近赤外線吸収性コーティング剤およびそれを用いてなる近赤外線吸収積層体
【課題】 本発明は、耐熱性、耐光性に優れる近赤外線吸収フィルターの形成に好適なコーティング剤であって、且つ近赤外線吸収フィルターの色変化も少ないコーティング剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）、及び分岐鎖状アルキル基を有する一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）とを含有することを特徴とする近赤外線吸収性コーティング剤。
【解決手段】 シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）、及び分岐鎖状アルキル基を有する一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）とを含有することを特徴とする近赤外線吸収性コーティング剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収性コーティング剤に関し、詳しくはプラズマディスプレイ装置などの画像出力装置などから発生される近赤外線を吸収し、プラズマディスプレイ装置の外部におかれる種々の電子機器に近赤外線が進入することを防止し、周辺電子機器の誤動作を防ぐ、近赤外線吸収積層体の形成に好適な近赤外線吸収性コーティング剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型ディスプレイとして様々な形式のディスプレイが開発、商品化されている。プラズマディスプレイもその１つであり、特に４０ｉｎｃｈサイズ以上の大型化、薄型化及び軽量化の点から壁掛け用の大型ディスプレイとして注目されている。このプラズマディスプレイは、光源或いは放電部を構成する各々の画素部分の構造的要因により、可視光領域から赤外線波長領域にわたってカラー映像の３原色（赤、緑、青）の波長帯以外の光線を発する。例えば、プラズマディスプレイは、波長が８２０ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍ付近等に強い近赤外線を放出する。これら近赤外線は周辺電子機器、例えばテレビ、ビデオやクーラーのリモートコントローラー、携帯通信、パソコン等の近赤外線通信機器等の作動波長と合致している。そのためプラズマディスプレイが周辺機器の誤作動を招くという問題が生じる。
【０００３】
そこで、近赤外線を吸収する光学フィルターを利用することが提案されている。このような近赤外線吸収フィルターとしては、２価の銅イオンを含むリン酸塩含有ガラス製フィルターや、ガラス等の表面に金属（例えば銀）の薄い層を蒸着法、スパッター法やイオンプレーティング法その他の方法により形成したフィルターや、近赤外領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したフィルター等を挙げることができる。
【０００４】
しかしながら、上記のような近赤外線吸収フィルターのうち、リン酸塩含有ガラス製フィルターは、製造が煩雑であり、しかも吸湿性し易いという問題がある。 また、ガラス等の表面に金属の薄い層を設ける場合は、近赤外線領域と比較すれば少ないものの、可視光領域の光も反射してしまうため金属層の膜厚を厚くしすぎると透過率が低下することや、製造コストが高い等の問題がある。
さらに、これらの方法はいずれも共通してガラスを用いるので、得られるフィルターが重く割れやすい、加工が困難等といった問題がある。
【０００５】
これに対し、近赤外線領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したフィルターは、ガラスを用いたフィルターに比べ軽量であり、製造も簡便であるという様に利点が多い。
近赤外線領域の波長を吸収する色素としては、特許文献１〜３に示されるようなジイモニウム系化合物や特許文献４〜５に示されるようなフタロシアン系化合物等が知られている。
【０００６】
しかし、近赤外線領域の光を吸収する色素には、同時に可視光領域においても吸収を持つものが多く、これら色素を添加した近赤外線吸収フィルターは、多くの場合、近赤外線領域以外にも吸収を有する。可視領域の光の吸収は、プラズマディスプレイ等の画像表示装置にとっては大きな問題となる。従って、近赤外線領域の光を吸収する色素としては、できるだけ可視光領域の吸収の小さいものが望まれる。
近赤外線吸収領域の波長を吸収する色素のうち、ジイモニウム系化合物は、
（１）可視光領域における光吸収率が極めて小さく、
（２）紫外線領域を吸収し、
（３）近赤外線領域に有する極大吸収波長が極めて大きく、
（４）更に近赤外線吸収領域も８５０〜１２００ｎｍと広いので、
プラズマディスプレイ用近赤外線吸収フィルター用の色素としては特に好ましい。
【０００７】
しかしながら、ジイモニウム系化合物は、耐熱性、耐光性に劣るものが多い。
従って、例えばジイモニウム系化合物を各種樹脂に混練・成形して、近赤外線吸収フィルター、即ち近赤外線吸収フィルムを得ようとすると、混練・成形時の熱でジイモニウム系化合物が分解し、得られる近赤外線吸収フィルターの近赤外線領域の吸収が低下してしまう。
【０００８】
近赤外線領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したコーティング剤を、プラスチックフィルム等の基材に塗布・乾燥し、近赤外線吸収層を設ける方法は、コーティング法、キャスト法等とも呼ばれ、このようなコーティング法の場合、上記の混練・成形法に比べ比較的低温でフィルターを製造することができる。
しかし、プラズマディスプレイは発光体基板表面が約５０℃〜８０℃となる。従って、その前面板に積層される近赤外線吸収フィルターも長時間加熱されることとなる。その結果、プラズマディスプレイの前面板に積層された後に、近赤外線吸収フィルターを構成する近赤外線吸収層中の色素が熱により分解し、近赤外線領域の吸収が低くなってしまう。更にフィルター自体の色目も緑みを帯びてくるという重大な問題があった。
【０００９】
ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐熱性を改善する方法として、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤の利用が、特許文献１〜２に記載されている（特許文献１：特開２０００−２０６３２３号公報、特許文献２：特開平１１−３２３１２１号公報参照）。
しかしながら、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤は、耐光性が劣るという問題があった。
【００１０】
また、ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐光性を改善する方法として、メチルメタアクリレート等の（メタ）アクリル樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤の利用が従来より提案されているが、充分な耐光性が得られず、更に耐熱性が悪いという欠点があった。
【００１１】
さらに、ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐熱性を改善する方法として、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム系化合物の利用が、特許文献３に記載されている（特許文献３：ＷＯ２００４／０４８４８０号公報参照）。
しかしながら、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターは、スルホンイミド以外の有機酸アニオン、無機アニオンからなるジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターよりは耐熱性は向上するものの充分ではなかった。
【００１２】
また、特定の不飽和単量体を共重合してなるアクリル樹脂と近赤外線吸収性色素を含有するコーティング剤、近赤外線吸収性塗膜が特許文献４〜５に記載されている（特許文献４：特開２００２−２９４７２１号公報、特許文献５：特開２００４−１８２７９３号公報）
しかしながら、上記近赤外線吸収色素は主にフタロシアニン系色素に関するものであり、ジイモニウム系色素に関する記載はない。
【特許文献１】特開２０００−２０６３２３号公報
【特許文献２】特開平１１−３２３１２１５号公報
【特許文献３】ＷＯ２００４／０４８４８０号公報
【特許文献４】特開２００２−２９４７２１号公報
【特許文献５】特開２００４−１８２７９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、可視光域の透過率が高く、プラズマディスプレイ装置から放出される近赤外線を吸収し、周辺電子機器の誤動作防止のための近赤外線吸収フィルターであって、耐熱性、耐光性に優れる近赤外線吸収フィルターの形成に好適なコーティング剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）と特定の構造のジイモニウム系化合物（Ｂ）とを組み合わせることによって、これらの欠点を解消し得ることを見出し、本発明を完成した。
【００１５】
即ち、本発明は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）と、下記一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）とを含有することを特徴とする近赤外線吸収性コーティング剤である。
一般式（１）
【００１６】
【化１】
【００１７】
（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシ基、置換もしくは未置換の、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、又はフェニルアルキル基であり、環Ａ及びＢは置換基を有していても良い。また、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を表す。）
【００１８】
また、本発明は、Ｒ9及びＲ10が、同じであっても異なっていてもよい、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００１９】
また、本発明は、Ｒ9及びＲ10が、共にトリフルオロメチル基、又は共にペンタフルオロエチル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２０】
また、本発明は、Ｒ9及びＲ10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２１】
また、本発明は、Ｒ9及びＲ10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、ヘキサフルオロプロピレン基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２２】
また、本発明は、Ｒ1〜Ｒ8が、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖を有する、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はシアノアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２３】
また、本発明は、Ｒ1〜Ｒ8が、下記一般式（２）で示されるフェニルアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
一般式（２）
【００２４】
【化２】
（式中、Ｃは、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキレン基を表し、環Ｄは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。）
【００２５】
また、本発明は、Ｒ1〜Ｒ8が、ベンジル基又はフェネチル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２６】
また、本発明は、共重合体（Ａ）がベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）及び／又はピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）を構成成分とすることを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２７】
また、本発明は、フタロシアニン系化合物（Ｃ）及び／又はジチオール金属錯体化合物（Ｄ）をさらに含有することを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２８】
また、本発明は、シアニン系化合物（Ｇ）をさらに含有することを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２９】
また、本発明は、紫外線吸収剤及（Ｅ）及び／又はヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）を特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００３０】
また、本発明は、上記近赤外線吸収性コーティング剤から形成される近赤外線吸収層が、基材に積層されてなる近赤外線吸収積層体である。
【００３１】
第また、本発明は、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層からなる少なくとも１つの層が、基材側及び／又は近赤外線吸収層上に積層されてなる上記近赤外線吸収積層体である。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤を用いた近赤外線吸収積層体は、近赤外線の波長領域を十分遮蔽でき、且つ高い可視光透過性を持ち、更に優れた耐熱性、耐光性を有しているため、長時間にわたって安定した近赤外線遮蔽効果があり、かつ色目の変化も少なく、プラズマディスプレイパネル用の近赤外線吸収フィルターとしても有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明におけるシクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）は、近赤外線吸収性コーティング剤におけるバインダー樹脂を構成するものであり、１種または２種以上を用いることができる。
【００３４】
本発明におけるシクロアルキル基含有単量体（ａ１）は、脂肪族環状炭化水素構造（以下、脂環構造もしくは単に脂環という）基を有する単量体の意であり、
シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、シクロドデシル基等の脂環構造を１つ有する単量体；
ボルニル基、イソボルニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、アダマンタン基等の複数の脂環構造を有する単量体等が挙げられる。
【００３５】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）としては、例えばシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロドデシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−メチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−エチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−プロピルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−メトキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−アセトキメチルシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−メチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−エチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−プロピルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−ブチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−メトキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−アセトキシメチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−メチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−エチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−プロピルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−メトキシシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−アセトキシメチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−メチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−エチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−プロピルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−ブチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−アセトキシメチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−メチルチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−エチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−メトキシシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−アセトキシメチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−メチルチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−エチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−メトキシシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−アセトキシメチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−メチルチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−エチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−メトキシシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−アセトキシメチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−エチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−メトキシシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−アセトキシメチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、２−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−ジメチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，６−ジメチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−３−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−４−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−５−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−６−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらのうち、異性体を含むものは、各異性体単独及び／又は各異性体混合物でもよい。これら、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）は、近赤外線吸収性コーティング剤から成形される近赤外線吸収層の耐熱性、耐光性を向上させるために、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）及び／又はピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）をシクロアルキル基含有単量体（ａ１）と共重合してなるものであることが好ましく、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）とシクロアルキル基含有単量体（ａ１）との共重合体であることがより好ましい。
【００３７】
上記ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）としては、下記一般式（３）や一般式（４）で示される単量体が使用できる。なお、これらの単量体はそれぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
一般式（３）
【００３８】
【化３】
（式中、Ｒ11は水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基、Ｒ12はアルキレン基、Ｒ13は水素原子又はメチル基を表す。Ｘ1は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキ
シ基、シアノ基又はニトロ基を表す。）
一般式（４）
【００３９】
【化４】
（式中、Ｒ14は水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基、Ｒ15はアルキレン基、Ｒ16は水素原子又はメチル基を表す。Ｘ2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキ
シ基、シアノ基又はニトロ基を表す。）
【００４０】
上記一般式（３）におけるＲ11及び一般式（４）におけるＲ14のうち、炭素数１〜８の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の鎖式炭化水素基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００４１】
上記一般式（４）におけるＲ12及び一般式（３）におけるＲ15のうち、アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等の直鎖状アルキレン基；プロピレン基、２−メチルトリメチレン基、２−メチルテトラメチレン基等の分岐鎖状アルキレン基等が挙げられる。Ｒ12としては炭素数１〜６のアルキレン基が好ましく、またＲ15としては炭素数２又は３のアルキレン基が好ましい。
【００４２】
上記一般式（３）におけるＸ1及び一般式（４）におけるＸ2のうち、ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００４３】
上記一般式（３）におけるＸ1及び一般式（４）におけるＸ2のうち、炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ペプトキシ基等が挙げられる。
【００４４】
上記一般式（３）で示される単量体としては、例えば２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−３′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００４５】
上記一般式（４）で示される単量体としては、例えば２−［２′−ヒドロキシ−５′−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）−３′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００４６】
このようなベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）のうち一般式（３）で示されるものとしては、市販のＲＵＶＡ−９３（大塚化学製）が好適である。
【００４７】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）と共重合し得る、上記ピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）としては、下記一般式（５）又は一般式（６）で示される単量体が使用できる。なお、これらの単量体はそれぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
一般式（５）
【００４８】
【化５】
（式中、Ｒ17は水素原子又はシアノ基、Ｒ18及びＲ19は同一又は異なって水素原子又はメチル基、Ｒ20は水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基を表す。Ｙ1は酸素原子又はイミノ基を表す。）
一般式（６）
【００４９】
【化６】
（式中、Ｒ21は水素原子又はシアノ基を表す。Ｒ22、Ｒ23、Ｒ22及びＲ25は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表す。Ｙ2は酸素原子又はイミノ基を表す。）
【００５０】
上記一般式（５）におけるＲ20のうち、炭素数１〜８の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の鎖式炭化水素基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００５１】
上記一般式（５）で示される単量体としては、例えば４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）−アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等が挙げられる。
【００５２】
上記一般式（６）で示される単量体としては、例えば１−（メタ）アクリロイル−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）アクリロイル−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−クロトニイル−４−クロトイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等が挙げられる。
【００５３】
ピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）のうち一般式（５）で示されるものとしては、市販のアデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８３（いずれも旭電化工業製）、ＦＡ−７１１ＭＭ、ＦＡ−７１２ＨＭ（いずれも日立化成工業製）が好適である。
【００５４】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）及びピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）以外に共重合体（Ａ）を得る際に用いることができる、その他の共重合可能な不飽和単量体（ａ４）としては、例えば
（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体；
２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート等の酸性リン酸エステル系不飽和単量体；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ（メタ）アクリレート等の活性水素をもつ基を有する不飽和単量体；
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；
グリシジル（メタ）アクリレート、脂環式エポキシ機を有する単量体等のエポキシ基を有する不飽和単量体；
【００５５】
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ′−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等の窒素原子を有する不飽和単量体；
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の２個以上の重合性二重結合を有する不飽和単量体；
塩化ビニル等のハロゲン原子を有する不飽和単量体；
スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族不飽和単量体；酢酸ビニル等のビニルエステル；
【００５６】
また、ビニルエーテル基とラジカル重合性基とを共に有する単量体も使用できる。例えば（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキイソプロポキシ）プロピルのビニルエーテル等が挙げられる。
【００５７】
また、フッ素原子を有する不飽和単量体も使用できる。例えばフッ素原子を有する不飽和単量体としてはポリフルオロアルキル基又はポリフルオロエーテル基を有するラジカル重合性単量体が挙げられ、パーフルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロテトラデシル基等が挙げられる。このようなフッ素原子を有する単量体としては、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2（ＣＦ2）4ＣＦ3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＦ2）6ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2
ＣＨ2（ＣＦ2）7ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）5ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ（ＯＣＯＣＨ3）ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＦ3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＦ2）8ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＯＣＯＮＨＣＯ（ＣＦ2）7ＣＦ（ＣＦ2Ｃｌ）ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2
ＣＨ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）ＳＯ2（ＣＦ2）7ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）7ＣＦ3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）ＳＯ2（ＣＦ2）7ＣＦ3
、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＦ2）7ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）3（ＣＦ2）6ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2（ＣＦ2）10Ｈ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＦ2Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＦ（ＣＦ3）ＯＣ3Ｆ7、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＦ（ＣＦ3）（ＯＣ3Ｆ6）2ＯＣ3
Ｆ7等が挙げられる。
【００５８】
上記単量体（ａ１）〜（ａ３）以外に用いることができる、その他の共重合可能な不飽和単量体（ａ４）は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５９】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）は、すべての単量体成分を１００重量％とすると、共重合に使用するシクロアルキル基含有単量体（ａ１）は、５〜９０重量％であることが好ましく、１０〜８０重量％であることがより好ましく、２０〜７０重量％であることがさらに好ましい。
共重合に使用するシクロアルキル基含有単量体（ａ１）が、５重量％未満であると得られる共重合体を含むコーティング剤から形成される近赤外線吸収層の耐熱性、耐光性が充分に向上しないおそれがある。９０重量％を超えると、ガラス転移温度が低くなりすぎて耐熱性が悪くなるのみならず、ブロッキング等の問題が発生するおそれがある。
【００６０】
また、すべての単量体成分を１００重量％とすると、共重合に使用する、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）やピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）は、０．１〜６０重量％であることが好ましく、０．５〜４０重量％であることがより好ましく、１〜３０重量％であることがさらに好ましい。なお、単量体（ａ２）及び（ａ３）を併用する場合は、両方を合わせて上記範囲内であることが好ましい。
