輝度上昇フィルム
【課題】表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、使用後のリサイクル性に優れる輝度上昇フィルムを提供する。
【解決手段】コア層とスキン層とからなる総厚み０．１〜１．０ｍｍの積層体からなる輝度上昇フィルムであって、（ｉ）コア層は、ポリカーボネート樹脂層から形成され、（ｉｉ）スキン層は、カーボネート構成単位（構成単位Ａ）を含み、その割合が全カーボネート構成単位中２０〜１００モル％であり、分子末端にポリシロキサン末端成分、およびアリールフェノール末端成分を含み、ポリシロキサン末端成分が全カーボネート構成単位に対して０．０１〜１モル％、アリールフェノール末端成分が全カーボネート構成単位に対して０．１〜１０モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成され、且つスキン層は規則的に配列された凹凸形状を賦形した表面形状である。
【解決手段】コア層とスキン層とからなる総厚み０．１〜１．０ｍｍの積層体からなる輝度上昇フィルムであって、（ｉ）コア層は、ポリカーボネート樹脂層から形成され、（ｉｉ）スキン層は、カーボネート構成単位（構成単位Ａ）を含み、その割合が全カーボネート構成単位中２０〜１００モル％であり、分子末端にポリシロキサン末端成分、およびアリールフェノール末端成分を含み、ポリシロキサン末端成分が全カーボネート構成単位に対して０．０１〜１モル％、アリールフェノール末端成分が全カーボネート構成単位に対して０．１〜１０モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成され、且つスキン層は規則的に配列された凹凸形状を賦形した表面形状である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネート樹脂積層体からなる輝度上昇フィルムに関する。更に詳しくは末端にシロキサン構造を有する基とアリール基とを特定の割合で有し、特定のビスフェノール構造単位から誘導された変性ポリカーボネート樹脂層をポリカーボネート樹脂層に積層し、積層体表面に特定の凹凸形状を賦形した表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、転写性、使用後のリサイクル性に優れる輝度上昇フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶テレビやパーソナルコンピュータ等の液晶ディスプレイ装置は、一般的には、液晶パネル、反射型偏光フィルム、輝度上昇フィルム、拡散フィルム、バックライトユニット、反射板で構成される。輝度上昇フィルムは、バックライトユニット前面に組み込むことにより、光源から照射された光をディスプレイに向かって集光し、正面での輝度を向上させることができる。
【０００３】
従来、輝度上昇フィルムは、ポリエステル樹脂フィルム表面にプリズム形状を賦形したアクリル樹脂を積層した光学フィルムが主に用いられてきた。しかしながら、最近の液晶ディスプレイ装置の大型化により、輝度上昇フィルムを構成する各樹脂の収縮率差によって反り・波うち等の不具合が発生するため、単一材料フィルム表面に賦形した輝度上昇フィルムが検討されている。さらに、液晶ディスプレイ装置の薄型化に伴い、光源近傍で発生する熱によって機器装置内が高温となる傾向にあるため、より耐熱性の高いポリカーボネート樹脂が用いられようとしている。
【０００４】
しかしながら、ポリカーボネート樹脂はＪＩＳ Ｋ５６００に記載の塗料一般試験方法−第５部：塗膜の機械的性質−第４節：引っかき硬度（鉛筆法）に準拠して測定した鉛筆硬度は２Ｂ程度に過ぎず、ＪＩＳ Ｋ７１２５に記載のプラスチック−フィルム及びシート−摩擦係数試験方法に準拠して測定した耐摩耗性に劣り、且つ純水との接触角が低く、表面すべり性に劣るため、他フィルム（例えば、反射型偏光フィルムや拡散フィルム）との摩擦で輝度上昇フィルム表面に傷が生じ、輝度上昇フィルムとしての性能が低下するという問題があった。
【０００５】
そこで、表面特性を改良する手法の一つとして、ポリカーボネート樹脂層にアクリル樹脂層を積層する方法が知られている（例えば、特許文献１）。しかしながら、アクリル樹脂はポリカーボネート樹脂よりも耐熱性が低く、更に吸水率が高いため、温度と吸湿による寸法変化量が大きくなる。従って、ポリカーボネート樹脂層の片面にアクリル樹脂層を設けた積層体は、高温高湿下に曝されると、アクリル樹脂層が変形することで反りが発生し、加工工程にて悪影響を及ぼすという問題がある。さらに、アクリル樹脂はポリカーボネート樹脂に比べて鉛筆硬度が３Ｈと非常に硬いため、他フィルム（例えば、反射型偏光フィルムや拡散フィルム）との摩擦により、輝度上昇フィルム表面は傷が生じないが、他フィルムを傷つけてしまうという問題がある。更に、アクリル樹脂とポリカーボネート樹脂の屈折率が大きく異なる為、樹脂界面での反射により正面輝度が低下する。また、積層体を粉砕し、ポリカーボネート樹脂と再度溶融混錬すると、白濁するため、リサイクル性に劣る。
【０００６】
表面特性を改良する手法の一つとして、シロキサン構成単位をポリカーボネート樹脂に含有させる方法がある。シロキサン構成単位をポリカーボネート樹脂に含有させるには、（１）シリコーンオイルなどのシロキサン系樹脂とポリカーボネート樹脂とをブレンドする方法（例えば、特許文献２，３）、（２）シロキサン構成単位を含むジヒドロキシ化合物をモノマーとして用いた共重合ポリカーボネートとする方法（例えば、特許文献４〜７）、（３）シロキサン構成単位を含むモノフェノール化合物を末端停止剤として用いた末端変性ポリカーボネートとする方法（例えば、特許文献８〜１３）がある。しかしながら、（１）の方法ではシロキサン構成単位とポリカーボネート樹脂が相分離を起こすことが問題である。また、（２）の方法では共重合ポリカーボネートの分子量を上げた場合に分子の自由度が低下し、シロキサン部分が効率良く表面に現れにくくなり充分な表面特性が得られなくなる。更に、（３）の方法では、（２）の方法に比べてシロキサン部分の自由度が高く、表面に出やすいために他の特性を損なわずに表面すべり性が向上するが、耐摩耗性の面では充分な結果が得られていない。また、（３）の方法を利用して、耐摩耗性を補うために、特殊な構造を有するアリール基を末端停止剤として併用することが検討されているが、輝度上昇フィルムに必要な特性については検討されていない（例えば、特許文献１４）。
【０００７】
その他に表面特性を向上させる一つの方法として、一般的にポリカーボネート樹脂層の表面にハードコート処理を行うことが知られているが、使用後のリサイクル性に劣るため、好ましくない。
したがって、表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、転写性、使用後のリサイクル性に優れた輝度上昇フィルムは未だ存在しないのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−１６０８９２号公報
【特許文献２】特開昭６１−２１９０４９号公報
【特許文献３】特開昭６２−２０５３５７号公報
【特許文献４】特開昭６１−１３２９５４号公報
【特許文献５】特開平２−２４０６５５号公報
【特許文献６】特開平５−７２７５３号公報
【特許文献７】特開平６−１３６１０８号公報
【特許文献８】特開平７−２６１４４０号公報
【特許文献９】特開２０００−１７１９８９号公報
【特許文献１０】特許第２５０９０２５号公報
【特許文献１１】特許第３３３９５９８号公報
【特許文献１２】特許第３３９３６１６号公報
【特許文献１３】特許第３４０９８１９号公報
【特許文献１４】国際公開２００８／０３８６０８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、転写性、使用後のリサイクル性に優れたポリカーボネート樹脂積層体からなる輝度上昇フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、上記課題は、
（構成１）：コア層とスキン層とからなる総厚み０．１〜１．０ｍｍの積層体からなる輝度上昇フィルムであって、（ｉ）コア層は、ポリカーボネート樹脂層から形成され、（ｉｉ）スキン層は、下記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）を含み、その割合が全カーボネート構成単位中２０〜１００モル％であり、分子末端に下記式［２］で示されるポリシロキサン末端成分（末端［２］）、および下記式［３］で示されるアリールフェノール末端成分（末端［３］）を含み、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０１〜１モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜１０モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成され、且つスキン層は規則的に配列された凹凸形状を賦形した表面形状である、輝度上昇フィルムにより解決される。
【００１１】
【化１】
（式中、Ｗは単結合、炭素原子数１〜６のアルキレン基、炭素原子数１〜６のアルキリデン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基、または炭素原子数３〜８の環状アルキレン基を表す。）
【００１２】
【化２】
（式中、Ｘは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ１は、単結合、Ｏ（酸素原子）、ＣＯ、ＣＯＯ、およびＮＨＣＯよりなる群より選ばれる基を表す。Ｒ２は、置換若しくは無置換の炭素原子数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立に、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。ｚは１〜４の整数を表す。ｎは１〜１００の整数を表す。）
【００１３】
【化３】
（式中、Ｒ８は、フェニル基を表す。ｍは１または２である。）
【００１４】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成２）：（ｉｉ）スキン層は、上記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンから誘導されるカーボネート構成単位（構成単位Ｂ）とからなり、構成単位Ａの割合が全カーボネート構成単位中２０〜９０モル％であり、分子末端に上記式［２］で示されるポリシロキサン末端成分（末端［２］）、および上記式［３］で示されるアリールフェノール末端成分（末端［３］）を含み、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０５〜０．５モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜７モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成される上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１５】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成３）：スキン層の厚みが５〜１００μｍである上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１６】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成４）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂層は、
（１）粘度平均分子量が１．０×１０４〜４．０×１０４、
（２）ＪＩＳ Ｋ５６００に準拠して測定した鉛筆硬度がＨＢ〜２Ｈ、
（３）コア層を形成するポリカーボネート樹脂との屈折率差が０．０１以内、
（４）ガラス転移温度が１２０℃〜１６０℃、
（５）２５℃、６０％ＲＨにおける純水との接触角が９０°以上
である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１７】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成５）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンおよび２，２’−メチル−４，４’−ビフェニルジオールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１８】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成６）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンから誘導された構成単位である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１９】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成７）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサンから誘導された構成単位である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００２０】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成８）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のポリシロキサン末端成分（末端［２］）が、上記式［２］で表される基であって、Ｘが水素原子、Ｒ１が単結合、Ｒ２がエチレン基またはプロピレン基、Ｒ３〜Ｒ６が夫々独立にメチル基またはフェニル基、Ｒ７が炭素原子数１〜４のアルキル基、ｎが５〜１０の整数である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００２１】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成９）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のアリールフェノール末端成分（末端［３］）が２−フェニルフェノール、および２，６−ジフェニルフェノールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００２２】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成１０）：規則的に配列された凹凸形状は、ピッチが１０〜３００μｍ、高さが１０〜３００μｍであるレンチキュラー型、プリズム型、リニアーフレネル型形状からなる群より選ばれる少なくとも一種である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の積層体からなる輝度上昇フィルムは、表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、転写性、使用後のリサイクル性に優れることから、薄型且つ大型の液晶ディスプレイ装置用輝度上昇フィルムとしての使用が可能である。したがって、その奏する産業上の効果は格別である。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】反り量の測定方法を示す図である。
【図２】賦形表面近傍を拡大した図である。
【図３】ポリカーボネート樹脂積層体の製造装置の一態様を示した図である。
【図４】賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造装置の一態様を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明を詳細に説明する。
（コア層）
本発明において、コア層は、ポリカーボネート樹脂層から形成される。
【００２６】
＜ポリカーボネート樹脂＞
本発明のポリカーボネート樹脂層に用いられるポリカーボネート樹脂は二価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させて得られるものである。反応の方法としては界面重縮合法、溶融エステル交換法、カーボネートプレポリマーの固相エステル交換法、および環状カーボネート化合物の開環重合法などを挙げることができる。ポリカーボネート樹脂はいかなる製造方法によって製造されたものでもよく、界面重縮合の場合は通常一価フェノール類の末端停止剤が使用される。ポリカーボネート樹脂は前記二価フェノールまたは二官能性アルコールに加えて、３官能以上の多官能成分を重合させた分岐ポリカーボネートであってもよい。また３官能フェノール類の如き多官能フェノール類を重合させた分岐ポリカーボネート樹脂であってもよく、更に脂肪族ジカルボン酸や芳香族ジカルボン酸、ポリオルガノシロキサン成分、並びにビニル系単量体を共重合させた共重合ポリカーボネートであってもよい。二価フェノールの代表的な例として２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等があげられる。好ましい二価フェノールはビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン系であり、特にビスフェノールＡが好ましい。
【００２７】
カーボネート前駆物質として例えばホスゲンを使用する反応では、通常酸結合剤および溶媒の存在下に反応を行う。酸結合剤としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物またはピリジン等のアミン化合物が用いられる。溶媒としては例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また反応促進のために例えば第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩等の触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常０〜４０℃であり、反応時間は数分〜５時間である。
【００２８】
カーボネート前駆物質として例えば炭酸ジエステルを用いるエステル交換反応は、不活性ガス雰囲気下所定割合の芳香族ジヒドロキシ成分を炭酸ジエステルと加熱しながら撹拌して、生成するアルコールまたはフェノール類を留出させる方法により行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノール類の沸点等により異なるが、通常１２０〜３００℃の範囲である。反応はその初期から減圧にして生成するアルコールまたはフェノール類を留出させながら反応を完結させる。また反応を促進するために通常エステル交換反応に使用される触媒を使用することもできる。前記エステル交換反応に使用される炭酸ジエステルとしては、例えばジフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート等が挙げられる。これらのうち特にジフェニルカーボネートが好ましい。
【００２９】
末端停止剤として通常使用される単官能フェノール類を使用することができる。殊にカーボネート前駆物質としてホスゲンを使用する反応の場合、単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、また得られた芳香族ポリカーボネート樹脂は、末端が単官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているので、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。かかる単官能フェノール類としては、芳香族ポリカーボネート樹脂の末端停止剤として使用されるものであればよく、前記単官能フェノール類の具体例としては、例えばフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノールが挙げられる。
ポリカーボネート樹脂を製造するに当り、上記二価フェノールを単独で又は二種以上併用することができ、また必要に応じて分子量調節剤、分岐剤、触媒等を用いることができる。
【００３０】
ポリカーボネート樹脂の分子量は粘度平均分子量で表して好ましくは１．０×１０４〜４．０×１０４であり、より好ましくは１．３×１０４〜３．０×１０４であり、さらに好ましくは１．４×１０４〜２．０×１０４である。本発明でいう粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを２０℃で溶解した溶液から求めた比粘度（ηｓｐ）を次式に挿入して求めたものである。
ηｓｐ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］２ｃ（但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０−４Ｍ０．８３
ｃ＝０．７
本発明のポリカーボネート樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で、離型剤、熱安定剤、および流動改質剤などのそれ自体公知の機能剤を含有できる。
【００３１】
（スキン層）
本発明において、スキン層は、変性ポリカーボネート樹脂層から形成される。
＜変性ポリカーボネート樹脂＞
