金属ドラム、流延装置、流延膜の形成方法及び溶液製膜方法
【課題】バンドの溶接部に起因するバンドと水平ドラムとの摩耗及びフィルムの厚みムラ故障を防ぐ。
【解決手段】環状に形成されたバンド９１は、長手方向に延びる溶接部９１ｗを有する。
バンド９１を支持するための水平ドラム１２４は、駆動軸１２４ａと、駆動軸１２４ａに軸着されたステンレス製のドラム本体１２４ｂとを備える。ドラム本体１２４ｂの外周部には、バンド９１の裏面を支持するバンド支持面が形成される。バンド支持面には、逃げ溝１２４が設けられる。溶接部９１ｗが逃げ溝の上に位置するように、バンド９１をドラム本体１２４ｂに巻き掛ける。
【解決手段】環状に形成されたバンド９１は、長手方向に延びる溶接部９１ｗを有する。
バンド９１を支持するための水平ドラム１２４は、駆動軸１２４ａと、駆動軸１２４ａに軸着されたステンレス製のドラム本体１２４ｂとを備える。ドラム本体１２４ｂの外周部には、バンド９１の裏面を支持するバンド支持面が形成される。バンド支持面には、逃げ溝１２４が設けられる。溶接部９１ｗが逃げ溝の上に位置するように、バンド９１をドラム本体１２４ｂに巻き掛ける。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属ドラム、流延装置、流延膜の形成方法及び溶液製膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の大画面化に伴い、ＬＣＤに用いる光学フィルムにも大面積化が要求される。光学フィルムは、長尺に製造されてから、ＬＣＤの寸法に応じて所定のサイズにカットされる。したがって、より大きな面積の光学フィルムを製造するためには、幅が従来よりも大きな長尺の光学フィルムを製造する必要がある。
【０００３】
長尺の光学フィルムの代表的な製造方法としては、溶液製膜方法がある。溶液製膜方法は、周知のように、ポリマーが溶剤に溶けているドープを、移動する流延支持体の上に流延し、ドープからなる流延膜を流延支持体上に形成し、流延膜を流延支持体から剥がして乾燥することによりフィルムを製造する方法である。
【０００４】
流延支持体として、複数の金属ドラムに掛け渡された金属製のエンドレスバンドが用いられる。溶液製膜方法により製造することができるフィルムの最大幅は、このエンドレスバンドの幅に制約される。したがって、より大きな幅のフィルムを製造するには、より大きな幅のエンドレスバンドが必要となる。しかし、これまで、幅が２ｍ程度までのエンドレスバンドしか得られていなかった。
【０００５】
そこで、特許文献１では、幅方向の中央部になる中央部バンドと、各側部になる１対の側部バンドとを、長手方向に溶接することにより、従来よりも大きな幅のエンドレスバンドを得ている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】韓国特許公開公報第２００９−０１１００８２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、特許文献１に記載のようなエンドレスバンドを用いて、長時間（例えば、７００時間以上）連続して、溶液製膜方法を行なった場合、削り粉故障や厚みムラ故障が起こった。発明者の鋭意検討の結果、削り粉故障や厚みムラ故障は、溶接部の突起や残留応力に起因するものであることを突き止めた。
【０００８】
更に、発明者らの鋭意検討の結果、特許文献１に記載のようなエンドレスバンドは、長手方向に延びる溶接部に起因して、幅方向にて反りが起こりやすいことがわかった。特に、エンドレスバンドの幅方向端部、すなわち、中央部バンドから側部バンドにかけて反りが起こりやすい。幅方向端部が反ったエンドレスバンドを用いて溶液製膜方法を行えば、この反りに起因して、流延膜の厚みムラが生じる。このような厚みムラが生じた流延膜を乾燥しても、厚みムラが生じたフィルムとなってしまう（以下、厚みムラ故障と称する）。
【０００９】
また、反りによって湾曲したエンドレスバンドの内側の面が金属ドラムの周面と接触するようにエンドレスバンドを金属ドラムに掛け渡した場合、エンドレスバンドの側部では、バンド端が局所的に金属ドラムの周面に接触することとなる。バンド端が局所的に駆動ローラの周面に接触する状態が継続されれば、エンドレスバンドの側部の変形が増大するため、上述した厚みムラ故障が起こりやすくなる。
【００１０】
更に、厚みムラが生じた流延膜を剥ぎ取る際には剥げ残り故障が生じやすくなり、厚みムラが生じた流延膜を乾燥する場合には発泡が生じやすくなる。
【００１１】
エンドレスバンドの反りを矯正するために、エンドレスバンドを巻きかけた状態で金属ドラムの間隔が大きくなるように金属ドラムを変移させて、エンドレスバンドにかかる移動テンションを増大させることも可能である。しかしながら、エンドレスバンドにかかる移動テンションが増大した状態のまま溶液製膜方法を行なうと、溶接部に起因するフィルムの厚みムラ故障及び削り粉故障が起こりやすくなる。
【００１２】
本発明はこのような課題を解決するものであり、金属ドラム、流延装置、流延膜の形成方法及び溶液製膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の金属ドラムは、回転自在に支持され、長手方向に延びた溶接部を有する金属製のエンドレスバンドを周面で支持し、前記周面には前記溶接部から逃げるための溝が周方向へ延設されたことを特徴とする。
【００１４】
前記溝が環状に形成されたことが好ましい。また、前記溝の底部が平らであることが好ましい。
【００１５】
本発明の流延装置は、上記の金属ドラムと、前記溶接部が前記溝の上に位置するように前記金属ドラムに巻き掛けられ、前記金属ドラムの回転により移動する前記エンドレスバンドと、ポリマー及び溶剤を含むドープを前記エンドレスバンドの表面に向けて流出する流延ダイと、前記流出したドープからなり前記表面上に形成された流延膜に加熱風をあてて、前記流延膜から前記溶剤を蒸発させる膜乾燥機とを備えることを特徴とする。
【００１６】
前記流延膜を前記エンドレスバンドから剥離して湿潤フィルムとする剥離機を備えたことが好ましい。
【００１７】
前記流延膜は前記エンドレスバンドのうち剥離用の前記金属ドラムに支持された部分で剥離され、前記剥離用の金属ドラムを冷却する剥離ドラム冷却機と、前記剥離用の金属ドラムに近づくように移動する前記エンドレスバンドの前記溶接部を裏面側から冷却するバンド裏面冷却機とを備えたことが好ましい。
【００１８】
前記流延ダイから流出した前記ドープは前記エンドレスバンドのうち流延用の前記金属ドラムに支持された部分に到達し、前記流延用の金属ドラムを冷却する流延ドラム冷却機と、前記エンドレスバンドのうち前記ドープが到達する位置及び前記流延膜が剥離される位置の間に設けられ、前記流延用の金属ドラムに支持された前記溶接部を前記表面側から冷却するバンド表面冷却機とを備えたことが好ましい。
【００１９】
本発明の流延膜の形成方法は、上記の流延装置を用いて、前記エンドレスバンドの表面に前記流延膜を形成することを特徴とする。
【００２０】
本発明の溶液製膜方法は、上記の流延装置を用いて、前記エンドレスバンドの表面に前記流延膜を形成し、前記流延膜を前記エンドレスバンドから剥離してフィルムとすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、溶接部に起因するフィルムの厚みムラ故障及び削り粉故障を抑えつつ、従来よりも幅が広い帯状のフィルムを効率よく製造することができる。
【００２２】
従来のエンドレスバンド（幅が２ｍ以下のもの）にも溶接部が存在していたが、この溶接部は幅方向に延びるものである。このようなエンドレスバンドを用いて得られたフィルムにおいて、溶接部に起因する厚みムラ等の悪影響が及んだ部分は、溶接部と同様に幅方向に延びる。したがって、得られた帯状のフィルムを幅方向で裁断することで、悪影響が及んだ部分を製品フィルムから取り除くことが容易であった。一方、長手方向に延びる溶接部を有するエンドレスバンドを用いる場合には、従来のエンドレスバンドと異なり、溶接部に起因して悪影響が及んだ部分を取り除くことが容易ではない。本発明によれば、流延膜のうち溶接部上に形成された部分を、製品用のフィルムに含めることができる。
【００２３】
本発明によれば、かかる場合であっても、溶接部に起因するフィルムの厚みムラ故障及び削り粉故障を抑えつつ、従来よりも幅が広い帯状のフィルムを効率よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】バンドの製造設備の概要を示す側面図である。
【図２】バンド製造設備の概要を示す平面図である。
【図３】溶接ユニットの概要を示す側面図である。
【図４】溶接ユニットの概要を示す平面図である。
【図５】溶接支持ローラの概要を示すＶ−Ｖ線断面図である。
【図６】溶接ビード及びその周辺の説明図である。
【図７】テーパローラの概略図である。
【図８】クリップの概略図である。
【図９】バンドの概略図である。
【図１０】溶液製膜設備の概要を示す側面図である。
【図１１】流延装置の概要を示す側面図である。
【図１２】流延装置本体の概要を示す斜視図である。
【図１３】水平ドラムの概要を示す斜視図である。
【図１４】バンドのＰ１―Ｐ１線断面図である。
【図１５】バンド裏面冷却機の概要を示す斜視図である。
【図１６】バンドのＰ２―Ｐ２線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
図１及び図２に示すバンド製造設備１０は、長尺の中央部材１２と、中央部材１２の幅方向両側に設けられる側部材１１とからなる長尺のバンド部材１３をつくるものである。
【００２６】
側部材１１と中央部材１２とは、それぞれ金属製のシート材である。側部材１１は相対的に幅が狭い幅狭のシート材である。側部材１１と中央部材１２とは、互いに同じ素材から形成されることが好ましく、互いに同一の原料及び形成工程を経て形成されることがより好ましい。例えば、側部材１１及び中央部材１２として、ステンレス鋼から形成されたもの用いることが好ましい。
【００２７】
中央部材１２としては、従来の流延支持体として用いられてきたバンドを用いてよい。中央部材１２は、側部材１１よりも幅が広く、本実施形態における中央部材１２の幅は１５００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下の範囲で一定であり、側部材１１の幅は５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下の範囲で一定である。
【００２８】
バンド製造設備１０は、送出部１６と、突き合わせ部１７と、溶接ユニット１８と、加熱部１９と、巻取装置２０とを備える。
【００２９】
（送出部）
送出部１６は、側部材１１を送り出す第１送出装置２３と、中央部材１２を送り出す第２送出装置２４とを有し、側部材１１と中央部材１２とをそれぞれ独立して突き合わせ部１７に送る。第１送出装置２３には、ロール状に巻かれた側部材１１がセットされ、側部材１１を巻き出して突き合わせ部１７に送る。第２送出装置２４には、ロール状に巻かれた中央部材１２がセットされ、中央部材１２を巻き出して突き合わせ部１７に送る。
【００３０】
突き合わせ部１７は、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが互いに接するように、独立して案内されてくる側部材１１と中央部材１２とを突き合わせる。突き合わせ部１７は、中央部材１２の搬送路に上流側から順に配される第１ローラ２６と第２ローラ２７、側部材１１の搬送路に配される第３ローラ２８、側部材１１と中央部材１２との両方を支持するように搬送路に配される第４ローラ２９を有することが好ましい。
【００３１】
第４ローラ２９は、側部材１１の一方の側縁と中央部材１２の一方の側縁とが接触を開始する突き合わせ位置Ｐｈにおいて、送られてきた側部材１１と中央部材１２とを支持する突き合わせ支持ローラである。
【００３２】
第２ローラ２７と第３ローラ２８とは、第４ローラ２９の周面で中央部材１２と側部材１１とが接触するように中央部材１２の搬送経路と側部材１１の搬送経路とをそれぞれ調整する。
【００３３】
第２ローラ２７は、中央部材１２の搬送経路を調整して、側部材１１と溶接されるべき側縁１２ｅの通過経路を、突き合わせ位置Ｐｈに向けて制御する。第２ローラ２７は、中央部材１２の幅方向Ｙに移動自在となっている。シフト機構３２は、第２ローラ２７を幅方向Ｙへ移動する。
【００３４】
第２ローラ２７と第４ローラ２９との間には、中央部材１２の各側縁１２ｅのうちの一方の通過位置を検出し、検出した通過位置の信号をコントローラ３３に送る位置検出手段３４が配される。コントローラ３３は、送られてきた通過位置の信号に基づき、幅方向Ｙにおける第２ローラ２７の変位量を求め、変位量の信号をシフト機構３２に送る。シフト機構３２は、送られてきた変位量の信号に基づき第２ローラ２７の傾きや中央部材１２の幅方向Ｙにおける第２ローラ２７の位置を変える。このように第２ローラ２７の傾きや位置を変えることにより、中央部材１２が幅方向Ｙに変位する。
【００３５】
第１ローラ２６には、シフト機構３７が設けられていることが好ましい。このシフト機構３７により、第１ローラ２６は、第２ローラ２７に向かう中央部材１２を一方の部材面から押す。この第１ローラ２６の変位量に応じて、第１ローラ２６の中央部材１２に対する押し圧が変わり、押し圧を調整することにより、第２ローラ２７に巻き掛ける中央部材１２の巻き掛け中心角を制御することができる。この巻き掛け中心角の制御により、第２ローラ２７による中央部材１２の幅方向Ｙでの変位量をより精緻に制御することができる。
【００３６】
第３ローラ２８は、側部材１１の搬送経路を調整して、中央部材１２と溶接されるべき一方の側縁１１ｅの通過経路を突き合わせ位置Ｐｈに向けて調整する。第３ローラ２８には、長手方向の向きを制御するコントローラ３８が備えられる。このコントローラ３８は、例えば、側部材１１と接触している間の接触領域における周方向と中央部材１２の搬送方向Ｘとのなす角θ１が変化するように、第３ローラ２８の長手方向を側部材１１の部材面に沿って変化させる。
【００３７】
以上のように第１ローラ２６〜第３ローラ２８を用いて、突き合わせ位置Ｐｈが第４ローラ２９上になるように制御することが好ましい。第１ローラ２６〜第３ローラ２８は、いずれも周方向に回転する駆動ローラであることが好ましい。周方向に回転することにより、第１ローラ２６及び第２ローラ２７は、中央部材１２の搬送手段としても作用し、第３ローラ２８は、側部材１１の搬送手段としても作用する。第１ローラ２６〜第３ローラ２８を駆動ローラとすることにより、側部材１１と中央部材１２との搬送路の制御がより確実になるとともに、側部材１１と中央部材１２との第１ローラ２６〜第３ローラ２８上でのスリップを防止して部材面に傷がつくことが防止される。
【００３８】
（溶接ユニット）
溶接ユニット１８は、互いの側縁１１ｅ，１２ｅが接触した状態で突き合わせ部１７から供給される側部材１１と中央部材１２とを溶接する。突き合わせ部１７から連続的に供給されることにより、側部材１１と中央部材１２とを長手方向で溶接する長手溶接工程を行うことができる。溶接ユニット１８は、溶接装置４２を備える。溶接装置４２としては、例えば、レーザ溶接装置が挙げられる。レーザ溶接装置としては、例えば、ＣＯ２レーザ溶接装置や、ＹＡＧレーザ溶接装置を用いることができる。本実施態様では、ＣＯ２レーザ溶接装置を溶接装置４２として用いた場合を説明する。
【００３９】
溶接装置４２は、集光したレーザ光を射出して、照射対象としての側部材１１及び中央部材１２にレーザ光を照射することにより、側部材１１と中央部材１２とを溶融して接合する。溶接装置４２は、レーザ発振器４３と、このレーザ発振器４３から案内されてきたレーザ光を集光して射出する溶接装置本体４６と、レーザ光を照射するにあたりＣＯ２ガスを供給するガス供給部（図示無し）とを備える。ＣＯ２ガスは、側部材１１と中央部材１２との酸化を防止する。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにレーザ発振器４３の図示は略してある。
【００４０】
レーザ溶接装置に代えてＴＩＧ溶接（Ｔｕｎｇｓｔｅｎ Ｉｎｅｒｔ Ｇａｓ ｗｅｌｄｉｎｇ）装置を用いてもよい。ＴＩＧ溶接とは、周知のように、アークを熱源とする溶接アーク溶接のひとつであり、シールドガスとしてイナートガス（不活性ガス）を用い、電極にはタングステンあるいはタングステン合金を用いるイナートガスアーク溶接の一種である。ＴＩＧ溶接よりもレーザ溶接の方がより好ましい。また、ＴＩＧ溶接とレーザ溶接とを組み合わせたハイブリッド溶接としてもよい。
【００４１】
溶接装置本体４６のレーザ光の射出口に対向するように、側部材１１と中央部材１２との搬送路には側部材１１と中央部材１２とを周面で支持する溶接支持ローラ４１が備えてある。溶接支持ローラ４１の回転軸は、側部材１１及び中央部材１２の幅方向Ｙと平行である。溶接支持ローラ４１の周面で支持されている間の側部材１１と中央部材１２とにレーザ光が照射されるように、溶接支持ローラ４１による側部材１１と中央部材１２との支持位置を設定することが好ましい。すなわち、溶接支持ローラ４１上で、溶接をすることが好ましい。これにより、互いに側縁１１ｅ，１２ｅが接した状態で側部材１１と中央部材１２とが安定し、照射すべき箇所にレーザ光を確実に照射することができる。
【００４２】
溶接装置本体４６には、幅方向Ｙに変位するためのシフト機構５０が備えられることが好ましい。溶接装置４２の上流側には、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが接している接触位置Ｐｓ（図５参照）を検出し、検出した接触位置Ｐｓ（図５参照）の信号をコントローラ５１に送る位置検出手段４７が設けてある。位置検出手段４７は、突き合わせ位置Ｐｈから溶接装置４２（例えば、溶接位置Ｐｗ）に至る搬送路近傍に配されてあればよい。
【００４３】
コントローラ５１は、送られてきた接触位置Ｐｓ（図５参照）の信号に基づき、幅方向Ｙにおける溶接装置本体４６の変位量を求め、変位量の信号をシフト機構５０に送る。コントローラ５１は、側部材１１と中央部材１２との搬送速度の信号が入力されると、溶接装置本体４６を変位させるべき変位量の信号とともに変位させるタイミングの信号とをシフト機構５０に送る。シフト機構５０は、送られてきた変位量及び変位のタイミングの信号に基づき、溶接装置本体４６の位置を所定のタイミングで変える。このように溶接装置本体４６の位置を幅方向Ｙで変えることにより、レーザ光の照射位置をより精緻に制御して、より確実に、側部材１１と中央部材１２とが溶接される。なお、本実施形態における溶接装置４２への側部材１１と中央部材１２との搬送速度は０．１５ｍ／分以上２０ｍ／分以下の範囲としてある。
【００４４】
溶接ユニット１８には、図１に示すように、溶接装置本体４６と溶接支持ローラ４１とを外部空間と仕切るチャンバ５２と、気体を清浄化する清浄装置５５とを設けることがより好ましい。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにチャンバ５２と清浄装置５５との図示は略してある。チャンバ５２には、内部気体を外部に出す第１開口（図示無し）と、清浄装置５５で清浄化された気体を内部に案内する第２開口（図示無し）とが設けられる。第１開口と第２開口とは、それぞれ清浄装置５５に接続する。チャンバ５２の内部気体は、第１開口から清浄装置５５に案内され、清浄装置５５はチャンバ５２から案内されてきた気体を清浄化して第２開口を介してチャンバ５２に送る。このように、チャンバ５２の内部気体は、清浄装置５５との間で循環される。
【００４５】
チャンバ５２の内部気体を清浄化しておくことにより、溶接位置Ｐｗ及びその周辺が清浄化され、溶接部１３ｗに異物等が混入されてしまうことが防止される。なお、チャンバ５２の内部の圧力が、外部空間の圧力よりも高く保持することにより、チャンバ５２の内部を清浄化した状態により確実に保持することができる。また、溶接位置Ｐｗを、送出部１６、突き合わせ部１７、加熱部１９、巻取装置２０に対して相対的に高い位置にすることにより、これらから異物が案内されることをより防止することができる。
【００４６】
