金属錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材
【課題】優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる金属錯体、およびこれを含有する紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供すること。
【解決手段】式（２）：
で表される化合物を配位子とする金属錯体。
【解決手段】式（２）：
で表される化合物を配位子とする金属錯体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、式（１）で表される金属錯体、式（１）で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、可視光線を十分に透過すると同時に、紫外線のみを選択的に遮蔽する機能を有する部材が様々な分野で使用されている。例えば、自動車のウインドウガラスや建築物の窓ガラス等においては、日焼けや内装材の劣化を引き起こす紫外線を遮蔽するために紫外線遮蔽ガラスが広く使用されている。
【０００３】
また、カーポート、ショーウインドウ、ショーケース、照明用透明シェード等に使用される透明樹脂板や、各種透明容器等の用途においても、紫外線遮蔽機能を付与したアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の透明な熱可塑性樹脂の成形体が用いられている。
【０００４】
このように、ガラスや樹脂等に紫外線を遮蔽する機能を付与するために、紫外線吸収剤として無機系金属酸化物微粒子や有機系紫外線吸収剤を用いる方法が一般的に利用されている（特許文献１〜４）。
【０００５】
しかしながら、無機系金属酸化物微粒子は耐光性に優れている反面、その吸収波長は材料固有のバンドギャップによって支配されるため、吸収波長の最適化が困難である。さらに、その吸収スペクトルは多くの場合ブロードで、所望の波長域のみを選択的に遮蔽するには限界がある。さらに、溶媒等に溶解させることができないため通常微粒子分散状態で使用するが、可視光域の透明性を確保するためには粒子径をナノオーダーまで小さくする必要があり、多大な労力とコストを要する。
【０００６】
一方、有機系紫外線吸収剤は、分子構造の変更による吸収波長の変更がある程度可能であり、また溶媒に溶解させて使用することができるため、比較的容易に可視光域の透明性を確保できる。しかしながら、ほとんどの場合、耐光性が不十分であり、紫外線吸収能の持続力という面で信頼性に欠ける。また、吸光係数が小さいことからコーティングにより十分な吸収能を得ることは困難であり、適用可能な用途に制限がある。
【０００７】
また、無機系金属酸化物微粒子および有機系紫外線吸収剤のいずれについても、可視光透明性が優れており、且つ３８０〜４００ｎｍ波長域における吸光係数の大きな材料はほとんど知られていない。
【０００８】
ここで、３８０〜４００ｎｍの紫外線は、ＵＶ−Ａと呼ばれる比較的波長の長い紫外線に分類され、地表に到達する太陽光の紫外線としては最も多く含まれるが、人体にとっては皮膚への浸透程度が深いため、長時間の曝露が色素沈着（シミ）やシワを引き起こすことが知られている。様々な分野における紫外線遮蔽技術の高機能化に伴い、可視光域との境界付近の３８０〜４００ｎｍの紫外線を十分に遮蔽でき、且つ４００〜７８０ｎｍの可視光線を十分に透過する材料が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−０５２１１６号公報
【特許文献２】特開２０１０−１１１７２９号公報
【特許文献３】特開２０１０−１８９２１５号公報
【特許文献４】特開２００８−２７４２４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる金属錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、以下に示す紫外線吸収剤として有用な金属錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。
項１．式（１）：
【００１２】
【化１】
【００１３】
（式中、ＸおよびＹはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ２は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）で表される金属錯体。
【００１４】
項２．式（１）において、Ｍで示される金属原子が銅、コバルトまたはニッケルである項１に記載の金属錯体。
【００１５】
項３．項１または２に記載の少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物。
【００１６】
項４．溶媒を含むか、あるいは溶媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が溶媒を兼ねる溶液形態である項３に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【００１７】
項５．分散媒を含むか、あるいは分散媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が分散媒を兼ね、該金属錯体の微粒子が分散した分散液形態である項３に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【００１８】
項６．項３〜５のいずれか１項に記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
【００１９】
項７．基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜を有する積層体としての紫外線吸収部材である項６に記載の紫外線吸収部材。
【００２０】
項８．該金属錯体がマトリックス材料の膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材である項６に記載の紫外線吸収部材。
【００２１】
本発明は、式（１）で表される金属錯体を提供する。
また、本発明は、式（１）で表される金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含有することを特徴とする紫外線吸収部材用組成物を提供する。
【００２２】
本発明における紫外線吸収部材用組成物は、式（１）で表される金属錯体が溶解状態にあるものであってもよいし、式（１）で表される金属錯体の微粒子が分散状態にあるものであってもよい。
溶解状態の式（１）で表される金属錯体を含有する紫外線吸収部材用組成物の場合、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率を高度に保つ上で特に有利であり、一方、分散状態の式（１）で表される金属錯体微粒子を含有する紫外線吸収部材用組成物の場合には、耐光性が優れた紫外線吸収部材を得る上で特に有利となる。
【００２３】
また、本発明は前記の紫外線吸収部材用組成物を用いて、ガラス基材や樹脂基材上にコーティング膜を施して得られる紫外線吸収部材を提供する。
【００２４】
式（１）で表される金属錯体は、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを効率よく遮蔽し、また一般的な有機系紫外線吸収剤に比べてはるかに良好な耐光性を示し、また長期間にわたって光を照射し続けても、その紫外線吸収能が低下しにくい。また、金属酸化物微粒子に比べて紫外線遮蔽能が大幅に優れているため、少量の添加で十分な紫外線遮蔽能を付与することができ、さらに、可視光域における透明性が非常に優れていることも特筆すべき特徴である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によると、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、式（１）：
【００２７】
【化２】
【００２８】
（式中、ＸおよびＹはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ２は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）で表される金属錯体、および少なくとも１種類の該金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供するものである。
【００２９】
式（１）におけるＲ１、Ｒ２およびＭについて以下に例示する。
【００３０】
式中、Ｒ１としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基が好ましく、メチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
【００３１】
式中、Ｒ２に帰属される、前記の炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基が好ましく、メチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
【００３２】
式中、Ｒ２に帰属される、前記の炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。原料の入手性の観点から、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
【００３３】
式中、Ｒ２に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。原料の入手性の観点からフルオロ基、クロロ基が好ましく、クロロ基がより好ましい。
【００３４】
式中、Ｒ２に帰属される、前記の炭素数１〜８のアルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、１−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、１−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、１−ペンチルスルホニル基、イソペンチルスルホニル基、ネオペンチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基、１−ヘキシルスルホニル基、イソヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、１−ヘプチルスルホニル基、１−オクチルスルホニル基、１−（２−エチルヘキシル）スルホニル基等のアルキルスルホニル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、１−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、１−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、１−オクチルスルホニル基、１−（２−エチルヘキシル）スルホニル基が好ましく、メチルスルホニル基、１−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、１−ヘキシルスルホニル基、１−オクチルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基、１−オクチルスルホニル基がさらに好ましい。
【００３５】
前記のＲ２は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個、好ましくは１または２個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であり、得られる金属錯体の紫外線吸収能をはじめとする光吸収性能の観点から、存在しないか、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であることが好ましい。
【００３６】
式中、Ｍで表される金属原子は、金属錯体の耐光性の観点から遷移金属であることが好ましく、中でも経済性の観点から銅、コバルトまたはニッケル原子であることがより好ましい。
【００３７】
式（１）で表される金属錯体は、下記式（２）で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。
式（２）：
【００３８】
【化３】
【００３９】
式（２）で表される配位子は、例えば、「特開昭５６−８７５７５」において開示されている方法で合成することができる。
以下、式（２）で表される配位子の製造方法を一部説明する。
【００４０】
≪配位子の製造方法≫
i) 式（２）においてイミノ基の左右の構造が対称の場合
例えば、特開昭５６−８７５７５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノ−６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾールまたは２−アミノ−６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾールをフェノール等の酸触媒存在下において、１５０〜１８５℃に加熱し、反応させることによってビス｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミンまたはビス｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾリル］｝アミンを合成することができる。
【００４１】
ii) 式（２）においてイミノ基の左右の構造が非対称の場合
２−アミノ−６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾールまたは２−アミノ−６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾールのいずれかと、２−アミノ（−置換）ベンゾチアゾールまたは２−アミノ（−置換）ベンゾオキサゾールのいずれかを、フェノール等の酸触媒存在下において、１５０〜１８５℃に加熱し、反応させることによって｛２−［（置換）ベンゾチアゾリル］｝｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン、｛２−［（置換）ベンゾオキサゾリル］｝｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾリル］｝アミン、｛２−［（置換）ベンゾオキサゾリル］｝｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン、｛２−［（置換）ベンゾチアゾリル］｝｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾリル］｝アミンを合成することができる。
【００４２】
≪式（１）で表される金属錯体の製造方法≫
例えば、Ｐｏｌｙｈｅｄｒｏｎ ２００６，２５，２３６３−２３７４やＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２等に記載されている方法に従って、前記のi）〜ii）の製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。例えば、前記のi）〜ii）の製造方法に基づいて得られた配位子と、式（１）中のＭに対応する金属の酢酸塩を、メタノール、エタノール、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。
【００４３】
≪式（１）で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物の製造方法≫
本発明における紫外線吸収部材用組成物は、該紫外線吸収部材用組成物中において「式（１）で表される金属錯体が溶解状態にある」場合と、「式（１）で表される金属錯体が微粒子が分散状態にある」場合を示す。それぞれについて以下説明する。
【００４４】
（ｉ）式（１）で表される金属錯体が分子レベルで溶解状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物
具体的には、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好であり、且つ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を併用することで、該溶媒中にマトリックス材料および該金属錯体が溶解した、均一な紫外線吸収部材用組成物を製造することができる。
【００４５】
尚、マトリックス材料の代わりに、マトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを使用する場合、前記溶媒は必ずしも必要ではなく、該重合性モノマーをマトリックス材料の前駆体、兼溶媒として使用することも可能である。
【００４６】
前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができる。ここで、無機系バインダーとはポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
尚、本発明において使用する「マトリックス材料」という表現は、有機系または無機系バインダーと呼ばれるマトリックス成分（固形分）そのものだけでなく、該マトリックス成分を含む溶液（例えば市販のバインダー溶液）も含む。前記溶媒を用いることなく、前記マトリックス成分を含む溶液に金属錯体が溶解している態様も本発明に含まれる。
【００４７】
有機系バインダーとしては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等のポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂や、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体や、ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のポリスチレン系樹脂や、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体や、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル系樹脂や、シリコーン系樹脂や、ポリスルホン系樹脂や、ポリアミド系樹脂や、ポリイミド系樹脂や、ポリウレタン系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂や、エポキシ系樹脂や、フェノール系樹脂や、メラミン樹脂や、ユリア樹脂や、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂や、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴムもしくは天然ゴム等が挙げられる。
【００４８】
基材への密着性や透明性の観点から、好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂であり、より好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリビニル系樹脂である。
尚、（メタ）アクリルは、メタクリルおよびアクリルを示す。
【００４９】