本発明における変性ポリカーボネート樹脂は、上記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）を含み、その割合が全カーボネート構成単位中２０〜１００モル％である。構成単位Ａとしては、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンおよび２，２’−メチル−４，４’−ビフェニルジオールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位であることが好ましく、特に１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサンまたは２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンから誘導された構成単位であることが好ましい。また、構成単位Ａの割合は、全構成単位中３０モル％以上が好ましく、４０モル％以上がより好ましい。構成単位Ａの割合が２０モル％未満では、耐擦傷性が不十分であるため好ましくない。
【００３２】
さらに、変性ポリカーボネート樹脂として、上記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンから誘導されるカーボネート構成単位（構成単位Ｂ）とからなり、構成単位Ａの割合が全構成単位中２０〜９０モル％である変性ポリカーボネート樹脂が好ましく使用される。構成単位Ａの割合は、全構成単位中３０〜８０モル％がより好ましく、４０〜７０モル％がさらに好ましい。
【００３３】
本発明における変性ポリカーボネート樹脂は、分子末端に上記式［２］で示されるポリシロキサン成分（末端［２］）、および上記式［３］で表されるアリールフェノール成分（末端［３］）を含む。かかる変性ポリカーボネート樹脂を使用することにより従来のポリカーボネート樹脂よりも高い耐擦傷性、表面すべり性、耐摩耗性を発現できることが判明した。
【００３４】
上記式［２］で示されるポリシロキサン成分（末端［２］）において、Ｘは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。ｚは１〜４の整数を表す。
【００３５】
Ｒ１は、単結合、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、およびＮＨＣＯよりなる群より選ばれる基を表す。Ｒ１は、好ましくは単結合、ＯまたはＣＯＯであり、より好ましくは単結合である。
Ｒ２は、炭素原子数１〜６の置換若しくは無置換のアルキレン基を表す。Ｒ２は、好ましくは炭素原子数２〜３の置換若しくは無置換のアルキレン基であり、より好ましくは炭素原子数２〜３の無置換のアルキレン基である。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基が挙げられる。置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素原子数１〜３のアルキル基が挙げられる。
【００３６】
Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立に、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基で表される基からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ３〜Ｒ７は、複数ある場合、それらは同一でも異なっていても良い。Ｒ３〜Ｒ７として、炭素原子数１〜１０のアルキル基、および炭素原子数６〜１０のアリール基からなる群から選ばれる基が好ましい。
【００３７】
炭素原子数１〜１０のアルキル基として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基として、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素原子数２〜１０のアルケニル基として、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。炭素原子数６〜１０のアリール基として、フェニル基、トルイル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。炭素原子数７〜２０のアラルキル基として、ベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基が挙げられる。これらの中で、Ｒ３〜Ｒ６は炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数６〜８のアリール基が好ましく、メチル基またはフェニル基がより好ましい。また、Ｒ７は炭素原子数１〜４のアルキル基であることが好ましい。
【００３８】
ｎは１〜１００の整数である。ｎは好ましくは３〜５０の整数、より好ましくは５〜１０の整数である。ｎが小さすぎると表面すべり性の改善効果が充分でなくなり、ｎが大きすぎると、透明性が劣り、リサイクル性に悪影響が生じ好ましくない。
【００３９】
上記式［２］で示されるポリシロキサン成分（末端［２］）として、Ｘが水素原子、Ｒ１が単結合、Ｒ２がエチレン基またはプロピレン基、ｎが５〜１０の整数、Ｒ３〜Ｒ６がメチル基またはフェニル基、Ｒ７が炭素原子数１〜４のアルキル基であることが好ましい。
上記式［２］で示されるポリシロキサン成分（末端［２］）は、末端停止剤として一価フェノールを用いることにより導入することができる。一価フェノールの具体例として、下記式［２］−１〜［２］−２４で表される化合物が挙げられる。
【００４０】
【化４】
【化５】
（式中、ｎ、ｐおよびｑはそれぞれ１〜１００の整数を表す。）
【００４１】
また、上記式［３］で示されるアリールフェノール成分（末端［３］）において、Ｒ８は、フェニル基を表す。ｍは１または２である。
上記式［３］で示されるアリールフェノール成分（末端［３］）として、より具体的には、下記式［３］−１〜［３］−８で表される化合物が好ましく、２−フェニルフェノール、２，６−ジフェニルフェノールが更に好ましい。上記式［３］で示されるアリールフェノール成分（末端［３］）は、末端停止剤として一価フェノールを用いることにより導入することができる。
【００４２】
【化６】
【００４３】
本発明の変性ポリカーボネート樹脂は、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０１〜１モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜１０モル％である。さらに、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０５〜０．５モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．５〜７モル％であることが好ましい。末端［２］の割合が下限未満であると表面すべり性効果がほとんどなく、上限を超えると透明性が損なわれるため、好ましくない。末端［３］の割合が下限未満であると耐摩耗性効果がほとんどなく、上限を超えると分子量が低くなり、脆性破壊を起こしやすくなるため好ましくない。
【００４４】
変性ポリカーボネート樹脂の製造には、前記ポリカーボネート樹脂と同様の手法を用いることができる。
変性ポリカーボネート樹脂の分子量は粘度平均分子量で表して好ましくは１．０×１０４〜４．０×１０４であり、より好ましくは１．３×１０４〜３．０×１０４であり、さらに好ましくは１．４×１０４〜２．０×１０４である。
【００４５】
変性ポリカーボネート樹脂の鉛筆硬度は、好ましくはＨＢ〜２Ｈ、より好ましくはＦ〜Ｈである。鉛筆硬度が前記範囲の下限未満では、耐擦傷性が不十分であり、前記範囲の上限を超える場合、液晶ディスプレイ装置を構成する他フィルムとの摩擦により自身は傷つかないが他フィルムを傷つけてしまうため、好ましくない。本発明でいう鉛筆硬度は、射出成形により形成される３段型プレート（幅５０ｍｍ、長さ９０ｍｍ、厚みがゲート側から３．０ｍｍ（長さ２０ｍｍ）、２．０ｍｍ（長さ４５ｍｍ）、１．０ｍｍ（長さ２５ｍｍ）、算術平均粗さ（Ｒａ）：０．０３μｍ）の厚み２．０ｍｍ部において、ＪＩＳ Ｋ５６００に記載の手法に準拠して測定したものである。
【００４６】
変性ポリカーボネート樹脂は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１２０〜１６０℃であることが好ましく、１３０〜１５０℃であることがより好ましい。Ｔｇが前記範囲の下限未満では耐熱性が不足し、熱変形により輝度上昇フィルムに反りが発生するため、好ましくない。Ｔｇが前記範囲の上限を超えると、賦形加工時に凹凸形状の転写性が劣るため、好ましくない。本発明におけるＴｇとは、示差走査熱量分析装置（ＤＳＣ）を使用し、ＪＩＳ Ｋ７１２１に準拠した昇温速度２０℃／ｍｉｎで測定して得られるものである。
【００４７】
また、スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂とコア層を形成するポリカーボネート樹脂との屈折率差は、好ましくは−０．０１〜＋０．０１、より好ましくは−０．００８〜＋０．００８である。屈折率差が上記記載範囲よりも大きくなると、積層体の樹脂界面での反射により正面輝度が低下するので好ましくない。本発明における屈折率は、上述した３段型プレートの厚み１．０ｍｍ部分を使用し、ＪＩＳ−Ｋ７１４２に準拠して、光源波長５８９ｎｍ（ナトリウムＤ線）にて測定した屈折率を示し、屈折率差は、変性ポリカーボネート樹脂の屈折率からポリカーボネート樹脂の屈折率を差し引いた値を示す。
【００４８】
変性ポリカーボネート樹脂は、滴下式接触角計で測定した純水に対する接触角が好ましくは９０°以上、より好ましくは９５°以上、さらに好ましくは９８°以上である。接触角が上記下限未満の場合、表面すべり性が十分でないため好ましくない。上限は特に限定されないが、１０５°以下であれば十分な表面すべり性を有する。
【００４９】
変性ポリカーボネート樹脂は、静摩擦係数が好ましくは０．３６以下、より好ましくは０．３３以下、さらに好ましくは０．３０以下である。
変性ポリカーボネート樹脂は、動摩擦係数が、好ましくは０．２６以下、より好ましくは０．２３以下、さらに好ましくは０．２０以下である。
変性ポリカーボネート樹脂は、後述の摩耗試験におけるテーバー摩耗量が、好ましくは１５ｍｇ以下、より好ましくは１３ｍｇ以下、さらに好ましくは１０ｍｇ以下である。
【００５０】
変性ポリカーボネート樹脂は、メルトボリュールフローレート（ＭＶＲ）が２０ｃｍ３／１０分以上であることが好ましく、３０ｃｍ３／１０分以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが、１００ｃｍ３／１０分以下であれば充分な転写性を有する。ＭＶＲが前記範囲の下限未満では、表面の賦形形状の転写性が劣るため、好ましくない。本発明におけるＭＶＲとは、ＩＳＯ １１３３に記載の方法に準拠して３００℃、１．２ｋｇ荷重で測定したものである。
変性ポリカーボネート樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、離型剤、熱安定剤、および流動改質剤などのそれ自体公知の機能剤を含有できる。
【００５１】
＜樹脂以外の成分＞
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、より好適には以下の離型剤、および熱安定剤などが配合される。
【００５２】
（ｉ）離型剤
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、離型剤を配合することが好ましい。
本発明の離型剤としては公知のものが使用できる。例えば、脂肪酸エステル、ポリオレフィン系ワックス（ポリエチレンワックス、１−アルケン重合体など。酸変性などの官能基含有化合物で変性されているものも使用できる）、シリコーン化合物、フッ素化合物（ポリフルオロアルキルエーテルに代表されるフッ素オイルなど）、パラフィンワックス、蜜蝋などを挙げることができる。これらの中でも入手の容易さ、離型性および透明性の点から脂肪酸エステルが好ましい。かかる離型剤はポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００５〜０．３重量部、より好ましくは０．００７〜０．２重量部である。添加量が前記範囲の下限未満では、離型性の改善が十分ではなく、上限を超える場合、ロール、金型、スタンパ等の賦形装置汚染やブリードアウトによる転写性低下が生じるため好ましくない。
【００５３】
上記の中でも好ましい離型剤として脂肪酸エステルが挙げられる。かかる脂肪酸エステルは、脂肪族アルコールと脂肪族カルボン酸とのエステルである。かかる脂肪族アルコールは１価アルコールであっても２価以上の多価アルコールであってもよい。また該アルコールの炭素数としては、好適には３〜３２の範囲、より好適には５〜３０の範囲である。かかる一価アルコールとしては、例えばドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール、エイコサノール、テトラコサノール、セリルアルコール、およびトリアコンタノールなどが例示される。かかる多価アルコールとしては、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ポリグリセロール（トリグリセロール〜ヘキサグリセロール）、ジトリメチロールプロパン、キシリトール、ソルビトール、およびマンニトールなどが挙げられる。本発明の脂肪酸エステルにおいては多価アルコールがより好ましい。
【００５４】
一方、脂肪族カルボン酸は炭素数３〜３２であることが好ましく、特に炭素数１０〜２２の脂肪族カルボン酸が好ましい。該脂肪族カルボン酸としては、例えばデカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸（パルミチン酸）、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸（ステアリン酸）、ノナデカン酸、イコサン酸、およびドコサン酸（ベヘン酸）などの飽和脂肪族カルボン酸、並びにパルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エイコセン酸、エイコサペンタエン酸、およびセトレイン酸などの不飽和脂肪族カルボン酸を挙げることができる。上記の中でも脂肪族カルボン酸は、炭素原子数１４〜２０であるものが好ましい。なかでも飽和脂肪族カルボン酸が好ましい。かかる脂肪族カルボン酸は通常、動物性油脂（牛脂および豚脂など）や植物性油脂（パーム油など）などの天然油脂類から製造されるため、これらの脂肪族カルボン酸は、通常炭素原子数の異なる他のカルボン酸成分を含む混合物である。したがって本発明で使用される脂肪族カルボン酸の製造においてもかかる天然油脂類から製造され、他のカルボン酸成分を含む混合物の形態からなる。脂肪酸エステルにおける酸価は、２０以下（実質的に０を取り得る）であることが好ましい。しかしながら全エステル（フルエステル）の場合には、離型性を向上させるため、少なくからず遊離の脂肪酸を含有することが好ましく、この点においてフルエステルにおける酸価は３〜１５の範囲が好ましい。また脂肪酸エステルのヨウ素価は、１０以下（実質的に０を取り得る）が好ましい。これらの特性はＪＩＳ Ｋ ００７０に規定された方法により求めることができる。
【００５５】
本発明の脂肪酸エステルは、部分エステルおよびフルエステルのいずれであってもよいが。本発明においてより好ましくは良好な離型性および耐久性の点で部分エステルである。中でもグリセリンモノエステルが好ましい。グリセリンモノエステルは、グリセリンと脂肪酸のモノエステルが主成分であり、好適な脂肪酸としてはステアリン酸、パルチミン酸、ベヘン酸、アラキン酸、モンタン酸、およびラウリン酸等の飽和脂肪酸やオレイン酸、リノール酸、およびソルビン酸等の不飽和脂肪酸が挙げられ、特にステアリン酸、ベヘン酸、およびパルチミン酸のグリセリンモノエステルを主成分としたものが好ましい。尚、かかる脂肪酸は、天然の脂肪酸から合成されたものであり、上述のとおり混合物となる。グリセリンモノエステルは、他の離型剤、殊に脂肪酸フルエステルとの併用が可能であるが、併用した場合でもグリセリンモノエステルを主成分とすることが好ましい。即ち、離型剤１００重量％中、６０重量％以上とすることが好ましい。
【００５６】
尚、部分エステルは、熱安定性の点ではフルエステルに対して劣る場合が多い。かかる部分エステルの熱安定性を向上するため、部分エステルは、好ましくは２０ｐｐｍ未満、より好ましくは５ｐｐｍ未満、更に好ましくは１ｐｐｍ未満のナトリウム金属含有量とすることが好ましい。ナトリウム金属含有量が１ｐｐｍ未満の脂肪酸部分エステルは、脂肪酸部分エステルを通常の方法で製造した後、分子蒸留などにより精製して製造することができる。
【００５７】
具体的には、スプレーノズル式脱ガス装置によりガス分および低沸点物質を除去した後に流下膜式蒸留装置を用い蒸留温度１２０〜１５０℃、真空度０．０１〜０．０３ｋＰａの条件にてグリセリン等の多価アルコール分を除去し、更に遠心式分子蒸留装置を用いて、蒸留温度１６０〜２３０℃、真空度０．０１〜０．２Ｔｏｒｒの条件にて高純度の脂肪酸部分エステルを留出分として得る方法などがあり、ナトリウム金属は蒸留残渣として除去できる。得られた留出分に対し、繰り返し分子蒸留を行うことにより、更に純度を上げ、ナトリウム金属含有量の更に少ない脂肪酸部分エステルを得ることもできる。また前もって適切な方法にて分子蒸留装置内を十分に洗浄し、また気密性を高めるなどにより外部環境からのナトリウム金属成分の混入を防ぐことも肝要である。かかる脂肪酸エステルは、専門業者（例えば理研ビタミン（株））から入手可能である。
【００５８】
（ｉｉ）リン系安定剤
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、その加工時の熱安定性を向上させることを主たる目的として各種のリン系安定剤が更に配合されることが好ましい。かかるリン系安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステルなどが例示される。更にかかるリン系安定剤は第３級ホスフィンを含む。
【００５９】
具体的にはホスファイト化合物としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、トリス（ジエチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｎ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
【００６０】
更に他のホスファイト化合物としては二価フェノール類と反応し環状構造を有するものも使用できる。例えば、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイトなどを挙げることができる。
【００６１】
ホスフェート化合物としては、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどを挙げることができ、好ましくはトリフェニルホスフェート、トリメチルホスフェートである。
【００６２】
ホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等があげられ、テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。かかるホスホナイト化合物は前記アルキル基が２以上置換したアリール基を有するホスファイト化合物との併用可能であり好ましい。
【００６３】
ホスホネイト化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、およびベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げられる。
【００６４】
第３級ホスフィンとしては、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリアミルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルオクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ−ｐ−トリルホスフィン、トリナフチルホスフィン、およびジフェニルベンジルホスフィンなどが例示される。特に好ましい第３級ホスフィンは、トリフェニルホスフィンである。
【００６５】
前記リン系安定剤は、１種のみならず２種以上を混合して用いることができる。前記リン系安定剤の中でも、ホスファイト化合物またはホスホナイト化合物が好ましい。殊にトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましい。またこれらとホスフェート化合物との併用も好ましい態様である。
【００６６】
（ｉｉｉ）ヒンダードフェノール系安定剤
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、その加工時の熱安定性、および耐熱老化性を向上させることを主たる目的としてヒンダードフェノール系安定剤を配合することができる。かかるヒンダードフェノール系安定剤としては、例えば、α−トコフェロール、ブチルヒドロキシトルエン、シナピルアルコール、ビタミンＥ、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェル）プロピオネート、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−ジメチレン−ビス（６−α−メチル−ベンジル−ｐ−クレゾール）２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−Ｎ−ビス−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート、１，６−へキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル］テレフタレート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１，−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４’−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス２［３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアヌレート、およびテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどが例示される。これらはいずれも入手容易である。前記ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
