透光性セラミックおよびその製造方法、ならびに光学部品および光学装置
一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分とする、透光性セラミック。この透光性セラミックは、直線透過率が広い波長帯域にわたり高く、
屈折率が高く、屈折率およびアッベ数の調整範囲が広く、複屈折がないため、これを用いて構成されたレンズ（２）は、小型化および薄型化が要求される、たとえば光ピックアップ（９）等に有利に適用できる。
屈折率が高く、屈折率およびアッベ数の調整範囲が広く、複屈折がないため、これを用いて構成されたレンズ（２）は、小型化および薄型化が要求される、たとえば光ピックアップ（９）等に有利に適用できる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ等の光学部品の材料として有用な透光性セラミックおよびその製造方法、ならびにそれを用いた光学部品および光学装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光ピックアップ等の光学装置に搭載するレンズ等の光学部品の材料としては、たとえば特許文献１および特許文献２に記載されているように、ガラスもしくはプラスチックまたはニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ３）等の単結晶が用いられている。
【０００３】
ガラスおよびプラスチックは、光透過率が高く、所望の形状への加工が容易であることから、主としてレンズ等の光学部品に用いられている。他方、ＬｉＮｂＯ３等の単結晶は、電気光学特性および複屈折を利用して、主として光導波路等の光学部品に用いられている。このような光学部品を用いた光ピックアップなどの光学装置ではさらなる小型化や薄型化が要求されている。
【０００４】
ところが、従来のガラスおよびプラスチックでは、その屈折率が１．９未満であることから、それらを用いた光学部品や光学装置において小型化や薄型化に限界がある。また、特にプラスチックでは、耐湿性が悪いという欠点を有するとともに、複屈折が生じることがあるため、入射光を効率良く透過および集光させることが難しいという欠点も有している。
【０００５】
他方、ＬｉＮｂＯ３等の単結晶は、たとえば屈折率が２．３と比較的高い。しかしながら、ＬｉＮｂＯ３等の単結晶は、複屈折が生じるため、レンズ等の光学部品に用いることが難しく、用途が限定されてしまうという欠点を有している。
【０００６】
複屈折を生じず、かつ優れた光学特性を与え得る材料として、Ｂａ（Ｍｇ，Ｔａ）Ｏ３系ペロブスカイトまたはＢａ（Ｚｎ，Ｔａ）Ｏ３系ペロブスカイトを主成分とする透光性セラミックが挙げられる。これらは、それぞれ、たとえば特許文献３および特許文献４に記載されている。
【０００７】
特許文献３に開示されているＢａ（Ｍｇ，Ｔａ）Ｏ３系ペロブスカイトを主成分とする透光性セラミックにおいて、屈折率やアッベ数等の光学特性は、４価元素であるＳｎおよび／またはＺｒでＭｇおよび／またはＴａの一部を置換することにより変化させることができ、その変化量は置換量が増加するほど大きくなる。しかし、これらの透光性セラミックでは、置換量の上限が０．４０と低いため、屈折率やアッベ数を大きく変化させることが難しい。たとえば、屈折率にして、２．０７１〜２．０８２の範囲の変化しか得られていない。
【０００８】
同様に、特許文献４に開示されているＢａ（Ｚｎ，Ｔａ）Ｏ３系ペロブスカイトを主成分とする透光性セラミックにおいても、ＺｒでＺｎおよび／またはＴａの一部を置換しているが、これも置換量の上限は０．０６と低く、屈折率やアッベ数を大きく変化させることが難しい。たとえば、屈折率にして、２．１２８〜２．１３２の範囲の変化しか得られていない。
【０００９】
したがって、これらの透光性セラミックを用いて光学部品を構成した場合、光学装置の設計において、十分な自由度を得ることが困難である。
【００１０】
また、レンズなどの光学部品では、一般的に、可視光の直線透過率の波長依存性が小さいことが望ましいが、上述の２種の透光性セラミックでは、波長が短くなるに従い直線透過率が低下する傾向にあり、好ましくない。
【特許文献１】特開平５−１２７０７８号公報（全頁、図１）
【特許文献２】特開平７−２４４８６５号公報（請求項６、段落「００２４」）
【特許文献３】特開２００４−７５５１２号公報（全頁、全図）
【特許文献４】特開２００４−７５５１６号公報（全頁、全図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上述した実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高い屈折率を有し、かつ屈折率やアッベ数を広い範囲で調整し得る、透光性セラミックおよびその製造方法を提供しようとすることにある。
【００１２】
本発明の他の目的は、可視光の直線透過率の波長依存性の小さい、透光性セラミックおよびその製造方法を提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、小さな外形寸法で所望の光学特性を発揮し得る、光学部品およびこの光学部品を用いた光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係る透光性セラミックは、第１の局面では、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００１５】
本発明に係る透光性セラミックは、第２の局面では、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１≦ｘ１＋ｘ２≦０．６０、０＜ｘ１≦０．６０、０≦ｘ２≦０．３０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００１６】
本発明に係る透光性セラミックは、第３の局面では、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０４≦ｘ１＋ｘ２≦０．８０、０＜ｘ１≦０．８０、０≦ｘ２≦０．４０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００１７】
本発明に係る透光性セラミックは、好ましくは、波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０．４ｍｍにおける直線透過率が２０％以上である。
【００１８】
また、本発明に係る透光性セラミックは、波長が６３３ｎｍである可視光の屈折率が２．０１以上であることが好ましい。
【００１９】
また、本発明に係る透光性セラミックは、多結晶体であることが好ましい。
【００２０】
本発明は、また、上述したような透光性セラミックを製造する方法にも向けられる。本発明に係る透光性セラミックの製造方法は、セラミック原料粉末を所定形状に成形してなる未焼成のセラミック成形体を用意する工程と、上記セラミック原料粉末と実質的に同組成の同時焼成用組成物を用意する工程と、同時焼成用組成物を未焼成のセラミック成形体に接触させながら、酸素濃度が９０体積％以上の雰囲気中で、未焼成のセラミック成形体を焼成する工程とを備えることを特徴としている。
【００２１】
本発明に係る透光性セラミックの製造方法において、好ましくは、同時焼成用組成物は粉末状態であり、焼成工程は、同時焼成用組成物の粉末に未焼成のセラミック成形体を埋め込んだ状態で実施される。
【００２２】
本発明は、上述したような製造方法によって得られた透光性セラミックにも向けられる。
【００２３】
本発明は、さらに、前述した透光性セラミックからなる光学部品、およびこの光学部品が搭載されている光学装置にも向けられる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、複屈折がなく、１．９以上の、好ましくは２．０１以上の高い屈折率を有する透光性セラミックを得ることができる。このため、比較的小さな外形寸法で所望の光学特性を発揮可能な光学部品を得ることができる。
【００２５】
また、本発明に係る透光性セラミックは、屈折率やアッベ数を広い範囲で調節することができる。したがって、本発明の透光性セラミックを用いて構成した光学部品を搭載した光学装置の設計の自由度を高めることができる。
【００２６】
さらに、本発明に係る透光性セラミックによれば、直線透過率の波長依存性を小さくすることができる。したがって、より透明度の高い光学部品を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
［図１］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第１の例としての両凸レンズ１０を示す断面図である。
［図２］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第２の例としての両凹レンズ１１を示す断面図である。
［図３］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第３の例としてのメニスカスレンズ１２を示す断面図である。
［図４］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第４の例としての光路長調整板１３を示す断面図である。
［図５］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第５の例としての球状レンズ１４を示す断面図である。
［図６］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成された光学部品を搭載した光学装置の一例としての光ピックアップ９を図解的に示す正面図である。
【符号の説明】
【００２８】
１ 記録媒体
２ 対物レンズ
３ ハーフミラー
４ コリメータレンズ
５ 半導体レーザ
６ 集光レンズ
７ 受光素子
８ レーザー光
９ 光ピックアップ
１０ 両凸レンズ
１１ 両凹レンズ
１２ メニスカスレンズ
１３ 光路長調整板
１４ 球状レンズ
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明に係る透光性セラミックの基本組成系は、Ｂａ｛（Ｍｇ，Ｚｎ）（Ｔａ，Ｎｂ）｝Ｏ３で表される。これは、本来、六方晶系の結晶構造を有する複合ペロブスカイトである。ＢａはペロブスカイトのＡサイトを占め、ＭｇおよびＺｎといった２価の元素ならびにＴａおよびＮｂといった５価の元素はペロブスカイトのＢサイトを占める。
