説明

足浴器

【課題】湯水の加熱と噴射とを効率的に実行し、足浴槽内における湯水の局所的な高温を解消するとともに、足裏及び足の甲のマッサージを同時に実行することを可能とする。
【解決手段】足浴槽11内に設けられた送水口12と、足浴槽11内に湯水2を噴射するために足浴槽11内の最高水位よりも上方に設けられた右側噴射ノズル13aと左側噴射ノズル13bとを有する足浴槽11と、送水口12を介した湯水2が導かれる流路105bを有し、その流路105bにおいて湯水2を加熱するヒータ105と、ヒータ105によって加熱された湯水2を、噴射部13まで送水するポンプ107とを備える。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、温水浴、気泡の発生、水圧による刺激等により足首から下のマッサージを行う際に好適な足浴器に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来より、人体のツボを刺激する方法は、人の健康維持や、患部の痛みを和らげるための一手段として広く行われており、特に足首や足の裏側等にツボが集中していることは、経験上広く知られている。また、低血圧や冷え性の場合には、血行をよくするために、足を部分的に温める健康法も広く知られている。
【0003】
ここで、足部のツボを刺激するための器具としては、青竹踏みや足の載置面に複数の突起を設けた健康サンダル等が存在する。しかしながら、上記の器具によるマッサージは、使用者に足の運動を伴わせるため、使用者がリラックスした状態でのマッサージには不向きである。また、上記の器具によるマッサージは、温浴マッサージや、足裏刺激マッサージ等の効果を同時に享受することができない点においても改善の余地があった。
【0004】
このような欠点を解消すべく、足裏のツボを刺激するマッサージと、足首部分の温浴マッサージとを同時に行うことのできる足浴器が、従来より提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2006−181033号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、上記従来の特許文献1における開示技術では、足浴槽内の一部分において水が加熱されるため、足浴槽内で局所的に高温となる部分が生じることとなり、これにユーザの足が接触した場合には、火傷等の外傷を被ることになり、安全性を欠くという問題点があった。
【0007】
また、特許文献1における開示技術では、足浴槽の底部に設けられた突起と、この底部から発生する気泡によって、足裏のツボを刺激することはできるが、足の甲を刺激してマッサージすることができず、十分なマッサージ効果を得ることができないという問題点もあった。
【0008】
そこで、本発明は、上述した問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的とするところは、温水浴、気泡の発生、水圧による刺激等により足首から下のマッサージを行う足浴器において、足浴槽内における湯水の局所的な高温を解消し、足裏だけでなく、足の甲のマッサージをも同時に実行することを可能とする足浴器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者は、上述した課題を解決するために、鋭意検討の末、下記の足浴器を発明した。
【0010】
第1発明に係る足浴器は、浴槽内に設けられた送水口と、上記浴槽内に水を噴射するために上記浴槽内の最高水位よりも上方に設けられた噴射口とを有する足浴槽と、上記送水口を介した水が導かれる流路を有し、その流路において水を加熱するヒータと、上記ヒータによって加熱された水を、上記噴射口まで送水するポンプとを備えることを特徴とする。
【0011】
第2発明に係る足浴器は、浴槽内に設けられた送水口と、上記浴槽内に水を噴射するために上記浴槽内の最高水位よりも上方に設けられた噴射口とを有する足浴槽と、上記送水口を介した水を加圧するポンプと、上記ポンプによって加圧された水が導かれる流路を有し、その流路において水を加熱するヒータとを備えることを特徴とする。
【0012】
第3発明に係る足浴器は、第1発明又は第2発明において、上記足浴槽内に溜められた水における水面の高さを識別する識別手段と、上記識別手段により識別された水面の高さと予め設定された第1の閾値とを比較する第1比較手段と、上記第1比較手段により、上記水面の高さが上記第1の閾値以下であるものと判定された場合には、上記ヒータによる加熱動作と上記ポンプによる加圧動作とを停止させる電源制御手段とを備えることを特徴とする。