【００６７】
前記（ｉｉ）リン系安定剤および（ｉｉｉ）ヒンダードフェノール系酸化防止剤の量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０００１〜１重量部、より好ましくは０．００１〜０．１重量部、さらに好ましくは０．００５〜０．１重量部である。安定剤が前記範囲よりも少なすぎる場合には良好な安定化効果を得ることが難しく、前記範囲を超えて多すぎる場合は、逆に材料の物性低下や、加工時にロール、金型、スタンパ等の汚染を起こす場合がある。
【００６８】
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、適宜前記ヒンダードフェノール系酸化防止剤以外の他の酸化防止剤を使用することができる。かかる他の酸化防止剤としては、例えばペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、およびグリセロール−３−ステアリルチオプロピオネートなどが挙げられる。これら他の酸化防止剤の使用量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．０５重量部が好ましい。
【００６９】
（ｉＶ）帯電防止剤
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、帯電防止性を向上させることを主たる目的として帯電防止剤を配合することができる。帯電防止剤としては、スルホン酸ホスホニウム塩、亜リン酸エステル、カプロラクトン系重合体等を使用することができ、スルホン酸ホスホニウム塩が好ましく使用される。かかるスルホン酸ホスホニウム塩の具体例としては、ドデシルスルホン酸テトラブチルホスホニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸トリブチルオクチルホスホニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム、オクタデシルベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム、ジブチルベンゼンスルホン酸トリブチルメチルホスホニウム、ジブチルナフチルスルホン酸トリフェニルホスホニウム、ジイソプロピルナフチルスルホン酸トリオクチルメチルホスホニウム等が挙げられる。中でも、ポリカーボネートとの相溶性及び入手が容易な点で、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウムが好ましい。帯電防止剤の量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対し、好ましくは０．１〜５．０重量部配合されるが、より好ましくは０．２〜３．０重量部、更に好ましくは０．３〜２．０重量部、特に好ましくは０．５〜１．８重量部である。０．１重量部未満では、帯電防止の効果は得られず、５．０重量部を超えると透明性や機械的強度が低下し、成形品表面にシルバーや剥離が生じて外観不良を引き起こし易い。
【００７０】
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂は、他にも、難燃剤などを含有することができる。これらは、輝度上昇フィルムとして支障のない剤および配合量を適宜選択して含有することができる。
【００７１】
＜輝度上昇フィルム（積層体）＞
本発明の輝度上昇フィルムは、コア層とスキン層とからなる総厚み０．１〜１．０ｍｍの積層体であって、スキン層の表面に規則的に配列された凹凸形状を賦形した積層体である。積層体は、コア層がポリカーボネート樹脂層、スキン層が変性ポリカーボネート樹脂層よりなり、スキン層はコア層表面の片面、両面にあってもよい。スキン層の厚みは５〜１００μｍが好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以下がさらに好ましい。スキン層が前記範囲の下限未満では、耐擦傷性が不十分であり、前記範囲の上限を超える場合、スキン層積層時に斑が生じるため、好ましくない。スキン層の厚みは、ミクロトームで樹脂フィルムを精密に切断するか、液体窒素で固化した樹脂フィルムを均一に割ることで切断面をつくり、走査電子顕微鏡により、スキン層とコア層の界面から樹脂フィルム表面までの距離をスキン層厚みとして算出したものである。
【００７２】
ポリカーボネート樹脂層は、その製法には特に限定はなく、例えば、溶融押出法、溶液キャスティング法（流延法）等を挙げることができる。溶融押出法の具体的な方法は、例えば、ポリカーボネート樹脂を押出機に定量供給して、加熱溶融し、Ｔダイの先端部から溶融樹脂をフィルム状に鏡面ロール上に押出し、複数のロールにて冷却しながら引き取り、固化した時点で適当な大きさにカットするか巻き取る方式が用いられる。溶液キャスティング法の具体的な方法は、例えば、ポリカーボネート樹脂を塩化メチレンに溶解した溶液（濃度５％〜４０％）を鏡面研磨されたステンレス板上にＴダイから流延し、段階的に温度制御されたオーブンを通過させながらフィルムを剥離し、溶媒を除去した後、冷却して巻き取る方式が用いられる。
【００７３】
変性ポリカーボネート樹脂層は、その製法には特に限定はなく、例えば、ポリカーボネート樹脂層と同じ製法を用いることができる。
積層体の製法としては、任意の方法を用いればよく、特に熱圧着法または共押出法で行うことが好ましい。熱圧着法としては任意の方法が採用されるが、例えばポリカーボネート樹脂フィルムと変性ポリカーボネート樹脂フィルムをラミネート機やプレス機で熱圧着する方法、押出し直後のポリカーボネート樹脂フィルムに変性ポリカーボネート樹脂フィルムを熱圧着する方法が好ましく、特に押出し直後のポリカーボネート樹脂フィルムに連続して熱圧着する方法が工業的に有利である。この場合の熱圧着条件は、ポリカーボネート樹脂フィルムや変性ポリカーボネート樹脂フィルムの厚さ、圧着面の状態等により異なり、一概に特定できないが、変性ポリカーボネート樹脂フィルムのガラス転移点近傍又はそれ以上の温度、通常変性ポリカーボネート樹脂フィルムのガラス転移点−１０℃〜ガラス転移点＋１５０℃、好ましくはガラス転移点−５℃〜ガラス転移点＋１００℃で０．０５〜５ｋｇ／ｃｍ２程度、好ましくは０．１〜１ｋｇ／ｃｍ２程度の圧力を加えることにより熱圧着できる。その際に、表面に規則的な凹凸形状を賦形する方法としては、熱圧着したフィルムを凹凸形状が賦形されたスタンパを用いて熱プレス成形する方法、熱圧着時に、凹凸形状が賦形された彫刻ロールに押圧する方法等が用いられる。
【００７４】
共押出法は、補助の溶融押出機で変性ポリカーボネート樹脂をそのガラス転移点〜ガラス転移点＋２３０℃、好ましくはガラス転移点＋５０℃〜ガラス転移点＋２００℃で溶融押出し、主の溶融押出機でポリカーボネート樹脂をそのガラス転移点〜ガラス転移点＋２３０℃、好ましくはガラス転移点＋５０℃〜ガラス転移点＋２００℃で溶融押出し、マルチマニホールド方式又はフィードブロック方式等公知の方式にて押出積層することができる。溶融押出機は、単軸押出機であっても２軸押出機であってもよい。樹脂の熱劣化、着色の防止、Ｔダイリップのメヤニ防止、並びにロール汚染の防止などを目的として、ベント吸引による減圧脱気、ホッパー内の吸引脱気、および窒素の如き不活性ガスのホッパーまたはバレルへの注入などを行うことができる。ベント吸引する場合には、好ましくは１．３３〜６６．５ｋＰａで減圧される。
【００７５】
溶融状態で押出されたフィルムは第１ロール、第２ロールおよび第３ロールで狭持圧下されながら冷却される。この際フィルムは第２ロールの表面に施されている彫刻溝により微細な凹凸形状が付与され、冷却された後、引取ロールにより引き取られる。ここで使用する第１〜第３ロールのロール径は特に制限する必要はなくまた同じロール径に統一する必要もないが、ロール径は通常２００ｍｍ以上であり、特に２５０〜５００ｍｍの同一径のものが好ましく使用される。いずれのロールもロール表面に樹脂コートを含む各種のコート処理が施されてもよい。使用する彫刻溝ロールの彫刻溝のピッチは好ましくは１０〜３００μｍであり、より好ましくは２０〜１００μｍである。賦形フィルムにおける凸形状のピッチは、ロールの彫刻溝のピッチに依存する。本発明における凸形状は、同一のピッチであることが望ましい。したがって、かかる彫刻溝のピッチは一定の値であり、その結果、微細な凹凸形状が同一ピッチで規則的に配列されたフィルムが望ましい。かかるピッチの値は基本的には、求められる光学設計において適宜決められるが、１０〜３００μｍの範囲では、フィルムの輝度上昇性、生産性、並びにロール彫刻の生産性において優れている。
【００７６】
本発明で使用する彫刻溝ロールの溝の深さは好ましくは１０〜３００μｍである。かかる下限は、より好ましくは２０μｍ、更に好ましくは１００μｍである。一方、かかる上限は好ましくは３００μｍ、より好ましくは２００μｍである。尚、ロールの溝の深さは、フィルムへの転写率を考慮して設計され、公知の彫刻機を用いて彫刻することができる。溶融押出されたポリカーボネート樹脂を第１ロールと第２ロールとの間に挟持して当該２本のロールで押圧する際の線圧が５０ｋｇ／ｃｍ以上であることが好ましい。より好ましくは１００〜２００ｋｇ／ｃｍの範囲である。２００ｋｇ／ｃｍを超えると、押しつぶしによってフィルムの厚み方向前面に歪が発生し易く、フィルムのカール、反りなどの原因となると共に圧力によるロール軸の歪みが発生し易く、幅方向の賦型程度に差が発生する原因となる。
【００７７】
本発明の積層体は、表面賦形された凹凸形状が、フィルムの幅方向または／および幅方向と直角方向に規則的に配列された凹凸形状であり、凹凸形状はレンズ形状が好ましく、更に好適には、レンチキュラー型、プリズム型、またはリニアーフレネル型レンズが好ましい。ここで、「フィルムの幅方向または／および幅方向と直角方向」とは、凹凸形状が片面にフィルムの幅方向または幅方向と直角方向に規則的に配列されていること、並びに凹凸形状が片面においてはフィルムの幅方向に、もう一方の面において幅方向と直角方向に規則的に配列されていることを含む。本発明の凹凸形状は、片面賦形および両面賦形のいずれの態様も含む。本発明の凹凸形状は、より高精度が要求されるレンズ機能を有する形状が好適である。該レンズ機能の凹凸形状には、いわゆるフライアイレンズを含むレンズアレイを含むが、より好適には畝状のレンズ形状であり、プリズム型が特に好適である。
【００７８】
本発明の積層体の透明性としては、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１およびＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠した全光線透過率値およびヘーズ値で評価される。本発明で得られた樹脂積層体の全光線透過率値は好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上である。また、ヘーズ値は好ましくは１．０％以下であり、より好ましくは０．５％以下である。
【００７９】
本発明の積層体の鉛筆硬度は、好ましくはＨＢ〜２Ｈ、より好ましくはＦ〜Ｈである。鉛筆硬度が前記範囲の下限未満では、耐擦傷性が不十分であり、前記範囲の上限を超える場合、液晶ディスプレイ装置を構成する他フィルム（例えば、反射型偏光フィルムや拡散フィルム）との摩擦により輝度上昇フィルム表面は傷つかないが他フィルム表面を傷つけてしまうため、好ましくない。本発明でいう鉛筆硬度は、射出成形により形成される３段型プレート（幅５０ｍｍ、長さ９０ｍｍ、厚みがゲート側から３．０ｍｍ（長さ２０ｍｍ）、２．０ｍｍ（長さ４５ｍｍ）、１．０ｍｍ（長さ２５ｍｍ）、算術平均粗さ（Ｒａ）：０．０３μｍ）の厚み２．０ｍｍ部において、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に記載の手法に準拠して測定したものである。
【００８０】
本発明の積層体の耐たわみ性は、長さ８０ｍｍ、幅２５ｍｍに切断し、６０℃、９０％ＲＨ雰囲気で９６時間処理した後の反り量であり、好ましくは５００μｍ以下であり、より好ましくは３００μｍ以下であり、１００μｍ以下が特に好ましい。反りが前記範囲の上限を超える場合、フィルムがたわむことで円形の形状変化が生じ、その部分に輝度斑が生じるため、好ましくない。
本発明の積層体は、表面賦形された凹凸形状の転写率が９０％以上であることが好ましく、９５％以上がより好ましい。また、離型する際の変形や反りが可能な限り少ないことが好ましい。
【実施例】
【００８１】
以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、何らこれに限定されるものではない。なお実施例、比較例中の性能評価は下記の方法に従った。
【００８２】
（１）粘度平均分子量
変性ポリカーボネート樹脂およびポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＬＭ）の粘度平均分子量を、比粘度（ηＳＰ）を２０℃で塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求め、比粘度（ηＳＰ）から次の数式により粘度平均分子量Ｍｖを算出した。
比粘度（ηＳＰ）＝（ｔ−ｔ０）／ｔ０
［ｔ０は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］
ηＳＰ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］２ ｃ （但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０−４ Ｍｖ０．８３
ｃ＝０．７
【００８３】
（２）鉛筆硬度
変性ポリカーボネート樹脂および積層体の鉛筆硬度をＪＩＳ Ｋ５６００に準拠して、測定した。
【００８４】
（３）屈折率
変性ポリカーボネート樹脂およびポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＬＭ）の屈折率を、ＪＩＳ−Ｋ７１４２に準拠して、光源に波長選択フィルターを有するアッベ屈折計を用いて、波長５８９ｎｍ（Ｄ線）における屈折率を測定した。
【００８５】
（４）ガラス転移温度
変性ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度をＴＡインスツルメント社製の熱分析システムＤＳＣ−２９１０を使用して、ＪＩＳＫ７１２１に従い窒素雰囲気下（窒素流量：４０ｍｌ／ｍｉｎ）、昇温速度：２０℃／ｍｉｎの条件下で測定した。
【００８６】
（５）メルトボリュームフローレート
変性ポリカーボネート樹脂のメルトボリュームフローレート（ＭＶＲ）をＩＳＯ １１３３に記載の方法に準拠して３００℃、１．２ｋｇ荷重で測定した。
【００８７】
（６）接触角
変性ポリカーボネート樹脂および積層体の純水に対する接触角を協和界面科学（株）製 滴下式接触角計を用いて測定した。
【００８８】
（７）摩擦係数
変性ポリカーボネート樹脂および積層体の摩擦係数を新東科学（株）社製 平面性測定器（ＨＥＩＤＯＮ１４型）を用いて測定した。なお圧子は直径１０ｍｍのステンレス製ボール圧子を用い、荷重を２００ｇｆ、即ち１．９６Ｎとした。
【００８９】
（８）摩耗試験
変性ポリカーボネート樹脂および積層体の摩耗評価を東洋精機（株）製テーバー摩耗試験機を用いて行った。試験条件は２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下、摩耗輪ＣＳ−１７を用いて荷重５００ｇｆ（摩耗輪の自重を含む）、即ち４．９Ｎで２，０００回転後の摩耗量を、試験前後の重量を比較することにより求めた。
【００９０】
（９）総厚み
積層体および賦形積層体の総厚みを連続厚み計（アンリツ（株）製フィルムシックネステスター、型式ＫＧ６０１Ａ）を用いて測定した。
【００９１】
（１０）スキン層厚み
積層体および賦形積層体をミクロトームで切断し、切断面を日立製走査電子顕微鏡Ｓ−３４００Ｎで観察し、スキン層厚みを測定した。
【００９２】
（１１）透明性
積層体をＪＩＳ Ｋ ７３６１−１およびＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠し、全光線透過率値およびヘーズ値を測定した。
【００９３】
（１２）耐たわみ性
積層体を長さ８０ｍｍ、幅２５ｍｍに切断し、６０℃、９０％ＲＨ雰囲気で９６時間処理した後の反り量を図１に示す方法で測定した。
【００９４】
（１３）輝度上昇性
賦形積層体を用いてＪＩＳ Ｋ ７３６１−１に準拠し、全光線透過率値を測定した。その際、賦形面を光源側と逆側にして測定し、全光線透過率の上昇を確認した。
【００９５】
（１４）転写性
賦形積層体をミクロトームで切断し、切断面を日立製走査電子顕微鏡Ｓ−３４００Ｎで観察し、賦形形状のピッチと高さを測定した。賦形形状のピッチと高さについては図２に示す位置で測定を行った。図２は賦形表面近傍を拡大した図である。
【００９６】
（１５）リサイクル性
賦形積層体を粉砕機で粉砕し、かかる粉砕物５重量部に対して、ポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＷＰ：９５重量部を配合し、均一にブレンドして予備混合物を得た。かかる予備混合物をスクリュー径１５ｍｍのベント式二軸押出機（テクノベル（株）製ＫＺＷ１５−２５ＭＧ）を用いて、最後部の第１投入口に供給した。シリンダ温度およびダイ温度は、いずれも２８０℃、スクリュー回転数は２００ｒｐｍ、吐出量は２ｋｇ／時、並びにベントの真空度は３ｋＰａで行った。得られた樹脂組成物ペレットを１２０℃で６時間、熱風乾燥機にて乾燥処理した後、射出成形機（（株）日本製鋼所製Ｊ７５ＥＩＩＩ型）によりシリンダ温度２３０℃、金型温度９０℃、成形サイクル４０秒で成形し、衝撃試験片（寸法：長さ８０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚み４ｍｍ）を成形し、２３℃および−３０℃におけるノッチ付きシャルピー衝撃強さをＩＳＯ−１７９に従い測定した。また、目視にて外観を観察した。
【００９７】
＜実施例１〜４＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、上記式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２４．１７部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および上記式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１１３．４７部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【００９８】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
ポリカーボネート樹脂積層体のコア層を構成するポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＬＭ、粘度平均分子量１８，５００、屈折率１．５９）をスクリュー径４０ｍｍの単軸押出機に投入し、スキン層を構成する変性ポリカーボネート樹脂をスクリュー径３０ｍｍの単軸押出機に投入した。押出機温度２８０℃、ベント部真空度２６ｋＰａに保持し、フィードブロック法にて２種２層に積層させ、設定温度２８０℃のＴ型ダイスを介して押出した。Ｔダイの幅は４５０ｍｍであり、エアギャップ間のネッキングによりロール接触時に３５０ｍｍ幅となるように調整した。また、コア層の押出機スクリュー回転数を４０ｒｐｍで一定とし、スキン層の押出機スクリュー回転数２５０〜６５０ｒｐｍに変えることで４水準のスキン層を調整した。更に、樹脂積層体の総厚みが一定となるように引き取り速度によって調整を行った。押出は、図３に示す様式で実施した。即ち、第１、第２および第３ロールを鏡面ロールとした。いずれのロールもロール直径は３６０ｍｍであった。ロール温度は、第１、第２ロール、第３ロールとも９５℃とした。得られるフィルムを鏡面仕上げされたロールにて冷却し、最終的に該フィルムの両端約５０ｍｍずつを切断し２５０ｍｍ幅の表２記載のポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【００９９】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
ポリカーボネート樹脂積層体のコア層を構成するポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＬＭ）をスクリュー径４０ｍｍの単軸押出機に投入し、スキン層を構成する変性ポリカーボネート樹脂をスクリュー径３０ｍｍの単軸押出機に投入した。押出機温度２８０℃、ベント部真空度２６ｋＰａに保持し、フィードブロック法にて２種２層に積層させ、設定温度２８０℃のＴ型ダイスを介して押出した。Ｔダイの幅は４５０ｍｍであり、エアギャップ間のネッキングによりロール接触時に３５０ｍｍ幅となるように調整した。また、コア層の押出機スクリュー回転数を４０ｒｐｍで一定とし、スキン層の押出機スクリュー回転数２５０〜１５００ｒｐｍに変えることで４水準のスキン層を調整した。更に、樹脂積層体の総厚みが一定となるように引き取り速度によって調整を行った。図４に示す様式で実施した。即ち、第２ロールを賦形ロールとし、第１および第３ロールを鏡面ロールとした。いずれのロールもロール直径は３６０ｍｍであった。第２ロール（幅１，６００ｍｍ）には、次の形状のＶ字型溝が形成され、フィルムの全幅に賦形した。かかるＶ字型溝は、ピッチ５０μｍ、高さ２５μｍ、頂角４５°のプリズム形状であり。ロール温度は、第１ロール：９５℃、第２ロール：９５℃、および第３ロール：１２５℃とし、第１ロールの周速Ｖ１と第２ロールの周速Ｖ２との速度比Ｖ１／Ｖ２を０．９９８とした。第２ロール上にはメルトバンクを設けた。第１ロールと第２ロール間の線圧を１２ＭＰａとして狭持して賦形した。最終的に該フィルムの両端約５０ｍｍずつを切断し２５０ｍｍ幅の表３記載の賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１００】
