調光体、調光シート、合わせガラス用中間膜及び合わせガラス
【課題】電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を提供する。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートを提供する。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】導電膜を有する、一対の透明板の間に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている調光体である。
【解決手段】導電膜を有する、一対の透明板の間に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている調光体である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体に関する。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートに関する。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
電圧を印加することにより光の透過率が変化する調光フィルムを備える調光体は、広く用いられている。この調光体を建築物等や、電光板等の表示装置に応用することを目的とする検討が重ねられてきた。近年、自動車等の車内の温度を制御するために、調光フィルムを合わせガラス用中間膜として用いた合わせガラスが提案されている。このような合わせガラス用中間膜を用いることにより、合わせガラスの光線透過率を制御することができると考えられている。
【０００３】
上記調光体は、液晶材料を用いた調光体と、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体とに大別される。なかでも、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体は、液晶材料を用いた調光体に比べて光散乱が少なく、偏光の影響を受けない等の優れた性質を有している。
【０００４】
エレクトロクロミック化合物として、無機エレクトロクロミック化合物と、有機エレクトロクロミック化合物とが知られている。また、有機エレクトロクロミック化合物として、低分子量の有機エレクトロクロミック化合物と、エレクトロクロミック性を示す高分子化合物とが検討されている。
【０００５】
エレクトロクロミック化合物を用いた調光体として、対向する一対の電極基板の間に、エレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が提案されている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層、イオン伝導層、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層の３層が順次積層された積層体が、２枚の導電性基板間に挟み込まれている調光体が開示されている。また、特許文献３及び特許文献４には、対向する一対の電極基板の間に、有機エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が開示されている。
しかしながら、従来の調光体は、応答性が劣るため、電圧を印加しても光の透過率の変化が完了するまでに時間を要するという問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−０６２０３０号公報
【特許文献２】特開２００５−０６２７７２号公報
【特許文献３】特表２００２−５２６８０１号公報
【特許文献４】特表２００４−５３１７７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を提供することを目的とする。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートを提供することを目的とする。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、導電膜を有する、一対の透明板の間に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている調光体である。
以下に本発明を詳述する。
【０００９】
本発明者らは、エレクトロクロミック層と電解質層との積層体において、電解質層の一方の面にアノードエレクトロクロミック層を積層し、他方の面にカソードエレクトロクロミック層を積層することにより、著しく応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。これは、電解質層の一方の面に形成されたアノードエレクトロクロミック層と他方の面に形成されたカソードエレクトロクロミック層との酸化還元反応が対になるため、光の透過率の変化に必要な酸化還元電位を低下させることができるためであると考えられる。
【００１０】
本発明の調光体は、導電膜を有する、一対の透明板の間に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている。
上記アノードエレクトロクロミック層は、上記導電膜と接するように積層され、上記カソードエレクトロクロミック層も同様に、上記導電膜と接するように積層されていることが好ましい。
【００１１】
上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加し、エレクトロクロミック層の光の透過率を変化させる役割を有する。
上記電解質層は、支持電解質塩とバインダー樹脂とを含有することが好ましい。例えば、上記電解質層は、バインダー樹脂と支持電解質塩とを含有する樹脂組成物を用いて形成されることが好ましい。
【００１２】
上記電解質層は、更に、下記式（１）で表される化合物又は下記式（２）で表される化合物を含有することが好ましい。上記電解質層に上記特定の構造を有する化合物を添加することにより、更に応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体が得られる。
【００１３】
【化１】
【００１４】
式（１）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。
【００１５】
【化２】
【００１６】
式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ４及びＲ６は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００１７】
上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物は、単独で用いてもよく、併用してもよい。なかでも、耐久性が向上し、かつ、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、上記式（１）で表される化合物を含有することが好ましい。
【００１８】
上記式（１）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ１は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００１９】
上記式（１）中のＲ１を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００２０】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００２１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００２２】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００２３】
上記式（１）中のＲ１が炭素数１〜８の有機基である場合、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、上記炭素数１〜８の有機基は炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましい。
上記式（１）中のＲ１を表す炭素数１〜８の有機基における炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は７である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は６であり、更に好ましい下限は４、更に好ましい上限は５である。
【００２４】
上記炭素数１〜８の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００２５】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基であることが好ましい。
【００２６】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基であることが特に好ましい。
【００２７】
上記式（１）中、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表す。上記プロピレン基はｎ−プロピレン基であってもよく、イソプロピレン基であってもよい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、Ｒ２はエチレン基であることが好ましい。
【００２８】
上記式（１）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ３は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００２９】
上記式（１）中のＲ３を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００３０】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００３１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００３２】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００３３】
上記式（１）において、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。これにより、上記バインダー樹脂との高い相溶性が得られる。なかでも、Ｒ１は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表すことがより好ましい。
【００３４】
上記式（１）で表される化合物の具体例を下記式（１−１）〜（１−２８）に示す。
【００３５】
【化３−１】
【化３−２】
【化３−３】
【００３６】
上記式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記式（２）中のＲ４を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００３７】
上記式（２）中、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性が更に向上することから、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基であることが好ましい。
【００３８】
上記式（２）中のＲ５を表す炭素数２〜８のアルキレン基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３〜７であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００３９】
上記式（２）中のＲ５を表す炭素数６〜１２のアリーレン基の炭素数の好ましい上限は１０である。上記炭素数が１０以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい上限は８である。
【００４０】
上記式（２）中、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記式（２）中のＲ６を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００４１】
上記式（２）で表される化合物の具体例を下記式（２−１）に示す。
【００４２】
【化４】
【００４３】
上記電解質層中における上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は１５重量部、好ましい上限は２００重量部である。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量が１５重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量が２００重量部以下であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量のより好ましい下限は３０重量部、更に好ましい下限は４０重量部、特に好ましい下限は６０重量部であり、より好ましい上限は１５０重量部、更に好ましい上限は１２０重量部、特に好ましい上限は１００重量部である。
【００４４】
上記支持電解質塩は特に限定されず、リチウム塩、カリウム塩又はナトリウム塩等のアルカリ金属塩であることが好ましい。上記アルカリ金属塩は、無機酸とアルカリ金属の塩又は有機酸とアルカリ金属の塩であることが好ましい。例えば、上記無機酸とアルカリ金属の塩として、無機酸アニオンリチウム塩、無機酸アニオンカリウム塩、又は、無機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられ、上記有機酸とアルカリ金属の塩として、有機酸アニオンリチウム塩、有機酸アニオンカリウム塩、又は、有機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられる。
なかでも、上記支持電解質塩はリチウム塩であることが好ましく、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩、又は、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩であることがより好ましい。
【００４５】
上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。
上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。
上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。
【００４６】
上記電解質層中における上記支持電解質塩の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３重量部、好ましい上限は６０重量部である。上記支持電解質塩の配合量が３〜６０重量部であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は１０重量部、更に好ましい下限は２０重量部であり、より好ましい上限は５０重量部、更に好ましい上限は４０重量部である。
【００４７】
上記電解質層は溶媒を含有することが好ましい。上記溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン等のエステル化合物や、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン化合物や、１，３−ジオキソラン、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン、ｔ−ブチルエーテル、イソブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン等のエーテル化合物や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、３−メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。
また、上記溶媒として、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート等のジエステル化合物を使用してもよい。
【００４８】
上記電解質層中における溶媒の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３０重量部、好ましい上限は１５０重量部である。上記溶媒の配合量が３０重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記溶媒の配合量が１５０重量部以下であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記溶媒の配合量のより好ましい下限は５０重量部、より好ましい上限は１００重量部である。