【0013】
第4発明に係る足浴器は、第1発明〜第3発明の何れかにおいて、上記流路に導かれる水の温度を検知する温度検知手段と、上記温度検知手段により検知された温度と予め設定された第2の閾値とを比較する第2比較手段と、上記第2比較手段により、上記温度が上記第2の閾値以上であるものと判定された場合には、上記ヒータによる加熱動作を停止させる熱源制御手段とを備えることを特徴とする。
【0014】
第5発明に係る足浴器は、第1発明〜第4発明の何れかにおいて、上記足浴槽内に溜められた水に気泡を発生させる気泡発生手段をさらに備えることを特徴とする。
【0015】
第6発明に係る足浴器は、第1発明〜第5発明の何れかにおいて、上記足浴槽の内側底面には、複数の突起が形成されてなることを特徴とする。
【0016】
第7発明に係る足浴器は、第1発明〜第6発明の何れかにおいて、上記足浴槽の前方上面には、上記足浴槽を覆うように蓋をさらに備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【0017】
第1発明、第2発明によれば、足浴槽内の最高水位よりも上方に設けられた噴射口から湯水が噴射されることで、足の甲のマッサージをすることが可能となり、また、噴射の勢いを利用した攪拌により、足浴槽内における湯水の局所的な高温を解消することが可能となるとともに、ヒータが内蔵する流路に湯水を通しながら加熱し、湯水をポンプで加圧して噴射することで、湯水の加熱と加圧とを一連の動作で効率的に行うことが可能となる。
【0018】
第3発明によれば、水面の高さを識別して電源を制御することができるため、ヒータの空焚きとポンプの空運転とを防止することができ、足浴器の故障を回避することが可能となるとともに、ユーザの安全性の向上を図ることが可能となる。
【0019】
第4発明によれば、足浴槽内の湯水の温度を識別して電源を制御することができるため、足浴槽内の湯水の過剰な加熱を防止することができ、足浴器の故障を回避することが可能となるとともに、ユーザの安全性の向上を図ることが可能となる。
【0020】
第5発明によれば、足浴槽内の湯水において気泡を発生させることで、マッサージ効果を向上させるが可能となる。
【0021】
第6発明によれば、足浴槽の内側底面に複数の突起が形成されることで、足裏の刺激によるマッサージ効果を得ることが可能となる。
【0022】
第7発明によれば、足浴槽の前方上面に蓋が備えられることで、噴射口から噴射された湯水が浴槽の外部に跳ねることを防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【図1】本発明を適用した足浴器の使用態様を示す斜視図である。
【図2】本発明を適用した足浴器の全体の構成を示す斜視図である。
【図3】本発明を適用した足浴器の上方からの平面図である。
【図4】本発明を適用した足浴器における湯水の循環経路を説明するための側方からの断面図である。
【図5】(a)は、本発明を適用した足浴器における湯水の加熱方法を説明するための図である。(b)は、本発明を適用した足浴器における湯水の噴射方法を説明するための図である。
【図6】本発明を適用した足浴器のブロック構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0024】
以下、本発明を適用した足浴器を実施するための形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【0025】
図1は、本発明を適用した足浴器10の使用態様を示す斜視図である。図2は、本発明を適用した足浴器10の全体の構成を示す斜視図である。この足浴器10は、足浴槽11と、蓋17と、電源コード19とを有する。
【0026】
足浴槽11は、浴槽内側壁11aと、浴槽内底部11bとによって内側が形成される。足浴槽11は、浴槽内底部11bから連続するように形成された浴槽内側壁11aによって、略円形で、かつ、浴槽内底部11bに図1に示す足1のつま先を前方として載置できる大きさとなるように、その内周が形成される。足浴槽11は、外壁101と、底面部102と、上面部103とによって外側が形成される。足浴槽11は、浴槽内側壁11aから連続するように上面部103が形成されるとともに、上面部103から連続するように外壁101が形成され、さらに、外壁101の下端から連続するように底面部102が形成される。足浴槽11は、外壁101によって、略円形で、かつ、足浴槽11の持ち運びが可能な大きさとなるように、その外周が形成される。
【0027】