０．５重量％未満であると耐熱性、耐光性向上が充分ではなく、６０重量％を超えると使用量に対する耐熱性、耐光性向上効果が少なくなり、且つコスト的にも不利になると共に、近赤外線吸収色素の溶解性、安定性が悪くなるおそれがある。
【００６１】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）を製造するための重合方法としては、例えば、重合開始剤を用いて、溶液重合、分散重合、懸濁重合、乳化重合等の従来公知の重合方法により行うことができる。溶液重合を行う場合の溶媒としては特に限定されず、例えばトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｉｓｏ−ブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等の塩素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の１種または２種以上を用いることができる。
【００６２】
上記重合開始剤としては特に限定されず、例えば２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２′−アゾビス（２−アミジノプロパン）・二塩酸塩２，２′−アゾビス（４−シアノペンタン酸）、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系開始剤；過硫酸カリウム等の過硫酸塩、過酸化水素、過酢酸、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等の過酸化物系開始剤等の通常のラジカル開始剤が挙げられる。また、この際還元剤として亜硫酸水素ナトリウム、Ｌ−アスコルビン酸、ロンガリット、メタ重亜硫酸ナトリウム等を用いてレドックス系開始剤とすることもできる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。使用量としては、重合体の分子量等、所望する重合体の特性値等から適宜設定すればよいが、例えば、全単量体成分を１００重量％とすると、０．０１〜５０重量％とすることが好ましく、０．０５〜２０重量％がより好ましい。
【００６３】
また、必要に応じて重合促進剤も使用することができる。かかる重合促進剤としては、例えば種々の遷移金属イオン、具体的には、硫酸第二鉄、硫酸第二銅、塩化第二鉄、塩化第二銅等が挙げられる。
【００６４】
また、前記不飽和単量体を重合させる際、必要に応じて分子量を調節する目的で、連鎖移動剤や調節剤を用いることができる。かかる連鎖移動剤や調節剤としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メイルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン類；アセトアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類；ドデシルメルカプタン、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸、チオグリコール酸オクチル、チオグリセロール、２−メルカプトエタノール等のメルカプタン類等があげられる。
【００６５】
前記連鎖移動剤や調節剤の使用量としては、例えば、全単量体成分を１００重量％とすると０．０１〜１０重量％とすることが好ましく、０．０２〜５重量％がより好ましい。
【００６６】
上記重合方法における重合条件としては、重合方法により適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。例えば、重合温度としては、室温〜２００℃とすることが好ましく、４０〜１４０℃がより好ましい。反応時間としては、単量体成分の組成や重合開始剤の種類等に応じて、重合反応が完結するように適宜設定すればよい。
【００６７】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）の重量平均分子量は、１０００以上、１００００００以下であることが好ましい。より好ましくは１００００以上、６０００００以下である。なお、重量平均分子量は、ポリスチレン換算ＧＰＣでの測定値である。
【００６８】
本発明において使用するジイモニウム系化合物（Ｂ）は、下記一般式（１）で示されるスルホンイミドをアニオン成分に持つ構造を有する。
一般式（１）
【００６９】
【化７】
【００７０】
一般式（１）中のアニオン成分におけるＲ9及びＲ10は、それぞれ同じであっても異なっていてもよいフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基であれば、置換されるフッ素原子の数や炭素数には特に限定はないが、好ましいＲ9及びＲ10の例としては、同じであっても異なっていてもよい炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基が挙げられる。すなわち、アニオン成分の好ましい一例としては、下記一般式（７）で示されるアニオン成分が挙げられる。
一般式（７）
【００７１】
【化８】
（式中、ｎ及びｎ’は１〜８の整数を示す）
【００７２】
ここで、ｎ及びｎ’としては、１〜８の整数であり、更に好ましくは、１〜４の整数である。好ましい具体例としては、例えば、パーフルオロアルカンスルホニル基が同一（つまりｎとｎ’が同一の整数）のビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド、ビス（ペンタフルオロエタン）イミド等；
パーフルオロアルカンスルホニル基が異なる（つまりｎとｎ’が異なる整数）ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド、トリフルオロメタンスルホンヘプタフルオロプロパンスルホンイミド、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド等が挙げられる。
【００７３】
これらの中でも、パーフルオロアルカンスルホン基が同一（つまりｎとｎ’が同一の整数）で、ｎとｎ’が、１又は２であるビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミドが近赤外線吸収能力の点で更に好ましい。
【００７４】
また、一般式（１）中のアニオン成分におけるＲ9及びＲ10の好ましい他の例としては、下記一般式（８）に示されるように、これらが一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基が挙げられる。
一般式（８）
【００７５】
【化９】
（式中、ｍは、２〜１２の整数を示す）
【００７６】
ここで、ｍは好ましくは２〜８の整数であり、更に好ましくはｍが３である下記式（９）で示される、１，３−ジスルホンニルヘキサフルオロプロピレンイミドが、アニオン成分として挙げられる。
一般式（９）
【００７７】
【化１０】
【００７８】
上記一般式（８）で示される、これらが一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基は、耐熱性をより向上させるので好ましい。
【００７９】
更に、一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいハロゲン化アルキル基、置換されていてもよいシアノアルキル基、置換されていてもよいアリール基、ヒドロキシ基、又は置換されていてもよいフェニルアルキル基を示す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。
シクロアルキル基としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数３〜１０のシクロアルキル基が挙げられる。
アルケニル基としてはビニル基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基等の炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。
アリール基としてはフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基が挙げられる。
【００８０】
これらの基に結合する置換基としては、シアノ基；ニトロ基；ヒドロキシ基；テトラヒドロフリル基；
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；
メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基エトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等の炭素数２〜１２のアルコキシアルコキシ基；
メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシメトキシメトキシ基、エトキシメトキシエトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基；
アリルオキシ基；
フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜１２のアリールオキシ基；
メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ｎ−プロピルスルホニルアミノ基、イソプロピルスルオニルアミノ基、ｎ−ブチルスルホニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルスルホニルアミノ基、ｎ−ペンチルスルホニルアミノ基、ｎ−ヘキシルスルホニルアミノ基等の炭素数１〜６のアルキルスルホニルアミノ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；
メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカアルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００８１】
これらのＲ1〜Ｒ8のうち、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、シアノ置換アルキル基が好ましく、炭素数２〜６の直鎖又は分鎖基を有するアルキル基が特に好ましい。かかる炭素数２〜６の直鎖又は分鎖基を有するアルキル基の具体例としては、例えばエチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｉｓｏ−アミル基等が挙げられる。
【００８２】
また、Ｒ1〜Ｒ8の好ましい他の例として、下記一般式（２）で示されるフェニルアルキル基を挙げることもできる。
一般式（２）
【００８３】
【化１１】
（式中、Ｃは、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキル基を表し、環Ｄは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。）
【００８４】
一般式（２）で示されるフェニルアルキル基において、アルキル基の炭素数は、１〜８であることが好ましい。更にフェニルアルキル基におけるフェニル基は、置換基を有していなくてもよいが、アルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロゲン置換アルキル基及びハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有していてもよい。好ましくは置換基を有していないフェニル基である。
【００８５】
かかるフェニルアルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピレン基、フェニル−α−メチルプロピレン基、フェニル−β−メチルプロピレン基、フェニルブチレン基、フェニルペンチレン基、フェニルオクチレン基等が挙げられ、ベンジル基及びフェネチル基が好ましい。これらフェニルアルキル基は、ジイモニウム化合物の耐熱性を向上させるので好ましい。
【００８６】
一般式（１）における環Ａ及びＢは、１，４−位以外に１〜４個の置換基を有しても、いなくてもよい。
結合しうる置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、シアノ基、低級アルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等のＣ１〜Ｃ５のアルコキシ基が挙げられ、低級アルキルとしては、例えばメチル基、エチル基等のＣ１〜Ｃ５のアルキル基が挙げられる。好ましくはＡ及びＢが置換基を有していないか、ハロゲン原子（特に塩素原子、臭素原子）、メチル基もしくはシアノ基で置換されたのもが好ましい。なお、Ｂに置換基を有する場合は、４つのＢ環がすべて同じであるもの、更に、置換基の位置はフェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対して、ｍ−位であるものが合成上好ましい。更に環Ａ及びＢには１，４−位以外に置換基を有していないものが合成上好ましい。
【００８７】
本発明で使用される一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）の例としては、式（１０）で示される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１０）
【００８８】
【化１２】
【００８９】
式（１１）で示される、ビス（ペンタフロロエタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１１）
【００９０】
【化１３】
【００９１】
式（１２）で示される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１２）
【００９２】
【化１４】
【００９３】
式（１３）で示される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１３）
【００９４】
【化１５】
【００９５】
式（１４）で示される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１４）
【００９６】
【化１６】
【００９７】
式（１５）で示される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛（ｐ−ジ（４−フッ化）ベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１５）
【００９８】
【化１７】
【００９９】
式（１６）で示される、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１６）
【０１００】
【化１８】
【０１０１】
式（１７）で示される、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム等が挙げられる。
式（１７）
【０１０２】
【化１９】
【０１０３】
本発明で使用される一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）は、例えば特公昭４３−２５３３５号公報に開示された次の様な方法で得ることができる。すなわち、ｐ−フェニレンジアミンと１−クロロ−４−ニトロベンゼンをウルマン反応させて得られた生成物を還元することにより得られる、下記一般式（１８）で表されるアミノ体を有機溶媒中、好ましくはジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の水溶性極性溶媒中、３０〜１６０℃、好ましくは５０〜１４０℃で、所望のＲ1〜Ｒ8に対応するハロゲン化化合物（例えば、Ｒ1がｎ−Ｃ4Ｈ9のときはＢｒＣ4Ｈ9）と反応させて、全ての置換基（Ｒ1〜Ｒ8）が同一である化合物（以下、全置換体と記す）を得ることができる。また、全置換体以外の化合物を合成する場合、例えば、先に所定のモル数（一般式（１０）のアミン体１モル当たり７モル）の試薬（ＢｒＣ4Ｈ9）と反応させてＲ1〜Ｒ8のうち７つにｎ−ブチル基を導入した後、残りの置換基（ｉｓｏ−ブチル基）を導入するのに必要なモル数（一般式（６）のアミン体１モル当たり１モル）の試薬（ＢｒＣ4Ｈ9ＢｒＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）2）と反応させる。
一般式（１８）
【０１０４】
【化２０】
（式中、環Ａ及びＢは前記で定義された通りである。）
【０１０５】
その後、上記で合成した化合物を、有機溶媒中、好ましくはジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、アセトニトリル等の水溶性極性溶媒中、０〜１００℃、好ましくは５〜７０℃で、一般式（１９）で示されるスルホンイミド酸銀誘導体を添加して酸化反応を行い、析出した銀を濾別した後、水、酢酸エチル又はヘキサン等の溶媒を加え、生じた沈殿を濾過することにより本発明の一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物がえられる。
一般式（１９）
【０１０６】
【化２１】
（式中、Ｒ9及びＲ10は前記で定義された通りである。）
【０１０７】
上記一般式（１）で表されるジイモニウム系化合物（Ｂ）の市販品としては、例えば、「ＣＩＲ−ＬＲ」、「ＣＩＲ−１０８５」（いずれも日本カーリット株式会社製）、「Ｋ−１０３２」（日本化薬株式会社製）等があけられる。
【０１０８】
本発明のコーティング剤中に含まれるジイモニウム系化合物（Ｂ）の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にジイモニウム系化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のジイモニウム系化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のジイモニウム系化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
【０１０９】
例えば、ジイモニウム系化合物（Ｂ）の添加量は、本発明のコーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積１ｍ2当たり、１〜１０００ｍｇが好ましく、より好ま
しくは５〜５００ｍｇである。
より具体的には、本発明のコーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）１００重量部に対し、ジイモニウム系化合物を０．１〜１０重量部配合することが好ましく、０．５〜５重量部配合することがより好ましい。
ジイモニウム系化合物（Ｂ）の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、ジイモニウム系化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
【０１１０】
尚、一般式（１）で表されるジイモニウム系化合物（Ｂ）は、８５０〜１２００ｎｍの範囲に近赤外線吸収能があり、特に１０００ｎｍ前後の近赤外線吸収が強く、リモコン等に使用される近赤外線の波長の光以外にも、将来使用が見込まれるコンピューター通信の波長の光をも遮断し、この誤作動の防止にも効果が期待できる。
【０１１１】
本発明のコーティング剤には、フタロシアニン系化合物（Ｃ）や後述するジチール金属錯体（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。
本発明において用いられるフタロシアニン系化合物（Ｃ）としては、フタロシアニン、フタロシアニン錯体、或いはフタロシアニン及びフタロシアニン錯体であってフタロシアニン骨格のベンゼン環上にＯＲ、ＳＲ、ＮＨＲ、又はＮＲＲ′のうちの１種以上有するものである。ここでＲ、Ｒ′は、同一もしくは異なって、置換基を有してもよいフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。なお置換基のうちの１個がＮＨＲで置換されたフタロシアニンであることが好ましい。
【０１１２】
本発明において用いられるフタロシアニン系化合物（Ｃ）は、下記一般式（２０）で表される化合物であることが好ましい。一般式（２０）で表される化合物は、溶媒溶解性に優れ、共重合体（Ａ）との相溶性にも優れる。更に、一般式（７）で表されるフタロシアニン系化合物を用いた、近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、特に可視光線透過率が高く、近赤外線吸収効率が高く、かつ耐熱性、耐光性にも優れた近赤外線吸収フィルターを得ることができる。
一般式（２０）
【０１１３】
【化２２】
（式中、αは、同一もしくは異なって、ＳＲ1、ＯＲ2、ＮＨＲ3又はハロゲン原子を表し、ＮＨＲ3を必須とする。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、同一もしくは異なって、置換基を有してもよいフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。βは、同一もしくは異なって、ＳＲ1、ＯＲ2又はハロゲン原子を表し、ＳＲ1又はＯＲ2を必須とする。Ｍは無金属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。）
【０１１４】
上記一般式（２０）において、炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−イソプロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル−１−イソプロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の直鎖又は分岐状のアルキル基；シクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。炭素数７〜２０のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。
【０１１５】
上記Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3におけるフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数
７〜２０のアラルキル基は、置換基を１個又は２個以上有してもよい。このような置換基としては、例えばハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基カルボニル基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１１６】
上記一般式（２０）中のＭにおいて、無金属とは、金属以外の原子、例えば２個の水素原子であることを意味する。具体的には、フタロシアニン構造の中央部分に存在する、置換基を有してもよい、相対する２つの窒素原子に水素原子が結合している構造となる。金属としては、例えば鉄、マグネシウム、ニッケル、コバルト、銅、パラジウム、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム、錫等が挙げられる。金属酸化物としては、例えばチタニル、バナジル等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては、例えば塩化アルミニウム、塩化インジウム、塩化ゲルマニウム、塩化錫、塩化ケイ素等が挙げられる。Ｍとしては、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物であることが好ましく、具体的には、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛、鉄、バナジル、ジクロロ錫等が挙げられる。より好ましくは、亜鉛、銅、コバルト、バナジル、ジクロロ錫である。
【０１１７】
上記一般式（２０）で表されるフタロシアニン系化合物（Ｃ）の好ましい形態としては、８個のβのうち４〜８個が、同一もしくは異なって、ＳＲ1又はＯＲ2である。より好ましくは、８個のβが全て、同一もしくは異なって、ＳＲ1又はＯＲ2である。このようなフタロシアニン系化合物としては、例えば、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）3Ｆ5、Ｚｎ
Ｐｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）4Ｆ4、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）5Ｆ3、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4Ｆ4、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）5Ｆ3、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）6Ｆ2、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）7Ｆ、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）6Ｆ2、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）5Ｆ3、ＶＯＰｃ（ＰｈＯ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）5Ｆ3、ＶＯＰｃ（ＰｈＯ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）6Ｆ2、ＶＯＰｃ（ＰｈＯ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）8、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）8、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆ、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＣｕＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＶＯＰｃ（４−ＣＮＰｈＯ）8｛２，６−Ｂｒ2−４−（ＣＨ3）ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝4、ＺｎＰｃ（２，４−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−Ｂｒ2−４−（ＣＨ3）ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆの略号で表されるフタロシアニン化合物等が挙げられる。
【０１１８】
またこれらの化合物の中でも８個のαのうち４個が、同一もしくは異なってＯＲ2又はハロゲン原子を表す化合物で、例えば、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）3Ｆ5、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）4Ｆ4、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4Ｆ4、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆ、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＣｕＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＶＯＰｃ（４−ＣＮＰｈＯ）8｛２，６−Ｂｒ2−４−（ＣＨ3）ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝4、ＺｎＰｃ（２，４−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−Ｂｒ2−４−（ＣＨ3）ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆの略称で表されるフタロシアニン化合物等が好ましい。
。
【０１１９】
なお、上記化合物の略号において、Ｐｃはフタロシアニン核を表し、Ｐｃの後には、β位に置換する８個の置換基を表し、その後にα位に置換する８個の置換基を表す。また、上記Ｐｈはフェニル基を表す。更に具体的には、上記略号は、中心金属：Ｐｃ：β位の８個の置換基：α位の８個の置換基を表す。例えば、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆでは、中心金属がＶＯ：フタロシアニン核：β位に２，５−Ｃｌ2ＰｈＯが８個置換：α位に２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯが４個とＰｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨが３個とＦが１個置換したフタロシアニン系化合物を表す。
【０１２０】
上記一般式（２０）で表されるフタロシアニン系化合物の製造方法は、特に制限されるものではなく、従来公知の方法を適当に利用することができる。例えば、フタロニトリル化合物を、金属塩、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属から選ばれる一種と環化反応させた後、アミノ化合物と反応させることによって製造される。
【０１２１】
上記一般式（２０）で表されるフタロシアニン系化合物（Ｃ）の市販品としては、例えば、「イーエックスカラーＩＲ１０Ａ」、「イーエックスカラーＩＲ１２」、「イーエックスカラーＩＲ１４」、「イーエックスカラーＨＡ−１」、「イーエックスカラーＨＡ−１４」（いずれも日本触媒製）等があけられ、フタロシアニン系化合物の溶媒溶解性、共重合体（Ａ）との相溶性の点より、近赤外線吸収フィルターとして使用する場合の可視光線透過率、近赤外線吸収効率の点より、「イーエックスカラーＩＲ１０Ａ」、「イーエックスカラーＩＲ１２」、「イーエックスカラーＩＲ１４」が好ましい。
【０１２２】
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるフタロシアニン系化合物（Ｃ）の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にフタロシアニン系化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のフタロシアニン系化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のフタロシアニン系化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
【０１２３】
例えば、フタロシアニン系化合物（Ｃ）の添加量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積１ｍ2当たり、１〜１０００ｍｇが好ま
しく、より好ましくは５〜５００ｍｇである。
より具体的には、本発明の近赤外線吸収コーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）１００重量部に対し、フタロシアニン系化合物を０．１〜１０重量部配合することが好ましく、０．２〜５重量部配合することがより好ましい。
フタロシアニン系化合物の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、フタロシアニン系化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
【０１２４】
これら一般式（２０）で表されるフタロシアニン系錯体化合物（Ｃ）は、８００〜９００ｎｍの近赤外線領域で吸収極大を持ち、且つ可視光領域での吸収が小さいという特徴を持つ。そこでジイモニウム系化合物と組み合わせることにより、両者の相乗効果で８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域を効率良く吸収遮蔽するので、プラズマディスプレイが発する不要な近赤外線を吸収することができる。
また、ジイモニウム系化合物は、一般に他の色素と混合した場合に、その耐熱性が著しく低下することが知られているが、フタロシアニン系化合物との混合においてはジイモニウム系化合物の耐熱性を低下することは少なく、この点においても両者の併用は好ましい。
【０１２５】
本発明において用いられるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）としては、一般的にジチオール金属錯体化合物と呼ばれるものであれば特に限定はないが、具体的には一般式（２１）で表される金属錯体化合物である。
一般式（２１）
【０１２６】
【化２３】
（一般式（２１）中、Ｒ24〜Ｒ27は互いに同一もしくは相異なる水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、あるいは置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣り合う２個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。また、Ｍはニッケル、白金、パラジウム、又は銅の金属である。これら一般式（２１）で表されるジチオール金属錯体化合物（Ｃ）は、１種類を使用しても２種類以上を使用してもよい。）
【０１２７】
一般式（２１）で表されるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）中、Ｒ26〜Ｒ29で表される置換基について、以下に具体的に記載する。
【０１２８】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１２９】
アシル基の例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、ヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ｐ−ｔ−ブチルベンゾイル基等が挙げられる。