【００３０】
前述した第１の局面での一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ、第２の局面での一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ、および第３の局面での一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗにおいて、ＴａまたはＮｂの、ＭｇまたはＺｎに対する比ｚ／ｙは、１．６０〜２．４０の範囲であることにより、ペロブスカイト構造が保たれている。ｚ／ｙが上記範囲を外れた場合、直線透過率が２０％未満となり、好ましくない。ペロブスカイトのＢサイトのＡサイトに対する比ｖが１．００〜１．０５の範囲に設定されるのも同じ理由である。なお、Ｏの含有比ｗは３に近い値となる。また、この複合ペロブスカイトは、そのＢサイトがＴｉならびにＳｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種といった４価の元素で置換されることにより、その結晶構造が立方晶系に変化し、透光性が発現する。
【００３１】
本発明の透光性セラミックの屈折率は、ＴｉならびにＳｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種といった４価の元素の置換により変化させることが可能である。Ｓｎはこれらの屈折率を小さくする効果があり、Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆは逆に屈折率を大きくする効果がある。特にＴｉの効果は大きい。また、この屈折率の変化量の絶対値は４価元素の置換量にほぼ比例することがわかっており、大きく変化させるためにはその置換量を増やせばよい。さらに、Ｔｉと、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種とを適当な比率で混合して置換することによって、透光性セラミックの屈折率を自在に調節することが可能である。また、屈折率の波長依存性を表すアッベ数も、４価の置換元素であるＴｉならびにＳｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種の置換量を増やすことで大きく変化させることができる。Ｓｎはアッベ数を大きくする効果があり、Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆは逆にアッベ数を小さくする効果がある。
【００３２】
次に、本発明に係る透光性セラミックの具体的な組成について、前述の第１、第２および第３の局面に分けて説明する。これら第１、第２および第３の局面の間では、４価の置換元素の置換量の範囲が互いに異なっている。
【００３３】
第１の局面では、透光性セラミックは、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００３４】
簡単に言えば、第１の局面では、２価の元素としてＭｇとＺｎが同時に存在することが特徴であり、これが４価元素の置換量ｘ１＋ｘ２の上限を高くするのに作用しているが、４価元素にＴｉが含まれることにより、ｘ１＋ｘ２の上限がさらに高くなる。第１の局面による透光性セラミックの場合では、ｘ１＋ｘ２の上限が０．９０と従来のＢａ（Ｍｇ，Ｔａ）Ｏ３系より高く、屈折率の変化幅は２．０７９〜２．３６２と大きく、かつアッベ数の変化幅は１３．２〜２９．９と大きい。ｘ１＋ｘ２が０．０１５未満では、結晶を立方晶系に変化させることができず、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。また、ｘ１＋ｘ２が０．９０を超えても、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。
【００３５】
第２の局面では、透光性セラミックは、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１≦ｘ１＋ｘ２≦０．６０、０＜ｘ１≦０．６０、０≦ｘ２≦０．３０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００３６】
上記のようなＢａ｛Ｚｎ（Ｔａ，Ｎｂ）｝Ｏ３系では、４価元素にＴｉ、ＳｎまたはＨｆが含まれることにより、４価元素の置換量ｘ１＋ｘ２の上限が高くなるが、特にＴｉがｘ１＋ｘ２の上限を高くする作用を有している。第２の局面による透光性セラミックの場合では、ｘ１＋ｘ２の上限が０．６０と従来のＢａ（Ｚｎ，Ｔａ）Ｏ３系より高く、屈折率の変化幅は２．１１６〜２．２９４と大きく、かつアッベ数の変化幅は１５．３〜２９．３と大きい。ｘ１＋ｘ２が０．０１未満では、結晶を立方晶系に変化させることができず、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。また、ｘ１＋ｘ２が０．６０を超えても、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。
【００３７】
第３の局面では、透光性セラミックは、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０４≦ｘ１＋ｘ２≦０．８０、０＜ｘ１≦０．８０、０≦ｘ２≦０．４０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００３８】
第３の局面は、Ｂａ｛Ｍｇ（Ｔａ，Ｎｂ）｝Ｏ３系であって、４価元素にＴｉが含まれることにより、ｘ１＋ｘ２の上限が高くなる。ｘ１＋ｘ２の上限は０．８０であり、屈折率の変化幅は２．０８０〜２．３０７であり、かつアッベ数の変化幅は１８．２〜２９．８である。ｘ１＋ｘ２が０．０４未満では、結晶を立方晶系に変化させることができず、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。また、ｘ１＋ｘ２が０．８０を超えても、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。
【００３９】
以上のように、特に第１および第２の局面による透光性セラミックは、従来の透光性セラミックと比較して、屈折率およびアッベ数を広範囲で変化させることが可能であり、光学装置の設計の自由度が格段に高まる。
【００４０】
Ｔｉの存在が４価元素の置換量の上限を高めることが可能になった理由は、定かではないが、以下のように考えることができる。すなわち、Ｚｒ、ＳｎおよびＨｆのイオン半径に対して、Ｔｉのイオン半径が小さいため、４価元素の置換量の上限を高めることとなったと推測される（イオン半径：Ｚｒ４＋＝０．０７２ｎｍ；Ｓｎ４＋＝０．０６９ｎｍ；Ｔｉ４＋＝０．０６１ｎｍ；Ｈｆ４＋＝０．０７１ｎｍ）。
【００４１】
本発明に係る透光性セラミックには、本発明の目的を損なわない範囲において、製造上不可避的に混入し得る不純物が含まれていてもよい。たとえば原料として用いる酸化物もしくは炭酸塩に含まれる不純物や作製工程中で混入する不純物として、ＳｉＯ２，Ｆｅ２Ｏ３，Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｒＯ、ＷＯ３、Ｂｉ２Ｏ３およびＳｂ２Ｏ５、ならびにＬａ２Ｏ３等の希土類酸化物などが挙げられる。
【００４２】
次に、本発明に係る透光性セラミックを製造する方法について説明する。
【００４３】
透光性セラミックを製造するするため、セラミック原料粉末を所定形状に成形してなる未焼成のセラミック成形体が用意されるとともに、このセラミック原料粉末と実質的に同組成の同時焼成用組成物が用意される。次いで、同時焼成用組成物を未焼成のセラミック成形体に接触させながら、酸素濃度が９０体積％以上の雰囲気中で、未焼成のセラミック成形体を焼成する工程が実施される。
【００４４】
上記の製造方法において、同時焼成用組成物とは、たとえば、上記セラミック成形体と同じ組成となるように調整した原料を仮焼し、粉砕して得られた粉末である。この同時焼成用組成物により、上記セラミック成形体中の揮発成分が焼成時に揮発することを抑制することができる。したがって、焼成工程では、同時焼成用組成物の粉末に未焼成のセラミック成形体を埋め込んだ状態で実施されることが好ましい。なお、同時焼成用組成物は、粉末に限らず、成形体または焼結体であってもよい。
【００４５】
同時焼成用組成物は、上記セラミック成形体のためのセラミック原料粉末と同じ組成を有することが好ましいが、実質的に同組成であればよい。同時焼成用組成物が未焼成のセラミック成形体のためのセラミック原料粉末と実質的に同組成であるとは、同一の構成元素を含んだ同等の組成系であることを意味し、全く同一の組成比率でなくてもよい。また、同時焼成用組成物は、必ずしも透光性を与え得る組成を有していなくてもよい。
【００４６】
なお、焼成工程における圧力は、大気圧もしくはそれ以下で構わない。すなわち、ＨＩＰ（Ｈｏｔ Ｉｓｏｓｔａｔｉｃ Ｐｒｅｓｓ）等の加圧雰囲気である必要はない。
【００４７】
また、本発明に係る透光性セラミックは高い直線透過率を示すが、表面に反射防止膜（ＡＲ膜＝Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ膜）を形成すれば、さらに直線透過率を高めることができる。たとえば直線透過率が７４．８％であり、かつ屈折率が２．１１４の場合、Ｆｒｅｓｎｅｌの法則より、直線透過率の理論最大値は７６．０％となる。このとき、理論値に対する相対透過率は９８．４％となる。これは、試料内部での透過損失がほとんどないことを示している。したがって、試料表面に反射防止膜を形成すれば、得られる直線透過率をほぼ理論値とすることができる。
【００４８】
また、本発明に係る透光性セラミックは、レンズ等の光学部品に用いることができ、たとえば、図１ないし図５にそれぞれ示すような両凸レンズ１０、両凹レンズ１１、メニスカスレンズ１２、光路長調整板１３、および球状レンズ１４に利用することができる。
【００４９】
また、このような光学部品を搭載した光学装置について、光ピックアップを例にとり、説明する。
【００５０】
図６に示すように、光ピックアップ９は、コンパクトディスクやミニディスク等の記録媒体１に対して、コヒーレントな光であるレーザー光８を照射し、その反射光から記録媒体１に記録された情報を再生するものである。
【００５１】