＜実施例５＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）４３８２部およびハイドロサルファイト８．７部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２４．１７部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１０１．８４部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬し、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１０１】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０２】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０３】
＜実施例６＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）３０６７部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１１７０部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２４．１７部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１０７．６５部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１０４】
（ポリカーボネート樹脂樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０５】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０６】
＜実施例７＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）１３１４部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）２７３１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２２．４４部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１１０．５６部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１０７】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０８】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０９】
＜実施例８＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液５２３６部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン（Ｂｉｓ−２）２，３５２部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１８１１部、およびハイドロサルファイト９．４部を溶解した後、塩化メチレン１７，５４０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液６５４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２２．４４部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１２１．５８部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬し、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１１０】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１１】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１２】
＜実施例９＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液５２３６部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン（Ｂｉｓ−２）４７０４部およびハイドロサルファイト９．４部を溶解した後、塩化メチレン１７，５４０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液６５４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２２．４４部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１２１．５８部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬し、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１１３】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１４】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１５】
＜実施例１０＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）１３１４部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）２７３１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２２．４４部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−６で表される化合物１６０．００部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１１６】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１７】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１８】
＜比較例１＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部およびｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール９５．３８部を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１１９】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２０】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２１】
＜比較例２＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部および上記式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２４．１７部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１０２．７１部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１２２】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２３】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２４】
＜比較例３＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部および上記式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１１６．３８部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１２５】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２６】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２７】
＜比較例４＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、上記式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物１．２１部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および上記式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１１３．４８部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１２８】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２９】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３０】
＜比較例５＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１２）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これにビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）４５２９部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、上記式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２８．０６部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および上記式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１６８．８７部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１３１】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１２）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３２】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１２）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３３】
＜比較例６＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１３）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これにビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）４５２９部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部およびｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１４９．０３部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１３４】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１３）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３５】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１３）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３６】
【表１】
【０１３７】
【表２】
【０１３８】
【表３】
【０１３９】
表１〜表３の結果から明らかなように、変性ポリカーボネート樹脂層をスキン層として有する積層体は、輝度上昇フィルムとして良好な表面すべり性、耐摩耗性、表面硬度、耐たわみ性を有する一方、汎用されるポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂ではかかる有用な特性が得られないことが分かる。また、変性ポリカーボネート樹脂をスキン層として用いた場合、賦形積層体の転写性、輝度上昇性が向上し、更に使用後のリサイクル性についても透明性を維持し、良好な衝撃強さを示すことから、使用済みの輝度上昇フィルムが他の有用な素材へのリサイクルに適していることが確認された。
即ち、本発明によれば、汎用されるポリカーボネート樹脂やポリメチルメタクリレート樹脂では得られない良好な輝度上昇フィルムが得られることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１４０】
本発明の輝度上昇フィルムは、液晶テレビ、パソコン、携帯電話、携帯型ゲーム機、表示パネル、自動車用などの液晶ディスプレイ装置に利用できる。
【符号の説明】
【０１４１】
Ａ 賦形形状の高さ
Ｂ 賦形形状のピッチ
１ Ｔダイリップ
２ 溶融押出されたフィルム状の樹脂
３ 冷却ロールの第１ロール
４ 冷却ロールの第２ロール
５ 冷却ロールの第３ロール
６ 引き取りロール
７ 賦形彫刻ロール
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネート樹脂積層体からなる輝度上昇フィルムに関する。更に詳しくは末端にシロキサン構造を有する基とアリール基とを特定の割合で有し、特定のビスフェノール構造単位から誘導された変性ポリカーボネート樹脂層をポリカーボネート樹脂層に積層し、積層体表面に特定の凹凸形状を賦形した表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、転写性、使用後のリサイクル性に優れる輝度上昇フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶テレビやパーソナルコンピュータ等の液晶ディスプレイ装置は、一般的には、液晶パネル、反射型偏光フィルム、輝度上昇フィルム、拡散フィルム、バックライトユニット、反射板で構成される。輝度上昇フィルムは、バックライトユニット前面に組み込むことにより、光源から照射された光をディスプレイに向かって集光し、正面での輝度を向上させることができる。
【０００３】
従来、輝度上昇フィルムは、ポリエステル樹脂フィルム表面にプリズム形状を賦形したアクリル樹脂を積層した光学フィルムが主に用いられてきた。しかしながら、最近の液晶ディスプレイ装置の大型化により、輝度上昇フィルムを構成する各樹脂の収縮率差によって反り・波うち等の不具合が発生するため、単一材料フィルム表面に賦形した輝度上昇フィルムが検討されている。さらに、液晶ディスプレイ装置の薄型化に伴い、光源近傍で発生する熱によって機器装置内が高温となる傾向にあるため、より耐熱性の高いポリカーボネート樹脂が用いられようとしている。
【０００４】
しかしながら、ポリカーボネート樹脂はＪＩＳ Ｋ５６００に記載の塗料一般試験方法−第５部：塗膜の機械的性質−第４節：引っかき硬度（鉛筆法）に準拠して測定した鉛筆硬度は２Ｂ程度に過ぎず、ＪＩＳ Ｋ７１２５に記載のプラスチック−フィルム及びシート−摩擦係数試験方法に準拠して測定した耐摩耗性に劣り、且つ純水との接触角が低く、表面すべり性に劣るため、他フィルム（例えば、反射型偏光フィルムや拡散フィルム）との摩擦で輝度上昇フィルム表面に傷が生じ、輝度上昇フィルムとしての性能が低下するという問題があった。
【０００５】
そこで、表面特性を改良する手法の一つとして、ポリカーボネート樹脂層にアクリル樹脂層を積層する方法が知られている（例えば、特許文献１）。しかしながら、アクリル樹脂はポリカーボネート樹脂よりも耐熱性が低く、更に吸水率が高いため、温度と吸湿による寸法変化量が大きくなる。従って、ポリカーボネート樹脂層の片面にアクリル樹脂層を設けた積層体は、高温高湿下に曝されると、アクリル樹脂層が変形することで反りが発生し、加工工程にて悪影響を及ぼすという問題がある。さらに、アクリル樹脂はポリカーボネート樹脂に比べて鉛筆硬度が３Ｈと非常に硬いため、他フィルム（例えば、反射型偏光フィルムや拡散フィルム）との摩擦により、輝度上昇フィルム表面は傷が生じないが、他フィルムを傷つけてしまうという問題がある。更に、アクリル樹脂とポリカーボネート樹脂の屈折率が大きく異なる為、樹脂界面での反射により正面輝度が低下する。また、積層体を粉砕し、ポリカーボネート樹脂と再度溶融混錬すると、白濁するため、リサイクル性に劣る。
【０００６】
表面特性を改良する手法の一つとして、シロキサン構成単位をポリカーボネート樹脂に含有させる方法がある。シロキサン構成単位をポリカーボネート樹脂に含有させるには、（１）シリコーンオイルなどのシロキサン系樹脂とポリカーボネート樹脂とをブレンドする方法（例えば、特許文献２，３）、（２）シロキサン構成単位を含むジヒドロキシ化合物をモノマーとして用いた共重合ポリカーボネートとする方法（例えば、特許文献４〜７）、（３）シロキサン構成単位を含むモノフェノール化合物を末端停止剤として用いた末端変性ポリカーボネートとする方法（例えば、特許文献８〜１３）がある。しかしながら、（１）の方法ではシロキサン構成単位とポリカーボネート樹脂が相分離を起こすことが問題である。また、（２）の方法では共重合ポリカーボネートの分子量を上げた場合に分子の自由度が低下し、シロキサン部分が効率良く表面に現れにくくなり充分な表面特性が得られなくなる。更に、（３）の方法では、（２）の方法に比べてシロキサン部分の自由度が高く、表面に出やすいために他の特性を損なわずに表面すべり性が向上するが、耐摩耗性の面では充分な結果が得られていない。また、（３）の方法を利用して、耐摩耗性を補うために、特殊な構造を有するアリール基を末端停止剤として併用することが検討されているが、輝度上昇フィルムに必要な特性については検討されていない（例えば、特許文献１４）。
【０００７】
その他に表面特性を向上させる一つの方法として、一般的にポリカーボネート樹脂層の表面にハードコート処理を行うことが知られているが、使用後のリサイクル性に劣るため、好ましくない。
したがって、表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、転写性、使用後のリサイクル性に優れた輝度上昇フィルムは未だ存在しないのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−１６０８９２号公報
【特許文献２】特開昭６１−２１９０４９号公報
【特許文献３】特開昭６２−２０５３５７号公報
【特許文献４】特開昭６１−１３２９５４号公報
【特許文献５】特開平２−２４０６５５号公報
【特許文献６】特開平５−７２７５３号公報
【特許文献７】特開平６−１３６１０８号公報
【特許文献８】特開平７−２６１４４０号公報
【特許文献９】特開２０００−１７１９８９号公報
【特許文献１０】特許第２５０９０２５号公報
【特許文献１１】特許第３３３９５９８号公報
【特許文献１２】特許第３３９３６１６号公報
【特許文献１３】特許第３４０９８１９号公報
【特許文献１４】国際公開２００８／０３８６０８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、転写性、使用後のリサイクル性に優れたポリカーボネート樹脂積層体からなる輝度上昇フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、上記課題は、
（構成１）：コア層とスキン層とからなる総厚み０．１〜１．０ｍｍの積層体からなる輝度上昇フィルムであって、（ｉ）コア層は、ポリカーボネート樹脂層から形成され、（ｉｉ）スキン層は、下記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）を含み、その割合が全カーボネート構成単位中２０〜１００モル％であり、分子末端に下記式［２］で示されるポリシロキサン末端成分（末端［２］）、および下記式［３］で示されるアリールフェノール末端成分（末端［３］）を含み、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０１〜１モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜１０モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成され、且つスキン層は規則的に配列された凹凸形状を賦形した表面形状である、輝度上昇フィルムにより解決される。