チャンバ５２の内部の清浄度は、例えば、米国連邦規格ＦＥＤ−ＳＴＤ−２０９Ｄでのクラス１０００以下とすることが好ましく、クラス１００以下にすることがより好ましい。
【００４７】
（加熱部）
加熱部１９は、溶接ユニット１８よりも下流側に設けられることが好ましい。加熱部１９は、溶接により得られたバンド部材１３の溶接部１３ｗを一定の温度範囲になるように加熱するものであれば特に限定されない。溶接部１３ｗ及びその周辺には、溶接により生じたひずみに起因する応力が内部に残っていることがある。このような溶接部１３ｗやその周辺を加熱部１９により加熱することにより応力を除去することができる。この応力の除去により、長時間連続して溶液製膜方法を行う場合であっても、溶接部１３ｗの変形を抑えることができる。
【００４８】
加熱部１９の加熱による溶接部１３ｗの温度は、応力が除去される温度であれば特に限定されないが、例えばバンド部材１３がステンレス鋼からなる場合には、溶接部１３ｗの温度は、１００℃以上２００℃以下であることが好ましく、１２０℃以上１８０℃以下であることがより好ましい。
【００４９】
加熱部１９としては、例えば、送風手段がある。加熱部１９としての送風手段は、図１に示すように、一定の温度の気体を吹き出すダクト５６と、気体の温度を制御した上でこの気体をダクト５６に送り込む送風機５７とがある。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにダクト５６と送風機５７との図示は略してある。
【００５０】
加熱部１９は、バンド部材１３の搬送路に関し、図１のように溶接支持ローラ４１とは反対側に設けてもよいし、溶接支持ローラ４１と同じ側に設けてもよい。
【００５１】
応力を除去されたバンド部材１３は、加熱部１９の下流の巻取装置２０に送られ、ロール状に巻き取られる。巻取装置２０には、バンド部材１３を巻き取る巻き芯がセットされ、この巻き芯を周方向に回転させる駆動手段が設けられている。
【００５２】
巻取装置２０は、溶接位置Ｐｗにおけるバンド部材１３と側部材１１及び中央部材１２との張力を制御する溶接張力制御手段としても作用する。そこで、溶接位置Ｐｗにおけるバンド部材１３と側部材１１及び中央部材１２との張力が一定に保持されるように、巻取装置２０のトルクを制御することが好ましい。これにより、溶接部１３ｗを長手方向において一定の状態にすることができる。
【００５３】
溶接を開始する場合には、例えば、巻取装置２０を用いて以下のようにすると好ましい。まず、送出部１６から巻取装置２０に至る搬送路に側部材１１と中央部材１２とをセットし、側部材１１と中央部材１２との各先端を巻取装置２０の巻き芯に巻き掛ける。側部材１１と中央部材１２との巻取を開始する。巻取を開始して、側部材１１と中央部材１２との搬送の経路を制御して突き合わせ位置Ｐｈを所定位置に保持する。側部材１１と中央部材１２との突き合わせ位置Ｐｈが一定に保持されるようになった後に、溶接装置４２により溶接を開始する。
【００５４】
（ずれ防止）
溶接は、側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３との位置ずれを抑止しながら実施することが好ましい。例えば、溶接ユニット１８に代えて、押圧装置を備える図３及び図４に示すような溶接ユニット６１を用いてもよい。溶接ユニット６１は、図１及び図２に示す溶接ユニット１８に、押圧装置６２をさらに備えたものであり、シフト機構５０、コントローラ５１、チャンバ５２、清浄装置５５を溶接ユニット１８と同様に備えるが、図示の煩雑化を避けるため図３及ぶ図４ではこれらの図示を略してある。また、図１及び図２と同じ装置、部材については図１及び図２と同じ符号を付し、説明を略す。なお、溶接ユニット６１では、チャンバ５２は、押圧装置６２と溶接支持ローラ４１とを外部空間と仕切るように囲む。
【００５５】
押圧装置６２は、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３との位置ずれを抑止するものであり、第１ベルト６３及び第２ベルト６４とからなる１対のベルトにより、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３とを押さえる。
【００５６】
第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、環状に形成された無端のベルトである。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、第５ローラ６７〜第７ローラ６９の周面に、第５ローラ６７〜第７ローラ６９の各長手方向に並ぶように巻き掛けられる。第５ローラ６７〜第７ローラ６９のうち少なくともいずれかひとつのローラは、周方向に回転する駆動ローラとされる。この駆動ローラの回転によって、第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、互いに平行な搬送路を保持しながら、搬送される。
【００５７】
第５ローラ６７〜第７ローラ６９は、回転軸が溶接支持ローラ４１の回転軸と平行となるように配される。
【００５８】
第５ローラ６７〜第７ローラ６９は、側部材１１と中央部材１２との搬送路に関し、第４ローラ２９と溶接支持ローラ４１とが配されてある側とは反対側の領域に配される。第５ローラ６７は、第４ローラ２９から溶接支持ローラ４１へ向かう側部材１１と中央部材１２との搬送路に対向するように設けられる。第６ローラ６８は、溶接支持ローラ４１から加熱部１９に向かう側部材１１と中央部材１２との搬送路に対向するように設けられる。第７ローラ６９は、第６ローラ６８から第５ローラ６７へ向かう第１ベルト６３と第２ベルト６４との搬送路を決定するように、適宜配される。
【００５９】
第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、第５ローラ６７から第６ローラ６８に向かう第１ベルト６３と第２ベルト６４とが、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３とを押圧するように搬送されるように配される。例えば、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とを上方から溶接する場合には、第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、これらの各下端が、溶接支持ローラ４１の上端よりも低い位置となるように配される。
【００６０】
第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、第１ベルト６３の搬送路が側部材１１と側部材１１から形成されるバンド部材１３の側部１３ｓとの搬送路と対向するように、また、第２ベルト６４の搬送路が中央部材１２と中央部材１２から形成されるバンド部材１３の中央部１３ｃとの搬送路に対向するように、設けられる。これにより、第１ベルト６３は側部材１１と側部１３ｓとを、第２ベルト６４は中央部材１２と中央部１３ｃとを、それぞれ溶接支持ローラ４１に押圧する。
【００６１】
以上のように、第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、それぞれ溶接支持ローラ４１にそれぞれ対向して設けられ、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２との高さが等しくなるように押圧する。側部材１１と中央部材１２との高さとは、各部材１１，１２の表面の高さである。このように高さが等しくなるように側部材１１と中央部材１２とを押さえ、この状態で溶接を実施することにより、溶接部１３ｗの態様が長手方向でより均一になるとともに、溶接をより確実に行うことができる。
【００６２】
図５及び図６を参照しながら、長手溶接工程についてさらに詳細に説明する。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、互いに離れた状態で搬送される。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、溶接位置Ｐｗが第１ベルト６３と第２ベルト６４との隙間を通過するように搬送路が設定される。これにより、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが接している接触位置Ｐｓは、図５に示すように第１ベルト６３と第２ベルト６４との隙間を通過し、第１ベルト６３と第２ベルト６４との間で溶接される。なお、図５においては溶接装置本体４６の図示を略してある。
【００６３】
第１ベルト６３と第２ベルト６４との間隔Ｄ１は、６ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲とすることが好ましい。側部材１１と中央部材１２との幅方向Ｙにおける断面において、接触位置Ｐｓと第１ベルト６３との距離Ｄ２、及び、接触位置Ｐｓと第２ベルト６４との距離Ｄ３は、それぞれ３ｍｍ以上６ｍｍ未満の範囲とすることが好ましい。
【００６４】
押圧装置６２に代えて、溶接支持ローラ４１の回転軸と平行な回転軸を有するローラ（図示無し）を溶接装置本体４６の上流と下流とにそれぞれ配してもよい。この場合には、上流の一方のローラで側部材１１と中央部材１２と押さえ、下流の他方でバンド部材１３を押さえることにより、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２とを押圧することができる。
【００６５】
図６に示すように、接触位置Ｐｓ及びこの周辺には溶接装置４２の熱により溶解されて溶接ビード７２が形成される。この溶接ビード７２から両側に熱が伝わり、側部材１１と中央部材１２とのそれぞれに溶接での熱の影響を受ける熱影響領域７３が生じる。この熱影響領域７３は、熱影響をうけない他の領域とは異なる性状をただちに示したり、経時的に示すようになったりすることがある。例えば、このように熱影響が幅広く生じたものを流延支持体として用いると、溶液製膜方法を長時間連続して行う場合に、溶接部１３ｗが変形する、あるいは、流延膜が発泡するなどの弊害が生じる。
【００６６】
そこで、図５に示すように、溶接支持ローラ４１の周面のうち、接触位置Ｐｓが通過する通過領域には、側部材１１及び中央部材１２よりも熱伝導率が高い素材からなる高熱伝導部７１が形成されていることが好ましい。これにより、溶接装置４２（図３、図４参照）からの熱をよりはやく拡散させることができる。熱をよりはやく溶接支持ローラ４１側で拡散させるために、側部材１１と中央部材１２との熱影響領域７３の幅をより小さくしたり熱影響領域７３の深さも浅くすることができる。
【００６７】
高熱伝導部７１とされる通過領域の幅Ｄ４は２６ｍｍ以上３２ｍｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００６８】
さらに、第１ベルト６３及び第２ベルト６４の両面にも、側部材１１及び中央部材１２よりも熱伝導率が高い素材からなる高熱伝導部が形成されていることがより好ましい。これにより、熱影響領域７３の大きさを、幅方向または厚み方向において小さくすることができる。
【００６９】
側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとは、溶接位置Ｐｗにおいて隙間が０（ゼロ）になるように密着した状態であることが好ましい。そこで、側部材１１と中央部材１２とは、各側縁１１ｅ及び１２ｅを突き合わせたときに隙間が生じないような形状に予め形成されてあることが好ましい。これにより、溶接部に空隙がないバンド部材をより確実に製造することができる。
【００７０】
上記の長手溶接工程は、側部材１１と中央部材１２との長手方向に連続して溶接を実施する連続溶接工程のみであってもよいし、これに加えて、断続的に溶接を実施する断続溶接工程を実施してもよい。断続的に溶接すると、溶接装置４２に連続的に送られてくる側部材１１と中央部材１２とは、間欠的に溶接される。このような断続溶接工程は、連続溶接工程の前に行うことが好ましい。この場合には、断続溶接工程で、まず、側部材１１と中央部材１２とを仮接合し、その後、連続溶接工程で長手方向全域に亘り接合するとよい。
【００７１】
断続溶接工程で仮接合し、その後連続溶接工程で接合を行う場合には、突き合わせ部１７（図１，図２参照）から溶接ユニット１８に側部材１１と中央部材１２とを案内して断続的に溶接する。なお、側部材１１と中央部材１２とに、後の流延支持体として用いる際の流延面に対応する表面と、非流延面に対応する裏面とを設定してある場合には、断続溶接工程での溶接は、裏面に対して行うことが好ましい。そこで、裏面が溶接装置本体４６（図１参照）に対向して通過するように、側部材１１と中央部材１２とを搬送する。
【００７２】
断続溶接工程を行った後に、巻取装置２０に案内して巻き取る。なお、巻取前に溶接部に対して加熱部１９により加熱してもよい。断続溶接工程を経て巻き取られた側部材１１と中央部材１２とからなる仮接合部材（図示無し）を、送出装置（図示無し）により巻きだして溶接ユニット１８に再び送る。この送り出しは、仮溶接部材の表面が溶接装置本体４６（図１参照）に対向して通過するように行う。溶接ユニット１８では連続溶接を行い、バンド部材１３を得る。なお、この方法に代えて、ふたつの溶接ユニット１８を相対的に上流と下流とに並べて配し、上流の一方の溶接ユニット１８で断続溶接を実施し、下流の他方の溶接ユニット１８で連続溶接を実施してもよい。
【００７３】
溶接を行うと溶接ビード７２が側部材１１と中央部材１２とよりも盛り上がって形成される場合がある。そこで、以上のように一方の面を長手方向で溶接する第１工程と他方の面を長手方向で溶接する第２工程とを実施する場合において用いる溶接支持ローラ４１には、図５に示すように、溶接支持ローラ４１の周面のうち接触位置Ｐｓが通過する通過領域に、溝７６が形成されてあることが好ましい。第１工程で盛り上がった溶接ビート７２から形成された溶接部が、この溝７６を通過するように、側部材１１と中央部材１２とを搬送して第２工程を実施するとよい。これにより、より平滑で、残留応力がより少ないバンド部材１３を得ることができる。したがって、溶液製膜で用いても流延支持体としてのバンドに変形や、性状の変化がより少なく、流延膜が発泡せず、厚みのむらがないフィルムをより確実に製造することができる。
【００７４】
溝７６の幅Ｄ５は、６ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲であることが好ましく、溝の深さＤ６は、１ｍｍ程度でよい。
【００７５】
以上の実施形態では突き合わせ部１７における側部材１１の搬送経路を調整する手段として第３ローラ２８を用いるが、第３ローラ２８に代えて、図７に示すようなテーパローラ８１を用いてもよい。テーパローラ８１は、一端から他端に向けて径ｄが連続的に漸減するように形成された断面円形のローラである。径ｄは、一端から他端に向けて一定の割合で連続的に漸減する。径ｄの大きい一端が中央部材１２の搬送路に向き、径ｄの小さい他端が中央部材１２とは反対側（側部材１１の搬送路側）に向くように、テーパローラ８１を配する。
【００７６】
搬送されている側部材１１は、このテーパローラ８１に接触することにより、搬送の経路を中央部材１２に向かう矢線Ａの方向に変え、中央部材１２に寄るようになる。これにより、突き合わせ位置Ｐｈ（図１、図２参照）に向けて側部材１１は確実に搬送される。
【００７７】
テーパローラ８１には、周方向に回転する駆動手段８２が備えられていることが好ましい。回転軸は、一端面の中央と他端面の中央とを挿通して形成されてある。駆動手段８２で回転するテーパローラ８１により側部材１１を搬送することにより、側部材はより効果的に中央部材１２に寄るようになる。
【００７８】
第３ローラ２８に代えて、図８に示すような把持手段としてのクリップ８５を用いてもよい。クリップ８５は、コの字状に開いたクリップ本体８６と、クリップ本体８６の各先端部に設けられた１対の狭持ピン８７とを備え、側部材１１を狭持して把持する。狭持ピン８７は、側部材１１を狭持する狭持位置と、狭持位置から退避する退避位置との間で移動自在に設けられる。クリップ８５は、移動機構８８を備え、把持を開始する把持開始位置と、把持を解除する把持解除位置との間で移動自在とされる。また、クリップ８５は、幅方向Ｙにも移動自在とされる。
【００７９】
クリップ８５は、把持開始位置で狭持ピン８７が狭持位置に移動することにより側部材１１を把持する。クリップ８５は、側部材１１を把持した状態で中央部材１２に向かう方向Ａに寄せつつ、下流へと搬送する。
【００８０】
テーパローラ８１とクリップ８５とは、側部材１１を中央部材１２へ寄せるために用いる他に、中央部材１２を側部材１１に寄せるために用いてもよい。この場合には、テーパローラ８１、クリップ８５で中央部材１２を支持あるいは搬送するとよい。
【００８１】
上記の実施形態では、中央部材１２に両側部材１１を同時に溶接しているが、一方の側部材１１を中央部材１２に溶接した後に、他方の側部材１１を中央部材１２に溶接してもよい。
【００８２】
（バンド）
図９に示すように、流延支持体として用いるバンド９１は、環状にされた無端のバンドである。バンド９１は、バンド部材１３の長手方向における一端と他端とを溶接してなる。なお、バンド９１をつくるためのバンド部材１３は、所定の長さにカットしても良いし、あらかじめ所定の長さにカットされた側部材１１と中央部材１２とからバンド部材１３を作った場合は、カットせずにそのまま、バンド９１をつくってもよい。当該溶接部におけるピンホールの直径は４０μｍ未満であることが好ましい。
【００８３】
バンド部材１３は、幅方向Ｙと交差する方向でカットすることが好ましい。カットの方向は、幅方向Ｙとなす角が概ね５°以上１５°以下の範囲となるようにカットすることがより好ましい。このようにカットしたバンド部材１３の長手方向における先端と先端とを溶接した溶接部９１ｖと、幅方向Ｙとのなす角θ２は、概ね５°以上１５°以下の範囲となる。このように長尺のバンド部材１３を環状にする環状溶接工程では、長手溶接工程で用いた溶接装置４２を用いてもよいし、公知の他の溶接装置を用いてもよい。
【００８４】
溶接により製造されたバンド９１は、側部材１１（図１〜図８参照）から形成された側部９１ｓと、中央部材１２（図１〜図８参照）から形成された中央部９１ｃとからなり、側部９１ｓ及び中央部９１ｃの溶接部９１ｗは表面９１ａや裏面９１ｂに露出する。溶接部９１ｗは、溶接部１３ｗに相当する部分である。線状の溶接部９１ｗは、バンド９１の長手方向と平行となるように設けられることが好ましい。このように得られるバンド９１の幅は、２０００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下の範囲である。
【００８５】
得られたバンド９１は、表面を研磨して鏡面にした後、溶液製膜設備に用いられる。次に、溶液製膜設備において、フィルムを製造する方法について以下に説明する。ポリマーの種類は特に限定されず、溶液製膜でフィルムにすることができる公知のポリマーを用いてよい。以下の実施形態では、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いた場合を例にして説明する。
【００８６】
（溶液製膜設備）
図１０に示すように、溶液製膜設備１１０は、ドープ１１２から湿潤フィルム１１３をつくる流延装置１１５と、湿潤フィルム１１３の乾燥によりフィルム１１６を得るクリップテンタ１１７と、湿潤フィルム１１３の乾燥を行うフィルム乾燥装置１１８と、フィルム１１６を巻き芯に巻き取る巻取装置１１９とを有する。
【００８７】
（流延装置）
図１０及び図１１に示すように、流延装置１１５は、ケーシング１２１と、ケーシング１２１内に配された流延装置本体とを有する。流延装置本体は、流延支持ユニットと、仕切りユニットと、流延ユニットと、膜乾燥ユニットと、剥離ローラ１２２とを有する。
【００８８】
流延支持ユニットは、水平ドラム１２４、１２５と、水平ドラム１２４、１２５に掛け渡されたバンド９１と、バンド移動制御ユニット１２８（図１２参照）とを備える。
【００８９】
水平ドラム１２４は、駆動軸１２４ａと、駆動軸１２４ａに軸着されたステンレス製のドラム本体１２４ｂとを備える。水平ドラム１２５は、軸１２５ａと、軸１２５ａに軸着されたステンレス製のドラム本体１２５ｂとを備える。ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂの周面は平らに形成される。