このような光ピックアップ９においては、光源としての半導体レーザー５からのレーザー光８を平行光に変換するコリメータレンズ４が設けられ、その平行光の光路上にハーフミラー３が設けられている。このハーフミラー３は、コリメータレンズ４からの入射光を通して直進させるが、記録媒体１からの反射光については、その進行方向を反射によりたとえば約９０度変更するものである。
【００５２】
また、光ピックアップ９には、ハーフミラー３からの入射光を記録媒体１の記録面上に集光するための対物レンズ２が設けられている。この対物レンズ２は、また、記録媒体１からの反射光を効率良くハーフミラー３に向かって送るためのものでもある。反射光が入射されたハーフミラー３では、反射により位相が変化することで、上記反射光の進行方向が変更される。
【００５３】
さらに、光ピックアップ９には、変更された反射光を集光するための集光レンズ６が設けられている。そして、反射光の集光位置に、反射光からの情報を再生するための受光素子７が設けられている。
【００５４】
このように構成される光ピックアップ９において、本発明に係る透光性セラミックを対物レンズ２の素材として用いた場合、本発明に係る透光性セラミックは屈折率が大きいため、光ピックアップ９の小型化や薄型化が可能である。
【００５５】
次に、本発明に係る透光性セラミックを実験例に基づいて説明する。
【００５６】
［実験例１］
実験例１は、本発明の前述した第１の局面に対応している。
【００５７】
原料として、各々高純度のＢａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、ＺｎＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２，ＺｒＯ２およびＨｆＯ２の各粉末を準備した。そして、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種。ｗは電気的中性を保つための正の数。）で表される、表１および表２に示す各試料が得られるように、各原料粉末を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。この混合物を乾燥させたのち、１３００℃で３時間仮焼し、仮焼粉体を得た。仮焼後、ｗの値はほぼ３になっていた。
【００５８】
【００５９】
【００６０】
なお、表１および表２中の「Ｍの元素種と含有量」の欄での表示について、Ｍの元素種が１種類の場合は、その含有量がｘ２の値と同じであり、元素種が２種類以上である場合は、それぞれの含有量の和がｘ２の値となっている。
【００６１】
次に、上記仮焼粉体を水および有機バインダとともにボールミルに入れ、１６時間湿式粉砕した。有機バインダとしては、エチルセルロースを用いた。
【００６２】
次に、上記粉砕物を乾燥させた後、５０メッシュの網（篩）を通して造粒し、得られた粉末を１９６ＭＰａの圧力で押圧してプレス成形することにより、直径３０ｍｍおよび厚さ２ｍｍの円板状の未焼成のセラミック成形体を得た。
【００６３】
次に、上記未焼成のセラミック成形体を、そこに含まれるセラミック原料粉末と同組成の粉末中に埋め込んだ。この埋め込まれた成形体を焼成炉に入れ、大気雰囲気中で加熱し、脱バインダ処理を行なった。引き続き、昇温しながら大気雰囲気中に酸素を注入し、最高温度域の１６２５℃において、焼成雰囲気中の酸素濃度を約９８体積％まで上昇させた。この焼成温度および酸素濃度を維持し、成形物を２０時間焼成して焼結体を得た。
【００６４】
このようして得られた焼結体を鏡面加工し、厚さ０．４ｍｍの円板状に仕上げて透光性セラミックの試料とした。
【００６５】
上記の試料のそれぞれについて、波長λが６３３ｎｍにおける直線透過率および屈折率を測定した。透光性の指標である直線透過率の測定には、島津製作所製分光光度計（ＵＶ−２００Ｓ）を用いた。また、屈折率の測定には、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製プリズムカプラー（ＭＯＤＥＬ２０１０）を用いた。
【００６６】
さらに、プリズムカプラーにて、波長λが４０５ｎｍ、５３２ｎｍおよび８３０ｎｍでの屈折率も測定した。そして、これら４波長（４０５ｎｍ、５３２ｎｍ、６３３ｎｍおよび８３０ｎｍ）での屈折率の値を用いて、波長と屈折率との関係式：式１より、定数ａ、ｂおよびｃを算出し、波長と屈折率との関係を求めた。
【００６７】
（式１において、ｎは屈折率、λは波長、ａ、ｂおよびｃは定数。）
式１から、アッベ数（νｄ）算出に必要な３波長（Ｆ線：４８６．１３ｎｍ、ｄ線：５８７．５６ｎｍ、Ｃ線：６５６．２７ｎｍ）での屈折率を求め、アッベ数の定義式：式２からアッベ数を算出した。
【００６８】
（式２において、ｎｄ、ｎＦおよびｎＣは、それぞれ、ｄ線、Ｆ線およびＣ線における屈折率。）
以上のように求めた直線透過率、屈折率およびアッベ数を、表３および表４に示す。
【００６９】
【００７０】
【００７１】
表１〜表４において、試料番号に＊を付したものは、本発明の範囲外の試料である。
【００７２】
本発明の範囲内の試料２〜７、９〜４５、４７〜５８、６０〜６２および６５〜６７によれば、表１および表２に示すように、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足しているので、表３および表４に示すように、直線透過率が２０％以上であり、屈折率が２．０１以上と大きく、しかも屈折率の変化幅が２．０７９〜２．３６２と大きく、かつアッベ数の変化幅が１３．２〜２９．９と大きい。
【００７３】
また、試料２〜７の間、試料３０〜３３の間、試料３４〜３７の間、試料３８〜４１の間、試料４２〜４５の間、および試料４７〜５１の間でそれぞれ比較すればわかるように、Ｔｉの含有量の増加に伴って、屈折率がより大きくなり、また、アッベ数がより小さくなっている。
【００７４】
また、試料９〜２９および５４〜５８の間で比較すれば、Ｔｉと、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種とを適当な比率で混合して含有させることによって、屈折率およびアッベ数を自在に調節できることがわかる。
【００７５】
他方、本発明の範囲外の試料１および４６では、ｘ１＋ｘ２が０．０１５未満であるので、直線透過率が２０％未満となっている。これは、結晶を立方晶系に変化させることができなかったからである。
【００７６】
また、本発明の範囲外の試料８では、ｘ１が０．９０を超え、かつｘ１＋ｘ２が０．９０を超えるので、直線透過率が２０％未満となっている。
【００７７】
また、本発明の範囲外の試料５９および６３では、ｚ／ｙが１．６０〜２．４０の範囲を外れ、本発明の範囲外の試料６４および６８では、ｖが１．００〜１．０５の範囲を外れている。これらの試料では、前述した焼成工程において焼結しなかったり、あるいは、たとえ焼結しても、直線透過率が２０％未満となったりしている。
【００７８】
［実験例２］
実験例２は、本発明の前述した第２の局面に対応している。
【００７９】
原料として、各々高純度のＢａＣＯ３、ＺｎＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびＨｆＯ２の各粉末を準備した。そして、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種。ｗは電気的中性を保つための正の数。）で表される、表５に示す各試料が得られるように、各原料粉末を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。この混合物を乾燥させたのち、１３００℃で３時間仮焼し、仮焼粉体を得た。仮焼後、ｗの値はほぼ３になっていた。
【００８０】
【００８１】
なお、表５中の「Ｍの元素種と含有量」の欄での表示については、表１および表２の場合と同様である。
【００８２】
その後、上記仮焼粉体に対して、実験例１の場合と同様の操作を実施し、直径３０ｍｍおよび厚さ２ｍｍの円板状の未焼成のセラミック成形体を得た。
【００８３】
次に、上記未焼成のセラミック成形体を、そこに含まれるセラミック原料粉末と同組成の粉末中に埋め込んだ。この埋め込まれた成形体を焼成炉に入れ、大気雰囲気中で加熱し、脱バインダ処理を行なった。引き続き、昇温しながら大気雰囲気中に酸素を注入し、最高温度域の１６００℃において、焼成雰囲気中の酸素濃度を約９８体積％まで上昇させた。この焼成温度および酸素濃度を維持し、成形物を２０時間焼成して焼結体を得た。
【００８４】
このようして得られた焼結体を鏡面加工し、厚さ０．４ｍｍの円板状に仕上げて透光性セラミックの試料とした。
【００８５】
上記の試料のそれぞれについて、実験例１の場合と同じ評価方法にて、直線透過率、屈折率およびアッベ数を評価した。その結果を表６に示す。
【００８６】
【００８７】
表５および表６において、試料番号に＊を付したものは、本発明の範囲外の試料である。
【００８８】
本発明の範囲内の試料１０２〜１１１および１１３〜１３１によれば、表５に示すように、０．０１≦ｘ１＋ｘ２≦０．６０、０＜ｘ１≦０．６０、０≦ｘ２≦０．３０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足しているので、表６に示すように、直線透過率が２０％以上であり、屈折率が２．０１以上と大きく、しかも屈折率の変化幅が２．１１６〜２．２９４と大きく、かつアッベ数の変化幅が１５．３〜２９．３と大きい。
【００８９】
また、試料１０２〜１１１の間で比較すればわかるように、Ｔｉの含有量の増加に伴って、屈折率がより大きくなり、また、アッベ数がより小さくなっている。
【００９０】
また、試料１１３〜１２９の間で比較すれば、Ｔｉと、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種とを適当な比率で混合して含有させることによって、屈折率およびアッベ数を自在に調節できることがわかる。
【００９１】
他方、本発明の範囲外の試料１０１では、ｘ１＋ｘ２が０．０１未満であるので、直線透過率が２０％未満となっている。これは、結晶を立方晶系に変化させることができなかったからである。
【００９２】
また、本発明の範囲外の試料１１２では、ｘ１が０．６０を超え、かつｘ１＋ｘ２が０．６０を超えるので、直線透過率が２０％未満となっている。
【００９３】
［実験例３］
実験例３は、本発明の前述した第３の局面に対応している。
【００９４】