【００４９】
上記バインダー樹脂は特に限定されないが、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
上記バインダー樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。透明性が高い電解質層が得られることから、ポリビニルアルコールをアセタール化して得られたポリビニルアセタール樹脂が更に好適である。特に、上記ポリビニルアセタール樹脂はポリビニルブチラール樹脂であることが好適である。
【００５０】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が１５ｍｏｌ％を超えると、電解質層が白化することがある。
上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が３０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が３０ｍｏｌ％を超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、電解質層の透明性が低下することがある。
なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はＪＩＳ Ｋ ６７２８に準拠して、滴定法により求めることができる。
【００５１】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数４又は５のアルデヒドであることが好ましい。上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は５００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５００以上であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５０００以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、ＧＰＣ法（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール１セグメント当りの分子量で除して求められる。ＧＰＣ法によってポリスチレン換算による重量平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＬＦ−８０４（昭和電工社製）等が挙げられる。
【００５２】
上記電解質層が上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物を含有する場合には、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを防止できることから、上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ａ」ともいう。）、アセタール化度が７０〜８５モル％であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｂ」ともいう。）、又は、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｃ」ともいう。）であることが好ましい。
【００５３】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａのアセチル基量の好ましい下限は６モル％、好ましい上限は３０モル％である。上記アセチル基量が６モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することをより一層防止することができる。上記アセチル基量が３０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は８モル％、より好ましい上限は２８モル％であり、更に好ましい下限は１０モル％、更に好ましい上限は２５モル％であり、特に好ましい下限は１２モル％、特に好ましい上限は２３モル％である。
【００５４】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限は７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００５５】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂのアセタール化度の好ましい下限は７１モル％、好ましい上限は８４モル％である。上記アセタール化度が７１モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８４モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は７２モル％、より好ましい上限は８３モル％であり、更に好ましい下限は７３モル％、更に好ましい上限は８２モル％であり、特に好ましい下限は７４モル％、特に好ましい上限は８１モル％である。
【００５６】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、アセチル基量の好ましい下限が０．１モル％、好ましい上限が２０モル％である。上記アセチル基量が０．１モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセチル基量が２０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は０．５モル％、より好ましい上限は１５モル％であり、更に好ましい下限は０．８モル％、更に好ましい上限は８モル％であり、特に好ましい下限は１モル％、特に好ましい上限は７モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００５７】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａ及びポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数１〜１０のアルデヒドであることが好ましく、炭素数４又は５のアルデヒドであることがより好ましい。
【００５８】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られる。上記炭素数が６以上のアルデヒドは特に限定されないが、例えば、ｎ−ヘキシルアルデヒド、ｎ−オクチルアルデヒド、ｎ−ノニルアルデヒド、又は、ｎ−デシルアルデヒド等が挙げられる。
【００５９】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限が７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
【００６０】
上記電解質層は熱線吸収剤を含有してもよい。
上記熱線吸収剤は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム粒子、アンチモンドープ酸化錫粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛粒子、六ホウ化ランタン粒子、アンチモン酸亜鉛粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも１種が好適である。
【００６１】
上記電解質層は接着力調整剤を含有してもよい。
上記接着力調整剤は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、マグネシウム塩等が挙げられる。なかでも、炭素数２〜１６のカルボン酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びマグネシウム塩が好適であり、具体的には例えば、ビス（酢酸）マグネシウム、酢酸カリウム、ビス（プロピオン酸）マグネシウム、プロピオン酸カリウム、ビス（２−エチルブタン酸）マグネシウム、２−エチルブタン酸カリウム、ビス（２−エチルヘキサン酸）マグネシウム、２−エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。上記電解質層にバインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂を含有する場合、上記電解質層は接着力調整剤を含有することが好ましい。
【００６２】
上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が２層以上積層された構造であることを意味する。
上記電解質層が多層構造である場合、上記電解質層は、上記支持電解質塩と、上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物と、上記バインダー樹脂として、熱可塑性樹脂とを含有することが好ましい。上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）等の液状可塑剤が挙げられる。
例えば、上記液状可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記バインダー樹脂として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすることにより、得られる合わせガラスの遮音性等を向上させることができる。
【００６３】
上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０１ｍｍ、好ましい上限は３．０ｍｍである。上記電解質層の厚さが０．０１〜３．０ｍｍであると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は０．１ｍｍ、より好ましい上限は２．０ｍｍ、更に好ましい下限は０．３ｍｍ、更に好ましい上限は１．０ｍｍである。
【００６４】
上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒、上記式（１）で表される化合物（１）又は上記式（２）で表される化合物（２）に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記バインダー樹脂と混合した混合物を熱プレス等の方法により電解質層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形し電解質層を形成する方法等が挙げられる。
【００６５】
本発明の調光体では、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている。
上記アノードエレクトロクロミック層は、導電性高分子を含有する。上記アノードエレクトロクロミック層は、酸化により可視光線透過率が増加する性質を有する。
なお、エレクトロクロミック性を有するとは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有することを意味する。
【００６６】
上記導電性高分子として、エレクトロクロミック性と導電性とを有する高分子であれば特に限定されず、例えば、ポリピロール化合物、ポリアセチレン化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレン化合物が好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物がより好ましい。
【００６７】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、アノードエレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物を用いれば、優れた調光性能を有するアノードエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、アノードエレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。
【００６８】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物等が好適である。
【００６９】
上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｐ−ヨードフェニル、ｐ−ヘキシルフェニル、ｐ−オクチルフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｐ−アセトキシフェニル、ｐ−アセトフェニル、ビフェニル、ｏ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｐ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｏ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｐ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｏ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｐ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｏ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル等のフェニル基や、ビフェニル基や、１−ナフチル、２−ナフチル、１−（４−フルオロ）ナフチル、１−（４−クロロ）ナフチル、１−（４−ブロモ）ナフチル、１−（４−ヘキシル）ナフチル、１−（４−オクチル）ナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、１−アントラセン、１−（４−クロロ）アントラセン、１−（４−オクチル）アントラセン等のアントラセン基や、１−フェナントレン等のフェナントレン基や、１−フルオレン等のフルオレン基や、１−ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。
【００７０】
上記芳香族側鎖を構成する置換基として、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフタレン基、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基及びペリレン基からなる群より選択される少なくとも１種の置換基を有することが好ましい。なかでも、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなることから、上記芳香族側鎖を構成する置換基は、ナフチル基、ナフタレン基、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基又はペリレン基であることがより好ましく、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基又はペリレン基であることが更に好ましく、フェナントレン基であることが特に好ましい。
なお、上記芳香族側鎖を構成する置換基の一部の水素原子は、水素原子以外の原子又は原子団に置換されていてもよい。
【００７１】
上記アノードエレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００７２】
上記アノードエレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は５μｍである。上記アノードエレクトロクロミック層の厚さが０．０５〜５μｍであると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記アノードエレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は２μｍであり、更に好ましい下限は０．２μｍ、更に好ましい上限は１μｍである。
【００７３】
上記アノードエレクトロクロミック層は上記バインダー樹脂を含有してもよい。上記バインダー樹脂は上記電解質層に含まれるバインダー樹脂と同様のバインダー樹脂を用いることができる。
【００７４】
上記アノードエレクトロクロミック層を形成する方法として、上記導電性高分子を有機溶剤に溶解させた溶液を調整し、得られた溶液を上記電解質層の一方の面に塗布し、有機溶剤を揮発させる方法等が挙げられる。
【００７５】
上記カソードエレクトロクロミック層は、混合原子価錯体を含有する。上記カソードエレクトロクロミック層は、還元により可視光線透過率が高くなる性質を有する。
【００７６】
上記混合原子価錯体は、エレクトロクロミック性を有すれば特に限定されないが、金属元素とシアノ基とを有する化合物であることが好ましく、鉄等の金属元素とシアノ基とを有する化合物であることがより好ましい。
