一般式（２）中のＲ３が炭素数１〜８の有機基である場合、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、上記炭素数１〜８の有機基は炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましい。
上記一般式（２）中のＲ３を表す炭素数１〜８の有機基における炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は７である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は６であり、更に好ましい下限は４、更に好ましい上限は５である。
【００３３】
上記炭素数１〜８の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００３４】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基であることが好ましい。
【００３５】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基であることが特に好ましい。
【００３６】
上記一般式（２）中、Ｒ４はエチレン基又はプロピレン基を表す。上記プロピレン基はｎ−プロピレン基であってもよく、イソプロピレン基であってもよい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、Ｒ４はエチレン基であることが好ましい。
【００３７】
上記一般式（２）中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ５は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００３８】
上記一般式（２）中のＲ５を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００３９】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００４０】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００４１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００４２】
上記一般式（２）において、少なくともＲ３又はＲ５の何れかはアシル基を有する。これにより、上記バインダー樹脂との高い相溶性が得られる。なかでも、Ｒ３は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ４はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ５は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表すことがより好ましい。
【００４３】
上記一般式（２）で表される化合物の具体例を下記式（２−１）〜（２−２８）に示す。
【００４４】
【化４−１】
【化４−２】
【化４−３】
【００４５】
上記一般式（３）中、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記一般式（３）中のＲ６を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００４６】
上記一般式（３）中、Ｒ７は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性が更に向上することから、Ｒ７は炭素数２〜８のアルキレン基であることが好ましい。
【００４７】
上記一般式（３）中のＲ７を表す炭素数２〜８のアルキレン基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３〜７であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００４８】
上記一般式（３）中のＲ７を表す炭素数６〜１２のアリーレン基の炭素数の好ましい上限は１０である。上記炭素数が１０以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい上限は８である。
【００４９】
上記一般式（３）中、Ｒ８は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記一般式（３）中のＲ８を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００５０】
上記一般式（３）で表される化合物の具体例を下記式（３−１）に示す。
【００５１】
【化５】
【００５２】
上記バインダー樹脂は特に限定されないが、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
上記熱可塑性樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、透明性が高い電解質層が得られることからポリビニルアセタール樹脂がより好ましく、ポリビニルブチラール樹脂であることが更に好ましい。
【００５３】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が１５ｍｏｌ％を超えると、電解質層が白化することがある。
上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が３０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が３０ｍｏｌ％を超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、電解質層の透明性が低下することがある。
なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はＪＩＳ Ｋ ６７２８に準拠して、滴定法により求めることができる。
【００５４】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数４又は５のアルデヒドであることが好ましい。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は５００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５００以上であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５０００以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、ＧＰＣ法（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール１セグメント当りの分子量で除して求められる。ＧＰＣ法によってポリスチレン換算による重量平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＬＦ−８０４（昭和電工社製）等が挙げられる。
【００５５】
上記電解質層が上記一般式（２）で表される化合物又は上記一般式（３）で表される化合物を含有する場合には、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを防止できることから、上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ａ」ともいう。）、アセタール化度が７０〜８５モル％であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｂ」ともいう。）、又は、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｃ」ともいう。）であることが好ましい。
【００５６】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａのアセチル基量の好ましい下限は６モル％、好ましい上限は３０モル％である。上記アセチル基量が６モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することをより一層防止することができる。上記アセチル基量が３０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は８モル％、より好ましい上限は２８モル％であり、更に好ましい下限は１０モル％、更に好ましい上限は２５モル％であり、特に好ましい下限は１２モル％、特に好ましい上限は２３モル％である。
【００５７】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限は７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００５８】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂのアセタール化度の好ましい下限は７１モル％、好ましい上限は８４モル％である。上記アセタール化度が７１モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８４モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は７２モル％、より好ましい上限は８３モル％であり、更に好ましい下限は７３モル％、更に好ましい上限は８２モル％であり、特に好ましい下限は７４モル％、特に好ましい上限は８１モル％である。
【００５９】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、アセチル基量の好ましい下限が０．１モル％、好ましい上限が２０モル％である。上記アセチル基量が０．１モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセチル基量が２０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は０．５モル％、より好ましい上限は１５モル％であり、更に好ましい下限は０．８モル％、更に好ましい上限は８モル％であり、特に好ましい下限は１モル％、特に好ましい上限は７モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００６０】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａ及びポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数１〜１０のアルデヒドであることが好ましく、炭素数４又は５のアルデヒドであることがより好ましい。
【００６１】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られる。上記炭素数が６以上のアルデヒドは特に限定されないが、例えば、ｎ−ヘキシルアルデヒド、ｎ−オクチルアルデヒド、ｎ−ノニルアルデヒド、又は、ｎ−デシルアルデヒド等が挙げられる。
【００６２】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限が７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
【００６３】
上記支持電解質塩は特に限定されず、リチウム塩、カリウム塩又はナトリウム塩等のアルカリ金属塩であることが好ましい。上記アルカリ金属塩は、無機酸とアルカリ金属の塩又は有機酸とアルカリ金属の塩であることが好ましい。例えば、上記無機酸とアルカリ金属の塩として、無機酸アニオンリチウム塩、無機酸アニオンカリウム塩、又は、無機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられ、上記有機酸とアルカリ金属の塩として、有機酸アニオンリチウム塩、有機酸アニオンカリウム塩、又は、有機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられる。
なかでも、上記支持電解質塩はリチウム塩であることが好ましく、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩、又は、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩であることがより好ましい。
【００６４】
上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。
上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。
上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。
【００６５】
上記電解質層中における上記支持電解質塩の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３重量部、好ましい上限は６０重量部である。上記支持電解質塩の配合量が３〜６０重量部であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は１０重量部、更に好ましい下限は２０重量部であり、より好ましい上限は５０重量部、更に好ましい上限は４０重量部である。
【００６６】