【０１３０】
アルキルアミノカルボニル基の例としては、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ペンチルアミノカルボニル基、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル基、ｎ−ヘプチルアミノカルボニル基、ｎ−オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ヘプチルアミノカルボニル基、ジ−オクチルアミノカルボニル基等が挙げられる。
【０１３１】
アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎｅｏ−ペンチルオキシカルボニル基、１，２−ジメチル−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、１，３−ジメチル−ブチルオキシカルボニル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシカルボニル基、１，２−ジメチルブチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、１，４−ジメチルペンチロキシカルボニル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシカルボニル基、１−エチル−３−メチルブチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、３−メチル−ｉｓｏ−プロピルブチルオキシカルボニル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基等の炭素数２〜２０の直鎖又は分岐のアルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１３２】
アリールオキシカルボニル基の例としては、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、トリオキシカルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、クロロフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１３３】
置換又は未置換のアルキル基のうち、未置換のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、シクロペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル１−ｉｓｏ−プロピルブチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状の炭化水素基が挙げられる。
【０１３４】
置換アルキル基とは、上記の未置換のアルキル基の少なくとも１つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシ基に置換されたアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がハロゲン原子に置換されたハロゲン化アルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアミノ基に置換されたアミノアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルキルアミノ基に置換されたアルキルアミノアルキル基やジアルキルアミノアルキル基、
その他アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等が挙げられる。
【０１３５】
アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトチキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等が挙げられ、
ハロゲン化アルキル基としては、クロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ２−プロピル基等が挙げられる。
【０１３６】
置換又は未置換のアリール基のうち、未置換のものとしては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、置換アリール基とは、上記の未置換のアリール基の少なくとも１つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、置換フェニル基としては、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フロロフェニル基、ペンタフロロフェニル基、ヨウ化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、
【０１３７】
トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルエチルフェニル基、ｉｓｏ−プロピルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルメチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基等のアルキル誘導体置換フェニル基、
【０１３８】
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、２−エチルヘキシルオキシフェニル基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシフェニル基、メチルエトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、１−メトキシ−５−エトキシフェニル基、１−メトキシ−２−エトキシフェニル基、１−メトキシ−３−エトキシフェニル基、１−メトキシ−４−エトキシフェニル基、１−エトキシ−２−メトキシフェニル基、２−メトキシ−３−エトキシフェニル基、２−メトキシ−４−エトキシフェニル基、２−メトキシ−５−エトキシフェニル基、１−エトキシ−４−メトキシフェニル基、２−メトキシ−３−エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、エトキシエトキシフェニル基、ジ（エトキシエトキシ）フェニル基、エトキシエトキシエトキシフェニル基、ジ（エトキシエトキシエトキシ）フェニル基、３−メトキシ−４−（２−メトキシエトキシ）フェニル基、３−メトキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−エトキシ−４（２−メトキシエトキ）シフェニル基、３−エトキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−プロポキシ−４−（２−メトキシエトキシ）フェニル基、３−プロポキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−ｉｓｏ−プロポキシ−４−（２−メトキシエトキ）シフェニル基、３−ｉｓｏ−プロポキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、２−（２−ヒドロキシ）−３−メトキシフェニル基、３−メトキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル基、クロロメトキシフェニル基、クロロエトキシフェニル基等のアルコキシ置換フェニル基、
【０１３９】
メチルチオフェニル基、エチルチオフェニル基、ｔ−ブチルチオフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェニル基、２−メチル−１−メチルチオフェニル基等のアルキルチオ基置換フェニル基、
【０１４０】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジアミルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−エチルフェニル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基等のアルキルアミノフェニル基等が挙げられる。
【０１４１】
また、置換ナフチル基としては、
クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、トリクロロナフチル基、ブロモナフチル基、フロロナフチル基、ペンタフロロナフチル基、ヨウ化ナフチル基等のハロゲン化ナフチル基、
【０１４２】
エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、ｉｓｏ−プロピルナフチル基、ｔ−ブチルナフチル基、ｔ−ブチルメチルナフチル基、オクチルナフチル基、ノニルナフチル基、トリフロロメチルナフチル基のアルキル誘導体置換ナフチル基、
【０１４３】
メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、ヘキシルオキシナフチル基、シクロヘキシルオキシナフチル基、オキチルオキシナフチル基、２−エチルヘキシルオキシナフチル基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシナフチル基、メチルエトキシナフチル基、ジメトキシナフチル基、クロロメトキシナフチル基、エトキシエトキシナフチル基、エトキシエトキシエトキシナフチル基等のアルコキシ基置換ナフチル基、
【０１４４】
メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、ｔ−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基等のアルキルチオ基置換ナフチル基、
【０１４５】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジアミルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノナフチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−エチルナフチル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基等のアルキルアミノナフチル基が挙げられる。
【０１４６】
置換又は未置換のアリール基としては、これらの他、置換又は未置換のｐ−ニトロフェニル基、置換又は未置換のピリジル基、置換又は未置換のピロジリル基、置換又は未置換のピペリジル基、置換又は未置換のモルホリン基、置換又は未置換のテトラヒドロピリジル基、置換又は未置換のチオフェニル基、置換又は未置換のイミダゾリル基、置換又は未置換のフリル基等も挙げられる。
【０１４７】
一般式（２１）で表されるチオール金属錯体化合物（Ｄ）のＲ26〜Ｒ29で表される置換基で特に好ましいものは、互いに同一もしくは相異なるアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ｉｓｏ−プロピルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルメチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル基、
エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、ｉｓｏ−プロピルナフチル基、ｔ−ブチルナフチル基、ｔ−ブチルメチルナフチル基、メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、ｔ−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノナフチル基等の炭素数３〜２０の置換又は未置換のアルキル基、フェニル基或いはナフチル基であり、
また、特に好ましいＭはニッケルである。
【０１４８】
これら一般式（２１）で表されるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）は、８００〜９００ｎｍの近赤外線領域で吸収極大を持ち、且つ可視光領域での吸収が小さいという特徴を持つ。そこでジイモニウム系化合物と組み合わせることにより、両者の相乗効果で８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域を効率良く吸収遮蔽するので、プラズマディスプレイが発する不要な近赤外線を吸収することができる。
また、ジイモニウム系化合物は、一般に他の色素と混合した場合に、その耐熱性が著しく低下することが知られているが、ジチオール金属錯体化合物との混合においてはジイモニウム系化合物の耐熱性を低下することは少なく、この点においても両者の併用は好ましい。
【０１４９】
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にジチオール金属錯体化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のジチオール金属錯体化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のジチオール金属錯体化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
【０１５０】
例えば、ジチオール金属錯体化合物（Ｄ）の添加量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積１ｍ2当たり、１〜１０００ｍｇが好
ましく、より好ましくは５〜５００ｍｇである。
より具体的には、本発明の近赤外線吸収コーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）１００重量部に対し、ジチオール金属錯体化合物を０．０５〜１０重量部配合することが好ましく、０．２〜５重量部配合することがより好ましい。
ジチオール金属錯体化合物の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、ジチオール金属錯体化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
【０１５１】
また、一般式（１）で表されるジイモニウム系化合物（Ｂ）、一般式（２０）で表されるフタロシアニン系化合物（Ｃ）及び一般式（２１）で表されるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）との配合比は、この順で１０：１：１〜１：１：１（重量比）とすると、近赤外線領域の波長を効率良く吸収するので好ましい。
【０１５２】
本発明において用いられるシアニン系化合物（Ｇ）としては、例えば、下記一般式（１３）であることが好ましい。
【０１５３】
一般式（１３）
【化２４】
【０１５４】
（式（１３）中、Ｒ３１〜Ｒ３５は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、その具体例は、先述のものと同様なものが挙げられる。
ｎは、０以上の整数を表し、通常は、１〜３である。Ｚ１、Ｚ２は、それぞれ独立に、Ｓ原子、Ｏ原子、ＮＲ３６、ＣＲ３７Ｒ３８である。Ｒ３６〜Ｒ３８は、それぞれ独立に、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいフェニル基を表す。その具体例は、先述のものと同様なものが挙げられる。
Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立に、５〜７員環を形成するものであって、好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環などの芳香環である。
化合物（Ｇ）の具体例としては、例えば日本化薬社製ＣＹ−１７、ＣＹ−４０、ＣＹＰ−４６４６、住友精化社製ＳＤ５０、林原生物化学研究所社製ＮＫ−５７０６、山本化成製ＹＫＲ−２９００、ＹＫＲ−２０８１、旭電化工業製ＴＺ−１１３、ＴＺ−１１５などのシアニン系化合物を好適に用いることができる。上記は一例であり、これらに限定されるものではない。
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるシアニン系化合物（Ｇ）の含有量は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）１００重量部に対して、０．１〜３．０重量部用いるのが好ましい。
【０１５５】
また、本発明の近赤外線吸収コーティング剤には、ジイモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体化合物、あるいはシアニン系化合物の安定性を低下させない範囲で、他の近赤外線吸収化合物を添加することもできる。かかる、近赤外線吸収化合物としては、シアニン（ポリメチン）系、アズレニウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、オキサジン系、アジン系、トリスアゾトリフェニルアミン系、ナフタロシアニン系、ナフトキノン系、アントラキノン系、トリフェニル（アリール）メタン系、インドアニリン系、アミニウム系等の近赤外線吸収色素の他、金属銅あるいは硫化銅等の銅塩、酸化亜鉛を主成分とする金属混合物、タングステン化合物、ＹｂＰＯ4、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（錫ドープ酸化アンチモン）等の微粒子を含む、周期律表の４，５又は６族に属する金属の酸化物、炭化物、ホウ化物等の微粒子も添加できる。これらの平均粒径は１μｍ以下、好ましくは０．２μｍ以下、更に好ましくは０．１μｍであり、これらは単独で加えることもできるし、２種類以上を併用することもできる。
【０１５６】
本発明のコーティング剤には、色調補正用色素を用いて色調を調節することも可能である。このような色調補正用色素としては、長時間安定であり後述の溶媒やシクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）に可溶で、可視光吸収領域が狭くそれ以外の波長での透過率が高いものが好ましい。色調補正用色素としては、シアニン（ポリメチン）系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。
【０１５７】
本発明のコーティング剤には、紫外線吸収剤及（Ｅ）及び／又はヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）を更に含有することができる。
本発明に用いる紫外線吸収剤及（Ｅ）、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）としては、従来公知の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤を使用することができる。
例えば、紫外線吸収剤（Ｅ）としては、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。
【０１５８】
上記サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシート、ｐ−オクチルフェニルサリシートが挙げられる。これらサリチル酸系紫外線吸収剤の市販品としては、ＳＡＰ（岩城製薬社製）、ザロール（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍ．社製）、ザロールＰ（八代製薬社製）、ＴＢＳ（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍ．社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−９０（共同薬品社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−２０１、ＳＥＥＳＯＲＢ−２０２（いずれもシプロ化成社製）、ブチルザロール（岩城製薬社製）、ＯＰＳ（イーストマン・ケミカル社製）等が挙げられる。
【０１５９】
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４、４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニル）メタン等が挙げられる。
【０１６０】
これらベンゾフェノン系紫外線吸収剤の市販品としては、ＡＳＬ−２３、ＡＳＬ−４０（いずれも湘南化学社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−１００、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０１、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０１Ｓ、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０２、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０３、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０５、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０６、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０７（いずれもシプロ化成社製）、ジスライザーＯ、ジスライザーＥ（いずれも三協化成社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−１３０（住友化学社製）、ＤＨＢＡ、ＤＯＰＢ（いずれもイーストマン・ケミカル社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１００、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１０５、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１１０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１１１、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１３０（いずれも共同薬品社製）、Ｕｖｉｎｕｌ−４００、Ｕｖｉｎｕｌ−Ｍ−４０、Ｕｖｉｎｕｌ−Ｄ−４９、Ｕｖｉｎｕｌ−ＭＳ−４０、ＵＶＡ−６３３Ｌ、ＵＶＡ−６３５Ｌ、ＵＶＡ−９３５ＬＨ、ＵＶＡ−３８３ＭＡ（いずれもＢＡＳＦ社製）、Ｃｙａｓｏｒｂ ＵＶ−９、Ｃｙａｓｏｒｂ ＵＶ−２４（いずれもＣｙｔｅｃ社製）、オーソレクス３６０（メルク・ジャパン社製）、アデカスタブ１４１３、アデカスタブＬＡ−５１（いずれも旭電化工業社製）、Ｈｏｓｔａｖｉｎ−ＡＲＯ８（クラリアント社製）、トミソーブ−８００（ＡＰＩコーポレーション社製）等が挙げられる。
【０１６１】
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２（２′−ヒドロキシ−５′−メタアクリロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２′−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−｛（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール｝］、２（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−アミノフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１６２】
これらベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＪＦ−７７、ＪＦ−７８，ＪＦ−７９、ＪＦ−８０、ＪＦ−８６（いずれも城北化学社製）、Ｔｉｎｕｖｉｎ−Ｐ、Ｔｉｎｕｖｉｎ−ＰＳ、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３２６、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３２７、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３８４−２（いずれもチバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０１、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０２、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０３、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０４、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０５、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０６、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０９（いずれもシプロ化成社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−２００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−２５０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３４０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３５０、（いずれも住友化学社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５１０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５２０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５５０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５８０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５８２、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５８３、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５９０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５９１（いずれも共同薬品社製）、アデカスタブＬＡ−２９，アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３６（いずれも旭電化工業社製）、トミソーブ−１００、トミソーブ−６００、トミソーブ−７００（いずれもＡＰＩコーポレーション社製）等が挙げられる。
【０１６３】
上記シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート等が挙げられる。これらシアノアクリレート系紫外線吸収剤の市販品としては、Ｕｎｉｎｏｌ３０３５（ＢＡＳＦ社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−９１０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−９２０、（いずれも共同製薬社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−５０１、ＳＥＥＳＯＲＢ−５０２（いずれもシプロ化成社製）等が挙げられる。
【０１６４】
上記ベンゾエート系紫外線吸収剤の市販品としては、Ｔｉｎｕｖｉｎ−１２０（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−４００（住友化学社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−７１２（シプロ化成社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−８０（共同製薬社製）等が挙げられる。
【０１６５】
また、金属錯体系の紫外線吸収剤も使用できる。例えば、［２，２′−チオビス（４−ｔｅｒｔ―オクチルフェノレート）］−２エチルヘキシルアミンニッケル（ＩＩ）等が挙げられ、市販品としては、ＳＥＥＳＯＲＢ−６１２ＮＨ（シプロ化成社製）等が挙げられる。
【０１６６】
また、マロン酸エステル系紫外線吸収剤やシュウ酸アニリド系紫外線吸収剤も使用できる。例えば、マロン酸エステル系紫外線吸収剤の市販品としては、ＨｏｓｔａｖｉｎＰＲ−２５（クラリアント社製）等が、シュウ酸アニリド系紫外線吸収剤の市販品としては、ＳａｎｄｕｖｏｒＶＳＵ（クラリアント社製）等が挙げられる。
【０１６７】
上記ヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）としては、ヒンダードフェノール骨格を有さないヒンダードアミン系光安定剤とヒンダードフェノール骨格を有するヒンダードアミン系光吸収剤が挙げられる。
【０１６８】
上記ヒンダードフェノール骨格を有さないヒンダードアミン系光安定剤の市販品としては、Ｓａｎｏｌ ＬＳ−７７０（三共社製）、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７Ｙ、アデカスタブＬＡ−７７Ｇ、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７（いずれも旭電化工業社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−５７７（住友化学社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−０３，Ｖｉｏｓｏｒｂ−０４（いずれも共同薬品社製）、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ９４４ＬＤ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、Ｔｉｎｕｖｉｎ−６２２ＬＤ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、Ｇｏｏｄｒｉｔｅ ＵＶ−３０３４（Ｇｏｏｄｒｉｃｈ社製）等があげ、上記ヒンダードフェノール骨格を有するヒンダードアミン系光安定剤の市販品としては、Ｔｉｎｕｖｉｎ−１４４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）等が挙げられる。
【０１６９】
本発明で用いる紫外線吸収剤及（Ｅ）及び／又はヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）は合計で、共重合体（Ａ）１００重量部とすると０．１〜６０重量部であることが好ましい。０．１重量部未満であると耐熱性、耐光性向上が充分ではなく、６０重量部を超えると使用量に対する耐熱性、耐光性向上効果が少なくなり、且つコスト的にも不利になると共に、近赤外線吸収色素の溶解性、安定性が悪くなるおそれがある。
【０１７０】
また、本発明のコーティング剤は、可塑剤、架橋剤、酸化防止剤、重合遅延剤等もさらに含有することができる。
【０１７１】
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤を製造するには、ジイモニウム系化合物（Ｂ）、及び必要に応じて使用される、フタロシアニン系化合物（Ｃ）及び／又はジチオール金属錯体化合物（Ｄ）及び／又はシアニン系化合物（Ｇ）を、シクロアルキル基含有単量体を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）に添加するだけでよく、その手段に特に制限はないが、上記共重合体（Ａ）を溶解する溶媒を用いて共重合体溶液を得（溶液重合樹脂の場合は既に溶液である）、ジイモニウム系化合物（Ｂ）、及び必要に応じて使用されるフタロシアニン系化合物（Ｃ）やジチオール金属錯体化合物（Ｄ）やシアニン系化合物（Ｇ）を該共重合体溶液に添加し、溶解することが好ましい。更に、必要に応じて紫外線吸収剤及び／又はヒンダードアミン系光安定剤を添加して製造する。
【０１７２】
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤に含まれる溶媒としては、シクロアルキル基含有単量体を必須の構成成分とする共重合体を溶解し、且つジイモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物及びジチオール金属錯体化合物を溶解するものが使用できる。例えばトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｉｓｏ−ブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等の塩素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の１種または２種以上を用いることができる。
【０１７３】
上述の近赤外線吸収性コーティング剤から形成される近赤外線吸収層を基材に積層することによって、本発明の近赤外線吸収積層体を得ることができる。
具体的には上述の近赤外線吸収性コーティング剤を種々の方法で平たい状態の基材の少なくとも一方の面に塗布し、乾燥し、コーティング剤中の溶剤を除去することによって、近赤外線吸収層を基材上に形成し、本発明の近赤外線吸収積層体を得ることができる。
【０１７４】
本発明のコーティング剤を基材に塗工する方法としては、バーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法などにより塗布し、タックフリーになるように加熱乾燥し、近赤外線吸収積層体を得ることができる。
【０１７５】