上記混合原子価錯体として、例えば、プルシアンブルー型錯体（ＫＦｅ［Ｆｅ（ＣＮ）６］）等が挙げられる。上記カソードエレクトロクロミック層に上記混合原子価錯体を含有させることにより、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を得ることができる。
なお、上記混合原子価錯体がプルシアンブルー型錯体（ＫＦｅ［Ｆｅ（ＣＮ）６］）である場合、鉄原子の一部が鉄原子以外の原子に置換されていてもよい。
【００７７】
上記カソードエレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００７８】
上記カソードエレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は２μｍである。上記カソードエレクトロクロミック層の厚さが０．０５μｍ以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなり、２μｍ以下であると、調光体の透明性が高くなる。上記カソードエレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は１μｍである。
【００７９】
上記カソードエレクトロクロミック層は上記バインダー樹脂を含有してもよい。上記バインダー樹脂は上記電解質層に含まれるバインダー樹脂と同様のバインダー樹脂を用いることができる。
【００８０】
上記カソードエレクトロクロミック層を形成する方法として、上記混合原子価錯体を水や有機溶剤に分散させた分散液を調製し、得られた溶液を上記電解質層に塗布する方法や、透明板の導電膜上に電着法により上記混合原子価錯体を析出させる方法等が挙げられる。例えば、上記電解質層の一方の面に、上記導電性高分子を有機溶剤に溶解させた溶液を塗布し、有機溶剤を揮発させ、アノードエレクトロクロミック層を形成する工程と、上記電解質層の他方の面に、上記混合原子価錯体を有機溶剤に分散させた溶液を塗布し、有機溶剤を揮発させ、カソードエレクトロクロミック層を形成する工程とを行なうことが好ましい。
上記混合原子価錯体を水や有機溶剤に分散させる方法は特に限定されないが、例えば、サンドミル、ビーズミル、ミキサー、超音波による分散等の公知の方法で上記混合原子価錯体を粒子化して分散液を調製する方法等が挙げられる。
また、共押出法により、上記アノードエレクトロクロミック層と、上記電解質層と、上記カソードエレクトロクロミック層とが積層された調光シートを製造してもよい。
なお、アノードエレクトロクロミック層と電解質層とが積層されている積層体と、透明板の導電膜上に形成されたカソードエレクトロクロミック層とを、電解質層とカソードエレクトロクロミック層とが接するように、積層してもよい。
【００８１】
本発明の調光体は、上記電解質層、アノードエレクトロクロミック層、カソードエレクトロクロミック層以外に、必要に応じて、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層や、熱線吸収剤を含有する赤外線吸収層等を有してもよい。
【００８２】
上記透明板は、少なくとも一方の面に導電膜が形成されていればよい。例えば、上記透明板として、ガラス板を使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。上記透明板として、２種類以上のガラス板を用いてもよい。
【００８３】
また、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている調光シートもまた、本発明の１つである。なかでも、電解質層の一方の面に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層が直接積層され、かつ電解質層の一方の面とは反対側の他方の面に、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層が直接積層されていることが好ましい。
【００８４】
本発明の調光シートは、表面にエンボスが形成されていることが好ましい。
上記エンボスの粗さは特に限定されないが、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で定義される十点平均粗さの好ましい下限が２０μｍ、好ましい上限が５０μｍである。
【００８５】
本発明の調光シートは、合わせガラス用中間膜として使用することができる。上記合わせガラス用中間膜もまた、本発明の１つである。
【００８６】
本発明の調光シート及び合わせガラス用中間膜は、導電膜との接着力を高めるために、アノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層上に部分的に形成された熱可塑性樹脂を含有する接着層を有することが好ましい。
上記部分的に形成された接着層の形状は特に限定されず、網目状、線状又は斑点状等が挙げられる。
【００８７】
上記アノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層の面積に対する上記接着層の面積の好ましい下限は１０％、好ましい上限は９０％である。上記接着層の面積が１０〜９０％であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短くなる。上記接着層の面積のより好ましい下限は２０％、より好ましい上限は８０％であり、更に好ましい下限は３０％、更に好ましい上限は７０％である。
なお、上記アノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積Ｘ（％）は、以下の式で表される。
Ｘ（％）＝（Ａｍｍ２）／（１０ｍｍ２）×１００
接着層を形成した後の上記アノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察し、接着層が形成された任意の１０箇所（１ｍｍ２／１箇所）における、接着層の存在する合計面積Ａ（ｍｍ２）を測定し、接着層の面積Ｘ（％）を算出する。
【００８８】
上記接着層の最大厚みの上限は５０μｍであることが好ましい。上記接着層の最大厚みが５０μｍ以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短くなる。上記接着層の最大厚みのより好ましい上限は２０μｍである。
なお、上記接着層の最大厚みとは、接着層を形成した後に接着層を３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＡＳ社製「ＬＥＸＴ ＯＬＳ４０００」）により測定した時の接着層の厚みの最大値を意味する。
【００８９】
上記接着層を形成する方法は特に限定されず、例えば、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスクリーン印刷によりアノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法や、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスプレー照射機によりアノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法等が挙げられる。
【００９０】
本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の１つである。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の合わせガラス用中間膜を挟持した合わせガラスが挙げられる。また、上記透明板として、２種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。
【００９１】
上記ガラス板は、少なくとも一方の面に導電膜が形成されている。本発明の合わせガラスにおいて本発明の合わせガラス用中間膜は、上記ガラス板の導電膜が形成された面に接するように２枚のガラス板の間に挟持される。
上記導電膜は、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）等を含む透明導電膜が好ましい。
【００９２】
本発明の合わせガラスの面密度は特に限定されないが、１２ｋｇ／ｍ２以下であることが好ましい。
本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラスとして用いることができる。
【発明の効果】
【００９３】
本発明によれば、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を提供することができる。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートを提供することができる。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００９４】
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されない。
【００９５】
（実施例１）
（１）電解質層の調製
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート２．３８ｇに、支持電解質塩としてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）０．６７ｇを溶解して電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量と、バインダー樹脂として、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）５．００ｇとを混合して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）シートに挟み、厚さ４００μｍのスペーサを介して、熱プレスにて１５０℃、１００ｋｇ／ｃｍ２の条件で５分間加圧し、厚さ４００μｍの電解質層を得た。
【００９６】
（２）アノードエレクトロクロミック層の形成
窒素雰囲気下−５０℃で９−エチニルフェナントレン３ｇを溶解させたテトラヒドロフラン溶液３０ｍＬにノルマルブチルリチウムの３０重量％ヘキサン溶液１３．４ｇを添加した。次いで、−９０℃に冷却後、カリウムターシャリーブトキシド１．８ｇを溶解させたテトラヒドロフラン溶液１５ｍＬを添加し、−８０℃で１時間撹拌し、５℃まで昇温した。次いで、−７０℃で１−ヨードオクタデカン５．６ｇを滴下し、−３０℃で１２時間撹拌した。０℃で水１００ｍＬを滴下し、ヘキサン３００ｍＬを加え、生成した化合物を抽出した。このヘキサン層を蒸留水３００ｍＬで３回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで１時間乾燥させ、濾過後、溶媒を留去した。カラム精製後溶媒を留去し、ヘキサンを展開溶媒としてカラム精製することにより３．５ｇの９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレンを得た。
得られた９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレンについて１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）により分析を行ったところ、δ８．７（２Ｈ）、８．５（１Ｈ）、８．１（１Ｈ）、７．７（４Ｈ）、３．７（１Ｈ）、３．５（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、１．６（３０Ｈ）、１．０（３Ｈ）のピークが認められた。
【００９７】
得られた９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン３．５ｇをトルエン１０．５ｇ中でＷＣｌ６触媒０．２ｇを用いて重合させ、ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）２．７ｇを得た。
得られたポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフ法（ＧＰＣ法）により測定した。Ｗａｔｅｒｓ社製の液体クロマトグラフ装置（Ｗａｔｅｒｓ２６９５，ＲＩ Ｗａｔｅｒｓ２４１０，ＵＶ Ｗａｔｅｒｓ２９９６）を用い、カラムはＳｈｏｄｅｘ社製ＬＦ−８０４を使用した。０．２重量％となるようにクロロホルムに溶解したポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）を１００μＬ注入し、カラム温度４０℃で移動相をクロロホルムとして測定を行った。ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量１４万７千、重量平均分子量３１万５千であった。
【００９８】
得られたポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）０．０４ｇを１．３ｇのトルエンに溶解して溶液を調製した。この溶液を、得られた電解質層の一方の面に、トルエンが揮発した後の厚さが０．３μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、乾燥して、アノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体を得た。
【００９９】
（３）カソードエレクトロクロミック層の形成
ＩＴＯ電極が形成されたガラス板（表面抵抗１０Ω／□）を用い、ＩＴＯ電極を作用極、Ｐｔ線を対極とし、Ａｇ／ＡｇＣｌを参照極としてフェリシアン化カリウム、塩化第一鉄をそれぞれ１０ｍｍｏｌ／Ｌ溶解した水溶液中で電流密度４０μＡ／ｃｍ２で１２０秒間通電することでＩＴＯ電極表面に、混合原子価錯体として、プルシアンブルー型錯体（ＫＦｅ［Ｆｅ（ＣＮ）６］）を析出させ、ＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー型錯体層を有するＩＴＯガラスを作製した。
【０１００】
（４）調光体の製造
８５℃に加熱したアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を、１枚のＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）と、ＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー型錯体層を有するＩＴＯガラスとの間に、電解質層とプルシアンブルー型錯体層とが接するように挟み込むことにより、調光体を作製した。
得られた調光体は、ガラス板／ＩＴＯ電極／アノードエレクトロクロミック層／電解質層／カソードエレクトロクロミック層（プルシアンブルー型錯体層）／ＩＴＯ電極／ガラス板が積層された構造を有する。
【０１０１】
（実施例２）
プルシアンブルー（ＡＣＲＯＳ ＯＲＧＡＮＩＣＳ社製）０．２ｇをエタノール１９．８ｇに添加した液中に直径３ｍｍのステンレス球８０ｇを加え、ペイントシェーカー（セイワ技研社製）にて１時間振とうすることでプルシアンブルー粒子がエタノール中に分散した分散液を得た。プルシアンブルー粒子の体積平均粒子径を粒度分布計（Ｎｉｃｏｍｐ社製、「３８０ＺＬＳ−Ｓ」）で測定したところ、１３２ｎｍ（ＣＶ値３３．８％）であった。
ＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）上に、得られたプルシアンブルー分散液０．５ｍＬを滴下し、スピンコーター（アクティブ社製）で１０００ｒｐｍの条件で１０秒間回転させ塗布し、ＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー層を有するＩＴＯガラスを作製した。
ＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー型錯体層を有するＩＴＯガラスに代えて、得られたＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー層を有するＩＴＯガラスを用いた以外は実施例１と同様にして、調光体を製造した。
【０１０２】
（実施例３）
直径３ｍｍのステンレス球を、直径１ｍｍのジルコニウム球とした以外は実施例２と同様にしてプルシアンブルー粒子がエタノール中に分散した分散液を得た。実施例２と同様にプルシアンブルー粒子の体積平均粒子径を測定したところ、１２５ｎｍ（ＣＶ値３８．９％）であった。
その後、実施例２と同様にしてＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー層を有するＩＴＯガラスを作製した。
得られたＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー層を有するＩＴＯガラスを用いた以外は実施例１と同様にして、調光体を製造した。
【０１０３】
（実施例４）
実施例１と同様にして電解質層、アノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体を得た。