上記溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン等のエステル類や、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン類や、１，３−ジオキソラン、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン、ｔ−ブチルエーテル、イソブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン等のエーテル類や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、３−メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。
【００６７】
上記溶媒は、可塑剤であってもよい。可塑剤を上記溶媒として用いることにより、上記電解質層に柔軟性を付与することができる。
上記可塑剤は特に限定されず、例えば、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）等が挙げられる。
【００６８】
上記電解質層中における溶媒の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３０重量部、好ましい上限は１５０重量部である。上記溶媒の配合量が３０重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記溶媒の配合量が１５０重量部以下であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記溶媒の配合量のより好ましい下限は５０重量部、より好ましい上限は１００重量部である。
【００６９】
上記電解質層は熱線吸収剤を含有してもよい。
上記熱線吸収剤は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム微粒子、アンチモンドープ酸化錫微粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛微粒子、六ホウ化ランタン微粒子、アンチモン酸亜鉛微粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも１種が好適である。
【００７０】
上記電解質層は接着力調整剤を含有してもよい。
上記接着力調整剤は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等が挙げられる。なかでも、炭素数２〜１６のカルボン酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩が好適であり、具体的には例えば、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、プロピオン酸マグネシウム、プロピオン酸カリウム、２−エチルブタン酸マグネシウム、２−エチルブタン酸カリウム、２−エチルヘキサン酸マグネシウム、２−エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。電解質層にバインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂を含有する場合、電解質層は接着力調整剤を含有することが好ましい。
【００７１】
上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が２層以上積層された構造であることを意味する。
上記電解質層が多層構造である場合、例えば、上記溶媒として可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記バインダー樹脂として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすることにより、得られる調光体及び合わせガラスの遮音性等を向上させることができる。
【００７２】
上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．１ｍｍ、好ましい上限は３．０ｍｍである。上記電解質層の厚さが０．１ｍｍ以上であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加することにより光の透過率が容易に変化させることができ、３．０ｍｍ以下であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加した場合の光の透過率の変化速度を高くすることができる。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は０．３ｍｍ、より好ましい上限は１．０ｍｍである。
【００７３】
上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記バインダー樹脂と混合した後、該混合物を熱プレス等の方法により電解質層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形し電解質層を形成する方法等が挙げられる。
【００７４】
上記エレクトロクロミック層に含有されるエレクトロクロミック化合物は、エレクトロクロミック性を有する化合物であれば特に限定されず、無機化合物であってもよく、有機化合物であってもよく、混合原子価錯体であってもよく、ハロゲン化フタロシアニンでもよい。なお、エレクトロクロミック性を有するとは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有することを意味する。
【００７５】
上記エレクトロクロミック性を有する無機化合物は、例えば、Ｍｏ２Ｏ３、Ｉｒ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｖ２Ｏ５、ＷＯ３等が挙げられる。
上記エレクトロクロミック性を有する有機化合物は、例えば、ポリピロール化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリアセチレン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物、金属フタロシアニン化合物、ビオロゲン化合物、ビオロゲン塩化合物、フェロセン化合物、テレフタル酸ジメチル化合物、テレフタル化合物、ジエチル化合物等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレン化合物が好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物がより好ましい。
上記エレクトロクロミック性を有する混合原子価錯体は、例えばプルシアンブルー型錯体（ＫＦｅ［Ｆｅ（ＣＮ）６］）等が挙げられる。
【００７６】
上記ハロゲン化フタロシアニンは特に限定されないが、金属原子を含有することが好ましく、銅、コバルト、ニッケル、鉄、ベリリウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、白金、パラジウム、鉛、ビスマス、ケイ素等の金属原子や酸素や塩素等の軸配位子を持つバナジウムやチタン等の金属原子を含有することがより好ましく、銅を含有することが更に好ましい。上記ハロゲン化フタロシアニンが金属原子を含有することにより、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子が得られる。上記ハロゲン化フタロシアニンの中心金属として、上記金属原子を含有することが好ましく、上記銅を含有することがより好ましい。また、上記ハロゲン化フタロシアニンは、フッ素化フタロシアニン、塩素化フタロシアニン又は臭素化フタロシアニンであることが好ましく、銅を含有するフッ素化フタロシアニン、銅を含有する塩素化フタロシアニン又は銅を含有する臭素化フタロシアニンであることがより好ましい。
【００７７】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、エレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物を用いれば、優れた調光性能を有するエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、エレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。
【００７８】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物等が好適である。
上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｐ−ヨードフェニル、ｐ−ヘキシルフェニル、ｐ−オクチルフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｐ−アセトキシフェニル、ｐ−アセトフェニル、ビフェニル、ｏ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｐ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｏ−（ジフェニルメチルシリル）、ｐ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｏ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｐ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｏ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル等のフェニル基や、ビフェニル基や、１−ナフチル、２−ナフチル、１−（４−フルオロ）ナフチル、１−（４−クロロ）ナフチル、１−（４−ブロモ）ナフチル、１−（４−ヘキシル）ナフチル、１−（４−オクチル）ナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、１−アントラセン、１−（４−クロロ）アントラセン、１−（４−オクチル）アントラセン等のアントラセン基や、１−フェナントレン等のフェナントレン基や、１−フルオレン等のフルオレン基や、１−ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。
【００７９】
上記エレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００８０】
上記エレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は２μｍである。上記エレクトロクロミック層の厚さが０．０５μｍ以上であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加することにより光の透過率を容易に変化させることができ、２μｍ以下であると、調光シート又は合わせガラス用中間膜の透明性が高くなる。上記エレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は１μｍである。
【００８１】
本発明の調光シートは、上記エレクトロクロミック層上に部分的に熱可塑性樹脂を含有する接着層が形成されていてもよい。上記接着層を部分的に形成することにより、エレクトロクロミック性を損なうことなく、導電膜に対する密着性を向上させることができる。
上記部分的に形成された接着層の形状は特に限定されず、網目状、線状又は斑点状等が挙げられる。
【００８２】
上記接着層に含有される熱可塑性樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。
【００８３】
上記接着層は、更に、可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤を含有することにより、上記接着層が柔軟になり、上記エレクトロクロミック層の導電膜に対する密着性をより向上させることができる。
上記接着層は、更に、支持電解質塩を含有することが好ましい。支持電解質塩を含有することにより、上記接着剤層にイオン伝導性が付与され、上記接着剤層によって合わせガラスのエレクトロクロミック性が低下するのを防止することができる。
上記可塑剤、支持電解質塩は、上記電解質層に用いるのと同様の可塑剤、支持電解質塩を用いることができる。
【００８４】
上記エレクトロクロミック層の面積に対する上記接着層の面積の下限は１０％、上限は９０％である。上記接着層の面積が１０％以上であると、充分な密着性が得られ、９０％以下であると、エレクトロクロミック性が高くなり、電圧を印加することにより透過率を容易に変化させることができる。上記接着層の面積の好ましい下限は２０％、好ましい上限は８０％であり、より好ましい下限は３０％、より好ましい上限は７０％である。
なお、接着層の面積Ｘ（％）は次式で定義される。すなわち、接着層形成後のエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察した時の、１平方ミリメートル当たりの接着層の存在する面積をＡ（平方ミリメートル）、接着層の存在しない面積をＢ（平方ミリメートル）とした時にＸ＝Ａ／（Ａ＋Ｂ）で表される。
【００８５】
上記接着層の最大厚みの上限は５０μｍである。上記接着層の最大厚みが５０μｍ以下であると、エレクトロクロミック性が高くなり、電圧を印加することにより光の透過率を容易に変化させることができる。上記接着層の最大厚みの好ましい上限は２０μｍである。