【００９０】
バンド９１は、帯状のシート材の両端を連結することにより得られる。バンド９１は、前述したバンド製造設備１０（図１参照）により製造可能である。
【００９１】
バンド９１は、十分な耐腐食性と強度とを有するＳＵＳ３１６製であることが好ましい。バンド９１の幅は、例えば、ドープ１１２の流延幅の１．１倍以上２．０倍以下であることが好ましい。バンド９１の長さは、例えば、２０ｍ以上２００ｍ以下であることが好ましい。バンド９１の厚みは、例えば、０．５ｍｍ以上〜２．５ｍｍ以下であることが好ましい。なお、バンド９１の厚みムラは、全体の厚みに対して０．５％以下のものを用いることが好ましい。また、流延膜が形成される表面（以下、流延面と称する）９１ａと、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂと接する裏面９１ｂは平坦に形成される。特に、流延面９１ａは、研磨されていることが好ましく、流延面９１ａの表面粗さは０．０５μｍ以下であることが好ましい。
【００９２】
図１２に示すように、バンド移動制御ユニット１２８は、バンド９１の移動や温度を制御するためのものであり、駆動用モータ１２８ｍと、軸シフト部１２８ｓと、ロードセル１２８ｌｃと、ドラム温調部１２８ｄと、バンド温調部１２８ｂと、コントローラ１２８ｃとを備える。
【００９３】
駆動用モータ１２８ｍは、駆動軸１２４ａに接続する。コントローラ１２８ｃは、駆動用モータ１２８ｍを制御して、ドラム本体１２４ｂを所定の速度で回転させる。バンド９１は、ドラム本体１２４ｂの回転に伴い所定の方向へ循環移動し、ドラム本体１２５ｂは、バンド９１の移動に従って回転する。以下、バンド９１の移動方向をＺ１方向と称し、バンド９１の幅方向をＺ２方向と、垂直方向をＺ３方向と称する。
【００９４】
バンド９１の流延面９１ａの移動速度Ｖ９１ａは１５０ｍ／分以下であることが好ましい。移動速度Ｖ９１ａが１５０ｍ／分を超えると、ビードを安定して形成することが困難となる。移動速度Ｖ９１ａの下限値は、目標とするフィルムの生産性を考慮すればよい。移動速度Ｖ９１ａの下限値は、例えば、１０ｍ／分である。
【００９５】
駆動軸１２４ａは、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂに掛け渡されたバンド９１に所定の移動テンションが印加されるテンション印加位置と、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂに掛け渡されたバンド９１が弛む弛み位置との間で移動自在となっている。軸シフト部１２８ｓは、コントローラ１２８ｃの制御の下、テンション印加位置と弛み位置との間で、駆動軸１２４ａを変移可能である。軸シフト部１２８ｓは、軸１２５ａと平行な状態を維持しながら駆動軸１２４ａを変移させることが好ましい。
【００９６】
ロードセル１２８ｌｃは、駆動軸１２４ａに取り付けられる。ロードセル１２８ｌｃは、駆動軸１２４ａが受ける外力を検知する。コントローラ１２８ｃは、ロードセル１２８ｌｃから駆動軸１２４ａが受ける外力を読み取る。次に、コントローラ１２８ｃは、読み取った外力及び内蔵されたバンド９１の断面積の値に基づいて、バンド９１にかかる移動テンションが所定のものとなるように、軸シフト部１２８ｓを制御する。こうして、Ｚ２方向において一様な移動テンションを、バンド９１に印加することができる。
【００９７】
ドラム温調部１２８ｄは、水平ドラム１２４に取り付けられるドラム温調部１２８ｄａと、水平ドラム１２５に取り付けられるドラム温調部１２８ｄｂとを備える。ドラム温調部１２８ｄａ、１２８ｄｂは、それぞれ、コントローラ１２８ｃの制御の下、所望の温度に調節された伝熱媒体を、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂ内に設けられる流路中で循環させる。この伝熱媒体の循環により、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂの温度を所望の温度に保つことができる。バンド９１の流延面９１ａ、特に流延膜が形成される部分の温度は１０℃〜４０℃の範囲内で略一定に調節されることが好ましい。
【００９８】
バンド温調部１２８ｂについては、後述する。
【００９９】
仕切りユニットは、図１１に示すように、第１〜第３シール部材１３１〜１３３を備える。第１〜第３シール部材１３１〜１３３は、ケーシング１２１内にて、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって順次配される。第１〜第３シール部材１３１〜１３３は、それぞれ、ケーシング１２１の内壁面から突出し、突端がバンド９１の流延面９１ａに近接するように設けられる。第１〜第３シール部材１３１〜１３３により、ケーシング１２１内、すなわちケーシング１２１の内壁面と流延面９１ａとで囲まれたエリアは、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって、流延室１２１ａ、乾燥室１２１ｂ、及び剥離室１２１ｃに仕切られる。そして、流延室１２１ａの気密性は、第１〜第２シール部材１３１〜１３２により維持される。また、乾燥室１２１ｂの気密性は、第２〜第３シール部材１３２〜１３３により維持される。第１〜第３シール部材１３１〜１３３と流延面９１ａとの間隔は、例えば、１．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下である。
【０１００】
（流延室）
流延室１２１ａには、ドープ１１２から流延膜１４１を形成する流延ユニットが配される。流延ユニットは、流延ダイ１４２と減圧機１４３とを備える。流延ダイ１４２は、ドープ１１２を流出するドープ流出口１４２ａを有し、ドープ流出口１４２ａがバンド９１と近接するように、水平ドラム１２４の上方に配される。
【０１０１】
流延ダイ１４２は、ドープ流出口１４２ａからバンド９１に向けてドープ１１２を流出する。ドープ流出口１４２ａから流出し流延面９１ａに到達するまでのドープ１１２は、ビードを形成する。流延面９１ａに到達したドープ１１２は、Ｚ１方向にて流れ延ばされる結果、帯状の流延膜１４１を形成する。
【０１０２】
減圧機１４３は、ビードのＺ１方向の上流側を減圧するためのものであり、流延ダイ１４２のドープ流出口１４２ａよりもＺ１方向の上流側に配置される減圧チャンバ１４３ａと、減圧チャンバ１４３ａ内の気体を吸引するための減圧ファン（図示しない）と、減圧ファン及び減圧チャンバ１４３ａとを接続する吸引管（図示しない）とを有する。
【０１０３】
（乾燥室）
乾燥室１２１ｂには、流延膜の乾燥を行う膜乾燥ユニットが配される。膜乾燥ユニットは、流延膜１４１に所定の乾燥風を供給する第１乾燥機１５１〜第２乾燥機１５２と、乾燥制御機（図示しない）とを備える。第１乾燥機１５１〜第２乾燥機１５２は、乾燥室１２１ｂにおいて、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって順次設けられる。第１乾燥機１５１は、水平ドラム１２４，１２５に掛け渡されたバンド９１の上方に配される。第２乾燥機１５２は、水平ドラム１２４，１２５に掛け渡されたバンド９１の下方に配される。
【０１０４】
第１乾燥機１５１は、第１給気ダクト１５１ａと第１排気ダクト１５１ｂとを備える。第１給気ダクト１５１ａと第１排気ダクト１５１ｂとは、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって順次設けられる。第１給気ダクト１５１ａと第１排気ダクト１５１ｂとは、それぞれバンド９１から離隔して配される。第１給気ダクト１５１ｂには、第１乾燥風１５１ｄａが送り出される第１給気口が設けられる。Ｚ１方向下流側に向かって開口する第１給気口は、流延膜１４１の一の端から他の端まで延設される。第１排気ダクト１５１ａには、第１乾燥風１５１ｄａを排気する第１排気口が設けられる。Ｚ１方向上流側に向かって開口する第１排気口は、流延膜１４１の一の端から他の端まで延設される。
【０１０５】
第２乾燥機１５２は、第２排気ダクト１５２ａと第２給気ダクト１５２ｂとを備える。第２排気ダクト１５２ａと第２給気ダクト１５２ｂとは、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって順次設けられる。第２排気ダクト１５２ａ及び第２給気ダクト１５２ｂは、それぞれバンド９１から離隔して配される。第２排気ダクト１５２ａには、第２乾燥風１５２ｄａを排気する第２排気口が設けられる。Ｚ１方向下流側に向かって開口する第２排気口は、流延膜１４１の一の端から他の端まで延設される。第２給気ダクト１５２ｂには、第２乾燥風１５２ｄａが送り出される第２給気口が設けられる。Ｚ１方向上流側に向かって開口する第２給気口は、流延膜１４１の一の端から他の端まで延設される。
【０１０６】
乾燥制御機は、第１乾燥風１５１ｄａ及び第２乾燥風１５２ｄａの温度や風速を独立して調節するものであり、第１乾燥風１５１ｄａ及び第２乾燥風１５２ｄａの温度を調節する第１〜第２温調機（図示しない）と、第１乾燥風１５１ｄａ及び第２乾燥風１５２ｄａの風量を調節する第１〜第２送風ファン（図示しない）と、コントローラ（図示しない）とを備える。第１〜第２温調機及び第１〜第２送風ファンは、第１乾燥機１５１〜第２乾燥機１５２のダクト内に設けられる。コントローラは、第１〜第２温調機及び第１〜第２送風ファンを制御して、第１乾燥風１５１ｄａ及び第２乾燥風１５２ｄａについての温度や風速を独立して調節する。
【０１０７】
（剥取室）
剥離室１２１ｃには、剥離ローラ１２２が配される。剥取ローラ１２２は、剥ぎ取り可能な状態となった流延膜１４１をバンド９１から剥ぎ取って湿潤フィルム１１３とし、剥離室１２１ｃに設けられた出口１２１ｃｏから湿潤フィルム１１３を送り出す。こうして、水平ドラム１２４は、流延用、及び剥離用の金属ドラムとなる。
【０１０８】
ケーシング１２１内の雰囲気に含まれる溶剤を凝縮する凝縮装置、凝縮した溶剤を回収する回収装置を、流延装置１１５に設けてもよい。これにより、ケーシング１２１内の雰囲気に含まれる溶剤の濃度を一定の範囲に保つことができる。
【０１０９】
図１３に示すように、ドラム本体１２４ｂの外周部には、バンド９１の裏面９１ｂを支持するバンド支持面１２４ｂｓが形成される。バンド支持面１２４ｂｓには、逃げ溝１２４ｂｄが設けられる。逃げ溝１２４ｂｄは、周方向に延設され、環状に形成される。同様に、ドラム本体１２５ｂの外周部には、バンド９１の裏面９１ｂを支持するバンド支持面１２５ｂｓが形成される。バンド支持面１２５ｂｓには、逃げ溝１２５ｂｄが設けられる。逃げ溝１２５ｂｄは、逃げ溝１２４ｂｄと同様の形状に形成され、周方向に延設され、環状に形成される。なお、周方向に延設された各逃げ溝１２４ｂｄ、１２５ｂｄは、溶接部に起因するフィルムの厚みムラ故障及び削り粉故障が抑えられる程度であれば、環状ではなく、すなわち、その両端が離れた形状でもよい。
【０１１０】
図１４に示すように、溶接部９１ｗが逃げ溝１２４ｂｄ上となるように、バンド９１がドラム本体１２４ｂに巻き掛けられる。同様に、溶接部９１ｗが逃げ溝１２５ｂｄ上となるように、バンド９１がドラム本体１２５ｂに掛け渡される。
【０１１１】
逃げ溝１２４ｂｄの幅Ｗ１２４ｂｄは、溶接部９１ｗの幅に、各ドラム１２４、１２５に巻きかけた状態で移動させたときのバンド９１の蛇行幅を加えたものであればよく、例えば、２０ｍｍ以上４０ｍｍ以下である。逃げ溝１２４ｂｄの深さＤ１２４ｂｄは、逃げ溝１２４ｂｄの底部からバンド９１の裏面９１ｂまでの間隔ＣＬ１が０．１ｍｍ以内となるようなものあればよく、例えば、０．０３ｍｍ以上０．１ｍｍ以下である。なお、逃げ溝１２４ｂｄの端部分１２４ｂＥは、面取り加工されていることが好ましい。
【０１１２】
バンド９１が蛇行した場合に、逃げ溝１２４ｂｄの底部１２４ｂｂとバンド９１との間隔が増大するとバンド９１への伝熱不良が生じ、底部１２４ｂｂとバンド９１との間隔が減少すると溶接部９１ｗとの接触という問題が生じる。そこで、逃げ溝１２４ｂｄの底部１２４ｂｂは、平ら、すなわち、バンド支持面１２４ｂｓと平行であることが好ましい。逃げ溝１２４ｂｄの底部１２４ｂｂがバンド支持面１２４ｂｓと平行であることにより、バンド９１が蛇行した場合でも、底部１２４ｂｂとバンド９１との間隔を一定に保つことが可能となる。
【０１１３】
（バンド温調部）
図１１及び図１２に示すように、バンド温調部１２８ｂは、剥離室１２１ｃに配されたバンド表面冷却機１６１と、乾燥室１２１ｂに配されたバンド裏面冷却機１６２とを備える。
【０１１４】
バンド表面冷却機１６１は、図１４及び図１５に示すように、流延膜１４１が剥離される（以下、剥離位置と称する）位置ＰＰよりもＺ１方向下流側であって、Ｚ２方向では、逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分、すなわち溶接部９１ｗの近傍に設けられる。ここで、剥離位置ＰＰは、バンド９１のうち剥離用の金属ドラム、すなわち水平ドラム１２４によって支持された部分に設定される。
【０１１５】
バンド表面冷却機１６１は、冷却ガス１６１ａの温度を調節する温調部１６１ｔと、冷却ガス１６１ａを送り出す冷却ノズル１６１ｎと、冷却ノズル１６１ｎから送り出された冷却ガス１６１ａが流延面９１ａ側の溶接部９１ｗにあたるように、冷却ノズル１６１ｎの位置を調節する冷却ノズル位置調節部１６１ｓとを備える。
【０１１６】
バンド裏面冷却機１６２は、図１５及び図１６に示すように、Ｚ１方向では、バンド９１のうち、水平ドラム１２４に近づくように移動する部分であって、Ｚ２方向では、逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分、すなわち溶接部９１ｗの近傍に設けられる。
【０１１７】
バンド裏面冷却機１６２は、バンド表面冷却機１６１と同様に、冷却ガス１６２ａの温度を調節する温調部１６２ｔと、冷却ガス１６２ａを送り出す冷却ノズル１６２ｎと、冷却ノズル１６２ｎから送り出された冷却ガス１６２ａが裏面９１ｂ側の溶接部９１ｗにあたるように、冷却ノズル１６２ｎの位置を調節する冷却ノズル位置調節部１６２ｓとを備える。
【０１１８】
図１０に戻って、流延装置１１５とクリップテンタ１１７との間の渡り部には、湿潤フィルム１１３を支持する支持ローラ１７１が複数並べられている。支持ローラ１７１は、図示しないモータにより、軸を中心に回転する。支持ローラ１７１は、流延装置１１５から送り出された湿潤フィルム１１３を支持して、クリップテンタ１１７へ案内する。なお、渡り部に２つの支持ローラ１７１を並べた場合を示しているが、本発明はこれに限られず、渡り部に１つ、または３つ以上の支持ローラ１７１を並べてもよい。また、支持ローラ１７１は、フリーローラでもよい。
【０１１９】
クリップテンタ１１７は、湿潤フィルム１１３の幅方向両側縁部を把持する多数のクリップを有し、このクリップが延伸軌道上を移動する。クリップにより把持された湿潤フィルム１１３に対し乾燥風が送られ、湿潤フィルム１１３には、幅方向への延伸処理とともに乾燥処理が施される。
【０１２０】
クリップテンタ１１７とフィルム乾燥装置１１８との間には耳切装置１７２が設けられている。耳切装置１７２に送り出されたフィルム１１６の幅方向の両端は、クリップによって形成された把持跡が形成されている。耳切装置１７２は、この把持跡を有する両端部分を切り離す。この切り離された部分は、送風によりカットブロワ（図示しない）及びクラッシャ（図示しない）へ順次に送られて、細かく切断され、ドープ等の原料として再利用される。
【０１２１】
フィルム乾燥装置１１８は、フィルム１１６の搬送路を備えるケーシングと、フィルム１１６の搬送路を形成する複数のローラ１１８ａと、ケーシング内の雰囲気の温度や湿度を調節する空調機（図示しない）とを備える。ケーシング内に導入されたフィルム１１６は、複数のローラ１１８ａに巻き掛けられながら搬送される。この雰囲気の温度や湿度の調節により、ケーシング内を搬送されるフィルム１１６から残留した溶剤が蒸発する。更に、フィルム乾燥装置１１８に、フィルム１１６から蒸発した溶剤を吸着により回収する吸着回収装置が接続される。
【０１２２】
フィルム乾燥装置１１８及び巻取装置１１９の間には、上流側から順に、冷却室１７３、除電バー（図示しない）、ナーリング付与ローラ１７４、及び耳切装置（図示しない）が設けられる。冷却室１７３は、フィルム１１６の温度が略室温となるまで、フィルム１１６を冷却する。除電バーは、冷却室１７３から送り出され、帯電したフィルム１１６から電気を除く除電処理を行う。ナーリング付与ローラ１７４は、フィルム１１６の幅方向両端に巻き取り用のナーリングを付与する。耳切装置は、切断後のフィルム１１６の幅方向両端にナーリングが残るように、フィルム１１６の幅方向両端を切断する。
【０１２３】
巻取装置１１９は、プレスローラ１１９ａと巻き芯１１９ｂを有する。巻取装置１１９に送られたフィルム１１６は、プレスローラ１１９ａによって押し付けられながら巻き芯１１９ｂに巻き取られ、ロール状となる。
【０１２４】
次に、本発明の作用を説明する。図１１に示すように、コントローラ１２８ｃは、駆動用モータ１２８ｍを介して、水平ドラム１２４を回転させる。これにより、バンド９１は、各室１２１ａ〜１２１ｃを順次、循環移動する。
【０１２５】
（膜形成工程）
流延室１２１ａでは、バンド９１上にドープ１１２からなる流延膜１４１を形成する流延工程が行われる。流延ダイ１４２は、ドープ流出口１４２ａからドープ１１２を連続的に流出する。流出したドープ１１２は、流延ダイ１４２からバンド９１にかけてビードを形成し、バンド９１上にて流れ延ばされる。こうして、バンド９１上には、ドープ１１２からなる流延膜１４１が形成される。
【０１２６】
減圧機１４３は、ビードのＺ１方向上流側の圧力がビードのＺ１方向下流側の圧力よりも低い状態をつくることができる。ビードのＺ１方向上流側及びＺ１方向下流側の圧力差ΔＰは、１０Ｐａ以上２０００Ｐａ以下であることが好ましい。
【０１２７】
（膜乾燥工程）
乾燥室１２１ｂでは、所定の乾燥風を流延膜１４１にあてて、流延膜１４１から溶剤を蒸発させる乾燥工程が行われる。膜乾燥工程は、流延膜１４１は、自立して搬送可能な状態となるまで行われる。膜乾燥工程では、第１膜乾燥工程、及び第２膜乾燥工程が順次行われる。
【０１２８】
第１膜乾燥工程では、流延膜１４１の表層に乾燥層が形成するまで、流延膜１４１から溶剤を蒸発させる。第１乾燥機１５１は、第１乾燥風１５１ｄａを第１給気口から送り出す。
【０１２９】
この第１膜乾燥工程により、流延膜１４１は、乾燥層と湿潤層とを有するものとなる。乾燥層は、流延膜１４１の表面側に生成され、乾燥層よりもバンド９１側に位置する湿潤層に比べて乾燥が進んだ部分である。すなわち、乾燥層の溶剤の含有量は湿潤層に比べて低い。また、乾燥層の表面は平滑に形成される。乾燥層を有するものとなった流延膜１４１について所定の乾燥工程を行った場合には、乾燥層の表面が、得られた流延膜１４１の表面となる。したがって、形成直後の流延膜１４１において乾燥層を形成することにより、表面が平滑な流延膜１４１を得ることができる。
【０１３０】
ここで、溶剤の含有量は、流延膜や各フィルム中に含まれる溶剤の量を乾量基準で示したものであり、対象のフィルムからサンプルを採取し、このサンプルの重量をｘ、サンプルを乾燥した後の重量をｙとするとき、｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００と表される。
【０１３１】
第１乾燥風１５１ｄａの温度は３０℃以上８０℃以下であることが好ましい。また、第１乾燥風１５１ｄａの風速は５ｍ／秒以上２５ｍ／秒以下であることが好ましい。
【０１３２】
第２膜乾燥工程は、第２乾燥風１５２ｄａを用いて、自立して搬送可能な状態となるまで流延膜１４１から溶剤を蒸発させる。第２乾燥機１５２は、流延膜１４１の膜面に沿って、Ｚ１方向下流側から上流側に向かって第２乾燥風１５２ｄａを流す。このように、第２乾燥風１５２ｄａをＺ１方向と逆向きに流すことにより、Ｚ１方向に流す場合に比べて溶剤の蒸発が促進される。第２膜乾燥工程は、溶剤の含有量が２０質量％以上１５０質量％以下の流延膜１４１に対して行うことが好ましい。第２乾燥風１５２ｄａの温度は４０℃以上８０℃以下であることが好ましい。また、第２乾燥風１５２ｄａの風速は５ｍ／秒以上２０ｍ／秒以下であることが好ましい。