実施例２と同様にして得られたプルシアンブルー分散液を、得られたアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体のアノードエレクトロクロミック層と反対側の面上に０．５ｍＬ滴下し、スピンコーター（アクティブ社製）で１０００ｒｐｍの条件で１０秒間回転させ塗布し、アノードエレクトロクロミック層／電解質層／プルシアンブルー層がこの順番に積層された調光シートを得た。
【０１０４】
８５℃に加熱した調光シート（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を、２枚のＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）の間に挟み込むことにより調光体を製造した。なお、調光シートとＩＴＯ電極とが接するように調光体を製造した。
【０１０５】
（実施例５）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジアセタートを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１０６】
（実施例６）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−ｎ−ブチレートを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１０７】
（実施例７）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−２−エチルブチレートを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１０８】
（実施例８）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−１−プロピルブチレートを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１０９】
（実施例９）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにアジピン酸ジプロポキシエチルを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１１０】
（実施例１０）
バインダー樹脂として、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）の代わりに、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１８ｍｏｌ％、水酸基量１５ｍｏｌ％）を用いて電解質層を調製した以外は実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１１】
（実施例１１）
バインダー樹脂として、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）の代わりに、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量６ｍｏｌ％、水酸基量１１ｍｏｌ％）を用いて電解質層を調製した以外は実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１２】
（実施例１２）
バインダー樹脂として、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）の代わりに、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量２２ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）を用いて電解質層を調製した以外は実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１３】
（実施例１３）
電解質層の調整において、トリエチレングリコールジブチレート２．３８ｇをトリエチレングリコールジブチレート２．５ｇに変更した以外は、実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１４】
（実施例１４）
電解質層の調整において、トリエチレングリコールジブチレート２．３８ｇをトリエチレングリコールジブチレート５．０ｇに変更した以外は、実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１５】
（実施例１５）
平均重合度が１７００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）７．８７ｇ、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート５．１ｇ及びビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）１．５６ｇをエタノール４５ｇに溶解して接着剤組成物を得た。
【０１１６】
得られた接着剤組成物を、実施例１と同様の方法にて作製したアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体のアノードエレクトロクロミック層上へ、スクリーン印刷法を用いて印刷した。このとき、３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＡＳ社製「ＬＥＸＴ ＯＬＳ４０００」）による観察から求めた最大厚みが１０μｍ、アノードエレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積が５０％となるように網目状に印刷した。印刷後、接着剤組成物を乾燥して、接着層／アノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体を得た。
なお、アノードエレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積Ｘ（％）は、接着層を形成した後のアノードエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察し、接着層が形成された任意の１０箇所（１ｍｍ２／１箇所）における、接着層の存在する合計面積Ａ（ｍｍ２）を測定し、以下の式で算出した。
Ｘ（％）＝Ａ（ｍｍ２）／１０（ｍｍ２）×１００
【０１１７】
８５℃に加熱した接着層／アノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を、１枚のＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）と、実施例１と同様の方法により作製したＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー型錯体層を有するＩＴＯガラスとの間に、電解質層とプルシアンブルー型錯体層とが接するように挟み込むことにより、調光体を作製した。
得られた調光体は、ガラス板／ＩＴＯ電極／接着層／アノードエレクトロクロミック層／電解質層／カソードエレクトロクロミック層（プルシアンブルー型錯体層）／ＩＴＯ電極／ガラス板が積層された構造を有する。
【０１１８】
（比較例１）
実施例１と同様にしてアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体を作製した。
８５℃に加熱したアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を、２枚のＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）の間に挟み込むことにより、調光体を作製した。
得られた調光体は、ガラス板／ＩＴＯ電極／アノードエレクトロクロミック層／電解質層／ＩＴＯ電極／ガラス板が積層された構造を有する。
【０１１９】
（評価）
実施例及び比較例で得られた調光体について、以下の方法により消色時間と着色時間とを測定した。結果を表１に示した。
完全に着色した状態の調光体の波長６４０ｎｍの光の透過率をＴＣ、完全に消色した状態の調光体の波長６４０ｎｍの光の透過率をＴＢとする。
完全に着色した状態の調光体に＋２Ｖの電圧を印加し、電圧を印加してから、調光体の波長６４０ｎｍの光の透過率がＴＣからＴ１＝ＴＣ＋（ＴＢ−ＴＣ）×０．８にまで変化する時間を測定して、これを消色時間とした。
完全に消色した状態の調光体に−２Ｖの電圧を印加し、電圧を印加してから、調光体の波長６４０ｎｍの光の透過率がＴＢからＴ２＝ＴＢ−（ＴＢ−ＴＣ）×０．８にまで変化する時間を測定して、これを着色時間とした。
なお、透過率の測定には、日本分光社製の分光光度計「Ｖ−６７０」を用いた。
また、実施例及び比較例にて用いたＩＴＯ電極が形成されたガラス板の厚みは１ｍｍであった。
【０１２０】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
本発明によれば、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を提供することができる。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートを提供することができる。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体に関する。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートに関する。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
電圧を印加することにより光の透過率が変化する調光フィルムを備える調光体は、広く用いられている。この調光体を建築物等や、電光板等の表示装置に応用することを目的とする検討が重ねられてきた。近年、自動車等の車内の温度を制御するために、調光フィルムを合わせガラス用中間膜として用いた合わせガラスが提案されている。このような合わせガラス用中間膜を用いることにより、合わせガラスの光線透過率を制御することができると考えられている。
【０００３】
上記調光体は、液晶材料を用いた調光体と、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体とに大別される。なかでも、エレクトロクロミック化合物を用いた調光体は、液晶材料を用いた調光体に比べて光散乱が少なく、偏光の影響を受けない等の優れた性質を有している。
【０００４】
エレクトロクロミック化合物として、無機エレクトロクロミック化合物と、有機エレクトロクロミック化合物とが知られている。また、有機エレクトロクロミック化合物として、低分子量の有機エレクトロクロミック化合物と、エレクトロクロミック性を示す高分子化合物とが検討されている。
【０００５】
エレクトロクロミック化合物を用いた調光体として、対向する一対の電極基板の間に、エレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が提案されている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層、イオン伝導層、無機酸化物を含有するエレクトロクロミック層の３層が順次積層された積層体が、２枚の導電性基板間に挟み込まれている調光体が開示されている。また、特許文献３及び特許文献４には、対向する一対の電極基板の間に、有機エレクトロクロミック化合物を含有するエレクトロクロミック層と電解質層とが挟み込まれている調光体が開示されている。
しかしながら、従来の調光体は、応答性が劣るため、電圧を印加しても光の透過率の変化が完了するまでに時間を要するという問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−０６２０３０号公報
【特許文献２】特開２００５−０６２７７２号公報
【特許文献３】特表２００２−５２６８０１号公報
【特許文献４】特表２００４−５３１７７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を提供することを目的とする。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートを提供することを目的とする。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、導電膜を有する、一対の透明板の間に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている調光体である。
以下に本発明を詳述する。
【０００９】
本発明者らは、エレクトロクロミック層と電解質層との積層体において、電解質層の一方の面にアノードエレクトロクロミック層を積層し、他方の面にカソードエレクトロクロミック層を積層することにより、著しく応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。これは、電解質層の一方の面に形成されたアノードエレクトロクロミック層と他方の面に形成されたカソードエレクトロクロミック層との酸化還元反応が対になるため、光の透過率の変化に必要な酸化還元電位を低下させることができるためであると考えられる。
【００１０】
本発明の調光体は、導電膜を有する、一対の透明板の間に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている。
上記アノードエレクトロクロミック層は、上記導電膜と接するように積層され、上記カソードエレクトロクロミック層も同様に、上記導電膜と接するように積層されていることが好ましい。
【００１１】
上記電解質層は、イオンを伝導することにより上記エレクトロクロミック層に電圧を印加し、エレクトロクロミック層の光の透過率を変化させる役割を有する。
上記電解質層は、支持電解質塩とバインダー樹脂とを含有することが好ましい。例えば、上記電解質層は、バインダー樹脂と支持電解質塩とを含有する樹脂組成物を用いて形成されることが好ましい。
【００１２】
上記電解質層は、更に、下記式（１）で表される化合物又は下記式（２）で表される化合物を含有することが好ましい。上記電解質層に上記特定の構造を有する化合物を添加することにより、更に応答性が高く、電圧を印加してから光の透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体が得られる。
【００１３】
【化１】
【００１４】
式（１）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。
【００１５】
【化２】
【００１６】
式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ４及びＲ６は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００１７】
上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物は、単独で用いてもよく、併用してもよい。なかでも、耐久性が向上し、かつ、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、上記式（１）で表される化合物を含有することが好ましい。
【００１８】
上記式（１）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ１は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００１９】
上記式（１）中のＲ１を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００２０】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００２１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００２２】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００２３】
上記式（１）中のＲ１が炭素数１〜８の有機基である場合、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、上記炭素数１〜８の有機基は炭素数１〜８のアルキル基であることが好ましい。
上記式（１）中のＲ１を表す炭素数１〜８の有機基における炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は７である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は６であり、更に好ましい下限は４、更に好ましい上限は５である。
【００２４】
上記炭素数１〜８の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００２５】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基であることが好ましい。