なお、上記接着層の最大厚さとは、接着層形成後に接着層を３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＡＳ社製 ＬＥＸＴ ＯＬＳ４０００）により測定した時の接着層厚みの最大値のことをいう。
【００８６】
上記接着層を形成する方法は特に限定されず、例えば、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスクリーン印刷によりエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法や、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスプレー照射機によりエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法等が挙げられる。
【００８７】
本発明の調光シートを製造する方法は特に限定されず、例えば、上記エレクトロクロミック化合物を有機溶剤に溶解させた溶液を調製し、得られた溶液を上記電解質層の少なくとも一方の面に塗布し、有機溶剤を揮発させる方法が挙げられる。
【００８８】
上記バインダー樹脂、上記支持電解質塩、上記溶媒、及び、上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する電解質膜もまた、本発明の１つである。
本発明の電解質膜は、上記電解質層のみで形成されてもよく、上記電解質層に他の層を積層することにより形成されてもよい。
本発明の調光シートが、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている調光体もまた、本発明の１つである。
【００８９】
本発明の調光シートは、合わせガラス用中間膜として使用することができる。上記調光シートを用いる合わせガラス用中間膜もまた、本発明の１つである。
本発明の合わせガラス用中間膜は、本発明の調光シートの構成以外に、必要に応じて、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層や、熱線吸収剤を含有する赤外線吸収層等を有してもよい。
【００９０】
本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の１つである。
上記ガラス板は、一般に使用されている透明板ガラスを使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。
上記ガラス板として、２種類以上のガラス板を用いてもよい。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の調光シート又は合わせガラス用中間膜を挟持した調光体又は合わせガラスが挙げられる。また、上記ガラス板として、２種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。
【００９１】
上記導電膜は、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）等を含む透明導電膜が好ましい。
【００９２】
本発明の調光体又は合わせガラスの面密度は特に限定されないが、１２ｋｇ／ｍ２以下であることが好ましい。
本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラスとして用いることができる。
【発明の効果】
【００９３】
本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００９４】
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されない。
【００９５】
（実施例１）
（１）電解質層の調製
トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）２．３８ｇに、支持電解質塩としてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）０．６７ｇ、紫外線吸収剤として２−（２ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−ＰＳ）０．０５ｇを溶解して電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量と、アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が２３００のポリビニルブチラール樹脂５．００ｇとを混合して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）シートに挟み、厚さ４００μｍのスペーサを介して、熱プレスにて１５０℃、１００ｋｇ／ｃｍ２の条件で５分間加圧し、厚さ４００μｍの電解質層を得た。
【００９６】
（２）エレクトロクロミック層の調製
ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）（ＥＣＰ）０．０３９１５ｇを１．３０５ｇのトルエンに溶解して溶液を調製した。この溶液を、得られた電解質層上に、トルエンが揮発した後の厚さが０．３μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、乾燥してエレクトロクロミック層を形成して調光シートを得た。
【００９７】
（３）合わせガラスの作製
得られた調光シートを縦５ｃｍ×横５ｃｍのサイズに切断し、これを合わせガラス用中間膜とした。合わせガラス用中間膜を、縦５ｃｍ×横５ｃｍの一対のＩＴＯガラス（表面抵抗１２０Ω）で、合わせガラス用中間膜がそれぞれの透明導電膜と接するように挟み込んで積層した。得られた積層体を、９０℃の真空ラミネーターで圧着し、圧着後１４０℃、１４ＭＰａの条件でオートクレーブを用いて２０分間圧着を行い、合わせガラスを得た。
【００９８】
（実施例２）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるＴ−ＰＳの含有量を０．００５ｇとした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【００９９】
（実施例３）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤として、２−（３，５−Ｄｉ−ｔｅｒｔ−ａｍｙｌ−２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−３２８）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１００】
（実施例４）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤として、２−［２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３，５−ｂｉｓ（α，α−ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−２３４）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０１】
（実施例５）
支持電解質塩をビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウム（ＫＴＦＳＩ）とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０２】
（実施例６）
支持電解質塩を過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ４）とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０３】
（実施例７）
エレクトロクロミック層を、プルシアンブルー型錯体（ＰＢ）を用いて形成した以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０４】
（実施例８）
トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）に代わって、トリエチレングリコールジブチラート（３ＧＢ）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０５】
（実施例９）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるＴ−ＰＳの含有量を０．００５ｇとした以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０６】
（実施例１０）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるＴ−ＰＳの含有量を０．２０ｇとした以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０７】
（実施例１１）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるＴ−ＰＳの含有量を０．５０ｇとした以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０８】
（実施例１２）
アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が２３００のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量２５ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が３０００のポリビニルブチラール樹脂を用いた以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０９】
（実施例１３）
アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が２３００のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量６ｍｏｌ％、水酸基量１８ｍｏｌ％、平均重合度２３００ポリビニルブチラール樹脂を用いた以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１０】
（実施例１４）
アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が２３００のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量１８ｍｏｌ％、水酸基量１１ｍｏｌ％、平均重合度２３００のポリビニルヘキシラール樹脂を用いた以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１１】
（比較例１）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤（Ｔ−ＰＳ）を用いなかった以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１２】
（比較例２）
紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含みベンゾトリアゾール骨格を有する２−（２’−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３’−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−５’−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−５−ｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−３２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１３】
（比較例３）
紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含みベンゾトリアゾール骨格を有するＯｃｔｙｌ−３−［３−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−４−ｈｙｄｒｏｘｙ−５−（５−ｃｈｌｏｒｏ−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌ−２−ｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−１０９）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１４】
（比較例４）
紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含まないがヒドロキシフェニルトリアジン骨格である２−［４−［（２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３−ｄｏｄｅｃｙｌｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）ｏｘｙ］−２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌ］−４，６−ｂｉｓ（２，４−ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−１，３，５−ｔｒｉａｚｉｎｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−４００）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１５】