原料として、各々高純度のＢａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびＨｆＯ２の各粉末を準備した。そして、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種。ｗは電気的中性を保つための正の数。）で表される、表７に示す各試料が得られるように、各原料粉末を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。この混合物を乾燥させたのち、１３００℃で３時間仮焼し、仮焼粉体を得た。仮焼後、ｗの値はほぼ３になっていた。
【００９５】
【００９６】
なお、表７中の「Ｍの元素種と含有量」の欄での表示については、表１および表２の場合と同様である。
【００９７】
その後、上記仮焼粉体に対して、実験例１の場合と同様の操作を実施し、直径３０ｍｍおよび厚さ２ｍｍの円板状の未焼成のセラミック成形体を得た。
【００９８】
次に、上記未焼成のセラミック成形体を、そこに含まれるセラミック原料粉末と同組成の粉末中に埋め込んだ。この埋め込まれた成形体を焼成炉に入れ、大気雰囲気中で加熱し、脱バインダ処理を行なった。引き続き、昇温しながら大気雰囲気中に酸素を注入し、最高温度域の１６２５℃において、焼成雰囲気中の酸素濃度を約９８体積％まで上昇させた。この焼成温度および酸素濃度を維持し、成形物を２０時間焼成して焼結体を得た。
【００９９】
このようして得られた焼結体を鏡面加工し、厚さ０．４ｍｍの円板状に仕上げて透光性セラミックの試料とした。
【０１００】
上記の試料のそれぞれについて、実験例１の場合と同じ評価方法にて、直線透過率、屈折率およびアッベ数を評価した。その結果を表８に示す。
【０１０１】
【０１０２】
表７および表８において、試料番号に＊を付したものは、本発明の範囲外の試料である。
【０１０３】
本発明の範囲内の試料２０２〜２１１、２１３〜２２１、２２３〜２２７、２３０〜２３３、２３５および２３６によれば、表７に示すように、０．０４≦ｘ１＋ｘ２≦０．８０、０＜ｘ１≦０．８０、０≦ｘ２≦０．４０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足しているので、表８に示すように、直線透過率が２０％以上であり、屈折率が２．０１以上と大きく、屈折率の変化幅が２．０８０〜２．３０７であり、かつアッベ数の変化幅が１８．２〜２９．８である。
【０１０４】
また、試料２０２〜２１１の間で比較すればわかるように、Ｔｉの含有量の増加に伴って、屈折率がより大きくなり、また、アッベ数がより小さくなっている。
【０１０５】
また、試料２１３〜２２１の間で比較すれば、Ｔｉと、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種とを適当な比率で混合して含有させることによって、屈折率およびアッベ数を自在に調節できることがわかる。
【０１０６】
他方、本発明の範囲外の試料２０１では、ｘ１＋ｘ２が０．０４未満であるので、直線透過率が２０％未満となっている。これは、結晶を立方晶系に変化させることができなかったからである。
【０１０７】
また、本発明の範囲外の試料２１２では、ｘ１が０．８０を超え、かつｘ１＋ｘ２が０．８０を超えるので、直線透過率が２０％未満となっている。
【０１０８】
また、本発明の範囲外の試料２２２および２２８では、ｚ／ｙが１．６０〜２．４０の範囲を外れ、本発明の範囲外の試料２２９および２３４では、ｖが１．００〜１．０５の範囲を外れている。これらの試料では、前述した焼成工程において焼結しなかったり、あるいは、たとえ焼結しても、直線透過率が２０％未満となったりしている。
【０１０９】
［実験例４］
表１に示した試料３、表５に示した試料１１５、および表７に示した試料２０５に係る各透光性セラミックについて、波長６３３ｎｍにおけるＴＥモードおよびＴＭモードでの屈折率を測定した。その結果を表９に示す。
【０１１０】
【０１１１】
表９に示すように、いずれの試料についても、ＴＥモードおよびＴＭモードでの各屈折率が互いに同じ値であることから、複屈折が生じていないことがわかる。
【０１１２】
［実験例５］
表１に示した試料３、表５に示した試料１１５、および表７に示した試料２０５の各組成について、鋳込み成形を適用することによって、２インチ角の未焼成のセラミック成形体を作製し、それぞれ、１６２５℃、１６００℃および１６２５℃の各温度で焼成して焼結体を得た。これら鋳込み成形を経て作製された試料３、１１５および２０５は、成形方法をプレス成形から鋳込み成形に変更した以外は、実験例１、２および３において得た試料３、１１５および２０５の場合と同じ方法で作製したものである。
【０１１３】
上記の鋳込み成形を経て作製された試料３、１１５および２０５のそれぞれについて、実験例１の場合と同じ評価方法にて、直線透過率、屈折率およびアッベ数を評価した。その結果を表１０に示す。表１０には、プレス成形を経て作製された、実験例１、２および３においてそれぞれ得た試料３、１１５および２０５についての直線透過率、屈折率およびアッベ数も併せて示されている。
【０１１４】
【０１１５】
表１０からわかるように、直線透過率、屈折率およびアッベ数の各々について、プレス成形の場合と鋳込み成形の場合とは、互いに同等または実質的に同等の値を示している。このことから、本発明に係る透光性セラミックの光学特性は、成形法に関わらず、優れた特性を示すことがわかる。
【０１１６】
［実験例６］
表１に示した試料３、表５に示した試料１１５、および表７に示した試料２０５の各組成について、焼成温度を、それぞれ、１６５０℃、１６５０℃および１５５０℃に変えて焼結体を作製した。これらの試料３、１１５および２０５は、焼成温度を変えた以外は、実験例１、２および３において得た試料３、１１５および２０５の場合と同じ方法で作製したものである。
【０１１７】
上記の焼成温度を変えた試料３、１１５および２０５のそれぞれについて、実験例１の場合と同じ評価方法にて、直線透過率、屈折率およびアッベ数を測定した。測定結果を表１１に示す。表１１には、１６２５℃、１６００℃および１６２５℃の各焼成温度を適用して焼成した、前述の実験例１、２および３においてそれぞれ得た試料３、１１５および２０５についての直線透過率、屈折率およびアッベ数も併せて示されている。
【０１１８】
【０１１９】
表１１からわかるように、直線透過率、屈折率およびアッベ数の各々について、焼成温度を変えても、互いに同等または実質的に同等の値を示している。このことから、本発明に係る透光性セラミックは、焼成温度を変えて作製されてもよいことがわかる。
【０１２０】
以上、本発明を、実験例に関連して具体的に説明したが、本発明の実施の態様は、上記実験例のような態様に限定されるものではない。たとえば、原料の形態は酸化物もしくは炭酸塩に限定されるものではなく、焼結体とした段階で所望の特性が得られる原料であれば、どのような形態でもよい。また、焼成雰囲気について、上記実験例の約９８体積％という酸素濃度の値は、使用した実験設備の条件下において最も好ましいものであった。したがって、酸素濃度は約９８体積％に限定されるものではなく、９０体積％以上の酸素濃度が確保できれば、所望の特性を備えた焼結体が得られることがわかっている。
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
本発明に係る透光性セラミックは、直線透過率が広い波長帯域にわたり高く、屈折率が高く、屈折率およびアッベ数の調整範囲が広く、複屈折がないため、これを用いて構成されたレンズは、小型化および薄型化が要求される、光ピックアップまたはデジタルカメラ等に有利に適用できる。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ等の光学部品の材料として有用な透光性セラミックおよびその製造方法、ならびにそれを用いた光学部品および光学装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光ピックアップ等の光学装置に搭載するレンズ等の光学部品の材料としては、たとえば特許文献１および特許文献２に記載されているように、ガラスもしくはプラスチックまたはニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ３）等の単結晶が用いられている。
【０００３】
ガラスおよびプラスチックは、光透過率が高く、所望の形状への加工が容易であることから、主としてレンズ等の光学部品に用いられている。他方、ＬｉＮｂＯ３等の単結晶は、電気光学特性および複屈折を利用して、主として光導波路等の光学部品に用いられている。このような光学部品を用いた光ピックアップなどの光学装置ではさらなる小型化や薄型化が要求されている。
【０００４】
ところが、従来のガラスおよびプラスチックでは、その屈折率が１．９未満であることから、それらを用いた光学部品や光学装置において小型化や薄型化に限界がある。また、特にプラスチックでは、耐湿性が悪いという欠点を有するとともに、複屈折が生じることがあるため、入射光を効率良く透過および集光させることが難しいという欠点も有している。
【０００５】
他方、ＬｉＮｂＯ３等の単結晶は、たとえば屈折率が２．３と比較的高い。しかしながら、ＬｉＮｂＯ３等の単結晶は、複屈折が生じるため、レンズ等の光学部品に用いることが難しく、用途が限定されてしまうという欠点を有している。
【０００６】
複屈折を生じず、かつ優れた光学特性を与え得る材料として、Ｂａ（Ｍｇ，Ｔａ）Ｏ３系ペロブスカイトまたはＢａ（Ｚｎ，Ｔａ）Ｏ３系ペロブスカイトを主成分とする透光性セラミックが挙げられる。これらは、それぞれ、たとえば特許文献３および特許文献４に記載されている。
【０００７】
特許文献３に開示されているＢａ（Ｍｇ，Ｔａ）Ｏ３系ペロブスカイトを主成分とする透光性セラミックにおいて、屈折率やアッベ数等の光学特性は、４価元素であるＳｎおよび／またはＺｒでＭｇおよび／またはＴａの一部を置換することにより変化させることができ、その変化量は置換量が増加するほど大きくなる。しかし、これらの透光性セラミックでは、置換量の上限が０．４０と低いため、屈折率やアッベ数を大きく変化させることが難しい。たとえば、屈折率にして、２．０７１〜２．０８２の範囲の変化しか得られていない。
【０００８】
同様に、特許文献４に開示されているＢａ（Ｚｎ，Ｔａ）Ｏ３系ペロブスカイトを主成分とする透光性セラミックにおいても、ＺｒでＺｎおよび／またはＴａの一部を置換しているが、これも置換量の上限は０．０６と低く、屈折率やアッベ数を大きく変化させることが難しい。たとえば、屈折率にして、２．１２８〜２．１３２の範囲の変化しか得られていない。