【００２６】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜８の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜８の有機基は、炭素数１〜８であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基であることが更に好ましく、炭素数１〜８であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基であることが特に好ましい。
【００２７】
上記式（１）中、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表す。上記プロピレン基はｎ−プロピレン基であってもよく、イソプロピレン基であってもよい。電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られることから、Ｒ２はエチレン基であることが好ましい。
【００２８】
上記式（１）中、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性がより向上することから、Ｒ３は炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基であることが好ましく、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましい。
【００２９】
上記式（１）中のＲ３を表す炭素数１〜７の有機基を有するアシル基における、有機基の炭素数の好ましい下限は２、好ましい上限は６である。上記炭素数が２以上であると、電解質層の耐久性が向上し、６以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は３、より好ましい上限は５であり、更に好ましい上限は４である。
【００３０】
上記炭素数１〜７の有機基は、直鎖構造を有する有機基、又は、分岐構造を有する有機基であってもよく、直鎖構造を有するアルキル基、又は、分岐構造を有するアルキル基であることが好ましい。上記分岐構造を有する有機基又は分岐構造を有するアルキル基において、有機基又はアルキル基の分岐鎖の炭素数は３以下であることが好ましく、２以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましい。
【００３１】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が直鎖構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、直鎖構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましい。
【００３２】
電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が更に一層短い調光体が得られることから、上記炭素数１〜７の有機基が分岐構造を有する場合は、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有する有機基を有するアシル基、又は、炭素数１〜７であり、かつ、分岐構造を有するアルキル基を有するアシル基であることが好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が３以下であるアルキル基を有するアシル基であることがより好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が２以下であるアルキル基を有するアシル基であることが更に好ましく、炭素数１〜７であり、分岐構造を有し、かつ、分岐鎖の炭素数が１以下であるアルキル基を有するアシル基であることが特に好ましい。
なお、上記炭素数１〜７の有機基を有するアシル基とは、該有機基の炭素数が１〜７であることを意味し、上記炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基とは、該アルキル基の炭素数が１〜７であることを意味する。
【００３３】
上記式（１）において、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。これにより、上記バインダー樹脂との高い相溶性が得られる。なかでも、Ｒ１は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜７のアルキル基を有するアシル基を表すことがより好ましい。
【００３４】
上記式（１）で表される化合物の具体例を下記式（１−１）〜（１−２８）に示す。
【００３５】
【化３−１】
【化３−２】
【化３−３】
【００３６】
上記式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記式（２）中のＲ４を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００３７】
上記式（２）中、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表す。なかでも、上記バインダー樹脂との相溶性が更に向上することから、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基であることが好ましい。
【００３８】
上記式（２）中のＲ５を表す炭素数２〜８のアルキレン基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３〜７であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００３９】
上記式（２）中のＲ５を表す炭素数６〜１２のアリーレン基の炭素数の好ましい上限は１０である。上記炭素数が１０以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい上限は８である。
【００４０】
上記式（２）中、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。
上記式（２）中のＲ６を表す炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基の炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は７である。上記炭素数が３以上であると、電解質層の耐久性が向上し、７以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短い調光体が得られる。上記炭素数のより好ましい下限は４、より好ましい上限は６である。
【００４１】
上記式（２）で表される化合物の具体例を下記式（２−１）に示す。
【００４２】
【化４】
【００４３】
上記電解質層中における上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は１５重量部、好ましい上限は２００重量部である。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量が１５重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量が２００重量部以下であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物の配合量のより好ましい下限は３０重量部、更に好ましい下限は４０重量部、特に好ましい下限は６０重量部であり、より好ましい上限は１５０重量部、更に好ましい上限は１２０重量部、特に好ましい上限は１００重量部である。
【００４４】
上記支持電解質塩は特に限定されず、リチウム塩、カリウム塩又はナトリウム塩等のアルカリ金属塩であることが好ましい。上記アルカリ金属塩は、無機酸とアルカリ金属の塩又は有機酸とアルカリ金属の塩であることが好ましい。例えば、上記無機酸とアルカリ金属の塩として、無機酸アニオンリチウム塩、無機酸アニオンカリウム塩、又は、無機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられ、上記有機酸とアルカリ金属の塩として、有機酸アニオンリチウム塩、有機酸アニオンカリウム塩、又は、有機酸アニオンナトリウム塩等が挙げられる。
なかでも、上記支持電解質塩はリチウム塩であることが好ましく、過塩素酸リチウム、ホウフッ化リチウム、リンフッ化リチウム等の無機酸アニオンリチウム塩、又は、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドリチウム等の有機酸アニオンリチウム塩であることがより好ましい。
【００４５】
上記支持電解質塩は、アンモニウムカチオンと、アニオンとの塩であってもよい。
上記アンモニウムカチオンは特に限定されず、例えば、テトラエチルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウム、メチルプロピルピロリジニウム、メチルブチルピロリジニウム、メチルプロピルピペリジニウム、メチルブチルピペリジニウム等のアルキルアンモニウムカチオンや、エチルメチルイミダゾリウム、ジメチルエチルイミダゾリウム、メチルピリジニウム、エチルピリジニウム、プロピルピリジニウム、ブチルピリジニウム等が挙げられる。
上記アニオンは特に限定されず、過塩素酸アニオン、ホウフッ化アニオン、リンフッ化アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメタンスルホン酸イミドアニオン等が挙げられる。
【００４６】
上記電解質層中における上記支持電解質塩の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３重量部、好ましい上限は６０重量部である。上記支持電解質塩の配合量が３〜６０重量部であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記支持電解質塩の配合量のより好ましい下限は１０重量部、更に好ましい下限は２０重量部であり、より好ましい上限は５０重量部、更に好ましい上限は４０重量部である。
【００４７】
上記電解質層は溶媒を含有することが好ましい。上記溶媒は特に限定されず、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン等のエステル化合物や、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン等の置換テトラヒドロフラン化合物や、１，３−ジオキソラン、４，４−ジメチル−１，３−ジオキソラン、ｔ−ブチルエーテル、イソブチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，２−エトキシメトキシエタン等のエーテル化合物や、エチレングリコール、ポリエチレングリコールスルホラン、３−メチルスルホラン、蟻酸メチル、酢酸メチル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒が挙げられる。
また、上記溶媒として、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート等のジエステル化合物を使用してもよい。
【００４８】
上記電解質層中における溶媒の配合量は特に限定されないが、上記バインダー樹脂１００重量部に対する好ましい下限は３０重量部、好ましい上限は１５０重量部である。上記溶媒の配合量が３０重量部以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記溶媒の配合量が１５０重量部以下であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記溶媒の配合量のより好ましい下限は５０重量部、より好ましい上限は１００重量部である。
【００４９】
上記バインダー樹脂は特に限定されないが、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
上記バインダー樹脂は、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましく、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。透明性が高い電解質層が得られることから、ポリビニルアルコールをアセタール化して得られたポリビニルアセタール樹脂が更に好適である。特に、上記ポリビニルアセタール樹脂はポリビニルブチラール樹脂であることが好適である。
【００５０】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂のアセチル基量が１５ｍｏｌ％を超えると、電解質層が白化することがある。
上記ポリビニルアセタール樹脂は水酸基量が３０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。上記ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が３０ｍｏｌ％を超えると、上記溶媒との相溶性が低下し、電解質層の透明性が低下することがある。
なお、上記アセチル基量及び上記水酸基量はＪＩＳ Ｋ ６７２８に準拠して、滴定法により求めることができる。
【００５１】
上記ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数４又は５のアルデヒドであることが好ましい。上記ポリビニルアルコールの平均重合度の好ましい下限は５００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５００以上であると、調光体の耐貫通性が高くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度が５０００以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記ポリビニルアルコールの平均重合度は、ＧＰＣ法（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算により求めた上記ポリビニルアルコールの重量平均分子量をポリビニルアルコール１セグメント当りの分子量で除して求められる。ＧＰＣ法によってポリスチレン換算による重量平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＬＦ−８０４（昭和電工社製）等が挙げられる。
【００５２】
上記電解質層が上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物を含有する場合には、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを防止できることから、上記ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ａ」ともいう。）、アセタール化度が７０〜８５モル％であるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｂ」ともいう。）、又は、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られるポリビニルアセタール樹脂（以下、「ポリビニルアセタール樹脂Ｃ」ともいう。）であることが好ましい。
【００５３】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａのアセチル基量の好ましい下限は６モル％、好ましい上限は３０モル％である。上記アセチル基量が６モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することをより一層防止することができる。上記アセチル基量が３０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は８モル％、より好ましい上限は２８モル％であり、更に好ましい下限は１０モル％、更に好ましい上限は２５モル％であり、特に好ましい下限は１２モル％、特に好ましい上限は２３モル％である。
【００５４】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ａの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限は７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００５５】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂのアセタール化度の好ましい下限は７１モル％、好ましい上限は８４モル％である。上記アセタール化度が７１モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８４モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は７２モル％、より好ましい上限は８３モル％であり、更に好ましい下限は７３モル％、更に好ましい上限は８２モル％であり、特に好ましい下限は７４モル％、特に好ましい上限は８１モル％である。