【０１３３】
（剥離工程）
剥離室１２１ｃでは、剥ぎ取り可能な状態となった流延膜１４１をバンド９１から剥離する剥離工程が行われる。剥離ローラ１２２は、剥離可能な状態となった流延膜１４１をバンド９１から剥ぎ取って湿潤フィルム１１３とし、剥離室１２１ｃに設けられた出口１２１ＣＯから湿潤フィルム１１３を送り出す。剥離工程は、溶剤の含有量が２０質量％以上８０質量％以下の流延膜１４１に対して行うことが好ましい。
【０１３４】
バンド９１は、剥離室１２１ｃを送り出された後、再び、流延室１２１ａに導入される。
【０１３５】
溶接部９１ｗを有するバンド９１は、中央部９１ｃ（図９参照）から側部９１ｓ（図９参照）にかけて反りやすい。バンド９１に反りが生じると、バンド９１の一部が水平ドラム１２４、１２５から浮いてしまう結果、発泡故障、剥げ残り故障、フィルムの厚みムラ故障が起こってしまう。水平ドラム１２４、１２５におけるバンド９１の浮き量は、水平ドラム１２４、１２５に巻き掛けられたバンド９１にはたらく垂直応力Ｎが大きくなるに従い、小さくなる。この性質を利用して、垂直応力Ｎの増大により浮き量ＣＬを減少させる浮き量減少工程を行なってもよい。
【０１３６】
ここで、Ｄｒを水平ドラムの半径とし、Ｔをバンドの移動テンションとし、ＴＨをバンドの厚みとすると、水平ドラムに巻き掛けられたバンドにはたらく垂直応力Ｎは、次式で表される。
Ｎ＝ＴＨ×Ｔ／Ｄｒ
【０１３７】
なお、水平ドラム１２４、１２５の半径Ｄｒが１０００ｍｍ、バンドの厚みＴＨが１．６ｍｍのとき、バンド９１にかかる移動テンションは、例えば、５０Ｎ／ｍｍ２〜７０Ｎ／ｍｍ２である。
【０１３８】
溶接部９１ｗを有するバンド９１を用いた溶液製膜方法を、長時間連続して行なった場合、溶接部９１ｗに起因した削り粉故障や厚みムラ故障が生じる。溶液製膜方法を長時間連続して行なうと、溶接部９１ｗが裏面９１ｂから突出してしまう。
【０１３９】
ここで、溶液製膜方法を長時間連続して行った場合に、溶接部９１ｗが裏面９１ｂから突出してしまう原因は、溶接部９１ｗの残留応力により起こる相変態であると推測される。
【０１４０】
そして、溶接部９１ｗが裏面９１ｂから突出した状態でバンド９１を移動させると、溶接部９１ｗとドラム本体１２４ｂ、１２５ｂの外周部とが接触する。裏面９１ｂにおいてこの接触が繰り返されると、経時により、流延面９１ａにおける溶接部９１ｗは凹状に変形する。この状態で溶液製膜方法を行なうと、フィルム１１６には、溶接部９１ｗの跡が厚みムラとなって残ってしまう。この厚みムラを有するフィルム１１６そのまま巻き芯１１９ｂに巻き取ってしまうと、溶接部９１ｗの跡が重なることにより黒い帯となってフィルムロールに現れてしまう（以下、黒帯故障と称する）。また、溶接部９１ｗが裏面９１ｂから突出した状態で溶液製膜方法を行なうと、溶接部９１ｗとドラム本体１２４ｂ、１２５ｂの外周部との擦れにより、削り粉故障が起こってしまう。
【０１４１】
本発明では、ドラム本体１２４ｂのバンド支持面１２４ｂｓに逃げ溝１２４ｂｄを設け、溶接部９１ｗが逃げ溝１２４ｂｄの上に位置するように、バンド９１をドラム本体１２４ｂに巻き掛けたため、溶接部９１ｗはドラム本体１２４ｂに接触しない。同様に、溶接部９１ｗが逃げ溝１２５ｂｄの上に位置するように、バンド９１をドラム本体１２５ｂに巻き掛けたため、溶接部９１ｗはドラム本体１２５ｂに接触しない。このため、厚みムラ故障及び削り粉故障を抑えることが可能となる。
【０１４２】
また、膜乾燥工程を経たバンド９１の温度は、各乾燥風との接触により、膜乾燥工程導入前に比べて高い。高温状態のバンド９１を用いて膜形成工程を行なうと、ドープの発泡がおこるおそれがある。ドラム温調部１２８ｄａによれば、バンド９１がドープの発泡温度よりも低温になるように、ドラム本体１２４ｂを冷却することが可能となる。そして、ドラム本体１２４ｂの冷却により、バンド９１のうち、ドラム本体１２４ｂと直接接触する部分の温度を、ドープの発泡温度よりも低温にすることができる。
【０１４３】
ところが、バンド９１のうち、ドラム本体１２４ｂと直接接触しない部分、すなわち逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分は、冷却が十分でない。そして、冷却が不十分であれば、ドープの発泡が起こってしまう。
【０１４４】
図１４に示すように、バンド表面冷却機１６１は、冷却ノズル１６１ｎを用いて、逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分に冷却ガス１６１ａをあてることができるため、ドラム温調部１２８ｄａによるドラム本体１２４ｂの冷却不足を補うことができる。したがって、ドープの発泡をより確実に抑えつつ、フィルム１１６を効率よく製造することができる。
【０１４５】
また、生産効率の点から、剥離工程を行なうタイミングは、流延膜の溶剤の含有量が高いほうが好ましい。しかしながら、溶剤の含有量が高い流延膜に対し剥離工程を行なおうとすると、残り故障が起こりやすい。そこで、剥離工程直前の流延膜を冷却することが好ましい。ドラム温調部１２８ｄａを用いてドラム本体１２４ｂを冷却することにより、剥離工程直前の流延膜の冷却が可能となる。ドラム本体１２４ｂの冷却により、バンド９１のうち、ドラム本体１２４ｂと直接接触する部分の温度を、ドープの発泡温度よりも低温にすることができる。
【０１４６】
ところが、バンド９１のうち、ドラム本体１２４ｂと直接接触しない部分、すなわち逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分は、冷却が十分でない。そして、冷却が不十分であれば剥げ残り故障が起こってしまう。
【０１４７】
図１６に示すように、バンド裏面冷却機１６２は、冷却ノズル１６２ｎを用いて、逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分に冷却ガス１６２ａをあてることができるため、ドラム温調部１２８ｄａによるドラム本体１２４ｂの冷却不足を補うことができる。したがって、剥げ残り故障をより確実に抑えつつ、フィルム１１６を効率よく製造することができる。
【０１４８】
なお、Ｚ１方向におけるバンド表面冷却機１６１の設定位置は、剥離位置ＰＰと到達位置ＣＰとの間であれば、剥離室１２１ｃ及び流延室１２１ａのいずれでもよい。ここで、到達位置ＣＰは、バンド９１のうち流延用の金属ドラム、すなわち水平ドラム１２４によって支持された部分に設定される（図１１及び図１５参照）。このように、バンド表面冷却機１６１を用いたバンド９１を冷却する工程は、剥離工程及び次の膜形成工程の間で行なえばよい。
【０１４９】
上記実施形態では、ステンレス製のバンド９１を用いたが、金属製のバンド９１であってもよい。同様に、ステンレス製の水平ドラム１２４，１２５を用いたが、金属製の水平ドラム１２４，１２５を用いてもよい。
【０１５０】
バンド表面冷却機１６１を用いて、冷却ガス１６１ａを流延面９１ａ側の溶接部９１ｗにあてる代わりに、流延面９１ａ側の溶接部９１ｗに溶剤を塗布した後に、塗布された溶剤を蒸発させても良いし、冷却されたローラを流延面９１ａ側の溶接部９１ｗに接触させた状態で転がしてもよい。同様に、バンド裏面冷却機１６２を用いて、冷却ガス１６２ａを裏面９１ｂ側の溶接部９１ｗにあてる代わりに、裏面９１ｂ側の溶接部９１ｗに溶剤を塗布した後に、塗布された溶剤を蒸発させても良いし、冷却されたローラを裏面９１ｂ側の溶接部９１ｗに接触させた状態で転がしてもよい。バンド表面冷却機やバンド裏面冷却機を用いてバンド９１を冷却する場合、ドープに含まれる溶剤をバンド９１に塗布しても良い。
【０１５１】
流延ダイ１４２の設置位置を水平ドラム１２４の上方としたが、本発明はこれに限られない。シール部材１３１〜１３２を水平ドラム１２５に巻き掛けられたバンド９１の部分と近接するように設けたときには、流延ダイ１４２の設置位置を水平ドラム１２５の上方としてもよい。この場合には、水平ドラム１２５が、流延用の金属ドラムとなり、水平ドラム１２４が剥離用の金属ドラムとなる。
【０１５２】
また、バンド９１を支持するサポートドラムを水平ドラム１２４、１２５の間に設け、シール部材１３１〜１３２をサポートドラムに支持されたバンド９１の部分と近接するように設けたときには、流延ダイ１４２の設置位置をサポートドラムの上方としても良い。この場合には、サポートドラムが、流延用の金属ドラムとなり、水平ドラム１２４が剥離用の金属ドラムとなる。
【０１５３】
本発明により得られるフィルム１１６は、特に、位相差フィルムや偏光板保護フィルムに用いることができる。
【０１５４】
フィルム１１６の幅は、６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下であることがより好ましい。また、本発明は、フィルム１１６の幅が２５００ｍｍより大きい場合にも効果がある。またフィルム１１６の膜厚は、２０μｍ以上８０μｍ以下であることが好ましい。
【０１５５】
また、フィルム１１６の面内レターデーションＲｅは、２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、フィルム１１６の厚み方向レターデーションＲｔｈは、−１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１５６】
面内レターデーションＲｅの測定方法は次の通りである。面内レターデーションＲｅは、サンプルフィルムを温度２５℃，湿度６０％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ 王子計測（株））にて６３２．８ｎｍにおける垂直方向から測定したレターデーション値を用いた。なおＲｅは以下式で表される。
Ｒｅ＝｜ｎ１−ｎ２｜×ｄ
ｎ１は遅相軸の屈折率，ｎ２は進相軸２の屈折率，ｄはフィルムの厚み（膜厚）を表す
【０１５７】
厚み方向レターデーションＲｔｈの測定方法は次の通りである。サンプルフィルムを温度２５℃，湿度６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメータ（Ｍ１５０ 日本分光（株）製）で６３２．８ｎｍにより垂直方向から測定した値と、フィルム面を傾けながら同様に測定したレターデーション値の外挿値とから下記式に従い算出した。
Ｒｔｈ＝｛（ｎ１＋ｎ２）／２−ｎ３｝×ｄ
ｎ３は厚み方向の屈折率を表す。
【０１５８】
（ポリマー）
上記実施形態では、ポリマーフィルムの原料となるポリマーは、特に限定されず、例えば、セルロースアシレートや環状ポリオレフィン等がある。
【０１５９】
（セルロースアシレート）
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでも良いし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていても良い。２種類以上のアシル基を用いるときは、その１つがアセチル基であることが好ましい。セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、すなわち、アシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するものが好ましい。なお、以下の式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）において、Ａ及びＢは、アシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）の９０重量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。
（Ｉ） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（ＩＩ） １．０≦ Ａ ≦３．０
（ＩＩＩ） ０ ≦ Ｂ ≦２．０
【０１６０】
アシル基の全置換度Ａ＋Ｂは、２．２０以上２．９０以下であることがより好ましく、２．４０以上２．８８以下であることが特に好ましい。また、炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度Ｂは、０．３０以上であることがより好ましく、０．５以上であることが特に好ましい。
【０１６１】
セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター，パルプのどちらから得られたものでも良い。
【０１６２】
本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でも良く特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していても良い。これらの好ましい例としては、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル、ブタノイルである。
【０１６３】
（溶剤）
ドープを調製する溶剤としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明において、ドープとはポリマーを溶剤に溶解または分散して得られるポリマー溶液，分散液を意味している。
【０１６４】
これらの中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ポリマーの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度など及びフィルムの光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対し２重量％〜２５重量％が好ましく、５重量％〜２０重量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノールあるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【０１６５】
ところで、最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない場合の溶剤組成についても検討が進み、この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素原子数１〜１２のアルコールが好ましく用いられる。これらを適宜混合して用いることがある。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶剤が挙げられる。これらのエーテル、ケトン，エステル及びアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン，エステル及びアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−及び−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶剤として用いることができる。
【０１６６】
なお、セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載も本発明にも適用できる。また、溶剤及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【０１６７】
上記実施形態では、溶液製膜方法について説明したが、本発明は、支持体の上に液を塗布（流延）して、塗布膜を形成する方法にも適用可能である。
【実施例】
【０１６８】
以下に本発明の効果を確認するために、実験１〜４を行った。各実験の詳細は実験１にて説明し、実験２〜４については、実験１と異なる条件のみを示す。
【０１６９】
（実験１）
流延面９１ａ及び裏面９１ｂに所定の研磨処理を行なったバンド９１を用いて、溶液製膜設備１１０（図１０参照）を連続して、７００時間行なって、ドープ１１２からフィルム１１６を製造した。流延支持ユニットとして、図１２に示すような、水平ドラム１２４、１２５と、バンド９１と、バンド移動制御ユニット１２８とを用いた。逃げ溝１２４ｂｄの底部とバンド９１の裏面９１ｂとの間隔の最大値ＣＬ１（図１４参照）は、０．１ｍｍであった。ドラム温調部１２８ｄａ、１２８ｄｂにより、ドラム本体１２４ｂの温度は１０℃に調節され、ドラム本体１２５ｂの温度は３０℃に調節された。バンド９１にかかる移動テンションＴ１は、６０Ｎ／ｍｍ２であった。なお、バンド温調部１２８ｂは、用いていない。
【０１７０】
（実験２）
ＣＬ１が表１に示す値であったこと、バンド温調部１２８ｂとして、バンド裏面冷却機１６２を用いたこと以外は、実験１と同様にして、フィルム１１６を製造した。冷却ガス１６２ａの温度は５℃であり、冷却ガス１６２ａの風速は２０ｍ／秒であった。
【０１７１】
【表１】
【０１７２】
（実験３）
ＣＬ１が表１に示す値であったこと、バンド温調部１２８ｂとして、バンド表面冷却機１６１を用いたこと以外は、実験１と同様にして、フィルム１１６を製造した。冷却ガス１６１ａの温度は５℃であり、冷却ガス１６１ａの風速は２０ｍ／秒であった。
【０１７３】
（実験４）
水平ドラム１２４、１２５に代えて、逃げ溝を有さず周面全体が平らな水平ドラムを用いたこと以外は、実験１と同様にして、フィルム１１６を製造した。
【０１７４】
（評価）
【０１７５】
実験１〜実験４で得られたフィルムについて、以下の評価を行った。
【０１７６】
１．削り粉故障の評価
削り粉故障の有無について調べた。
○：削り粉故障が起こらなかった。
×：削り粉故障が起こった。
【０１７７】
２．溶接部の跡における厚みムラの評価
以下の手順で、溶接部の跡が厚みムラとして残っているか否かを調べた。巻取装置１１９にて、巻き芯に巻き取られる前のフィルムから、サンプルフィルムを切り出した。切り出したサンプルフィルムを１０枚重ねた。そして、１０枚重ねたサンプルフィルムに光を透過させた際、サンプルフィルムの表面に現れる陰影を目視で観察した。サンプルフィルムのうち溶接部に形成された部分に陰影が観察されなかった場合には、（○）とし、サンプルフィルムのうち溶接部に形成された部分に陰影が観察された場合には、そうでない場合には、(×)とした。
【０１７８】
実験１〜４の評価結果を表１に示す。なお、表１において、評価結果に付した番号は、上記評価項目に付した番号を表す。
【符号の説明】
【０１７９】
１１０ 溶液製膜設備
１１５ 流延装置
９１ 流延バンド
１４１ 流延膜
１２４、１２５ 水平ドラム
１２４ｂｓ、１２５ｂｓ バンド支持面
１２４ｂｄ、１２５ｂｄ 逃げ溝
１６１ バンド表面冷却機
１６２ バンド裏面冷却機
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属ドラム、流延装置、流延膜の形成方法及び溶液製膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の大画面化に伴い、ＬＣＤに用いる光学フィルムにも大面積化が要求される。光学フィルムは、長尺に製造されてから、ＬＣＤの寸法に応じて所定のサイズにカットされる。したがって、より大きな面積の光学フィルムを製造するためには、幅が従来よりも大きな長尺の光学フィルムを製造する必要がある。
【０００３】
長尺の光学フィルムの代表的な製造方法としては、溶液製膜方法がある。溶液製膜方法は、周知のように、ポリマーが溶剤に溶けているドープを、移動する流延支持体の上に流延し、ドープからなる流延膜を流延支持体上に形成し、流延膜を流延支持体から剥がして乾燥することによりフィルムを製造する方法である。
【０００４】
流延支持体として、複数の金属ドラムに掛け渡された金属製のエンドレスバンドが用いられる。溶液製膜方法により製造することができるフィルムの最大幅は、このエンドレスバンドの幅に制約される。したがって、より大きな幅のフィルムを製造するには、より大きな幅のエンドレスバンドが必要となる。しかし、これまで、幅が２ｍ程度までのエンドレスバンドしか得られていなかった。
【０００５】