【０００９】
したがって、これらの透光性セラミックを用いて光学部品を構成した場合、光学装置の設計において、十分な自由度を得ることが困難である。
【００１０】
また、レンズなどの光学部品では、一般的に、可視光の直線透過率の波長依存性が小さいことが望ましいが、上述の２種の透光性セラミックでは、波長が短くなるに従い直線透過率が低下する傾向にあり、好ましくない。
【特許文献１】特開平５−１２７０７８号公報（全頁、図１）
【特許文献２】特開平７−２４４８６５号公報（請求項６、段落「００２４」）
【特許文献３】特開２００４−７５５１２号公報（全頁、全図）
【特許文献４】特開２００４−７５５１６号公報（全頁、全図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上述した実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高い屈折率を有し、かつ屈折率やアッベ数を広い範囲で調整し得る、透光性セラミックおよびその製造方法を提供しようとすることにある。
【００１２】
本発明の他の目的は、可視光の直線透過率の波長依存性の小さい、透光性セラミックおよびその製造方法を提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、小さな外形寸法で所望の光学特性を発揮し得る、光学部品およびこの光学部品を用いた光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係る透光性セラミックは、第１の局面では、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００１５】
本発明に係る透光性セラミックは、第２の局面では、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１≦ｘ１＋ｘ２≦０．６０、０＜ｘ１≦０．６０、０≦ｘ２≦０．３０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００１６】
本発明に係る透光性セラミックは、第３の局面では、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０４≦ｘ１＋ｘ２≦０．８０、０＜ｘ１≦０．８０、０≦ｘ２≦０．４０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００１７】
本発明に係る透光性セラミックは、好ましくは、波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０．４ｍｍにおける直線透過率が２０％以上である。
【００１８】
また、本発明に係る透光性セラミックは、波長が６３３ｎｍである可視光の屈折率が２．０１以上であることが好ましい。
【００１９】
また、本発明に係る透光性セラミックは、多結晶体であることが好ましい。
【００２０】
本発明は、また、上述したような透光性セラミックを製造する方法にも向けられる。本発明に係る透光性セラミックの製造方法は、セラミック原料粉末を所定形状に成形してなる未焼成のセラミック成形体を用意する工程と、上記セラミック原料粉末と実質的に同組成の同時焼成用組成物を用意する工程と、同時焼成用組成物を未焼成のセラミック成形体に接触させながら、酸素濃度が９０体積％以上の雰囲気中で、未焼成のセラミック成形体を焼成する工程とを備えることを特徴としている。
【００２１】
本発明に係る透光性セラミックの製造方法において、好ましくは、同時焼成用組成物は粉末状態であり、焼成工程は、同時焼成用組成物の粉末に未焼成のセラミック成形体を埋め込んだ状態で実施される。
【００２２】
本発明は、上述したような製造方法によって得られた透光性セラミックにも向けられる。
【００２３】
本発明は、さらに、前述した透光性セラミックからなる光学部品、およびこの光学部品が搭載されている光学装置にも向けられる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、複屈折がなく、１．９以上の、好ましくは２．０１以上の高い屈折率を有する透光性セラミックを得ることができる。このため、比較的小さな外形寸法で所望の光学特性を発揮可能な光学部品を得ることができる。
【００２５】
また、本発明に係る透光性セラミックは、屈折率やアッベ数を広い範囲で調節することができる。したがって、本発明の透光性セラミックを用いて構成した光学部品を搭載した光学装置の設計の自由度を高めることができる。
【００２６】
さらに、本発明に係る透光性セラミックによれば、直線透過率の波長依存性を小さくすることができる。したがって、より透明度の高い光学部品を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
［図１］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第１の例としての両凸レンズ１０を示す断面図である。
［図２］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第２の例としての両凹レンズ１１を示す断面図である。
［図３］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第３の例としてのメニスカスレンズ１２を示す断面図である。
［図４］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第４の例としての光路長調整板１３を示す断面図である。
［図５］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成される光学部品の第５の例としての球状レンズ１４を示す断面図である。
［図６］本発明に係る透光性セラミックを用いて構成された光学部品を搭載した光学装置の一例としての光ピックアップ９を図解的に示す正面図である。
【符号の説明】
【００２８】
１ 記録媒体
２ 対物レンズ
３ ハーフミラー
４ コリメータレンズ
５ 半導体レーザ
６ 集光レンズ
７ 受光素子
８ レーザー光
９ 光ピックアップ
１０ 両凸レンズ
１１ 両凹レンズ
１２ メニスカスレンズ
１３ 光路長調整板
１４ 球状レンズ
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明に係る透光性セラミックの基本組成系は、Ｂａ｛（Ｍｇ，Ｚｎ）（Ｔａ，Ｎｂ）｝Ｏ３で表される。これは、本来、六方晶系の結晶構造を有する複合ペロブスカイトである。ＢａはペロブスカイトのＡサイトを占め、ＭｇおよびＺｎといった２価の元素ならびにＴａおよびＮｂといった５価の元素はペロブスカイトのＢサイトを占める。
【００３０】
前述した第１の局面での一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ、第２の局面での一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ、および第３の局面での一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗにおいて、ＴａまたはＮｂの、ＭｇまたはＺｎに対する比ｚ／ｙは、１．６０〜２．４０の範囲であることにより、ペロブスカイト構造が保たれている。ｚ／ｙが上記範囲を外れた場合、直線透過率が２０％未満となり、好ましくない。ペロブスカイトのＢサイトのＡサイトに対する比ｖが１．００〜１．０５の範囲に設定されるのも同じ理由である。なお、Ｏの含有比ｗは３に近い値となる。また、この複合ペロブスカイトは、そのＢサイトがＴｉならびにＳｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種といった４価の元素で置換されることにより、その結晶構造が立方晶系に変化し、透光性が発現する。
【００３１】
本発明の透光性セラミックの屈折率は、ＴｉならびにＳｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種といった４価の元素の置換により変化させることが可能である。Ｓｎはこれらの屈折率を小さくする効果があり、Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆは逆に屈折率を大きくする効果がある。特にＴｉの効果は大きい。また、この屈折率の変化量の絶対値は４価元素の置換量にほぼ比例することがわかっており、大きく変化させるためにはその置換量を増やせばよい。さらに、Ｔｉと、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種とを適当な比率で混合して置換することによって、透光性セラミックの屈折率を自在に調節することが可能である。また、屈折率の波長依存性を表すアッベ数も、４価の置換元素であるＴｉならびにＳｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種の置換量を増やすことで大きく変化させることができる。Ｓｎはアッベ数を大きくする効果があり、Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆは逆にアッベ数を小さくする効果がある。
【００３２】
次に、本発明に係る透光性セラミックの具体的な組成について、前述の第１、第２および第３の局面に分けて説明する。これら第１、第２および第３の局面の間では、４価の置換元素の置換量の範囲が互いに異なっている。
【００３３】
第１の局面では、透光性セラミックは、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００３４】
簡単に言えば、第１の局面では、２価の元素としてＭｇとＺｎが同時に存在することが特徴であり、これが４価元素の置換量ｘ１＋ｘ２の上限を高くするのに作用しているが、４価元素にＴｉが含まれることにより、ｘ１＋ｘ２の上限がさらに高くなる。第１の局面による透光性セラミックの場合では、ｘ１＋ｘ２の上限が０．９０と従来のＢａ（Ｍｇ，Ｔａ）Ｏ３系より高く、屈折率の変化幅は２．０７９〜２．３６２と大きく、かつアッベ数の変化幅は１３．２〜２９．９と大きい。ｘ１＋ｘ２が０．０１５未満では、結晶を立方晶系に変化させることができず、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。また、ｘ１＋ｘ２が０．９０を超えても、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。