【００１１】
【化１】
（式中、Ｗは単結合、炭素原子数１〜６のアルキレン基、炭素原子数１〜６のアルキリデン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基、または炭素原子数３〜８の環状アルキレン基を表す。）
【００１２】
【化２】
（式中、Ｘは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ１は、単結合、Ｏ（酸素原子）、ＣＯ、ＣＯＯ、およびＮＨＣＯよりなる群より選ばれる基を表す。Ｒ２は、置換若しくは無置換の炭素原子数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立に、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。ｚは１〜４の整数を表す。ｎは１〜１００の整数を表す。）
【００１３】
【化３】
（式中、Ｒ８は、フェニル基を表す。ｍは１または２である。）
【００１４】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成２）：（ｉｉ）スキン層は、上記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンから誘導されるカーボネート構成単位（構成単位Ｂ）とからなり、構成単位Ａの割合が全カーボネート構成単位中２０〜９０モル％であり、分子末端に上記式［２］で示されるポリシロキサン末端成分（末端［２］）、および上記式［３］で示されるアリールフェノール末端成分（末端［３］）を含み、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０５〜０．５モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜７モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成される上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１５】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成３）：スキン層の厚みが５〜１００μｍである上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１６】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成４）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂層は、
（１）粘度平均分子量が１．０×１０４〜４．０×１０４、
（２）ＪＩＳ Ｋ５６００に準拠して測定した鉛筆硬度がＨＢ〜２Ｈ、
（３）コア層を形成するポリカーボネート樹脂との屈折率差が０．０１以内、
（４）ガラス転移温度が１２０℃〜１６０℃、
（５）２５℃、６０％ＲＨにおける純水との接触角が９０°以上
である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１７】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成５）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンおよび２，２’−メチル−４，４’−ビフェニルジオールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１８】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成６）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンから誘導された構成単位である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００１９】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成７）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサンから誘導された構成単位である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００２０】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成８）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のポリシロキサン末端成分（末端［２］）が、上記式［２］で表される基であって、Ｘが水素原子、Ｒ１が単結合、Ｒ２がエチレン基またはプロピレン基、Ｒ３〜Ｒ６が夫々独立にメチル基またはフェニル基、Ｒ７が炭素原子数１〜４のアルキル基、ｎが５〜１０の整数である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００２１】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成９）：スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のアリールフェノール末端成分（末端［３］）が２−フェニルフェノール、および２，６−ジフェニルフェノールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【００２２】
本発明の好適な態様の１つは、
（構成１０）：規則的に配列された凹凸形状は、ピッチが１０〜３００μｍ、高さが１０〜３００μｍであるレンチキュラー型、プリズム型、リニアーフレネル型形状からなる群より選ばれる少なくとも一種である上記構成１記載の輝度上昇フィルムである。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の積層体からなる輝度上昇フィルムは、表面すべり性、耐摩耗性、耐擦傷性、耐たわみ性、透明性、転写性、使用後のリサイクル性に優れることから、薄型且つ大型の液晶ディスプレイ装置用輝度上昇フィルムとしての使用が可能である。したがって、その奏する産業上の効果は格別である。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】反り量の測定方法を示す図である。
【図２】賦形表面近傍を拡大した図である。
【図３】ポリカーボネート樹脂積層体の製造装置の一態様を示した図である。
【図４】賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造装置の一態様を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明を詳細に説明する。
（コア層）
本発明において、コア層は、ポリカーボネート樹脂層から形成される。
【００２６】
＜ポリカーボネート樹脂＞
本発明のポリカーボネート樹脂層に用いられるポリカーボネート樹脂は二価フェノールとカーボネート前駆体とを反応させて得られるものである。反応の方法としては界面重縮合法、溶融エステル交換法、カーボネートプレポリマーの固相エステル交換法、および環状カーボネート化合物の開環重合法などを挙げることができる。ポリカーボネート樹脂はいかなる製造方法によって製造されたものでもよく、界面重縮合の場合は通常一価フェノール類の末端停止剤が使用される。ポリカーボネート樹脂は前記二価フェノールまたは二官能性アルコールに加えて、３官能以上の多官能成分を重合させた分岐ポリカーボネートであってもよい。また３官能フェノール類の如き多官能フェノール類を重合させた分岐ポリカーボネート樹脂であってもよく、更に脂肪族ジカルボン酸や芳香族ジカルボン酸、ポリオルガノシロキサン成分、並びにビニル系単量体を共重合させた共重合ポリカーボネートであってもよい。二価フェノールの代表的な例として２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等があげられる。好ましい二価フェノールはビス（４−ヒドロキシフェニル）アルカン系であり、特にビスフェノールＡが好ましい。
【００２７】
カーボネート前駆物質として例えばホスゲンを使用する反応では、通常酸結合剤および溶媒の存在下に反応を行う。酸結合剤としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物またはピリジン等のアミン化合物が用いられる。溶媒としては例えば塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また反応促進のために例えば第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩等の触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常０〜４０℃であり、反応時間は数分〜５時間である。
【００２８】
カーボネート前駆物質として例えば炭酸ジエステルを用いるエステル交換反応は、不活性ガス雰囲気下所定割合の芳香族ジヒドロキシ成分を炭酸ジエステルと加熱しながら撹拌して、生成するアルコールまたはフェノール類を留出させる方法により行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノール類の沸点等により異なるが、通常１２０〜３００℃の範囲である。反応はその初期から減圧にして生成するアルコールまたはフェノール類を留出させながら反応を完結させる。また反応を促進するために通常エステル交換反応に使用される触媒を使用することもできる。前記エステル交換反応に使用される炭酸ジエステルとしては、例えばジフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート等が挙げられる。これらのうち特にジフェニルカーボネートが好ましい。
【００２９】
末端停止剤として通常使用される単官能フェノール類を使用することができる。殊にカーボネート前駆物質としてホスゲンを使用する反応の場合、単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、また得られた芳香族ポリカーボネート樹脂は、末端が単官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているので、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。かかる単官能フェノール類としては、芳香族ポリカーボネート樹脂の末端停止剤として使用されるものであればよく、前記単官能フェノール類の具体例としては、例えばフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノールおよびイソオクチルフェノールが挙げられる。
ポリカーボネート樹脂を製造するに当り、上記二価フェノールを単独で又は二種以上併用することができ、また必要に応じて分子量調節剤、分岐剤、触媒等を用いることができる。
【００３０】
ポリカーボネート樹脂の分子量は粘度平均分子量で表して好ましくは１．０×１０４〜４．０×１０４であり、より好ましくは１．３×１０４〜３．０×１０４であり、さらに好ましくは１．４×１０４〜２．０×１０４である。本発明でいう粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを２０℃で溶解した溶液から求めた比粘度（ηｓｐ）を次式に挿入して求めたものである。
ηｓｐ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］２ｃ（但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０−４Ｍ０．８３
ｃ＝０．７
本発明のポリカーボネート樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で、離型剤、熱安定剤、および流動改質剤などのそれ自体公知の機能剤を含有できる。
【００３１】
（スキン層）
本発明において、スキン層は、変性ポリカーボネート樹脂層から形成される。
＜変性ポリカーボネート樹脂＞
本発明における変性ポリカーボネート樹脂は、上記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）を含み、その割合が全カーボネート構成単位中２０〜１００モル％である。構成単位Ａとしては、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンおよび２，２’−メチル−４，４’−ビフェニルジオールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位であることが好ましく、特に１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサンまたは２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンから誘導された構成単位であることが好ましい。また、構成単位Ａの割合は、全構成単位中３０モル％以上が好ましく、４０モル％以上がより好ましい。構成単位Ａの割合が２０モル％未満では、耐擦傷性が不十分であるため好ましくない。
【００３２】
さらに、変性ポリカーボネート樹脂として、上記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンから誘導されるカーボネート構成単位（構成単位Ｂ）とからなり、構成単位Ａの割合が全構成単位中２０〜９０モル％である変性ポリカーボネート樹脂が好ましく使用される。構成単位Ａの割合は、全構成単位中３０〜８０モル％がより好ましく、４０〜７０モル％がさらに好ましい。
【００３３】
本発明における変性ポリカーボネート樹脂は、分子末端に上記式［２］で示されるポリシロキサン成分（末端［２］）、および上記式［３］で表されるアリールフェノール成分（末端［３］）を含む。かかる変性ポリカーボネート樹脂を使用することにより従来のポリカーボネート樹脂よりも高い耐擦傷性、表面すべり性、耐摩耗性を発現できることが判明した。
【００３４】
上記式［２］で示されるポリシロキサン成分（末端［２］）において、Ｘは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。ｚは１〜４の整数を表す。
【００３５】
Ｒ１は、単結合、Ｏ、ＣＯ、ＣＯＯ、およびＮＨＣＯよりなる群より選ばれる基を表す。Ｒ１は、好ましくは単結合、ＯまたはＣＯＯであり、より好ましくは単結合である。
Ｒ２は、炭素原子数１〜６の置換若しくは無置換のアルキレン基を表す。Ｒ２は、好ましくは炭素原子数２〜３の置換若しくは無置換のアルキレン基であり、より好ましくは炭素原子数２〜３の無置換のアルキレン基である。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基が挙げられる。置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素原子数１〜３のアルキル基が挙げられる。
【００３６】
Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立に、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基で表される基からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ３〜Ｒ７は、複数ある場合、それらは同一でも異なっていても良い。Ｒ３〜Ｒ７として、炭素原子数１〜１０のアルキル基、および炭素原子数６〜１０のアリール基からなる群から選ばれる基が好ましい。
【００３７】
炭素原子数１〜１０のアルキル基として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基として、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素原子数２〜１０のアルケニル基として、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。炭素原子数６〜１０のアリール基として、フェニル基、トルイル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。炭素原子数７〜２０のアラルキル基として、ベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基が挙げられる。これらの中で、Ｒ３〜Ｒ６は炭素原子数１〜５のアルキル基または炭素原子数６〜８のアリール基が好ましく、メチル基またはフェニル基がより好ましい。また、Ｒ７は炭素原子数１〜４のアルキル基であることが好ましい。
【００３８】
ｎは１〜１００の整数である。ｎは好ましくは３〜５０の整数、より好ましくは５〜１０の整数である。ｎが小さすぎると表面すべり性の改善効果が充分でなくなり、ｎが大きすぎると、透明性が劣り、リサイクル性に悪影響が生じ好ましくない。
【００３９】
上記式［２］で示されるポリシロキサン成分（末端［２］）として、Ｘが水素原子、Ｒ１が単結合、Ｒ２がエチレン基またはプロピレン基、ｎが５〜１０の整数、Ｒ３〜Ｒ６がメチル基またはフェニル基、Ｒ７が炭素原子数１〜４のアルキル基であることが好ましい。
上記式［２］で示されるポリシロキサン成分（末端［２］）は、末端停止剤として一価フェノールを用いることにより導入することができる。一価フェノールの具体例として、下記式［２］−１〜［２］−２４で表される化合物が挙げられる。
【００４０】
【化４】
【化５】
（式中、ｎ、ｐおよびｑはそれぞれ１〜１００の整数を表す。）
【００４１】
また、上記式［３］で示されるアリールフェノール成分（末端［３］）において、Ｒ８は、フェニル基を表す。ｍは１または２である。
上記式［３］で示されるアリールフェノール成分（末端［３］）として、より具体的には、下記式［３］−１〜［３］−８で表される化合物が好ましく、２−フェニルフェノール、２，６−ジフェニルフェノールが更に好ましい。上記式［３］で示されるアリールフェノール成分（末端［３］）は、末端停止剤として一価フェノールを用いることにより導入することができる。
【００４２】
【化６】
【００４３】
本発明の変性ポリカーボネート樹脂は、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０１〜１モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜１０モル％である。さらに、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０５〜０．５モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．５〜７モル％であることが好ましい。末端［２］の割合が下限未満であると表面すべり性効果がほとんどなく、上限を超えると透明性が損なわれるため、好ましくない。末端［３］の割合が下限未満であると耐摩耗性効果がほとんどなく、上限を超えると分子量が低くなり、脆性破壊を起こしやすくなるため好ましくない。
【００４４】
変性ポリカーボネート樹脂の製造には、前記ポリカーボネート樹脂と同様の手法を用いることができる。
変性ポリカーボネート樹脂の分子量は粘度平均分子量で表して好ましくは１．０×１０４〜４．０×１０４であり、より好ましくは１．３×１０４〜３．０×１０４であり、さらに好ましくは１．４×１０４〜２．０×１０４である。
【００４５】
変性ポリカーボネート樹脂の鉛筆硬度は、好ましくはＨＢ〜２Ｈ、より好ましくはＦ〜Ｈである。鉛筆硬度が前記範囲の下限未満では、耐擦傷性が不十分であり、前記範囲の上限を超える場合、液晶ディスプレイ装置を構成する他フィルムとの摩擦により自身は傷つかないが他フィルムを傷つけてしまうため、好ましくない。本発明でいう鉛筆硬度は、射出成形により形成される３段型プレート（幅５０ｍｍ、長さ９０ｍｍ、厚みがゲート側から３．０ｍｍ（長さ２０ｍｍ）、２．０ｍｍ（長さ４５ｍｍ）、１．０ｍｍ（長さ２５ｍｍ）、算術平均粗さ（Ｒａ）：０．０３μｍ）の厚み２．０ｍｍ部において、ＪＩＳ Ｋ５６００に記載の手法に準拠して測定したものである。
【００４６】
変性ポリカーボネート樹脂は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１２０〜１６０℃であることが好ましく、１３０〜１５０℃であることがより好ましい。Ｔｇが前記範囲の下限未満では耐熱性が不足し、熱変形により輝度上昇フィルムに反りが発生するため、好ましくない。Ｔｇが前記範囲の上限を超えると、賦形加工時に凹凸形状の転写性が劣るため、好ましくない。本発明におけるＴｇとは、示差走査熱量分析装置（ＤＳＣ）を使用し、ＪＩＳ Ｋ７１２１に準拠した昇温速度２０℃／ｍｉｎで測定して得られるものである。
【００４７】
また、スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂とコア層を形成するポリカーボネート樹脂との屈折率差は、好ましくは−０．０１〜＋０．０１、より好ましくは−０．００８〜＋０．００８である。屈折率差が上記記載範囲よりも大きくなると、積層体の樹脂界面での反射により正面輝度が低下するので好ましくない。本発明における屈折率は、上述した３段型プレートの厚み１．０ｍｍ部分を使用し、ＪＩＳ−Ｋ７１４２に準拠して、光源波長５８９ｎｍ（ナトリウムＤ線）にて測定した屈折率を示し、屈折率差は、変性ポリカーボネート樹脂の屈折率からポリカーボネート樹脂の屈折率を差し引いた値を示す。
【００４８】