本発明でいう基材としては、プラスチックフィルム、ガラスが挙げられるが、透明性が高いことはもちろんのこと、コスト、取り扱いやすさという点で、プラスチックフィルムが好ましい。具体的には、ポリエステル系、アクリル系、トリアセチルセルロース系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリシクロオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート系、フェノール系、ウレタン系樹脂等から形成されたフィルムが挙げられ、物理的特性、光学特性、耐薬品性、環境負荷等の点からポリエステル系フィルムが好ましい。より具体的にはポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムともいう）が好ましい。
基材としては、ポリエステル系フィルムに、更にアクリル系樹脂、共重合ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂等の樹脂層を設けたいわゆる易接着タイプのフィルムも用いることができる。
【０１７６】
本発明においては、上述のプラスチックフィルムに更に紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層等種々の機能付与層を少なくとも１層積層してなるものを基材として使用することもできる。
あるいは、上述のプラスチックフィルムとプラスチックフィルムの間に紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層等を設けてなるフィルムも基材として用いることができる。例えば、種々の機能を有する粘着剤や接着剤を用いて、複数のプラスチックフィルムを貼り合わせることによって、このような多層プラスチックフィルムを得ることができる。
【０１７７】
本発明のコーティング剤を、予めプラスチックフィルムに紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層、を設けた機能性の基材に塗布する場合、前記各層の層間又は層上に設けることができる。また、電磁波吸収層が後述するようなメッシュ形状である場合、メッシュの開口部に塗布することにより設けても良い。
【０１７８】
紫外線吸収層としては、４００ｎｍ以下の波長の紫外線を効率よく吸収できるものであり、３５０ｎｍの波長を８０％以上吸収できるものが好ましい。紫外線吸収層は特に制限されないが、紫外線吸収剤を樹脂中に添加し、コーティング法、カレンダー法、キャスト法等によりプラスチックフィルムに成膜するのが好ましい。
樹脂としては、透明な高分子樹脂でプラスチックフィルムに接着すれば特に限定はなく、共重合ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、アモルファスポリオレフィン、シクロオレフィン、ポリウレタン、ポリアリレート、トリアセチルセルロース等の樹脂のほか、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルホン等の非晶性エンジニアプラスチック樹脂も使用できる。
紫外線吸収剤としては、無機系あるいは有機系のいずれも使用できるが、有機系の紫外線吸収剤が実用的である。有機系の紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よく吸収ものであり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、オギザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、数種類組み合わせて用いることがより好ましい。また、上記紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤、あるいは酸化防止剤をブレンドすることで安定化が向上できる。また、紫外線吸収剤を含有する（練り込み等）プラスチックフィルムを基材として使用することで、紫外線吸収剤層の代替とすることもできる。
【０１７９】
電磁波吸収層は、プラズマディスプレイからでる電磁波を遮断するものであり、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、電磁波吸収層は、透明な導電フィルムであり、プラスチックフィルムに金属、金属酸化物、金属塩等の薄膜を蒸着したものが好ましく用いられる。導電フィルムの面抵抗が低いほど、電磁波の吸収能は高いが、逆に蒸着層が厚くなると可視光透過率は低下する。また、スクリーン印刷等で導電性の塗料をメッシュ状に印刷したものや、プラスチックフィルムに導電性金属を張り合わせこれをエッチング等により導電性金属をメッシュ状に形成したものも使用できる。
【０１８０】
傷つき防止層は、プラズマディスプレイの表面の傷つきを防止するものであり、紫外線硬化型、電子線硬化型、熱硬化型等の樹脂を用いることができるが、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、種々の（メタ）アクリレート類、光重合開始剤及び必要に応じて有機溶剤を主成分とするコート剤により形成することができる。種々の（メタ）アクリレート類としては、ポリウレタン（メタ）アクリレートやエポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート、あるいは他の多官能（メタ）アクリレート類を好適に使用することができる。
【０１８１】
エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を（メタ）アクリル酸でエステル化し官能基を（メタ）アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物等がある。
【０１８２】
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることができる。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることもできる。
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
水酸基をもつ（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート，２−ヒドロキシプロピルアクリテート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
【０１８３】
その他の多官能の（メタ）アクリレート類は、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するものであり、分子内に３個以上のアクリロイル基を有するものが好ましい。具体的にはトリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及びこれら２種以上の混合物が挙げられる。
【０１８４】
光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ゲンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ミヒラーズケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられ、これらの光重合開始剤は２種以上を適宜併用することもできる。
【０１８５】
傷つき防止層形成用コート剤に用いられる有機溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸−ｉｓｏ−プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸−ｉｓｏ−ブチル等のエステル類、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロヘキサノン等のケトン類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキエタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル等のエーテル類、２−メトキシエチルアセタート、２−エトキシエチルアセタート、２−ブトキシエチルアセタート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のエーテルエステル類が挙げられ、またこれらの２種以上を混合して使用することもできる。
【０１８６】
また、上記成分の他、耐摩耗性向上のため、コロイド状金属酸化物、あるいは有機溶剤を分散媒としたシリカゾル等を加えることもできる。傷つき防止層は、上記コート剤の塗工液をバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法等の塗工方法で塗工した後、溶剤を乾燥させ、更に活性エネルギー線を照射することにより塗工したコート剤を架橋硬化せしめることによって形成される。前記活性エネルギー線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２０００ＫｅＶの電子線加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。このようにして形成される傷つき防止層は、通常１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍの厚みとする。
【０１８７】
反射防止層は、表面反射を防ぎ、可視光線透過率を上げると同時にギラツキを防止するものであり、形成方法に任意の加工方法選択することができ特に制限はない。外光を乱反射させることにより視感反射率を低減させる方法、例えばプラスチックフィルムの片面に二酸化ケイ素、アクリル、メラミン等の微粒子を塗料化してコーティングすることにより光の乱反射が生じる反射防止膜を形成する方法、またはプラスチックフィルムの片面に硬化膜を形成し、その上にフッ化マグネシウム層を蒸着法により反射防止層を形成する方法、もしくはプラスチックフィルムの片面または両面に薄膜の低屈折率層、または屈折率の異なる多層薄膜を形成し薄膜の表面反射光と界面における屈折反射光との光の干渉により反射率を低減する方法等が一般的である。
【０１８８】
また、特にプラズマディスプレイ、ＣＲＴ、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような蛍光体を用いる表示装置では、塗布した蛍光体に電子線や紫外線を照射して、蛍光体を発光させ、蛍光面を透過あるいは反射した光により表示を行う。蛍光体は一般に白色で反射率が高いため、蛍光面での外部光の反射が多い。そのため、外部光の写り込みによる表示コントラストの低下問題は、蛍光体を用いる表示装置において、特に深刻である。蛍光面での反射を防止することは技術的に難しい。そこで、蛍光体を用いる表示装置では、更に別の対策として反射光を吸収するために、ニュートラルグレーのフィルターをディスプレイ前面に設置することが行われる。ニュートラルグレーのフィルターは、ＮＤフィルターとも呼ばれ、その透過率は一般に４０〜８０％である。
【０１８９】
また、表示色の色バランスを補正するため、色調整フィルターをディスプレイ前面に設置することが行われている。以上のように、プラズマディスプレイ表示装置では、表示のコントラストを改善したり表示品位を向上させる目的で色調整フィルター、ニュートラルグレーのフィルター等色調補正フィルターをディスプレイ前面に設置することが多い。特に色調整を主目的とした、色調補正フィルターは重要である。この色調補正フィルターはプラスチックフィルムに色調補正層を積層して形成される。
【０１９０】
かかる色調補正層としては、色調補正用色素を樹脂中に添加し、コーティング法、カレンダー法、キャスト法等によりプラスチックフィルムに成膜するのが好ましい。樹脂としては、透明な高分子樹脂でプラスチックフィルムに接着すれば特に限定はなく、紫外線吸収層で記載している樹脂が使用できる。色調補正用色素としては、シアニン（ポリメチン）系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。
【０１９１】
本発明の近赤外線吸収積層体は、近赤外線吸収層を設けた後に、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層及び耐衝撃層からなる群より選ばれる少なくとも１つの層をさらに積層することができる。
即ち、近赤外線吸収層上に上記種々の機能を有する層をさらに積層することもできるし、基材上、即ち近赤外線吸収層とは反対の面に上記種々の機能層を設けることもできる。近赤外線吸収層とは反対の面に種々の機能層を設ける場合、プラスチックフィルム上に種々の機能層を設けることもできるし、近赤外線吸収層を設ける際に種々の機能層を既に設けたものを基材として用いた場合、既積層機能層上にさらに種々の機能層を形成することもできる。
【実施例】
【０１９２】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら具体例のみに限定されるものではない。なお、例中［部］とあるのは［重量部］を示す。
［合成例１］
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた四口フラスコに、メチルエチルケトン１２０部、メチルメタクリレート６０部、シクロヘキシルメタクリレート４０部を仕込み、窒素気流下にて環流温度まで昇温させた。これに、ｔｅｒｔ−ブチル−パーオキシ−２−エチルヘキサノート０．０５部とメチルエチルケトン３０部の混合物を１時間かけて連続滴下し、その後環流温度で２時間反応した。さらに、ｔｅｒｔ−ブチル−パーオキシ−２−エチルヘキサノート０．０５部を２時間ごとに３回添加し、反応を続けた。滴下終了から１４時間後にトルエン８３部を添加し反応を終了し、不揮発分３０％、粘度１，３００ｍＰａ・ｓ（２５℃）、重量平均分子量３１５，０００の共重合体（１）溶液を得た。
【０１９３】
［合成例２〜４］
合成例１において使用した重合性単量体を表４に示した通りにする以外は、合成例１と同様の操作を行い、共重合体（２）〜（４）溶液を得た。得られた共重合体（２）〜（４）溶液の不揮発分、粘度、重量平均分子量を表１に示した。
【０１９４】
【表１】
【０１９５】
なお、表１中の略号はつぎの通りである。
ＣＨＭＡとはシクロヘキシルメタクリレート、
ＭＭＡとはメチルメタクリレート、
２ＥＨＡとは２−エチルヘキシルアクリレート、
ＲＵＶＡ９３（商品名）とはベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体である２−（２′−ヒドロキシ−５−メタクリロイルエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学社製）である。
【０１９６】
不揮発分、粘度、重量平均分子量は以下のように測定した。
（不揮発分）試料約１ｇを秤量、１５０℃−２０分乾燥し、乾燥残量を不揮発分として、乾燥全重量に対する比率を重量％で表示した。
（粘度）ＢＭ型回転粘度計（東京精器株式会社製）により、２５℃にて測定した。ローター、回転数は粘度に応じて選定した。
（重量平均分子量）Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＳＹＳＴＥＭ２１型ゲルパーエミーションクロマトグラフィー（昭和電工株式会社製）にてカラムとしてＳｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０２Ｌ、同ＫＦ−８０３Ｌ及び同ＫＦ−８０５Ｌ（いずれも昭和電工株式会社製）を直列に使用し測定（ポリスチレン換算）した。
【０１９７】
［実施例１］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、前記式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．６部、及び下記式（２２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］を０．１７部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（１）を得、以下のようにして耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
式（２２）
【０１９８】
【化２５】
【０１９９】
［耐熱性評価］
得られた近赤外線吸収積層体（１）について、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ−５７０型）にて８５０ｎｍと９５０ｎｍの各波長での透過率（％）を測定した（試験前の透過率）後、恒温槽中に８０℃で５００時間静置した後の透過率（％）を上記と同様に測定した（試験後の透過率）。試験前後における透過率変化の評価の基準は以下の通りである。
試験前後の透過率の差が±３未満：良好
試験前後の透過率の差が±３以上５以下：やや良好、
試験前後の透過率の差が±５を超えたもの：不良
また、耐熱性試験の前後の近赤外線吸収積層体（１）に関して、色彩色差計（ミノルタ株式会社製、ＣＲ−３００）にて測色（Ｙ，ｘ、ｙ）を行った。
試験前後の積層体の色変化は下記の基準で評価した。
◎：試験前後のｙ値の差（Δｙ）が±０．００５未満
○：試験前後のｙ値の差（Δｙ）が±０．００５以上、０．０１０以下
△：試験前後のｙ値の差（Δｙ）が±０．０１０を超えて、０．０１５以下
×：試験前後のｙ値の差（Δｙ）が±０．０１５を超えたもの
【０２００】
［耐光性評価］
得られた近赤外線吸収積層体（１）について、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ−５７０型）にて８５０ｎｍと９５０ｎｍの各波長での透過率（％）を測定した（試験前の透過率）後、強エネルギーキセノンウェザーメーター（スガ試験機株式会社社製、ＳＣ７００−ＷＮ）を用い耐光性試験（光照射のみ、６０℃，６０％ＲＨ，２４時間連続照射）した後の透過率（％）を上記と同様に測定した（試験後の透過率）。試験前後における透過率変化の評価の基準は、耐熱評価の場合と同様である。
また、耐光性試験の前後の近赤外線吸収積層体（１）に関して、色彩色差計（ミノルタ株式会社製、ＣＲ−３００）にて測色（Ｙ，ｘ、ｙ）を行った。試験前後における色変化の評価の基準は、耐熱評価の場合と同様である。
【０２０１】
［実施例２］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、前記式（１３）で表される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（２）を０．６部、及びフタロシアニン系化合物（Ｃ１）［構造略号：ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆ］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（２）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０２】
［実施例３］
合成例２で得られた共重合体（２）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、前記式（１４）で表される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（３）を０．６部、及びフタロシアニン系化合物（Ｃ２）［構造略号：ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（Ｐｈ（ＣＨ2ＮＨ）4］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（３）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０３】
［実施例４］
合成例２で得られた共重合体（２）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、下記式（１６）で表される、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（４）を０．６部、及びフタロシアニン系化合物（Ｃ３）［構造略号：ＣｕＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（Ｐｈ（ＣＨ2ＮＨ）4］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１１μｍの近赤外線吸収積層体（４）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０４】
［実施例５］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−ＲＬ（日本カーリット株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１０Ａ（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（５）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０５】
［実施例６］
合成例１で得られた共重合体（２）溶液１００部（固形分：約３０部）１００部にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物［商品名Ｋ−１０３２（日本化薬株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１４（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（６）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０６】
［実施例７］
合成例３で得られた共重合体（３）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−ＲＬ（日本カーリット株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１０Ａ（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポン株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１１μｍの近赤外線吸収積層体（７）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０７】
［実施例８］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部、を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ−３８４−２を０．１６部、実施例１で用いたのと同様に式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１０Ａ（日本触媒株式会社製）］を０．３部を加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（８）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０８】
［実施例９］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ−３８４−２を０．１６部、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−ＲＬ（日本カーリット株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１４（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポン株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（９）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０９】
［実施例１０］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、ジイモニウム系化合物［商品名ＩＲＧ−０６８（日本化薬株式会社製）］を０．６部、及びシアニン化合物［商品名ＣＹ−１７（日本化薬株式会社製）］を０．１７部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（１０）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２１０】
［比較例１］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、下記式（２３）で表される直鎖アルキル基ジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−１０８１（日本カーリット株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１４（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポン株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（１１）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
式（２３）
【０２１１】
【化２６】
【０２１２】
［比較例２］
合成例４で得られた共重合体（４）溶液１００部（固形分：約３０部） にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、実施例１で用いたのと同様に前記式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．６部、及び実施例１で用いたのと同様に式（２２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］を０．１７部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１１μｍの近赤外線吸収積層体（１２）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２１３】
［比較例３］
１，３−ジオキソラン１００部に、ポリアリレート樹脂［商品名Ｕ−１００（ユニチカ株式会社製）］１７．６部を溶解し、不揮発分１５重量％の樹脂溶液を得た。
これに、実施例１で用いたのと同様に式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．３５部、及び実施例１で用いたのと同様に式（２２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］を０．１部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（１３）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２１４】
［比較例４］
トルエン５０部及びメチルエチルケトン５０部の混合溶媒に、ポリエステル樹脂［商品名バイロン２００（東洋紡績株式会社製）］２５部を溶解し、不揮発分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、実施例１で用いたのと同様に式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．５部、及び実施例１で用いたのと同様に式（２２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］を０．１４部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（１４）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２１５】
【表２】
【０２１６】
表２に示すように実施例１〜１０で得られた近赤外線吸収積層体は、耐熱性試験及び耐光性試験の両試験において、試験前後の透過率の差が小さいばかりでなく色変化も小さく、耐熱性に優れると共に耐光性にも優れていることがわかる。
それに対して、比較例１〜４で得られた近赤外線吸収積層体は、耐熱性試験及び耐光性試験のいずれかにおいて、試験前後の透過率の差又は色変化が大きく、耐熱性、耐光性を両立するものは無い。
【産業上の利用可能性】
【０２１７】
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤よりなる近赤外線吸収性積層物は、可視光線の透過率が高く、近赤外線の遮蔽が良好で、且つ耐熱性、耐光性も優れるため、光学フィルターとして有用である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収性コーティング剤に関し、詳しくはプラズマディスプレイ装置などの画像出力装置などから発生される近赤外線を吸収し、プラズマディスプレイ装置の外部におかれる種々の電子機器に近赤外線が進入することを防止し、周辺電子機器の誤動作を防ぐ、近赤外線吸収積層体の形成に好適な近赤外線吸収性コーティング剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型ディスプレイとして様々な形式のディスプレイが開発、商品化されている。プラズマディスプレイもその１つであり、特に４０ｉｎｃｈサイズ以上の大型化、薄型化及び軽量化の点から壁掛け用の大型ディスプレイとして注目されている。このプラズマディスプレイは、光源或いは放電部を構成する各々の画素部分の構造的要因により、可視光領域から赤外線波長領域にわたってカラー映像の３原色（赤、緑、青）の波長帯以外の光線を発する。例えば、プラズマディスプレイは、波長が８２０ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍ付近等に強い近赤外線を放出する。これら近赤外線は周辺電子機器、例えばテレビ、ビデオやクーラーのリモートコントローラー、携帯通信、パソコン等の近赤外線通信機器等の作動波長と合致している。そのためプラズマディスプレイが周辺機器の誤作動を招くという問題が生じる。
【０００３】
そこで、近赤外線を吸収する光学フィルターを利用することが提案されている。このような近赤外線吸収フィルターとしては、２価の銅イオンを含むリン酸塩含有ガラス製フィルターや、ガラス等の表面に金属（例えば銀）の薄い層を蒸着法、スパッター法やイオンプレーティング法その他の方法により形成したフィルターや、近赤外領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したフィルター等を挙げることができる。
【０００４】
しかしながら、上記のような近赤外線吸収フィルターのうち、リン酸塩含有ガラス製フィルターは、製造が煩雑であり、しかも吸湿性し易いという問題がある。 また、ガラス等の表面に金属の薄い層を設ける場合は、近赤外線領域と比較すれば少ないものの、可視光領域の光も反射してしまうため金属層の膜厚を厚くしすぎると透過率が低下することや、製造コストが高い等の問題がある。
さらに、これらの方法はいずれも共通してガラスを用いるので、得られるフィルターが重く割れやすい、加工が困難等といった問題がある。
【０００５】
これに対し、近赤外線領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したフィルターは、ガラスを用いたフィルターに比べ軽量であり、製造も簡便であるという様に利点が多い。
近赤外線領域の波長を吸収する色素としては、特許文献１〜３に示されるようなジイモニウム系化合物や特許文献４〜５に示されるようなフタロシアン系化合物等が知られている。
【０００６】
しかし、近赤外線領域の光を吸収する色素には、同時に可視光領域においても吸収を持つものが多く、これら色素を添加した近赤外線吸収フィルターは、多くの場合、近赤外線領域以外にも吸収を有する。可視領域の光の吸収は、プラズマディスプレイ等の画像表示装置にとっては大きな問題となる。従って、近赤外線領域の光を吸収する色素としては、できるだけ可視光領域の吸収の小さいものが望まれる。
近赤外線吸収領域の波長を吸収する色素のうち、ジイモニウム系化合物は、
（１）可視光領域における光吸収率が極めて小さく、
（２）紫外線領域を吸収し、
（３）近赤外線領域に有する極大吸収波長が極めて大きく、
（４）更に近赤外線吸収領域も８５０〜１２００ｎｍと広いので、
プラズマディスプレイ用近赤外線吸収フィルター用の色素としては特に好ましい。
【０００７】
しかしながら、ジイモニウム系化合物は、耐熱性、耐光性に劣るものが多い。
従って、例えばジイモニウム系化合物を各種樹脂に混練・成形して、近赤外線吸収フィルター、即ち近赤外線吸収フィルムを得ようとすると、混練・成形時の熱でジイモニウム系化合物が分解し、得られる近赤外線吸収フィルターの近赤外線領域の吸収が低下してしまう。
【０００８】
近赤外線領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したコーティング剤を、プラスチックフィルム等の基材に塗布・乾燥し、近赤外線吸収層を設ける方法は、コーティング法、キャスト法等とも呼ばれ、このようなコーティング法の場合、上記の混練・成形法に比べ比較的低温でフィルターを製造することができる。
しかし、プラズマディスプレイは発光体基板表面が約５０℃〜８０℃となる。従って、その前面板に積層される近赤外線吸収フィルターも長時間加熱されることとなる。その結果、プラズマディスプレイの前面板に積層された後に、近赤外線吸収フィルターを構成する近赤外線吸収層中の色素が熱により分解し、近赤外線領域の吸収が低くなってしまう。更にフィルター自体の色目も緑みを帯びてくるという重大な問題があった。
【０００９】
ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐熱性を改善する方法として、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤の利用が、特許文献１〜２に記載されている（特許文献１：特開２０００−２０６３２３号公報、特許文献２：特開平１１−３２３１２１号公報参照）。
しかしながら、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤は、耐光性が劣るという問題があった。
【００１０】