無機系バインダーとしては、ポリシロキサン系バインダーを好適に用いることができる。この場合、ポリシロキサン系バインダー前駆体としてシリコンアルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を好適に用いることができる。
【００５０】
シリコンアルコキシドのゾル溶液は、通常、有機溶媒中で酸触媒存在下、シリコンアルコキシドに水を添加し、加水分解・重縮合させることにより、調製することができるが、市販のゾル溶液を使用しても良い。以下、シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製方法を具体的に説明する。
【００５１】
（シリコンアルコキシド）
シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランが挙げられる。
これらの中でも、得られる膜の状態や強度、経済性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランであることが好ましい。
【００５２】
これらのシリコンアルコキシドは、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【００５３】
また、一般的にシランカップリング剤として知られている、トリメトキシシリルプロパンチオール、トリエトキシシリルプロパンチオール、３−（ジメトキシメチルシリル）−１−プロパンチオール等や、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、３−（Ｎ−フェニル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、４−（２−アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン等や、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等や、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等や、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を添加・併用することも可能である。
【００５４】
また、最終的に得られるコーティング膜に所望の物性を付与するために、必要に応じて、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を添加・併用してもよい。
【００５５】
例えば、反射率を高くしたい場合にはチタンアルコキシドや亜鉛アルコキシドを、また機械的強度、耐アルカリ性を高くしたい場合にはジルコニウムアルコキシドを、耐候性を向上させたい場合にはニッケルアルコキシドを添加・併用することが効果的である。
【００５６】
（酸触媒）
酸触媒としては、特に限定されないが、例えば硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸や、蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。加水分解・重縮合反応終了後に酸が残存すると、縮合安定性が悪化するため、低沸点で揮発性が高く、ｐＫａの小さな蟻酸を用いることが好ましい。
【００５７】
酸触媒の添加量としては、十分な触媒作用を発揮する限り、特に限定されるものではないが、通常シリコンアルコキシド１モルに対して０．０１モル以上、より好ましくは０．３モル以上を配合することが好ましい。０．０１モル未満では十分な触媒作用が得られないおそれがあり、また過剰に添加した場合には、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液が、残存する酸により経時的に劣化するおそれがある。よってシリコンアルコキシド１モルに対して１モル以下の割合で配合することが好ましい。
【００５８】
（水）
上記シリコンアルコキシドの加水分解を引き起こし得る限り、特に限定されないが、シリコンアルコキシド１モルに対し、２〜６モルの割合で水を添加することが好ましい。２モル未満では十分に加水分解が進行しないおそれがあり、６モルを超えると加水分解が速く進行しすぎてしまい、続く重縮合反応の進行を妨げることに加え、反応後に除去する水の量が多くなり効率的でない。
【００５９】
（反応溶媒）
シリコンアルコキシド、水、酸触媒に加えて反応溶媒を使用することにより、加水分解速度を適度に低め、確実に加水分解・重縮合を進行させることができる。さらに、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の粘度をハンドリングしやすいレベルにまで調整するための希釈剤としての役割も兼ねる。
【００６０】
反応溶媒としては、前記シリコンアルコキシドが溶解するものであれば特に限定されることなく、適宜選択し使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００６１】
反応性や経済性の観点から、好ましくは、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類等である。
【００６２】
後工程において、該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に式（１）で表される金属錯体を溶解・混合する場合には、あらかじめ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を本工程における反応溶媒として使用することで、該金属錯体を溶解混合する際の労力を軽減することができる。
【００６３】
ただし、該金属錯体の貧溶媒を用いて本工程におけるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を調製した場合であっても、該金属錯体を溶解・混合する前に該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の溶媒を該金属錯体の良溶媒に置換する、あるいは該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に該金属錯体の良溶媒を添加することによって、問題なく溶解・混合することもできる。
【００６４】
前記反応溶媒の使用量は、シリコンアルコキシド１００重量部に対し、５０〜１０００重量部、好ましくは１００〜５００重量部の範囲とすることが望ましい。５０重量部未満では、加水分解・重縮合反応を適度な反応速度で進行させることが困難になるおそれがあり、１０００重量部を超えると、加水分解・重縮合反応の速度が低下するため効率的でないことに加えて、後述の減圧・留去工程に長時間を必要とするおそれがある。
【００６５】
まず、１種類または２種類以上のシリコンアルコキシドを、酸触媒、水及び溶媒と混合する。この溶液を０〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃ の温度に維持することにより、加水分解・重縮合反応を進行させる。０℃未満では、加水分解・重縮合反応が進行しにくくなるおそれがある。また１５０℃を超えると加水分解・重縮合反応が急速に進行するため、未反応のアルコキシ基が残存したり、ゲル化や着色を招くおそれがある。加水分解・重縮合反応の時間は、温度条件にもよるが、通常１〜２４時間、より好ましくは２〜８時間である。１時間未満では、十分に加水分解・重縮合反応が進行しないおそれがあり、２４時間を超えてもそれ以上反応が進まないことから経済的でない。
【００６６】
加水分解・重縮合反応により副生するアルコールと水を系外に除去するために、反応終了後、あるいは反応中に、反応液を減圧留去することが好ましい。減圧留去しながら反応を進行させれば、重縮合反応の反応速度を向上させる効果も見込めるためより好ましい。この工程において、前記酸触媒として蟻酸等の低沸点で揮発性の高い触媒を用いれば、溶媒とともに酸触媒も系外に除去でき、反応終了後のゾル溶液の安定性を確保することができる。
【００６７】
このようにして加水分解・重縮合反応の進行により、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を得ることができる。
【００６８】
これらのマトリックス材料は単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。組み合わせて使用する場合、有機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、無機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、有機系バインダーと無機系バインダーのそれぞれから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよい。
【００６９】
前記の、マトリックス材料および/またはマトリックスの材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好であり、且つ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒としては、用いるマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００７０】
これらの中で、該金属錯体の溶解性の観点からより好ましいものを挙げると、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等である。
【００７１】
さらに好ましくは、アルコール類としてはテトラフルオロプロパノール等が、ハロゲン化炭化水素類としてはクロロホルム、ジクロロメタン等が、ケトン類としてはＭＥＫ、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が、エステル類としてはγ−ブチロラクトン、乳酸エチル等が、エーテル類としてはシクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が、芳香族類としてはトルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンが、ラクタム類としては２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等が、グリコールエーテル類としてはＰＧＭＥＡ等が、その他スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００７２】
また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記溶媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、α−エチルスチレン、α−ブチルスチレン、α−ヘキシルスチレン、４−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ブロモスチレン、４−ニトロスチレン、４−メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、（メタ）アクリル酸や、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エトキシブチル（メタ）アクリレート、３−エトキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、メチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルや、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシドおよびビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ブロモ化ビスフェノールＡ、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジクロルメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス［｛（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ｝メチル］ベンゼン、トリ［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルフェニル］エーテル、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）オリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。
【００７３】
また、無機系重合性モノマーとして、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を使用することができる。
【００７４】
ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
【００７５】
これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合溶媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。
【００７６】
前記溶媒の使用量は、所望する紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の濃度や、使用する溶媒の種類、使用するマトリックス材料の前駆体の溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の溶解性の観点から言えば、通常該金属錯体１００重量部に対して５０〜１０００００重量部、好ましくは１００〜５０００重量部、より好ましくは２００〜３０００重量部である。５０重量部より少ないと、該金属錯体が完全に溶解しないおそれがあり、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率の低下を招くおそれがある。また１０００００重量部よりも多いと、紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体濃度が低下し、最終的に得られる紫外線吸収部材に十分な紫外線吸収能を付与できない可能性がある。
【００７７】
該金属錯体と、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを溶媒中に溶解させる際には、事前にマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを溶媒中に溶解させておき、ここに該金属錯体を添加し溶解させてもよいし、事前に該金属錯体を溶媒に溶解させ、この溶液とマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを混合し溶解させてもよいし、あるいは該金属錯体とマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを同時に溶媒と混合し溶解させてもよい。
【００７８】
尚、重合性モノマーを、マトリックス材料の前駆体、兼溶媒として使用する場合であっても、同様の手順で混合・溶解させることが可能である。
【００７９】
ここで、用いるマトリックス材料が、マトリックス成分が溶解している溶液であり、且つ該溶液の溶媒が該金属錯体の良溶媒である場合には、該金属錯体とマトリックス材料（マトリックス成分が溶解している溶液）を混合するだけでもよい。
【００８０】
また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。
【００８１】
また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の紫外線吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。
【００８２】
熱硬化の場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサノン−１−カルボニトリル）等のアゾ系化合物や、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキシド類や、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド等を挙げることができる。
【００８３】
光硬化の場合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４’−メチルチオ−２，２−ジメチル−２−モルホリノアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、２−クロロチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００８４】
熱硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩等を挙げることができる。
【００８５】
光硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩等を挙げることができる。
【００８６】
硬化剤としては、上記重合性モノマーとしてエポキシ系モノマーを使用する際に使用されるものとして、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物や、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、ピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン等の脂肪族アミンや、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４-ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族アミンや、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類や、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩や、ポリメルカプタン、ポリサルファイド等を挙げることができる。
【００８７】
中でも、酸無水物類が重合後のエポキシ樹脂の機械特性を向上する点で好ましく、操作性において常温で液状のものが好ましい。具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。
常温で固体の酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を使用する場合には、常温で液状の酸無水物に溶解させ、常温で液状の混合物として使用することが操作上好ましい。
【００８８】
エポキシ系モノマーの上記硬化反応を促進するために、さらに硬化促進剤を使用することもできる。硬化促進剤は、単独または２種以上を混合して使用することができる。 例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジアミノメチル）フェノール、１，８−ジアザビスシクロ（５，４，０）ウンデセン−７とそのオクチル酸塩等の第三級アミン類やイミダゾール類および／またはそれらの有機カルボン酸塩や、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、ベンジルトリフェニルホスホニウム臭素塩、ベンジルトリブチルホスホニウム臭素塩等のホスフィン類および／またはそれらの第四級塩や、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸錫等の有機カルボン酸金属塩や、亜鉛とβ−ジケトンよりなるアセチルアセトン亜鉛キレート、ベンゾイルアセトン亜鉛キレート、ジベンゾイルメタン亜鉛キレート、アセト酢酸エチル亜鉛キレート等の金属−有機キレート化合物や、芳香族スルホニウム塩等が挙げられる。