【００３５】
第２の局面では、透光性セラミックは、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１≦ｘ１＋ｘ２≦０．６０、０＜ｘ１≦０．６０、０≦ｘ２≦０．３０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００３６】
上記のようなＢａ｛Ｚｎ（Ｔａ，Ｎｂ）｝Ｏ３系では、４価元素にＴｉ、ＳｎまたはＨｆが含まれることにより、４価元素の置換量ｘ１＋ｘ２の上限が高くなるが、特にＴｉがｘ１＋ｘ２の上限を高くする作用を有している。第２の局面による透光性セラミックの場合では、ｘ１＋ｘ２の上限が０．６０と従来のＢａ（Ｚｎ，Ｔａ）Ｏ３系より高く、屈折率の変化幅は２．１１６〜２．２９４と大きく、かつアッベ数の変化幅は１５．３〜２９．３と大きい。ｘ１＋ｘ２が０．０１未満では、結晶を立方晶系に変化させることができず、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。また、ｘ１＋ｘ２が０．６０を超えても、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。
【００３７】
第３の局面では、透光性セラミックは、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０４≦ｘ１＋ｘ２≦０．８０、０＜ｘ１≦０．８０、０≦ｘ２≦０．４０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分としている。
【００３８】
第３の局面は、Ｂａ｛Ｍｇ（Ｔａ，Ｎｂ）｝Ｏ３系であって、４価元素にＴｉが含まれることにより、ｘ１＋ｘ２の上限が高くなる。ｘ１＋ｘ２の上限は０．８０であり、屈折率の変化幅は２．０８０〜２．３０７であり、かつアッベ数の変化幅は１８．２〜２９．８である。ｘ１＋ｘ２が０．０４未満では、結晶を立方晶系に変化させることができず、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。また、ｘ１＋ｘ２が０．８０を超えても、直線透過率が２０％未満となり、望ましくない。
【００３９】
以上のように、特に第１および第２の局面による透光性セラミックは、従来の透光性セラミックと比較して、屈折率およびアッベ数を広範囲で変化させることが可能であり、光学装置の設計の自由度が格段に高まる。
【００４０】
Ｔｉの存在が４価元素の置換量の上限を高めることが可能になった理由は、定かではないが、以下のように考えることができる。すなわち、Ｚｒ、ＳｎおよびＨｆのイオン半径に対して、Ｔｉのイオン半径が小さいため、４価元素の置換量の上限を高めることとなったと推測される（イオン半径：Ｚｒ４＋＝０．０７２ｎｍ；Ｓｎ４＋＝０．０６９ｎｍ；Ｔｉ４＋＝０．０６１ｎｍ；Ｈｆ４＋＝０．０７１ｎｍ）。
【００４１】
本発明に係る透光性セラミックには、本発明の目的を損なわない範囲において、製造上不可避的に混入し得る不純物が含まれていてもよい。たとえば原料として用いる酸化物もしくは炭酸塩に含まれる不純物や作製工程中で混入する不純物として、ＳｉＯ２，Ｆｅ２Ｏ３，Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｒＯ、ＷＯ３、Ｂｉ２Ｏ３およびＳｂ２Ｏ５、ならびにＬａ２Ｏ３等の希土類酸化物などが挙げられる。
【００４２】
次に、本発明に係る透光性セラミックを製造する方法について説明する。
【００４３】
透光性セラミックを製造するするため、セラミック原料粉末を所定形状に成形してなる未焼成のセラミック成形体が用意されるとともに、このセラミック原料粉末と実質的に同組成の同時焼成用組成物が用意される。次いで、同時焼成用組成物を未焼成のセラミック成形体に接触させながら、酸素濃度が９０体積％以上の雰囲気中で、未焼成のセラミック成形体を焼成する工程が実施される。
【００４４】
上記の製造方法において、同時焼成用組成物とは、たとえば、上記セラミック成形体と同じ組成となるように調整した原料を仮焼し、粉砕して得られた粉末である。この同時焼成用組成物により、上記セラミック成形体中の揮発成分が焼成時に揮発することを抑制することができる。したがって、焼成工程では、同時焼成用組成物の粉末に未焼成のセラミック成形体を埋め込んだ状態で実施されることが好ましい。なお、同時焼成用組成物は、粉末に限らず、成形体または焼結体であってもよい。
【００４５】
同時焼成用組成物は、上記セラミック成形体のためのセラミック原料粉末と同じ組成を有することが好ましいが、実質的に同組成であればよい。同時焼成用組成物が未焼成のセラミック成形体のためのセラミック原料粉末と実質的に同組成であるとは、同一の構成元素を含んだ同等の組成系であることを意味し、全く同一の組成比率でなくてもよい。また、同時焼成用組成物は、必ずしも透光性を与え得る組成を有していなくてもよい。
【００４６】
なお、焼成工程における圧力は、大気圧もしくはそれ以下で構わない。すなわち、ＨＩＰ（Ｈｏｔ Ｉｓｏｓｔａｔｉｃ Ｐｒｅｓｓ）等の加圧雰囲気である必要はない。
【００４７】
また、本発明に係る透光性セラミックは高い直線透過率を示すが、表面に反射防止膜（ＡＲ膜＝Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ膜）を形成すれば、さらに直線透過率を高めることができる。たとえば直線透過率が７４．８％であり、かつ屈折率が２．１１４の場合、Ｆｒｅｓｎｅｌの法則より、直線透過率の理論最大値は７６．０％となる。このとき、理論値に対する相対透過率は９８．４％となる。これは、試料内部での透過損失がほとんどないことを示している。したがって、試料表面に反射防止膜を形成すれば、得られる直線透過率をほぼ理論値とすることができる。
【００４８】
また、本発明に係る透光性セラミックは、レンズ等の光学部品に用いることができ、たとえば、図１ないし図５にそれぞれ示すような両凸レンズ１０、両凹レンズ１１、メニスカスレンズ１２、光路長調整板１３、および球状レンズ１４に利用することができる。
【００４９】
また、このような光学部品を搭載した光学装置について、光ピックアップを例にとり、説明する。
【００５０】
図６に示すように、光ピックアップ９は、コンパクトディスクやミニディスク等の記録媒体１に対して、コヒーレントな光であるレーザー光８を照射し、その反射光から記録媒体１に記録された情報を再生するものである。
【００５１】
このような光ピックアップ９においては、光源としての半導体レーザー５からのレーザー光８を平行光に変換するコリメータレンズ４が設けられ、その平行光の光路上にハーフミラー３が設けられている。このハーフミラー３は、コリメータレンズ４からの入射光を通して直進させるが、記録媒体１からの反射光については、その進行方向を反射によりたとえば約９０度変更するものである。
【００５２】
また、光ピックアップ９には、ハーフミラー３からの入射光を記録媒体１の記録面上に集光するための対物レンズ２が設けられている。この対物レンズ２は、また、記録媒体１からの反射光を効率良くハーフミラー３に向かって送るためのものでもある。反射光が入射されたハーフミラー３では、反射により位相が変化することで、上記反射光の進行方向が変更される。
【００５３】
さらに、光ピックアップ９には、変更された反射光を集光するための集光レンズ６が設けられている。そして、反射光の集光位置に、反射光からの情報を再生するための受光素子７が設けられている。
【００５４】
このように構成される光ピックアップ９において、本発明に係る透光性セラミックを対物レンズ２の素材として用いた場合、本発明に係る透光性セラミックは屈折率が大きいため、光ピックアップ９の小型化や薄型化が可能である。
【００５５】
次に、本発明に係る透光性セラミックを実験例に基づいて説明する。
【００５６】
［実験例１］
実験例１は、本発明の前述した第１の局面に対応している。
【００５７】
原料として、各々高純度のＢａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、ＺｎＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２，ＺｒＯ２およびＨｆＯ２の各粉末を準備した。そして、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種。ｗは電気的中性を保つための正の数。）で表される、表１および表２に示す各試料が得られるように、各原料粉末を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。この混合物を乾燥させたのち、１３００℃で３時間仮焼し、仮焼粉体を得た。仮焼後、ｗの値はほぼ３になっていた。
【００５８】
【００５９】
【００６０】
なお、表１および表２中の「Ｍの元素種と含有量」の欄での表示について、Ｍの元素種が１種類の場合は、その含有量がｘ２の値と同じであり、元素種が２種類以上である場合は、それぞれの含有量の和がｘ２の値となっている。
【００６１】
次に、上記仮焼粉体を水および有機バインダとともにボールミルに入れ、１６時間湿式粉砕した。有機バインダとしては、エチルセルロースを用いた。
【００６２】
次に、上記粉砕物を乾燥させた後、５０メッシュの網（篩）を通して造粒し、得られた粉末を１９６ＭＰａの圧力で押圧してプレス成形することにより、直径３０ｍｍおよび厚さ２ｍｍの円板状の未焼成のセラミック成形体を得た。
【００６３】
次に、上記未焼成のセラミック成形体を、そこに含まれるセラミック原料粉末と同組成の粉末中に埋め込んだ。この埋め込まれた成形体を焼成炉に入れ、大気雰囲気中で加熱し、脱バインダ処理を行なった。引き続き、昇温しながら大気雰囲気中に酸素を注入し、最高温度域の１６２５℃において、焼成雰囲気中の酸素濃度を約９８体積％まで上昇させた。この焼成温度および酸素濃度を維持し、成形物を２０時間焼成して焼結体を得た。
【００６４】
このようして得られた焼結体を鏡面加工し、厚さ０．４ｍｍの円板状に仕上げて透光性セラミックの試料とした。
【００６５】
上記の試料のそれぞれについて、波長λが６３３ｎｍにおける直線透過率および屈折率を測定した。透光性の指標である直線透過率の測定には、島津製作所製分光光度計（ＵＶ−２００Ｓ）を用いた。また、屈折率の測定には、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製プリズムカプラー（ＭＯＤＥＬ２０１０）を用いた。