変性ポリカーボネート樹脂は、滴下式接触角計で測定した純水に対する接触角が好ましくは９０°以上、より好ましくは９５°以上、さらに好ましくは９８°以上である。接触角が上記下限未満の場合、表面すべり性が十分でないため好ましくない。上限は特に限定されないが、１０５°以下であれば十分な表面すべり性を有する。
【００４９】
変性ポリカーボネート樹脂は、静摩擦係数が好ましくは０．３６以下、より好ましくは０．３３以下、さらに好ましくは０．３０以下である。
変性ポリカーボネート樹脂は、動摩擦係数が、好ましくは０．２６以下、より好ましくは０．２３以下、さらに好ましくは０．２０以下である。
変性ポリカーボネート樹脂は、後述の摩耗試験におけるテーバー摩耗量が、好ましくは１５ｍｇ以下、より好ましくは１３ｍｇ以下、さらに好ましくは１０ｍｇ以下である。
【００５０】
変性ポリカーボネート樹脂は、メルトボリュールフローレート（ＭＶＲ）が２０ｃｍ３／１０分以上であることが好ましく、３０ｃｍ３／１０分以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが、１００ｃｍ３／１０分以下であれば充分な転写性を有する。ＭＶＲが前記範囲の下限未満では、表面の賦形形状の転写性が劣るため、好ましくない。本発明におけるＭＶＲとは、ＩＳＯ １１３３に記載の方法に準拠して３００℃、１．２ｋｇ荷重で測定したものである。
変性ポリカーボネート樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、離型剤、熱安定剤、および流動改質剤などのそれ自体公知の機能剤を含有できる。
【００５１】
＜樹脂以外の成分＞
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、より好適には以下の離型剤、および熱安定剤などが配合される。
【００５２】
（ｉ）離型剤
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、離型剤を配合することが好ましい。
本発明の離型剤としては公知のものが使用できる。例えば、脂肪酸エステル、ポリオレフィン系ワックス（ポリエチレンワックス、１−アルケン重合体など。酸変性などの官能基含有化合物で変性されているものも使用できる）、シリコーン化合物、フッ素化合物（ポリフルオロアルキルエーテルに代表されるフッ素オイルなど）、パラフィンワックス、蜜蝋などを挙げることができる。これらの中でも入手の容易さ、離型性および透明性の点から脂肪酸エステルが好ましい。かかる離型剤はポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００５〜０．３重量部、より好ましくは０．００７〜０．２重量部である。添加量が前記範囲の下限未満では、離型性の改善が十分ではなく、上限を超える場合、ロール、金型、スタンパ等の賦形装置汚染やブリードアウトによる転写性低下が生じるため好ましくない。
【００５３】
上記の中でも好ましい離型剤として脂肪酸エステルが挙げられる。かかる脂肪酸エステルは、脂肪族アルコールと脂肪族カルボン酸とのエステルである。かかる脂肪族アルコールは１価アルコールであっても２価以上の多価アルコールであってもよい。また該アルコールの炭素数としては、好適には３〜３２の範囲、より好適には５〜３０の範囲である。かかる一価アルコールとしては、例えばドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール、エイコサノール、テトラコサノール、セリルアルコール、およびトリアコンタノールなどが例示される。かかる多価アルコールとしては、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ポリグリセロール（トリグリセロール〜ヘキサグリセロール）、ジトリメチロールプロパン、キシリトール、ソルビトール、およびマンニトールなどが挙げられる。本発明の脂肪酸エステルにおいては多価アルコールがより好ましい。
【００５４】
一方、脂肪族カルボン酸は炭素数３〜３２であることが好ましく、特に炭素数１０〜２２の脂肪族カルボン酸が好ましい。該脂肪族カルボン酸としては、例えばデカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸（パルミチン酸）、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸（ステアリン酸）、ノナデカン酸、イコサン酸、およびドコサン酸（ベヘン酸）などの飽和脂肪族カルボン酸、並びにパルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エイコセン酸、エイコサペンタエン酸、およびセトレイン酸などの不飽和脂肪族カルボン酸を挙げることができる。上記の中でも脂肪族カルボン酸は、炭素原子数１４〜２０であるものが好ましい。なかでも飽和脂肪族カルボン酸が好ましい。かかる脂肪族カルボン酸は通常、動物性油脂（牛脂および豚脂など）や植物性油脂（パーム油など）などの天然油脂類から製造されるため、これらの脂肪族カルボン酸は、通常炭素原子数の異なる他のカルボン酸成分を含む混合物である。したがって本発明で使用される脂肪族カルボン酸の製造においてもかかる天然油脂類から製造され、他のカルボン酸成分を含む混合物の形態からなる。脂肪酸エステルにおける酸価は、２０以下（実質的に０を取り得る）であることが好ましい。しかしながら全エステル（フルエステル）の場合には、離型性を向上させるため、少なくからず遊離の脂肪酸を含有することが好ましく、この点においてフルエステルにおける酸価は３〜１５の範囲が好ましい。また脂肪酸エステルのヨウ素価は、１０以下（実質的に０を取り得る）が好ましい。これらの特性はＪＩＳ Ｋ ００７０に規定された方法により求めることができる。
【００５５】
本発明の脂肪酸エステルは、部分エステルおよびフルエステルのいずれであってもよいが。本発明においてより好ましくは良好な離型性および耐久性の点で部分エステルである。中でもグリセリンモノエステルが好ましい。グリセリンモノエステルは、グリセリンと脂肪酸のモノエステルが主成分であり、好適な脂肪酸としてはステアリン酸、パルチミン酸、ベヘン酸、アラキン酸、モンタン酸、およびラウリン酸等の飽和脂肪酸やオレイン酸、リノール酸、およびソルビン酸等の不飽和脂肪酸が挙げられ、特にステアリン酸、ベヘン酸、およびパルチミン酸のグリセリンモノエステルを主成分としたものが好ましい。尚、かかる脂肪酸は、天然の脂肪酸から合成されたものであり、上述のとおり混合物となる。グリセリンモノエステルは、他の離型剤、殊に脂肪酸フルエステルとの併用が可能であるが、併用した場合でもグリセリンモノエステルを主成分とすることが好ましい。即ち、離型剤１００重量％中、６０重量％以上とすることが好ましい。
【００５６】
尚、部分エステルは、熱安定性の点ではフルエステルに対して劣る場合が多い。かかる部分エステルの熱安定性を向上するため、部分エステルは、好ましくは２０ｐｐｍ未満、より好ましくは５ｐｐｍ未満、更に好ましくは１ｐｐｍ未満のナトリウム金属含有量とすることが好ましい。ナトリウム金属含有量が１ｐｐｍ未満の脂肪酸部分エステルは、脂肪酸部分エステルを通常の方法で製造した後、分子蒸留などにより精製して製造することができる。
【００５７】
具体的には、スプレーノズル式脱ガス装置によりガス分および低沸点物質を除去した後に流下膜式蒸留装置を用い蒸留温度１２０〜１５０℃、真空度０．０１〜０．０３ｋＰａの条件にてグリセリン等の多価アルコール分を除去し、更に遠心式分子蒸留装置を用いて、蒸留温度１６０〜２３０℃、真空度０．０１〜０．２Ｔｏｒｒの条件にて高純度の脂肪酸部分エステルを留出分として得る方法などがあり、ナトリウム金属は蒸留残渣として除去できる。得られた留出分に対し、繰り返し分子蒸留を行うことにより、更に純度を上げ、ナトリウム金属含有量の更に少ない脂肪酸部分エステルを得ることもできる。また前もって適切な方法にて分子蒸留装置内を十分に洗浄し、また気密性を高めるなどにより外部環境からのナトリウム金属成分の混入を防ぐことも肝要である。かかる脂肪酸エステルは、専門業者（例えば理研ビタミン（株））から入手可能である。
【００５８】
（ｉｉ）リン系安定剤
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、その加工時の熱安定性を向上させることを主たる目的として各種のリン系安定剤が更に配合されることが好ましい。かかるリン系安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステルなどが例示される。更にかかるリン系安定剤は第３級ホスフィンを含む。
【００５９】
具体的にはホスファイト化合物としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、トリス（ジエチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｎ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
【００６０】
更に他のホスファイト化合物としては二価フェノール類と反応し環状構造を有するものも使用できる。例えば、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイトなどを挙げることができる。
【００６１】
ホスフェート化合物としては、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどを挙げることができ、好ましくはトリフェニルホスフェート、トリメチルホスフェートである。
【００６２】
ホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等があげられ、テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。かかるホスホナイト化合物は前記アルキル基が２以上置換したアリール基を有するホスファイト化合物との併用可能であり好ましい。
【００６３】
ホスホネイト化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、およびベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げられる。
【００６４】
第３級ホスフィンとしては、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリアミルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジフェニルオクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ−ｐ−トリルホスフィン、トリナフチルホスフィン、およびジフェニルベンジルホスフィンなどが例示される。特に好ましい第３級ホスフィンは、トリフェニルホスフィンである。
【００６５】
前記リン系安定剤は、１種のみならず２種以上を混合して用いることができる。前記リン系安定剤の中でも、ホスファイト化合物またはホスホナイト化合物が好ましい。殊にトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましい。またこれらとホスフェート化合物との併用も好ましい態様である。
【００６６】
（ｉｉｉ）ヒンダードフェノール系安定剤
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、その加工時の熱安定性、および耐熱老化性を向上させることを主たる目的としてヒンダードフェノール系安定剤を配合することができる。かかるヒンダードフェノール系安定剤としては、例えば、α−トコフェロール、ブチルヒドロキシトルエン、シナピルアルコール、ビタミンＥ、ｎ−オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェル）プロピオネート、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−ジメチレン−ビス（６−α−メチル−ベンジル−ｐ−クレゾール）２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−Ｎ−ビス−３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート、１，６−へキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス［２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）フェニル］テレフタレート、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１，−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４’−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス２［３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアヌレート、およびテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンなどが例示される。これらはいずれも入手容易である。前記ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、単独でまたは２種以上を組合せて使用することができる。
【００６７】
前記（ｉｉ）リン系安定剤および（ｉｉｉ）ヒンダードフェノール系酸化防止剤の量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０００１〜１重量部、より好ましくは０．００１〜０．１重量部、さらに好ましくは０．００５〜０．１重量部である。安定剤が前記範囲よりも少なすぎる場合には良好な安定化効果を得ることが難しく、前記範囲を超えて多すぎる場合は、逆に材料の物性低下や、加工時にロール、金型、スタンパ等の汚染を起こす場合がある。
【００６８】
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、適宜前記ヒンダードフェノール系酸化防止剤以外の他の酸化防止剤を使用することができる。かかる他の酸化防止剤としては、例えばペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、およびグリセロール−３−ステアリルチオプロピオネートなどが挙げられる。これら他の酸化防止剤の使用量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．０５重量部が好ましい。
【００６９】
（ｉＶ）帯電防止剤
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂には、帯電防止性を向上させることを主たる目的として帯電防止剤を配合することができる。帯電防止剤としては、スルホン酸ホスホニウム塩、亜リン酸エステル、カプロラクトン系重合体等を使用することができ、スルホン酸ホスホニウム塩が好ましく使用される。かかるスルホン酸ホスホニウム塩の具体例としては、ドデシルスルホン酸テトラブチルホスホニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸トリブチルオクチルホスホニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム、オクタデシルベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム、ジブチルベンゼンスルホン酸トリブチルメチルホスホニウム、ジブチルナフチルスルホン酸トリフェニルホスホニウム、ジイソプロピルナフチルスルホン酸トリオクチルメチルホスホニウム等が挙げられる。中でも、ポリカーボネートとの相溶性及び入手が容易な点で、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウムが好ましい。帯電防止剤の量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対し、好ましくは０．１〜５．０重量部配合されるが、より好ましくは０．２〜３．０重量部、更に好ましくは０．３〜２．０重量部、特に好ましくは０．５〜１．８重量部である。０．１重量部未満では、帯電防止の効果は得られず、５．０重量部を超えると透明性や機械的強度が低下し、成形品表面にシルバーや剥離が生じて外観不良を引き起こし易い。
【００７０】
本発明のポリカーボネート樹脂、及び変性ポリカーボネート樹脂は、他にも、難燃剤などを含有することができる。これらは、輝度上昇フィルムとして支障のない剤および配合量を適宜選択して含有することができる。
【００７１】
＜輝度上昇フィルム（積層体）＞
本発明の輝度上昇フィルムは、コア層とスキン層とからなる総厚み０．１〜１．０ｍｍの積層体であって、スキン層の表面に規則的に配列された凹凸形状を賦形した積層体である。積層体は、コア層がポリカーボネート樹脂層、スキン層が変性ポリカーボネート樹脂層よりなり、スキン層はコア層表面の片面、両面にあってもよい。スキン層の厚みは５〜１００μｍが好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以下がさらに好ましい。スキン層が前記範囲の下限未満では、耐擦傷性が不十分であり、前記範囲の上限を超える場合、スキン層積層時に斑が生じるため、好ましくない。スキン層の厚みは、ミクロトームで樹脂フィルムを精密に切断するか、液体窒素で固化した樹脂フィルムを均一に割ることで切断面をつくり、走査電子顕微鏡により、スキン層とコア層の界面から樹脂フィルム表面までの距離をスキン層厚みとして算出したものである。
【００７２】
ポリカーボネート樹脂層は、その製法には特に限定はなく、例えば、溶融押出法、溶液キャスティング法（流延法）等を挙げることができる。溶融押出法の具体的な方法は、例えば、ポリカーボネート樹脂を押出機に定量供給して、加熱溶融し、Ｔダイの先端部から溶融樹脂をフィルム状に鏡面ロール上に押出し、複数のロールにて冷却しながら引き取り、固化した時点で適当な大きさにカットするか巻き取る方式が用いられる。溶液キャスティング法の具体的な方法は、例えば、ポリカーボネート樹脂を塩化メチレンに溶解した溶液（濃度５％〜４０％）を鏡面研磨されたステンレス板上にＴダイから流延し、段階的に温度制御されたオーブンを通過させながらフィルムを剥離し、溶媒を除去した後、冷却して巻き取る方式が用いられる。
【００７３】
変性ポリカーボネート樹脂層は、その製法には特に限定はなく、例えば、ポリカーボネート樹脂層と同じ製法を用いることができる。
積層体の製法としては、任意の方法を用いればよく、特に熱圧着法または共押出法で行うことが好ましい。熱圧着法としては任意の方法が採用されるが、例えばポリカーボネート樹脂フィルムと変性ポリカーボネート樹脂フィルムをラミネート機やプレス機で熱圧着する方法、押出し直後のポリカーボネート樹脂フィルムに変性ポリカーボネート樹脂フィルムを熱圧着する方法が好ましく、特に押出し直後のポリカーボネート樹脂フィルムに連続して熱圧着する方法が工業的に有利である。この場合の熱圧着条件は、ポリカーボネート樹脂フィルムや変性ポリカーボネート樹脂フィルムの厚さ、圧着面の状態等により異なり、一概に特定できないが、変性ポリカーボネート樹脂フィルムのガラス転移点近傍又はそれ以上の温度、通常変性ポリカーボネート樹脂フィルムのガラス転移点−１０℃〜ガラス転移点＋１５０℃、好ましくはガラス転移点−５℃〜ガラス転移点＋１００℃で０．０５〜５ｋｇ／ｃｍ２程度、好ましくは０．１〜１ｋｇ／ｃｍ２程度の圧力を加えることにより熱圧着できる。その際に、表面に規則的な凹凸形状を賦形する方法としては、熱圧着したフィルムを凹凸形状が賦形されたスタンパを用いて熱プレス成形する方法、熱圧着時に、凹凸形状が賦形された彫刻ロールに押圧する方法等が用いられる。
【００７４】
共押出法は、補助の溶融押出機で変性ポリカーボネート樹脂をそのガラス転移点〜ガラス転移点＋２３０℃、好ましくはガラス転移点＋５０℃〜ガラス転移点＋２００℃で溶融押出し、主の溶融押出機でポリカーボネート樹脂をそのガラス転移点〜ガラス転移点＋２３０℃、好ましくはガラス転移点＋５０℃〜ガラス転移点＋２００℃で溶融押出し、マルチマニホールド方式又はフィードブロック方式等公知の方式にて押出積層することができる。溶融押出機は、単軸押出機であっても２軸押出機であってもよい。樹脂の熱劣化、着色の防止、Ｔダイリップのメヤニ防止、並びにロール汚染の防止などを目的として、ベント吸引による減圧脱気、ホッパー内の吸引脱気、および窒素の如き不活性ガスのホッパーまたはバレルへの注入などを行うことができる。ベント吸引する場合には、好ましくは１．３３〜６６．５ｋＰａで減圧される。
【００７５】
溶融状態で押出されたフィルムは第１ロール、第２ロールおよび第３ロールで狭持圧下されながら冷却される。この際フィルムは第２ロールの表面に施されている彫刻溝により微細な凹凸形状が付与され、冷却された後、引取ロールにより引き取られる。ここで使用する第１〜第３ロールのロール径は特に制限する必要はなくまた同じロール径に統一する必要もないが、ロール径は通常２００ｍｍ以上であり、特に２５０〜５００ｍｍの同一径のものが好ましく使用される。いずれのロールもロール表面に樹脂コートを含む各種のコート処理が施されてもよい。使用する彫刻溝ロールの彫刻溝のピッチは好ましくは１０〜３００μｍであり、より好ましくは２０〜１００μｍである。賦形フィルムにおける凸形状のピッチは、ロールの彫刻溝のピッチに依存する。本発明における凸形状は、同一のピッチであることが望ましい。したがって、かかる彫刻溝のピッチは一定の値であり、その結果、微細な凹凸形状が同一ピッチで規則的に配列されたフィルムが望ましい。かかるピッチの値は基本的には、求められる光学設計において適宜決められるが、１０〜３００μｍの範囲では、フィルムの輝度上昇性、生産性、並びにロール彫刻の生産性において優れている。
