転写用原盤、転写用ホルダ、転写装置、及び磁気記録媒体
【課題】 転写用原盤と被転写体との面内密着順序を良好に規定し、転写用原盤と被転写体とを高精度に密着する。
【解決手段】 転写用原盤１１、１２は、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が転写用原盤１１、１２の転写面１１ａ、１２ａの特定箇所から開始し順次全体に渡って起こる厚み分布を有するものである。転写用原盤１１、１２の厚み分布は、転写情報を有する領域の最大厚み差が１〜１００μｍの分布であることが好ましい。転写用原盤１１、１２の厚み分布は転写用原盤１１、１２の中心又は径に対して対称な分布であることが好ましい。転写用原盤１１、１２の厚み分布は、外周側から中心側に向けて連続的に厚くなる又は中心側から外周側に向けて連続的に厚くなる厚み分布であることが好ましい。
【解決手段】 転写用原盤１１、１２は、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が転写用原盤１１、１２の転写面１１ａ、１２ａの特定箇所から開始し順次全体に渡って起こる厚み分布を有するものである。転写用原盤１１、１２の厚み分布は、転写情報を有する領域の最大厚み差が１〜１００μｍの分布であることが好ましい。転写用原盤１１、１２の厚み分布は転写用原盤１１、１２の中心又は径に対して対称な分布であることが好ましい。転写用原盤１１、１２の厚み分布は、外周側から中心側に向けて連続的に厚くなる又は中心側から外周側に向けて連続的に厚くなる厚み分布であることが好ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被転写体に転写する転写情報を有する転写用原盤、これを用いる転写用ホルダ及び転写装置、及び磁気転写により製造される磁気記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表面に転写情報を有する転写用原盤と被転写体とを密着させて、転写用原盤の転写情報を被転写体に転写するナノインプリントや磁気転写等の転写技術がある。かかる転写技術では、転写用原盤と被転写体とを高精度に密着させることが重要である。
【０００３】
従来は転写用原盤と被転写体とを各々できる限り互いに平行になるよう保持してから、これらを密着させている。しかしながら、転写用原盤の転写面と被転写体の被転写面はいずれも表面平滑性に僅かながらもバラツキ（これは製作精度による）があるため、転写用原盤と被転写体の密着を開始してから終了するまでの面内密着順序は成り行き任せとなっている。そのため、面内密着順序によっては転写面と被転写面との間にエア溜りが発生するなどして、転写用原盤と被転写体とが良好に密着されない恐れがある。かかる背景下、転写用原盤を湾曲させて転写面の突出箇所から密着を開始する提案がなされている（特許文献１）。
【特許文献１】特開平１１−１６１９５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
転写用原盤を湾曲させる特許文献１に記載の技術では、湾曲形状を高精度に制御することが難しく現実的ではない。また、湾曲した転写用原盤は転写用ホルダの内面から浮いた状態となり転写用ホルダによる保持が不安定である。そのため、密着開始初期の低圧力印加状態でも湾曲状態を維持できず、平坦な転写用原盤と変わりなくなり、面内密着順序を良好に規定できない恐れがある。
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、転写用原盤と被転写体との面内密着順序を良好に規定でき、転写用原盤と被転写体とを高精度に密着することが可能な転写技術、及びこれを適用した磁気記録媒体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、転写用原盤を湾曲させるのではなく、転写用原盤に厚み分布を持たせることで上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
本発明の転写用原盤は、転写情報を有する転写面を有し、該転写面に被転写体が密着され前記転写情報の転写が行われる転写用原盤において、前記被転写体との密着が前記転写面の特定箇所から開始し順次全体に渡って起こる厚み分布を有することを特徴とするものである。
【０００８】
本発明の転写用原盤において、前記厚み分布は、前記転写情報を有する領域の最大厚み差が１〜１００μｍの分布であることが好ましい。前記転写用原盤及び前記被転写体が円盤状の場合、前記厚み分布は前記転写用原盤の中心又は径に対して対称な分布であることが好ましい。また、前記厚み分布は、外周側から中心側に向けて連続的に厚くなる又は中心側から外周側に向けて連続的に厚くなる厚み分布であることが好ましい。
【０００９】
本発明の転写用原盤は、磁気転写用として好適である。
【００１０】
本発明の転写用ホルダは、上記の本発明の転写用原盤と前記被転写体とを挟持し保持する互いに接近離間自在な一対の挟持部材を備えたことを特徴とするものである。
【００１１】
本発明の転写装置は、上記の本発明の転写用ホルダと、該転写用ホルダを加圧する加圧手段とを備え、該加圧手段による前記転写用ホルダの加圧力が０．０５〜１０．０ＭＰａとされたことを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の磁気記録媒体は、磁気転写用である本発明の転写用原盤に前記被転写体を密着させ、前記転写情報を前記被転写面に磁気転写して製造されたものであることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、転写用原盤を湾曲させるのではなく、転写用原盤に厚み分布を持たせることで、転写用原盤と被転写体との密着が転写面の特定箇所から開始し順次全体に渡って起こることを実現したものである。本発明によれば、転写用原盤と被転写体との面内密着順序を良好に規定できるので、エア溜り等の発生を抑制し、転写用原盤と被転写体とを高精度に密着することが可能となる。
【００１４】
本発明は、転写用原盤に厚み分布を持たせる構成としているので、転写用原盤を湾曲させる特許文献１に記載の技術と異なり、面内密着順序を規定する構造の高精度な加工が容易である。また、特許文献１に記載の技術と異なり、密着開始初期の低圧力印加状態でも面内密着順序を規定する構造が良好に維持されるので、高精度な密着を安定的に実施できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図面を参照して、両面磁気転写を例として、本発明に係る実施形態の転写用原盤、これを用いる転写用ホルダ及び転写装置の構造について説明する。図１（ａ）及び（ｂ）は本実施形態の転写用原盤、転写用ホルダ、及び転写装置の構成を示す側面図であり、（ａ）は一対の挟持部材の最離間状態、（ｂ）は最接近状態を示す図である。図１中、転写用ホルダについては断面図で示してある。図３は転写用原盤の平面図、図４は磁気転写原理を示す転写用原盤及び被転写体のトラック方向厚み断面図である。
【００１６】