また、ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐光性を改善する方法として、メチルメタアクリレート等の（メタ）アクリル樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤の利用が従来より提案されているが、充分な耐光性が得られず、更に耐熱性が悪いという欠点があった。
【００１１】
さらに、ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの耐熱性を改善する方法として、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム系化合物の利用が、特許文献３に記載されている（特許文献３：ＷＯ２００４／０４８４８０号公報参照）。
しかしながら、スルホンイミドをアニオン成分とするジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターは、スルホンイミド以外の有機酸アニオン、無機アニオンからなるジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターよりは耐熱性は向上するものの充分ではなかった。
【００１２】
また、特定の不飽和単量体を共重合してなるアクリル樹脂と近赤外線吸収性色素を含有するコーティング剤、近赤外線吸収性塗膜が特許文献４〜５に記載されている（特許文献４：特開２００２−２９４７２１号公報、特許文献５：特開２００４−１８２７９３号公報）
しかしながら、上記近赤外線吸収色素は主にフタロシアニン系色素に関するものであり、ジイモニウム系色素に関する記載はない。
【特許文献１】特開２０００−２０６３２３号公報
【特許文献２】特開平１１−３２３１２１５号公報
【特許文献３】ＷＯ２００４／０４８４８０号公報
【特許文献４】特開２００２−２９４７２１号公報
【特許文献５】特開２００４−１８２７９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、可視光域の透過率が高く、プラズマディスプレイ装置から放出される近赤外線を吸収し、周辺電子機器の誤動作防止のための近赤外線吸収フィルターであって、耐熱性、耐光性に優れる近赤外線吸収フィルターの形成に好適なコーティング剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）と特定の構造のジイモニウム系化合物（Ｂ）とを組み合わせることによって、これらの欠点を解消し得ることを見出し、本発明を完成した。
【００１５】
即ち、本発明は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）と、下記一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）とを含有することを特徴とする近赤外線吸収性コーティング剤である。
一般式（１）
【００１６】
【化１】
【００１７】
（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシ基、置換もしくは未置換の、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、又はフェニルアルキル基であり、環Ａ及びＢは置換基を有していても良い。また、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を表す。）
【００１８】
また、本発明は、Ｒ9及びＲ10が、同じであっても異なっていてもよい、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００１９】
また、本発明は、Ｒ9及びＲ10が、共にトリフルオロメチル基、又は共にペンタフルオロエチル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２０】
また、本発明は、Ｒ9及びＲ10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２１】
また、本発明は、Ｒ9及びＲ10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、ヘキサフルオロプロピレン基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２２】
また、本発明は、Ｒ1〜Ｒ8が、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖を有する、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はシアノアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２３】
また、本発明は、Ｒ1〜Ｒ8が、下記一般式（２）で示されるフェニルアルキル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
一般式（２）
【００２４】
【化２】
（式中、Ｃは、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキレン基を表し、環Ｄは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。）
【００２５】
また、本発明は、Ｒ1〜Ｒ8が、ベンジル基又はフェネチル基である上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２６】
また、本発明は、共重合体（Ａ）がベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）及び／又はピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）を構成成分とすることを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２７】
また、本発明は、フタロシアニン系化合物（Ｃ）及び／又はジチオール金属錯体化合物（Ｄ）をさらに含有することを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２８】
また、本発明は、シアニン系化合物（Ｇ）をさらに含有することを特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００２９】
また、本発明は、紫外線吸収剤及（Ｅ）及び／又はヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）を特徴とする上記近赤外線吸収性コーティング剤である。
【００３０】
また、本発明は、上記近赤外線吸収性コーティング剤から形成される近赤外線吸収層が、基材に積層されてなる近赤外線吸収積層体である。
【００３１】
第また、本発明は、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層からなる少なくとも１つの層が、基材側及び／又は近赤外線吸収層上に積層されてなる上記近赤外線吸収積層体である。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤を用いた近赤外線吸収積層体は、近赤外線の波長領域を十分遮蔽でき、且つ高い可視光透過性を持ち、更に優れた耐熱性、耐光性を有しているため、長時間にわたって安定した近赤外線遮蔽効果があり、かつ色目の変化も少なく、プラズマディスプレイパネル用の近赤外線吸収フィルターとしても有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明におけるシクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）は、近赤外線吸収性コーティング剤におけるバインダー樹脂を構成するものであり、１種または２種以上を用いることができる。
【００３４】
本発明におけるシクロアルキル基含有単量体（ａ１）は、脂肪族環状炭化水素構造（以下、脂環構造もしくは単に脂環という）基を有する単量体の意であり、
シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、シクロドデシル基等の脂環構造を１つ有する単量体；
ボルニル基、イソボルニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、アダマンタン基等の複数の脂環構造を有する単量体等が挙げられる。
【００３５】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）としては、例えばシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロドデシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシルメタアクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−メチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−エチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−プロピルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−メトキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−アセトキメチルシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−メチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−エチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−プロピルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−ブチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−メトキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−アセトキシメチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−メチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−エチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−プロピルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−メトキシシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−アセトキシメチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−メチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−エチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−プロピルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−ブチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−アセトキシメチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチルシクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、４−メチルチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−エチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−メトキシシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−アセトキシメチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−メチルチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−エチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−メトキシシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−アセトキシメチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチルシクロヘキシルプロピル（メタ）アクリレート、４−メチルチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−エチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−メトキシシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−アセトキシメチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−エチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−メトキシシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−アセトキシメチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチルシクロヘキシルブチル（メタ）アクリレート、２−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−ジメチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，６−ジメチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−３−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−４−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−５−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２−フェニル−６−メチル−１−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらのうち、異性体を含むものは、各異性体単独及び／又は各異性体混合物でもよい。これら、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）は、近赤外線吸収性コーティング剤から成形される近赤外線吸収層の耐熱性、耐光性を向上させるために、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）及び／又はピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）をシクロアルキル基含有単量体（ａ１）と共重合してなるものであることが好ましく、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）とシクロアルキル基含有単量体（ａ１）との共重合体であることがより好ましい。
【００３７】
上記ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）としては、下記一般式（３）や一般式（４）で示される単量体が使用できる。なお、これらの単量体はそれぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
一般式（３）
【００３８】
【化３】
（式中、Ｒ11は水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基、Ｒ12はアルキレン基、Ｒ13は水素原子又はメチル基を表す。Ｘ1は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキ
シ基、シアノ基又はニトロ基を表す。）
一般式（４）
【００３９】
【化４】
（式中、Ｒ14は水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基、Ｒ15はアルキレン基、Ｒ16は水素原子又はメチル基を表す。Ｘ2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキ
シ基、シアノ基又はニトロ基を表す。）
【００４０】
上記一般式（３）におけるＲ11及び一般式（４）におけるＲ14のうち、炭素数１〜８の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の鎖式炭化水素基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００４１】
上記一般式（４）におけるＲ12及び一般式（３）におけるＲ15のうち、アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等の直鎖状アルキレン基；プロピレン基、２−メチルトリメチレン基、２−メチルテトラメチレン基等の分岐鎖状アルキレン基等が挙げられる。Ｒ12としては炭素数１〜６のアルキレン基が好ましく、またＲ15としては炭素数２又は３のアルキレン基が好ましい。
【００４２】
上記一般式（３）におけるＸ1及び一般式（４）におけるＸ2のうち、ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００４３】
上記一般式（３）におけるＸ1及び一般式（４）におけるＸ2のうち、炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ペプトキシ基等が挙げられる。
【００４４】
上記一般式（３）で示される単量体としては、例えば２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−３′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００４５】
上記一般式（４）で示される単量体としては、例えば２−［２′−ヒドロキシ−５′−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）−３′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００４６】
このようなベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）のうち一般式（３）で示されるものとしては、市販のＲＵＶＡ−９３（大塚化学製）が好適である。
【００４７】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）と共重合し得る、上記ピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）としては、下記一般式（５）又は一般式（６）で示される単量体が使用できる。なお、これらの単量体はそれぞれ単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
一般式（５）
【００４８】
【化５】
（式中、Ｒ17は水素原子又はシアノ基、Ｒ18及びＲ19は同一又は異なって水素原子又はメチル基、Ｒ20は水素原子又は炭素数１〜８の炭化水素基を表す。Ｙ1は酸素原子又はイミノ基を表す。）
一般式（６）
【００４９】
【化６】
（式中、Ｒ21は水素原子又はシアノ基を表す。Ｒ22、Ｒ23、Ｒ22及びＲ25は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表す。Ｙ2は酸素原子又はイミノ基を表す。）
【００５０】
上記一般式（５）におけるＲ20のうち、炭素数１〜８の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の鎖式炭化水素基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の脂環式炭化水素基；フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、フェネチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００５１】
上記一般式（５）で示される単量体としては、例えば４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）−アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等が挙げられる。
【００５２】
上記一般式（６）で示される単量体としては、例えば１−（メタ）アクリロイル−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）アクリロイル−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−クロトニイル−４−クロトイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等が挙げられる。
【００５３】
ピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）のうち一般式（５）で示されるものとしては、市販のアデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８３（いずれも旭電化工業製）、ＦＡ−７１１ＭＭ、ＦＡ−７１２ＨＭ（いずれも日立化成工業製）が好適である。
【００５４】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）及びピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）以外に共重合体（Ａ）を得る際に用いることができる、その他の共重合可能な不飽和単量体（ａ４）としては、例えば
（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量体；
２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート等の酸性リン酸エステル系不飽和単量体；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ（メタ）アクリレート等の活性水素をもつ基を有する不飽和単量体；
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；
グリシジル（メタ）アクリレート、脂環式エポキシ機を有する単量体等のエポキシ基を有する不飽和単量体；
【００５５】
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ′−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等の窒素原子を有する不飽和単量体；
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の２個以上の重合性二重結合を有する不飽和単量体；
塩化ビニル等のハロゲン原子を有する不飽和単量体；
スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族不飽和単量体；酢酸ビニル等のビニルエステル；
【００５６】
また、ビニルエーテル基とラジカル重合性基とを共に有する単量体も使用できる。例えば（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシイソプロポキシ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）プロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−（ビニロキイソプロポキシ）プロピルのビニルエーテル等が挙げられる。
【００５７】
また、フッ素原子を有する不飽和単量体も使用できる。例えばフッ素原子を有する不飽和単量体としてはポリフルオロアルキル基又はポリフルオロエーテル基を有するラジカル重合性単量体が挙げられ、パーフルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロテトラデシル基等が挙げられる。このようなフッ素原子を有する単量体としては、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2（ＣＦ2）4ＣＦ3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＦ2）6ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2
ＣＨ2（ＣＦ2）7ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）5ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ（ＯＣＯＣＨ3）ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＦ3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＦ2）8ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＯＣＯＮＨＣＯ（ＣＦ2）7ＣＦ（ＣＦ2Ｃｌ）ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2
ＣＨ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）ＳＯ2（ＣＦ2）7ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）7ＣＦ3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）ＳＯ2（ＣＦ2）7ＣＦ3
、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣＯ（ＣＦ2）7ＣＦ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）3（ＣＦ2）6ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2（ＣＦ2）10Ｈ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＦ2Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＦ（ＣＦ3）ＯＣ3Ｆ7、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＮＨＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＦ（ＣＦ3）（ＯＣ3Ｆ6）2ＯＣ3
Ｆ7等が挙げられる。
【００５８】
上記単量体（ａ１）〜（ａ３）以外に用いることができる、その他の共重合可能な不飽和単量体（ａ４）は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５９】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）は、すべての単量体成分を１００重量％とすると、共重合に使用するシクロアルキル基含有単量体（ａ１）は、５〜９０重量％であることが好ましく、１０〜８０重量％であることがより好ましく、２０〜７０重量％であることがさらに好ましい。
共重合に使用するシクロアルキル基含有単量体（ａ１）が、５重量％未満であると得られる共重合体を含むコーティング剤から形成される近赤外線吸収層の耐熱性、耐光性が充分に向上しないおそれがある。９０重量％を超えると、ガラス転移温度が低くなりすぎて耐熱性が悪くなるのみならず、ブロッキング等の問題が発生するおそれがある。
【００６０】
また、すべての単量体成分を１００重量％とすると、共重合に使用する、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）やピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）は、０．１〜６０重量％であることが好ましく、０．５〜４０重量％であることがより好ましく、１〜３０重量％であることがさらに好ましい。なお、単量体（ａ２）及び（ａ３）を併用する場合は、両方を合わせて上記範囲内であることが好ましい。
０．５重量％未満であると耐熱性、耐光性向上が充分ではなく、６０重量％を超えると使用量に対する耐熱性、耐光性向上効果が少なくなり、且つコスト的にも不利になると共に、近赤外線吸収色素の溶解性、安定性が悪くなるおそれがある。
【００６１】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）を製造するための重合方法としては、例えば、重合開始剤を用いて、溶液重合、分散重合、懸濁重合、乳化重合等の従来公知の重合方法により行うことができる。溶液重合を行う場合の溶媒としては特に限定されず、例えばトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｉｓｏ−ブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等の塩素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の１種または２種以上を用いることができる。
【００６２】
上記重合開始剤としては特に限定されず、例えば２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２′−アゾビス（２−アミジノプロパン）・二塩酸塩２，２′−アゾビス（４−シアノペンタン酸）、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ系開始剤；過硫酸カリウム等の過硫酸塩、過酸化水素、過酢酸、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等の過酸化物系開始剤等の通常のラジカル開始剤が挙げられる。また、この際還元剤として亜硫酸水素ナトリウム、Ｌ−アスコルビン酸、ロンガリット、メタ重亜硫酸ナトリウム等を用いてレドックス系開始剤とすることもできる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。使用量としては、重合体の分子量等、所望する重合体の特性値等から適宜設定すればよいが、例えば、全単量体成分を１００重量％とすると、０．０１〜５０重量％とすることが好ましく、０．０５〜２０重量％がより好ましい。
【００６３】
また、必要に応じて重合促進剤も使用することができる。かかる重合促進剤としては、例えば種々の遷移金属イオン、具体的には、硫酸第二鉄、硫酸第二銅、塩化第二鉄、塩化第二銅等が挙げられる。
【００６４】
また、前記不飽和単量体を重合させる際、必要に応じて分子量を調節する目的で、連鎖移動剤や調節剤を用いることができる。かかる連鎖移動剤や調節剤としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メイルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン類；アセトアルデヒド、ｎ−ブチルアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド等のアルデヒド類；ドデシルメルカプタン、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸、チオグリコール酸オクチル、チオグリセロール、２−メルカプトエタノール等のメルカプタン類等があげられる。
【００６５】
前記連鎖移動剤や調節剤の使用量としては、例えば、全単量体成分を１００重量％とすると０．０１〜１０重量％とすることが好ましく、０．０２〜５重量％がより好ましい。
【００６６】
上記重合方法における重合条件としては、重合方法により適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。例えば、重合温度としては、室温〜２００℃とすることが好ましく、４０〜１４０℃がより好ましい。反応時間としては、単量体成分の組成や重合開始剤の種類等に応じて、重合反応が完結するように適宜設定すればよい。
【００６７】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）の重量平均分子量は、１０００以上、１００００００以下であることが好ましい。より好ましくは１００００以上、６０００００以下である。なお、重量平均分子量は、ポリスチレン換算ＧＰＣでの測定値である。
【００６８】
本発明において使用するジイモニウム系化合物（Ｂ）は、下記一般式（１）で示されるスルホンイミドをアニオン成分に持つ構造を有する。
一般式（１）
【００６９】
【化７】
【００７０】
一般式（１）中のアニオン成分におけるＲ9及びＲ10は、それぞれ同じであっても異なっていてもよいフルオロアルキル基又はそれらが一緒になって形成されるフルオロアルキレン基であれば、置換されるフッ素原子の数や炭素数には特に限定はないが、好ましいＲ9及びＲ10の例としては、同じであっても異なっていてもよい炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基が挙げられる。すなわち、アニオン成分の好ましい一例としては、下記一般式（７）で示されるアニオン成分が挙げられる。
一般式（７）
【００７１】
【化８】
（式中、ｎ及びｎ’は１〜８の整数を示す）
【００７２】
ここで、ｎ及びｎ’としては、１〜８の整数であり、更に好ましくは、１〜４の整数である。好ましい具体例としては、例えば、パーフルオロアルカンスルホニル基が同一（つまりｎとｎ’が同一の整数）のビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド、ビス（ペンタフルオロエタン）イミド等；