足浴槽11は、上面部103の前方に足浴槽11の操作部15を有する。足浴槽11は、地面や床等に足浴槽11の載置が可能となるように、底面部102に平面が形成される。本発明は、足浴槽11の内周及び外周が略円形に形成されるものであるが、これに限らず、矩形、楕円形等に形成されてもよい。また、足浴槽11は、その材質に、プラスチック、金属、木材等を用いることができる。
【0028】
浴槽内側壁11aは、噴射部13と、排水口14とを有する。浴槽内側壁11aは、足浴槽11に湯水2を溜めた場合に、ユーザの足首を湯水2に浸けることが可能となる深さで構成される。噴射部13は、右側噴射ノズル13aと左側噴射ノズル13bとを有する。噴射部13は、足浴槽11に溜められる湯水2の最高水位よりも上方で、かつ、足浴槽11の前方に設けられる。排水口14は、足浴槽11に溜められる湯水2の最高水位よりも上方で、かつ、足浴槽11の前方において、浴槽内側壁11aと外壁101とを連通するように、2箇所に設けられる。
【0029】
図3は、本発明を適用した足浴器10を上方から見た平面図である。浴槽内底部11bは、足浴槽11の上方に向けて開口された気泡発生孔111が、足裏の形状に沿うように、所定の間隔をあけて複数形成される。浴槽内底部11bは、先端に丸みを帯びた半球状の大小の突起112が、所定の間隔をあけて複数形成される。
【0030】
浴槽内底部11bは、図2に示されるように、送水口12が形成されるとともに、ドーム形状部材16が上方に設けられた隆起部18を有する。隆起部18は、足浴槽11の上方に向けて湾曲され、浴槽内底部11bの中央に隆起部18を隔てて両足を置くことができるように形成される。送水口12は、隆起部18の右側方及び左側方において、隆起部18の前方で、かつ、隆起部18の下方に、所定の間隔をあけて複数形成される。ドーム形状部材16は、足浴槽11の上方に向けて湾曲された半球状に形成される。
【0031】
上面部103は、図2に示されるように、主電源ボタン15aと、気泡発生ボタン15bと、水圧切替ボタン15cと、温度切替ボタン15dとからなる操作部15を有する。外壁101は、足浴器10の持ち運びを容易とするように、図示しない取っ手が設けられてもよい。蓋17は、その上面に取っ手17aを有し、足浴槽11の前方を覆うようにして取り付けられる。また、電源コード19は、底面部102の足浴槽11の後方に配設される。
【0032】
図4は、本発明を適用した足浴器10における湯水2の循環経路を説明するための側方断面図である。この足浴器10は、足浴槽11の内部に、送水口12に連通される第1管路104と、第1管路104に連結されるヒータ105と、ヒータ105に連結される第2管路106と、第2管路106に連結されるポンプ107と、ポンプ107と噴射部13とを連結する第3管路108とを有する。
【0033】
図5(a)は、本発明を適用した足浴器10におけるヒータ105による加熱方法を説明するための図である。ヒータ105は、電熱線105aを流路105bに巻き付けることにより形成される。図5(b)は、本発明を適用した足浴器10における湯水2の噴射方法を説明するための図である。右側噴射ノズル13aは、右足の甲1aの方向に向けられている。左側噴射ノズル13bは、左足の甲1bの方向に向けられている。
【0034】
図6は、本発明を適用した足浴器10のブロック構成を示している。足浴器10は、各構成要素を制御するいわゆる中央演算ユニットとしての回路ユニット24に対して、それぞれ操作部15、ヒータ105、ポンプ107、気泡発生部21、水位検知部22、温度検知部23が接続される。
【0035】
回路ユニット24は、CPUやメモリ等が実装されてなる。水位検知部22は、足浴槽11内に溜められた湯水2の水位を識別するためのいわゆる水位センサである。温度検知部23は、足浴槽11内に溜められた湯水2の温度を測定するための熱電対等で構成されるが、これに限定されるものではなく、いかなる温度センサで構成されていてもよい。また、操作部15により入力された内容は、回路ユニット24へ通知される。
【0036】
水位検知部22は、足浴槽11内に溜められた水における水面2aの高さを識別する。回路ユニット24は、水位検知部22により識別された水面2aの高さと予め設定された第1の閾値とを比較する。この第1の閾値は、例えば回路ユニット24内の図示しないメモリ等に予め格納されているが、ユーザの意思に応じて任意に書き換え可能な値である。
【0037】
水位検知部22は、識別した水面2aの高さが第1の閾値以下であるものと判定された場合には、回路ユニット24を介して、ヒータ105による加熱動作とポンプ107による加圧動作とを停止させる。
【0038】