図１に示す如く、本実施形態では、一対の転写用原盤１１、１２の表面情報が被転写体１５に両面転写される。
【００１７】
図３に示す如く、転写用原盤１１、１２は平面視、中心部に開口部を有する円盤状物であり、被転写体１５に転写する信号パターンに応じた微細な表面凹凸パターン（表面情報）Ｐを有する複数の信号転写領域２０と、隣接する信号転写領域２０の間に位置し表面凹凸パターンＰを有しない非信号転写領域３０とを有するものである（表面凹凸パターンＰは図３を参照）。複数の信号転写領域２０は中心側から放射状に延び、隣接する信号転写領域２０の間に略扇形の非信号転写領域３０がある。すなわち、転写用原盤１１、１２は、トラック方向視、信号転写領域２０と非信号転写領域３０とを繰り返し有するものである。
【００１８】
図４（ｂ）に示す如く、転写用原盤１１、１２の信号転写領域２０は断面視、被転写体１５に転写する信号パターンに応じた表面凹凸パターンＰと略同じ表面凹凸パターンを有する金属製の転写用原盤基板（マスタ基板）１３と、その表面形状に沿って積層され表面凹凸パターンＰを有する磁性層１４とから構成されている。
【００１９】
被転写体１５としては、両面に磁気記録層（図示略）が形成され、中心部に開口部を有する円盤状のスレーブ媒体が使用される。
【００２０】
図４（ａ）に示す如く、あらかじめ被転写体１５に対してトラック方向又は厚み方向に磁界Ｈｉｎを印加し、磁気記録層（図示略）を初期磁化させる（トラック方向に磁界Ｈｉｎを印加した場合について図示してある）。この状態で被転写体１５を転写用原盤１１（１２）の表面に対向配置し、両者を密着させる。
【００２１】
次に、図４（ｂ）に示す如く、密着させた転写用原盤１１（１２）及び被転写体１５に対して、初期磁化方向と略反対方向に転写用磁界Ｈｄｕを印加する。この際、転写用磁界Ｈｄｕは転写用原盤１１（１２）において被転写体１５と密着した磁性層１４の凸部１４ａにのみ略選択的に吸い込まれる。その結果、面内記録の場合、被転写体１５の磁気記録層では、凸部１４ａに密着した部分の初期磁化は反転せずその他の部分の初期磁化が反転する。垂直記録の場合には逆に、被転写体１５の磁気記録層では、凸部１４ａに密着した部分の初期磁化が反転しその他の部分の初期磁化は反転しない。このようにして、転写用原盤１１、１２の表面凹凸パターンＰに応じた磁化パターンが被転写体１５に磁気転写され、磁気記録媒体が製造される。
【００２２】
図１に示す如く、本実施形態の転写用ホルダ１は、一対の転写用原盤１１、１２と被転写体１５とを挟持し保持する互いに接近離間自在な一対の挟持部材４１、４２から概略構成されている。挟持部材４１、４２の内面が転写用原盤１１、１２及び被転写体１５を保持する保持面４１ａ、４２ａとなっている。挟持部材４１、４２には減圧ポンプ等の吸引手段に接続された複数の吸引孔（図示略）が開孔されており、転写用原盤１１、１２は各々挟持部材４１、４２の保持面４１ａ、４２ａに吸引固定されている。吸引孔の形状は特に制限なく、円筒状や溝状等が挙げられる。
【００２３】
図２（ａ）に示す如く、挟持部材４１、４２の保持面４１ａ、４２ａには複数の吸引孔（図示略）が開孔された弾性材５１、５２を取り付け、転写用原盤１１、１２が弾性材５１、５２を介して挟持部材４１、４２に吸引固定される構成とすることが好ましい。弾性材５１、５２を設けることで、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の厚みや挟持部材４１、４２の保持面４１ａ、４２ａの形状の微小なバラツキが補正され、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着を良好に実施でき、好ましい。弾性材５１、５２は特に被転写体１５の面積が大きい場合に有効である。弾性材は少なくとも一方の挟持部材の保持面に設ける構成とすれば、かかる効果が得られる。
【００２４】
挟持部材４１、４２は、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の形状に対応した略円板状部材である。挟持部材４２には、その周面に沿って転写用ホルダ１の周面をなす周壁４３が取り付けられている。周壁４３は挟持部材４２の保持面と反対側の面４２ｂ側から挟持部材４２の周面側に折曲された断面視略Ｌ字状を呈するもので、挟持部材４２の面４２ｂに平行な板状部材４３ａと、挟持部材４２の周面に平行な板状部材４３ｂと、板状部材４３ａ／４３ｂ間に介挿されたバネ部材４３ｃとから構成されている。板状部材４３ｂはバネ部材４３ｃの伸縮によって挟持部材４２に対して摺動自在とされている。
【００２５】
転写用ホルダ１では、図１（ａ）に示す如く、離間状態の一対の挟持部材４１、４２に固定された一対の転写用原盤１１、１２の間に被転写体１５が供給され、一対の転写用原盤１１、１２及び被転写体１５が対向配置される。その後、図１（ｂ）に示す如く、一対の挟持部材４１、４２が互いに接近して転写用原盤１１／被転写体１５／転写用原盤１２が加圧密着される。周壁４３に伸縮自在なバネ部材４３ｃが組み込まれているので、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の密着終了時には、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の厚みによらず、挟持部材４１と周壁４３とが密着し、転写用ホルダ１内が封止される。
【００２６】
本実施形態の転写装置７は転写用ホルダ１を備えたものであり、その他にも上記磁気転写を実施するに必要な装置構成を備えたものである。転写装置７には例えば、被転写体１５を収容する被転写体収容部、被転写体収容部から転写用ホルダ１に被転写体１５を移送するロボットアーム等の移送手段、転写用ホルダ１をなす一対の挟持部材４１、４２のうち少なくとも一方を移動させ、一対の挟持部材４１、４２の接近離間を制御する挟持部材移動手段、及び転写用ホルダ１の外側から転写用ホルダ１に保持された転写用原盤１１、１２及び被転写体１５に磁界を印加する磁界印加手段等が備えられている。
【００２７】
図１では転写用ホルダ１以外の転写装置７の構成要素として、挟持部材移動手段の構成要素である押圧部材（加圧手段）６１、６２のみを図示してある。押圧部材６１、６２は挟持部材４１、４２の保持面と反対側の面４１ｂ、４２ｂに取り付けられており、挟持部材４１、４２を支持すると共に、一対の挟持部材４１、４２を互いに接近する方向に押圧する部材である。
【００２８】
以下、本実施形態の特徴である転写用原盤１１、１２の構成と、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の密着プロセスについて説明する。
【００２９】
本実施形態の転写用原盤１１、１２は、外周側から中心側に向けて連続的に厚くなり中心側が最も厚い厚み分布を有している。挟持部材４１、４２の保持面４１ａ、４２ａは平坦であるので、挟持部材４１、４２に比して柔軟で挟持部材４１、４２に吸引固定される転写用原盤１１、１２は、挟持部材４１、４２側の面１１ｂ、１２ｂが平坦となり、転写面１１ａ、１２ａが上記厚み分布に応じた形状となる。本実施形態では、転写面１１ａ、１２ａは中心に対して対称な部分球面状の凸面形状であり、外周側から中心側に向けて連続的に面高さが高くなり中心側が最も突出した高低分布を有するものとなっている。図中、中心軸線に符号Ａを付してある。