（比較例５）
紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含まないが、トリアジン骨格である２−［４，６−Ｂｉｓ（２，４−ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−１，３，５−ｔｒｉａｚｉｎ−２−ｙｌ］−５−（ｏｃｔｙｌｏｘｙ）ｐｈｅｎｏｌ（ＣＹＴＥＣ社製、ＵＶ−１１６４）を用い、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を０．０５重量部とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１６】
（比較例６）
紫外線吸収剤としてベンゾフェノン骨格を有する２，４−Ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｕｖｉｎｕｌ ３０００）を用い、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を０．０５重量部とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１７】
（比較例７）
紫外線吸収剤としてベンゾフェノン骨格を有する２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−４−ｏｃｔｏｘｙｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｕｖｉｎｕｌ ３００８）を用い、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を０．０５重量部とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１８】
（評価）
実施例及び比較例で得られた合わせガラスについて、以下の方法で評価を行った。
結果を表１〜３に示した。
【０１１９】
（１）エレクトロクロミック性の評価
得られた合わせガラスの電極に＋２Ｖの直流電圧を印加した後、−２Ｖの直流電圧を印加し、透過率の変化を目視にて観察した。透過率の変化が認められた場合を「○」、変化が認められなかった場合を「×］と評価した。
【０１２０】
（２）黄色度の測定
カラーアナライザー（東京電色社製、「ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ」)を用いてＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により、合わせガラスの黄色度（イエローインデックス＝ＹＩ）を測定した。
【０１２１】
（３）ヘーズ値の測定
ヘーズメーター（東京電色社製「ＴＣ−Ｈ３ＰＰ型」）を用いてＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により、合わせガラスのヘーズ値（Ｈｚ値）を測定した。
【０１２２】
（４）耐光性評価
紫外線照射装置（スガ試験機社製「ＨＬＧ−２Ｓ」）を用いて、ＪＩＳ Ｒ ３２０５に準ずる方法により、合わせガラスに紫外線（石英ガラス水銀灯、７５０Ｗ）を３０００時間照射した。紫外線３０００時間照射後の合わせガラスの黄色度を、カラーアナライザー（東京電色社製、「ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ」)を用いてＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により測定し、紫外線照射後の合わせガラスの黄色度の変化度（ΔＹＩ）を下記式で算出した。
ΔＹＩ＝（紫外線照射後の黄色度）−（紫外線照射前の黄色度）
【０１２３】
また、紫外線３０００時間照射後の合わせガラスのヘーズ値をヘーズメーター（東京電色社製、「ＴＣ−Ｈ３ＰＰ型」）を用いてＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により測定し、紫外線照射後の合わせガラスのヘーズ値の変化度（ΔＨｚ）を下記式で算出した。
ΔＨｚ＝（紫外線照射後のヘーズ値）−（紫外線照射前のヘーズ値）
【０１２４】
【表１】
【０１２５】
【表２】
【０１２６】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
電圧を印加することにより光の透過率が変化する調光体は、広く用いられている。この調光体を合わせガラス用中間膜として用いた合わせガラスを、自動車用窓ガラスや建築用窓ガラスに用いることが提案されている。このような合わせガラス用中間膜を用いれば、合わせガラスの光線透過率を制御して、車内や室内の温度を調整することができると考えられる。
【０００３】
上記調光体は、液晶材料を用いた調光体と、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体とに大別される。エレクトロクロミック化合物を用いた調光体は、液晶材料を用いた調光体に比べて光散乱が少なく、偏光の影響を受けない等の優れた性質を有している。
【０００４】
エレクトロクロミック化合物を用いた調光体として、対向する一対の電極基板の間に、エレクトロクロミック層と電解質層とからなる調光シートが挟み込まれている調光体が提案されている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層、イオン伝導層、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層の３層が順次積層された積層体が、２枚の導電性基板間に挟み込まれている調光体が開示されている。また、特許文献３及び特許文献４には、対向する一対の電極基板の間に、有機エレクトロクロミック材料を含有するエレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−０６２０３０号公報
【特許文献２】特開２００５−０６２７７２号公報
【特許文献３】特表２００２−５２６８０１号公報
【特許文献４】特表２００４−５３１７７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来公知の調光シートを合わせガラス用中間膜として用いた場合、長期間野外で用いる等、長期に渡って紫外線照射を受けたときに合わせガラス用中間膜が変色してしまうという問題があった。これに対して、紫外線吸収剤を調光シートに用いることが試みられた。しかしながら、調光シートに紫外線吸収剤を用いると、紫外線照射による黄変や退色を充分には防止しきれないことを見出した。さらに、紫外線吸収剤が黄変を引き起こす原因であることも見出した。
【０００７】
本発明は、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層を有する調光シートであって、前記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する調光シートである。
【０００９】
【化１】
【００１０】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。なお、Ｒ１とＲ２とは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
以下に本発明を詳述する。
【００１１】
本発明者は、鋭意検討の結果、紫外線吸収剤を電解質層に配合した場合に、電解質層に含まれる支持電解質塩と紫外線吸収剤とが相互作用することが、黄変の原因であり、紫外線照射による変色や退色を充分には防止できないことの原因であることを見出した。即ち、電解質層がハロゲン原子を含む紫外線吸収剤を含有する場合には、電解質層中の支持電解質塩に由来するカチオンやアニオンと、紫外線吸収剤のハロゲン原子との化学的な反応や相互作用が生じるため、電解質層が黄変すると考えられる。
そして本発明者は、更に鋭意検討の結果、上記一般式（１）で表される、ハロゲン原子を含まないベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を選択して用いた場合には、黄変が発生しにくく、かつ、紫外線照射による黄変や退色を充分に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
本発明の調光シートは、電解質層と、該電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層とを有する。
上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加し、エレクトロクロミック層の光の透過率を変化させる役割を有する。
【００１３】
上記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する。上記電解質層が特定の紫外線吸収剤を含有することにより、本発明の調光シートは、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れる。
【００１４】
上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤は、例えば、２−（２ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−ＰＳ）、２−（３，５−Ｄｉ−ｔｅｒｔ−ａｍｙｌ−２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−３２８）、２−［２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３，５−ｂｉｓ（α，α−ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−２３４）、２−（２ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−Ｐ）、２−［２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｔｅｒｔ−ｏｃｔｙｌｐｈｅｎｙｌ］−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−３２９）、２−［２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３，５−ｂｉｓ（α，α−ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−９００）等が挙げられる。
【００１５】
上記電解質層中における上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は０．０５重量部、好ましい上限は１０重量部である。上記紫外線吸収剤の配合量が０．０５重量部以上であると、得られる調光シートの耐光性がより高くなり、長期の紫外線照射による黄変や退色をより一層防止することができる。上記紫外線吸収剤の配合量が１０重量部以下であると、得られる調光シートの透明性が高くなる。上記紫外線吸収剤の配合量のより好ましい下限は０．１重量部、更に好ましい下限は０．５重量部、より好ましい上限は５重量部、更に好ましい上限は２重量部である。
【００１６】
上記一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
上記アルキル基の炭素数の好ましい下限は１であり、好ましい上限は１０である。上記アルキル基は分岐構造を有するアルキル基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基であってもよい。上記アルキル基の炭素数のより好ましい下限は２、更に好ましい下限は３、特に好ましい下限は４、より好ましい上限は９、更に好ましい上限は８、特に好ましい上限は７である。上記アルキル基の炭素鎖は直鎖構造であってもよく、分岐構造であってもよい。長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れることから、上記アルキル基の炭素鎖は分岐構造を有することが好ましい。
上記アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｉ−ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。
【００１７】
上記シクロアルキル基は未置換であってもよく、１以上の基で置換されていてもよい。上記シクロアルキル基の環構造を形成する炭素数のより好ましい下限は３であり、更に好ましい下限は５、特に好ましい下限は６であり、より好ましい上限は１２であり、更に好ましい上限は１０、特に好ましい上限は８である。
上記シクロアルキル基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等が挙げられる。
【００１８】
上記アリール基の炭素数の好ましい下限は６であり、好ましい上限は１４である。
上記アリール基は、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、α，α−ジメチルベンジルフェニル基等が挙げられる。
【００１９】
上記アラルキル基の炭素数の好ましい下限は７であり、好ましい上限は１１である。上記アラルキル基は、ベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基等が挙げられる。
【００２０】