そこで、特許文献１では、幅方向の中央部になる中央部バンドと、各側部になる１対の側部バンドとを、長手方向に溶接することにより、従来よりも大きな幅のエンドレスバンドを得ている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】韓国特許公開公報第２００９−０１１００８２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、特許文献１に記載のようなエンドレスバンドを用いて、長時間（例えば、７００時間以上）連続して、溶液製膜方法を行なった場合、削り粉故障や厚みムラ故障が起こった。発明者の鋭意検討の結果、削り粉故障や厚みムラ故障は、溶接部の突起や残留応力に起因するものであることを突き止めた。
【０００８】
更に、発明者らの鋭意検討の結果、特許文献１に記載のようなエンドレスバンドは、長手方向に延びる溶接部に起因して、幅方向にて反りが起こりやすいことがわかった。特に、エンドレスバンドの幅方向端部、すなわち、中央部バンドから側部バンドにかけて反りが起こりやすい。幅方向端部が反ったエンドレスバンドを用いて溶液製膜方法を行えば、この反りに起因して、流延膜の厚みムラが生じる。このような厚みムラが生じた流延膜を乾燥しても、厚みムラが生じたフィルムとなってしまう（以下、厚みムラ故障と称する）。
【０００９】
また、反りによって湾曲したエンドレスバンドの内側の面が金属ドラムの周面と接触するようにエンドレスバンドを金属ドラムに掛け渡した場合、エンドレスバンドの側部では、バンド端が局所的に金属ドラムの周面に接触することとなる。バンド端が局所的に駆動ローラの周面に接触する状態が継続されれば、エンドレスバンドの側部の変形が増大するため、上述した厚みムラ故障が起こりやすくなる。
【００１０】
更に、厚みムラが生じた流延膜を剥ぎ取る際には剥げ残り故障が生じやすくなり、厚みムラが生じた流延膜を乾燥する場合には発泡が生じやすくなる。
【００１１】
エンドレスバンドの反りを矯正するために、エンドレスバンドを巻きかけた状態で金属ドラムの間隔が大きくなるように金属ドラムを変移させて、エンドレスバンドにかかる移動テンションを増大させることも可能である。しかしながら、エンドレスバンドにかかる移動テンションが増大した状態のまま溶液製膜方法を行なうと、溶接部に起因するフィルムの厚みムラ故障及び削り粉故障が起こりやすくなる。
【００１２】
本発明はこのような課題を解決するものであり、金属ドラム、流延装置、流延膜の形成方法及び溶液製膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の金属ドラムは、回転自在に支持され、長手方向に延びた溶接部を有する金属製のエンドレスバンドを周面で支持し、前記周面には前記溶接部から逃げるための溝が周方向へ延設されたことを特徴とする。
【００１４】
前記溝が環状に形成されたことが好ましい。また、前記溝の底部が平らであることが好ましい。
【００１５】
本発明の流延装置は、上記の金属ドラムと、前記溶接部が前記溝の上に位置するように前記金属ドラムに巻き掛けられ、前記金属ドラムの回転により移動する前記エンドレスバンドと、ポリマー及び溶剤を含むドープを前記エンドレスバンドの表面に向けて流出する流延ダイと、前記流出したドープからなり前記表面上に形成された流延膜に加熱風をあてて、前記流延膜から前記溶剤を蒸発させる膜乾燥機とを備えることを特徴とする。
【００１６】
前記流延膜を前記エンドレスバンドから剥離して湿潤フィルムとする剥離機を備えたことが好ましい。
【００１７】
前記流延膜は前記エンドレスバンドのうち剥離用の前記金属ドラムに支持された部分で剥離され、前記剥離用の金属ドラムを冷却する剥離ドラム冷却機と、前記剥離用の金属ドラムに近づくように移動する前記エンドレスバンドの前記溶接部を裏面側から冷却するバンド裏面冷却機とを備えたことが好ましい。
【００１８】
前記流延ダイから流出した前記ドープは前記エンドレスバンドのうち流延用の前記金属ドラムに支持された部分に到達し、前記流延用の金属ドラムを冷却する流延ドラム冷却機と、前記エンドレスバンドのうち前記ドープが到達する位置及び前記流延膜が剥離される位置の間に設けられ、前記流延用の金属ドラムに支持された前記溶接部を前記表面側から冷却するバンド表面冷却機とを備えたことが好ましい。
【００１９】
本発明の流延膜の形成方法は、上記の流延装置を用いて、前記エンドレスバンドの表面に前記流延膜を形成することを特徴とする。
【００２０】
本発明の溶液製膜方法は、上記の流延装置を用いて、前記エンドレスバンドの表面に前記流延膜を形成し、前記流延膜を前記エンドレスバンドから剥離してフィルムとすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、溶接部に起因するフィルムの厚みムラ故障及び削り粉故障を抑えつつ、従来よりも幅が広い帯状のフィルムを効率よく製造することができる。
【００２２】
従来のエンドレスバンド（幅が２ｍ以下のもの）にも溶接部が存在していたが、この溶接部は幅方向に延びるものである。このようなエンドレスバンドを用いて得られたフィルムにおいて、溶接部に起因する厚みムラ等の悪影響が及んだ部分は、溶接部と同様に幅方向に延びる。したがって、得られた帯状のフィルムを幅方向で裁断することで、悪影響が及んだ部分を製品フィルムから取り除くことが容易であった。一方、長手方向に延びる溶接部を有するエンドレスバンドを用いる場合には、従来のエンドレスバンドと異なり、溶接部に起因して悪影響が及んだ部分を取り除くことが容易ではない。本発明によれば、流延膜のうち溶接部上に形成された部分を、製品用のフィルムに含めることができる。
【００２３】
本発明によれば、かかる場合であっても、溶接部に起因するフィルムの厚みムラ故障及び削り粉故障を抑えつつ、従来よりも幅が広い帯状のフィルムを効率よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】バンドの製造設備の概要を示す側面図である。
【図２】バンド製造設備の概要を示す平面図である。
【図３】溶接ユニットの概要を示す側面図である。
【図４】溶接ユニットの概要を示す平面図である。
【図５】溶接支持ローラの概要を示すＶ−Ｖ線断面図である。
【図６】溶接ビード及びその周辺の説明図である。
【図７】テーパローラの概略図である。
【図８】クリップの概略図である。
【図９】バンドの概略図である。
【図１０】溶液製膜設備の概要を示す側面図である。
【図１１】流延装置の概要を示す側面図である。
【図１２】流延装置本体の概要を示す斜視図である。
【図１３】水平ドラムの概要を示す斜視図である。
【図１４】バンドのＰ１―Ｐ１線断面図である。
【図１５】バンド裏面冷却機の概要を示す斜視図である。
【図１６】バンドのＰ２―Ｐ２線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
図１及び図２に示すバンド製造設備１０は、長尺の中央部材１２と、中央部材１２の幅方向両側に設けられる側部材１１とからなる長尺のバンド部材１３をつくるものである。
【００２６】
側部材１１と中央部材１２とは、それぞれ金属製のシート材である。側部材１１は相対的に幅が狭い幅狭のシート材である。側部材１１と中央部材１２とは、互いに同じ素材から形成されることが好ましく、互いに同一の原料及び形成工程を経て形成されることがより好ましい。例えば、側部材１１及び中央部材１２として、ステンレス鋼から形成されたもの用いることが好ましい。
【００２７】
中央部材１２としては、従来の流延支持体として用いられてきたバンドを用いてよい。中央部材１２は、側部材１１よりも幅が広く、本実施形態における中央部材１２の幅は１５００ｍｍ以上２１００ｍｍ以下の範囲で一定であり、側部材１１の幅は５０ｍｍ以上５００ｍｍ以下の範囲で一定である。
【００２８】
バンド製造設備１０は、送出部１６と、突き合わせ部１７と、溶接ユニット１８と、加熱部１９と、巻取装置２０とを備える。
【００２９】
（送出部）
送出部１６は、側部材１１を送り出す第１送出装置２３と、中央部材１２を送り出す第２送出装置２４とを有し、側部材１１と中央部材１２とをそれぞれ独立して突き合わせ部１７に送る。第１送出装置２３には、ロール状に巻かれた側部材１１がセットされ、側部材１１を巻き出して突き合わせ部１７に送る。第２送出装置２４には、ロール状に巻かれた中央部材１２がセットされ、中央部材１２を巻き出して突き合わせ部１７に送る。
【００３０】
突き合わせ部１７は、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが互いに接するように、独立して案内されてくる側部材１１と中央部材１２とを突き合わせる。突き合わせ部１７は、中央部材１２の搬送路に上流側から順に配される第１ローラ２６と第２ローラ２７、側部材１１の搬送路に配される第３ローラ２８、側部材１１と中央部材１２との両方を支持するように搬送路に配される第４ローラ２９を有することが好ましい。
【００３１】
第４ローラ２９は、側部材１１の一方の側縁と中央部材１２の一方の側縁とが接触を開始する突き合わせ位置Ｐｈにおいて、送られてきた側部材１１と中央部材１２とを支持する突き合わせ支持ローラである。
【００３２】
第２ローラ２７と第３ローラ２８とは、第４ローラ２９の周面で中央部材１２と側部材１１とが接触するように中央部材１２の搬送経路と側部材１１の搬送経路とをそれぞれ調整する。
【００３３】
第２ローラ２７は、中央部材１２の搬送経路を調整して、側部材１１と溶接されるべき側縁１２ｅの通過経路を、突き合わせ位置Ｐｈに向けて制御する。第２ローラ２７は、中央部材１２の幅方向Ｙに移動自在となっている。シフト機構３２は、第２ローラ２７を幅方向Ｙへ移動する。
【００３４】
第２ローラ２７と第４ローラ２９との間には、中央部材１２の各側縁１２ｅのうちの一方の通過位置を検出し、検出した通過位置の信号をコントローラ３３に送る位置検出手段３４が配される。コントローラ３３は、送られてきた通過位置の信号に基づき、幅方向Ｙにおける第２ローラ２７の変位量を求め、変位量の信号をシフト機構３２に送る。シフト機構３２は、送られてきた変位量の信号に基づき第２ローラ２７の傾きや中央部材１２の幅方向Ｙにおける第２ローラ２７の位置を変える。このように第２ローラ２７の傾きや位置を変えることにより、中央部材１２が幅方向Ｙに変位する。
【００３５】
第１ローラ２６には、シフト機構３７が設けられていることが好ましい。このシフト機構３７により、第１ローラ２６は、第２ローラ２７に向かう中央部材１２を一方の部材面から押す。この第１ローラ２６の変位量に応じて、第１ローラ２６の中央部材１２に対する押し圧が変わり、押し圧を調整することにより、第２ローラ２７に巻き掛ける中央部材１２の巻き掛け中心角を制御することができる。この巻き掛け中心角の制御により、第２ローラ２７による中央部材１２の幅方向Ｙでの変位量をより精緻に制御することができる。
【００３６】
第３ローラ２８は、側部材１１の搬送経路を調整して、中央部材１２と溶接されるべき一方の側縁１１ｅの通過経路を突き合わせ位置Ｐｈに向けて調整する。第３ローラ２８には、長手方向の向きを制御するコントローラ３８が備えられる。このコントローラ３８は、例えば、側部材１１と接触している間の接触領域における周方向と中央部材１２の搬送方向Ｘとのなす角θ１が変化するように、第３ローラ２８の長手方向を側部材１１の部材面に沿って変化させる。
【００３７】
以上のように第１ローラ２６〜第３ローラ２８を用いて、突き合わせ位置Ｐｈが第４ローラ２９上になるように制御することが好ましい。第１ローラ２６〜第３ローラ２８は、いずれも周方向に回転する駆動ローラであることが好ましい。周方向に回転することにより、第１ローラ２６及び第２ローラ２７は、中央部材１２の搬送手段としても作用し、第３ローラ２８は、側部材１１の搬送手段としても作用する。第１ローラ２６〜第３ローラ２８を駆動ローラとすることにより、側部材１１と中央部材１２との搬送路の制御がより確実になるとともに、側部材１１と中央部材１２との第１ローラ２６〜第３ローラ２８上でのスリップを防止して部材面に傷がつくことが防止される。
【００３８】
（溶接ユニット）
溶接ユニット１８は、互いの側縁１１ｅ，１２ｅが接触した状態で突き合わせ部１７から供給される側部材１１と中央部材１２とを溶接する。突き合わせ部１７から連続的に供給されることにより、側部材１１と中央部材１２とを長手方向で溶接する長手溶接工程を行うことができる。溶接ユニット１８は、溶接装置４２を備える。溶接装置４２としては、例えば、レーザ溶接装置が挙げられる。レーザ溶接装置としては、例えば、ＣＯ２レーザ溶接装置や、ＹＡＧレーザ溶接装置を用いることができる。本実施態様では、ＣＯ２レーザ溶接装置を溶接装置４２として用いた場合を説明する。
【００３９】
溶接装置４２は、集光したレーザ光を射出して、照射対象としての側部材１１及び中央部材１２にレーザ光を照射することにより、側部材１１と中央部材１２とを溶融して接合する。溶接装置４２は、レーザ発振器４３と、このレーザ発振器４３から案内されてきたレーザ光を集光して射出する溶接装置本体４６と、レーザ光を照射するにあたりＣＯ２ガスを供給するガス供給部（図示無し）とを備える。ＣＯ２ガスは、側部材１１と中央部材１２との酸化を防止する。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにレーザ発振器４３の図示は略してある。
【００４０】
レーザ溶接装置に代えてＴＩＧ溶接（Ｔｕｎｇｓｔｅｎ Ｉｎｅｒｔ Ｇａｓ ｗｅｌｄｉｎｇ）装置を用いてもよい。ＴＩＧ溶接とは、周知のように、アークを熱源とする溶接アーク溶接のひとつであり、シールドガスとしてイナートガス（不活性ガス）を用い、電極にはタングステンあるいはタングステン合金を用いるイナートガスアーク溶接の一種である。ＴＩＧ溶接よりもレーザ溶接の方がより好ましい。また、ＴＩＧ溶接とレーザ溶接とを組み合わせたハイブリッド溶接としてもよい。
【００４１】
溶接装置本体４６のレーザ光の射出口に対向するように、側部材１１と中央部材１２との搬送路には側部材１１と中央部材１２とを周面で支持する溶接支持ローラ４１が備えてある。溶接支持ローラ４１の回転軸は、側部材１１及び中央部材１２の幅方向Ｙと平行である。溶接支持ローラ４１の周面で支持されている間の側部材１１と中央部材１２とにレーザ光が照射されるように、溶接支持ローラ４１による側部材１１と中央部材１２との支持位置を設定することが好ましい。すなわち、溶接支持ローラ４１上で、溶接をすることが好ましい。これにより、互いに側縁１１ｅ，１２ｅが接した状態で側部材１１と中央部材１２とが安定し、照射すべき箇所にレーザ光を確実に照射することができる。
【００４２】
溶接装置本体４６には、幅方向Ｙに変位するためのシフト機構５０が備えられることが好ましい。溶接装置４２の上流側には、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが接している接触位置Ｐｓ（図５参照）を検出し、検出した接触位置Ｐｓ（図５参照）の信号をコントローラ５１に送る位置検出手段４７が設けてある。位置検出手段４７は、突き合わせ位置Ｐｈから溶接装置４２（例えば、溶接位置Ｐｗ）に至る搬送路近傍に配されてあればよい。
【００４３】
コントローラ５１は、送られてきた接触位置Ｐｓ（図５参照）の信号に基づき、幅方向Ｙにおける溶接装置本体４６の変位量を求め、変位量の信号をシフト機構５０に送る。コントローラ５１は、側部材１１と中央部材１２との搬送速度の信号が入力されると、溶接装置本体４６を変位させるべき変位量の信号とともに変位させるタイミングの信号とをシフト機構５０に送る。シフト機構５０は、送られてきた変位量及び変位のタイミングの信号に基づき、溶接装置本体４６の位置を所定のタイミングで変える。このように溶接装置本体４６の位置を幅方向Ｙで変えることにより、レーザ光の照射位置をより精緻に制御して、より確実に、側部材１１と中央部材１２とが溶接される。なお、本実施形態における溶接装置４２への側部材１１と中央部材１２との搬送速度は０．１５ｍ／分以上２０ｍ／分以下の範囲としてある。
【００４４】
溶接ユニット１８には、図１に示すように、溶接装置本体４６と溶接支持ローラ４１とを外部空間と仕切るチャンバ５２と、気体を清浄化する清浄装置５５とを設けることがより好ましい。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにチャンバ５２と清浄装置５５との図示は略してある。チャンバ５２には、内部気体を外部に出す第１開口（図示無し）と、清浄装置５５で清浄化された気体を内部に案内する第２開口（図示無し）とが設けられる。第１開口と第２開口とは、それぞれ清浄装置５５に接続する。チャンバ５２の内部気体は、第１開口から清浄装置５５に案内され、清浄装置５５はチャンバ５２から案内されてきた気体を清浄化して第２開口を介してチャンバ５２に送る。このように、チャンバ５２の内部気体は、清浄装置５５との間で循環される。
【００４５】
チャンバ５２の内部気体を清浄化しておくことにより、溶接位置Ｐｗ及びその周辺が清浄化され、溶接部１３ｗに異物等が混入されてしまうことが防止される。なお、チャンバ５２の内部の圧力が、外部空間の圧力よりも高く保持することにより、チャンバ５２の内部を清浄化した状態により確実に保持することができる。また、溶接位置Ｐｗを、送出部１６、突き合わせ部１７、加熱部１９、巻取装置２０に対して相対的に高い位置にすることにより、これらから異物が案内されることをより防止することができる。
【００４６】
チャンバ５２の内部の清浄度は、例えば、米国連邦規格ＦＥＤ−ＳＴＤ−２０９Ｄでのクラス１０００以下とすることが好ましく、クラス１００以下にすることがより好ましい。
【００４７】
（加熱部）
加熱部１９は、溶接ユニット１８よりも下流側に設けられることが好ましい。加熱部１９は、溶接により得られたバンド部材１３の溶接部１３ｗを一定の温度範囲になるように加熱するものであれば特に限定されない。溶接部１３ｗ及びその周辺には、溶接により生じたひずみに起因する応力が内部に残っていることがある。このような溶接部１３ｗやその周辺を加熱部１９により加熱することにより応力を除去することができる。この応力の除去により、長時間連続して溶液製膜方法を行う場合であっても、溶接部１３ｗの変形を抑えることができる。
【００４８】
加熱部１９の加熱による溶接部１３ｗの温度は、応力が除去される温度であれば特に限定されないが、例えばバンド部材１３がステンレス鋼からなる場合には、溶接部１３ｗの温度は、１００℃以上２００℃以下であることが好ましく、１２０℃以上１８０℃以下であることがより好ましい。
【００４９】
加熱部１９としては、例えば、送風手段がある。加熱部１９としての送風手段は、図１に示すように、一定の温度の気体を吹き出すダクト５６と、気体の温度を制御した上でこの気体をダクト５６に送り込む送風機５７とがある。なお、図２においては、図の煩雑化を避けるためにダクト５６と送風機５７との図示は略してある。
【００５０】
加熱部１９は、バンド部材１３の搬送路に関し、図１のように溶接支持ローラ４１とは反対側に設けてもよいし、溶接支持ローラ４１と同じ側に設けてもよい。
【００５１】
応力を除去されたバンド部材１３は、加熱部１９の下流の巻取装置２０に送られ、ロール状に巻き取られる。巻取装置２０には、バンド部材１３を巻き取る巻き芯がセットされ、この巻き芯を周方向に回転させる駆動手段が設けられている。
【００５２】
巻取装置２０は、溶接位置Ｐｗにおけるバンド部材１３と側部材１１及び中央部材１２との張力を制御する溶接張力制御手段としても作用する。そこで、溶接位置Ｐｗにおけるバンド部材１３と側部材１１及び中央部材１２との張力が一定に保持されるように、巻取装置２０のトルクを制御することが好ましい。これにより、溶接部１３ｗを長手方向において一定の状態にすることができる。
【００５３】
溶接を開始する場合には、例えば、巻取装置２０を用いて以下のようにすると好ましい。まず、送出部１６から巻取装置２０に至る搬送路に側部材１１と中央部材１２とをセットし、側部材１１と中央部材１２との各先端を巻取装置２０の巻き芯に巻き掛ける。側部材１１と中央部材１２との巻取を開始する。巻取を開始して、側部材１１と中央部材１２との搬送の経路を制御して突き合わせ位置Ｐｈを所定位置に保持する。側部材１１と中央部材１２との突き合わせ位置Ｐｈが一定に保持されるようになった後に、溶接装置４２により溶接を開始する。
【００５４】
（ずれ防止）