【００８９】
（ii）該金属錯体の微粒子が分散状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物
具体的には、該金属錯体の溶解性が十分低く、且つマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好な分散媒を用いることで、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーが溶解した分散媒中に該金属錯体の微粒子が分散されている紫外線吸収部材用組成物を製造することができる。
【００９０】
尚、マトリックス材料の代わりに、マトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーのみを使用する場合、前記分散媒は必ずしも必要ではなく、該重合性モノマーをマトリックス材料の前駆体、兼分散媒として使用することも可能である。
【００９１】
また、用いるマトリックス材料が、マトリックス成分が溶解している溶液であり、且つ該溶液の溶媒が該金属錯体の溶解性が十分に低いものである場合には、必ずしも前記の分散媒を併用する必要はなく、マトリックス材料（マトリックス成分が溶解している溶液）に該金属錯体の微粒子を直接分散させることも可能である。
【００９２】
あらかじめ、適当な分散媒中に該金属錯体を分散させ、該金属錯体微粒子の分散液を調製し、この分散液中にマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを溶解させてもよいし、あらかじめマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを適当な分散媒中に溶解させ、ここに該金属錯体を分散させてもよい。
【００９３】
尚、重合性モノマーを、マトリックス材料の前駆体、兼分散媒として使用する場合であっても、同様の手順で混合・分散させることが可能である。
【００９４】
前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができ、前記の「（ｉ）式（１）で表される金属錯体が分子レベルで溶解状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物」の項で述べたものと同範囲内から適宜選択し、使用することができる。
【００９５】
前記の、該金属錯体の溶解性が十分低く、且つマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好な分散媒としては、用いるマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、水や、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００９６】
用いる該金属錯体、ならびにマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーの種類に応じて好ましい分散媒は異なるが、経済性や分散性、分散液の安定性の観点から、水、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、ε−カプロラクタム、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、ジエチレングリコールジメチルエーテルであることが好ましく、より好ましくは、水、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ＰＧＭＥＡ、エチレングリコール、トルエン、キシレン、シクロへキサン、ｎ−ヘプタンである。
【００９７】
また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記分散媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、α−エチルスチレン、α−ブチルスチレン、α−ヘキシルスチレン、４−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ブロモスチレン、４−ニトロスチレン、４−メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、（メタ）アクリル酸や、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エトキシブチル（メタ）アクリレート、３−エトキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、メチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルや、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシドおよびビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ブロモ化ビスフェノールＡ、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジクロルメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス［｛（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ｝メチル］ベンゼン、トリ［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルフェニル］エーテル、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）オリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。
【００９８】
無機系重合性モノマーとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。
ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
【００９９】
これらの分散媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合分散媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。
【０１００】
使用する分散媒が、該金属錯体の溶解性が十分低いものでなければ、該金属錯体の微粒化が阻害され、安定な分散液が得られない。この理由は、詳らかではないが、おそらく以下に述べる機構によるものと考えられる。
【０１０１】
該金属錯体の微粒子の分散安定化は、粉砕・分散過程において生成した該金属錯体の微粒子表面に、後述の分散剤が吸着し、その吸着した分散剤同士の静電反発、立体反発により微粒子同士の再凝集が抑制され、安定な分散状態がもたらされる。しかしこの分散系に該金属錯体の良溶媒が存在すると、該金属錯体の微粒子に対する「分散剤の吸着作用」と「溶媒の溶解作用」の二つの作用が競争し、溶媒の溶解作用により分散剤の吸着が一部妨げられ、結果として微粒化が阻害され、分散安定性も低下してしまう。
【０１０２】
前記分散媒の使用量は、紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の所望の濃度や、使用するマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーの溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の分散性の観点から言えば、通常該金属錯体１００重量部に対して４０〜９９００重量部、好ましくは１００〜１９００重量部である。４０重量部より少ないと、該金属錯体微粒子の分散安定性が低下するおそれがある。また９９００重量部よりも多いと、固形分濃度が低下するため十分な剪断力を与えることができず、該金属錯体を微粒化するためにかかる時間が長くなり効率が低下するおそれがある。
【０１０３】
前記金属錯体微粒子の紫外線吸収部材用組成物中の平均粒子径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。平均粒子径が２００ｎｍよりも大きいと、可視光透過率が著しく低下し、また最終的に得られるコーティング膜の機械的強度が低下するおそれがある。さらに粒子径が２００ｎｍよりも大きい場合、粒子の表面積の低下により、添加量に見合う紫外線吸収能が得られず、コスト面で不利である。また、平均粒子径が１０ｎｍ以下の場合には、溶解状態に近くなり可視透過率は向上するが、耐光性が低下し、分散系で使用するメリットが損なわれるおそれがある。
【０１０４】
（分散機）
前記金属錯体を微粒化するにあたって使用できる分散機としては、特に限定されるものではないが、例えば、ペイントシェーカー、ボールミル、ナノミル、アトライター、バスケットミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、ＳＣミル、スパイクミル、アジテーターミル等のメディア型分散機や、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー、デゾルバー、ディスパー、高速インペラー分散機等のメディアレス型分散機が挙げられる。
中でも、コスト、処理能力の面から、メディア型分散機を使用するのが好ましい。また、これらのうちの一つを単独で用いても良く、２種類以上の装置を組み合わせて使用しても良い。
【０１０５】
（分散メディア）
分散メディアとしては、用いる分散機の分散室内部の材質に応じて、ステンレス鋼、スチール等の鋼球ビーズや、アルミナ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、シリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスビーズや、ソーダガラス、ハイビー等のガラスビーズや、ＷＣ等の超硬ビーズ等の中から適宜選択し使用することができ、そのビーズ径は０．０３〜１．５ｍｍφの範囲が好ましい。
【０１０６】
該金属錯体を微粒化し、分散させるための本分散工程においては、該金属錯体と分散メディアの衝突により、該金属錯体に十分な剪断力を負荷し、粉砕・分散させることで微粒化する。ここで、該金属錯体と分散メディアの衝突エネルギーにより、分散液の液温が上昇するため、公知の冷却装置により、分散液を冷却しながら分散を実施するのが好ましい。冷却温度は特に限定されるものではないが、通常−５０〜１２０℃、好ましくは−３０〜８０℃、さらに好ましくは−２０〜６０℃である。
【０１０７】
（分散剤）
分散剤は、該金属錯体を分散媒中に安定に分散させるために、必要に応じて配合される。分散剤としては、例えば、アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリウム塩等のカチオン性分散剤や、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルジアリールジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等のアニオン性分散剤や、アルキルベタインやアミドベタイン等の両性分散剤や、ノニオン性分散剤や、フッ素系分散剤や、シリコン系分散剤や、高分子系分散剤等を使用することができる。中でも、次に例示するようなノニオン性分散剤や高分子系分散剤が特に好ましい。
【０１０８】
ノニオン性分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類や、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類や、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類や、ソルビタン脂肪酸エステル類が好ましく用いられる。分散性や経済性の観点から、より好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類およびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類である。
【０１０９】
高分子系分散剤としては、例えば、ポリウレタン、ポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸及びその塩、スチレン−アクリル酸共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加物等が好ましく用いられる。
【０１１０】
これらの分散剤は単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１１】
前記分散剤の使用量は、通常該金属錯体１００重量部に対して０〜１００重量部、好ましくは０〜６０重量部である。１００重量部を超えて添加した場合には添加量に見合う分散効果が得られず、経済的でない。
【０１１２】
以上の方法で該金属錯体の微粒子が分散された紫外線吸収部材用組成物を得た後に、所望する濃度に希釈してもよい。
【０１１３】
希釈溶媒は特に限定されず、適宜選択し使用することができるが、希釈時における該金属錯体微粒子の再凝集を抑制するために、前記の分散工程で用いた分散媒を使用することが好ましい。前記分散工程において、分散媒を２種類以上組み合わせて用いた場合には、同一の組成比率の混合溶媒を用いることが好ましい。
【０１１４】
希釈方法としては、該金属錯体の微粒子分散液を攪拌しながら、希釈溶媒を添加する方法が好ましい。希釈溶媒中に前記の該金属錯体の微粒子が分散された紫外線吸収部材用組成物を添加すると、該金属錯体の微粒子が再凝集するおそれがある。
【０１１５】
また、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて従来公知の光吸収剤を該金属錯体と混合し、併用することも可能である。
【０１１６】
併用することのできる光吸収剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、有機系光吸収剤としては、フタロシアニン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゼンジチオール金属錯体系、ジチオレン金属錯体系、アゾ金属系、金属フタロシアニン系、金属ナフタロシアニン系、ポルフィリン金属錯体系等の金属錯体系色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サルチレート系、サリチル酸フェニルエステル系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミド系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤等が挙げられる。経済性や光吸収性能の観点から、好ましくは、フタロシアニン系、キノン系、ペリレン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤である。
【０１１７】
また、無機系光吸収剤としては、六ホウ化物、酸化タングステン、複合酸化タングステン、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化カルシウム、酸化ガリウム、酸化リチウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タリウム、酸化ニッケル、酸化ネオジム、酸化コバルト、酸化クロム、酸化ランタン、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化プラセオジウム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビニウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミニウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等の金属酸化物や、ＩＴＯ（インジウム−錫複合酸化物）、ＡＴＯ（アンチモン−錫複合酸化物）等の複合金属酸化物や、窒化チタン、窒化クロム酸等の金属窒化物等が挙げられる。
【０１１８】
また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。
【０１１９】
また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の紫外線吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。重合開始剤の例示は前記の通りである。
【０１２０】
また、溶媒や分散媒を使用することなく、該金属錯体を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料（溶媒を含まないマトリックス成分そのもの）中に練りこむ方法を採用してもよい。この場合には公知の溶融混練機を使用することが好ましい。一例を挙げると、短軸押出機を用いて溶融混練した後にストライド状に押し出し、ペレット状にカットすることで、成形材料としての光吸収部材用組成物を得ることができる。溶融混練時の温度は使用する有機色素安定化剤および有機色素の分解温度と、使用するマトリックス材料の融点またはガラス転移点の双方を考慮した上で適宜設定することができ、また混練時の圧力については、使用するマトリックス材料の物性に応じて適宜設定することができる。
尚、溶融混練時に使用するマトリックス材料の好ましい例示としては、後述の基材の項で有機系基材として例示するものと同じものが挙げられる。
【０１２１】
《紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材》
かくして得られた紫外線吸収部材用組成物を用いて紫外線吸収部材を作製することができる。本発明における紫外線吸収部材は主に以下の２種類の形態を示す。
（Ｉ）基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜（以下、マトリックス膜という）を有する積層体としての紫外線吸収部材
前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布し、乾燥および/または硬化することにより、基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。
【０１２２】
前記紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【０１２３】
基材は、所望によりフィルムでもボードでもよく、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス等の無機系基材や、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。
【０１２４】