パーフルオロアルカンスルホニル基が異なる（つまりｎとｎ’が異なる整数）ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド、トリフルオロメタンスルホンヘプタフルオロプロパンスルホンイミド、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド等が挙げられる。
【００７３】
これらの中でも、パーフルオロアルカンスルホン基が同一（つまりｎとｎ’が同一の整数）で、ｎとｎ’が、１又は２であるビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミドが近赤外線吸収能力の点で更に好ましい。
【００７４】
また、一般式（１）中のアニオン成分におけるＲ9及びＲ10の好ましい他の例としては、下記一般式（８）に示されるように、これらが一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基が挙げられる。
一般式（８）
【００７５】
【化９】
（式中、ｍは、２〜１２の整数を示す）
【００７６】
ここで、ｍは好ましくは２〜８の整数であり、更に好ましくはｍが３である下記式（９）で示される、１，３−ジスルホンニルヘキサフルオロプロピレンイミドが、アニオン成分として挙げられる。
一般式（９）
【００７７】
【化１０】
【００７８】
上記一般式（８）で示される、これらが一緒になって形成される炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基は、耐熱性をより向上させるので好ましい。
【００７９】
更に、一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいハロゲン化アルキル基、置換されていてもよいシアノアルキル基、置換されていてもよいアリール基、ヒドロキシ基、又は置換されていてもよいフェニルアルキル基を示す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。
シクロアルキル基としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数３〜１０のシクロアルキル基が挙げられる。
アルケニル基としてはビニル基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基等の炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。
アリール基としてはフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基が挙げられる。
【００８０】
これらの基に結合する置換基としては、シアノ基；ニトロ基；ヒドロキシ基；テトラヒドロフリル基；
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；
メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基エトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等の炭素数２〜１２のアルコキシアルコキシ基；
メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシメトキシメトキシ基、エトキシメトキシエトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基；
アリルオキシ基；
フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜１２のアリールオキシ基；
メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ｎ−プロピルスルホニルアミノ基、イソプロピルスルオニルアミノ基、ｎ−ブチルスルホニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルスルホニルアミノ基、ｎ−ペンチルスルホニルアミノ基、ｎ−ヘキシルスルホニルアミノ基等の炭素数１〜６のアルキルスルホニルアミノ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；
メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカアルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００８１】
これらのＲ1〜Ｒ8のうち、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、シアノ置換アルキル基が好ましく、炭素数２〜６の直鎖又は分鎖基を有するアルキル基が特に好ましい。かかる炭素数２〜６の直鎖又は分鎖基を有するアルキル基の具体例としては、例えばエチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｉｓｏ−アミル基等が挙げられる。
【００８２】
また、Ｒ1〜Ｒ8の好ましい他の例として、下記一般式（２）で示されるフェニルアルキル基を挙げることもできる。
一般式（２）
【００８３】
【化１１】
（式中、Ｃは、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキル基を表し、環Ｄは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。）
【００８４】
一般式（２）で示されるフェニルアルキル基において、アルキル基の炭素数は、１〜８であることが好ましい。更にフェニルアルキル基におけるフェニル基は、置換基を有していなくてもよいが、アルキル基、水酸基、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロゲン置換アルキル基及びハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有していてもよい。好ましくは置換基を有していないフェニル基である。
【００８５】
かかるフェニルアルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピレン基、フェニル−α−メチルプロピレン基、フェニル−β−メチルプロピレン基、フェニルブチレン基、フェニルペンチレン基、フェニルオクチレン基等が挙げられ、ベンジル基及びフェネチル基が好ましい。これらフェニルアルキル基は、ジイモニウム化合物の耐熱性を向上させるので好ましい。
【００８６】
一般式（１）における環Ａ及びＢは、１，４−位以外に１〜４個の置換基を有しても、いなくてもよい。
結合しうる置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、シアノ基、低級アルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等のＣ１〜Ｃ５のアルコキシ基が挙げられ、低級アルキルとしては、例えばメチル基、エチル基等のＣ１〜Ｃ５のアルキル基が挙げられる。好ましくはＡ及びＢが置換基を有していないか、ハロゲン原子（特に塩素原子、臭素原子）、メチル基もしくはシアノ基で置換されたのもが好ましい。なお、Ｂに置換基を有する場合は、４つのＢ環がすべて同じであるもの、更に、置換基の位置はフェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対して、ｍ−位であるものが合成上好ましい。更に環Ａ及びＢには１，４−位以外に置換基を有していないものが合成上好ましい。
【００８７】
本発明で使用される一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）の例としては、式（１０）で示される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１０）
【００８８】
【化１２】
【００８９】
式（１１）で示される、ビス（ペンタフロロエタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１１）
【００９０】
【化１３】
【００９１】
式（１２）で示される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛ｐ−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１２）
【００９２】
【化１４】
【００９３】
式（１３）で示される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１３）
【００９４】
【化１５】
【００９５】
式（１４）で示される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１４）
【００９６】
【化１６】
【００９７】
式（１５）で示される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス｛（ｐ−ジ（４−フッ化）ベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１５）
【００９８】
【化１７】
【００９９】
式（１６）で示される、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム、
式（１６）
【０１００】
【化１８】
【０１０１】
式（１７）で示される、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウム等が挙げられる。
式（１７）
【０１０２】
【化１９】
【０１０３】
本発明で使用される一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）は、例えば特公昭４３−２５３３５号公報に開示された次の様な方法で得ることができる。すなわち、ｐ−フェニレンジアミンと１−クロロ−４−ニトロベンゼンをウルマン反応させて得られた生成物を還元することにより得られる、下記一般式（１８）で表されるアミノ体を有機溶媒中、好ましくはジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の水溶性極性溶媒中、３０〜１６０℃、好ましくは５０〜１４０℃で、所望のＲ1〜Ｒ8に対応するハロゲン化化合物（例えば、Ｒ1がｎ−Ｃ4Ｈ9のときはＢｒＣ4Ｈ9）と反応させて、全ての置換基（Ｒ1〜Ｒ8）が同一である化合物（以下、全置換体と記す）を得ることができる。また、全置換体以外の化合物を合成する場合、例えば、先に所定のモル数（一般式（１０）のアミン体１モル当たり７モル）の試薬（ＢｒＣ4Ｈ9）と反応させてＲ1〜Ｒ8のうち７つにｎ−ブチル基を導入した後、残りの置換基（ｉｓｏ−ブチル基）を導入するのに必要なモル数（一般式（６）のアミン体１モル当たり１モル）の試薬（ＢｒＣ4Ｈ9ＢｒＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）2）と反応させる。
一般式（１８）
【０１０４】
【化２０】
（式中、環Ａ及びＢは前記で定義された通りである。）
【０１０５】
その後、上記で合成した化合物を、有機溶媒中、好ましくはジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、アセトニトリル等の水溶性極性溶媒中、０〜１００℃、好ましくは５〜７０℃で、一般式（１９）で示されるスルホンイミド酸銀誘導体を添加して酸化反応を行い、析出した銀を濾別した後、水、酢酸エチル又はヘキサン等の溶媒を加え、生じた沈殿を濾過することにより本発明の一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物がえられる。
一般式（１９）
【０１０６】
【化２１】
（式中、Ｒ9及びＲ10は前記で定義された通りである。）
【０１０７】
上記一般式（１）で表されるジイモニウム系化合物（Ｂ）の市販品としては、例えば、「ＣＩＲ−ＬＲ」、「ＣＩＲ−１０８５」（いずれも日本カーリット株式会社製）、「Ｋ−１０３２」（日本化薬株式会社製）等があけられる。
【０１０８】
本発明のコーティング剤中に含まれるジイモニウム系化合物（Ｂ）の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にジイモニウム系化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のジイモニウム系化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のジイモニウム系化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
【０１０９】
例えば、ジイモニウム系化合物（Ｂ）の添加量は、本発明のコーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積１ｍ2当たり、１〜１０００ｍｇが好ましく、より好ま
しくは５〜５００ｍｇである。
より具体的には、本発明のコーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）１００重量部に対し、ジイモニウム系化合物を０．１〜１０重量部配合することが好ましく、０．５〜５重量部配合することがより好ましい。
ジイモニウム系化合物（Ｂ）の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、ジイモニウム系化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
【０１１０】
尚、一般式（１）で表されるジイモニウム系化合物（Ｂ）は、８５０〜１２００ｎｍの範囲に近赤外線吸収能があり、特に１０００ｎｍ前後の近赤外線吸収が強く、リモコン等に使用される近赤外線の波長の光以外にも、将来使用が見込まれるコンピューター通信の波長の光をも遮断し、この誤作動の防止にも効果が期待できる。
【０１１１】
本発明のコーティング剤には、フタロシアニン系化合物（Ｃ）や後述するジチール金属錯体（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。
本発明において用いられるフタロシアニン系化合物（Ｃ）としては、フタロシアニン、フタロシアニン錯体、或いはフタロシアニン及びフタロシアニン錯体であってフタロシアニン骨格のベンゼン環上にＯＲ、ＳＲ、ＮＨＲ、又はＮＲＲ′のうちの１種以上有するものである。ここでＲ、Ｒ′は、同一もしくは異なって、置換基を有してもよいフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。なお置換基のうちの１個がＮＨＲで置換されたフタロシアニンであることが好ましい。
【０１１２】
本発明において用いられるフタロシアニン系化合物（Ｃ）は、下記一般式（２０）で表される化合物であることが好ましい。一般式（２０）で表される化合物は、溶媒溶解性に優れ、共重合体（Ａ）との相溶性にも優れる。更に、一般式（７）で表されるフタロシアニン系化合物を用いた、近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、特に可視光線透過率が高く、近赤外線吸収効率が高く、かつ耐熱性、耐光性にも優れた近赤外線吸収フィルターを得ることができる。
一般式（２０）
【０１１３】
【化２２】
（式中、αは、同一もしくは異なって、ＳＲ1、ＯＲ2、ＮＨＲ3又はハロゲン原子を表し、ＮＨＲ3を必須とする。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、同一もしくは異なって、置換基を有してもよいフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基を表す。βは、同一もしくは異なって、ＳＲ1、ＯＲ2又はハロゲン原子を表し、ＳＲ1又はＯＲ2を必須とする。Ｍは無金属、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。）
【０１１４】
上記一般式（２０）において、炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−イソプロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル−１−イソプロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等の直鎖又は分岐状のアルキル基；シクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。炭素数７〜２０のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。
【０１１５】
上記Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3におけるフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数
７〜２０のアラルキル基は、置換基を１個又は２個以上有してもよい。このような置換基としては、例えばハロゲン原子、アシル基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基カルボニル基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１１６】
上記一般式（２０）中のＭにおいて、無金属とは、金属以外の原子、例えば２個の水素原子であることを意味する。具体的には、フタロシアニン構造の中央部分に存在する、置換基を有してもよい、相対する２つの窒素原子に水素原子が結合している構造となる。金属としては、例えば鉄、マグネシウム、ニッケル、コバルト、銅、パラジウム、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム、錫等が挙げられる。金属酸化物としては、例えばチタニル、バナジル等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては、例えば塩化アルミニウム、塩化インジウム、塩化ゲルマニウム、塩化錫、塩化ケイ素等が挙げられる。Ｍとしては、金属、金属酸化物又は金属ハロゲン化物であることが好ましく、具体的には、ニッケル、コバルト、銅、亜鉛、鉄、バナジル、ジクロロ錫等が挙げられる。より好ましくは、亜鉛、銅、コバルト、バナジル、ジクロロ錫である。
【０１１７】
上記一般式（２０）で表されるフタロシアニン系化合物（Ｃ）の好ましい形態としては、８個のβのうち４〜８個が、同一もしくは異なって、ＳＲ1又はＯＲ2である。より好ましくは、８個のβが全て、同一もしくは異なって、ＳＲ1又はＯＲ2である。このようなフタロシアニン系化合物としては、例えば、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）3Ｆ5、Ｚｎ
Ｐｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）4Ｆ4、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）5Ｆ3、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4Ｆ4、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）5Ｆ3、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）6Ｆ2、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）7Ｆ、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）6Ｆ2、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）5Ｆ3、ＶＯＰｃ（ＰｈＯ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）5Ｆ3、ＶＯＰｃ（ＰｈＯ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）6Ｆ2、ＶＯＰｃ（ＰｈＯ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）8、ＶＯＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）8、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆ、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＣｕＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＶＯＰｃ（４−ＣＮＰｈＯ）8｛２，６−Ｂｒ2−４−（ＣＨ3）ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝4、ＺｎＰｃ（２，４−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−Ｂｒ2−４−（ＣＨ3）ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆの略号で表されるフタロシアニン化合物等が挙げられる。
【０１１８】
またこれらの化合物の中でも８個のαのうち４個が、同一もしくは異なってＯＲ2又はハロゲン原子を表す化合物で、例えば、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）3Ｆ5、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＮＨ）4Ｆ4、ＺｎＰｃ（ＰｈＳ）8（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4Ｆ4、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆ、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＣｕＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＣｕＰｃ（ＰｈＳ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（ＰｈＣＨ2ＮＨ）4、ＶＯＰｃ（４−ＣＮＰｈＯ）8｛２，６−Ｂｒ2−４−（ＣＨ3）ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝4、ＺｎＰｃ（２，４−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−Ｂｒ2−４−（ＣＨ3）ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆの略称で表されるフタロシアニン化合物等が好ましい。
。
【０１１９】
なお、上記化合物の略号において、Ｐｃはフタロシアニン核を表し、Ｐｃの後には、β位に置換する８個の置換基を表し、その後にα位に置換する８個の置換基を表す。また、上記Ｐｈはフェニル基を表す。更に具体的には、上記略号は、中心金属：Ｐｃ：β位の８個の置換基：α位の８個の置換基を表す。例えば、ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆでは、中心金属がＶＯ：フタロシアニン核：β位に２，５−Ｃｌ2ＰｈＯが８個置換：α位に２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯが４個とＰｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨが３個とＦが１個置換したフタロシアニン系化合物を表す。
【０１２０】
上記一般式（２０）で表されるフタロシアニン系化合物の製造方法は、特に制限されるものではなく、従来公知の方法を適当に利用することができる。例えば、フタロニトリル化合物を、金属塩、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属から選ばれる一種と環化反応させた後、アミノ化合物と反応させることによって製造される。
【０１２１】
上記一般式（２０）で表されるフタロシアニン系化合物（Ｃ）の市販品としては、例えば、「イーエックスカラーＩＲ１０Ａ」、「イーエックスカラーＩＲ１２」、「イーエックスカラーＩＲ１４」、「イーエックスカラーＨＡ−１」、「イーエックスカラーＨＡ−１４」（いずれも日本触媒製）等があけられ、フタロシアニン系化合物の溶媒溶解性、共重合体（Ａ）との相溶性の点より、近赤外線吸収フィルターとして使用する場合の可視光線透過率、近赤外線吸収効率の点より、「イーエックスカラーＩＲ１０Ａ」、「イーエックスカラーＩＲ１２」、「イーエックスカラーＩＲ１４」が好ましい。
【０１２２】
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるフタロシアニン系化合物（Ｃ）の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にフタロシアニン系化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のフタロシアニン系化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のフタロシアニン系化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
【０１２３】
例えば、フタロシアニン系化合物（Ｃ）の添加量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積１ｍ2当たり、１〜１０００ｍｇが好ま
しく、より好ましくは５〜５００ｍｇである。
より具体的には、本発明の近赤外線吸収コーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）１００重量部に対し、フタロシアニン系化合物を０．１〜１０重量部配合することが好ましく、０．２〜５重量部配合することがより好ましい。
フタロシアニン系化合物の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、フタロシアニン系化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
【０１２４】
これら一般式（２０）で表されるフタロシアニン系錯体化合物（Ｃ）は、８００〜９００ｎｍの近赤外線領域で吸収極大を持ち、且つ可視光領域での吸収が小さいという特徴を持つ。そこでジイモニウム系化合物と組み合わせることにより、両者の相乗効果で８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域を効率良く吸収遮蔽するので、プラズマディスプレイが発する不要な近赤外線を吸収することができる。
また、ジイモニウム系化合物は、一般に他の色素と混合した場合に、その耐熱性が著しく低下することが知られているが、フタロシアニン系化合物との混合においてはジイモニウム系化合物の耐熱性を低下することは少なく、この点においても両者の併用は好ましい。
【０１２５】
本発明において用いられるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）としては、一般的にジチオール金属錯体化合物と呼ばれるものであれば特に限定はないが、具体的には一般式（２１）で表される金属錯体化合物である。
一般式（２１）
【０１２６】
【化２３】
（一般式（２１）中、Ｒ24〜Ｒ27は互いに同一もしくは相異なる水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、あるいは置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣り合う２個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。また、Ｍはニッケル、白金、パラジウム、又は銅の金属である。これら一般式（２１）で表されるジチオール金属錯体化合物（Ｃ）は、１種類を使用しても２種類以上を使用してもよい。）
【０１２７】
一般式（２１）で表されるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）中、Ｒ26〜Ｒ29で表される置換基について、以下に具体的に記載する。
【０１２８】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１２９】
アシル基の例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、ヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ｐ−ｔ−ブチルベンゾイル基等が挙げられる。
【０１３０】
アルキルアミノカルボニル基の例としては、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ペンチルアミノカルボニル基、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル基、ｎ−ヘプチルアミノカルボニル基、ｎ−オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ヘプチルアミノカルボニル基、ジ−オクチルアミノカルボニル基等が挙げられる。
【０１３１】
アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎｅｏ−ペンチルオキシカルボニル基、１，２−ジメチル−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、１，３−ジメチル−ブチルオキシカルボニル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシカルボニル基、１，２−ジメチルブチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、１，４−ジメチルペンチロキシカルボニル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシカルボニル基、１−エチル−３−メチルブチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、３−メチル−ｉｓｏ−プロピルブチルオキシカルボニル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基等の炭素数２〜２０の直鎖又は分岐のアルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１３２】
アリールオキシカルボニル基の例としては、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、トリオキシカルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、クロロフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【０１３３】
置換又は未置換のアルキル基のうち、未置換のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、シクロペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル１−ｉｓｏ−プロピルブチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状の炭化水素基が挙げられる。
【０１３４】
置換アルキル基とは、上記の未置換のアルキル基の少なくとも１つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシ基に置換されたアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がハロゲン原子に置換されたハロゲン化アルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアミノ基に置換されたアミノアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルキルアミノ基に置換されたアルキルアミノアルキル基やジアルキルアミノアルキル基、
その他アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等が挙げられる。
【０１３５】
アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトチキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等が挙げられ、
ハロゲン化アルキル基としては、クロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ２−プロピル基等が挙げられる。
【０１３６】
置換又は未置換のアリール基のうち、未置換のものとしては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、置換アリール基とは、上記の未置換のアリール基の少なくとも１つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、置換フェニル基としては、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フロロフェニル基、ペンタフロロフェニル基、ヨウ化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、
【０１３７】
トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルエチルフェニル基、ｉｓｏ−プロピルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルメチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基等のアルキル誘導体置換フェニル基、