【００５６】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、アセチル基量の好ましい下限が０．１モル％、好ましい上限が２０モル％である。上記アセチル基量が０．１モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセチル基量が２０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂの製造効率を高めることができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は０．５モル％、より好ましい上限は１５モル％であり、更に好ましい下限は０．８モル％、更に好ましい上限は８モル％であり、特に好ましい下限は１モル％、特に好ましい上限は７モル％である。
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルブチラール樹脂であることが好ましい。
【００５７】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ａ及びポリビニルアセタール樹脂Ｂは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することで得られる。上記アルデヒドは炭素数１〜１０のアルデヒドであることが好ましく、炭素数４又は５のアルデヒドであることがより好ましい。
【００５８】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、炭素数が６以上のアルデヒドを用いてポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られる。上記炭素数が６以上のアルデヒドは特に限定されないが、例えば、ｎ−ヘキシルアルデヒド、ｎ−オクチルアルデヒド、ｎ−ノニルアルデヒド、又は、ｎ−デシルアルデヒド等が挙げられる。
【００５９】
上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃは、アセタール化度の好ましい下限が５０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール化度が５０モル％以上であると、上記式（１）で表される化合物及び上記式（２）で表される化合物が上記電解質層から析出することを更に一層防止することができる。上記アセタール化度が８０モル％以下であると、上記ポリビニルアセタール樹脂Ｃの製造効率を高めることができる。上記アセタール化度のより好ましい下限は５５モル％、より好ましい上限が７８モル％であり、更に好ましい下限は６０モル％、更に好ましい上限は７６モル％であり、特に好ましい下限は６５モル％、特に好ましい上限は７４モル％である。
【００６０】
上記電解質層は熱線吸収剤を含有してもよい。
上記熱線吸収剤は、赤外線を遮蔽する性能を有すれば特に限定されないが、錫ドープ酸化インジウム粒子、アンチモンドープ酸化錫粒子、亜鉛以外の元素がドープされた酸化亜鉛粒子、六ホウ化ランタン粒子、アンチモン酸亜鉛粒子、及び、フタロシアニン構造を有する赤外線吸収剤からなる群より選択される少なくとも１種が好適である。
【００６１】
上記電解質層は接着力調整剤を含有してもよい。
上記接着力調整剤は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、マグネシウム塩等が挙げられる。なかでも、炭素数２〜１６のカルボン酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びマグネシウム塩が好適であり、具体的には例えば、ビス（酢酸）マグネシウム、酢酸カリウム、ビス（プロピオン酸）マグネシウム、プロピオン酸カリウム、ビス（２−エチルブタン酸）マグネシウム、２−エチルブタン酸カリウム、ビス（２−エチルヘキサン酸）マグネシウム、２−エチルヘキサン酸カリウム等が挙げられる。これらの接着力調整剤は単独で用いられてもよく、併用されてもよい。上記電解質層にバインダー樹脂としてポリビニルアセタール樹脂を含有する場合、上記電解質層は接着力調整剤を含有することが好ましい。
【００６２】
上記電解質層は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。上記電解質層が多層構造であるとは、上記電解質層が２層以上積層された構造であることを意味する。
上記電解質層が多層構造である場合、上記電解質層は、上記支持電解質塩と、上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物と、上記バインダー樹脂として、熱可塑性樹脂とを含有することが好ましい。上記式（１）で表される化合物又は上記式（２）で表される化合物としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチレート（３ＧＨ）、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート（４ＧＯ）、ジヘキシルアジペート（ＤＨＡ）等の液状可塑剤が挙げられる。
例えば、上記液状可塑剤の含有量の異なる電解質層を積層したり、上記バインダー樹脂として水酸基量の異なるポリビニルアセタール樹脂を含有する電解質層を積層したりすることにより、得られる合わせガラスの遮音性等を向上させることができる。
【００６３】
上記電解質層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０１ｍｍ、好ましい上限は３．０ｍｍである。上記電解質層の厚さが０．０１〜３．０ｍｍであると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記電解質層の厚さのより好ましい下限は０．１ｍｍ、より好ましい上限は２．０ｍｍ、更に好ましい下限は０．３ｍｍ、更に好ましい上限は１．０ｍｍである。
【００６４】
上記電解質層を形成する方法は特に限定されず、例えば、上記溶媒、上記式（１）で表される化合物（１）又は上記式（２）で表される化合物（２）に上記支持電解質塩を溶解した溶液を調製し、得られた溶液を上記バインダー樹脂と混合した混合物を熱プレス等の方法により電解質層を形成する方法や、該混合物を押出機により押出成形し電解質層を形成する方法等が挙げられる。
【００６５】
本発明の調光体では、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている。
上記アノードエレクトロクロミック層は、導電性高分子を含有する。上記アノードエレクトロクロミック層は、酸化により可視光線透過率が増加する性質を有する。
なお、エレクトロクロミック性を有するとは、電圧を印加することにより光の透過率が変化する性質を有することを意味する。
【００６６】
上記導電性高分子として、エレクトロクロミック性と導電性とを有する高分子であれば特に限定されず、例えば、ポリピロール化合物、ポリアセチレン化合物、ポリチオフェン化合物、ポリパラフェニレンビニレン化合物、ポリアニリン化合物、ポリエチレンジオキシチオフェン化合物等が挙げられる。なかでも、ポリアセチレン化合物が好ましく、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物がより好ましい。
【００６７】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、エレクトロクロミック性と導電性とを有し、かつ、アノードエレクトロクロミック層の形成が容易である。従って、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物を用いれば、優れた調光性能を有するアノードエレクトロクロミック層を容易に形成できる。また、芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は、構造が変化することにより、吸収特性の変化を示す。その結果、吸収スペクトルが近赤外線の波長領域に及ぶため、アノードエレクトロクロミック層は広い波長領域について優れた調光性能を有する。
【００６８】
上記芳香族側鎖を有するポリアセチレン化合物は特に限定されないが、例えば、一置換又は二置換の芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物等が好適である。
【００６９】
上記芳香族側鎖を構成する置換基は特に限定されないが、例えば、フェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｐ−ヨードフェニル、ｐ−ヘキシルフェニル、ｐ−オクチルフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｐ−アセトキシフェニル、ｐ−アセトフェニル、ビフェニル、ｏ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｐ−（ジメチルフェニルシリル）フェニル、ｏ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｐ−（ジフェニルメチルシリル）フェニル、ｏ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｐ−（トリフェニルシリル）フェニル、ｏ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（トリルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（ベンジルジメチルシリル）フェニル、ｏ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル、ｐ−（フェネチルジメチルシリル）フェニル等のフェニル基や、ビフェニル基や、１−ナフチル、２−ナフチル、１−（４−フルオロ）ナフチル、１−（４−クロロ）ナフチル、１−（４−ブロモ）ナフチル、１−（４−ヘキシル）ナフチル、１−（４−オクチル）ナフチル等のナフチル基や、ナフタレン基や、１−アントラセン、１−（４−クロロ）アントラセン、１−（４−オクチル）アントラセン等のアントラセン基や、１−フェナントレン等のフェナントレン基や、１−フルオレン等のフルオレン基や、１−ペリレン等のペリレン基等が挙げられる。
【００７０】
上記芳香族側鎖を構成する置換基として、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフタレン基、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基及びペリレン基からなる群より選択される少なくとも１種の置換基を有することが好ましい。なかでも、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなることから、上記芳香族側鎖を構成する置換基は、ナフチル基、ナフタレン基、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基又はペリレン基であることがより好ましく、アントラセン基、フェナントレン基、フルオレン基又はペリレン基であることが更に好ましく、フェナントレン基であることが特に好ましい。
なお、上記芳香族側鎖を構成する置換基の一部の水素原子は、水素原子以外の原子又は原子団に置換されていてもよい。
【００７１】
上記アノードエレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００７２】
上記アノードエレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は５μｍである。上記アノードエレクトロクロミック層の厚さが０．０５〜５μｍであると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなる。上記アノードエレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は２μｍであり、更に好ましい下限は０．２μｍ、更に好ましい上限は１μｍである。
【００７３】
上記アノードエレクトロクロミック層は上記バインダー樹脂を含有してもよい。上記バインダー樹脂は上記電解質層に含まれるバインダー樹脂と同様のバインダー樹脂を用いることができる。
【００７４】
上記アノードエレクトロクロミック層を形成する方法として、上記導電性高分子を有機溶剤に溶解させた溶液を調整し、得られた溶液を上記電解質層の一方の面に塗布し、有機溶剤を揮発させる方法等が挙げられる。
【００７５】
上記カソードエレクトロクロミック層は、混合原子価錯体を含有する。上記カソードエレクトロクロミック層は、還元により可視光線透過率が高くなる性質を有する。
【００７６】
上記混合原子価錯体は、エレクトロクロミック性を有すれば特に限定されないが、金属元素とシアノ基とを有する化合物であることが好ましく、鉄等の金属元素とシアノ基とを有する化合物であることがより好ましい。
上記混合原子価錯体として、例えば、プルシアンブルー型錯体（ＫＦｅ［Ｆｅ（ＣＮ）６］）等が挙げられる。上記カソードエレクトロクロミック層に上記混合原子価錯体を含有させることにより、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を得ることができる。
なお、上記混合原子価錯体がプルシアンブルー型錯体（ＫＦｅ［Ｆｅ（ＣＮ）６］）である場合、鉄原子の一部が鉄原子以外の原子に置換されていてもよい。
【００７７】
上記カソードエレクトロクロミック層は、熱線吸収剤や接着力調整剤を含有してもよい。上記熱線吸収剤は、上記電解質層に含有される熱線吸収剤と同様の熱線吸収剤を用いることができる。上記接着力調整剤は、上記電解質層に含有される接着力調整剤と同様の接着力調整剤を用いることができる。
【００７８】
上記カソードエレクトロクロミック層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は０．０５μｍ、好ましい上限は２μｍである。上記カソードエレクトロクロミック層の厚さが０．０５μｍ以上であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより一層短くなり、２μｍ以下であると、調光体の透明性が高くなる。上記カソードエレクトロクロミック層の厚さのより好ましい下限は０．１μｍ、より好ましい上限は１μｍである。
【００７９】
上記カソードエレクトロクロミック層は上記バインダー樹脂を含有してもよい。上記バインダー樹脂は上記電解質層に含まれるバインダー樹脂と同様のバインダー樹脂を用いることができる。
【００８０】
上記カソードエレクトロクロミック層を形成する方法として、上記混合原子価錯体を水や有機溶剤に分散させた分散液を調製し、得られた溶液を上記電解質層に塗布する方法や、透明板の導電膜上に電着法により上記混合原子価錯体を析出させる方法等が挙げられる。例えば、上記電解質層の一方の面に、上記導電性高分子を有機溶剤に溶解させた溶液を塗布し、有機溶剤を揮発させ、アノードエレクトロクロミック層を形成する工程と、上記電解質層の他方の面に、上記混合原子価錯体を有機溶剤に分散させた溶液を塗布し、有機溶剤を揮発させ、カソードエレクトロクロミック層を形成する工程とを行なうことが好ましい。
上記混合原子価錯体を水や有機溶剤に分散させる方法は特に限定されないが、例えば、サンドミル、ビーズミル、ミキサー、超音波による分散等の公知の方法で上記混合原子価錯体を粒子化して分散液を調製する方法等が挙げられる。
また、共押出法により、上記アノードエレクトロクロミック層と、上記電解質層と、上記カソードエレクトロクロミック層とが積層された調光シートを製造してもよい。
なお、アノードエレクトロクロミック層と電解質層とが積層されている積層体と、透明板の導電膜上に形成されたカソードエレクトロクロミック層とを、電解質層とカソードエレクトロクロミック層とが接するように、積層してもよい。
【００８１】
本発明の調光体は、上記電解質層、アノードエレクトロクロミック層、カソードエレクトロクロミック層以外に、必要に応じて、紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層や、熱線吸収剤を含有する赤外線吸収層等を有してもよい。
【００８２】
上記透明板は、少なくとも一方の面に導電膜が形成されていればよい。例えば、上記透明板として、ガラス板を使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。上記透明板として、２種類以上のガラス板を用いてもよい。
【００８３】