【００３０】
転写用原盤１１、１２における信号転写領域２０（転写情報を有する領域）の最大厚み差は１〜１００μｍ、特に５〜１００μｍであることが好ましい。かかる微小な厚み分布を有する転写用原盤１１、１２は、研磨、切削、エッチング、フォトリソグラフィー等によって精度よく加工することができる。また、微小な厚み分布を有する転写用原盤１１、１２は、研磨、切削、エッチング、フォトリソグラフィー等によって加工された型を用いて電鋳等を実施することでも精度よく製造加工できる。
【００３１】
転写用原盤１１、１２の片面又は両面には、必要に応じて表面処理が施される。例えば、摩擦力低減等を目的として、転写用原盤１１、１２にブラスト加工等の粗面化処理を施すことができる。
【００３２】
転写用ホルダ１の外側から転写用ホルダ１内に保持された転写用原盤１１、１２及び被転写体１５に良好に磁界を印加するため、挟持部材４１、４２の信号転写領域２０に対応する領域の厚みは通常ｍｍオーダーであり、１０ｍｍ以下が好ましい。ｍｍオーダー厚みの挟持部材４１、４２に対して転写用原盤１１、１２の厚み分布はμｍオーダーと小さいが、図面では視認しやすくするため、転写用原盤１１、１２の厚み分布を誇張して図示してある。
【００３３】
本実施形態では、転写用原盤１１、１２の最も突出した箇所である内周部から被転写体１５との密着が開始される。すなわち、転写用原盤１１と被転写体１５との密着及び被転写体１５と転写用原盤１２との密着はいずれも、転写面１１ａ、１２ａの内周部から開始し外周部に向けて順次全体に渡って起こる。
【００３４】
本実施形態では、図１（ｂ）あるいは図２（ｂ）に示す如く、転写面１１ａ、１２ａの信号転写領域２０の最大高低差が加圧密着終了時に密着開始前より低減し、密着終了時の転写面１１ａ、１２ａが平坦面又はそれに近い面形状となるよう、転写面１１ａ、１２ａの材質等が設計されている。かかる構成では、密着終了時の転写用原盤１１、１２の転写面と反対側の面１１ｂ、１２ｂが外側に押し出されて、例えば図示する凸面形状となる。転写用原盤１１、１２の転写面と反対側の面１１ｂ、１２ｂの押出しに伴って、挟持部材４１、４２あるいは弾性材５１、５２が変形する。加圧密着によって転写面１１ａ、１２ａの高低差が密着前より低減し、転写面１１ａ、１２ａが平坦面又はそれに近い面形状となることで、一対の転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が全面に渡って良好に実施され、好ましい。
【００３５】
本発明者は、転写用原盤１１、１２の信号転写領域２０の最大厚み差を１μｍ以上、好ましくは５μｍ以上とすることで、面内密着順序が上記のように良好に規定されることを見出している。本発明者は、同領域の最大厚み差を１００μｍ以下とすることで、転写用原盤１１、１２が挟持部材４１、４２（又は弾性材５１、５２）から浮くことなく、転写用原盤１１、１２の面全体が挟持部材４１、４２（又は弾性材５１、５２）に良好に密着して転写用原盤１１、１２が転写用ホルダ１に安定的に保持されることを見出している。また、同領域の最大厚み差を１００μｍ以下とすることで、転写用原盤１１、１２の湾曲による損傷が抑制されることも見出している。
【００３６】
本実施形態において、押圧部材（加圧手段）６１、６２による転写用ホルダ１の加圧力は好ましくは０．０５〜１０．０ＭＰａである。磁気転写では加圧力が０．０５〜１．０ＭＰａであることが特に好ましい。加圧力が過小では転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が不充分となる恐れがあり、加圧力が過大では転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着速度が速くなりすぎ、面内密着順序が上記のように良好に規定されなくなる恐れがある。
【００３７】
本実施形態の転写用原盤１１、１２、転写用ホルダ１、及び転写装置７は、以上のように構成されている。
【００３８】
本実施形態は、転写用原盤を湾曲させるのではなく、転写用原盤１１、１２に厚み分布を持たせることで、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が転写面１１ａ、１２ａの特定箇所から開始し順次全体に渡って起こることを実現したものである。本実施形態によれば、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との面内密着順序を良好に規定できるので、エア溜り等の発生を抑制し、転写用原盤１１、１２と被転写体１５とを高精度に密着することが可能となる。
【００３９】
本実施形態では、転写用原盤１１、１２の厚み分布を転写用原盤１１、１２の中心に対して対称な分布（中心軸線Ａに対して回転対称な分布）としているので、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が内周部から外周部に向けて順次周方向均等に安定的に進行し、面内密着順序が良好に規定される。
【００４０】
本実施形態では、転写用原盤１１、１２を湾曲させる特許文献１に記載の技術と異なり、面内密着順序を規定する転写用原盤１１、１２の高精度な加工を容易にかつ低コストに実施できる。上記の如く、転写用原盤１１、１２は例えば、研磨、切削、エッチング、フォトリソグラフィー等によって精度よく加工することができる。転写用原盤１１、１２はまた、研磨、切削、エッチング、フォトリソグラフィー等によって加工された型を用いて電鋳等を実施することでも精度よく製造加工することができる。また、特許文献１に記載の技術と異なり、転写用原盤１１、１２は挟持部材４１、４２（又は弾性材５１、５２）から浮くことなく面全体が転写用ホルダ１に安定的に保持されるので、密着開始初期の低圧力印加状態でも面内密着順序を規定する転写用原盤１１、１２の形状が良好に維持され、高精度な密着を安定的に実施できる。
【００４１】
本実施形態では磁界印加終了後の被転写体１５を取り出す際には、転写用ホルダ１への加圧力の解除によって、転写用原盤１１、１２に元の形状に戻ろうとする復元力が作用する。この復元力は被転写体１５を転写用原盤１１、１２の転写面から剥離する力として作用するので、被転写体１５の転写用原盤１１、１２からの剥離・取出しも容易となる。
【００４２】
本実施形態の転写用ホルダ１及び転写装置７は、転写用原盤１１、１２を用いるものであるので高精度な磁気転写を実施できるものとなる。本実施形態の転写用ホルダ１及び転写装置７を用いることで、転写精度が良好な磁気記録媒体を安定的に製造することができる。
【００４３】
（その他の態様）
上記実施形態は一例にすぎず、適宜設計変更可能である。
【００４４】
転写用原盤１１、１２は、被転写体１５との密着が転写面１１ａ、１２ａの特定箇所から開始し順次全体に渡って起こる厚み分布を有するものであれば、上記実施形態と同様の効果が得られる。
【００４５】