【０１３８】
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、２−エチルヘキシルオキシフェニル基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシフェニル基、メチルエトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、１−メトキシ−５−エトキシフェニル基、１−メトキシ−２−エトキシフェニル基、１−メトキシ−３−エトキシフェニル基、１−メトキシ−４−エトキシフェニル基、１−エトキシ−２−メトキシフェニル基、２−メトキシ−３−エトキシフェニル基、２−メトキシ−４−エトキシフェニル基、２−メトキシ−５−エトキシフェニル基、１−エトキシ−４−メトキシフェニル基、２−メトキシ−３−エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、エトキシエトキシフェニル基、ジ（エトキシエトキシ）フェニル基、エトキシエトキシエトキシフェニル基、ジ（エトキシエトキシエトキシ）フェニル基、３−メトキシ−４−（２−メトキシエトキシ）フェニル基、３−メトキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−エトキシ−４（２−メトキシエトキ）シフェニル基、３−エトキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−プロポキシ−４−（２−メトキシエトキシ）フェニル基、３−プロポキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−ｉｓｏ−プロポキシ−４−（２−メトキシエトキ）シフェニル基、３−ｉｓｏ−プロポキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、２−（２−ヒドロキシ）−３−メトキシフェニル基、３−メトキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル基、クロロメトキシフェニル基、クロロエトキシフェニル基等のアルコキシ置換フェニル基、
【０１３９】
メチルチオフェニル基、エチルチオフェニル基、ｔ−ブチルチオフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェニル基、２−メチル−１−メチルチオフェニル基等のアルキルチオ基置換フェニル基、
【０１４０】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジアミルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−エチルフェニル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基等のアルキルアミノフェニル基等が挙げられる。
【０１４１】
また、置換ナフチル基としては、
クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、トリクロロナフチル基、ブロモナフチル基、フロロナフチル基、ペンタフロロナフチル基、ヨウ化ナフチル基等のハロゲン化ナフチル基、
【０１４２】
エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、ｉｓｏ−プロピルナフチル基、ｔ−ブチルナフチル基、ｔ−ブチルメチルナフチル基、オクチルナフチル基、ノニルナフチル基、トリフロロメチルナフチル基のアルキル誘導体置換ナフチル基、
【０１４３】
メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、ヘキシルオキシナフチル基、シクロヘキシルオキシナフチル基、オキチルオキシナフチル基、２−エチルヘキシルオキシナフチル基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシナフチル基、メチルエトキシナフチル基、ジメトキシナフチル基、クロロメトキシナフチル基、エトキシエトキシナフチル基、エトキシエトキシエトキシナフチル基等のアルコキシ基置換ナフチル基、
【０１４４】
メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、ｔ−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基等のアルキルチオ基置換ナフチル基、
【０１４５】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジアミルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノナフチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−エチルナフチル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基等のアルキルアミノナフチル基が挙げられる。
【０１４６】
置換又は未置換のアリール基としては、これらの他、置換又は未置換のｐ−ニトロフェニル基、置換又は未置換のピリジル基、置換又は未置換のピロジリル基、置換又は未置換のピペリジル基、置換又は未置換のモルホリン基、置換又は未置換のテトラヒドロピリジル基、置換又は未置換のチオフェニル基、置換又は未置換のイミダゾリル基、置換又は未置換のフリル基等も挙げられる。
【０１４７】
一般式（２１）で表されるチオール金属錯体化合物（Ｄ）のＲ26〜Ｒ29で表される置換基で特に好ましいものは、互いに同一もしくは相異なるアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ｉｓｏ−プロピルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルメチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル基、
エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、ｉｓｏ−プロピルナフチル基、ｔ−ブチルナフチル基、ｔ−ブチルメチルナフチル基、メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、ｔ−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノナフチル基等の炭素数３〜２０の置換又は未置換のアルキル基、フェニル基或いはナフチル基であり、
また、特に好ましいＭはニッケルである。
【０１４８】
これら一般式（２１）で表されるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）は、８００〜９００ｎｍの近赤外線領域で吸収極大を持ち、且つ可視光領域での吸収が小さいという特徴を持つ。そこでジイモニウム系化合物と組み合わせることにより、両者の相乗効果で８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域を効率良く吸収遮蔽するので、プラズマディスプレイが発する不要な近赤外線を吸収することができる。
また、ジイモニウム系化合物は、一般に他の色素と混合した場合に、その耐熱性が著しく低下することが知られているが、ジチオール金属錯体化合物との混合においてはジイモニウム系化合物の耐熱性を低下することは少なく、この点においても両者の併用は好ましい。
【０１４９】
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）の含有量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にジチオール金属錯体化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のジチオール金属錯体化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のジチオール金属錯体化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
【０１５０】
例えば、ジチオール金属錯体化合物（Ｄ）の添加量は、本発明の近赤外線吸収コーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積１ｍ2当たり、１〜１０００ｍｇが好
ましく、より好ましくは５〜５００ｍｇである。
より具体的には、本発明の近赤外線吸収コーティング剤は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）１００重量部に対し、ジチオール金属錯体化合物を０．０５〜１０重量部配合することが好ましく、０．２〜５重量部配合することがより好ましい。
ジチオール金属錯体化合物の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、ジチオール金属錯体化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
【０１５１】
また、一般式（１）で表されるジイモニウム系化合物（Ｂ）、一般式（２０）で表されるフタロシアニン系化合物（Ｃ）及び一般式（２１）で表されるジチオール金属錯体化合物（Ｄ）との配合比は、この順で１０：１：１〜１：１：１（重量比）とすると、近赤外線領域の波長を効率良く吸収するので好ましい。
【０１５２】
本発明において用いられるシアニン系化合物（Ｇ）としては、例えば、下記一般式（１３）であることが好ましい。
【０１５３】
一般式（１３）
【化２４】
【０１５４】
（式（１３）中、Ｒ３１〜Ｒ３５は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、その具体例は、先述のものと同様なものが挙げられる。
ｎは、０以上の整数を表し、通常は、１〜３である。Ｚ１、Ｚ２は、それぞれ独立に、Ｓ原子、Ｏ原子、ＮＲ３６、ＣＲ３７Ｒ３８である。Ｒ３６〜Ｒ３８は、それぞれ独立に、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいフェニル基を表す。その具体例は、先述のものと同様なものが挙げられる。
Ｌ１、Ｌ２は、それぞれ独立に、５〜７員環を形成するものであって、好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環などの芳香環である。
化合物（Ｇ）の具体例としては、例えば日本化薬社製ＣＹ−１７、ＣＹ−４０、ＣＹＰ−４６４６、住友精化社製ＳＤ５０、林原生物化学研究所社製ＮＫ−５７０６、山本化成製ＹＫＲ−２９００、ＹＫＲ−２０８１、旭電化工業製ＴＺ−１１３、ＴＺ−１１５などのシアニン系化合物を好適に用いることができる。上記は一例であり、これらに限定されるものではない。
本発明の近赤外線吸収コーティング剤中に含まれるシアニン系化合物（Ｇ）の含有量は、シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）１００重量部に対して、０．１〜３．０重量部用いるのが好ましい。
【０１５５】
また、本発明の近赤外線吸収コーティング剤には、ジイモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体化合物、あるいはシアニン系化合物の安定性を低下させない範囲で、他の近赤外線吸収化合物を添加することもできる。かかる、近赤外線吸収化合物としては、シアニン（ポリメチン）系、アズレニウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、オキサジン系、アジン系、トリスアゾトリフェニルアミン系、ナフタロシアニン系、ナフトキノン系、アントラキノン系、トリフェニル（アリール）メタン系、インドアニリン系、アミニウム系等の近赤外線吸収色素の他、金属銅あるいは硫化銅等の銅塩、酸化亜鉛を主成分とする金属混合物、タングステン化合物、ＹｂＰＯ4、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（錫ドープ酸化アンチモン）等の微粒子を含む、周期律表の４，５又は６族に属する金属の酸化物、炭化物、ホウ化物等の微粒子も添加できる。これらの平均粒径は１μｍ以下、好ましくは０．２μｍ以下、更に好ましくは０．１μｍであり、これらは単独で加えることもできるし、２種類以上を併用することもできる。
【０１５６】
本発明のコーティング剤には、色調補正用色素を用いて色調を調節することも可能である。このような色調補正用色素としては、長時間安定であり後述の溶媒やシクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）に可溶で、可視光吸収領域が狭くそれ以外の波長での透過率が高いものが好ましい。色調補正用色素としては、シアニン（ポリメチン）系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。
【０１５７】
本発明のコーティング剤には、紫外線吸収剤及（Ｅ）及び／又はヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）を更に含有することができる。
本発明に用いる紫外線吸収剤及（Ｅ）、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）としては、従来公知の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤を使用することができる。
例えば、紫外線吸収剤（Ｅ）としては、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。
【０１５８】
上記サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシート、ｐ−オクチルフェニルサリシートが挙げられる。これらサリチル酸系紫外線吸収剤の市販品としては、ＳＡＰ（岩城製薬社製）、ザロール（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍ．社製）、ザロールＰ（八代製薬社製）、ＴＢＳ（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍ．社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−９０（共同薬品社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−２０１、ＳＥＥＳＯＲＢ−２０２（いずれもシプロ化成社製）、ブチルザロール（岩城製薬社製）、ＯＰＳ（イーストマン・ケミカル社製）等が挙げられる。
【０１５９】
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４、４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニル）メタン等が挙げられる。
【０１６０】
これらベンゾフェノン系紫外線吸収剤の市販品としては、ＡＳＬ−２３、ＡＳＬ−４０（いずれも湘南化学社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−１００、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０１、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０１Ｓ、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０２、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０３、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０５、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０６、ＳＥＥＳＯＲＢ−１０７（いずれもシプロ化成社製）、ジスライザーＯ、ジスライザーＥ（いずれも三協化成社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−１３０（住友化学社製）、ＤＨＢＡ、ＤＯＰＢ（いずれもイーストマン・ケミカル社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１００、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１０５、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１１０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１１１、Ｖｉｏｓｏｒｂ−１３０（いずれも共同薬品社製）、Ｕｖｉｎｕｌ−４００、Ｕｖｉｎｕｌ−Ｍ−４０、Ｕｖｉｎｕｌ−Ｄ−４９、Ｕｖｉｎｕｌ−ＭＳ−４０、ＵＶＡ−６３３Ｌ、ＵＶＡ−６３５Ｌ、ＵＶＡ−９３５ＬＨ、ＵＶＡ−３８３ＭＡ（いずれもＢＡＳＦ社製）、Ｃｙａｓｏｒｂ ＵＶ−９、Ｃｙａｓｏｒｂ ＵＶ−２４（いずれもＣｙｔｅｃ社製）、オーソレクス３６０（メルク・ジャパン社製）、アデカスタブ１４１３、アデカスタブＬＡ−５１（いずれも旭電化工業社製）、Ｈｏｓｔａｖｉｎ−ＡＲＯ８（クラリアント社製）、トミソーブ−８００（ＡＰＩコーポレーション社製）等が挙げられる。
【０１６１】
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２（２′−ヒドロキシ−５′−メタアクリロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２′−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−｛（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール｝］、２（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−アミノフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１６２】
これらベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＪＦ−７７、ＪＦ−７８，ＪＦ−７９、ＪＦ−８０、ＪＦ−８６（いずれも城北化学社製）、Ｔｉｎｕｖｉｎ−Ｐ、Ｔｉｎｕｖｉｎ−ＰＳ、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３２６、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３２７、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ−３８４−２（いずれもチバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０１、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０２、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０３、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０４、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０５、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０６、ＳＥＥＳＯＲＢ−７０９（いずれもシプロ化成社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−２００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−２５０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３４０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−３５０、（いずれも住友化学社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５１０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５２０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５５０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５８０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５８２、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５８３、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５９０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−５９１（いずれも共同薬品社製）、アデカスタブＬＡ−２９，アデカスタブＬＡ−３１、アデカスタブＬＡ−３２、アデカスタブＬＡ−３６（いずれも旭電化工業社製）、トミソーブ−１００、トミソーブ−６００、トミソーブ−７００（いずれもＡＰＩコーポレーション社製）等が挙げられる。
【０１６３】
上記シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３′−ジフェニルアクリレート等が挙げられる。これらシアノアクリレート系紫外線吸収剤の市販品としては、Ｕｎｉｎｏｌ３０３５（ＢＡＳＦ社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−９１０、Ｖｉｏｓｏｒｂ−９２０、（いずれも共同製薬社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−５０１、ＳＥＥＳＯＲＢ−５０２（いずれもシプロ化成社製）等が挙げられる。
【０１６４】
上記ベンゾエート系紫外線吸収剤の市販品としては、Ｔｉｎｕｖｉｎ−１２０（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−４００（住友化学社製）、ＳＥＥＳＯＲＢ−７１２（シプロ化成社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−８０（共同製薬社製）等が挙げられる。
【０１６５】
また、金属錯体系の紫外線吸収剤も使用できる。例えば、［２，２′−チオビス（４−ｔｅｒｔ―オクチルフェノレート）］−２エチルヘキシルアミンニッケル（ＩＩ）等が挙げられ、市販品としては、ＳＥＥＳＯＲＢ−６１２ＮＨ（シプロ化成社製）等が挙げられる。
【０１６６】
また、マロン酸エステル系紫外線吸収剤やシュウ酸アニリド系紫外線吸収剤も使用できる。例えば、マロン酸エステル系紫外線吸収剤の市販品としては、ＨｏｓｔａｖｉｎＰＲ−２５（クラリアント社製）等が、シュウ酸アニリド系紫外線吸収剤の市販品としては、ＳａｎｄｕｖｏｒＶＳＵ（クラリアント社製）等が挙げられる。
【０１６７】
上記ヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）としては、ヒンダードフェノール骨格を有さないヒンダードアミン系光安定剤とヒンダードフェノール骨格を有するヒンダードアミン系光吸収剤が挙げられる。
【０１６８】
上記ヒンダードフェノール骨格を有さないヒンダードアミン系光安定剤の市販品としては、Ｓａｎｏｌ ＬＳ−７７０（三共社製）、アデカスタブＬＡ−５７、アデカスタブＬＡ−６２、アデカスタブＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブＬＡ−６７、アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ、アデカスタブＬＡ−７７Ｙ、アデカスタブＬＡ−７７Ｇ、アデカスタブＬＡ−８２、アデカスタブＬＡ−８７（いずれも旭電化工業社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−５７７（住友化学社製）、Ｖｉｏｓｏｒｂ−０３，Ｖｉｏｓｏｒｂ−０４（いずれも共同薬品社製）、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ９４４ＬＤ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、Ｔｉｎｕｖｉｎ−６２２ＬＤ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、Ｇｏｏｄｒｉｔｅ ＵＶ−３０３４（Ｇｏｏｄｒｉｃｈ社製）等があげ、上記ヒンダードフェノール骨格を有するヒンダードアミン系光安定剤の市販品としては、Ｔｉｎｕｖｉｎ−１４４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）等が挙げられる。
【０１６９】
本発明で用いる紫外線吸収剤及（Ｅ）及び／又はヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）は合計で、共重合体（Ａ）１００重量部とすると０．１〜６０重量部であることが好ましい。０．１重量部未満であると耐熱性、耐光性向上が充分ではなく、６０重量部を超えると使用量に対する耐熱性、耐光性向上効果が少なくなり、且つコスト的にも不利になると共に、近赤外線吸収色素の溶解性、安定性が悪くなるおそれがある。
【０１７０】
また、本発明のコーティング剤は、可塑剤、架橋剤、酸化防止剤、重合遅延剤等もさらに含有することができる。
【０１７１】
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤を製造するには、ジイモニウム系化合物（Ｂ）、及び必要に応じて使用される、フタロシアニン系化合物（Ｃ）及び／又はジチオール金属錯体化合物（Ｄ）及び／又はシアニン系化合物（Ｇ）を、シクロアルキル基含有単量体を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）に添加するだけでよく、その手段に特に制限はないが、上記共重合体（Ａ）を溶解する溶媒を用いて共重合体溶液を得（溶液重合樹脂の場合は既に溶液である）、ジイモニウム系化合物（Ｂ）、及び必要に応じて使用されるフタロシアニン系化合物（Ｃ）やジチオール金属錯体化合物（Ｄ）やシアニン系化合物（Ｇ）を該共重合体溶液に添加し、溶解することが好ましい。更に、必要に応じて紫外線吸収剤及び／又はヒンダードアミン系光安定剤を添加して製造する。
【０１７２】
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤に含まれる溶媒としては、シクロアルキル基含有単量体を必須の構成成分とする共重合体を溶解し、且つジイモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物及びジチオール金属錯体化合物を溶解するものが使用できる。例えばトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｉｓｏ−ブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等の塩素系溶媒；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の１種または２種以上を用いることができる。
【０１７３】
上述の近赤外線吸収性コーティング剤から形成される近赤外線吸収層を基材に積層することによって、本発明の近赤外線吸収積層体を得ることができる。
具体的には上述の近赤外線吸収性コーティング剤を種々の方法で平たい状態の基材の少なくとも一方の面に塗布し、乾燥し、コーティング剤中の溶剤を除去することによって、近赤外線吸収層を基材上に形成し、本発明の近赤外線吸収積層体を得ることができる。
【０１７４】
本発明のコーティング剤を基材に塗工する方法としては、バーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法などにより塗布し、タックフリーになるように加熱乾燥し、近赤外線吸収積層体を得ることができる。
【０１７５】
本発明でいう基材としては、プラスチックフィルム、ガラスが挙げられるが、透明性が高いことはもちろんのこと、コスト、取り扱いやすさという点で、プラスチックフィルムが好ましい。具体的には、ポリエステル系、アクリル系、トリアセチルセルロース系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリシクロオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート系、フェノール系、ウレタン系樹脂等から形成されたフィルムが挙げられ、物理的特性、光学特性、耐薬品性、環境負荷等の点からポリエステル系フィルムが好ましい。より具体的にはポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムともいう）が好ましい。
基材としては、ポリエステル系フィルムに、更にアクリル系樹脂、共重合ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂等の樹脂層を設けたいわゆる易接着タイプのフィルムも用いることができる。
【０１７６】
本発明においては、上述のプラスチックフィルムに更に紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層等種々の機能付与層を少なくとも１層積層してなるものを基材として使用することもできる。
あるいは、上述のプラスチックフィルムとプラスチックフィルムの間に紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層等を設けてなるフィルムも基材として用いることができる。例えば、種々の機能を有する粘着剤や接着剤を用いて、複数のプラスチックフィルムを貼り合わせることによって、このような多層プラスチックフィルムを得ることができる。
【０１７７】
本発明のコーティング剤を、予めプラスチックフィルムに紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層、を設けた機能性の基材に塗布する場合、前記各層の層間又は層上に設けることができる。また、電磁波吸収層が後述するようなメッシュ形状である場合、メッシュの開口部に塗布することにより設けても良い。
【０１７８】
紫外線吸収層としては、４００ｎｍ以下の波長の紫外線を効率よく吸収できるものであり、３５０ｎｍの波長を８０％以上吸収できるものが好ましい。紫外線吸収層は特に制限されないが、紫外線吸収剤を樹脂中に添加し、コーティング法、カレンダー法、キャスト法等によりプラスチックフィルムに成膜するのが好ましい。
樹脂としては、透明な高分子樹脂でプラスチックフィルムに接着すれば特に限定はなく、共重合ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、アモルファスポリオレフィン、シクロオレフィン、ポリウレタン、ポリアリレート、トリアセチルセルロース等の樹脂のほか、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルホン等の非晶性エンジニアプラスチック樹脂も使用できる。
紫外線吸収剤としては、無機系あるいは有機系のいずれも使用できるが、有機系の紫外線吸収剤が実用的である。有機系の紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よく吸収ものであり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、オギザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、数種類組み合わせて用いることがより好ましい。また、上記紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤、あるいは酸化防止剤をブレンドすることで安定化が向上できる。また、紫外線吸収剤を含有する（練り込み等）プラスチックフィルムを基材として使用することで、紫外線吸収剤層の代替とすることもできる。
【０１７９】
電磁波吸収層は、プラズマディスプレイからでる電磁波を遮断するものであり、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、電磁波吸収層は、透明な導電フィルムであり、プラスチックフィルムに金属、金属酸化物、金属塩等の薄膜を蒸着したものが好ましく用いられる。導電フィルムの面抵抗が低いほど、電磁波の吸収能は高いが、逆に蒸着層が厚くなると可視光透過率は低下する。また、スクリーン印刷等で導電性の塗料をメッシュ状に印刷したものや、プラスチックフィルムに導電性金属を張り合わせこれをエッチング等により導電性金属をメッシュ状に形成したものも使用できる。
【０１８０】
傷つき防止層は、プラズマディスプレイの表面の傷つきを防止するものであり、紫外線硬化型、電子線硬化型、熱硬化型等の樹脂を用いることができるが、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、種々の（メタ）アクリレート類、光重合開始剤及び必要に応じて有機溶剤を主成分とするコート剤により形成することができる。種々の（メタ）アクリレート類としては、ポリウレタン（メタ）アクリレートやエポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート、あるいは他の多官能（メタ）アクリレート類を好適に使用することができる。
【０１８１】
エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を（メタ）アクリル酸でエステル化し官能基を（メタ）アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物等がある。
【０１８２】
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることができる。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることもできる。