温度検知部23は、足浴槽11内に溜められた湯水2の温度を検知する。回路ユニット24は、温度検知部23により検知された湯水2の温度と予め設定された第2の閾値とを比較する。この第2の閾値は、例えば回路ユニット24内の図示しないメモリ等に予め格納されているが、ユーザの意思に応じて任意に書き換え可能な値である。
【0039】
温度検知部23は、識別した湯水2の温度が第2の閾値以上であるものと判定された場合には、回路ユニット24を介して、ヒータ105による加熱動作を停止させる。これにより安全性をより向上させることが可能となる。ちなみに、第2の閾値は、ヒータ105による安全な加熱動作を継続する上での温度の上限といえる。
【0040】
次に、本発明を適用した足浴器10の動作について説明する。
【0041】
ユーザは、図1に示されるように、足浴槽11に湯水2を張るとともに電源コード19をコンセント20に差し込み、主電源ボタン15aを押下して足浴器10の電源を入れる。図4に示されるように、足浴器10は、電源を入れることで、ヒータ105とポンプ107とが作動し、足浴槽11の湯水2は、送水口12から第1管路104に導かれる。第1管路104に導かれた湯水2は、ヒータ105を通過するときに加熱され、第2管路106に導かれる。第2管路106に導かれた湯水2は、ポンプ107によって加圧され、第3管路108に送水される。第3管路108に加圧して送水された湯水2は、噴射部13に導かれる。図5(b)に示されるように、噴射部13に送水された湯水2は、右側噴射ノズル13aと左側噴射ノズル13bとから、それぞれユーザの右足の甲1aと左足の甲1bとに向けて噴射される。
【0042】
なお、図6に示される水位検知部22は、図2に示されるように、十分な量の湯水2が足浴槽11に張られていない状態で、主電源ボタン15aを押下しても電源が入らないようになっている。これにより、本発明を適用した足浴器10は、ヒータ105の空焚き、ポンプ107の空運転を防止することができ、ユーザの安全性の向上をさせ、また、足浴器10の故障を回避して耐久性を向上させることが可能となる。
【0043】
また、図6に示される温度検知部23は、図2に示されるように、湯水2の温度が所定の範囲を超えて上昇した場合に、ヒータ105若しくはポンプ107のうちの何れか一方又は双方の電源が切れるようになっている。これにより、本発明を適用した足浴器10は、湯水2の異常な温度上昇に起因するユーザの火傷等を防止することが可能となる。
【0044】
本発明を適用した足浴器10は、図4に示されるように、足浴槽11に溜められた湯水2を、流水方向aに示されるように循環させ、ヒータ105による加熱と、ポンプ107による加圧とを、一連の動作で行うことが可能となり、効率的な湯水2の加熱と加圧とが可能となる。さらに、ヒータ105は、図5(a)に示されるように、流路105bに湯水2を通すと同時に電熱線105aによって加熱するため、内部に開放空間を有する貯湯式ヒータと比較して圧力損失が小さい。このため、本発明を適用した足浴器10は、ポンプ107の加圧によって湯水2に与えられたエネルギーを、湯水2の循環経路において効率的に利用することが可能となる。
【0045】
右側噴射ノズル13aと左側噴射ノズル13bとから噴射される湯水2は、図4に示されるように、ヒータ105によって加熱され、さらに、ポンプ107によって加圧され、水面2aよりも上方から噴射される。このため、ユーザは、加熱された湯水2による温浴効果と、水面2aよりも上方から噴射された湯水2の水圧によるマッサージ効果とを同時に得ることができ、いわゆる打たせ湯のような効果を得ることが可能となる。
【0046】
湯水2は、加熱された状態で右側噴射ノズル13aと左側噴射ノズル13bとから噴射されるとともに、噴射された勢いにより足浴槽11内で攪拌され、足浴槽11内の低温な湯水2と混合される。これにより、本発明を適用した足浴器10は、足浴槽11内の湯水2の温度を全体的に上昇させるとともに、足浴槽11内の湯水2の温度が局所的に高くなることを防止することが可能となる。
【0047】
ユーザは、図3に示される水圧切替ボタン15cを押下することにより、湯水2が噴射される圧力を調節することができる。また、ユーザは、図3に示される温度切替ボタン15dを押下することにより、湯水2の温度を調節することができる。
【0048】
ユーザは、図3に示される、浴槽内底部11bに形成された大小の突起112を踏むことによって、足裏のツボを刺激することができ、マッサージ効果を得ることが可能となる。また、ユーザは、気泡発生ボタン15bを押下することで、図6に示される気泡発生部21が作動し、気泡発生孔111から気泡が発せられ、気泡の発生によるマッサージ効果とリラックス効果とを得ることが可能となる。さらに、ユーザは、ドーム形状部材16を用い、足裏の土踏まず等を局所的に刺激して、さらなるマッサージ効果を得ることが可能となる。