図５（ａ）に示す転写用ホルダ２は、転写用原盤１１、１２が中心側から外周側に向けて連続的に厚くなり外周側が最も突出した厚み分布を有し、転写面１１ａ、１２ａが被転写体１５の中心に対して対称な部分球面状の凹面形状となる態様である。かかる構成では、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が外周部から内周部に向けて順次起こる。
【００４６】
転写用原盤１１と転写用原盤１２とは異なる厚み分布としてもよい。図５（ｂ）に示す転写用ホルダ３は、転写用原盤１１は図１（ａ）に示した厚み分布を有し、転写用原盤１２は図４（ａ）に示した厚み分布を有する態様である。
【００４７】
図６（ａ）、（ｂ）に示す転写用ホルダ４、５は、上記実施形態と同様、転写用原盤１１、１２が外周側から中心側に向けて連続的に厚くなり中心側が最も突出した厚み分布を有するが、転写面１１ａ、１２ａが被転写体１５の中心に対して対称な略円錐状の凸面形状となる態様である。
【００４８】
転写用原盤１１、１２は径に対して対称な厚み分布を有し、転写面１１ａ、１２ａが径に対して対称な面形状となる構成でもよい。かかる構成でも、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が転写面形状に対応して対称的に進行し、面内密着順序が良好に規定される。径に対して対称な面形状としては放物面状、部分円筒面状、鞍面状等が挙げられる。
【００４９】
図７に示す転写用ホルダ６Ａは、転写用原盤１１、１２の転写面１１ａ、１２ａが部分円筒状となる態様である。図７（ａ）は部分円筒状の転写面１１ａの斜視図である。図７（ｂ）は転写用原盤１１〜挟持部材４１を転写用原盤１１の転写面側から見た平面図、及び転写用原盤１１〜挟持部材４１を９０°ずれた方向から見た２つの側面図（挟持部材４１については断面図で示してある。）である。挟持部材４２側は同様の構成であるので、図示を省略してある。
【００５０】
図８に示す転写用ホルダ６Ｂは、転写用原盤１１、１２の転写面１１ａ、１２ａが鞍面状となる態様である。図８は図７に対応する図である。鞍面状の転写面１１ａ（１２ａ）では、外周部の同径上の２箇所が最も突出し、そこから９０°ずれた箇所が最も窪んだ凹凸面形状となる。かかる構成では、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が、最も突出した外周部の同径上の２箇所から開始し面高さの高い方から低い方に向けて順次進行する。
【００５１】
転写用原盤１１、１２は、厚みの厚い側から薄い側に向けて連続的に厚みが変化するものであることが好ましいが、厚みの厚い側から薄い側に向けて段階的に厚みが変化するものとしてもよい。
【００５２】
転写用原盤１１、１２の挟持部材４１、４２への固定は吸引固定に制限されず、接着剤や磁力等による固定でもよい。
【００５３】
転写用ホルダ１〜５、６Ａ、６Ｂは、本発明の転写用原盤を一対用いたものであるが、少なくとも一方が本発明の転写用原盤であれば、厚み分布のない平坦な転写用原盤のみを用いる従来の転写用ホルダよりも良好な密着が実施できる。
【００５４】
上記実施形態は両面転写について説明したが、本発明は、離間状態の一対の挟持部材４１、４２の間に１個の転写用原盤１１及び被転写体１５を互いに対向配置し、一対の挟持部材４１、４２を互いに接近させて転写用原盤１１及び被転写体１５を加圧密着し、被転写体１５に転写用原盤１１の転写情報を転写する片面転写にも適用可能である。
【００５５】
本発明は、厳密な位置調整が必要な磁気転写に好ましく適用できるが、転写用原盤と被転写体とを密着させて、磁気情報や形状等の情報を転写する任意の転写技術に適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明は、表面に所定の凹凸パターンを有する転写用原盤を被転写体に密着させ、転写用原盤の凹凸パターンに応じた磁気情報や凹凸パターン形状等の情報を転写する、磁気転写、ナノインプリンティング、パターンドメディア等の転写技術に好ましく適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】（ａ）、（ｂ）は本発明に係る実施形態の転写用原盤、転写用ホルダ、及び転写装置の構成を示す側面図
【図２】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用ホルダの他の態様を示す図
【図３】転写用原盤の平面図
【図４】磁気転写原理を示す断面図
【図５】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用原盤及び転写用ホルダの他の態様を示す図
【図６】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用原盤及び転写用ホルダの他の態様を示す図
【図７】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用原盤及び転写用ホルダの他の態様を示す図
【図８】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用原盤及び転写用ホルダの他の態様を示す図
【符号の説明】
【００５８】
１〜６Ａ、６Ｂ 転写用ホルダ
７ 転写装置
１１、１２ 転写用原盤
１１ａ、１２ａ 転写面
１１ｂ、１２ｂ 転写面と反対側の面
１５ 被転写体
４１、４２ 挟持部材
５１、５２ 弾性材
６１、６２ 押圧部材（加圧手段）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被転写体に転写する転写情報を有する転写用原盤、これを用いる転写用ホルダ及び転写装置、及び磁気転写により製造される磁気記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
表面に転写情報を有する転写用原盤と被転写体とを密着させて、転写用原盤の転写情報を被転写体に転写するナノインプリントや磁気転写等の転写技術がある。かかる転写技術では、転写用原盤と被転写体とを高精度に密着させることが重要である。
【０００３】
従来は転写用原盤と被転写体とを各々できる限り互いに平行になるよう保持してから、これらを密着させている。しかしながら、転写用原盤の転写面と被転写体の被転写面はいずれも表面平滑性に僅かながらもバラツキ（これは製作精度による）があるため、転写用原盤と被転写体の密着を開始してから終了するまでの面内密着順序は成り行き任せとなっている。そのため、面内密着順序によっては転写面と被転写面との間にエア溜りが発生するなどして、転写用原盤と被転写体とが良好に密着されない恐れがある。かかる背景下、転写用原盤を湾曲させて転写面の突出箇所から密着を開始する提案がなされている（特許文献１）。
【特許文献１】特開平１１−１６１９５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