即ち、上記一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数が１〜１０のアルキル基、環を形成する炭素数が３〜１２のシクロアルキル基、炭素数が６〜１４のアリール基、又は炭素数が７〜１１のアラルキル基であることが好ましく、Ｒ２は炭素数が１〜１０のアルキル基、環を形成する炭素数が３〜１２のシクロアルキル基、炭素数が６〜１４のアリール基、又は炭素数が７〜１１のアラルキル基を表すことが好ましい。
なお、Ｒ１とＲ２とは、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００２１】
上記電解質層は、更に、下記一般式（２）で表される化合物又は下記一般式（３）で表される化合物を含有することが好ましい。上記電解質層に上記特定の構造を有する化合物を添加することにより、更に応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体が得られる。
【００２２】
【化２】
【００２３】
一般式（２）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ４はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ４又はＲ６の何れかはアシル基を有する。
【００２４】
【化３】
【００２５】
一般式（３）中、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ７は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ８は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ６及びＲ８は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００２６】
上記一般式（２）で表される化合物又は上記一般式（３）で表される化合物は、単独で用いてもよく、併用してもよい。なかでも、耐久性が向上し、かつ、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、上記一般式（２）で表される化合物を含有することが好ましい。
【００２７】
上記一般式（２）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ３は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００２８】
上記一般式（２）中のＲ３を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００２９】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００３０】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００３１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００３２】
上記一般式（２）中のＲ３が炭素数１〜８の有機基である場合、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、上記炭素数１〜８の有機基は炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましい。
上記一般式（２）中のＲ３を表す炭素数１〜８の有機基における炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は７である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は６であり、更に好ましい下限は４、更に好ましい上限は５である。
【００３３】
上記炭素数１〜８の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００３４】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基であることが好ましい。
【００３５】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基であることが特に好ましい。
【００３６】
上記一般式（２）中、Ｒ４はエチレン基又はプロピレン基を表す。上記プロピレン基はｎ−プロピレン基であってもよく、イソプロピレン基であってもよい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、Ｒ４はエチレン基であることが好ましい。
【００３７】
上記一般式（２）中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ５は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００３８】
上記一般式（２）中のＲ５を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００３９】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００４０】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００４１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００４２】
上記一般式（２）において、少なくともＲ３又はＲ５の何れかはアシル基を有する。これにより、上記バインダー樹脂との高い相溶性が得られる。なかでも、Ｒ３は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ４はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ５は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表すことがより好ましい。
【００４３】
上記一般式（２）で表される化合物の具体例を下記式（２−１）〜（２−２８）に示す。
【００４４】
【化４−１】
【化４−２】
【化４−３】
【００４５】
上記一般式（３）中、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記一般式（３）中のＲ６を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００４６】
上記一般式（３）中、Ｒ７は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性が更に向上することから、Ｒ７は炭素数２〜８のアルキレン基であることが好ましい。
【００４７】
上記一般式（３）中のＲ７を表す炭素数２〜８のアルキレン基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３〜７であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００４８】
上記一般式（３）中のＲ７を表す炭素数６〜１２のアリーレン基の炭素数の好ましい上限は１０である。上記炭素数が１０以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい上限は８である。
【００４９】
上記一般式（３）中、Ｒ８は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記一般式（３）中のＲ８を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００５０】
上記一般式（３）で表される化合物の具体例を下記式（３−１）に示す。
【００５１】
【化５】
【００５２】
上記バインダー樹脂は特に限定されないが、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
上記熱可塑性樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、透明性が高い電解質層が得られることからポリビニルアセタール樹脂がより好ましく、ポリビニルブチラール樹脂であることが更に好ましい。
【００５３】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が１５ｍｏｌ％を超えると、電解質層が白化することがある。
上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が３０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が３０ｍｏｌ％を超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、電解質層の透明性が低下することがある。
なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はＪＩＳ Ｋ ６７２８に準拠して、滴定法により求めることができる。
【００５４】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数４又は５のアルデヒドであることが好ましい。
上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は５００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５００以上であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５０００以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、ＧＰＣ法（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール１セグメント当りの分子量で除して求められる。ＧＰＣ法によってポリスチレン換算による重量平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＬＦ−８０４（昭和電工社製）等が挙げられる。
【００５５】
上記電解質層が上記一般式（２）で表される化合物又は上記一般式（３）で表される化合物を含有する場合には、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを防止できることから、上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ａ」ともいう。）、アセタール化度が７０〜８５モル％であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｂ」ともいう。）、又は、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｃ」ともいう。）であることが好ましい。
【００５６】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａのアセチル基量の好ましい下限は６モル％、好ましい上限は３０モル％である。上記アセチル基量が６モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することをより一層防止することができる。上記アセチル基量が３０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は８モル％、より好ましい上限は２８モル％であり、更に好ましい下限は１０モル％、更に好ましい上限は２５モル％であり、特に好ましい下限は１２モル％、特に好ましい上限は２３モル％である。
【００５７】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限は７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００５８】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂのアセタール化度の好ましい下限は７１モル％、好ましい上限は８４モル％である。上記アセタール化度が７１モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８４モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は７２モル％、より好ましい上限は８３モル％であり、更に好ましい下限は７３モル％、更に好ましい上限は８２モル％であり、特に好ましい下限は７４モル％、特に好ましい上限は８１モル％である。
【００５９】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、アセチル基量の好ましい下限が０．１モル％、好ましい上限が２０モル％である。上記アセチル基量が０．１モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセチル基量が２０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は０．５モル％、より好ましい上限は１５モル％であり、更に好ましい下限は０．８モル％、更に好ましい上限は８モル％であり、特に好ましい下限は１モル％、特に好ましい上限は７モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００６０】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａ及びポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数１〜１０のアルデヒドであることが好ましく、炭素数４又は５のアルデヒドであることがより好ましい。