【００７６】
本発明で使用する彫刻溝ロールの溝の深さは好ましくは１０〜３００μｍである。かかる下限は、より好ましくは２０μｍ、更に好ましくは１００μｍである。一方、かかる上限は好ましくは３００μｍ、より好ましくは２００μｍである。尚、ロールの溝の深さは、フィルムへの転写率を考慮して設計され、公知の彫刻機を用いて彫刻することができる。溶融押出されたポリカーボネート樹脂を第１ロールと第２ロールとの間に挟持して当該２本のロールで押圧する際の線圧が５０ｋｇ／ｃｍ以上であることが好ましい。より好ましくは１００〜２００ｋｇ／ｃｍの範囲である。２００ｋｇ／ｃｍを超えると、押しつぶしによってフィルムの厚み方向前面に歪が発生し易く、フィルムのカール、反りなどの原因となると共に圧力によるロール軸の歪みが発生し易く、幅方向の賦型程度に差が発生する原因となる。
【００７７】
本発明の積層体は、表面賦形された凹凸形状が、フィルムの幅方向または／および幅方向と直角方向に規則的に配列された凹凸形状であり、凹凸形状はレンズ形状が好ましく、更に好適には、レンチキュラー型、プリズム型、またはリニアーフレネル型レンズが好ましい。ここで、「フィルムの幅方向または／および幅方向と直角方向」とは、凹凸形状が片面にフィルムの幅方向または幅方向と直角方向に規則的に配列されていること、並びに凹凸形状が片面においてはフィルムの幅方向に、もう一方の面において幅方向と直角方向に規則的に配列されていることを含む。本発明の凹凸形状は、片面賦形および両面賦形のいずれの態様も含む。本発明の凹凸形状は、より高精度が要求されるレンズ機能を有する形状が好適である。該レンズ機能の凹凸形状には、いわゆるフライアイレンズを含むレンズアレイを含むが、より好適には畝状のレンズ形状であり、プリズム型が特に好適である。
【００７８】
本発明の積層体の透明性としては、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１およびＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠した全光線透過率値およびヘーズ値で評価される。本発明で得られた樹脂積層体の全光線透過率値は好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上である。また、ヘーズ値は好ましくは１．０％以下であり、より好ましくは０．５％以下である。
【００７９】
本発明の積層体の鉛筆硬度は、好ましくはＨＢ〜２Ｈ、より好ましくはＦ〜Ｈである。鉛筆硬度が前記範囲の下限未満では、耐擦傷性が不十分であり、前記範囲の上限を超える場合、液晶ディスプレイ装置を構成する他フィルム（例えば、反射型偏光フィルムや拡散フィルム）との摩擦により輝度上昇フィルム表面は傷つかないが他フィルム表面を傷つけてしまうため、好ましくない。本発明でいう鉛筆硬度は、射出成形により形成される３段型プレート（幅５０ｍｍ、長さ９０ｍｍ、厚みがゲート側から３．０ｍｍ（長さ２０ｍｍ）、２．０ｍｍ（長さ４５ｍｍ）、１．０ｍｍ（長さ２５ｍｍ）、算術平均粗さ（Ｒａ）：０．０３μｍ）の厚み２．０ｍｍ部において、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に記載の手法に準拠して測定したものである。
【００８０】
本発明の積層体の耐たわみ性は、長さ８０ｍｍ、幅２５ｍｍに切断し、６０℃、９０％ＲＨ雰囲気で９６時間処理した後の反り量であり、好ましくは５００μｍ以下であり、より好ましくは３００μｍ以下であり、１００μｍ以下が特に好ましい。反りが前記範囲の上限を超える場合、フィルムがたわむことで円形の形状変化が生じ、その部分に輝度斑が生じるため、好ましくない。
本発明の積層体は、表面賦形された凹凸形状の転写率が９０％以上であることが好ましく、９５％以上がより好ましい。また、離型する際の変形や反りが可能な限り少ないことが好ましい。
【実施例】
【００８１】
以下、実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、何らこれに限定されるものではない。なお実施例、比較例中の性能評価は下記の方法に従った。
【００８２】
（１）粘度平均分子量
変性ポリカーボネート樹脂およびポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＬＭ）の粘度平均分子量を、比粘度（ηＳＰ）を２０℃で塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求め、比粘度（ηＳＰ）から次の数式により粘度平均分子量Ｍｖを算出した。
比粘度（ηＳＰ）＝（ｔ−ｔ０）／ｔ０
［ｔ０は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］
ηＳＰ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］２ ｃ （但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０−４ Ｍｖ０．８３
ｃ＝０．７
【００８３】
（２）鉛筆硬度
変性ポリカーボネート樹脂および積層体の鉛筆硬度をＪＩＳ Ｋ５６００に準拠して、測定した。
【００８４】
（３）屈折率
変性ポリカーボネート樹脂およびポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＬＭ）の屈折率を、ＪＩＳ−Ｋ７１４２に準拠して、光源に波長選択フィルターを有するアッベ屈折計を用いて、波長５８９ｎｍ（Ｄ線）における屈折率を測定した。
【００８５】
（４）ガラス転移温度
変性ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度をＴＡインスツルメント社製の熱分析システムＤＳＣ−２９１０を使用して、ＪＩＳＫ７１２１に従い窒素雰囲気下（窒素流量：４０ｍｌ／ｍｉｎ）、昇温速度：２０℃／ｍｉｎの条件下で測定した。
【００８６】
（５）メルトボリュームフローレート
変性ポリカーボネート樹脂のメルトボリュームフローレート（ＭＶＲ）をＩＳＯ １１３３に記載の方法に準拠して３００℃、１．２ｋｇ荷重で測定した。
【００８７】
（６）接触角
変性ポリカーボネート樹脂および積層体の純水に対する接触角を協和界面科学（株）製 滴下式接触角計を用いて測定した。
【００８８】
（７）摩擦係数
変性ポリカーボネート樹脂および積層体の摩擦係数を新東科学（株）社製 平面性測定器（ＨＥＩＤＯＮ１４型）を用いて測定した。なお圧子は直径１０ｍｍのステンレス製ボール圧子を用い、荷重を２００ｇｆ、即ち１．９６Ｎとした。
【００８９】
（８）摩耗試験
変性ポリカーボネート樹脂および積層体の摩耗評価を東洋精機（株）製テーバー摩耗試験機を用いて行った。試験条件は２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下、摩耗輪ＣＳ−１７を用いて荷重５００ｇｆ（摩耗輪の自重を含む）、即ち４．９Ｎで２，０００回転後の摩耗量を、試験前後の重量を比較することにより求めた。
【００９０】
（９）総厚み
積層体および賦形積層体の総厚みを連続厚み計（アンリツ（株）製フィルムシックネステスター、型式ＫＧ６０１Ａ）を用いて測定した。
【００９１】
（１０）スキン層厚み
積層体および賦形積層体をミクロトームで切断し、切断面を日立製走査電子顕微鏡Ｓ−３４００Ｎで観察し、スキン層厚みを測定した。
【００９２】
（１１）透明性
積層体をＪＩＳ Ｋ ７３６１−１およびＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠し、全光線透過率値およびヘーズ値を測定した。
【００９３】
（１２）耐たわみ性
積層体を長さ８０ｍｍ、幅２５ｍｍに切断し、６０℃、９０％ＲＨ雰囲気で９６時間処理した後の反り量を図１に示す方法で測定した。
【００９４】
（１３）輝度上昇性
賦形積層体を用いてＪＩＳ Ｋ ７３６１−１に準拠し、全光線透過率値を測定した。その際、賦形面を光源側と逆側にして測定し、全光線透過率の上昇を確認した。
【００９５】
（１４）転写性
賦形積層体をミクロトームで切断し、切断面を日立製走査電子顕微鏡Ｓ−３４００Ｎで観察し、賦形形状のピッチと高さを測定した。賦形形状のピッチと高さについては図２に示す位置で測定を行った。図２は賦形表面近傍を拡大した図である。
【００９６】
（１５）リサイクル性
賦形積層体を粉砕機で粉砕し、かかる粉砕物５重量部に対して、ポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＷＰ：９５重量部を配合し、均一にブレンドして予備混合物を得た。かかる予備混合物をスクリュー径１５ｍｍのベント式二軸押出機（テクノベル（株）製ＫＺＷ１５−２５ＭＧ）を用いて、最後部の第１投入口に供給した。シリンダ温度およびダイ温度は、いずれも２８０℃、スクリュー回転数は２００ｒｐｍ、吐出量は２ｋｇ／時、並びにベントの真空度は３ｋＰａで行った。得られた樹脂組成物ペレットを１２０℃で６時間、熱風乾燥機にて乾燥処理した後、射出成形機（（株）日本製鋼所製Ｊ７５ＥＩＩＩ型）によりシリンダ温度２３０℃、金型温度９０℃、成形サイクル４０秒で成形し、衝撃試験片（寸法：長さ８０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚み４ｍｍ）を成形し、２３℃および−３０℃におけるノッチ付きシャルピー衝撃強さをＩＳＯ−１７９に従い測定した。また、目視にて外観を観察した。
【００９７】
＜実施例１〜４＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、上記式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２４．１７部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および上記式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１１３．４７部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【００９８】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
ポリカーボネート樹脂積層体のコア層を構成するポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＬＭ、粘度平均分子量１８，５００、屈折率１．５９）をスクリュー径４０ｍｍの単軸押出機に投入し、スキン層を構成する変性ポリカーボネート樹脂をスクリュー径３０ｍｍの単軸押出機に投入した。押出機温度２８０℃、ベント部真空度２６ｋＰａに保持し、フィードブロック法にて２種２層に積層させ、設定温度２８０℃のＴ型ダイスを介して押出した。Ｔダイの幅は４５０ｍｍであり、エアギャップ間のネッキングによりロール接触時に３５０ｍｍ幅となるように調整した。また、コア層の押出機スクリュー回転数を４０ｒｐｍで一定とし、スキン層の押出機スクリュー回転数２５０〜６５０ｒｐｍに変えることで４水準のスキン層を調整した。更に、樹脂積層体の総厚みが一定となるように引き取り速度によって調整を行った。押出は、図３に示す様式で実施した。即ち、第１、第２および第３ロールを鏡面ロールとした。いずれのロールもロール直径は３６０ｍｍであった。ロール温度は、第１、第２ロール、第３ロールとも９５℃とした。得られるフィルムを鏡面仕上げされたロールにて冷却し、最終的に該フィルムの両端約５０ｍｍずつを切断し２５０ｍｍ幅の表２記載のポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【００９９】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
ポリカーボネート樹脂積層体のコア層を構成するポリカーボネート樹脂（帝人化成製パンライト（登録商標）Ｌ−１２２５ＬＭ）をスクリュー径４０ｍｍの単軸押出機に投入し、スキン層を構成する変性ポリカーボネート樹脂をスクリュー径３０ｍｍの単軸押出機に投入した。押出機温度２８０℃、ベント部真空度２６ｋＰａに保持し、フィードブロック法にて２種２層に積層させ、設定温度２８０℃のＴ型ダイスを介して押出した。Ｔダイの幅は４５０ｍｍであり、エアギャップ間のネッキングによりロール接触時に３５０ｍｍ幅となるように調整した。また、コア層の押出機スクリュー回転数を４０ｒｐｍで一定とし、スキン層の押出機スクリュー回転数２５０〜１５００ｒｐｍに変えることで４水準のスキン層を調整した。更に、樹脂積層体の総厚みが一定となるように引き取り速度によって調整を行った。図４に示す様式で実施した。即ち、第２ロールを賦形ロールとし、第１および第３ロールを鏡面ロールとした。いずれのロールもロール直径は３６０ｍｍであった。第２ロール（幅１，６００ｍｍ）には、次の形状のＶ字型溝が形成され、フィルムの全幅に賦形した。かかるＶ字型溝は、ピッチ５０μｍ、高さ２５μｍ、頂角４５°のプリズム形状であり。ロール温度は、第１ロール：９５℃、第２ロール：９５℃、および第３ロール：１２５℃とし、第１ロールの周速Ｖ１と第２ロールの周速Ｖ２との速度比Ｖ１／Ｖ２を０．９９８とした。第２ロール上にはメルトバンクを設けた。第１ロールと第２ロール間の線圧を１２ＭＰａとして狭持して賦形した。最終的に該フィルムの両端約５０ｍｍずつを切断し２５０ｍｍ幅の表３記載の賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１００】
＜実施例５＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）４３８２部およびハイドロサルファイト８．７部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２４．１７部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１０１．８４部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬し、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１０１】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０２】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−２）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０３】
＜実施例６＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）３０６７部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１１７０部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２４．１７部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１０７．６５部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１０４】
（ポリカーボネート樹脂樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０５】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−３）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０６】
＜実施例７＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）１３１４部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）２７３１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２２．４４部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１１０．５６部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１０７】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０８】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−４）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１０９】
＜実施例８＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液５２３６部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン（Ｂｉｓ−２）２，３５２部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１８１１部、およびハイドロサルファイト９．４部を溶解した後、塩化メチレン１７，５４０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液６５４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２２．４４部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１２１．５８部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬し、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１１０】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１１】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−５）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１２】
＜実施例９＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液５２３６部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン（Ｂｉｓ−２）４７０４部およびハイドロサルファイト９．４部を溶解した後、塩化メチレン１７，５４０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液６５４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２２．４４部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１２１．５８部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬し、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１１３】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１４】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−６）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１５】
＜実施例１０＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）１３１４部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）２７３１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２２．４４部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−６で表される化合物１６０．００部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１１６】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１７】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−７）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１１８】
＜比較例１＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部およびｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール９５．３８部を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１１９】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２０】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−８）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２１】