溶接は、側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３との位置ずれを抑止しながら実施することが好ましい。例えば、溶接ユニット１８に代えて、押圧装置を備える図３及び図４に示すような溶接ユニット６１を用いてもよい。溶接ユニット６１は、図１及び図２に示す溶接ユニット１８に、押圧装置６２をさらに備えたものであり、シフト機構５０、コントローラ５１、チャンバ５２、清浄装置５５を溶接ユニット１８と同様に備えるが、図示の煩雑化を避けるため図３及ぶ図４ではこれらの図示を略してある。また、図１及び図２と同じ装置、部材については図１及び図２と同じ符号を付し、説明を略す。なお、溶接ユニット６１では、チャンバ５２は、押圧装置６２と溶接支持ローラ４１とを外部空間と仕切るように囲む。
【００５５】
押圧装置６２は、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３との位置ずれを抑止するものであり、第１ベルト６３及び第２ベルト６４とからなる１対のベルトにより、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３とを押さえる。
【００５６】
第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、環状に形成された無端のベルトである。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、第５ローラ６７〜第７ローラ６９の周面に、第５ローラ６７〜第７ローラ６９の各長手方向に並ぶように巻き掛けられる。第５ローラ６７〜第７ローラ６９のうち少なくともいずれかひとつのローラは、周方向に回転する駆動ローラとされる。この駆動ローラの回転によって、第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、互いに平行な搬送路を保持しながら、搬送される。
【００５７】
第５ローラ６７〜第７ローラ６９は、回転軸が溶接支持ローラ４１の回転軸と平行となるように配される。
【００５８】
第５ローラ６７〜第７ローラ６９は、側部材１１と中央部材１２との搬送路に関し、第４ローラ２９と溶接支持ローラ４１とが配されてある側とは反対側の領域に配される。第５ローラ６７は、第４ローラ２９から溶接支持ローラ４１へ向かう側部材１１と中央部材１２との搬送路に対向するように設けられる。第６ローラ６８は、溶接支持ローラ４１から加熱部１９に向かう側部材１１と中央部材１２との搬送路に対向するように設けられる。第７ローラ６９は、第６ローラ６８から第５ローラ６７へ向かう第１ベルト６３と第２ベルト６４との搬送路を決定するように、適宜配される。
【００５９】
第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、第５ローラ６７から第６ローラ６８に向かう第１ベルト６３と第２ベルト６４とが、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とバンド部材１３とを押圧するように搬送されるように配される。例えば、溶接支持ローラ４１上の側部材１１と中央部材１２とを上方から溶接する場合には、第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、これらの各下端が、溶接支持ローラ４１の上端よりも低い位置となるように配される。
【００６０】
第５ローラ６７と第６ローラ６８とは、第１ベルト６３の搬送路が側部材１１と側部材１１から形成されるバンド部材１３の側部１３ｓとの搬送路と対向するように、また、第２ベルト６４の搬送路が中央部材１２と中央部材１２から形成されるバンド部材１３の中央部１３ｃとの搬送路に対向するように、設けられる。これにより、第１ベルト６３は側部材１１と側部１３ｓとを、第２ベルト６４は中央部材１２と中央部１３ｃとを、それぞれ溶接支持ローラ４１に押圧する。
【００６１】
以上のように、第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、それぞれ溶接支持ローラ４１にそれぞれ対向して設けられ、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２との高さが等しくなるように押圧する。側部材１１と中央部材１２との高さとは、各部材１１，１２の表面の高さである。このように高さが等しくなるように側部材１１と中央部材１２とを押さえ、この状態で溶接を実施することにより、溶接部１３ｗの態様が長手方向でより均一になるとともに、溶接をより確実に行うことができる。
【００６２】
図５及び図６を参照しながら、長手溶接工程についてさらに詳細に説明する。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、互いに離れた状態で搬送される。第１ベルト６３と第２ベルト６４とは、溶接位置Ｐｗが第１ベルト６３と第２ベルト６４との隙間を通過するように搬送路が設定される。これにより、側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとが接している接触位置Ｐｓは、図５に示すように第１ベルト６３と第２ベルト６４との隙間を通過し、第１ベルト６３と第２ベルト６４との間で溶接される。なお、図５においては溶接装置本体４６の図示を略してある。
【００６３】
第１ベルト６３と第２ベルト６４との間隔Ｄ１は、６ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲とすることが好ましい。側部材１１と中央部材１２との幅方向Ｙにおける断面において、接触位置Ｐｓと第１ベルト６３との距離Ｄ２、及び、接触位置Ｐｓと第２ベルト６４との距離Ｄ３は、それぞれ３ｍｍ以上６ｍｍ未満の範囲とすることが好ましい。
【００６４】
押圧装置６２に代えて、溶接支持ローラ４１の回転軸と平行な回転軸を有するローラ（図示無し）を溶接装置本体４６の上流と下流とにそれぞれ配してもよい。この場合には、上流の一方のローラで側部材１１と中央部材１２と押さえ、下流の他方でバンド部材１３を押さえることにより、溶接位置Ｐｗにおける側部材１１と中央部材１２とを押圧することができる。
【００６５】
図６に示すように、接触位置Ｐｓ及びこの周辺には溶接装置４２の熱により溶解されて溶接ビード７２が形成される。この溶接ビード７２から両側に熱が伝わり、側部材１１と中央部材１２とのそれぞれに溶接での熱の影響を受ける熱影響領域７３が生じる。この熱影響領域７３は、熱影響をうけない他の領域とは異なる性状をただちに示したり、経時的に示すようになったりすることがある。例えば、このように熱影響が幅広く生じたものを流延支持体として用いると、溶液製膜方法を長時間連続して行う場合に、溶接部１３ｗが変形する、あるいは、流延膜が発泡するなどの弊害が生じる。
【００６６】
そこで、図５に示すように、溶接支持ローラ４１の周面のうち、接触位置Ｐｓが通過する通過領域には、側部材１１及び中央部材１２よりも熱伝導率が高い素材からなる高熱伝導部７１が形成されていることが好ましい。これにより、溶接装置４２（図３、図４参照）からの熱をよりはやく拡散させることができる。熱をよりはやく溶接支持ローラ４１側で拡散させるために、側部材１１と中央部材１２との熱影響領域７３の幅をより小さくしたり熱影響領域７３の深さも浅くすることができる。
【００６７】
高熱伝導部７１とされる通過領域の幅Ｄ４は２６ｍｍ以上３２ｍｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００６８】
さらに、第１ベルト６３及び第２ベルト６４の両面にも、側部材１１及び中央部材１２よりも熱伝導率が高い素材からなる高熱伝導部が形成されていることがより好ましい。これにより、熱影響領域７３の大きさを、幅方向または厚み方向において小さくすることができる。
【００６９】
側部材１１の側縁１１ｅと中央部材１２の側縁１２ｅとは、溶接位置Ｐｗにおいて隙間が０（ゼロ）になるように密着した状態であることが好ましい。そこで、側部材１１と中央部材１２とは、各側縁１１ｅ及び１２ｅを突き合わせたときに隙間が生じないような形状に予め形成されてあることが好ましい。これにより、溶接部に空隙がないバンド部材をより確実に製造することができる。
【００７０】
上記の長手溶接工程は、側部材１１と中央部材１２との長手方向に連続して溶接を実施する連続溶接工程のみであってもよいし、これに加えて、断続的に溶接を実施する断続溶接工程を実施してもよい。断続的に溶接すると、溶接装置４２に連続的に送られてくる側部材１１と中央部材１２とは、間欠的に溶接される。このような断続溶接工程は、連続溶接工程の前に行うことが好ましい。この場合には、断続溶接工程で、まず、側部材１１と中央部材１２とを仮接合し、その後、連続溶接工程で長手方向全域に亘り接合するとよい。
【００７１】
断続溶接工程で仮接合し、その後連続溶接工程で接合を行う場合には、突き合わせ部１７（図１，図２参照）から溶接ユニット１８に側部材１１と中央部材１２とを案内して断続的に溶接する。なお、側部材１１と中央部材１２とに、後の流延支持体として用いる際の流延面に対応する表面と、非流延面に対応する裏面とを設定してある場合には、断続溶接工程での溶接は、裏面に対して行うことが好ましい。そこで、裏面が溶接装置本体４６（図１参照）に対向して通過するように、側部材１１と中央部材１２とを搬送する。
【００７２】
断続溶接工程を行った後に、巻取装置２０に案内して巻き取る。なお、巻取前に溶接部に対して加熱部１９により加熱してもよい。断続溶接工程を経て巻き取られた側部材１１と中央部材１２とからなる仮接合部材（図示無し）を、送出装置（図示無し）により巻きだして溶接ユニット１８に再び送る。この送り出しは、仮溶接部材の表面が溶接装置本体４６（図１参照）に対向して通過するように行う。溶接ユニット１８では連続溶接を行い、バンド部材１３を得る。なお、この方法に代えて、ふたつの溶接ユニット１８を相対的に上流と下流とに並べて配し、上流の一方の溶接ユニット１８で断続溶接を実施し、下流の他方の溶接ユニット１８で連続溶接を実施してもよい。
【００７３】
溶接を行うと溶接ビード７２が側部材１１と中央部材１２とよりも盛り上がって形成される場合がある。そこで、以上のように一方の面を長手方向で溶接する第１工程と他方の面を長手方向で溶接する第２工程とを実施する場合において用いる溶接支持ローラ４１には、図５に示すように、溶接支持ローラ４１の周面のうち接触位置Ｐｓが通過する通過領域に、溝７６が形成されてあることが好ましい。第１工程で盛り上がった溶接ビート７２から形成された溶接部が、この溝７６を通過するように、側部材１１と中央部材１２とを搬送して第２工程を実施するとよい。これにより、より平滑で、残留応力がより少ないバンド部材１３を得ることができる。したがって、溶液製膜で用いても流延支持体としてのバンドに変形や、性状の変化がより少なく、流延膜が発泡せず、厚みのむらがないフィルムをより確実に製造することができる。
【００７４】
溝７６の幅Ｄ５は、６ｍｍ以上１２ｍｍ以下の範囲であることが好ましく、溝の深さＤ６は、１ｍｍ程度でよい。
【００７５】
以上の実施形態では突き合わせ部１７における側部材１１の搬送経路を調整する手段として第３ローラ２８を用いるが、第３ローラ２８に代えて、図７に示すようなテーパローラ８１を用いてもよい。テーパローラ８１は、一端から他端に向けて径ｄが連続的に漸減するように形成された断面円形のローラである。径ｄは、一端から他端に向けて一定の割合で連続的に漸減する。径ｄの大きい一端が中央部材１２の搬送路に向き、径ｄの小さい他端が中央部材１２とは反対側（側部材１１の搬送路側）に向くように、テーパローラ８１を配する。
【００７６】
搬送されている側部材１１は、このテーパローラ８１に接触することにより、搬送の経路を中央部材１２に向かう矢線Ａの方向に変え、中央部材１２に寄るようになる。これにより、突き合わせ位置Ｐｈ（図１、図２参照）に向けて側部材１１は確実に搬送される。
【００７７】
テーパローラ８１には、周方向に回転する駆動手段８２が備えられていることが好ましい。回転軸は、一端面の中央と他端面の中央とを挿通して形成されてある。駆動手段８２で回転するテーパローラ８１により側部材１１を搬送することにより、側部材はより効果的に中央部材１２に寄るようになる。
【００７８】
第３ローラ２８に代えて、図８に示すような把持手段としてのクリップ８５を用いてもよい。クリップ８５は、コの字状に開いたクリップ本体８６と、クリップ本体８６の各先端部に設けられた１対の狭持ピン８７とを備え、側部材１１を狭持して把持する。狭持ピン８７は、側部材１１を狭持する狭持位置と、狭持位置から退避する退避位置との間で移動自在に設けられる。クリップ８５は、移動機構８８を備え、把持を開始する把持開始位置と、把持を解除する把持解除位置との間で移動自在とされる。また、クリップ８５は、幅方向Ｙにも移動自在とされる。
【００７９】
クリップ８５は、把持開始位置で狭持ピン８７が狭持位置に移動することにより側部材１１を把持する。クリップ８５は、側部材１１を把持した状態で中央部材１２に向かう方向Ａに寄せつつ、下流へと搬送する。
【００８０】
テーパローラ８１とクリップ８５とは、側部材１１を中央部材１２へ寄せるために用いる他に、中央部材１２を側部材１１に寄せるために用いてもよい。この場合には、テーパローラ８１、クリップ８５で中央部材１２を支持あるいは搬送するとよい。
【００８１】
上記の実施形態では、中央部材１２に両側部材１１を同時に溶接しているが、一方の側部材１１を中央部材１２に溶接した後に、他方の側部材１１を中央部材１２に溶接してもよい。
【００８２】
（バンド）
図９に示すように、流延支持体として用いるバンド９１は、環状にされた無端のバンドである。バンド９１は、バンド部材１３の長手方向における一端と他端とを溶接してなる。なお、バンド９１をつくるためのバンド部材１３は、所定の長さにカットしても良いし、あらかじめ所定の長さにカットされた側部材１１と中央部材１２とからバンド部材１３を作った場合は、カットせずにそのまま、バンド９１をつくってもよい。当該溶接部におけるピンホールの直径は４０μｍ未満であることが好ましい。
【００８３】
バンド部材１３は、幅方向Ｙと交差する方向でカットすることが好ましい。カットの方向は、幅方向Ｙとなす角が概ね５°以上１５°以下の範囲となるようにカットすることがより好ましい。このようにカットしたバンド部材１３の長手方向における先端と先端とを溶接した溶接部９１ｖと、幅方向Ｙとのなす角θ２は、概ね５°以上１５°以下の範囲となる。このように長尺のバンド部材１３を環状にする環状溶接工程では、長手溶接工程で用いた溶接装置４２を用いてもよいし、公知の他の溶接装置を用いてもよい。
【００８４】
溶接により製造されたバンド９１は、側部材１１（図１〜図８参照）から形成された側部９１ｓと、中央部材１２（図１〜図８参照）から形成された中央部９１ｃとからなり、側部９１ｓ及び中央部９１ｃの溶接部９１ｗは表面９１ａや裏面９１ｂに露出する。溶接部９１ｗは、溶接部１３ｗに相当する部分である。線状の溶接部９１ｗは、バンド９１の長手方向と平行となるように設けられることが好ましい。このように得られるバンド９１の幅は、２０００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下の範囲である。
【００８５】
得られたバンド９１は、表面を研磨して鏡面にした後、溶液製膜設備に用いられる。次に、溶液製膜設備において、フィルムを製造する方法について以下に説明する。ポリマーの種類は特に限定されず、溶液製膜でフィルムにすることができる公知のポリマーを用いてよい。以下の実施形態では、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いた場合を例にして説明する。
【００８６】
（溶液製膜設備）
図１０に示すように、溶液製膜設備１１０は、ドープ１１２から湿潤フィルム１１３をつくる流延装置１１５と、湿潤フィルム１１３の乾燥によりフィルム１１６を得るクリップテンタ１１７と、湿潤フィルム１１３の乾燥を行うフィルム乾燥装置１１８と、フィルム１１６を巻き芯に巻き取る巻取装置１１９とを有する。
【００８７】
（流延装置）
図１０及び図１１に示すように、流延装置１１５は、ケーシング１２１と、ケーシング１２１内に配された流延装置本体とを有する。流延装置本体は、流延支持ユニットと、仕切りユニットと、流延ユニットと、膜乾燥ユニットと、剥離ローラ１２２とを有する。
【００８８】
流延支持ユニットは、水平ドラム１２４、１２５と、水平ドラム１２４、１２５に掛け渡されたバンド９１と、バンド移動制御ユニット１２８（図１２参照）とを備える。
【００８９】
水平ドラム１２４は、駆動軸１２４ａと、駆動軸１２４ａに軸着されたステンレス製のドラム本体１２４ｂとを備える。水平ドラム１２５は、軸１２５ａと、軸１２５ａに軸着されたステンレス製のドラム本体１２５ｂとを備える。ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂの周面は平らに形成される。
【００９０】
バンド９１は、帯状のシート材の両端を連結することにより得られる。バンド９１は、前述したバンド製造設備１０（図１参照）により製造可能である。
【００９１】
バンド９１は、十分な耐腐食性と強度とを有するＳＵＳ３１６製であることが好ましい。バンド９１の幅は、例えば、ドープ１１２の流延幅の１．１倍以上２．０倍以下であることが好ましい。バンド９１の長さは、例えば、２０ｍ以上２００ｍ以下であることが好ましい。バンド９１の厚みは、例えば、０．５ｍｍ以上〜２．５ｍｍ以下であることが好ましい。なお、バンド９１の厚みムラは、全体の厚みに対して０．５％以下のものを用いることが好ましい。また、流延膜が形成される表面（以下、流延面と称する）９１ａと、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂと接する裏面９１ｂは平坦に形成される。特に、流延面９１ａは、研磨されていることが好ましく、流延面９１ａの表面粗さは０．０５μｍ以下であることが好ましい。
【００９２】
図１２に示すように、バンド移動制御ユニット１２８は、バンド９１の移動や温度を制御するためのものであり、駆動用モータ１２８ｍと、軸シフト部１２８ｓと、ロードセル１２８ｌｃと、ドラム温調部１２８ｄと、バンド温調部１２８ｂと、コントローラ１２８ｃとを備える。
【００９３】
駆動用モータ１２８ｍは、駆動軸１２４ａに接続する。コントローラ１２８ｃは、駆動用モータ１２８ｍを制御して、ドラム本体１２４ｂを所定の速度で回転させる。バンド９１は、ドラム本体１２４ｂの回転に伴い所定の方向へ循環移動し、ドラム本体１２５ｂは、バンド９１の移動に従って回転する。以下、バンド９１の移動方向をＺ１方向と称し、バンド９１の幅方向をＺ２方向と、垂直方向をＺ３方向と称する。
【００９４】
バンド９１の流延面９１ａの移動速度Ｖ９１ａは１５０ｍ／分以下であることが好ましい。移動速度Ｖ９１ａが１５０ｍ／分を超えると、ビードを安定して形成することが困難となる。移動速度Ｖ９１ａの下限値は、目標とするフィルムの生産性を考慮すればよい。移動速度Ｖ９１ａの下限値は、例えば、１０ｍ／分である。
【００９５】
駆動軸１２４ａは、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂに掛け渡されたバンド９１に所定の移動テンションが印加されるテンション印加位置と、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂに掛け渡されたバンド９１が弛む弛み位置との間で移動自在となっている。軸シフト部１２８ｓは、コントローラ１２８ｃの制御の下、テンション印加位置と弛み位置との間で、駆動軸１２４ａを変移可能である。軸シフト部１２８ｓは、軸１２５ａと平行な状態を維持しながら駆動軸１２４ａを変移させることが好ましい。
【００９６】
ロードセル１２８ｌｃは、駆動軸１２４ａに取り付けられる。ロードセル１２８ｌｃは、駆動軸１２４ａが受ける外力を検知する。コントローラ１２８ｃは、ロードセル１２８ｌｃから駆動軸１２４ａが受ける外力を読み取る。次に、コントローラ１２８ｃは、読み取った外力及び内蔵されたバンド９１の断面積の値に基づいて、バンド９１にかかる移動テンションが所定のものとなるように、軸シフト部１２８ｓを制御する。こうして、Ｚ２方向において一様な移動テンションを、バンド９１に印加することができる。
【００９７】