また、層間剥離、コートムラを防ぐ目的で、塗布前に基材表面を洗浄してもよい。洗浄方法としては特に限定されず、基材の種類に応じて適宜選択し、実施することができる。通常、超音波洗浄、ＵＶ洗浄、セリ粉洗浄、酸洗浄、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄等を単独で、または組み合わせて実施することができる。洗浄終了後は、洗浄剤が残留しないように濯ぎ及び乾燥を行う。
【０１２５】
塗布により形成されるマトリックス材料のコーティング被膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．０１〜５０μｍ、さらに好ましくは０．０１〜３０μｍである。０．１μｍ未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、１００μｍを超えると、乾燥時に溶媒や分散媒等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。
【０１２６】
乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒の種類によって適宜設定することができる。
乾燥後、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
【０１２７】
例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に８０〜５００℃、好ましくは９０〜４００℃、より好ましくは１００〜３００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
８０℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体が熱分解してしまうおそれがある。
焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
【０１２８】
また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
なお、後述の剥離性基材を用い、この上にコーティングを施した後、所望の別基材に該コーティング層を転写して得られた積層体も（Ｉ）の形態に含まれる。別基材としては前記の基材が例示される。
具体的な方法としては、例えば、紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）上に塗布し乾燥させた後、ラミネーター等を用いて別基材（例えばガラス基材）と貼り合わせ、その後剥離性基材を剥離することで、別基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。この場合にも、必要に応じて前記重合処理を設けてもよい。
【０１２９】
例えば、所望の基材上に異なる成分からなるマトリックス膜を多層化させた積層体を作製する場合に、このような転写法を用いることができる。すなわち、前記のように基材上に直接紫外線吸収部材用組成物を塗布し、コーティング層を形成する方法で多層膜を形成しようとする場合、例えば、ｎ＋１層目（ｎは自然数を表す）を形成する際に使用する紫外線吸収部材用組成物は、ｎ層目の構成成分が溶解したり膨潤したりしないものでなければならず、ｎ＋１層目を構成する紫外線吸収部材用組成物の構成成分が制限されてしまうが、かかる転写法を用いることにより、これらの制限を回避することができる。
【０１３０】
（ＩＩ）該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材
前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を、剥離性基材上に塗布し、乾燥または硬化した後に、剥離性基材から該コーティング膜を剥離することによって得られる、該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材を作製することができる。
紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材に塗布する方法としては、特に限定されず、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法。フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【０１３１】
剥離性基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。剥離性基材は、基材を構成する素材が剥離性を有するものであれば基材単独でもよいし、基材を構成する素材が剥離性を有しない場合、または剥離性が乏しい場合には基材に剥離性層を積層したものであってもよい。前者の基材を構成する素材が剥離性を有するものである場合には、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等を用いることができる。
後者の、基材に剥離性層を積層したものである場合、基材としては前記（Ｉ）で例示したような基材を用いることができる。これら基材の表面に基材とは接着性を有し、紫外線吸収部材用組成物から作製される該金属錯体を含有する薄膜層に対しては剥離性を有する剥離性層を積層したものを使用することができる。
【０１３２】
剥離性層は、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、剥離性物質をバインダー樹脂中に溶解または分散させたもの等で構成される。
剥離性物質としては、特に制限されるものではなく、例えば長鎖アルキル化合物、カルナバワックスやモンタンワックスや酸化ポリエチレンや非酸化ポリエチレン等の合成ワックス等が挙げられる。
これらから選択される少なくとも１種以上を溶媒（分散媒）中に溶解、分散、希釈し、得られた組成物を基材上に公知の方法で塗布または印刷した後、乾燥または硬化することによって基材上に剥離性層を形成することができる。剥離性層の膜厚は、０．５μｍ〜１０μｍ程度であることが好ましい。
【０１３３】
紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材上に塗布することによって形成される該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．０１〜５０μｍ、さらに好ましくは０．０１〜３０μｍである。０．０１μｍ未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、１００μｍを超えると、乾燥時に溶媒や分散媒等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。
乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒等の種類によって適宜設定することができる。
乾燥後、該金属錯体を含有する薄膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
【０１３４】
例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に８０〜５００℃、好ましくは９０〜４００℃、より好ましくは１００〜３００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
【０１３５】
８０℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、マトリックス膜中に含有された該金属錯体が熱分解してしまうおそれがある。
焼成時間は、所望の薄膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
【実施例】
【０１３６】
以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。尚、以下の製造例および実施例で得られた各配位子および各金属錯体の同定は、下記の方法で実施した。
（１）１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル測定
ＮＭＲ装置：ＢＲＵＫＥＲ製ＡＶ４００型
測定溶媒：ジメチルスルホキシド-ｄ６
共鳴周波数：４００ＭＨｚ
（２）元素分析
（３）紫外可視分光吸収スペクトル測定
分光光度計：株式会社日立製作所製、Ｕ−４１００
【０１３７】
製造例１
２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）とフェノール１９．８ｇ（０．２１モル）とｏ−ジクロロベンゼン２４０ｇを混合し、１７０℃まで昇温した後、４０時間保温した。その後、反応液を８０℃まで冷却し、エタノール３００ｇを滴下し、さらに１時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別した。エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として微黄色粉末のビス｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン（Ｌ１：下記表１参照）３５．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールに対して５３％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９８．６％であった。
元素分析：Ｃ；４３．７％、Ｈ；３．１％、Ｎ；９．４％、Ｓ；２９．２％（理論値：Ｃ；４３．７２％、Ｈ；２．９８％、Ｎ；９．５６％、Ｓ；２９．１８％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：３．２６（ｓ、６Ｈ）、７．８６−７．９６（ｍ、４Ｈ）、８．６０（ｓ、２Ｈ）、１３．４６（ｂｒ、１Ｈ）
【０１３８】
製造例２
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾオキサゾール６３．７ｇ（０．３０モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、ベージュ色粉末のビス｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾオキサゾリル］｝アミン（Ｌ２：下記表１参照）３０．３ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾオキサゾールに対して５０％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９９．０％であった。
元素分析：Ｃ；４７．３％、Ｈ；３．１％、Ｎ；１０．４％、Ｓ；１５．８％（理論値：Ｃ；４７．１７％、Ｈ；３．２２％、Ｎ；１０．３１％、Ｓ；１５．７４％）
【０１３９】
製造例３
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール３４．２ｇ（０．１５モル）と２−アミノ−５−クロロベンゾオキサゾール２５．３ｇ（０．１５モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、ベージュ色粉末の［２−（５−クロロベンゾオキサゾリル）］｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン（Ｌ３：下記表１参照）３３．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールと２−アミノ−５−クロロベンゾオキサゾールの総量に対して５８％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９７．５％であった。
元素分析：Ｃ；４７．４％、Ｈ；２．６％、Ｃｌ；９．５％、Ｎ；１１．３％、Ｓ；１６．７％（理論値：Ｃ；４７．４３％、Ｈ；２．６５％、Ｃｌ；９．３３％、Ｎ；１１．０６％、Ｓ；１６．８８％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：３．２４（ｓ、３Ｈ）、７．２５（ｄｄ、１Ｈ）、７．５８−７．６０（ｍ、２Ｈ）、７．６３（ｄ、１Ｈ）、７．９５（ｄｄ、１Ｈ）、８．５４（ｄ、１Ｈ）、１３．６９（ｂｒ、１Ｈ）
【０１４０】
製造例４
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール３４．２ｇ（０．１５モル）と２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール２７．０ｇ（０．１５モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、微黄色粉末の｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝［２−（６−メトキシベンゾチアゾリル）］アミン（Ｌ４：下記表１参照）２６．４ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールと２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾールの総量に対して５０％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９７．２％であった。
元素分析：Ｃ；４９．２％、Ｈ；３．２％、Ｎ；１０．７％、Ｓ；２４．５％（理論値：Ｃ；４９．０９％、Ｈ；３．３５％、Ｎ；１０．７３％、Ｓ；２４．５７％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：３．２４（ｓ、３Ｈ）、３．８１（ｓ、３Ｈ）、７．０４（ｄｄ、１Ｈ）、７．５８（ｄ、２Ｈ）、７．８０（ｂｒ、１Ｈ）、７．９１（ｄｄ、１Ｈ）、８．５４（ｓ、１Ｈ）、１２．９９（ｂｒ、１Ｈ）
【０１４１】
製造例５
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール３４．２ｇ（０．１５モル）と２−アミノベンゾチアゾール２２．５ｇ（０．１５モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色粉末の（２−ベンゾチアゾリル）｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン（Ｌ５：下記表１参照）２３．３ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールと２−アミノベンゾチアゾールの総量に対して４３％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９８．０％であった。
元素分析：Ｃ；４９．６％、Ｈ；３．０％、Ｎ；１１．５％、Ｓ；２６．７％（理論値：Ｃ；４９．８４％、Ｈ；３．０７％、Ｎ；１１．６３％、Ｓ；２６．６１％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：３．２５（ｓ、３Ｈ）、７．２９（ｔ、１Ｈ）、７．４５（ｔ、１Ｈ）、７．６５（ｂｒ、１Ｈ）、７．８３（ｂｒ、１Ｈ）、７．９１−７．９６（ｍ、２Ｈ）、８．５６（ｓ、１Ｈ）、１３．１７（ｂｒ、１Ｈ）
【０１４２】
製造例６
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール３４．２ｇ（０．１５モル）と２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾール２６．７ｇ（０．１５モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色粉末の［２−（５，６−ジメチルベンゾチアゾリル）］｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン（Ｌ６：下記表１参照）２６．３ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールと２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾールの総量に対して４５％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９７．９％であった。
元素分析：Ｃ；５２．２％、Ｈ；３．８％、Ｎ；１０．９％、Ｓ；２４．５％（理論値：Ｃ；５２．４２％、Ｈ；３．８８％、Ｎ；１０．７９％、Ｓ；２４．７０％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：２．２９（ｓ、３Ｈ）、２．３２（ｓ、３Ｈ）、３．２４（ｓ、３Ｈ）、７．４１（ｂｒ、１Ｈ）、７．６６（ｓ、１Ｈ）、７．８２（ｂｒ、１Ｈ）、７．８９−７．９２（ｍ、１Ｈ）、８．５３（ｓ、１Ｈ）、１３．０２（ｂｒ、１Ｈ）
【０１４３】
得られた各配位子の構造式を表１に示す。
【表１】
【０１４４】
実施例１
製造例１で得られた配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）とＤＭＦ １５０ｇを混合し溶解させた。ここに酢酸銅・一水和物５．５９ｇ（０．０２８モル）を添加し、１００℃まで昇温した後、１時間保温した。その後、反応液を５０℃まで冷却し、メタノール１５０ｇを滴下し、さらに１時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別した。メタノールで洗浄後、乾燥し、濃緑色粉末のビス｛Ｎ−［６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾリル−κＮ３］−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３｝銅（Ｃ１−Ｃｕ）２２．１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して９４．０％であった。
元素分析：Ｃ；４０．８％、Ｈ；２．７％、Ｃｕ；６．７％、Ｎ；９．１％、Ｓ；２７．４％（理論値：Ｃ；４０．８６％、Ｈ；２．５７％、Ｃｕ；６．７６％、Ｎ；８．９３％、Ｓ；２７．２７％）
【０１４５】
実施例２
実施例１において配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）に代えて製造例２で得られた配位子（Ｌ２）２０．４ｇ（０．０５モル）を、酢酸銅・一水和物５．５９ｇ（０．０２８モル）に代えて酢酸コバルト・四水和物６．９７ｇ（０．０２８モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、赤橙色粉末のビス｛Ｎ−［６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾオキサゾリル−κＮ３］−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾオキサゾールアミナト−κＮ３｝コバルト（Ｃ２−Ｃｏ）２０．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ２）に対して９３．１％であった。
元素分析：Ｃ；４４．０％、Ｈ；２．６％、Ｃｏ；６．９％、Ｎ；９．５％、Ｓ；１４．９％（理論値：Ｃ；４４．０９％、Ｈ；２．７７％、Ｃｏ；６．７６％、Ｎ；９．６４％、Ｓ；１４．７１％）
【０１４６】
実施例３