また、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されている調光シートもまた、本発明の１つである。なかでも、電解質層の一方の面に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層が直接積層され、かつ電解質層の一方の面とは反対側の他方の面に、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層が直接積層されていることが好ましい。
【００８４】
本発明の調光シートは、表面にエンボスが形成されていることが好ましい。
上記エンボスの粗さは特に限定されないが、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で定義される十点平均粗さの好ましい下限が２０μｍ、好ましい上限が５０μｍである。
【００８５】
本発明の調光シートは、合わせガラス用中間膜として使用することができる。上記合わせガラス用中間膜もまた、本発明の１つである。
【００８６】
本発明の調光シート及び合わせガラス用中間膜は、導電膜との接着力を高めるために、アノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層上に部分的に形成された熱可塑性樹脂を含有する接着層を有することが好ましい。
上記部分的に形成された接着層の形状は特に限定されず、網目状、線状又は斑点状等が挙げられる。
【００８７】
上記アノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層の面積に対する上記接着層の面積の好ましい下限は１０％、好ましい上限は９０％である。上記接着層の面積が１０〜９０％であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短くなる。上記接着層の面積のより好ましい下限は２０％、より好ましい上限は８０％であり、更に好ましい下限は３０％、更に好ましい上限は７０％である。
なお、上記アノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積Ｘ（％）は、以下の式で表される。
Ｘ（％）＝（Ａｍｍ２）／（１０ｍｍ２）×１００
接着層を形成した後の上記アノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察し、接着層が形成された任意の１０箇所（１ｍｍ２／１箇所）における、接着層の存在する合計面積Ａ（ｍｍ２）を測定し、接着層の面積Ｘ（％）を算出する。
【００８８】
上記接着層の最大厚みの上限は５０μｍであることが好ましい。上記接着層の最大厚みが５０μｍ以下であると、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間がより短くなる。上記接着層の最大厚みのより好ましい上限は２０μｍである。
なお、上記接着層の最大厚みとは、接着層を形成した後に接着層を３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＡＳ社製「ＬＥＸＴ ＯＬＳ４０００」）により測定した時の接着層の厚みの最大値を意味する。
【００８９】
上記接着層を形成する方法は特に限定されず、例えば、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスクリーン印刷によりアノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法や、適当な有機溶剤に溶解した上記熱可塑性樹脂をスプレー照射機によりアノードエレクトロクロミック層又はカソードエレクトロクロミック層上に塗布した後、乾燥する方法等が挙げられる。
【００９０】
本発明の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に、それぞれの導電膜と接するように挟み込まれている合わせガラスもまた、本発明の１つである。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板とで、本発明の合わせガラス用中間膜を挟持した合わせガラスが挙げられる。また、上記透明板として、２種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。
【００９１】
上記ガラス板は、少なくとも一方の面に導電膜が形成されている。本発明の合わせガラスにおいて本発明の合わせガラス用中間膜は、上記ガラス板の導電膜が形成された面に接するように２枚のガラス板の間に挟持される。
上記導電膜は、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）等を含む透明導電膜が好ましい。
【００９２】
本発明の合わせガラスの面密度は特に限定されないが、１２ｋｇ／ｍ２以下であることが好ましい。
本発明の合わせガラスは、自動車用ガラスとして使用する場合は、サイドガラス、リアガラス、ルーフガラスとして用いることができる。
【発明の効果】
【００９３】
本発明によれば、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を提供することができる。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートを提供することができる。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００９４】
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されない。
【００９５】
（実施例１）
（１）電解質層の調製
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート２．３８ｇに、支持電解質塩としてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）０．６７ｇを溶解して電解質溶液を調製した。得られた電解質溶液の全量と、バインダー樹脂として、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）５．００ｇとを混合して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）シートに挟み、厚さ４００μｍのスペーサを介して、熱プレスにて１５０℃、１００ｋｇ／ｃｍ２の条件で５分間加圧し、厚さ４００μｍの電解質層を得た。
【００９６】
（２）アノードエレクトロクロミック層の形成
窒素雰囲気下−５０℃で９−エチニルフェナントレン３ｇを溶解させたテトラヒドロフラン溶液３０ｍＬにノルマルブチルリチウムの３０重量％ヘキサン溶液１３．４ｇを添加した。次いで、−９０℃に冷却後、カリウムターシャリーブトキシド１．８ｇを溶解させたテトラヒドロフラン溶液１５ｍＬを添加し、−８０℃で１時間撹拌し、５℃まで昇温した。次いで、−７０℃で１−ヨードオクタデカン５．６ｇを滴下し、−３０℃で１２時間撹拌した。０℃で水１００ｍＬを滴下し、ヘキサン３００ｍＬを加え、生成した化合物を抽出した。このヘキサン層を蒸留水３００ｍＬで３回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで１時間乾燥させ、濾過後、溶媒を留去した。カラム精製後溶媒を留去し、ヘキサンを展開溶媒としてカラム精製することにより３．５ｇの９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレンを得た。
得られた９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレンについて１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）により分析を行ったところ、δ８．７（２Ｈ）、８．５（１Ｈ）、８．１（１Ｈ）、７．７（４Ｈ）、３．７（１Ｈ）、３．５（２Ｈ）、１．７（２Ｈ）、１．６（３０Ｈ）、１．０（３Ｈ）のピークが認められた。
【００９７】
得られた９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン３．５ｇをトルエン１０．５ｇ中でＷＣｌ６触媒０．２ｇを用いて重合させ、ポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）２．７ｇを得た。
得られたポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフ法（ＧＰＣ法）により測定した。Ｗａｔｅｒｓ社製の液体クロマトグラフ装置（Ｗａｔｅｒｓ２６９５，ＲＩ Ｗａｔｅｒｓ２４１０，ＵＶ Ｗａｔｅｒｓ２９９６）を用い、カラムはＳｈｏｄｅｘ社製ＬＦ−８０４を使用した。０．２重量％となるようにクロロホルムに溶解したポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）を１００μＬ注入し、カラム温度４０℃で移動相をクロロホルムとして測定を行った。ポリスチレン換算分子量は、数平均分子量１４万７千、重量平均分子量３１万５千であった。
【００９８】
得られたポリ（９−エチニル−１０−ｎ−オクタデシルフェナントレン）０．０４ｇを１．３ｇのトルエンに溶解して溶液を調製した。この溶液を、得られた電解質層の一方の面に、トルエンが揮発した後の厚さが０．３μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、乾燥して、アノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体を得た。
【００９９】
（３）カソードエレクトロクロミック層の形成
ＩＴＯ電極が形成されたガラス板（表面抵抗１０Ω／□）を用い、ＩＴＯ電極を作用極、Ｐｔ線を対極とし、Ａｇ／ＡｇＣｌを参照極としてフェリシアン化カリウム、塩化第一鉄をそれぞれ１０ｍｍｏｌ／Ｌ溶解した水溶液中で電流密度４０μＡ／ｃｍ２で１２０秒間通電することでＩＴＯ電極表面に、混合原子価錯体として、プルシアンブルー型錯体（ＫＦｅ［Ｆｅ（ＣＮ）６］）を析出させ、ＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー型錯体層を有するＩＴＯガラスを作製した。
【０１００】
（４）調光体の製造
８５℃に加熱したアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を、１枚のＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）と、ＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー型錯体層を有するＩＴＯガラスとの間に、電解質層とプルシアンブルー型錯体層とが接するように挟み込むことにより、調光体を作製した。
得られた調光体は、ガラス板／ＩＴＯ電極／アノードエレクトロクロミック層／電解質層／カソードエレクトロクロミック層（プルシアンブルー型錯体層）／ＩＴＯ電極／ガラス板が積層された構造を有する。
【０１０１】
（実施例２）
プルシアンブルー（ＡＣＲＯＳ ＯＲＧＡＮＩＣＳ社製）０．２ｇをエタノール１９．８ｇに添加した液中に直径３ｍｍのステンレス球８０ｇを加え、ペイントシェーカー（セイワ技研社製）にて１時間振とうすることでプルシアンブルー粒子がエタノール中に分散した分散液を得た。プルシアンブルー粒子の体積平均粒子径を粒度分布計（Ｎｉｃｏｍｐ社製、「３８０ＺＬＳ−Ｓ」）で測定したところ、１３２ｎｍ（ＣＶ値３３．８％）であった。
ＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）上に、得られたプルシアンブルー分散液０．５ｍＬを滴下し、スピンコーター（アクティブ社製）で１０００ｒｐｍの条件で１０秒間回転させ塗布し、ＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー層を有するＩＴＯガラスを作製した。
ＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー型錯体層を有するＩＴＯガラスに代えて、得られたＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー層を有するＩＴＯガラスを用いた以外は実施例１と同様にして、調光体を製造した。
【０１０２】
（実施例３）
直径３ｍｍのステンレス球を、直径１ｍｍのジルコニウム球とした以外は実施例２と同様にしてプルシアンブルー粒子がエタノール中に分散した分散液を得た。実施例２と同様にプルシアンブルー粒子の体積平均粒子径を測定したところ、１２５ｎｍ（ＣＶ値３８．９％）であった。
その後、実施例２と同様にしてＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー層を有するＩＴＯガラスを作製した。
得られたＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー層を有するＩＴＯガラスを用いた以外は実施例１と同様にして、調光体を製造した。
【０１０３】
（実施例４）
実施例１と同様にして電解質層、アノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体を得た。
実施例２と同様にして得られたプルシアンブルー分散液を、得られたアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体のアノードエレクトロクロミック層と反対側の面上に０．５ｍＬ滴下し、スピンコーター（アクティブ社製）で１０００ｒｐｍの条件で１０秒間回転させ塗布し、アノードエレクトロクロミック層／電解質層／プルシアンブルー層がこの順番に積層された調光シートを得た。
【０１０４】
８５℃に加熱した調光シート（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を、２枚のＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）の間に挟み込むことにより調光体を製造した。なお、調光シートとＩＴＯ電極とが接するように調光体を製造した。
【０１０５】
（実施例５）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジアセタートを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１０６】
（実施例６）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−ｎ−ブチレートを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１０７】
（実施例７）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−２−エチルブチレートを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１０８】
（実施例８）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにトリエチレングリコールジ−１−プロピルブチレートを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１０９】
（実施例９）
溶媒としてトリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートの代わりにアジピン酸ジプロポキシエチルを用いて電解質層を調製した以外は実施例２と同様にして調光体を製造した。
【０１１０】
（実施例１０）
バインダー樹脂として、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）の代わりに、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１８ｍｏｌ％、水酸基量１５ｍｏｌ％）を用いて電解質層を調製した以外は実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１１】
（実施例１１）
バインダー樹脂として、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）の代わりに、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量６ｍｏｌ％、水酸基量１１ｍｏｌ％）を用いて電解質層を調製した以外は実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１２】
（実施例１２）