転写用原盤を湾曲させる特許文献１に記載の技術では、湾曲形状を高精度に制御することが難しく現実的ではない。また、湾曲した転写用原盤は転写用ホルダの内面から浮いた状態となり転写用ホルダによる保持が不安定である。そのため、密着開始初期の低圧力印加状態でも湾曲状態を維持できず、平坦な転写用原盤と変わりなくなり、面内密着順序を良好に規定できない恐れがある。
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、転写用原盤と被転写体との面内密着順序を良好に規定でき、転写用原盤と被転写体とを高精度に密着することが可能な転写技術、及びこれを適用した磁気記録媒体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、転写用原盤を湾曲させるのではなく、転写用原盤に厚み分布を持たせることで上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成した。
【０００７】
本発明の転写用原盤は、転写情報を有する転写面を有し、該転写面に被転写体が密着され前記転写情報の転写が行われる転写用原盤において、前記被転写体との密着が前記転写面の特定箇所から開始し順次全体に渡って起こる厚み分布を有することを特徴とするものである。
【０００８】
本発明の転写用原盤において、前記厚み分布は、前記転写情報を有する領域の最大厚み差が１〜１００μｍの分布であることが好ましい。前記転写用原盤及び前記被転写体が円盤状の場合、前記厚み分布は前記転写用原盤の中心又は径に対して対称な分布であることが好ましい。また、前記厚み分布は、外周側から中心側に向けて連続的に厚くなる又は中心側から外周側に向けて連続的に厚くなる厚み分布であることが好ましい。
【０００９】
本発明の転写用原盤は、磁気転写用として好適である。
【００１０】
本発明の転写用ホルダは、上記の本発明の転写用原盤と前記被転写体とを挟持し保持する互いに接近離間自在な一対の挟持部材を備えたことを特徴とするものである。
【００１１】
本発明の転写装置は、上記の本発明の転写用ホルダと、該転写用ホルダを加圧する加圧手段とを備え、該加圧手段による前記転写用ホルダの加圧力が０．０５〜１０．０ＭＰａとされたことを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の磁気記録媒体は、磁気転写用である本発明の転写用原盤に前記被転写体を密着させ、前記転写情報を前記被転写面に磁気転写して製造されたものであることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、転写用原盤を湾曲させるのではなく、転写用原盤に厚み分布を持たせることで、転写用原盤と被転写体との密着が転写面の特定箇所から開始し順次全体に渡って起こることを実現したものである。本発明によれば、転写用原盤と被転写体との面内密着順序を良好に規定できるので、エア溜り等の発生を抑制し、転写用原盤と被転写体とを高精度に密着することが可能となる。
【００１４】
本発明は、転写用原盤に厚み分布を持たせる構成としているので、転写用原盤を湾曲させる特許文献１に記載の技術と異なり、面内密着順序を規定する構造の高精度な加工が容易である。また、特許文献１に記載の技術と異なり、密着開始初期の低圧力印加状態でも面内密着順序を規定する構造が良好に維持されるので、高精度な密着を安定的に実施できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図面を参照して、両面磁気転写を例として、本発明に係る実施形態の転写用原盤、これを用いる転写用ホルダ及び転写装置の構造について説明する。図１（ａ）及び（ｂ）は本実施形態の転写用原盤、転写用ホルダ、及び転写装置の構成を示す側面図であり、（ａ）は一対の挟持部材の最離間状態、（ｂ）は最接近状態を示す図である。図１中、転写用ホルダについては断面図で示してある。図３は転写用原盤の平面図、図４は磁気転写原理を示す転写用原盤及び被転写体のトラック方向厚み断面図である。
【００１６】
図１に示す如く、本実施形態では、一対の転写用原盤１１、１２の表面情報が被転写体１５に両面転写される。
【００１７】
図３に示す如く、転写用原盤１１、１２は平面視、中心部に開口部を有する円盤状物であり、被転写体１５に転写する信号パターンに応じた微細な表面凹凸パターン（表面情報）Ｐを有する複数の信号転写領域２０と、隣接する信号転写領域２０の間に位置し表面凹凸パターンＰを有しない非信号転写領域３０とを有するものである（表面凹凸パターンＰは図３を参照）。複数の信号転写領域２０は中心側から放射状に延び、隣接する信号転写領域２０の間に略扇形の非信号転写領域３０がある。すなわち、転写用原盤１１、１２は、トラック方向視、信号転写領域２０と非信号転写領域３０とを繰り返し有するものである。
【００１８】
図４（ｂ）に示す如く、転写用原盤１１、１２の信号転写領域２０は断面視、被転写体１５に転写する信号パターンに応じた表面凹凸パターンＰと略同じ表面凹凸パターンを有する金属製の転写用原盤基板（マスタ基板）１３と、その表面形状に沿って積層され表面凹凸パターンＰを有する磁性層１４とから構成されている。
【００１９】
被転写体１５としては、両面に磁気記録層（図示略）が形成され、中心部に開口部を有する円盤状のスレーブ媒体が使用される。
【００２０】
図４（ａ）に示す如く、あらかじめ被転写体１５に対してトラック方向又は厚み方向に磁界Ｈｉｎを印加し、磁気記録層（図示略）を初期磁化させる（トラック方向に磁界Ｈｉｎを印加した場合について図示してある）。この状態で被転写体１５を転写用原盤１１（１２）の表面に対向配置し、両者を密着させる。
【００２１】
次に、図４（ｂ）に示す如く、密着させた転写用原盤１１（１２）及び被転写体１５に対して、初期磁化方向と略反対方向に転写用磁界Ｈｄｕを印加する。この際、転写用磁界Ｈｄｕは転写用原盤１１（１２）において被転写体１５と密着した磁性層１４の凸部１４ａにのみ略選択的に吸い込まれる。その結果、面内記録の場合、被転写体１５の磁気記録層では、凸部１４ａに密着した部分の初期磁化は反転せずその他の部分の初期磁化が反転する。垂直記録の場合には逆に、被転写体１５の磁気記録層では、凸部１４ａに密着した部分の初期磁化が反転しその他の部分の初期磁化は反転しない。このようにして、転写用原盤１１、１２の表面凹凸パターンＰに応じた磁化パターンが被転写体１５に磁気転写され、磁気記録媒体が製造される。
【００２２】
図１に示す如く、本実施形態の転写用ホルダ１は、一対の転写用原盤１１、１２と被転写体１５とを挟持し保持する互いに接近離間自在な一対の挟持部材４１、４２から概略構成されている。挟持部材４１、４２の内面が転写用原盤１１、１２及び被転写体１５を保持する保持面４１ａ、４２ａとなっている。挟持部材４１、４２には減圧ポンプ等の吸引手段に接続された複数の吸引孔（図示略）が開孔されており、転写用原盤１１、１２は各々挟持部材４１、４２の保持面４１ａ、４２ａに吸引固定されている。吸引孔の形状は特に制限なく、円筒状や溝状等が挙げられる。
【００２３】