実施例１において配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）に代えて製造例３で得られた配位子（Ｌ３）１９．０ｇ（０．０５モル）を、酢酸銅・一水和物５．５９ｇ（０．０２８モル）に代えて酢酸ニッケル・四水和物６．９７ｇ（０．０２８モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、やや赤味がかったベージュ色粉末のビス［Ｎ−（５−クロロ−２−ベンゾオキサゾリル−κＮ３）−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３］ニッケル（Ｃ３−Ｎｉ）１９．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ３）に対して９７．０％であった。
元素分析：Ｃ；４４．０％、Ｈ；２．２％、Ｃｌ；８．５％、Ｎ；１０．１％、Ｎｉ；７．２％、Ｓ；１５．８％（理論値：Ｃ；４４．１４％、Ｈ；２．２２％、Ｃｌ；８．６９％、Ｎ；１０．２９％、Ｎｉ；７．１９％、Ｓ；１５．７１％）
【０１４７】
実施例４
実施例１において配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）に代えて製造例４で得られた配位子（Ｌ４）１９．６ｇ（０．０５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、緑色粉末のビス｛Ｎ−［６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾリル−κＮ３］−６−メトキシ−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３｝銅（Ｃ４−Ｃｕ）１９．４ｇを得た。収率は配位子（Ｌ４）に対して９１．９％であった。
元素分析：Ｃ；４５．４％、Ｈ；３．０％、Ｃｕ；７．３％、Ｎ；１０．１％、Ｓ；２２．６％（理論値：Ｃ；４５．５１％、Ｈ；２．８６％、Ｃｕ；７．５２％、Ｎ；９．９５％、Ｓ；２２．７８％）
【０１４８】
実施例５
実施例２おいて配位子（Ｌ２）２０．４ｇ（０．０５モル）に代えて、配位子（Ｌ５）１８．１ｇ（０．０５モル）を用いた以外は実施例２と同様にして、橙色粉末のビス［Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル−κＮ３）−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３］コバルト（Ｃ５−Ｃｏ）１７．７ｇを得た。収率は配位子（Ｌ５）に対して９０．８％であった。
元素分析：Ｃ；４６．３％、Ｈ；２．６％、Ｃｏ；７．６％、Ｎ；１０．９、Ｓ；２４．５％（理論値：Ｃ；４６．２０％、Ｈ；２．５８％、Ｃｏ；７．５６％、Ｎ；１０．７８％、Ｓ；２４．６７％）
【０１４９】
実施例６
実施例１において配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）に代えて、配位子（Ｌ６）１９．５ｇ（０．０５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、緑色粉末のビス［Ｎ−（５，６−ジメチル−２−ベンゾチアゾリル−κＮ３）−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３］銅（Ｃ６−Ｃｕ）１９．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ６）に対して９４．４％であった。
元素分析：Ｃ；４８．４％、Ｈ；３．２％、Ｃｕ；７．４％、Ｎ；１０．２％、Ｓ；２２．９％（理論値：Ｃ；４８．５８％、Ｈ；３．３６％、Ｃｕ；７．５６％、Ｎ；１０．００％、Ｓ；２２．８９％）
【０１５０】
（無機系バインダー：シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製）
尚、以下に記載のシリコンアルコキシドのゾル溶液の加熱残分とは、ガラス基材上にゾル溶液の液滴をのせ２００℃で３０分間焼成した際にガラス基材上に残った固形分の重量を、前記のガラス基材上にのせたゾル溶液の液滴の重量で除した値である。それぞれの試料について３回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。
【０１５１】
製造例７
メチルトリエトキシシラン４９．９ｇ（０．２８モル）と、フェニルトリエトキシシラン２４．０ｇ（０．１０モル）と、ＰＧＭＥＡ ８０ｇとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸６．９ｇ（０．１５モル）および水２５．０ｇを添加し、室温で３０分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を７０℃まで昇温し、４時間保温し、加水分解・重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに１時間加水分解・重縮合反応を進行させることで、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＰＧＭＥＡ溶液（シロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液，加熱残分４０．５％）を得た。
【０１５２】
製造例８
製造例７において、ＰＧＭＥＡ ８０ｇに代えてＩＰＡ ８０ｇを用いた以外は製造例７と同様にして、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＩＰＡ溶液（シロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液，加熱残分４１．７％）を得た。
【０１５３】
製造例９
製造例７において、ＰＧＭＥＡ ８０ｇに代えてＤＭＦ ８０ｇを用いた以外は製造例７と同様にして、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＤＭＦ溶液（シロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液，加熱残分４５．３％）を得た。
【０１５４】
（金属錯体の微粒子分散液の調製）
以下に示す平均粒子径は、シスメックス社製「ゼータサイザーナノＺＳ」を用いて、光源：Ｈｅ−Ｎｅレーザー（６３３ｎｍ）、セル：ガラス角セル、測定温度：２５℃、Ｍｅａｓｕｒｅ ｐｏｓｉｔｉｏｎ：０．８５（ｍｍ）の条件下で測定した。また、それぞれの試料について３回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。
【０１５５】
製造例１０〜１５
表２に示す組成比率に基づき、実施例１〜６で得られた金属錯体、分散媒、分散剤および分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアボールを粉砕容器（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ用粉砕容器(内装ジルコニア製)）に入れ、遊星型ボールミル（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ Ｐ−７）を用いて６００ｒｐｍで５分間分散した後、１０分間冷却し、さらに１１００ｒｐｍで５分間分散処理を行い、分散液Ａ〜Ｆを得た。
【０１５６】
【表２】
【０１５７】
（紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材）
実施例７
製造例７で得られたシロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液２．０ｇにＰＧＭＥＡを０．７ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１０で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ａ）０．６ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ａを得た。平均粒子径は９２ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ａを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ａを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１５８】
実施例８
製造例８で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．７ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１１で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｂ）１．０ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｂを得た。平均粒子径は９９ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｂを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｂを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。
【０１５９】
実施例９
製造例７で得られたシロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液２．０ｇにＰＧＭＥＡを０．８ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１２で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｃ）０．８ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｃを得た。平均粒子径は９７ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｃを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｃを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。
【０１６０】
実施例１０
製造例８で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．８ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１３で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｄ）０．５ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｄを得た。平均粒子径は１０１ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｄを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｄを得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０１６１】
実施例１１
製造例７で得られたシロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液２．０ｇにＰＧＭＥＡを０．８ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１４で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｅ）０．５ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｅを得た。平均粒子径は１１３ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｅを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｅを得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０１６２】
実施例１２
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＭＥＫ１．７ｇに溶解させ、これを製造例１５で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｆ）０．６ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｆを得た。平均粒子径は１２３ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｆを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、８０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｆを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。
【０１６３】
実施例１３
製造例９で得られたシロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液２．０ｇにＤＭＦ ０．６ｇを加え、混合した。この溶液に、実施例１で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｕ）０．１ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｇを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｇを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｇを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１６４】
実施例１４
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＤＭＦ １．７ｇに溶解させ、この溶液に、実施例２で得られた金属錯体（Ｃ２−Ｃｏ）０．３ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｈを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｈを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｈを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１６５】
実施例１５
製造例９で得られたシロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液２．０ｇにＤＭＦ ０．６ｇを加え、混合した。この溶液に、実施例３で得られた金属錯体（Ｃ３−Ｎｉ）０．２ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｉを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｉを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｉを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１６６】
実施例１６
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＤＭＦ １．７ｇに溶解させ、この溶液に、実施例４で得られた金属錯体（Ｃ４−Ｃｕ）０．１ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｊを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｊを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｊを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。
【０１６７】
実施例１７
実施例５で得られた金属錯体（Ｃ５―Ｃｏ）２．４ｇと、分散媒としてシクロペンタノン５５．０ｇ、分散媒兼重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２５．０ｇ、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の商品名：イルガキュア８１９）４．０ｇ、分散剤としてディスパロンＤＮ−９００（楠本化成株式会社製）１．０ｇ、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアボールを粉砕容器（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ用粉砕容器(内装ジルコニア製)）に入れ、遊星型ボールミル（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ Ｐ−７）を用いて６００ｒｐｍで５分間分散した後、１０分間冷却し、さらに１１００ｒｐｍで５分間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｋを得た。平均粒子径は８６ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｊを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１４０℃で１分間乾燥し、さらに露光装置（ナノテック株式会社製の商品名：マスクアライナーＬＡ ４１０ｓ、株式会社三永電機製作所製の商品名：超高圧水銀ランプＬ２５０１Ｌ）を用いて露光（単色化なし、波長３６５ｎｍにおける光強度４０ｍＷ/ｃｍ２、２．５秒間照射）し、硬化させ、紫外線吸収部材Ｋを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。
【０１６８】
実施例１８
実施例６で得られた金属錯体（Ｃ６―Ｃｕ）２．１ｇと、分散媒兼重合性モノマーとして３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート２．８ｇおよび３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン５．５ｇ、熱重合開始剤（三新化学株式会社製の商品名；ＳＩ−６０Ｌ）０．２５ｇ、分散剤としてポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル０．６８ｇ、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアボールを粉砕容器（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ用粉砕容器(内装ジルコニア製)）に入れ、遊星型ボールミル（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ Ｐ−７）を用いて６００ｒｐｍで５分間分散した後、１０分間冷却し、さらに１１００ｒｐｍで５分間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｌを得た。平均粒子径は１０８ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｌを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１６０℃で４０分間かけて硬化し、紫外線吸収部材Ｌを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１６９】