【００６６】
さらに、プリズムカプラーにて、波長λが４０５ｎｍ、５３２ｎｍおよび８３０ｎｍでの屈折率も測定した。そして、これら４波長（４０５ｎｍ、５３２ｎｍ、６３３ｎｍおよび８３０ｎｍ）での屈折率の値を用いて、波長と屈折率との関係式：式１より、定数ａ、ｂおよびｃを算出し、波長と屈折率との関係を求めた。
【００６７】
（式１において、ｎは屈折率、λは波長、ａ、ｂおよびｃは定数。）
式１から、アッベ数（νｄ）算出に必要な３波長（Ｆ線：４８６．１３ｎｍ、ｄ線：５８７．５６ｎｍ、Ｃ線：６５６．２７ｎｍ）での屈折率を求め、アッベ数の定義式：式２からアッベ数を算出した。
【００６８】
（式２において、ｎｄ、ｎＦおよびｎＣは、それぞれ、ｄ線、Ｆ線およびＣ線における屈折率。）
以上のように求めた直線透過率、屈折率およびアッベ数を、表３および表４に示す。
【００６９】
【００７０】
【００７１】
表１〜表４において、試料番号に＊を付したものは、本発明の範囲外の試料である。
【００７２】
本発明の範囲内の試料２〜７、９〜４５、４７〜５８、６０〜６２および６５〜６７によれば、表１および表２に示すように、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足しているので、表３および表４に示すように、直線透過率が２０％以上であり、屈折率が２．０１以上と大きく、しかも屈折率の変化幅が２．０７９〜２．３６２と大きく、かつアッベ数の変化幅が１３．２〜２９．９と大きい。
【００７３】
また、試料２〜７の間、試料３０〜３３の間、試料３４〜３７の間、試料３８〜４１の間、試料４２〜４５の間、および試料４７〜５１の間でそれぞれ比較すればわかるように、Ｔｉの含有量の増加に伴って、屈折率がより大きくなり、また、アッベ数がより小さくなっている。
【００７４】
また、試料９〜２９および５４〜５８の間で比較すれば、Ｔｉと、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種とを適当な比率で混合して含有させることによって、屈折率およびアッベ数を自在に調節できることがわかる。
【００７５】
他方、本発明の範囲外の試料１および４６では、ｘ１＋ｘ２が０．０１５未満であるので、直線透過率が２０％未満となっている。これは、結晶を立方晶系に変化させることができなかったからである。
【００７６】
また、本発明の範囲外の試料８では、ｘ１が０．９０を超え、かつｘ１＋ｘ２が０．９０を超えるので、直線透過率が２０％未満となっている。
【００７７】
また、本発明の範囲外の試料５９および６３では、ｚ／ｙが１．６０〜２．４０の範囲を外れ、本発明の範囲外の試料６４および６８では、ｖが１．００〜１．０５の範囲を外れている。これらの試料では、前述した焼成工程において焼結しなかったり、あるいは、たとえ焼結しても、直線透過率が２０％未満となったりしている。
【００７８】
［実験例２］
実験例２は、本発明の前述した第２の局面に対応している。
【００７９】
原料として、各々高純度のＢａＣＯ３、ＺｎＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびＨｆＯ２の各粉末を準備した。そして、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種。ｗは電気的中性を保つための正の数。）で表される、表５に示す各試料が得られるように、各原料粉末を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。この混合物を乾燥させたのち、１３００℃で３時間仮焼し、仮焼粉体を得た。仮焼後、ｗの値はほぼ３になっていた。
【００８０】
【００８１】
なお、表５中の「Ｍの元素種と含有量」の欄での表示については、表１および表２の場合と同様である。
【００８２】
その後、上記仮焼粉体に対して、実験例１の場合と同様の操作を実施し、直径３０ｍｍおよび厚さ２ｍｍの円板状の未焼成のセラミック成形体を得た。
【００８３】
次に、上記未焼成のセラミック成形体を、そこに含まれるセラミック原料粉末と同組成の粉末中に埋め込んだ。この埋め込まれた成形体を焼成炉に入れ、大気雰囲気中で加熱し、脱バインダ処理を行なった。引き続き、昇温しながら大気雰囲気中に酸素を注入し、最高温度域の１６００℃において、焼成雰囲気中の酸素濃度を約９８体積％まで上昇させた。この焼成温度および酸素濃度を維持し、成形物を２０時間焼成して焼結体を得た。
【００８４】
このようして得られた焼結体を鏡面加工し、厚さ０．４ｍｍの円板状に仕上げて透光性セラミックの試料とした。
【００８５】
上記の試料のそれぞれについて、実験例１の場合と同じ評価方法にて、直線透過率、屈折率およびアッベ数を評価した。その結果を表６に示す。
【００８６】
【００８７】
表５および表６において、試料番号に＊を付したものは、本発明の範囲外の試料である。
【００８８】
本発明の範囲内の試料１０２〜１１１および１１３〜１３１によれば、表５に示すように、０．０１≦ｘ１＋ｘ２≦０．６０、０＜ｘ１≦０．６０、０≦ｘ２≦０．３０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足しているので、表６に示すように、直線透過率が２０％以上であり、屈折率が２．０１以上と大きく、しかも屈折率の変化幅が２．１１６〜２．２９４と大きく、かつアッベ数の変化幅が１５．３〜２９．３と大きい。
【００８９】
また、試料１０２〜１１１の間で比較すればわかるように、Ｔｉの含有量の増加に伴って、屈折率がより大きくなり、また、アッベ数がより小さくなっている。
【００９０】
また、試料１１３〜１２９の間で比較すれば、Ｔｉと、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種とを適当な比率で混合して含有させることによって、屈折率およびアッベ数を自在に調節できることがわかる。
【００９１】
他方、本発明の範囲外の試料１０１では、ｘ１＋ｘ２が０．０１未満であるので、直線透過率が２０％未満となっている。これは、結晶を立方晶系に変化させることができなかったからである。
【００９２】
また、本発明の範囲外の試料１１２では、ｘ１が０．６０を超え、かつｘ１＋ｘ２が０．６０を超えるので、直線透過率が２０％未満となっている。
【００９３】
［実験例３］
実験例３は、本発明の前述した第３の局面に対応している。
【００９４】
原料として、各々高純度のＢａＣＯ３、ＭｇＣＯ３、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２およびＨｆＯ２の各粉末を準備した。そして、一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種。ｗは電気的中性を保つための正の数。）で表される、表７に示す各試料が得られるように、各原料粉末を秤量し、ボールミルで１６時間湿式混合した。この混合物を乾燥させたのち、１３００℃で３時間仮焼し、仮焼粉体を得た。仮焼後、ｗの値はほぼ３になっていた。
【００９５】
【００９６】
なお、表７中の「Ｍの元素種と含有量」の欄での表示については、表１および表２の場合と同様である。
【００９７】
その後、上記仮焼粉体に対して、実験例１の場合と同様の操作を実施し、直径３０ｍｍおよび厚さ２ｍｍの円板状の未焼成のセラミック成形体を得た。
【００９８】
次に、上記未焼成のセラミック成形体を、そこに含まれるセラミック原料粉末と同組成の粉末中に埋め込んだ。この埋め込まれた成形体を焼成炉に入れ、大気雰囲気中で加熱し、脱バインダ処理を行なった。引き続き、昇温しながら大気雰囲気中に酸素を注入し、最高温度域の１６２５℃において、焼成雰囲気中の酸素濃度を約９８体積％まで上昇させた。この焼成温度および酸素濃度を維持し、成形物を２０時間焼成して焼結体を得た。
【００９９】
このようして得られた焼結体を鏡面加工し、厚さ０．４ｍｍの円板状に仕上げて透光性セラミックの試料とした。
【０１００】
上記の試料のそれぞれについて、実験例１の場合と同じ評価方法にて、直線透過率、屈折率およびアッベ数を評価した。その結果を表８に示す。
【０１０１】
【０１０２】
表７および表８において、試料番号に＊を付したものは、本発明の範囲外の試料である。
【０１０３】
本発明の範囲内の試料２０２〜２１１、２１３〜２２１、２２３〜２２７、２３０〜２３３、２３５および２３６によれば、表７に示すように、０．０４≦ｘ１＋ｘ２≦０．８０、０＜ｘ１≦０．８０、０≦ｘ２≦０．４０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足しているので、表８に示すように、直線透過率が２０％以上であり、屈折率が２．０１以上と大きく、屈折率の変化幅が２．０８０〜２．３０７であり、かつアッベ数の変化幅が１８．２〜２９．８である。
【０１０４】
また、試料２０２〜２１１の間で比較すればわかるように、Ｔｉの含有量の増加に伴って、屈折率がより大きくなり、また、アッベ数がより小さくなっている。
【０１０５】
また、試料２１３〜２２１の間で比較すれば、Ｔｉと、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆの少なくとも１種とを適当な比率で混合して含有させることによって、屈折率およびアッベ数を自在に調節できることがわかる。
【０１０６】
他方、本発明の範囲外の試料２０１では、ｘ１＋ｘ２が０．０４未満であるので、直線透過率が２０％未満となっている。これは、結晶を立方晶系に変化させることができなかったからである。
【０１０７】
また、本発明の範囲外の試料２１２では、ｘ１が０．８０を超え、かつｘ１＋ｘ２が０．８０を超えるので、直線透過率が２０％未満となっている。
【０１０８】
また、本発明の範囲外の試料２２２および２２８では、ｚ／ｙが１．６０〜２．４０の範囲を外れ、本発明の範囲外の試料２２９および２３４では、ｖが１．００〜１．０５の範囲を外れている。これらの試料では、前述した焼成工程において焼結しなかったり、あるいは、たとえ焼結しても、直線透過率が２０％未満となったりしている。
【０１０９】
［実験例４］
表１に示した試料３、表５に示した試料１１５、および表７に示した試料２０５に係る各透光性セラミックについて、波長６３３ｎｍにおけるＴＥモードおよびＴＭモードでの屈折率を測定した。その結果を表９に示す。
【０１１０】
【０１１１】
表９に示すように、いずれの試料についても、ＴＥモードおよびＴＭモードでの各屈折率が互いに同じ値であることから、複屈折が生じていないことがわかる。