図２（ａ）に示す如く、挟持部材４１、４２の保持面４１ａ、４２ａには複数の吸引孔（図示略）が開孔された弾性材５１、５２を取り付け、転写用原盤１１、１２が弾性材５１、５２を介して挟持部材４１、４２に吸引固定される構成とすることが好ましい。弾性材５１、５２を設けることで、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の厚みや挟持部材４１、４２の保持面４１ａ、４２ａの形状の微小なバラツキが補正され、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着を良好に実施でき、好ましい。弾性材５１、５２は特に被転写体１５の面積が大きい場合に有効である。弾性材は少なくとも一方の挟持部材の保持面に設ける構成とすれば、かかる効果が得られる。
【００２４】
挟持部材４１、４２は、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の形状に対応した略円板状部材である。挟持部材４２には、その周面に沿って転写用ホルダ１の周面をなす周壁４３が取り付けられている。周壁４３は挟持部材４２の保持面と反対側の面４２ｂ側から挟持部材４２の周面側に折曲された断面視略Ｌ字状を呈するもので、挟持部材４２の面４２ｂに平行な板状部材４３ａと、挟持部材４２の周面に平行な板状部材４３ｂと、板状部材４３ａ／４３ｂ間に介挿されたバネ部材４３ｃとから構成されている。板状部材４３ｂはバネ部材４３ｃの伸縮によって挟持部材４２に対して摺動自在とされている。
【００２５】
転写用ホルダ１では、図１（ａ）に示す如く、離間状態の一対の挟持部材４１、４２に固定された一対の転写用原盤１１、１２の間に被転写体１５が供給され、一対の転写用原盤１１、１２及び被転写体１５が対向配置される。その後、図１（ｂ）に示す如く、一対の挟持部材４１、４２が互いに接近して転写用原盤１１／被転写体１５／転写用原盤１２が加圧密着される。周壁４３に伸縮自在なバネ部材４３ｃが組み込まれているので、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の密着終了時には、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の厚みによらず、挟持部材４１と周壁４３とが密着し、転写用ホルダ１内が封止される。
【００２６】
本実施形態の転写装置７は転写用ホルダ１を備えたものであり、その他にも上記磁気転写を実施するに必要な装置構成を備えたものである。転写装置７には例えば、被転写体１５を収容する被転写体収容部、被転写体収容部から転写用ホルダ１に被転写体１５を移送するロボットアーム等の移送手段、転写用ホルダ１をなす一対の挟持部材４１、４２のうち少なくとも一方を移動させ、一対の挟持部材４１、４２の接近離間を制御する挟持部材移動手段、及び転写用ホルダ１の外側から転写用ホルダ１に保持された転写用原盤１１、１２及び被転写体１５に磁界を印加する磁界印加手段等が備えられている。
【００２７】
図１では転写用ホルダ１以外の転写装置７の構成要素として、挟持部材移動手段の構成要素である押圧部材（加圧手段）６１、６２のみを図示してある。押圧部材６１、６２は挟持部材４１、４２の保持面と反対側の面４１ｂ、４２ｂに取り付けられており、挟持部材４１、４２を支持すると共に、一対の挟持部材４１、４２を互いに接近する方向に押圧する部材である。
【００２８】
以下、本実施形態の特徴である転写用原盤１１、１２の構成と、転写用原盤１１、１２及び被転写体１５の密着プロセスについて説明する。
【００２９】
本実施形態の転写用原盤１１、１２は、外周側から中心側に向けて連続的に厚くなり中心側が最も厚い厚み分布を有している。挟持部材４１、４２の保持面４１ａ、４２ａは平坦であるので、挟持部材４１、４２に比して柔軟で挟持部材４１、４２に吸引固定される転写用原盤１１、１２は、挟持部材４１、４２側の面１１ｂ、１２ｂが平坦となり、転写面１１ａ、１２ａが上記厚み分布に応じた形状となる。本実施形態では、転写面１１ａ、１２ａは中心に対して対称な部分球面状の凸面形状であり、外周側から中心側に向けて連続的に面高さが高くなり中心側が最も突出した高低分布を有するものとなっている。図中、中心軸線に符号Ａを付してある。
【００３０】
転写用原盤１１、１２における信号転写領域２０（転写情報を有する領域）の最大厚み差は１〜１００μｍ、特に５〜１００μｍであることが好ましい。かかる微小な厚み分布を有する転写用原盤１１、１２は、研磨、切削、エッチング、フォトリソグラフィー等によって精度よく加工することができる。また、微小な厚み分布を有する転写用原盤１１、１２は、研磨、切削、エッチング、フォトリソグラフィー等によって加工された型を用いて電鋳等を実施することでも精度よく製造加工できる。
【００３１】
転写用原盤１１、１２の片面又は両面には、必要に応じて表面処理が施される。例えば、摩擦力低減等を目的として、転写用原盤１１、１２にブラスト加工等の粗面化処理を施すことができる。
【００３２】
転写用ホルダ１の外側から転写用ホルダ１内に保持された転写用原盤１１、１２及び被転写体１５に良好に磁界を印加するため、挟持部材４１、４２の信号転写領域２０に対応する領域の厚みは通常ｍｍオーダーであり、１０ｍｍ以下が好ましい。ｍｍオーダー厚みの挟持部材４１、４２に対して転写用原盤１１、１２の厚み分布はμｍオーダーと小さいが、図面では視認しやすくするため、転写用原盤１１、１２の厚み分布を誇張して図示してある。
【００３３】
本実施形態では、転写用原盤１１、１２の最も突出した箇所である内周部から被転写体１５との密着が開始される。すなわち、転写用原盤１１と被転写体１５との密着及び被転写体１５と転写用原盤１２との密着はいずれも、転写面１１ａ、１２ａの内周部から開始し外周部に向けて順次全体に渡って起こる。
【００３４】
本実施形態では、図１（ｂ）あるいは図２（ｂ）に示す如く、転写面１１ａ、１２ａの信号転写領域２０の最大高低差が加圧密着終了時に密着開始前より低減し、密着終了時の転写面１１ａ、１２ａが平坦面又はそれに近い面形状となるよう、転写面１１ａ、１２ａの材質等が設計されている。かかる構成では、密着終了時の転写用原盤１１、１２の転写面と反対側の面１１ｂ、１２ｂが外側に押し出されて、例えば図示する凸面形状となる。転写用原盤１１、１２の転写面と反対側の面１１ｂ、１２ｂの押出しに伴って、挟持部材４１、４２あるいは弾性材５１、５２が変形する。加圧密着によって転写面１１ａ、１２ａの高低差が密着前より低減し、転写面１１ａ、１２ａが平坦面又はそれに近い面形状となることで、一対の転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が全面に渡って良好に実施され、好ましい。
【００３５】
本発明者は、転写用原盤１１、１２の信号転写領域２０の最大厚み差を１μｍ以上、好ましくは５μｍ以上とすることで、面内密着順序が上記のように良好に規定されることを見出している。本発明者は、同領域の最大厚み差を１００μｍ以下とすることで、転写用原盤１１、１２が挟持部材４１、４２（又は弾性材５１、５２）から浮くことなく、転写用原盤１１、１２の面全体が挟持部材４１、４２（又は弾性材５１、５２）に良好に密着して転写用原盤１１、１２が転写用ホルダ１に安定的に保持されることを見出している。また、同領域の最大厚み差を１００μｍ以下とすることで、転写用原盤１１、１２の湾曲による損傷が抑制されることも見出している。