ドラム温調部１２８ｄは、水平ドラム１２４に取り付けられるドラム温調部１２８ｄａと、水平ドラム１２５に取り付けられるドラム温調部１２８ｄｂとを備える。ドラム温調部１２８ｄａ、１２８ｄｂは、それぞれ、コントローラ１２８ｃの制御の下、所望の温度に調節された伝熱媒体を、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂ内に設けられる流路中で循環させる。この伝熱媒体の循環により、ドラム本体１２４ｂ、１２５ｂの温度を所望の温度に保つことができる。バンド９１の流延面９１ａ、特に流延膜が形成される部分の温度は１０℃〜４０℃の範囲内で略一定に調節されることが好ましい。
【００９８】
バンド温調部１２８ｂについては、後述する。
【００９９】
仕切りユニットは、図１１に示すように、第１〜第３シール部材１３１〜１３３を備える。第１〜第３シール部材１３１〜１３３は、ケーシング１２１内にて、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって順次配される。第１〜第３シール部材１３１〜１３３は、それぞれ、ケーシング１２１の内壁面から突出し、突端がバンド９１の流延面９１ａに近接するように設けられる。第１〜第３シール部材１３１〜１３３により、ケーシング１２１内、すなわちケーシング１２１の内壁面と流延面９１ａとで囲まれたエリアは、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって、流延室１２１ａ、乾燥室１２１ｂ、及び剥離室１２１ｃに仕切られる。そして、流延室１２１ａの気密性は、第１〜第２シール部材１３１〜１３２により維持される。また、乾燥室１２１ｂの気密性は、第２〜第３シール部材１３２〜１３３により維持される。第１〜第３シール部材１３１〜１３３と流延面９１ａとの間隔は、例えば、１．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下である。
【０１００】
（流延室）
流延室１２１ａには、ドープ１１２から流延膜１４１を形成する流延ユニットが配される。流延ユニットは、流延ダイ１４２と減圧機１４３とを備える。流延ダイ１４２は、ドープ１１２を流出するドープ流出口１４２ａを有し、ドープ流出口１４２ａがバンド９１と近接するように、水平ドラム１２４の上方に配される。
【０１０１】
流延ダイ１４２は、ドープ流出口１４２ａからバンド９１に向けてドープ１１２を流出する。ドープ流出口１４２ａから流出し流延面９１ａに到達するまでのドープ１１２は、ビードを形成する。流延面９１ａに到達したドープ１１２は、Ｚ１方向にて流れ延ばされる結果、帯状の流延膜１４１を形成する。
【０１０２】
減圧機１４３は、ビードのＺ１方向の上流側を減圧するためのものであり、流延ダイ１４２のドープ流出口１４２ａよりもＺ１方向の上流側に配置される減圧チャンバ１４３ａと、減圧チャンバ１４３ａ内の気体を吸引するための減圧ファン（図示しない）と、減圧ファン及び減圧チャンバ１４３ａとを接続する吸引管（図示しない）とを有する。
【０１０３】
（乾燥室）
乾燥室１２１ｂには、流延膜の乾燥を行う膜乾燥ユニットが配される。膜乾燥ユニットは、流延膜１４１に所定の乾燥風を供給する第１乾燥機１５１〜第２乾燥機１５２と、乾燥制御機（図示しない）とを備える。第１乾燥機１５１〜第２乾燥機１５２は、乾燥室１２１ｂにおいて、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって順次設けられる。第１乾燥機１５１は、水平ドラム１２４，１２５に掛け渡されたバンド９１の上方に配される。第２乾燥機１５２は、水平ドラム１２４，１２５に掛け渡されたバンド９１の下方に配される。
【０１０４】
第１乾燥機１５１は、第１給気ダクト１５１ａと第１排気ダクト１５１ｂとを備える。第１給気ダクト１５１ａと第１排気ダクト１５１ｂとは、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって順次設けられる。第１給気ダクト１５１ａと第１排気ダクト１５１ｂとは、それぞれバンド９１から離隔して配される。第１給気ダクト１５１ｂには、第１乾燥風１５１ｄａが送り出される第１給気口が設けられる。Ｚ１方向下流側に向かって開口する第１給気口は、流延膜１４１の一の端から他の端まで延設される。第１排気ダクト１５１ａには、第１乾燥風１５１ｄａを排気する第１排気口が設けられる。Ｚ１方向上流側に向かって開口する第１排気口は、流延膜１４１の一の端から他の端まで延設される。
【０１０５】
第２乾燥機１５２は、第２排気ダクト１５２ａと第２給気ダクト１５２ｂとを備える。第２排気ダクト１５２ａと第２給気ダクト１５２ｂとは、Ｚ１方向上流側から下流側に向かって順次設けられる。第２排気ダクト１５２ａ及び第２給気ダクト１５２ｂは、それぞれバンド９１から離隔して配される。第２排気ダクト１５２ａには、第２乾燥風１５２ｄａを排気する第２排気口が設けられる。Ｚ１方向下流側に向かって開口する第２排気口は、流延膜１４１の一の端から他の端まで延設される。第２給気ダクト１５２ｂには、第２乾燥風１５２ｄａが送り出される第２給気口が設けられる。Ｚ１方向上流側に向かって開口する第２給気口は、流延膜１４１の一の端から他の端まで延設される。
【０１０６】
乾燥制御機は、第１乾燥風１５１ｄａ及び第２乾燥風１５２ｄａの温度や風速を独立して調節するものであり、第１乾燥風１５１ｄａ及び第２乾燥風１５２ｄａの温度を調節する第１〜第２温調機（図示しない）と、第１乾燥風１５１ｄａ及び第２乾燥風１５２ｄａの風量を調節する第１〜第２送風ファン（図示しない）と、コントローラ（図示しない）とを備える。第１〜第２温調機及び第１〜第２送風ファンは、第１乾燥機１５１〜第２乾燥機１５２のダクト内に設けられる。コントローラは、第１〜第２温調機及び第１〜第２送風ファンを制御して、第１乾燥風１５１ｄａ及び第２乾燥風１５２ｄａについての温度や風速を独立して調節する。
【０１０７】
（剥取室）
剥離室１２１ｃには、剥離ローラ１２２が配される。剥取ローラ１２２は、剥ぎ取り可能な状態となった流延膜１４１をバンド９１から剥ぎ取って湿潤フィルム１１３とし、剥離室１２１ｃに設けられた出口１２１ｃｏから湿潤フィルム１１３を送り出す。こうして、水平ドラム１２４は、流延用、及び剥離用の金属ドラムとなる。
【０１０８】
ケーシング１２１内の雰囲気に含まれる溶剤を凝縮する凝縮装置、凝縮した溶剤を回収する回収装置を、流延装置１１５に設けてもよい。これにより、ケーシング１２１内の雰囲気に含まれる溶剤の濃度を一定の範囲に保つことができる。
【０１０９】
図１３に示すように、ドラム本体１２４ｂの外周部には、バンド９１の裏面９１ｂを支持するバンド支持面１２４ｂｓが形成される。バンド支持面１２４ｂｓには、逃げ溝１２４ｂｄが設けられる。逃げ溝１２４ｂｄは、周方向に延設され、環状に形成される。同様に、ドラム本体１２５ｂの外周部には、バンド９１の裏面９１ｂを支持するバンド支持面１２５ｂｓが形成される。バンド支持面１２５ｂｓには、逃げ溝１２５ｂｄが設けられる。逃げ溝１２５ｂｄは、逃げ溝１２４ｂｄと同様の形状に形成され、周方向に延設され、環状に形成される。なお、周方向に延設された各逃げ溝１２４ｂｄ、１２５ｂｄは、溶接部に起因するフィルムの厚みムラ故障及び削り粉故障が抑えられる程度であれば、環状ではなく、すなわち、その両端が離れた形状でもよい。
【０１１０】
図１４に示すように、溶接部９１ｗが逃げ溝１２４ｂｄ上となるように、バンド９１がドラム本体１２４ｂに巻き掛けられる。同様に、溶接部９１ｗが逃げ溝１２５ｂｄ上となるように、バンド９１がドラム本体１２５ｂに掛け渡される。
【０１１１】
逃げ溝１２４ｂｄの幅Ｗ１２４ｂｄは、溶接部９１ｗの幅に、各ドラム１２４、１２５に巻きかけた状態で移動させたときのバンド９１の蛇行幅を加えたものであればよく、例えば、２０ｍｍ以上４０ｍｍ以下である。逃げ溝１２４ｂｄの深さＤ１２４ｂｄは、逃げ溝１２４ｂｄの底部からバンド９１の裏面９１ｂまでの間隔ＣＬ１が０．１ｍｍ以内となるようなものあればよく、例えば、０．０３ｍｍ以上０．１ｍｍ以下である。なお、逃げ溝１２４ｂｄの端部分１２４ｂＥは、面取り加工されていることが好ましい。
【０１１２】
バンド９１が蛇行した場合に、逃げ溝１２４ｂｄの底部１２４ｂｂとバンド９１との間隔が増大するとバンド９１への伝熱不良が生じ、底部１２４ｂｂとバンド９１との間隔が減少すると溶接部９１ｗとの接触という問題が生じる。そこで、逃げ溝１２４ｂｄの底部１２４ｂｂは、平ら、すなわち、バンド支持面１２４ｂｓと平行であることが好ましい。逃げ溝１２４ｂｄの底部１２４ｂｂがバンド支持面１２４ｂｓと平行であることにより、バンド９１が蛇行した場合でも、底部１２４ｂｂとバンド９１との間隔を一定に保つことが可能となる。
【０１１３】
（バンド温調部）
図１１及び図１２に示すように、バンド温調部１２８ｂは、剥離室１２１ｃに配されたバンド表面冷却機１６１と、乾燥室１２１ｂに配されたバンド裏面冷却機１６２とを備える。
【０１１４】
バンド表面冷却機１６１は、図１４及び図１５に示すように、流延膜１４１が剥離される（以下、剥離位置と称する）位置ＰＰよりもＺ１方向下流側であって、Ｚ２方向では、逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分、すなわち溶接部９１ｗの近傍に設けられる。ここで、剥離位置ＰＰは、バンド９１のうち剥離用の金属ドラム、すなわち水平ドラム１２４によって支持された部分に設定される。
【０１１５】
バンド表面冷却機１６１は、冷却ガス１６１ａの温度を調節する温調部１６１ｔと、冷却ガス１６１ａを送り出す冷却ノズル１６１ｎと、冷却ノズル１６１ｎから送り出された冷却ガス１６１ａが流延面９１ａ側の溶接部９１ｗにあたるように、冷却ノズル１６１ｎの位置を調節する冷却ノズル位置調節部１６１ｓとを備える。
【０１１６】
バンド裏面冷却機１６２は、図１５及び図１６に示すように、Ｚ１方向では、バンド９１のうち、水平ドラム１２４に近づくように移動する部分であって、Ｚ２方向では、逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分、すなわち溶接部９１ｗの近傍に設けられる。
【０１１７】
バンド裏面冷却機１６２は、バンド表面冷却機１６１と同様に、冷却ガス１６２ａの温度を調節する温調部１６２ｔと、冷却ガス１６２ａを送り出す冷却ノズル１６２ｎと、冷却ノズル１６２ｎから送り出された冷却ガス１６２ａが裏面９１ｂ側の溶接部９１ｗにあたるように、冷却ノズル１６２ｎの位置を調節する冷却ノズル位置調節部１６２ｓとを備える。
【０１１８】
図１０に戻って、流延装置１１５とクリップテンタ１１７との間の渡り部には、湿潤フィルム１１３を支持する支持ローラ１７１が複数並べられている。支持ローラ１７１は、図示しないモータにより、軸を中心に回転する。支持ローラ１７１は、流延装置１１５から送り出された湿潤フィルム１１３を支持して、クリップテンタ１１７へ案内する。なお、渡り部に２つの支持ローラ１７１を並べた場合を示しているが、本発明はこれに限られず、渡り部に１つ、または３つ以上の支持ローラ１７１を並べてもよい。また、支持ローラ１７１は、フリーローラでもよい。
【０１１９】
クリップテンタ１１７は、湿潤フィルム１１３の幅方向両側縁部を把持する多数のクリップを有し、このクリップが延伸軌道上を移動する。クリップにより把持された湿潤フィルム１１３に対し乾燥風が送られ、湿潤フィルム１１３には、幅方向への延伸処理とともに乾燥処理が施される。
【０１２０】
クリップテンタ１１７とフィルム乾燥装置１１８との間には耳切装置１７２が設けられている。耳切装置１７２に送り出されたフィルム１１６の幅方向の両端は、クリップによって形成された把持跡が形成されている。耳切装置１７２は、この把持跡を有する両端部分を切り離す。この切り離された部分は、送風によりカットブロワ（図示しない）及びクラッシャ（図示しない）へ順次に送られて、細かく切断され、ドープ等の原料として再利用される。
【０１２１】
フィルム乾燥装置１１８は、フィルム１１６の搬送路を備えるケーシングと、フィルム１１６の搬送路を形成する複数のローラ１１８ａと、ケーシング内の雰囲気の温度や湿度を調節する空調機（図示しない）とを備える。ケーシング内に導入されたフィルム１１６は、複数のローラ１１８ａに巻き掛けられながら搬送される。この雰囲気の温度や湿度の調節により、ケーシング内を搬送されるフィルム１１６から残留した溶剤が蒸発する。更に、フィルム乾燥装置１１８に、フィルム１１６から蒸発した溶剤を吸着により回収する吸着回収装置が接続される。
【０１２２】
フィルム乾燥装置１１８及び巻取装置１１９の間には、上流側から順に、冷却室１７３、除電バー（図示しない）、ナーリング付与ローラ１７４、及び耳切装置（図示しない）が設けられる。冷却室１７３は、フィルム１１６の温度が略室温となるまで、フィルム１１６を冷却する。除電バーは、冷却室１７３から送り出され、帯電したフィルム１１６から電気を除く除電処理を行う。ナーリング付与ローラ１７４は、フィルム１１６の幅方向両端に巻き取り用のナーリングを付与する。耳切装置は、切断後のフィルム１１６の幅方向両端にナーリングが残るように、フィルム１１６の幅方向両端を切断する。
【０１２３】
巻取装置１１９は、プレスローラ１１９ａと巻き芯１１９ｂを有する。巻取装置１１９に送られたフィルム１１６は、プレスローラ１１９ａによって押し付けられながら巻き芯１１９ｂに巻き取られ、ロール状となる。
【０１２４】
次に、本発明の作用を説明する。図１１に示すように、コントローラ１２８ｃは、駆動用モータ１２８ｍを介して、水平ドラム１２４を回転させる。これにより、バンド９１は、各室１２１ａ〜１２１ｃを順次、循環移動する。
【０１２５】
（膜形成工程）
流延室１２１ａでは、バンド９１上にドープ１１２からなる流延膜１４１を形成する流延工程が行われる。流延ダイ１４２は、ドープ流出口１４２ａからドープ１１２を連続的に流出する。流出したドープ１１２は、流延ダイ１４２からバンド９１にかけてビードを形成し、バンド９１上にて流れ延ばされる。こうして、バンド９１上には、ドープ１１２からなる流延膜１４１が形成される。
【０１２６】
減圧機１４３は、ビードのＺ１方向上流側の圧力がビードのＺ１方向下流側の圧力よりも低い状態をつくることができる。ビードのＺ１方向上流側及びＺ１方向下流側の圧力差ΔＰは、１０Ｐａ以上２０００Ｐａ以下であることが好ましい。
【０１２７】
（膜乾燥工程）
乾燥室１２１ｂでは、所定の乾燥風を流延膜１４１にあてて、流延膜１４１から溶剤を蒸発させる乾燥工程が行われる。膜乾燥工程は、流延膜１４１は、自立して搬送可能な状態となるまで行われる。膜乾燥工程では、第１膜乾燥工程、及び第２膜乾燥工程が順次行われる。
【０１２８】
第１膜乾燥工程では、流延膜１４１の表層に乾燥層が形成するまで、流延膜１４１から溶剤を蒸発させる。第１乾燥機１５１は、第１乾燥風１５１ｄａを第１給気口から送り出す。
【０１２９】
この第１膜乾燥工程により、流延膜１４１は、乾燥層と湿潤層とを有するものとなる。乾燥層は、流延膜１４１の表面側に生成され、乾燥層よりもバンド９１側に位置する湿潤層に比べて乾燥が進んだ部分である。すなわち、乾燥層の溶剤の含有量は湿潤層に比べて低い。また、乾燥層の表面は平滑に形成される。乾燥層を有するものとなった流延膜１４１について所定の乾燥工程を行った場合には、乾燥層の表面が、得られた流延膜１４１の表面となる。したがって、形成直後の流延膜１４１において乾燥層を形成することにより、表面が平滑な流延膜１４１を得ることができる。
【０１３０】
ここで、溶剤の含有量は、流延膜や各フィルム中に含まれる溶剤の量を乾量基準で示したものであり、対象のフィルムからサンプルを採取し、このサンプルの重量をｘ、サンプルを乾燥した後の重量をｙとするとき、｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００と表される。
【０１３１】
第１乾燥風１５１ｄａの温度は３０℃以上８０℃以下であることが好ましい。また、第１乾燥風１５１ｄａの風速は５ｍ／秒以上２５ｍ／秒以下であることが好ましい。
【０１３２】
第２膜乾燥工程は、第２乾燥風１５２ｄａを用いて、自立して搬送可能な状態となるまで流延膜１４１から溶剤を蒸発させる。第２乾燥機１５２は、流延膜１４１の膜面に沿って、Ｚ１方向下流側から上流側に向かって第２乾燥風１５２ｄａを流す。このように、第２乾燥風１５２ｄａをＺ１方向と逆向きに流すことにより、Ｚ１方向に流す場合に比べて溶剤の蒸発が促進される。第２膜乾燥工程は、溶剤の含有量が２０質量％以上１５０質量％以下の流延膜１４１に対して行うことが好ましい。第２乾燥風１５２ｄａの温度は４０℃以上８０℃以下であることが好ましい。また、第２乾燥風１５２ｄａの風速は５ｍ／秒以上２０ｍ／秒以下であることが好ましい。
【０１３３】
（剥離工程）
剥離室１２１ｃでは、剥ぎ取り可能な状態となった流延膜１４１をバンド９１から剥離する剥離工程が行われる。剥離ローラ１２２は、剥離可能な状態となった流延膜１４１をバンド９１から剥ぎ取って湿潤フィルム１１３とし、剥離室１２１ｃに設けられた出口１２１ＣＯから湿潤フィルム１１３を送り出す。剥離工程は、溶剤の含有量が２０質量％以上８０質量％以下の流延膜１４１に対して行うことが好ましい。
【０１３４】
バンド９１は、剥離室１２１ｃを送り出された後、再び、流延室１２１ａに導入される。
【０１３５】
溶接部９１ｗを有するバンド９１は、中央部９１ｃ（図９参照）から側部９１ｓ（図９参照）にかけて反りやすい。バンド９１に反りが生じると、バンド９１の一部が水平ドラム１２４、１２５から浮いてしまう結果、発泡故障、剥げ残り故障、フィルムの厚みムラ故障が起こってしまう。水平ドラム１２４、１２５におけるバンド９１の浮き量は、水平ドラム１２４、１２５に巻き掛けられたバンド９１にはたらく垂直応力Ｎが大きくなるに従い、小さくなる。この性質を利用して、垂直応力Ｎの増大により浮き量ＣＬを減少させる浮き量減少工程を行なってもよい。
【０１３６】
ここで、Ｄｒを水平ドラムの半径とし、Ｔをバンドの移動テンションとし、ＴＨをバンドの厚みとすると、水平ドラムに巻き掛けられたバンドにはたらく垂直応力Ｎは、次式で表される。
Ｎ＝ＴＨ×Ｔ／Ｄｒ
【０１３７】
なお、水平ドラム１２４、１２５の半径Ｄｒが１０００ｍｍ、バンドの厚みＴＨが１．６ｍｍのとき、バンド９１にかかる移動テンションは、例えば、５０Ｎ／ｍｍ２〜７０Ｎ／ｍｍ２である。
【０１３８】
溶接部９１ｗを有するバンド９１を用いた溶液製膜方法を、長時間連続して行なった場合、溶接部９１ｗに起因した削り粉故障や厚みムラ故障が生じる。溶液製膜方法を長時間連続して行なうと、溶接部９１ｗが裏面９１ｂから突出してしまう。
【０１３９】
ここで、溶液製膜方法を長時間連続して行った場合に、溶接部９１ｗが裏面９１ｂから突出してしまう原因は、溶接部９１ｗの残留応力により起こる相変態であると推測される。
【０１４０】
そして、溶接部９１ｗが裏面９１ｂから突出した状態でバンド９１を移動させると、溶接部９１ｗとドラム本体１２４ｂ、１２５ｂの外周部とが接触する。裏面９１ｂにおいてこの接触が繰り返されると、経時により、流延面９１ａにおける溶接部９１ｗは凹状に変形する。この状態で溶液製膜方法を行なうと、フィルム１１６には、溶接部９１ｗの跡が厚みムラとなって残ってしまう。この厚みムラを有するフィルム１１６そのまま巻き芯１１９ｂに巻き取ってしまうと、溶接部９１ｗの跡が重なることにより黒い帯となってフィルムロールに現れてしまう（以下、黒帯故障と称する）。また、溶接部９１ｗが裏面９１ｂから突出した状態で溶液製膜方法を行なうと、溶接部９１ｗとドラム本体１２４ｂ、１２５ｂの外周部との擦れにより、削り粉故障が起こってしまう。
【０１４１】
本発明では、ドラム本体１２４ｂのバンド支持面１２４ｂｓに逃げ溝１２４ｂｄを設け、溶接部９１ｗが逃げ溝１２４ｂｄの上に位置するように、バンド９１をドラム本体１２４ｂに巻き掛けたため、溶接部９１ｗはドラム本体１２４ｂに接触しない。同様に、溶接部９１ｗが逃げ溝１２５ｂｄの上に位置するように、バンド９１をドラム本体１２５ｂに巻き掛けたため、溶接部９１ｗはドラム本体１２５ｂに接触しない。このため、厚みムラ故障及び削り粉故障を抑えることが可能となる。
【０１４２】