【００６１】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られる。上記炭素数が６以上のアルデヒドは特に限定されないが、例えば、ｎ−ヘキシルアルデヒド、ｎ−オクチルアルデヒド、ｎ−ノニルアルデヒド、又は、ｎ−デシルアルデヒド等が挙げられる。
【００６２】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記一般式（２）で表される化合物及び上記一般式（３）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限が７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
【００６３】
上記支持電解質塩は特に限定されず、リチウム塩、カリウム塩又はナトリウム塩等のアルカリ金属塩であることが好ましい。上記アルカリ金属塩は、無機酸とアルカリ金属の塩又は有機酸とアルカリ金属の塩であることが好ましい。例えば、上記無機酸とアルカリ金属の塩として、無機酸アニオンリチウム塩、無機酸アニオンカリウム塩、又は、無機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられ、上記有機酸とアルカリ金属の塩として、有機酸アニオンリチウム塩、有機酸アニオンカリウム塩、又は、有機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられる。
なかでも、上記支持電解質塩はリチウム塩であることが好ましく、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩、又は、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩であることがより好ましい。
【００６４】
上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。
上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。
上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。
【００６５】
上記電解質層中における上記支持電解質塩の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３重量部、好ましい上限は６０重量部である。上記支持電解質塩の配合量が３〜６０重量部であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は１０重量部、更に好ましい下限は２０重量部であり、より好ましい上限は５０重量部、更に好ましい上限は４０重量部である。
【００６６】
上記溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン等のエステル類や、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン類や、１，３−ジオキソラン、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン、ｔ−ブチルエーテル、イソブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン等のエーテル類や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、３−メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。
【００６７】
上記溶媒は、可塑剤であってもよい。可塑剤を上記溶媒として用いることにより、上記電解質層に柔軟性を付与することができる。
上記可塑剤は特に限定されず、例えば、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）等が挙げられる。
【００６８】
上記電解質層中における溶媒の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３０重量部、好ましい上限は１５０重量部である。上記溶媒の配合量が３０重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記溶媒の配合量が１５０重量部以下であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記溶媒の配合量のより好ましい下限は５０重量部、より好ましい上限は１００重量部である。
【００６９】
上記電解質層は熱線吸収剤を含有してもよい。
上記熱線吸収剤は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム微粒子、アンチモンドープ酸化錫微粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛微粒子、六ホウ化ランタン微粒子、アンチモン酸亜鉛微粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも１種が好適である。
【００７０】
上記電解質層は接着力調整剤を含有してもよい。
上記接着力調整剤は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等が挙げられる。なかでも、炭素数２〜１６のカルボン酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩が好適であり、具体的には例えば、酢酸マグネシウム、酢酸カリウム、プロピオン酸マグネシウム、プロピオン酸カリウム、２−エチルブタン酸マグネシウム、２−エチルブタン酸カリウム、２−エチルヘキサン酸マグネシウム、２−エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。電解質層にバインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂を含有する場合、電解質層は接着力調整剤を含有することが好ましい。
【００７１】
上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が２層以上積層された構造であることを意味する。
上記電解質層が多層構造である場合、例えば、上記溶媒として可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記バインダー樹脂として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすることにより、得られる調光体及び合わせガラスの遮音性等を向上させることができる。
【００７２】
上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．１ｍｍ、好ましい上限は３．０ｍｍである。上記電解質層の厚さが０．１ｍｍ以上であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加することにより光の透過率が容易に変化させることができ、３．０ｍｍ以下であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加した場合の光の透過率の変化速度を高くすることができる。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は０．３ｍｍ、より好ましい上限は１．０ｍｍである。
【００７３】
上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記バインダー樹脂と混合した後、該混合物を熱プレス等の方法により電解質層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形し電解質層を形成する方法等が挙げられる。
【００７４】
上記エレクトロクロミック層に含有されるエレクトロクロミック化合物は、エレクトロクロミック性を有する化合物であれば特に限定されず、無機化合物であってもよく、有機化合物であってもよく、混合原子価錯体であってもよく、ハロゲン化フタロシアニンでもよい。なお、エレクトロクロミック性を有するとは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有することを意味する。
【００７５】
上記エレクトロクロミック性を有する無機化合物は、例えば、Ｍｏ２Ｏ３、Ｉｒ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｖ２Ｏ５、ＷＯ３等が挙げられる。
上記エレクトロクロミック性を有する有機化合物は、例えば、ポリピロール化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリアセチレン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物、金属フタロシアニン化合物、ビオロゲン化合物、ビオロゲン塩化合物、フェロセン化合物、テレフタル酸ジメチル化合物、テレフタル化合物、ジエチル化合物等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレン化合物が好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物がより好ましい。
上記エレクトロクロミック性を有する混合原子価錯体は、例えばプルシアンブルー型錯体（ＫＦｅ［Ｆｅ（ＣＮ）６］）等が挙げられる。
【００７６】
上記ハロゲン化フタロシアニンは特に限定されないが、金属原子を含有することが好ましく、銅、コバルト、ニッケル、鉄、ベリリウム、マグネシウム、マンガン、亜鉛、白金、パラジウム、鉛、ビスマス、ケイ素等の金属原子や酸素や塩素等の軸配位子を持つバナジウムやチタン等の金属原子を含有することがより好ましく、銅を含有することが更に好ましい。上記ハロゲン化フタロシアニンが金属原子を含有することにより、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短く、耐光性に優れるエレクトロクロミック調光素子が得られる。上記ハロゲン化フタロシアニンの中心金属として、上記金属原子を含有することが好ましく、上記銅を含有することがより好ましい。また、上記ハロゲン化フタロシアニンは、フッ素化フタロシアニン、塩素化フタロシアニン又は臭素化フタロシアニンであることが好ましく、銅を含有するフッ素化フタロシアニン、銅を含有する塩素化フタロシアニン又は銅を含有する臭素化フタロシアニンであることがより好ましい。
【００７７】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、エレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物を用いれば、優れた調光性能を有するエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、エレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。
【００７８】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物等が好適である。
上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｐ−ヨードフェニル、ｐ−ヘキシルフェニル、ｐ−オクチルフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｐ−アセトキシフェニル、ｐ−アセトフェニル、ビフェニル、ｏ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｐ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｏ−（ジフェニルメチルシリル）、ｐ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｏ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｐ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｏ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル等のフェニル基や、ビフェニル基や、１−ナフチル、２−ナフチル、１−（４−フルオロ）ナフチル、１−（４−クロロ）ナフチル、１−（４−ブロモ）ナフチル、１−（４−ヘキシル）ナフチル、１−（４−オクチル）ナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、１−アントラセン、１−（４−クロロ）アントラセン、１−（４−オクチル）アントラセン等のアントラセン基や、１−フェナントレン等のフェナントレン基や、１−フルオレン等のフルオレン基や、１−ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。
【００７９】