【0049】
図1に示されるように、蓋17は、足浴槽11の前方に取り付けられるため、噴射部13から噴射された湯水2が、足浴槽11の外部に跳ねることを防止することが可能となる。また、ユーザは、足浴槽11を使用した後、足浴槽11に溜められた湯水2を、排水口14を介して足浴槽11の外部に排水することができる。
【0050】
以上、本発明の実施形態の例について詳細に説明したが、前述した実施形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。
【0051】
例えば、図示しないが、本発明を適用した足浴器10は、足浴槽11の内部に、送水口12に連通される第1管路104と、第1管路104に連結されるポンプ107と、ポンプ107に連結される第2管路106と、第2管路106に連結されるヒータ105と、ヒータ105と噴射部13とを連結する第3管路108とを有する構成としてもよい。
【符号の説明】
【0052】
1 足
2 湯水
2a 水面
10 足浴器
101 外壁
102 底面部
103 上面部
104 第1管路
105 ヒータ
105a 電熱線
105b 流路
106 第2管路
107 ポンプ
108 第3管路
11 足浴槽
11a 浴槽内側壁
11b 浴槽内底部
111 気泡発生孔
112 突起
12 送水口
13 噴射部
13a 右側噴射ノズル
13b 左側噴射ノズル
14 排水口
15 操作部
15a 主電源ボタン
15b 気泡発生ボタン
15c 水圧調節ボタン
15d 温度調節ボタン
16 ドーム形状部材
17 蓋
17a 取っ手
18 隆起部
19 電源コード
20 コンセント
21 気泡発生部
22 水位検知部
23 温度検知部
24 回路ユニット
a 流水方向




【特許請求の範囲】
【請求項1】
浴槽内に設けられた送水口と、上記浴槽内に水を噴射するために上記浴槽内の最高水位よりも上方に設けられた噴射口とを有する足浴槽と、
上記送水口を介した水が導かれる流路を有し、その流路において水を加熱するヒータと、
上記ヒータによって加熱された水を、上記噴射口まで送水するポンプとを備えること
を特徴とする足浴器。
【請求項2】
浴槽内に設けられた送水口と、上記浴槽内に水を噴射するために上記浴槽内の最高水位よりも上方に設けられた噴射口とを有する足浴槽と、
上記送水口を介した水を加圧するポンプと、
上記ポンプによって加圧された水が導かれる流路を有し、その流路において水を加熱するヒータとを備えること
を特徴とする足浴器。
【請求項3】
上記足浴槽内に溜められた水における水面の高さを識別する識別手段と、
上記識別手段により識別された水面の高さと予め設定された第1の閾値とを比較する第1比較手段と、
上記第1比較手段により、上記水面の高さが上記第1の閾値以下であるものと判定された場合には、上記ヒータによる加熱動作と上記ポンプによる加圧動作とを停止させる電源制御手段とを備えること
を特徴とする請求項1又は2記載の足浴器。
【請求項4】
上記流路に導かれる水の温度を検知する温度検知手段と、
上記温度検知手段により検知された温度と予め設定された第2の閾値とを比較する第2比較手段と、
上記第2比較手段により、上記温度が上記第2の閾値以上であるものと判定された場合には、上記ヒータによる加熱動作を停止させる熱源制御手段とを備えること
を特徴とする請求項1〜3のうち何れか1項に記載の足浴器。
【請求項5】
上記足浴槽内に溜められた水に気泡を発生させる気泡発生手段をさらに備えること
を特徴とする請求項1〜4のうち何れか1項に記載の足浴器。
【請求項6】
上記足浴槽の内側底面には、複数の突起が形成されてなること
を特徴とする請求項1〜5のうち何れか1項に記載の足浴器。
【請求項7】
上記足浴槽の前方上面には、上記足浴槽を覆うように蓋をさらに備えること
を特徴とする請求項1〜6のうち何れか1項に記載の足浴器。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2013−106628(P2013−106628A)
【公開日】平成25年6月6日(2013.6.6)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−251428(P2011−251428)
【出願日】平成23年11月17日(2011.11.17)
【出願人】(398006062)株式会社東京企画販売 (10)
【Fターム(参考)】