比較例１
製造例８で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．４ｇ加え、混合した。次いでこれを、酸化亜鉛微粒子分散液（ハクスイテック株式会社製、製品名：パゼットＧＫ−ＩＰＡ分散体、粉体一次粒子径：２０〜４０ｎｍ、酸化亜鉛濃度：２０重量％）２．０ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、紫外線吸収部材用組成物を得た。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｍを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｍを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１７０】
比較例２
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＤＭＦ １．７ｇに溶解させ、この溶液に、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６（ＢＡＳＦ製）０．７ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｎを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｎを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｎを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。
【０１７１】
[紫外線吸収部材の評価]
実施例７〜１８および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｎについて、以下の手順により実施した。
（１）透過率
実施例７〜１８および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｎについて、分光光度計（株式会社日立製作所製、型番：Ｕ−４１００）を用いて特定波長（λ＝３８０ｎｍ：紫外線ＵＶ−Ａ、λ＝４６０ｎｍ、５４５ｎｍ、６１０ｎｍ：可視光線）における透過率を測定し、紫外線吸収能（ＵＶ−Ａ吸収能）および可視光透明性の評価を実施した。
尚、測定はガラス基材にマトリックス層を施した試験片（紫外線吸収剤は含まず、マトリックスの種類は測定対象試料と同じものをそれぞれ使用し、同条件で試験片を作製）を別途作製し、これをブランクとして用いてバックグラウンド補正を行った。すなわち、以下の表に示す透過率の値は、膜自体の透過性能は反映しておらず、専ら紫外線吸収剤に由来するものと見なすことができる。
【０１７２】
（２）耐光性試験
（１）の手順により実施例７〜１８および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｎについて透過率を測定した後、キセノンウェザーメーター（スガ試験機株式会社製、型番：Ｘ２５）を用いて、これら紫外線吸収部材Ａ〜Ｎに放射強度６０Ｗ／ｍ２（３００〜４００ｎｍ域における積算）の光を１０００時間照射した。このとき、紫外線吸収部材Ａ〜Ｎのソーダライムガラス基材側からではなく、コーティング層側から光を照射した。すなわちこれは、ソーダライムガラスは短波長域の紫外線を吸収する性質があるので、紫外線吸収部材Ａ〜Ｎのソーダライムガラス基材側からではなくコーティング層側から光を照射することにより、光源から放射された光を、コーティング層中の紫外線吸収剤に直接照射し、紫外線吸収剤にとってより過酷な条件とすることを意図したものである。光照射後の紫外線吸収部材Ａ〜Ｎについて、それぞれ透過率を測定し、光照射による紫外線吸収能の変化を評価した。
以下の表３に結果を示す。
尚、表中のΔ％Ｔは光照射後の透過率から光照射前の透過率を差し引きした値を示す。
【０１７３】
【表３】
【０１７４】
実施例７〜１２および実施例１７〜１８は、紫外線吸収剤として式（１）で表される金属錯体を微粒子として分散系で使用した系である。これらの分散系の紫外線吸収部材Ａ〜Ｆ、Ｋ、Ｌは、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽し、且つ光照射による透過率の変化も小さく、優れた耐光性を示すことが確認された。
【０１７５】
また、実施例１３〜１６は、紫外線吸収剤として式（１）で表される金属錯体を溶解系で使用した系である。これらの溶解系の紫外線吸収部材Ｇ〜Ｊは、前記の分散系に比べると全体的に耐光性は若干劣るものの、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽し、可視域においては優れた透明性を示すことが確認された。
【０１７６】
比較例１は、無機系紫外線吸収剤として従来公知の酸化亜鉛微粒子（ハクスイテック株式会社製、製品名：パゼットＧＫ−ＩＰＡ分散体）を使用した系で、比較例２は有機系紫外線吸収剤として従来公知のトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製、製品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６）を使用した系である。酸化亜鉛微粒子を使用した系では耐光性は非常に良好であるものの、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽することはできず、またトリアゾール系紫外線吸収剤を使用した系でもＵＶ−Ａを十分に遮蔽することはできず、さらに耐光性も不良であることが確認された。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、式（１）で表される金属錯体、式（１）で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、可視光線を十分に透過すると同時に、紫外線のみを選択的に遮蔽する機能を有する部材が様々な分野で使用されている。例えば、自動車のウインドウガラスや建築物の窓ガラス等においては、日焼けや内装材の劣化を引き起こす紫外線を遮蔽するために紫外線遮蔽ガラスが広く使用されている。
【０００３】
また、カーポート、ショーウインドウ、ショーケース、照明用透明シェード等に使用される透明樹脂板や、各種透明容器等の用途においても、紫外線遮蔽機能を付与したアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の透明な熱可塑性樹脂の成形体が用いられている。
【０００４】
このように、ガラスや樹脂等に紫外線を遮蔽する機能を付与するために、紫外線吸収剤として無機系金属酸化物微粒子や有機系紫外線吸収剤を用いる方法が一般的に利用されている（特許文献１〜４）。
【０００５】
しかしながら、無機系金属酸化物微粒子は耐光性に優れている反面、その吸収波長は材料固有のバンドギャップによって支配されるため、吸収波長の最適化が困難である。さらに、その吸収スペクトルは多くの場合ブロードで、所望の波長域のみを選択的に遮蔽するには限界がある。さらに、溶媒等に溶解させることができないため通常微粒子分散状態で使用するが、可視光域の透明性を確保するためには粒子径をナノオーダーまで小さくする必要があり、多大な労力とコストを要する。
【０００６】
一方、有機系紫外線吸収剤は、分子構造の変更による吸収波長の変更がある程度可能であり、また溶媒に溶解させて使用することができるため、比較的容易に可視光域の透明性を確保できる。しかしながら、ほとんどの場合、耐光性が不十分であり、紫外線吸収能の持続力という面で信頼性に欠ける。また、吸光係数が小さいことからコーティングにより十分な吸収能を得ることは困難であり、適用可能な用途に制限がある。
【０００７】
また、無機系金属酸化物微粒子および有機系紫外線吸収剤のいずれについても、可視光透明性が優れており、且つ３８０〜４００ｎｍ波長域における吸光係数の大きな材料はほとんど知られていない。
【０００８】
ここで、３８０〜４００ｎｍの紫外線は、ＵＶ−Ａと呼ばれる比較的波長の長い紫外線に分類され、地表に到達する太陽光の紫外線としては最も多く含まれるが、人体にとっては皮膚への浸透程度が深いため、長時間の曝露が色素沈着（シミ）やシワを引き起こすことが知られている。様々な分野における紫外線遮蔽技術の高機能化に伴い、可視光域との境界付近の３８０〜４００ｎｍの紫外線を十分に遮蔽でき、且つ４００〜７８０ｎｍの可視光線を十分に透過する材料が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００６−０５２１１６号公報
【特許文献２】特開２０１０−１１１７２９号公報
【特許文献３】特開２０１０−１８９２１５号公報
【特許文献４】特開２００８−２７４２４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、前記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであり、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる金属錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、以下に示す紫外線吸収剤として有用な金属錯体、これを含有する紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材に関する。
項１．式（１）：
【００１２】
【化１】
【００１３】
（式中、ＸおよびＹはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ２は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）で表される金属錯体。
【００１４】
項２．式（１）において、Ｍで示される金属原子が銅、コバルトまたはニッケルである項１に記載の金属錯体。
【００１５】
項３．項１または２に記載の少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物。
【００１６】
項４．溶媒を含むか、あるいは溶媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が溶媒を兼ねる溶液形態である項３に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【００１７】
項５．分散媒を含むか、あるいは分散媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が分散媒を兼ね、該金属錯体の微粒子が分散した分散液形態である項３に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【００１８】
項６．項３〜５のいずれか１項に記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
【００１９】
項７．基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜を有する積層体としての紫外線吸収部材である項６に記載の紫外線吸収部材。
【００２０】
項８．該金属錯体がマトリックス材料の膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材である項６に記載の紫外線吸収部材。
【００２１】
本発明は、式（１）で表される金属錯体を提供する。
また、本発明は、式（１）で表される金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含有することを特徴とする紫外線吸収部材用組成物を提供する。
【００２２】
本発明における紫外線吸収部材用組成物は、式（１）で表される金属錯体が溶解状態にあるものであってもよいし、式（１）で表される金属錯体の微粒子が分散状態にあるものであってもよい。
溶解状態の式（１）で表される金属錯体を含有する紫外線吸収部材用組成物の場合、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率を高度に保つ上で特に有利であり、一方、分散状態の式（１）で表される金属錯体微粒子を含有する紫外線吸収部材用組成物の場合には、耐光性が優れた紫外線吸収部材を得る上で特に有利となる。
【００２３】
また、本発明は前記の紫外線吸収部材用組成物を用いて、ガラス基材や樹脂基材上にコーティング膜を施して得られる紫外線吸収部材を提供する。
【００２４】
式（１）で表される金属錯体は、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを効率よく遮蔽し、また一般的な有機系紫外線吸収剤に比べてはるかに良好な耐光性を示し、また長期間にわたって光を照射し続けても、その紫外線吸収能が低下しにくい。また、金属酸化物微粒子に比べて紫外線遮蔽能が大幅に優れているため、少量の添加で十分な紫外線遮蔽能を付与することができ、さらに、可視光域における透明性が非常に優れていることも特筆すべき特徴である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によると、優れた耐光性を長期間に渡って持続し、可視光透過率を高度に保ったまま、従来遮蔽困難であったＵＶ−Ａを十分に遮蔽することができる紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、式（１）：
【００２７】
【化２】
【００２８】
（式中、ＸおよびＹはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ２は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）で表される金属錯体、および少なくとも１種類の該金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物、およびこれを用いた紫外線吸収部材を提供するものである。
【００２９】
式（１）におけるＲ１、Ｒ２およびＭについて以下に例示する。
【００３０】
式中、Ｒ１としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基が好ましく、メチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
【００３１】
式中、Ｒ２に帰属される、前記の炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基が好ましく、メチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
【００３２】
式中、Ｒ２に帰属される、前記の炭素数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。原料の入手性の観点から、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
【００３３】
式中、Ｒ２に帰属される、前記のハロゲノ基としては、例えば、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。原料の入手性の観点からフルオロ基、クロロ基が好ましく、クロロ基がより好ましい。
【００３４】
式中、Ｒ２に帰属される、前記の炭素数１〜８のアルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、１−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、１−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、１−ペンチルスルホニル基、イソペンチルスルホニル基、ネオペンチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基、１−ヘキシルスルホニル基、イソヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、１−ヘプチルスルホニル基、１−オクチルスルホニル基、１−（２−エチルヘキシル）スルホニル基等のアルキルスルホニル基が挙げられる。原料の入手性の観点から、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、１−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、１−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、１−オクチルスルホニル基、１−（２−エチルヘキシル）スルホニル基が好ましく、メチルスルホニル基、１−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、１−ヘキシルスルホニル基、１−オクチルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基、１−オクチルスルホニル基がさらに好ましい。
【００３５】
前記のＲ２は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個、好ましくは１または２個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であり、得られる金属錯体の紫外線吸収能をはじめとする光吸収性能の観点から、存在しないか、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であることが好ましい。
【００３６】
式中、Ｍで表される金属原子は、金属錯体の耐光性の観点から遷移金属であることが好ましく、中でも経済性の観点から銅、コバルトまたはニッケル原子であることがより好ましい。
【００３７】
式（１）で表される金属錯体は、下記式（２）で表される配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることで合成することができる。
式（２）：
【００３８】
【化３】
【００３９】
式（２）で表される配位子は、例えば、「特開昭５６−８７５７５」において開示されている方法で合成することができる。
以下、式（２）で表される配位子の製造方法を一部説明する。
【００４０】
≪配位子の製造方法≫
i) 式（２）においてイミノ基の左右の構造が対称の場合
例えば、特開昭５６−８７５７５に記載されている方法に従って合成することができる。すなわち、２−アミノ−６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾールまたは２−アミノ−６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾールをフェノール等の酸触媒存在下において、１５０〜１８５℃に加熱し、反応させることによってビス｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミンまたはビス｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾリル］｝アミンを合成することができる。
【００４１】
ii) 式（２）においてイミノ基の左右の構造が非対称の場合