バインダー樹脂として、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）の代わりに、平均重合度が２３００であるポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドによりアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量２２ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）を用いて電解質層を調製した以外は実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１３】
（実施例１３）
電解質層の調整において、トリエチレングリコールジブチレート２．３８ｇをトリエチレングリコールジブチレート２．５ｇに変更した以外は、実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１４】
（実施例１４）
電解質層の調整において、トリエチレングリコールジブチレート２．３８ｇをトリエチレングリコールジブチレート５．０ｇに変更した以外は、実施例６と同様にして調光体を製造した。
【０１１５】
（実施例１５）
平均重合度が１７００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化して得られたポリビニルブチラール樹脂（アセチル基量１３ｍｏｌ％、水酸基量２２ｍｏｌ％）７．８７ｇ、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート５．１ｇ及びビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（ＬｉＴＦＳＩ）１．５６ｇをエタノール４５ｇに溶解して接着剤組成物を得た。
【０１１６】
得られた接着剤組成物を、実施例１と同様の方法にて作製したアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体のアノードエレクトロクロミック層上へ、スクリーン印刷法を用いて印刷した。このとき、３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＡＳ社製「ＬＥＸＴ ＯＬＳ４０００」）による観察から求めた最大厚みが１０μｍ、アノードエレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積が５０％となるように網目状に印刷した。印刷後、接着剤組成物を乾燥して、接着層／アノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体を得た。
なお、アノードエレクトロクロミック層の面積に対する接着層の面積Ｘ（％）は、接着層を形成した後のアノードエレクトロクロミック層を光学顕微鏡で観察し、接着層が形成された任意の１０箇所（１ｍｍ２／１箇所）における、接着層の存在する合計面積Ａ（ｍｍ２）を測定し、以下の式で算出した。
Ｘ（％）＝Ａ（ｍｍ２）／１０（ｍｍ２）×１００
【０１１７】
８５℃に加熱した接着層／アノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を、１枚のＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）と、実施例１と同様の方法により作製したＩＴＯ電極表面にプルシアンブルー型錯体層を有するＩＴＯガラスとの間に、電解質層とプルシアンブルー型錯体層とが接するように挟み込むことにより、調光体を作製した。
得られた調光体は、ガラス板／ＩＴＯ電極／接着層／アノードエレクトロクロミック層／電解質層／カソードエレクトロクロミック層（プルシアンブルー型錯体層）／ＩＴＯ電極／ガラス板が積層された構造を有する。
【０１１８】
（比較例１）
実施例１と同様にしてアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体を作製した。
８５℃に加熱したアノードエレクトロクロミック層／電解質層の積層体（縦５ｃｍ×横５ｃｍ）を、２枚のＩＴＯ電極が形成されたガラス板（縦５ｃｍ×横５ｃｍ、表面抵抗１０Ω／□）の間に挟み込むことにより、調光体を作製した。
得られた調光体は、ガラス板／ＩＴＯ電極／アノードエレクトロクロミック層／電解質層／ＩＴＯ電極／ガラス板が積層された構造を有する。
【０１１９】
（評価）
実施例及び比較例で得られた調光体について、以下の方法により消色時間と着色時間とを測定した。結果を表１に示した。
完全に着色した状態の調光体の波長６４０ｎｍの光の透過率をＴＣ、完全に消色した状態の調光体の波長６４０ｎｍの光の透過率をＴＢとする。
完全に着色した状態の調光体に＋２Ｖの電圧を印加し、電圧を印加してから、調光体の波長６４０ｎｍの光の透過率がＴＣからＴ１＝ＴＣ＋（ＴＢ−ＴＣ）×０．８にまで変化する時間を測定して、これを消色時間とした。
完全に消色した状態の調光体に−２Ｖの電圧を印加し、電圧を印加してから、調光体の波長６４０ｎｍの光の透過率がＴＢからＴ２＝ＴＢ−（ＴＢ−ＴＣ）×０．８にまで変化する時間を測定して、これを着色時間とした。
なお、透過率の測定には、日本分光社製の分光光度計「Ｖ−６７０」を用いた。
また、実施例及び比較例にて用いたＩＴＯ電極が形成されたガラス板の厚みは１ｍｍであった。
【０１２０】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
本発明によれば、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光体を提供することができる。また、電圧を印加してから光透過率の変化が完了するまでの時間が極めて短い調光シートを提供することができる。該調光シートを用いた合わせガラス用中間膜、該合わせガラス用中間膜を備える合わせガラスを提供することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電膜を有する、一対の透明板の間に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されていることを特徴とする調光体。
【請求項２】
導電性高分子が芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物であることを特徴とする請求項１記載の調光体。
【請求項３】
混合原子価錯体がプルシアンブルー型錯体であることを特徴とする請求項１又は２記載の調光体。
【請求項４】
電解質層は、支持電解質塩、バインダー樹脂、並びに、下記式（１）で表される化合物又は下記式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１又は２記載の調光体。
【化１】
式（１）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。
【化２】
式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ４及びＲ６は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【請求項５】
式（１）中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜６のアルキル基を有するアシル基を表すことを特徴とする請求項４記載の調光体。
【請求項６】
バインダー樹脂は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項４又は５記載の調光体。
【請求項７】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５モル％以下であり、かつ、水酸基量が３０モル％以下であることを特徴とする請求項６記載の調光体。
【請求項８】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であることを特徴とする請求項６記載の調光体。
【請求項９】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセタール化度が７０〜８５モル％であることを特徴とする請求項６記載の調光体。
【請求項１０】
導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されていることを特徴とする調光シート。
【請求項１１】
導電性高分子が芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物であることを特徴とする請求項１０記載の調光シート。
【請求項１２】
混合原子価錯体がプルシアンブルー型錯体であることを特徴とする請求項１０又は１１記載の調光シート。
【請求項１３】
電解質層は、支持電解質塩、バインダー樹脂、並びに、下記式（１）で表される化合物又は下記式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１０又は１１記載の調光シート。
【化３】
式（１）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。
【化４】
式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ４及びＲ６は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【請求項１４】
式（１）中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜６のアルキル基を有するアシル基を表すことを特徴とする請求項１３記載の調光シート。
【請求項１５】
バインダー樹脂は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項１３又は１４記載の調光シート。
【請求項１６】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５モル％以下であり、かつ、水酸基量が３０モル％以下であることを特徴とする請求項１５記載の調光シート。
【請求項１７】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であることを特徴とする請求項１５記載の調光シート。
【請求項１８】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセタール化度が７０〜８５モル％であることを特徴とする請求項１５記載の調光シート。
【請求項１９】
請求項１０又は１１記載の調光シートを用いることを特徴とする合わせガラス用中間膜。
【請求項２０】
請求項１９記載の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。
【請求項１】
導電膜を有する、一対の透明板の間に、導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されていることを特徴とする調光体。
【請求項２】
導電性高分子が芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物であることを特徴とする請求項１記載の調光体。
【請求項３】
混合原子価錯体がプルシアンブルー型錯体であることを特徴とする請求項１又は２記載の調光体。
【請求項４】
電解質層は、支持電解質塩、バインダー樹脂、並びに、下記式（１）で表される化合物又は下記式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１又は２記載の調光体。
【化１】
式（１）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。
【化２】
式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ４及びＲ６は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【請求項５】
式（１）中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜６のアルキル基を有するアシル基を表すことを特徴とする請求項４記載の調光体。
【請求項６】
バインダー樹脂は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項４又は５記載の調光体。
【請求項７】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５モル％以下であり、かつ、水酸基量が３０モル％以下であることを特徴とする請求項６記載の調光体。
【請求項８】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であることを特徴とする請求項６記載の調光体。
【請求項９】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセタール化度が７０〜８５モル％であることを特徴とする請求項６記載の調光体。
【請求項１０】
導電性高分子を含有するアノードエレクトロクロミック層と、電解質層と、混合原子価錯体を含有するカソードエレクトロクロミック層とが順次積層されていることを特徴とする調光シート。
【請求項１１】
導電性高分子が芳香族を側鎖に有するポリアセチレン化合物であることを特徴とする請求項１０記載の調光シート。
【請求項１２】
混合原子価錯体がプルシアンブルー型錯体であることを特徴とする請求項１０又は１１記載の調光シート。
【請求項１３】
電解質層は、支持電解質塩、バインダー樹脂、並びに、下記式（１）で表される化合物又は下記式（２）で表される化合物を含有することを特徴とする請求項１０又は１１記載の調光シート。
【化３】
式（１）中、ｎ＝２〜４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜７の有機基を有するアシル基又は炭素数１〜８の有機基を表し、少なくともＲ１又はＲ３の何れかはアシル基を有する。
【化４】
式（２）中、Ｒ４は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表し、Ｒ５は炭素数２〜８のアルキレン基又は炭素数６〜１２のアリーレン基を表し、Ｒ６は炭素数２〜８であり、酸素原子を有する有機基を表す。Ｒ４及びＲ６は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【請求項１４】
式（１）中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキル基を有するアシル基を表し、Ｒ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜６のアルキル基を有するアシル基を表すことを特徴とする請求項１３記載の調光シート。
【請求項１５】
バインダー樹脂は、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項１３又は１４記載の調光シート。
【請求項１６】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が１５モル％以下であり、かつ、水酸基量が３０モル％以下であることを特徴とする請求項１５記載の調光シート。
【請求項１７】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセチル基量が５モル％以上であることを特徴とする請求項１５記載の調光シート。
【請求項１８】
ポリビニルアセタール樹脂は、アセタール化度が７０〜８５モル％であることを特徴とする請求項１５記載の調光シート。
【請求項１９】
請求項１０又は１１記載の調光シートを用いることを特徴とする合わせガラス用中間膜。
【請求項２０】
請求項１９記載の合わせガラス用中間膜が、導電膜が形成されている、一対のガラス板の間に挟み込まれていることを特徴とする合わせガラス。
【公開番号】特開２０１２−５３４３９（Ｐ２０１２−５３４３９Ａ）
【公開日】平成２４年３月１５日（２０１２．３．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−４５２０８（Ｐ２０１１−４５２０８）
【出願日】平成２３年３月２日（２０１１．３．２）
【分割の表示】特願２０１１−５０１０３０（Ｐ２０１１−５０１０３０）の分割
【原出願日】平成２２年１２月１６日（２０１０．１２．１６）
【出願人】（０００００２１７４）積水化学工業株式会社 (5,781)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月１５日（２０１２．３．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２日（２０１１．３．２）
【分割の表示】特願２０１１−５０１０３０（Ｐ２０１１−５０１０３０）の分割
【原出願日】平成２２年１２月１６日（２０１０．１２．１６）
【出願人】（０００００２１７４）積水化学工業株式会社 (5,781)
【Ｆターム（参考）】
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