＜比較例２＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部および上記式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２４．１７部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１０２．７１部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１２２】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２３】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−９）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２４】
＜比較例３＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部および上記式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１１６．３８部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１２５】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２６】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１０）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２７】
＜比較例４＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これに１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（Ｂｉｓ−１）２１９１部、ビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）１９５１部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、上記式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物１．２１部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および上記式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１１３．４８部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１２８】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１２９】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１１）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３０】
＜比較例５＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１２）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これにビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）４５２９部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部、上記式［２］で表される構造式を含む一価フェノールとして［２］−５（ｎ＝８〜１０）で表される化合物２８．０６部を塩化メチレン５００部に溶解した溶液、および上記式［３］で表される構造式を含む一価フェノールとして［３］−３で表される化合物１６８．８７部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１３１】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１２）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３２】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１２）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３３】
＜比較例６＞
（変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１３）の製造）
温度計、撹拌機および還流冷却器の付いた反応器に、４８％水酸化ナトリウム水溶液４２２９部およびイオン交換水２０，０００部を仕込み、これにビスフェノールＡ（Ｂｉｓ−Ａ）４５２９部、およびハイドロサルファイト８．３部を溶解した後、塩化メチレン１１，６２０部を加え、撹拌下、１５〜２５℃でホスゲン２，２００部を約６０分かけて吹き込んだ。ホスゲンの吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液７０４部およびｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１４９．０３部を塩化メチレン７００部に溶解した溶液を加え、撹拌を再開、乳化後トリエチルアミン４．３２部を加え、さらに２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して水洗した後、塩酸酸性にして水洗し、さらに水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになるまで水洗を繰り返し、ポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を得た。次いで、この溶液を目開き０．３μｍのフィルターに通過させ、さらに軸受け部に異物取出口を有する隔離室付きニーダー中の温水に滴下、塩化メチレンを留去しながらポリカーボネート樹脂をフレーク化し、引続き該含液フレークを粉砕・乾燥してパウダーを得た。その後、該パウダーにトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００２５重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．１重量％となるように添加し、均一に混合した後、かかるパウダーをベント式二軸押出機［（株）神戸製鋼所製ＫＴＸ−４６］により脱気しながら溶融混錬後、表１記載の変性ポリカーボネート樹脂を得た。
【０１３４】
（ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１３）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にてポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３５】
（賦形ポリカーボネート樹脂積層体の製造）
変性ポリカーボネート樹脂（ＰＣ−１３）を用い、スキン層の押出機スクリュー回転数を６５０ｒｐｍとした以外は実施例１と同様の手法にて賦形ポリカーボネート樹脂積層体を得た。
【０１３６】
【表１】
【０１３７】
【表２】
【０１３８】
【表３】
【０１３９】
表１〜表３の結果から明らかなように、変性ポリカーボネート樹脂層をスキン層として有する積層体は、輝度上昇フィルムとして良好な表面すべり性、耐摩耗性、表面硬度、耐たわみ性を有する一方、汎用されるポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂ではかかる有用な特性が得られないことが分かる。また、変性ポリカーボネート樹脂をスキン層として用いた場合、賦形積層体の転写性、輝度上昇性が向上し、更に使用後のリサイクル性についても透明性を維持し、良好な衝撃強さを示すことから、使用済みの輝度上昇フィルムが他の有用な素材へのリサイクルに適していることが確認された。
即ち、本発明によれば、汎用されるポリカーボネート樹脂やポリメチルメタクリレート樹脂では得られない良好な輝度上昇フィルムが得られることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１４０】
本発明の輝度上昇フィルムは、液晶テレビ、パソコン、携帯電話、携帯型ゲーム機、表示パネル、自動車用などの液晶ディスプレイ装置に利用できる。
【符号の説明】
【０１４１】
Ａ 賦形形状の高さ
Ｂ 賦形形状のピッチ
１ Ｔダイリップ
２ 溶融押出されたフィルム状の樹脂
３ 冷却ロールの第１ロール
４ 冷却ロールの第２ロール
５ 冷却ロールの第３ロール
６ 引き取りロール
７ 賦形彫刻ロール
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア層とスキン層とからなる総厚み０．１〜１．０ｍｍの積層体からなる輝度上昇フィルムであって、（ｉ）コア層は、ポリカーボネート樹脂層から形成され、（ｉｉ）スキン層は、下記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）を含み、その割合が全カーボネート構成単位中２０〜１００モル％であり、分子末端に下記式［２］で示されるポリシロキサン末端成分（末端［２］）、および下記式［３］で示されるアリールフェノール末端成分（末端［３］）を含み、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０１〜１モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜１０モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成され、且つスキン層は規則的に配列された凹凸形状を賦形した表面形状である、輝度上昇フィルム。
【化１】
（式中、Ｗは単結合、炭素原子数１〜６のアルキレン基、炭素原子数１〜６のアルキリデン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基、または炭素原子数３〜８の環状アルキレン基を表す。）
【化２】
（式中、Ｘは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ１は、単結合、Ｏ（酸素原子）、ＣＯ、ＣＯＯ、およびＮＨＣＯよりなる群より選ばれる基を表す。Ｒ２は、置換若しくは無置換の炭素原子数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立に、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。ｚは１〜４の整数を表す。ｎは１〜１００の整数を表す。）
【化３】
（式中、Ｒ８は、フェニル基を表す。ｍは１または２である。）
【請求項２】
（ｉｉ）スキン層は、上記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンから誘導されるカーボネート構成単位（構成単位Ｂ）とからなり、構成単位Ａの割合が全カーボネート構成単位中２０〜９０モル％であり、分子末端に上記式［２］で示されるポリシロキサン末端成分（末端［２］）、および上記式［３］で示されるアリールフェノール末端成分（末端［３］）を含み、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０５〜０．５モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜７モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成される請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項３】
スキン層の厚みが５〜１００μｍである請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項４】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂層は、
（１）粘度平均分子量が１．０×１０４〜４．０×１０４、
（２）ＪＩＳ Ｋ５６００に準拠して測定した鉛筆硬度がＨＢ〜２Ｈ、
（３）コア層を形成するポリカーボネート樹脂との屈折率差が０．０１以内、
（４）ガラス転移温度が１２０℃〜１６０℃、
（５）２５℃、６０％ＲＨにおける純水との接触角が９０°以上
である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項５】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンおよび２，２’−メチル−４，４’−ビフェニルジオールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項６】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンから誘導された構成単位である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項７】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサンから誘導された構成単位である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項８】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のポリシロキサン末端成分（末端［２］）が、上記式［２］で表される基であって、Ｘが水素原子、Ｒ１が単結合、Ｒ２がエチレン基またはプロピレン基、Ｒ３〜Ｒ６が夫々独立にメチル基またはフェニル基、Ｒ７が炭素原子数１〜４のアルキル基、ｎが５〜１０の整数である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項９】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のアリールフェノール末端成分（末端［３］）が、２−フェニルフェノール、および２，６−ジフェニルフェノールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された成分である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項１０】
規則的に配列された凹凸形状は、ピッチが１０〜３００μｍ、高さが１０〜３００μｍであるレンチキュラー型、プリズム型、リニアーフレネル型形状からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項１】
コア層とスキン層とからなる総厚み０．１〜１．０ｍｍの積層体からなる輝度上昇フィルムであって、（ｉ）コア層は、ポリカーボネート樹脂層から形成され、（ｉｉ）スキン層は、下記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）を含み、その割合が全カーボネート構成単位中２０〜１００モル％であり、分子末端に下記式［２］で示されるポリシロキサン末端成分（末端［２］）、および下記式［３］で示されるアリールフェノール末端成分（末端［３］）を含み、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０１〜１モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜１０モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成され、且つスキン層は規則的に配列された凹凸形状を賦形した表面形状である、輝度上昇フィルム。
【化１】
（式中、Ｗは単結合、炭素原子数１〜６のアルキレン基、炭素原子数１〜６のアルキリデン基、炭素原子数６〜１０のアリーレン基、または炭素原子数３〜８の環状アルキレン基を表す。）
【化２】
（式中、Ｘは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ１は、単結合、Ｏ（酸素原子）、ＣＯ、ＣＯＯ、およびＮＨＣＯよりなる群より選ばれる基を表す。Ｒ２は、置換若しくは無置換の炭素原子数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ３〜Ｒ７は夫々独立に、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、および炭素原子数７〜２０のアラルキル基からなる群から選ばれる基を表す。ｚは１〜４の整数を表す。ｎは１〜１００の整数を表す。）
【化３】
（式中、Ｒ８は、フェニル基を表す。ｍは１または２である。）
【請求項２】
（ｉｉ）スキン層は、上記式［１］で示されるカーボネート構成単位（構成単位Ａ）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンから誘導されるカーボネート構成単位（構成単位Ｂ）とからなり、構成単位Ａの割合が全カーボネート構成単位中２０〜９０モル％であり、分子末端に上記式［２］で示されるポリシロキサン末端成分（末端［２］）、および上記式［３］で示されるアリールフェノール末端成分（末端［３］）を含み、末端［２］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．０５〜０．５モル％、末端［３］の割合が全カーボネート構成単位に対して０．１〜７モル％である、変性ポリカーボネート樹脂層から形成される請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項３】
スキン層の厚みが５〜１００μｍである請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項４】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂層は、
（１）粘度平均分子量が１．０×１０４〜４．０×１０４、
（２）ＪＩＳ Ｋ５６００に準拠して測定した鉛筆硬度がＨＢ〜２Ｈ、
（３）コア層を形成するポリカーボネート樹脂との屈折率差が０．０１以内、
（４）ガラス転移温度が１２０℃〜１６０℃、
（５）２５℃、６０％ＲＨにおける純水との接触角が９０°以上
である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項５】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンおよび２，２’−メチル−４，４’−ビフェニルジオールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された構成単位である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項６】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパンから誘導された構成単位である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項７】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のカーボネート構成単位（構成単位Ａ）が１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサンから誘導された構成単位である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項８】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のポリシロキサン末端成分（末端［２］）が、上記式［２］で表される基であって、Ｘが水素原子、Ｒ１が単結合、Ｒ２がエチレン基またはプロピレン基、Ｒ３〜Ｒ６が夫々独立にメチル基またはフェニル基、Ｒ７が炭素原子数１〜４のアルキル基、ｎが５〜１０の整数である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項９】
スキン層を形成する変性ポリカーボネート樹脂のアリールフェノール末端成分（末端［３］）が、２−フェニルフェノール、および２，６−ジフェニルフェノールからなる群より選ばれる少なくとも一種から誘導された成分である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【請求項１０】
規則的に配列された凹凸形状は、ピッチが１０〜３００μｍ、高さが１０〜３００μｍであるレンチキュラー型、プリズム型、リニアーフレネル型形状からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項１記載の輝度上昇フィルム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１２−８１６７１（Ｐ２０１２−８１６７１Ａ）
【公開日】平成２４年４月２６日（２０１２．４．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２３０６１９（Ｐ２０１０−２３０６１９）
【出願日】平成２２年１０月１３日（２０１０．１０．１３）
【出願人】（０００２１５８８８）帝人化成株式会社 (504)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年４月２６日（２０１２．４．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１０月１３日（２０１０．１０．１３）
【出願人】（０００２１５８８８）帝人化成株式会社 (504)
【Ｆターム（参考）】
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