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
水酸基をもつ（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート，２−ヒドロキシプロピルアクリテート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
【０１８３】
その他の多官能の（メタ）アクリレート類は、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するものであり、分子内に３個以上のアクリロイル基を有するものが好ましい。具体的にはトリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及びこれら２種以上の混合物が挙げられる。
【０１８４】
光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ゲンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ミヒラーズケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられ、これらの光重合開始剤は２種以上を適宜併用することもできる。
【０１８５】
傷つき防止層形成用コート剤に用いられる有機溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸−ｉｓｏ−プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸−ｉｓｏ−ブチル等のエステル類、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロヘキサノン等のケトン類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキエタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル等のエーテル類、２−メトキシエチルアセタート、２−エトキシエチルアセタート、２−ブトキシエチルアセタート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のエーテルエステル類が挙げられ、またこれらの２種以上を混合して使用することもできる。
【０１８６】
また、上記成分の他、耐摩耗性向上のため、コロイド状金属酸化物、あるいは有機溶剤を分散媒としたシリカゾル等を加えることもできる。傷つき防止層は、上記コート剤の塗工液をバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法等の塗工方法で塗工した後、溶剤を乾燥させ、更に活性エネルギー線を照射することにより塗工したコート剤を架橋硬化せしめることによって形成される。前記活性エネルギー線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２０００ＫｅＶの電子線加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。このようにして形成される傷つき防止層は、通常１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍの厚みとする。
【０１８７】
反射防止層は、表面反射を防ぎ、可視光線透過率を上げると同時にギラツキを防止するものであり、形成方法に任意の加工方法選択することができ特に制限はない。外光を乱反射させることにより視感反射率を低減させる方法、例えばプラスチックフィルムの片面に二酸化ケイ素、アクリル、メラミン等の微粒子を塗料化してコーティングすることにより光の乱反射が生じる反射防止膜を形成する方法、またはプラスチックフィルムの片面に硬化膜を形成し、その上にフッ化マグネシウム層を蒸着法により反射防止層を形成する方法、もしくはプラスチックフィルムの片面または両面に薄膜の低屈折率層、または屈折率の異なる多層薄膜を形成し薄膜の表面反射光と界面における屈折反射光との光の干渉により反射率を低減する方法等が一般的である。
【０１８８】
また、特にプラズマディスプレイ、ＣＲＴ、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような蛍光体を用いる表示装置では、塗布した蛍光体に電子線や紫外線を照射して、蛍光体を発光させ、蛍光面を透過あるいは反射した光により表示を行う。蛍光体は一般に白色で反射率が高いため、蛍光面での外部光の反射が多い。そのため、外部光の写り込みによる表示コントラストの低下問題は、蛍光体を用いる表示装置において、特に深刻である。蛍光面での反射を防止することは技術的に難しい。そこで、蛍光体を用いる表示装置では、更に別の対策として反射光を吸収するために、ニュートラルグレーのフィルターをディスプレイ前面に設置することが行われる。ニュートラルグレーのフィルターは、ＮＤフィルターとも呼ばれ、その透過率は一般に４０〜８０％である。
【０１８９】
また、表示色の色バランスを補正するため、色調整フィルターをディスプレイ前面に設置することが行われている。以上のように、プラズマディスプレイ表示装置では、表示のコントラストを改善したり表示品位を向上させる目的で色調整フィルター、ニュートラルグレーのフィルター等色調補正フィルターをディスプレイ前面に設置することが多い。特に色調整を主目的とした、色調補正フィルターは重要である。この色調補正フィルターはプラスチックフィルムに色調補正層を積層して形成される。
【０１９０】
かかる色調補正層としては、色調補正用色素を樹脂中に添加し、コーティング法、カレンダー法、キャスト法等によりプラスチックフィルムに成膜するのが好ましい。樹脂としては、透明な高分子樹脂でプラスチックフィルムに接着すれば特に限定はなく、紫外線吸収層で記載している樹脂が使用できる。色調補正用色素としては、シアニン（ポリメチン）系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。
【０１９１】
本発明の近赤外線吸収積層体は、近赤外線吸収層を設けた後に、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層及び耐衝撃層からなる群より選ばれる少なくとも１つの層をさらに積層することができる。
即ち、近赤外線吸収層上に上記種々の機能を有する層をさらに積層することもできるし、基材上、即ち近赤外線吸収層とは反対の面に上記種々の機能層を設けることもできる。近赤外線吸収層とは反対の面に種々の機能層を設ける場合、プラスチックフィルム上に種々の機能層を設けることもできるし、近赤外線吸収層を設ける際に種々の機能層を既に設けたものを基材として用いた場合、既積層機能層上にさらに種々の機能層を形成することもできる。
【実施例】
【０１９２】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら具体例のみに限定されるものではない。なお、例中［部］とあるのは［重量部］を示す。
［合成例１］
攪拌機、温度計、還流冷却管、窒素ガス導入管を備えた四口フラスコに、メチルエチルケトン１２０部、メチルメタクリレート６０部、シクロヘキシルメタクリレート４０部を仕込み、窒素気流下にて環流温度まで昇温させた。これに、ｔｅｒｔ−ブチル−パーオキシ−２−エチルヘキサノート０．０５部とメチルエチルケトン３０部の混合物を１時間かけて連続滴下し、その後環流温度で２時間反応した。さらに、ｔｅｒｔ−ブチル−パーオキシ−２−エチルヘキサノート０．０５部を２時間ごとに３回添加し、反応を続けた。滴下終了から１４時間後にトルエン８３部を添加し反応を終了し、不揮発分３０％、粘度１，３００ｍＰａ・ｓ（２５℃）、重量平均分子量３１５，０００の共重合体（１）溶液を得た。
【０１９３】
［合成例２〜４］
合成例１において使用した重合性単量体を表４に示した通りにする以外は、合成例１と同様の操作を行い、共重合体（２）〜（４）溶液を得た。得られた共重合体（２）〜（４）溶液の不揮発分、粘度、重量平均分子量を表１に示した。
【０１９４】
【表１】
【０１９５】
なお、表１中の略号はつぎの通りである。
ＣＨＭＡとはシクロヘキシルメタクリレート、
ＭＭＡとはメチルメタクリレート、
２ＥＨＡとは２−エチルヘキシルアクリレート、
ＲＵＶＡ９３（商品名）とはベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体である２−（２′−ヒドロキシ−５−メタクリロイルエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学社製）である。
【０１９６】
不揮発分、粘度、重量平均分子量は以下のように測定した。
（不揮発分）試料約１ｇを秤量、１５０℃−２０分乾燥し、乾燥残量を不揮発分として、乾燥全重量に対する比率を重量％で表示した。
（粘度）ＢＭ型回転粘度計（東京精器株式会社製）により、２５℃にて測定した。ローター、回転数は粘度に応じて選定した。
（重量平均分子量）Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＳＹＳＴＥＭ２１型ゲルパーエミーションクロマトグラフィー（昭和電工株式会社製）にてカラムとしてＳｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０２Ｌ、同ＫＦ−８０３Ｌ及び同ＫＦ−８０５Ｌ（いずれも昭和電工株式会社製）を直列に使用し測定（ポリスチレン換算）した。
【０１９７】
［実施例１］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、前記式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．６部、及び下記式（２２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］を０．１７部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（１）を得、以下のようにして耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
式（２２）
【０１９８】
【化２５】
【０１９９】
［耐熱性評価］
得られた近赤外線吸収積層体（１）について、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ−５７０型）にて８５０ｎｍと９５０ｎｍの各波長での透過率（％）を測定した（試験前の透過率）後、恒温槽中に８０℃で５００時間静置した後の透過率（％）を上記と同様に測定した（試験後の透過率）。試験前後における透過率変化の評価の基準は以下の通りである。
試験前後の透過率の差が±３未満：良好
試験前後の透過率の差が±３以上５以下：やや良好、
試験前後の透過率の差が±５を超えたもの：不良
また、耐熱性試験の前後の近赤外線吸収積層体（１）に関して、色彩色差計（ミノルタ株式会社製、ＣＲ−３００）にて測色（Ｙ，ｘ、ｙ）を行った。
試験前後の積層体の色変化は下記の基準で評価した。
◎：試験前後のｙ値の差（Δｙ）が±０．００５未満
○：試験前後のｙ値の差（Δｙ）が±０．００５以上、０．０１０以下
△：試験前後のｙ値の差（Δｙ）が±０．０１０を超えて、０．０１５以下
×：試験前後のｙ値の差（Δｙ）が±０．０１５を超えたもの
【０２００】
［耐光性評価］
得られた近赤外線吸収積層体（１）について、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ−５７０型）にて８５０ｎｍと９５０ｎｍの各波長での透過率（％）を測定した（試験前の透過率）後、強エネルギーキセノンウェザーメーター（スガ試験機株式会社社製、ＳＣ７００−ＷＮ）を用い耐光性試験（光照射のみ、６０℃，６０％ＲＨ，２４時間連続照射）した後の透過率（％）を上記と同様に測定した（試験後の透過率）。試験前後における透過率変化の評価の基準は、耐熱評価の場合と同様である。
また、耐光性試験の前後の近赤外線吸収積層体（１）に関して、色彩色差計（ミノルタ株式会社製、ＣＲ−３００）にて測色（Ｙ，ｘ、ｙ）を行った。試験前後における色変化の評価の基準は、耐熱評価の場合と同様である。
【０２０１】
［実施例２］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、前記式（１３）で表される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジベンジルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（２）を０．６部、及びフタロシアニン系化合物（Ｃ１）［構造略号：ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4｛Ｐｈ（ＣＨ3）ＣＨＮＨ｝3Ｆ］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（２）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０２】
［実施例３］
合成例２で得られた共重合体（２）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、前記式（１４）で表される、ビス｛ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸｝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（３）を０．６部、及びフタロシアニン系化合物（Ｃ２）［構造略号：ＶＯＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（Ｐｈ（ＣＨ2ＮＨ）4］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（３）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０３】
［実施例４］
合成例２で得られた共重合体（２）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、下記式（１６）で表される、ビス（１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミド酸）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジフェネチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（４）を０．６部、及びフタロシアニン系化合物（Ｃ３）［構造略号：ＣｕＰｃ（２，５−Ｃｌ2ＰｈＯ）8｛２，６−（ＣＨ3）2ＰｈＯ｝4（Ｐｈ（ＣＨ2ＮＨ）4］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１１μｍの近赤外線吸収積層体（４）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０４】
［実施例５］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−ＲＬ（日本カーリット株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１０Ａ（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（５）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０５】
［実施例６］
合成例１で得られた共重合体（２）溶液１００部（固形分：約３０部）１００部にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物［商品名Ｋ−１０３２（日本化薬株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１４（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（６）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０６】
［実施例７］
合成例３で得られた共重合体（３）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−ＲＬ（日本カーリット株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１０Ａ（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポン株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１１μｍの近赤外線吸収積層体（７）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０７】
［実施例８］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部、を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ−３８４−２を０．１６部、実施例１で用いたのと同様に式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１０Ａ（日本触媒株式会社製）］を０．３部を加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（８）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０８】
［実施例９］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ−３８４−２を０．１６部、スルホンイミドをアニオン成分に持つジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−ＲＬ（日本カーリット株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１４（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポン株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（９）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２０９】
［実施例１０］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、ジイモニウム系化合物［商品名ＩＲＧ−０６８（日本化薬株式会社製）］を０．６部、及びシアニン化合物［商品名ＣＹ−１７（日本化薬株式会社製）］を０．１７部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（１０）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２１０】
［比較例１］
合成例１で得られた共重合体（１）溶液１００部（固形分：約３０部）にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、下記式（２３）で表される直鎖アルキル基ジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−１０８１（日本カーリット株式会社製）］を０．６部、及びフタロシアニン系化合物［商品名イーエックスカラーＩＲ−１４（日本触媒株式会社製）］を０．３部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポン株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（１１）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
式（２３）
【０２１１】
【化２６】
【０２１２】
［比較例２］
合成例４で得られた共重合体（４）溶液１００部（固形分：約３０部） にメチルエチルケトン５０部を添加し、不揮発分２０重量％の溶液を得た。
これに、実施例１で用いたのと同様に前記式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．６部、及び実施例１で用いたのと同様に式（２２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］を０．１７部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１１μｍの近赤外線吸収積層体（１２）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２１３】
［比較例３］
１，３−ジオキソラン１００部に、ポリアリレート樹脂［商品名Ｕ−１００（ユニチカ株式会社製）］１７．６部を溶解し、不揮発分１５重量％の樹脂溶液を得た。
これに、実施例１で用いたのと同様に式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．３５部、及び実施例１で用いたのと同様に式（２２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］を０．１部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（１３）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２１４】
［比較例４］
トルエン５０部及びメチルエチルケトン５０部の混合溶媒に、ポリエステル樹脂［商品名バイロン２００（東洋紡績株式会社製）］２５部を溶解し、不揮発分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、実施例１で用いたのと同様に式（１０）で表される、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）−ｐ−フェニレンジイモニウムであるジイモニウム系化合物（１）を０．５部、及び実施例１で用いたのと同様に式（２２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］を０．１４部加え溶解し、近赤外線吸収コーティング剤を調製した。
このコーティング剤を厚さ１００μｍの易接着層を有する紫外線吸収ＰＥＴフィルム［商品名ＨＢＦ８Ｗ（帝人デュポンフィルム株式会社製）］の易接着面にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１２μｍの近赤外線吸収積層体（１４）を得、耐熱性、耐光性を評価した。その結果を表２に表す。
【０２１５】
【表２】
【０２１６】
表２に示すように実施例１〜１０で得られた近赤外線吸収積層体は、耐熱性試験及び耐光性試験の両試験において、試験前後の透過率の差が小さいばかりでなく色変化も小さく、耐熱性に優れると共に耐光性にも優れていることがわかる。
それに対して、比較例１〜４で得られた近赤外線吸収積層体は、耐熱性試験及び耐光性試験のいずれかにおいて、試験前後の透過率の差又は色変化が大きく、耐熱性、耐光性を両立するものは無い。
【産業上の利用可能性】
【０２１７】
本発明の近赤外線吸収性コーティング剤よりなる近赤外線吸収性積層物は、可視光線の透過率が高く、近赤外線の遮蔽が良好で、且つ耐熱性、耐光性も優れるため、光学フィルターとして有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）と、下記一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）とを含有することを特徴とする近赤外線吸収性コーティング剤。
一般式（１）
【化１】
（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシ基、置換もしくは未置換の、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、又はフェニルアルキル基であり、環Ａ及びＢは置換基を有していても良い。また、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を表す。）
【請求項２】
Ｒ9及びＲ10が、同じであっても異なっていてもよい、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基である請求項１記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項３】
Ｒ9及びＲ10が、共にトリフルオロメチル基、又は共にペンタフルオロエチル基である請求項２記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項４】
Ｒ9及びＲ10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基である請求項１記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項５】
Ｒ9及びＲ10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、ヘキサフルオロプロピレン基である請求項４記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項６】
Ｒ1〜Ｒ8が、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖を有する、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はシアノアルキル基である請求項１〜５いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項７】
Ｒ1〜Ｒ8が、下記一般式（２）で示されるフェニルアルキル基である請求項１〜５いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
一般式（２）
【化２】
（式中、Ｃは、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキレン基を表し、環Ｄは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。）
【請求項８】
Ｒ1〜Ｒ8が、ベンジル基又はフェネチル基である請求項７記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項９】
共重合体（Ａ）が、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）及び／又はピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）を構成成分とすることを特徴とする請求項１〜８いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項１０】
フタロシアニン系化合物（Ｃ）及び／又はジチオール金属錯体化合物（Ｄ）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜９いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項１１】
シアニン系化合物（Ｇ）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜１０いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項１２】
紫外線吸収剤及（Ｅ）及び／又はヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜１１いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項１３】
請求項１〜１２いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤から形成される近赤外線吸収層が、基材に積層されてなる近赤外線吸収積層体。
【請求項１４】
さらに、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層からなる少なくとも１つの層が、基材側及び／又は近赤外線吸収層上に積層されてなる請求項１３記載の近赤外線吸収積層体。
【請求項１】
シクロアルキル基含有単量体（ａ１）を必須の構成成分とする共重合体（Ａ）と、下記一般式（１）で示されるジイモニウム系化合物（Ｂ）とを含有することを特徴とする近赤外線吸収性コーティング剤。
一般式（１）
【化１】
（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシ基、置換もしくは未置換の、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、シアノアルキル基、アリール基、又はフェニルアルキル基であり、環Ａ及びＢは置換基を有していても良い。また、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ同じであっても異なっていても良く、それぞれフルオロアルキル基を示すか、それらが一緒になって形成するフルオロアルキレン基を表す。）
【請求項２】
Ｒ9及びＲ10が、同じであっても異なっていてもよい、炭素数１〜８のパーフルオロアルキル基である請求項１記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項３】
Ｒ9及びＲ10が、共にトリフルオロメチル基、又は共にペンタフルオロエチル基である請求項２記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項４】
Ｒ9及びＲ10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、炭素数２〜１２のパーフルオロアルキレン基である請求項１記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項５】
Ｒ9及びＲ10が、一緒になって形成するフルオロアルキレン基であって、ヘキサフルオロプロピレン基である請求項４記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項６】
Ｒ1〜Ｒ8が、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖を有する、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はシアノアルキル基である請求項１〜５いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項７】
Ｒ1〜Ｒ8が、下記一般式（２）で示されるフェニルアルキル基である請求項１〜５いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
一般式（２）
【化２】
（式中、Ｃは、炭素数１〜１８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキレン基を表し、環Ｄは置換基を有していてもよいベンゼン環を表す。）
【請求項８】
Ｒ1〜Ｒ8が、ベンジル基又はフェネチル基である請求項７記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項９】
共重合体（Ａ）が、ベンゾトリアゾール基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ２）及び／又はピペリジニル基と重合性不飽和基とを有する単量体（ａ３）を構成成分とすることを特徴とする請求項１〜８いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項１０】
フタロシアニン系化合物（Ｃ）及び／又はジチオール金属錯体化合物（Ｄ）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜９いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項１１】
シアニン系化合物（Ｇ）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜１０いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項１２】
紫外線吸収剤及（Ｅ）及び／又はヒンダードアミン系光安定剤（Ｆ）をさらに含有することを特徴とする請求項１〜１１いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤。
【請求項１３】
請求項１〜１２いずれか記載の近赤外線吸収性コーティング剤から形成される近赤外線吸収層が、基材に積層されてなる近赤外線吸収積層体。
【請求項１４】
さらに、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層からなる少なくとも１つの層が、基材側及び／又は近赤外線吸収層上に積層されてなる請求項１３記載の近赤外線吸収積層体。
【公開番号】特開２００６−１８８６５３（Ｐ２００６−１８８６５３Ａ）
【公開日】平成１８年７月２０日（２００６．７．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２９７２５７（Ｐ２００５−２９７２５７）
【出願日】平成１７年１０月１２日（２００５．１０．１２）
【出願人】（０００２２２１１８）東洋インキ製造株式会社 (2,229)
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年７月２０日（２００６．７．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１０月１２日（２００５．１０．１２）
【出願人】（０００２２２１１８）東洋インキ製造株式会社 (2,229)
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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