２−アミノ−６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾールまたは２−アミノ−６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾールのいずれかと、２−アミノ（−置換）ベンゾチアゾールまたは２−アミノ（−置換）ベンゾオキサゾールのいずれかを、フェノール等の酸触媒存在下において、１５０〜１８５℃に加熱し、反応させることによって｛２−［（置換）ベンゾチアゾリル］｝｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン、｛２−［（置換）ベンゾオキサゾリル］｝｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾリル］｝アミン、｛２−［（置換）ベンゾオキサゾリル］｝｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン、｛２−［（置換）ベンゾチアゾリル］｝｛２−［６−（アルキルスルホニル）ベンゾオキサゾリル］｝アミンを合成することができる。
【００４２】
≪式（１）で表される金属錯体の製造方法≫
例えば、Ｐｏｌｙｈｅｄｒｏｎ ２００６，２５，２３６３−２３７４やＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２００２，６７，５７５３−５７７２等に記載されている方法に従って、前記のi）〜ii）の製造方法に基づいて得られた配位子と、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属酢酸塩、金属硝酸塩等の金属塩とを反応させることによって対応する金属錯体を合成することができる。例えば、前記のi）〜ii）の製造方法に基づいて得られた配位子と、式（１）中のＭに対応する金属の酢酸塩を、メタノール、エタノール、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の溶媒中で反応させることにより合成することができる。
【００４３】
≪式（１）で表される少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物の製造方法≫
本発明における紫外線吸収部材用組成物は、該紫外線吸収部材用組成物中において「式（１）で表される金属錯体が溶解状態にある」場合と、「式（１）で表される金属錯体が微粒子が分散状態にある」場合を示す。それぞれについて以下説明する。
【００４４】
（ｉ）式（１）で表される金属錯体が分子レベルで溶解状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物
具体的には、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好であり、且つ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を併用することで、該溶媒中にマトリックス材料および該金属錯体が溶解した、均一な紫外線吸収部材用組成物を製造することができる。
【００４５】
尚、マトリックス材料の代わりに、マトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを使用する場合、前記溶媒は必ずしも必要ではなく、該重合性モノマーをマトリックス材料の前駆体、兼溶媒として使用することも可能である。
【００４６】
前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができる。ここで、無機系バインダーとはポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
尚、本発明において使用する「マトリックス材料」という表現は、有機系または無機系バインダーと呼ばれるマトリックス成分（固形分）そのものだけでなく、該マトリックス成分を含む溶液（例えば市販のバインダー溶液）も含む。前記溶媒を用いることなく、前記マトリックス成分を含む溶液に金属錯体が溶解している態様も本発明に含まれる。
【００４７】
有機系バインダーとしては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等のポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂や、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体や、ポリスチレン、ポリ（α−メチルスチレン）等のポリスチレン系樹脂や、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−マレイン酸エステル系共重合体等のスチレン系共重合体や、ポリエチレンサクシネート、ポリブチレンアジペート、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂や、ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル系樹脂や、シリコーン系樹脂や、ポリスルホン系樹脂や、ポリアミド系樹脂や、ポリイミド系樹脂や、ポリウレタン系樹脂や、ポリカーボネート系樹脂や、エポキシ系樹脂や、フェノール系樹脂や、メラミン樹脂や、ユリア樹脂や、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂や、エチレン−プロピレン共重合ゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム等の合成ゴムもしくは天然ゴム等が挙げられる。
【００４８】
基材への密着性や透明性の観点から、好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリビニル系樹脂等の熱可塑性もしくは熱硬化性合成樹脂であり、より好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリビニル系樹脂である。
尚、（メタ）アクリルは、メタクリルおよびアクリルを示す。
【００４９】
無機系バインダーとしては、ポリシロキサン系バインダーを好適に用いることができる。この場合、ポリシロキサン系バインダー前駆体としてシリコンアルコキシドの加水分解・重縮合反応により得られるゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を好適に用いることができる。
【００５０】
シリコンアルコキシドのゾル溶液は、通常、有機溶媒中で酸触媒存在下、シリコンアルコキシドに水を添加し、加水分解・重縮合させることにより、調製することができるが、市販のゾル溶液を使用しても良い。以下、シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製方法を具体的に説明する。
【００５１】
（シリコンアルコキシド）
シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランが挙げられる。
これらの中でも、得られる膜の状態や強度、経済性の観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランであることが好ましい。
【００５２】
これらのシリコンアルコキシドは、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせて使用する場合の混合比率は所望に応じて適宜選択することができる。
【００５３】
また、一般的にシランカップリング剤として知られている、トリメトキシシリルプロパンチオール、トリエトキシシリルプロパンチオール、３−（ジメトキシメチルシリル）−１−プロパンチオール等や、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、３−（Ｎ−フェニル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、４−（２−アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン等や、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等や、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等や、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を添加・併用することも可能である。
【００５４】
また、最終的に得られるコーティング膜に所望の物性を付与するために、必要に応じて、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を添加・併用してもよい。
【００５５】
例えば、反射率を高くしたい場合にはチタンアルコキシドや亜鉛アルコキシドを、また機械的強度、耐アルカリ性を高くしたい場合にはジルコニウムアルコキシドを、耐候性を向上させたい場合にはニッケルアルコキシドを添加・併用することが効果的である。
【００５６】
（酸触媒）
酸触媒としては、特に限定されないが、例えば硝酸、塩酸、硫酸等の無機酸や、蟻酸、酢酸、蓚酸等の有機酸が挙げられる。加水分解・重縮合反応終了後に酸が残存すると、縮合安定性が悪化するため、低沸点で揮発性が高く、ｐＫａの小さな蟻酸を用いることが好ましい。
【００５７】
酸触媒の添加量としては、十分な触媒作用を発揮する限り、特に限定されるものではないが、通常シリコンアルコキシド１モルに対して０．０１モル以上、より好ましくは０．３モル以上を配合することが好ましい。０．０１モル未満では十分な触媒作用が得られないおそれがあり、また過剰に添加した場合には、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液が、残存する酸により経時的に劣化するおそれがある。よってシリコンアルコキシド１モルに対して１モル以下の割合で配合することが好ましい。
【００５８】
（水）
上記シリコンアルコキシドの加水分解を引き起こし得る限り、特に限定されないが、シリコンアルコキシド１モルに対し、２〜６モルの割合で水を添加することが好ましい。２モル未満では十分に加水分解が進行しないおそれがあり、６モルを超えると加水分解が速く進行しすぎてしまい、続く重縮合反応の進行を妨げることに加え、反応後に除去する水の量が多くなり効率的でない。
【００５９】
（反応溶媒）
シリコンアルコキシド、水、酸触媒に加えて反応溶媒を使用することにより、加水分解速度を適度に低め、確実に加水分解・重縮合を進行させることができる。さらに、最終的に得られるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の粘度をハンドリングしやすいレベルにまで調整するための希釈剤としての役割も兼ねる。
【００６０】
反応溶媒としては、前記シリコンアルコキシドが溶解するものであれば特に限定されることなく、適宜選択し使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００６１】
反応性や経済性の観点から、好ましくは、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸−ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類等である。
【００６２】
後工程において、該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に式（１）で表される金属錯体を溶解・混合する場合には、あらかじめ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒を本工程における反応溶媒として使用することで、該金属錯体を溶解混合する際の労力を軽減することができる。
【００６３】
ただし、該金属錯体の貧溶媒を用いて本工程におけるシリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を調製した場合であっても、該金属錯体を溶解・混合する前に該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）の溶媒を該金属錯体の良溶媒に置換する、あるいは該シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）に該金属錯体の良溶媒を添加することによって、問題なく溶解・混合することもできる。
【００６４】
前記反応溶媒の使用量は、シリコンアルコキシド１００重量部に対し、５０〜１０００重量部、好ましくは１００〜５００重量部の範囲とすることが望ましい。５０重量部未満では、加水分解・重縮合反応を適度な反応速度で進行させることが困難になるおそれがあり、１０００重量部を超えると、加水分解・重縮合反応の速度が低下するため効率的でないことに加えて、後述の減圧・留去工程に長時間を必要とするおそれがある。
【００６５】
まず、１種類または２種類以上のシリコンアルコキシドを、酸触媒、水及び溶媒と混合する。この溶液を０〜１５０℃、好ましくは５０〜１００℃ の温度に維持することにより、加水分解・重縮合反応を進行させる。０℃未満では、加水分解・重縮合反応が進行しにくくなるおそれがある。また１５０℃を超えると加水分解・重縮合反応が急速に進行するため、未反応のアルコキシ基が残存したり、ゲル化や着色を招くおそれがある。加水分解・重縮合反応の時間は、温度条件にもよるが、通常１〜２４時間、より好ましくは２〜８時間である。１時間未満では、十分に加水分解・重縮合反応が進行しないおそれがあり、２４時間を超えてもそれ以上反応が進まないことから経済的でない。
【００６６】
加水分解・重縮合反応により副生するアルコールと水を系外に除去するために、反応終了後、あるいは反応中に、反応液を減圧留去することが好ましい。減圧留去しながら反応を進行させれば、重縮合反応の反応速度を向上させる効果も見込めるためより好ましい。この工程において、前記酸触媒として蟻酸等の低沸点で揮発性の高い触媒を用いれば、溶媒とともに酸触媒も系外に除去でき、反応終了後のゾル溶液の安定性を確保することができる。
【００６７】
このようにして加水分解・重縮合反応の進行により、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル溶液（シロキサンオリゴマー溶液）を得ることができる。
【００６８】
これらのマトリックス材料は単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。組み合わせて使用する場合、有機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、無機系バインダーから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよいし、有機系バインダーと無機系バインダーのそれぞれから選ばれる異なる２種類以上を組み合わせてもよい。
【００６９】
前記の、マトリックス材料および/またはマトリックスの材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好であり、且つ該金属錯体の溶解性が良好な溶媒としては、用いるマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００７０】
これらの中で、該金属錯体の溶解性の観点からより好ましいものを挙げると、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等である。
【００７１】
さらに好ましくは、アルコール類としてはテトラフルオロプロパノール等が、ハロゲン化炭化水素類としてはクロロホルム、ジクロロメタン等が、ケトン類としてはＭＥＫ、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が、エステル類としてはγ−ブチロラクトン、乳酸エチル等が、エーテル類としてはシクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等が、芳香族類としてはトルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼンが、ラクタム類としては２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等が、グリコールエーテル類としてはＰＧＭＥＡ等が、その他スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００７２】
また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記溶媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、α−エチルスチレン、α−ブチルスチレン、α−ヘキシルスチレン、４−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ブロモスチレン、４−ニトロスチレン、４−メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、（メタ）アクリル酸や、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エトキシブチル（メタ）アクリレート、３−エトキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、メチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルや、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシドおよびビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ブロモ化ビスフェノールＡ、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジクロルメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス［｛（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ｝メチル］ベンゼン、トリ［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルフェニル］エーテル、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）オリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。
【００７３】
また、無機系重合性モノマーとして、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等を使用することができる。
【００７４】
ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
【００７５】
これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合溶媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。
【００７６】