上記エレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００８０】
上記エレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は２μｍである。上記エレクトロクロミック層の厚さが０．０５μｍ以上であると、上記エレクトロクロミック層に電圧を印加することにより光の透過率を容易に変化させることができ、２μｍ以下であると、調光シート又は合わせガラス用中間膜の透明性が高くなる。上記エレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は１μｍである。
【００８１】
本発明の調光シートは、上記エレクトロクロミック層上に部分的に熱可塑性樹脂を含有する接着層が形成されていてもよい。上記接着層を部分的に形成することにより、エレクトロクロミック性を損なうことなく、導電膜に対する密着性を向上させることができる。
上記部分的に形成された接着層の形状は特に限定されず、網目状、線状又は斑点状等が挙げられる。
【００８２】
上記接着層に含有される熱可塑性樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。
【００８３】
上記接着層は、更に、可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤を含有することにより、上記接着層が柔軟になり、上記エレクトロクロミック層の導電膜に対する密着性をより向上させることができる。
上記接着層は、更に、支持電解質塩を含有することが好ましい。支持電解質塩を含有することにより、上記接着剤層にイオン伝導性が付与され、上記接着剤層によって合わせガラスのエレクトロクロミック性が低下するのを防止することができる。
上記可塑剤、支持電解質塩は、上記電解質層に用いるのと同様の可塑剤、支持電解質塩を用いることができる。
【００８４】
上記エレクトロクロミック層の面積に対する上記接着層の面積の下限は１０％、上限は９０％である。上記接着層の面積が１０％以上であると、充分な密着性が得られ、９０％以下であると、エレクトロクロミック性が高くなり、電圧を印加することにより透過率を容易に変化させることができる。上記接着層の面積の好ましい下限は２０％、好ましい上限は８０％であり、より好ましい下限は３０％、より好ましい上限は７０％である。
なお、接着層の面積Ｘ（％）は次式で定義される。すなわち、接着層形成後のエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察した時の、１平方ミリメートル当たりの接着層の存在する面積をＡ（平方ミリメートル）、接着層の存在しない面積をＢ（平方ミリメートル）とした時にＸ＝Ａ／（Ａ＋Ｂ）で表される。
【００８５】
上記接着層の最大厚みの上限は５０μｍである。上記接着層の最大厚みが５０μｍ以下であると、エレクトロクロミック性が高くなり、電圧を印加することにより光の透過率を容易に変化させることができる。上記接着層の最大厚みの好ましい上限は２０μｍである。
なお、上記接着層の最大厚さとは、接着層形成後に接着層を３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＡＳ社製 ＬＥＸＴ ＯＬＳ４０００）により測定した時の接着層厚みの最大値のことをいう。
【００８６】
上記接着層を形成する方法は特に限定されず、例えば、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスクリーン印刷によりエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法や、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスプレー照射機によりエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法等が挙げられる。
【００８７】
本発明の調光シートを製造する方法は特に限定されず、例えば、上記エレクトロクロミック化合物を有機溶剤に溶解させた溶液を調製し、得られた溶液を上記電解質層の少なくとも一方の面に塗布し、有機溶剤を揮発させる方法が挙げられる。
【００８８】
上記バインダー樹脂、上記支持電解質塩、上記溶媒、及び、上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する電解質膜もまた、本発明の１つである。
本発明の電解質膜は、上記電解質層のみで形成されてもよく、上記電解質層に他の層を積層することにより形成されてもよい。
本発明の調光シートが、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている調光体もまた、本発明の１つである。
【００８９】
本発明の調光シートは、合わせガラス用中間膜として使用することができる。上記調光シートを用いる合わせガラス用中間膜もまた、本発明の１つである。
本発明の合わせガラス用中間膜は、本発明の調光シートの構成以外に、必要に応じて、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層や、熱線吸収剤を含有する赤外線吸収層等を有してもよい。
【００９０】
本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の１つである。
上記ガラス板は、一般に使用されている透明板ガラスを使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。
上記ガラス板として、２種類以上のガラス板を用いてもよい。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の調光シート又は合わせガラス用中間膜を挟持した調光体又は合わせガラスが挙げられる。また、上記ガラス板として、２種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。
【００９１】
上記導電膜は、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）等を含む透明導電膜が好ましい。
【００９２】
本発明の調光体又は合わせガラスの面密度は特に限定されないが、１２ｋｇ／ｍ２以下であることが好ましい。
本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラスとして用いることができる。
【発明の効果】
【００９３】
本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００９４】
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されない。
【００９５】
（実施例１）
（１）電解質層の調製
トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）２．３８ｇに、支持電解質塩としてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）０．６７ｇ、紫外線吸収剤として２−（２ｈｙｄｒｏｘｙ−５−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−ＰＳ）０．０５ｇを溶解して電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量と、アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が２３００のポリビニルブチラール樹脂５．００ｇとを混合して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）シートに挟み、厚さ４００μｍのスペーサを介して、熱プレスにて１５０℃、１００ｋｇ／ｃｍ２の条件で５分間加圧し、厚さ４００μｍの電解質層を得た。
【００９６】
（２）エレクトロクロミック層の調製
ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）（ＥＣＰ）０．０３９１５ｇを１．３０５ｇのトルエンに溶解して溶液を調製した。この溶液を、得られた電解質層上に、トルエンが揮発した後の厚さが０．３μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、乾燥してエレクトロクロミック層を形成して調光シートを得た。
【００９７】
（３）合わせガラスの作製
得られた調光シートを縦５ｃｍ×横５ｃｍのサイズに切断し、これを合わせガラス用中間膜とした。合わせガラス用中間膜を、縦５ｃｍ×横５ｃｍの一対のＩＴＯガラス（表面抵抗１２０Ω）で、合わせガラス用中間膜がそれぞれの透明導電膜と接するように挟み込んで積層した。得られた積層体を、９０℃の真空ラミネーターで圧着し、圧着後１４０℃、１４ＭＰａの条件でオートクレーブを用いて２０分間圧着を行い、合わせガラスを得た。
【００９８】
（実施例２）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるＴ−ＰＳの含有量を０．００５ｇとした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【００９９】
（実施例３）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤として、２−（３，５−Ｄｉ−ｔｅｒｔ−ａｍｙｌ−２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−３２８）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１００】
（実施例４）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤として、２−［２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３，５−ｂｉｓ（α，α−ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−２３４）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０１】
（実施例５）
支持電解質塩をビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウム（ＫＴＦＳＩ）とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０２】
（実施例６）
支持電解質塩を過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ４）とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０３】
（実施例７）
エレクトロクロミック層を、プルシアンブルー型錯体（ＰＢ）を用いて形成した以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０４】
（実施例８）
トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）に代わって、トリエチレングリコールジブチラート（３ＧＢ）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０５】
（実施例９）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるＴ−ＰＳの含有量を０．００５ｇとした以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０６】
（実施例１０）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるＴ−ＰＳの含有量を０．２０ｇとした以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０７】
（実施例１１）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤であるＴ−ＰＳの含有量を０．５０ｇとした以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０８】
（実施例１２）
アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が２３００のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量２５ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が３０００のポリビニルブチラール樹脂を用いた以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１０９】
（実施例１３）
アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が２３００のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量６ｍｏｌ％、水酸基量１８ｍｏｌ％、平均重合度２３００ポリビニルブチラール樹脂を用いた以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１０】
（実施例１４）
アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％、平均重合度が２３００のポリビニルブチラール樹脂に代わって、アセチル基量１８ｍｏｌ％、水酸基量１１ｍｏｌ％、平均重合度２３００のポリビニルヘキシラール樹脂を用いた以外は、実施例８と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１１】
（比較例１）
ハロゲン原子を含まない紫外線吸収剤（Ｔ−ＰＳ）を用いなかった以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１２】
（比較例２）
紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含みベンゾトリアゾール骨格を有する２−（２’−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３’−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−５’−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−５−ｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−３２６）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１３】
（比較例３）
紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含みベンゾトリアゾール骨格を有するＯｃｔｙｌ−３−［３−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−４−ｈｙｄｒｏｘｙ−５−（５−ｃｈｌｏｒｏ−２Ｈ−ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌ−２−ｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ］ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−１０９）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１４】
（比較例４）
紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含まないがヒドロキシフェニルトリアジン骨格である２−［４−［（２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−３−ｄｏｄｅｃｙｌｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）ｏｘｙ］−２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌ］−４，６−ｂｉｓ（２，４−ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−１，３，５−ｔｒｉａｚｉｎｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｔ−４００）を用いた以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１５】
（比較例５）
紫外線吸収剤としてハロゲン原子を含まないが、トリアジン骨格である２−［４，６−Ｂｉｓ（２，４−ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−１，３，５−ｔｒｉａｚｉｎ−２−ｙｌ］−５−（ｏｃｔｙｌｏｘｙ）ｐｈｅｎｏｌ（ＣＹＴＥＣ社製、ＵＶ−１１６４）を用い、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を０．０５重量部とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１６】
（比較例６）
紫外線吸収剤としてベンゾフェノン骨格を有する２，４−Ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｕｖｉｎｕｌ ３０００）を用い、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を０．０５重量部とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１７】
（比較例７）
紫外線吸収剤としてベンゾフェノン骨格を有する２−Ｈｙｄｒｏｘｙ−４−ｏｃｔｏｘｙｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ（ＢＡＳＦ社製、Ｕｖｉｎｕｌ ３００８）を用い、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対する、紫外線吸収剤の配合量を０．０５重量部とした以外は、実施例１と同様にして調光シートを得、これを用いて合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを製造した。
【０１１８】
（評価）
実施例及び比較例で得られた合わせガラスについて、以下の方法で評価を行った。
結果を表１〜３に示した。
【０１１９】
（１）エレクトロクロミック性の評価
得られた合わせガラスの電極に＋２Ｖの直流電圧を印加した後、−２Ｖの直流電圧を印加し、透過率の変化を目視にて観察した。透過率の変化が認められた場合を「○」、変化が認められなかった場合を「×］と評価した。
【０１２０】
（２）黄色度の測定
カラーアナライザー（東京電色社製、「ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ」)を用いてＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により、合わせガラスの黄色度（イエローインデックス＝ＹＩ）を測定した。
【０１２１】
（３）ヘーズ値の測定
ヘーズメーター（東京電色社製「ＴＣ−Ｈ３ＰＰ型」）を用いてＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により、合わせガラスのヘーズ値（Ｈｚ値）を測定した。
【０１２２】
（４）耐光性評価
紫外線照射装置（スガ試験機社製「ＨＬＧ−２Ｓ」）を用いて、ＪＩＳ Ｒ ３２０５に準ずる方法により、合わせガラスに紫外線（石英ガラス水銀灯、７５０Ｗ）を３０００時間照射した。紫外線３０００時間照射後の合わせガラスの黄色度を、カラーアナライザー（東京電色社製、「ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ」)を用いてＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により測定し、紫外線照射後の合わせガラスの黄色度の変化度（ΔＹＩ）を下記式で算出した。
ΔＹＩ＝（紫外線照射後の黄色度）−（紫外線照射前の黄色度）
【０１２３】
また、紫外線３０００時間照射後の合わせガラスのヘーズ値をヘーズメーター（東京電色社製、「ＴＣ−Ｈ３ＰＰ型」）を用いてＪＩＳ Ｋ ７１０５に準ずる方法により測定し、紫外線照射後の合わせガラスのヘーズ値の変化度（ΔＨｚ）を下記式で算出した。
ΔＨｚ＝（紫外線照射後のヘーズ値）−（紫外線照射前のヘーズ値）
【０１２４】
【表１】
【０１２５】
【表２】
【０１２６】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明によれば、電圧を印加することにより光の透過率が変化し、かつ、長期の使用によっても黄変や退色し難く、耐光性に優れた調光シート、該調光シートを用いてなる調光体、合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層を有する調光シートであって、
前記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する
ことを特徴とする調光シート。
【化１】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
【請求項２】
紫外線吸収剤の含有量は、バインダー樹脂１００重量部に対して０．０５〜１０重量部であることを特徴とする請求項１記載の調光シート。
【請求項３】
電解質層は、バインダー樹脂１００重量部に対して支持電解質塩３〜６０重量部、溶媒３０〜１５０重量部を含有し、前記バインダー樹脂は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項１又は２記載の調光シート。
【請求項４】
エレクトロクロミック化合物は、芳香環を側鎖に有するポリアセチレン化合物であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の調光シート。
【請求項５】
エレクトロクロミック化合物は、プルシアンブルー型錯体であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の調光シート。
【請求項６】
請求項１、２、３、４又は５記載の調光シートが、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれていることを特徴とする調光体。
【請求項７】
請求項１、２、３、４又は５記載の調光シートを用いることを特徴とする合わせガラス用中間膜。
【請求項８】
バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする電解質膜。
【化２】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
【請求項９】
請求項７記載の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。
【請求項１】
電解質層と、前記電解質層の少なくとも片面に形成されたエレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層を有する調光シートであって、
前記電解質層は、バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有する
ことを特徴とする調光シート。
【化１】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
【請求項２】
紫外線吸収剤の含有量は、バインダー樹脂１００重量部に対して０．０５〜１０重量部であることを特徴とする請求項１記載の調光シート。
【請求項３】
電解質層は、バインダー樹脂１００重量部に対して支持電解質塩３〜６０重量部、溶媒３０〜１５０重量部を含有し、前記バインダー樹脂は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項１又は２記載の調光シート。
【請求項４】
エレクトロクロミック化合物は、芳香環を側鎖に有するポリアセチレン化合物であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の調光シート。
【請求項５】
エレクトロクロミック化合物は、プルシアンブルー型錯体であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の調光シート。
【請求項６】
請求項１、２、３、４又は５記載の調光シートが、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれていることを特徴とする調光体。
【請求項７】
請求項１、２、３、４又は５記載の調光シートを用いることを特徴とする合わせガラス用中間膜。
【請求項８】
バインダー樹脂、支持電解質塩、溶媒、及び、下記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール構造を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする電解質膜。
【化２】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
【請求項９】
請求項７記載の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。
【公開番号】特開２０１３−６０３６３（Ｐ２０１３−６０３６３Ａ）
【公開日】平成２５年４月４日（２０１３．４．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２３８２１４（Ｐ２０１２−２３８２１４）
【出願日】平成２４年１０月２９日（２０１２．１０．２９）
【分割の表示】特願２０１１−５４６３５７（Ｐ２０１１−５４６３５７）の分割
【原出願日】平成２３年９月１６日（２０１１．９．１６）
【出願人】（０００００２１７４）積水化学工業株式会社 (5,781)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月４日（２０１３．４．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年１０月２９日（２０１２．１０．２９）
【分割の表示】特願２０１１−５４６３５７（Ｐ２０１１−５４６３５７）の分割
【原出願日】平成２３年９月１６日（２０１１．９．１６）
【出願人】（０００００２１７４）積水化学工業株式会社 (5,781)
【Ｆターム（参考）】
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