【００３６】
本実施形態において、押圧部材（加圧手段）６１、６２による転写用ホルダ１の加圧力は好ましくは０．０５〜１０．０ＭＰａである。磁気転写では加圧力が０．０５〜１．０ＭＰａであることが特に好ましい。加圧力が過小では転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が不充分となる恐れがあり、加圧力が過大では転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着速度が速くなりすぎ、面内密着順序が上記のように良好に規定されなくなる恐れがある。
【００３７】
本実施形態の転写用原盤１１、１２、転写用ホルダ１、及び転写装置７は、以上のように構成されている。
【００３８】
本実施形態は、転写用原盤を湾曲させるのではなく、転写用原盤１１、１２に厚み分布を持たせることで、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が転写面１１ａ、１２ａの特定箇所から開始し順次全体に渡って起こることを実現したものである。本実施形態によれば、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との面内密着順序を良好に規定できるので、エア溜り等の発生を抑制し、転写用原盤１１、１２と被転写体１５とを高精度に密着することが可能となる。
【００３９】
本実施形態では、転写用原盤１１、１２の厚み分布を転写用原盤１１、１２の中心に対して対称な分布（中心軸線Ａに対して回転対称な分布）としているので、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が内周部から外周部に向けて順次周方向均等に安定的に進行し、面内密着順序が良好に規定される。
【００４０】
本実施形態では、転写用原盤１１、１２を湾曲させる特許文献１に記載の技術と異なり、面内密着順序を規定する転写用原盤１１、１２の高精度な加工を容易にかつ低コストに実施できる。上記の如く、転写用原盤１１、１２は例えば、研磨、切削、エッチング、フォトリソグラフィー等によって精度よく加工することができる。転写用原盤１１、１２はまた、研磨、切削、エッチング、フォトリソグラフィー等によって加工された型を用いて電鋳等を実施することでも精度よく製造加工することができる。また、特許文献１に記載の技術と異なり、転写用原盤１１、１２は挟持部材４１、４２（又は弾性材５１、５２）から浮くことなく面全体が転写用ホルダ１に安定的に保持されるので、密着開始初期の低圧力印加状態でも面内密着順序を規定する転写用原盤１１、１２の形状が良好に維持され、高精度な密着を安定的に実施できる。
【００４１】
本実施形態では磁界印加終了後の被転写体１５を取り出す際には、転写用ホルダ１への加圧力の解除によって、転写用原盤１１、１２に元の形状に戻ろうとする復元力が作用する。この復元力は被転写体１５を転写用原盤１１、１２の転写面から剥離する力として作用するので、被転写体１５の転写用原盤１１、１２からの剥離・取出しも容易となる。
【００４２】
本実施形態の転写用ホルダ１及び転写装置７は、転写用原盤１１、１２を用いるものであるので高精度な磁気転写を実施できるものとなる。本実施形態の転写用ホルダ１及び転写装置７を用いることで、転写精度が良好な磁気記録媒体を安定的に製造することができる。
【００４３】
（その他の態様）
上記実施形態は一例にすぎず、適宜設計変更可能である。
【００４４】
転写用原盤１１、１２は、被転写体１５との密着が転写面１１ａ、１２ａの特定箇所から開始し順次全体に渡って起こる厚み分布を有するものであれば、上記実施形態と同様の効果が得られる。
【００４５】
図５（ａ）に示す転写用ホルダ２は、転写用原盤１１、１２が中心側から外周側に向けて連続的に厚くなり外周側が最も突出した厚み分布を有し、転写面１１ａ、１２ａが被転写体１５の中心に対して対称な部分球面状の凹面形状となる態様である。かかる構成では、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が外周部から内周部に向けて順次起こる。
【００４６】
転写用原盤１１と転写用原盤１２とは異なる厚み分布としてもよい。図５（ｂ）に示す転写用ホルダ３は、転写用原盤１１は図１（ａ）に示した厚み分布を有し、転写用原盤１２は図４（ａ）に示した厚み分布を有する態様である。
【００４７】
図６（ａ）、（ｂ）に示す転写用ホルダ４、５は、上記実施形態と同様、転写用原盤１１、１２が外周側から中心側に向けて連続的に厚くなり中心側が最も突出した厚み分布を有するが、転写面１１ａ、１２ａが被転写体１５の中心に対して対称な略円錐状の凸面形状となる態様である。
【００４８】
転写用原盤１１、１２は径に対して対称な厚み分布を有し、転写面１１ａ、１２ａが径に対して対称な面形状となる構成でもよい。かかる構成でも、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が転写面形状に対応して対称的に進行し、面内密着順序が良好に規定される。径に対して対称な面形状としては放物面状、部分円筒面状、鞍面状等が挙げられる。
【００４９】
図７に示す転写用ホルダ６Ａは、転写用原盤１１、１２の転写面１１ａ、１２ａが部分円筒状となる態様である。図７（ａ）は部分円筒状の転写面１１ａの斜視図である。図７（ｂ）は転写用原盤１１〜挟持部材４１を転写用原盤１１の転写面側から見た平面図、及び転写用原盤１１〜挟持部材４１を９０°ずれた方向から見た２つの側面図（挟持部材４１については断面図で示してある。）である。挟持部材４２側は同様の構成であるので、図示を省略してある。
【００５０】
図８に示す転写用ホルダ６Ｂは、転写用原盤１１、１２の転写面１１ａ、１２ａが鞍面状となる態様である。図８は図７に対応する図である。鞍面状の転写面１１ａ（１２ａ）では、外周部の同径上の２箇所が最も突出し、そこから９０°ずれた箇所が最も窪んだ凹凸面形状となる。かかる構成では、転写用原盤１１、１２と被転写体１５との密着が、最も突出した外周部の同径上の２箇所から開始し面高さの高い方から低い方に向けて順次進行する。
【００５１】
転写用原盤１１、１２は、厚みの厚い側から薄い側に向けて連続的に厚みが変化するものであることが好ましいが、厚みの厚い側から薄い側に向けて段階的に厚みが変化するものとしてもよい。
【００５２】
転写用原盤１１、１２の挟持部材４１、４２への固定は吸引固定に制限されず、接着剤や磁力等による固定でもよい。
【００５３】
転写用ホルダ１〜５、６Ａ、６Ｂは、本発明の転写用原盤を一対用いたものであるが、少なくとも一方が本発明の転写用原盤であれば、厚み分布のない平坦な転写用原盤のみを用いる従来の転写用ホルダよりも良好な密着が実施できる。
【００５４】
上記実施形態は両面転写について説明したが、本発明は、離間状態の一対の挟持部材４１、４２の間に１個の転写用原盤１１及び被転写体１５を互いに対向配置し、一対の挟持部材４１、４２を互いに接近させて転写用原盤１１及び被転写体１５を加圧密着し、被転写体１５に転写用原盤１１の転写情報を転写する片面転写にも適用可能である。