【０１１２】
［実験例５］
表１に示した試料３、表５に示した試料１１５、および表７に示した試料２０５の各組成について、鋳込み成形を適用することによって、２インチ角の未焼成のセラミック成形体を作製し、それぞれ、１６２５℃、１６００℃および１６２５℃の各温度で焼成して焼結体を得た。これら鋳込み成形を経て作製された試料３、１１５および２０５は、成形方法をプレス成形から鋳込み成形に変更した以外は、実験例１、２および３において得た試料３、１１５および２０５の場合と同じ方法で作製したものである。
【０１１３】
上記の鋳込み成形を経て作製された試料３、１１５および２０５のそれぞれについて、実験例１の場合と同じ評価方法にて、直線透過率、屈折率およびアッベ数を評価した。その結果を表１０に示す。表１０には、プレス成形を経て作製された、実験例１、２および３においてそれぞれ得た試料３、１１５および２０５についての直線透過率、屈折率およびアッベ数も併せて示されている。
【０１１４】
【０１１５】
表１０からわかるように、直線透過率、屈折率およびアッベ数の各々について、プレス成形の場合と鋳込み成形の場合とは、互いに同等または実質的に同等の値を示している。このことから、本発明に係る透光性セラミックの光学特性は、成形法に関わらず、優れた特性を示すことがわかる。
【０１１６】
［実験例６］
表１に示した試料３、表５に示した試料１１５、および表７に示した試料２０５の各組成について、焼成温度を、それぞれ、１６５０℃、１６５０℃および１５５０℃に変えて焼結体を作製した。これらの試料３、１１５および２０５は、焼成温度を変えた以外は、実験例１、２および３において得た試料３、１１５および２０５の場合と同じ方法で作製したものである。
【０１１７】
上記の焼成温度を変えた試料３、１１５および２０５のそれぞれについて、実験例１の場合と同じ評価方法にて、直線透過率、屈折率およびアッベ数を測定した。測定結果を表１１に示す。表１１には、１６２５℃、１６００℃および１６２５℃の各焼成温度を適用して焼成した、前述の実験例１、２および３においてそれぞれ得た試料３、１１５および２０５についての直線透過率、屈折率およびアッベ数も併せて示されている。
【０１１８】
【０１１９】
表１１からわかるように、直線透過率、屈折率およびアッベ数の各々について、焼成温度を変えても、互いに同等または実質的に同等の値を示している。このことから、本発明に係る透光性セラミックは、焼成温度を変えて作製されてもよいことがわかる。
【０１２０】
以上、本発明を、実験例に関連して具体的に説明したが、本発明の実施の態様は、上記実験例のような態様に限定されるものではない。たとえば、原料の形態は酸化物もしくは炭酸塩に限定されるものではなく、焼結体とした段階で所望の特性が得られる原料であれば、どのような形態でもよい。また、焼成雰囲気について、上記実験例の約９８体積％という酸素濃度の値は、使用した実験設備の条件下において最も好ましいものであった。したがって、酸素濃度は約９８体積％に限定されるものではなく、９０体積％以上の酸素濃度が確保できれば、所望の特性を備えた焼結体が得られることがわかっている。
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
本発明に係る透光性セラミックは、直線透過率が広い波長帯域にわたり高く、屈折率が高く、屈折率およびアッベ数の調整範囲が広く、複屈折がないため、これを用いて構成されたレンズは、小型化および薄型化が要求される、光ピックアップまたはデジタルカメラ等に有利に適用できる。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分とする、透光性セラミック。
【請求項２】
一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１≦ｘ１＋ｘ２≦０．６０、０＜ｘ１≦０．６０、０≦ｘ２≦０．３０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分とする、透光性セラミック
【請求項３】
一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０４≦ｘ１＋ｘ２≦０．８０、０＜ｘ１≦０．８０、０≦ｘ２≦０．４０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分とする、透光性セラミック。
【請求項４】
波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０．４ｍｍにおける直線透過率が２０％以上である、請求項１ないし３のいずれかに記載の透光性セラミック。
【請求項５】
波長が６３３ｎｍである可視光の屈折率が２．０１以上である、請求項４に記載の透光性セラミック。
【請求項６】
多結晶体である、請求項１ないし３のいずれかに記載の透光性セラミック。
【請求項７】
請求項１ないし３のいずれかに記載の透光性セラミックを製造する方法であって、
セラミック原料粉末を所定形状に成形してなる未焼成のセラミック成形体を用意する工程と、
前記セラミック原料粉末と実質的に同組成の同時焼成用組成物を用意する工程と、
前記同時焼成用組成物を前記未焼成のセラミック成形体に接触させながら、酸素濃度が９０体積％以上の雰囲気中で、前記未焼成のセラミック成形体を焼成する工程と
を備える、透光性セラミックの製造方法。
【請求項８】
前記同時焼成用組成物は粉末状態であり、前記焼成工程は、前記同時焼成用組成物の粉末に前記未焼成のセラミック成形体を埋め込んだ状態で実施される、請求項７に記載の透光性セラミックの製造方法。
【請求項９】
請求項７に記載の製造方法によって得られた、透光性セラミック。
【請求項１０】
請求項１ないし３のいずれかに記載の透光性セラミックからなる光学部品。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学部品が搭載されている光学装置。
【請求項１】
一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２（Ｍｇ１−ｔＺｎｔ）ｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１５≦ｘ１＋ｘ２≦０．９０、０＜ｘ１≦０．９０、０≦ｘ２≦０．６０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、０＜ｔ＜１、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分とする、透光性セラミック。
【請求項２】
一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｚｎｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０１≦ｘ１＋ｘ２≦０．６０、０＜ｘ１≦０．６０、０≦ｘ２≦０．３０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分とする、透光性セラミック
【請求項３】
一般式：Ｂａ｛Ｔｉｘ１Ｍｘ２Ｍｇｙ（Ｔａ１−ｕＮｂｕ）ｚ｝ｖＯｗ（ただし、Ｍは、Ｓｎ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種であり、ｘ１＋ｘ２＋ｙ＋ｚ＝１であって、０．０４≦ｘ１＋ｘ２≦０．８０、０＜ｘ１≦０．８０、０≦ｘ２≦０．４０、１．６０≦ｚ／ｙ≦２．４０、１．００≦ｖ≦１．０５、および０≦ｕ≦１の各条件を満足し、ｗは電気的中性を保つための正の数である。）で表される組成を主成分とする、透光性セラミック。
【請求項４】
波長が６３３ｎｍである可視光の、試料厚み０．４ｍｍにおける直線透過率が２０％以上である、請求項１ないし３のいずれかに記載の透光性セラミック。
【請求項５】
波長が６３３ｎｍである可視光の屈折率が２．０１以上である、請求項４に記載の透光性セラミック。
【請求項６】
多結晶体である、請求項１ないし３のいずれかに記載の透光性セラミック。
【請求項７】
請求項１ないし３のいずれかに記載の透光性セラミックを製造する方法であって、
セラミック原料粉末を所定形状に成形してなる未焼成のセラミック成形体を用意する工程と、
前記セラミック原料粉末と実質的に同組成の同時焼成用組成物を用意する工程と、
前記同時焼成用組成物を前記未焼成のセラミック成形体に接触させながら、酸素濃度が９０体積％以上の雰囲気中で、前記未焼成のセラミック成形体を焼成する工程と
を備える、透光性セラミックの製造方法。
【請求項８】
前記同時焼成用組成物は粉末状態であり、前記焼成工程は、前記同時焼成用組成物の粉末に前記未焼成のセラミック成形体を埋め込んだ状態で実施される、請求項７に記載の透光性セラミックの製造方法。
【請求項９】
請求項７に記載の製造方法によって得られた、透光性セラミック。
【請求項１０】
請求項１ないし３のいずれかに記載の透光性セラミックからなる光学部品。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学部品が搭載されている光学装置。
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０９７７０８
【国際公開日】平成１７年１０月２０日（２００５．１０．２０）
【発行日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５１５３１８（Ｐ２００６−５１５３１８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００５／００４０５０
【国際出願日】平成１７年３月９日（２００５．３．９）
【出願人】（０００００６２３１）株式会社村田製作所 (3,635)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１７年１０月２０日（２００５．１０．２０）
【発行日】平成１９年８月１６日（２００７．８．１６）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００５／００４０５０
【国際出願日】平成１７年３月９日（２００５．３．９）
【出願人】（０００００６２３１）株式会社村田製作所 (3,635)
【Ｆターム（参考）】
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