また、膜乾燥工程を経たバンド９１の温度は、各乾燥風との接触により、膜乾燥工程導入前に比べて高い。高温状態のバンド９１を用いて膜形成工程を行なうと、ドープの発泡がおこるおそれがある。ドラム温調部１２８ｄａによれば、バンド９１がドープの発泡温度よりも低温になるように、ドラム本体１２４ｂを冷却することが可能となる。そして、ドラム本体１２４ｂの冷却により、バンド９１のうち、ドラム本体１２４ｂと直接接触する部分の温度を、ドープの発泡温度よりも低温にすることができる。
【０１４３】
ところが、バンド９１のうち、ドラム本体１２４ｂと直接接触しない部分、すなわち逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分は、冷却が十分でない。そして、冷却が不十分であれば、ドープの発泡が起こってしまう。
【０１４４】
図１４に示すように、バンド表面冷却機１６１は、冷却ノズル１６１ｎを用いて、逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分に冷却ガス１６１ａをあてることができるため、ドラム温調部１２８ｄａによるドラム本体１２４ｂの冷却不足を補うことができる。したがって、ドープの発泡をより確実に抑えつつ、フィルム１１６を効率よく製造することができる。
【０１４５】
また、生産効率の点から、剥離工程を行なうタイミングは、流延膜の溶剤の含有量が高いほうが好ましい。しかしながら、溶剤の含有量が高い流延膜に対し剥離工程を行なおうとすると、残り故障が起こりやすい。そこで、剥離工程直前の流延膜を冷却することが好ましい。ドラム温調部１２８ｄａを用いてドラム本体１２４ｂを冷却することにより、剥離工程直前の流延膜の冷却が可能となる。ドラム本体１２４ｂの冷却により、バンド９１のうち、ドラム本体１２４ｂと直接接触する部分の温度を、ドープの発泡温度よりも低温にすることができる。
【０１４６】
ところが、バンド９１のうち、ドラム本体１２４ｂと直接接触しない部分、すなわち逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分は、冷却が十分でない。そして、冷却が不十分であれば剥げ残り故障が起こってしまう。
【０１４７】
図１６に示すように、バンド裏面冷却機１６２は、冷却ノズル１６２ｎを用いて、逃げ溝１２４ｂｄに対向する部分に冷却ガス１６２ａをあてることができるため、ドラム温調部１２８ｄａによるドラム本体１２４ｂの冷却不足を補うことができる。したがって、剥げ残り故障をより確実に抑えつつ、フィルム１１６を効率よく製造することができる。
【０１４８】
なお、Ｚ１方向におけるバンド表面冷却機１６１の設定位置は、剥離位置ＰＰと到達位置ＣＰとの間であれば、剥離室１２１ｃ及び流延室１２１ａのいずれでもよい。ここで、到達位置ＣＰは、バンド９１のうち流延用の金属ドラム、すなわち水平ドラム１２４によって支持された部分に設定される（図１１及び図１５参照）。このように、バンド表面冷却機１６１を用いたバンド９１を冷却する工程は、剥離工程及び次の膜形成工程の間で行なえばよい。
【０１４９】
上記実施形態では、ステンレス製のバンド９１を用いたが、金属製のバンド９１であってもよい。同様に、ステンレス製の水平ドラム１２４，１２５を用いたが、金属製の水平ドラム１２４，１２５を用いてもよい。
【０１５０】
バンド表面冷却機１６１を用いて、冷却ガス１６１ａを流延面９１ａ側の溶接部９１ｗにあてる代わりに、流延面９１ａ側の溶接部９１ｗに溶剤を塗布した後に、塗布された溶剤を蒸発させても良いし、冷却されたローラを流延面９１ａ側の溶接部９１ｗに接触させた状態で転がしてもよい。同様に、バンド裏面冷却機１６２を用いて、冷却ガス１６２ａを裏面９１ｂ側の溶接部９１ｗにあてる代わりに、裏面９１ｂ側の溶接部９１ｗに溶剤を塗布した後に、塗布された溶剤を蒸発させても良いし、冷却されたローラを裏面９１ｂ側の溶接部９１ｗに接触させた状態で転がしてもよい。バンド表面冷却機やバンド裏面冷却機を用いてバンド９１を冷却する場合、ドープに含まれる溶剤をバンド９１に塗布しても良い。
【０１５１】
流延ダイ１４２の設置位置を水平ドラム１２４の上方としたが、本発明はこれに限られない。シール部材１３１〜１３２を水平ドラム１２５に巻き掛けられたバンド９１の部分と近接するように設けたときには、流延ダイ１４２の設置位置を水平ドラム１２５の上方としてもよい。この場合には、水平ドラム１２５が、流延用の金属ドラムとなり、水平ドラム１２４が剥離用の金属ドラムとなる。
【０１５２】
また、バンド９１を支持するサポートドラムを水平ドラム１２４、１２５の間に設け、シール部材１３１〜１３２をサポートドラムに支持されたバンド９１の部分と近接するように設けたときには、流延ダイ１４２の設置位置をサポートドラムの上方としても良い。この場合には、サポートドラムが、流延用の金属ドラムとなり、水平ドラム１２４が剥離用の金属ドラムとなる。
【０１５３】
本発明により得られるフィルム１１６は、特に、位相差フィルムや偏光板保護フィルムに用いることができる。
【０１５４】
フィルム１１６の幅は、６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上２５００ｍｍ以下であることがより好ましい。また、本発明は、フィルム１１６の幅が２５００ｍｍより大きい場合にも効果がある。またフィルム１１６の膜厚は、２０μｍ以上８０μｍ以下であることが好ましい。
【０１５５】
また、フィルム１１６の面内レターデーションＲｅは、２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、フィルム１１６の厚み方向レターデーションＲｔｈは、−１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１５６】
面内レターデーションＲｅの測定方法は次の通りである。面内レターデーションＲｅは、サンプルフィルムを温度２５℃，湿度６０％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ 王子計測（株））にて６３２．８ｎｍにおける垂直方向から測定したレターデーション値を用いた。なおＲｅは以下式で表される。
Ｒｅ＝｜ｎ１−ｎ２｜×ｄ
ｎ１は遅相軸の屈折率，ｎ２は進相軸２の屈折率，ｄはフィルムの厚み（膜厚）を表す
【０１５７】
厚み方向レターデーションＲｔｈの測定方法は次の通りである。サンプルフィルムを温度２５℃，湿度６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメータ（Ｍ１５０ 日本分光（株）製）で６３２．８ｎｍにより垂直方向から測定した値と、フィルム面を傾けながら同様に測定したレターデーション値の外挿値とから下記式に従い算出した。
Ｒｔｈ＝｛（ｎ１＋ｎ２）／２−ｎ３｝×ｄ
ｎ３は厚み方向の屈折率を表す。
【０１５８】
（ポリマー）
上記実施形態では、ポリマーフィルムの原料となるポリマーは、特に限定されず、例えば、セルロースアシレートや環状ポリオレフィン等がある。
【０１５９】
（セルロースアシレート）
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでも良いし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていても良い。２種類以上のアシル基を用いるときは、その１つがアセチル基であることが好ましい。セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、すなわち、アシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するものが好ましい。なお、以下の式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）において、Ａ及びＢは、アシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）の９０重量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。
（Ｉ） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（ＩＩ） １．０≦ Ａ ≦３．０
（ＩＩＩ） ０ ≦ Ｂ ≦２．０
【０１６０】
アシル基の全置換度Ａ＋Ｂは、２．２０以上２．９０以下であることがより好ましく、２．４０以上２．８８以下であることが特に好ましい。また、炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度Ｂは、０．３０以上であることがより好ましく、０．５以上であることが特に好ましい。
【０１６１】
セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター，パルプのどちらから得られたものでも良い。
【０１６２】
本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でも良く特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していても良い。これらの好ましい例としては、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル、ブタノイルである。
【０１６３】
（溶剤）
ドープを調製する溶剤としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明において、ドープとはポリマーを溶剤に溶解または分散して得られるポリマー溶液，分散液を意味している。
【０１６４】
これらの中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ポリマーの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度など及びフィルムの光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対し２重量％〜２５重量％が好ましく、５重量％〜２０重量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノールあるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【０１６５】
ところで、最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない場合の溶剤組成についても検討が進み、この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素原子数１〜１２のアルコールが好ましく用いられる。これらを適宜混合して用いることがある。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶剤が挙げられる。これらのエーテル、ケトン，エステル及びアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン，エステル及びアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−及び−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶剤として用いることができる。
【０１６６】
なお、セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載も本発明にも適用できる。また、溶剤及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【０１６７】
上記実施形態では、溶液製膜方法について説明したが、本発明は、支持体の上に液を塗布（流延）して、塗布膜を形成する方法にも適用可能である。
【実施例】
【０１６８】
以下に本発明の効果を確認するために、実験１〜４を行った。各実験の詳細は実験１にて説明し、実験２〜４については、実験１と異なる条件のみを示す。
【０１６９】
（実験１）
流延面９１ａ及び裏面９１ｂに所定の研磨処理を行なったバンド９１を用いて、溶液製膜設備１１０（図１０参照）を連続して、７００時間行なって、ドープ１１２からフィルム１１６を製造した。流延支持ユニットとして、図１２に示すような、水平ドラム１２４、１２５と、バンド９１と、バンド移動制御ユニット１２８とを用いた。逃げ溝１２４ｂｄの底部とバンド９１の裏面９１ｂとの間隔の最大値ＣＬ１（図１４参照）は、０．１ｍｍであった。ドラム温調部１２８ｄａ、１２８ｄｂにより、ドラム本体１２４ｂの温度は１０℃に調節され、ドラム本体１２５ｂの温度は３０℃に調節された。バンド９１にかかる移動テンションＴ１は、６０Ｎ／ｍｍ２であった。なお、バンド温調部１２８ｂは、用いていない。
【０１７０】
（実験２）
ＣＬ１が表１に示す値であったこと、バンド温調部１２８ｂとして、バンド裏面冷却機１６２を用いたこと以外は、実験１と同様にして、フィルム１１６を製造した。冷却ガス１６２ａの温度は５℃であり、冷却ガス１６２ａの風速は２０ｍ／秒であった。
【０１７１】
【表１】
【０１７２】
（実験３）
ＣＬ１が表１に示す値であったこと、バンド温調部１２８ｂとして、バンド表面冷却機１６１を用いたこと以外は、実験１と同様にして、フィルム１１６を製造した。冷却ガス１６１ａの温度は５℃であり、冷却ガス１６１ａの風速は２０ｍ／秒であった。
【０１７３】
（実験４）
水平ドラム１２４、１２５に代えて、逃げ溝を有さず周面全体が平らな水平ドラムを用いたこと以外は、実験１と同様にして、フィルム１１６を製造した。
【０１７４】
（評価）
【０１７５】
実験１〜実験４で得られたフィルムについて、以下の評価を行った。
【０１７６】
１．削り粉故障の評価
削り粉故障の有無について調べた。
○：削り粉故障が起こらなかった。
×：削り粉故障が起こった。
【０１７７】
２．溶接部の跡における厚みムラの評価
以下の手順で、溶接部の跡が厚みムラとして残っているか否かを調べた。巻取装置１１９にて、巻き芯に巻き取られる前のフィルムから、サンプルフィルムを切り出した。切り出したサンプルフィルムを１０枚重ねた。そして、１０枚重ねたサンプルフィルムに光を透過させた際、サンプルフィルムの表面に現れる陰影を目視で観察した。サンプルフィルムのうち溶接部に形成された部分に陰影が観察されなかった場合には、（○）とし、サンプルフィルムのうち溶接部に形成された部分に陰影が観察された場合には、そうでない場合には、(×)とした。
【０１７８】
実験１〜４の評価結果を表１に示す。なお、表１において、評価結果に付した番号は、上記評価項目に付した番号を表す。
【符号の説明】
【０１７９】
１１０ 溶液製膜設備
１１５ 流延装置
９１ 流延バンド
１４１ 流延膜
１２４、１２５ 水平ドラム
１２４ｂｓ、１２５ｂｓ バンド支持面
１２４ｂｄ、１２５ｂｄ 逃げ溝
１６１ バンド表面冷却機
１６２ バンド裏面冷却機
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転自在に支持され、
長手方向に延びた溶接部を有する金属製のエンドレスバンドを周面で支持し、
前記周面には前記溶接部から逃げるための溝が周方向へ延設されたことを特徴とする金属ドラム。
【請求項２】
前記溝が環状に形成されたことを特徴とする請求項１記載の金属ドラム。
【請求項３】
前記溝の底部が平らであることを特徴とする請求項１または２記載の金属ドラム。
【請求項４】
請求項１ないし３のうちいずれか１項記載の金属ドラムと、
前記溶接部が前記溝の上に位置するように前記金属ドラムに巻き掛けられ、前記金属ドラムの回転により移動する前記エンドレスバンドと、
ポリマー及び溶剤を含むドープを前記エンドレスバンドの表面に向けて流出する流延ダイと、
前記流出したドープからなり前記表面上に形成された流延膜に加熱風をあてて、前記流延膜から前記溶剤を蒸発させる膜乾燥機とを備えたことを特徴とする流延装置。
【請求項５】
前記流延膜を前記エンドレスバンドから剥離して湿潤フィルムとする剥離機を備えたことを特徴とする請求項４記載の流延装置。
【請求項６】
前記流延膜は前記エンドレスバンドのうち剥離用の前記金属ドラムに支持された部分で剥離され、
前記剥離用の金属ドラムを冷却する剥離ドラム冷却機と、
前記剥離用の金属ドラムに近づくように移動する前記エンドレスバンドの前記溶接部を裏面側から冷却するバンド裏面冷却機とを備えたことを特徴とする請求項５記載の流延装置。
【請求項７】
前記流延ダイから流出した前記ドープは前記エンドレスバンドのうち流延用の前記金属ドラムに支持された部分に到達し、
前記流延用の金属ドラムを冷却する流延ドラム冷却機と、
前記エンドレスバンドのうち前記ドープが到達する位置及び前記流延膜が剥離される位置の間に設けられ、前記流延用の金属ドラムに支持された前記溶接部を前記表面側から冷却するバンド表面冷却機とを備えたことを特徴とする請求項５または６記載の流延装置。
【請求項８】
請求項４記載の流延装置を用いて、前記エンドレスバンドの表面に前記流延膜を形成することを特徴とする流延膜の形成方法。
【請求項９】
請求項５ないし７のうちいずれか１項記載の流延装置を用いて、前記エンドレスバンドの表面に前記流延膜を形成し、前記流延膜を前記エンドレスバンドから剥離してフィルムとすることを特徴とする溶液製膜方法。
【請求項１】
回転自在に支持され、
長手方向に延びた溶接部を有する金属製のエンドレスバンドを周面で支持し、
前記周面には前記溶接部から逃げるための溝が周方向へ延設されたことを特徴とする金属ドラム。
【請求項２】
前記溝が環状に形成されたことを特徴とする請求項１記載の金属ドラム。
【請求項３】
前記溝の底部が平らであることを特徴とする請求項１または２記載の金属ドラム。
【請求項４】
請求項１ないし３のうちいずれか１項記載の金属ドラムと、
前記溶接部が前記溝の上に位置するように前記金属ドラムに巻き掛けられ、前記金属ドラムの回転により移動する前記エンドレスバンドと、
ポリマー及び溶剤を含むドープを前記エンドレスバンドの表面に向けて流出する流延ダイと、
前記流出したドープからなり前記表面上に形成された流延膜に加熱風をあてて、前記流延膜から前記溶剤を蒸発させる膜乾燥機とを備えたことを特徴とする流延装置。
【請求項５】
前記流延膜を前記エンドレスバンドから剥離して湿潤フィルムとする剥離機を備えたことを特徴とする請求項４記載の流延装置。
【請求項６】
前記流延膜は前記エンドレスバンドのうち剥離用の前記金属ドラムに支持された部分で剥離され、
前記剥離用の金属ドラムを冷却する剥離ドラム冷却機と、
前記剥離用の金属ドラムに近づくように移動する前記エンドレスバンドの前記溶接部を裏面側から冷却するバンド裏面冷却機とを備えたことを特徴とする請求項５記載の流延装置。
【請求項７】
前記流延ダイから流出した前記ドープは前記エンドレスバンドのうち流延用の前記金属ドラムに支持された部分に到達し、
前記流延用の金属ドラムを冷却する流延ドラム冷却機と、
前記エンドレスバンドのうち前記ドープが到達する位置及び前記流延膜が剥離される位置の間に設けられ、前記流延用の金属ドラムに支持された前記溶接部を前記表面側から冷却するバンド表面冷却機とを備えたことを特徴とする請求項５または６記載の流延装置。
【請求項８】
請求項４記載の流延装置を用いて、前記エンドレスバンドの表面に前記流延膜を形成することを特徴とする流延膜の形成方法。
【請求項９】
請求項５ないし７のうちいずれか１項記載の流延装置を用いて、前記エンドレスバンドの表面に前記流延膜を形成し、前記流延膜を前記エンドレスバンドから剥離してフィルムとすることを特徴とする溶液製膜方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１３−６３５１１（Ｐ２０１３−６３５１１Ａ）
【公開日】平成２５年４月１１日（２０１３．４．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２０１８１１（Ｐ２０１１−２０１８１１）
【出願日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年４月１１日（２０１３．４．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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