【００５５】
本発明は、厳密な位置調整が必要な磁気転写に好ましく適用できるが、転写用原盤と被転写体とを密着させて、磁気情報や形状等の情報を転写する任意の転写技術に適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明は、表面に所定の凹凸パターンを有する転写用原盤を被転写体に密着させ、転写用原盤の凹凸パターンに応じた磁気情報や凹凸パターン形状等の情報を転写する、磁気転写、ナノインプリンティング、パターンドメディア等の転写技術に好ましく適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】（ａ）、（ｂ）は本発明に係る実施形態の転写用原盤、転写用ホルダ、及び転写装置の構成を示す側面図
【図２】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用ホルダの他の態様を示す図
【図３】転写用原盤の平面図
【図４】磁気転写原理を示す断面図
【図５】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用原盤及び転写用ホルダの他の態様を示す図
【図６】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用原盤及び転写用ホルダの他の態様を示す図
【図７】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用原盤及び転写用ホルダの他の態様を示す図
【図８】（ａ）、（ｂ）は本発明の転写用原盤及び転写用ホルダの他の態様を示す図
【符号の説明】
【００５８】
１〜６Ａ、６Ｂ 転写用ホルダ
７ 転写装置
１１、１２ 転写用原盤
１１ａ、１２ａ 転写面
１１ｂ、１２ｂ 転写面と反対側の面
１５ 被転写体
４１、４２ 挟持部材
５１、５２ 弾性材
６１、６２ 押圧部材（加圧手段）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写情報を有する転写面を有し、該転写面に被転写体が密着され前記転写情報の転写が行われる転写用原盤において、前記被転写体との密着が前記転写面の特定箇所から開始し順次全体に渡って起こる厚み分布を有することを特徴とする転写用原盤。
【請求項２】
前記厚み分布は、前記転写情報を有する領域の最大厚み差が１〜１００μｍの分布であることを特徴とする請求項１に記載の転写用原盤。
【請求項３】
前記転写用原盤及び前記被転写体は円盤状であり、前記厚み分布は前記転写用原盤の中心又は径に対して対称な分布であることを特徴とする請求項１又は２に記載の転写用原盤。
【請求項４】
前記厚み分布は、外周側から中心側に向けて連続的に厚くなる又は中心側から外周側に向けて連続的に厚くなる厚み分布であることを特徴とする請求項３に記載の転写用原盤。
【請求項５】
前記転写面と反対側の面が平坦面であり、前記転写面が前記厚み分布に応じた高低分布を有するものであり、該転写面の前記転写情報を有する領域の最大高低差は、前記密着の終了時に前記密着の開始前より低減する構成とされたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の転写用原盤。
【請求項６】
磁気転写用であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の転写用原盤。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の転写用原盤と前記被転写体とを挟持し保持する互いに接近離間自在な一対の挟持部材を備えたことを特徴とする転写用ホルダ。
【請求項８】
請求項７に記載の転写用ホルダと、該転写用ホルダを加圧する加圧手段とを備え、該加圧手段による前記転写用ホルダの加圧力が０．０５〜１０．０ＭＰａとされたことを特徴とする転写装置。
【請求項９】
請求項６に記載の転写用原盤に前記被転写体を密着させ、前記転写情報を前記被転写面に磁気転写して製造されたものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１】
転写情報を有する転写面を有し、該転写面に被転写体が密着され前記転写情報の転写が行われる転写用原盤において、前記被転写体との密着が前記転写面の特定箇所から開始し順次全体に渡って起こる厚み分布を有することを特徴とする転写用原盤。
【請求項２】
前記厚み分布は、前記転写情報を有する領域の最大厚み差が１〜１００μｍの分布であることを特徴とする請求項１に記載の転写用原盤。
【請求項３】
前記転写用原盤及び前記被転写体は円盤状であり、前記厚み分布は前記転写用原盤の中心又は径に対して対称な分布であることを特徴とする請求項１又は２に記載の転写用原盤。
【請求項４】
前記厚み分布は、外周側から中心側に向けて連続的に厚くなる又は中心側から外周側に向けて連続的に厚くなる厚み分布であることを特徴とする請求項３に記載の転写用原盤。
【請求項５】
前記転写面と反対側の面が平坦面であり、前記転写面が前記厚み分布に応じた高低分布を有するものであり、該転写面の前記転写情報を有する領域の最大高低差は、前記密着の終了時に前記密着の開始前より低減する構成とされたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の転写用原盤。
【請求項６】
磁気転写用であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の転写用原盤。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の転写用原盤と前記被転写体とを挟持し保持する互いに接近離間自在な一対の挟持部材を備えたことを特徴とする転写用ホルダ。
【請求項８】
請求項７に記載の転写用ホルダと、該転写用ホルダを加圧する加圧手段とを備え、該加圧手段による前記転写用ホルダの加圧力が０．０５〜１０．０ＭＰａとされたことを特徴とする転写装置。
【請求項９】
請求項６に記載の転写用原盤に前記被転写体を密着させ、前記転写情報を前記被転写面に磁気転写して製造されたものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００６−２５２７０５（Ｐ２００６−２５２７０５Ａ）
【公開日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−６９５７６（Ｐ２００５−６９５７６）
【出願日】平成１７年３月１１日（２００５．３．１１）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月１１日（２００５．３．１１）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】
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