前記溶媒の使用量は、所望する紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の濃度や、使用する溶媒の種類、使用するマトリックス材料の前駆体の溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の溶解性の観点から言えば、通常該金属錯体１００重量部に対して５０〜１０００００重量部、好ましくは１００〜５０００重量部、より好ましくは２００〜３０００重量部である。５０重量部より少ないと、該金属錯体が完全に溶解しないおそれがあり、最終的に得られる紫外線吸収部材の可視光透過率の低下を招くおそれがある。また１０００００重量部よりも多いと、紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体濃度が低下し、最終的に得られる紫外線吸収部材に十分な紫外線吸収能を付与できない可能性がある。
【００７７】
該金属錯体と、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを溶媒中に溶解させる際には、事前にマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを溶媒中に溶解させておき、ここに該金属錯体を添加し溶解させてもよいし、事前に該金属錯体を溶媒に溶解させ、この溶液とマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを混合し溶解させてもよいし、あるいは該金属錯体とマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを同時に溶媒と混合し溶解させてもよい。
【００７８】
尚、重合性モノマーを、マトリックス材料の前駆体、兼溶媒として使用する場合であっても、同様の手順で混合・溶解させることが可能である。
【００７９】
ここで、用いるマトリックス材料が、マトリックス成分が溶解している溶液であり、且つ該溶液の溶媒が該金属錯体の良溶媒である場合には、該金属錯体とマトリックス材料（マトリックス成分が溶解している溶液）を混合するだけでもよい。
【００８０】
また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。
【００８１】
また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の紫外線吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。
【００８２】
熱硬化の場合に使用されるラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサノン−１−カルボニトリル）等のアゾ系化合物や、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキシド類や、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド等を挙げることができる。
【００８３】
光硬化の場合に用いられるラジカル重合開始剤としては、例えば、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４’−メチルチオ−２，２−ジメチル−２−モルホリノアセトフェノン、ベンゾインイソブチルエーテル、２−クロロチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
【００８４】
熱硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩等を挙げることができる。
【００８５】
光硬化の場合に使用されるカチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩等を挙げることができる。
【００８６】
硬化剤としては、上記重合性モノマーとしてエポキシ系モノマーを使用する際に使用されるものとして、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物や、ジエチレントリアミン、トリエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン、ピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン等の脂肪族アミンや、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４-ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族アミンや、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類や、三フッ化ホウ素・アミン錯体、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化亜鉛等のルイス酸類や、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ホスホニウム塩や、ポリメルカプタン、ポリサルファイド等を挙げることができる。
【００８７】
中でも、酸無水物類が重合後のエポキシ樹脂の機械特性を向上する点で好ましく、操作性において常温で液状のものが好ましい。具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等を挙げることができる。
常温で固体の酸無水物、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物を使用する場合には、常温で液状の酸無水物に溶解させ、常温で液状の混合物として使用することが操作上好ましい。
【００８８】
エポキシ系モノマーの上記硬化反応を促進するために、さらに硬化促進剤を使用することもできる。硬化促進剤は、単独または２種以上を混合して使用することができる。 例えば、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン、２，４，６−トリス（ジアミノメチル）フェノール、１，８−ジアザビスシクロ（５，４，０）ウンデセン−７とそのオクチル酸塩等の第三級アミン類やイミダゾール類および／またはそれらの有機カルボン酸塩や、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、ベンジルトリフェニルホスホニウム臭素塩、ベンジルトリブチルホスホニウム臭素塩等のホスフィン類および／またはそれらの第四級塩や、オクチル酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸錫等の有機カルボン酸金属塩や、亜鉛とβ−ジケトンよりなるアセチルアセトン亜鉛キレート、ベンゾイルアセトン亜鉛キレート、ジベンゾイルメタン亜鉛キレート、アセト酢酸エチル亜鉛キレート等の金属−有機キレート化合物や、芳香族スルホニウム塩等が挙げられる。
【００８９】
（ii）該金属錯体の微粒子が分散状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物
具体的には、該金属錯体の溶解性が十分低く、且つマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好な分散媒を用いることで、マトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーが溶解した分散媒中に該金属錯体の微粒子が分散されている紫外線吸収部材用組成物を製造することができる。
【００９０】
尚、マトリックス材料の代わりに、マトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーのみを使用する場合、前記分散媒は必ずしも必要ではなく、該重合性モノマーをマトリックス材料の前駆体、兼分散媒として使用することも可能である。
【００９１】
また、用いるマトリックス材料が、マトリックス成分が溶解している溶液であり、且つ該溶液の溶媒が該金属錯体の溶解性が十分に低いものである場合には、必ずしも前記の分散媒を併用する必要はなく、マトリックス材料（マトリックス成分が溶解している溶液）に該金属錯体の微粒子を直接分散させることも可能である。
【００９２】
あらかじめ、適当な分散媒中に該金属錯体を分散させ、該金属錯体微粒子の分散液を調製し、この分散液中にマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを溶解させてもよいし、あらかじめマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーを適当な分散媒中に溶解させ、ここに該金属錯体を分散させてもよい。
【００９３】
尚、重合性モノマーを、マトリックス材料の前駆体、兼分散媒として使用する場合であっても、同様の手順で混合・分散させることが可能である。
【００９４】
前記のマトリックス材料としては、有機系または無機系バインダーのいずれであっても使用することができ、前記の「（ｉ）式（１）で表される金属錯体が分子レベルで溶解状態にある場合の紫外線吸収部材用組成物」の項で述べたものと同範囲内から適宜選択し、使用することができる。
【００９５】
前記の、該金属錯体の溶解性が十分低く、且つマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとの相溶性が良好な分散媒としては、用いるマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマー、および該金属錯体の種類に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、水や、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、テトラフルオロプロパノール等のアルコール類や、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類や、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール等のグリコール類や、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３−オクタノン等のケトン類や、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシプロピオン酸−ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸−ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸−ｎ−ブチル、ピルビン酸エチル、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル等のエステル類や、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類や、トルエン、キシレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類や、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン等の炭化水素類や、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ε−カプロラクタム等のラクタム類や、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類や、その他アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ＤＭＦ等が挙げられる。
【００９６】
用いる該金属錯体、ならびにマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーの種類に応じて好ましい分散媒は異なるが、経済性や分散性、分散液の安定性の観点から、水、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ブタノール、エチレングリコールや１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、アセトン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、ε−カプロラクタム、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ、ジエチレングリコールジメチルエーテルであることが好ましく、より好ましくは、水、メタノール、エタノール、ＩＰＡ、ＰＧＭＥＡ、エチレングリコール、トルエン、キシレン、シクロへキサン、ｎ−ヘプタンである。
【００９７】
また、前記の重合性モノマーは、マトリックス材料の前駆体としても使用できるし、前記分散媒としても使用することができる。重合性モノマーとしては、例えば、有機系重合性モノマーとして、スチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、α−エチルスチレン、α−ブチルスチレン、α−ヘキシルスチレン、４−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−ブロモスチレン、４−ニトロスチレン、４−メトキシスチレン、ビニルトルエン等のスチレン系モノマーや、（メタ）アクリル酸や、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−メチルブチル（メタ）アクリレート、２−エチルブチル（メタ）アクリレート、３−メチルブチル（メタ）アクリレート、１，３−ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エトキシブチル（メタ）アクリレート、３−エトキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、メチル−α−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステルや、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド、アリルシクロヘキセンジオキシド、３，４−エポキシ−４−メチルシクロヘキシル−２−プロピレンオキシドおよびビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）エーテル等の脂環式エポキシ化合物や、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ブロモ化ビスフェノールＡ、ビフェノール、レゾルシン等をグリシジルエーテル化した化合物や、トリメチレンオキシド、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジクロルメチルオキセタン、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン、３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス［｛（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ｝メチル］ベンゼン、トリ［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルフェニル］エーテル、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）オリゴジメチルシロキサン等のオキセタン化合物等が挙げられる。
【００９８】
無機系重合性モノマーとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の４官能アルコキシシランや、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等の３官能アルコキシシランや、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等の２官能アルコキシシランや、チタンアルコキシド、セリウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド、アルミニウムアルコキシド、ニッケルアルコキシド、亜鉛アルコキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。
ここで、無機系重合性モノマーとは、重合反応により形成されるポリマー主鎖に炭素原子を含まないものを示す。
【００９９】
これらの分散媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。２種類以上を組み合わせた混合分散媒を使用する場合の混合比率は適宜選択することができる。
【０１００】
使用する分散媒が、該金属錯体の溶解性が十分低いものでなければ、該金属錯体の微粒化が阻害され、安定な分散液が得られない。この理由は、詳らかではないが、おそらく以下に述べる機構によるものと考えられる。
【０１０１】
該金属錯体の微粒子の分散安定化は、粉砕・分散過程において生成した該金属錯体の微粒子表面に、後述の分散剤が吸着し、その吸着した分散剤同士の静電反発、立体反発により微粒子同士の再凝集が抑制され、安定な分散状態がもたらされる。しかしこの分散系に該金属錯体の良溶媒が存在すると、該金属錯体の微粒子に対する「分散剤の吸着作用」と「溶媒の溶解作用」の二つの作用が競争し、溶媒の溶解作用により分散剤の吸着が一部妨げられ、結果として微粒化が阻害され、分散安定性も低下してしまう。
【０１０２】
前記分散媒の使用量は、紫外線吸収部材用組成物中の該金属錯体の所望の濃度や、使用するマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーの溶解度等を考慮した上で適宜調整することができ、特に限定されるものではないが、該金属錯体の分散性の観点から言えば、通常該金属錯体１００重量部に対して４０〜９９００重量部、好ましくは１００〜１９００重量部である。４０重量部より少ないと、該金属錯体微粒子の分散安定性が低下するおそれがある。また９９００重量部よりも多いと、固形分濃度が低下するため十分な剪断力を与えることができず、該金属錯体を微粒化するためにかかる時間が長くなり効率が低下するおそれがある。
【０１０３】
前記金属錯体微粒子の紫外線吸収部材用組成物中の平均粒子径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。平均粒子径が２００ｎｍよりも大きいと、可視光透過率が著しく低下し、また最終的に得られるコーティング膜の機械的強度が低下するおそれがある。さらに粒子径が２００ｎｍよりも大きい場合、粒子の表面積の低下により、添加量に見合う紫外線吸収能が得られず、コスト面で不利である。また、平均粒子径が１０ｎｍ以下の場合には、溶解状態に近くなり可視透過率は向上するが、耐光性が低下し、分散系で使用するメリットが損なわれるおそれがある。
【０１０４】
（分散機）
前記金属錯体を微粒化するにあたって使用できる分散機としては、特に限定されるものではないが、例えば、ペイントシェーカー、ボールミル、ナノミル、アトライター、バスケットミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、ＳＣミル、スパイクミル、アジテーターミル等のメディア型分散機や、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー、デゾルバー、ディスパー、高速インペラー分散機等のメディアレス型分散機が挙げられる。
中でも、コスト、処理能力の面から、メディア型分散機を使用するのが好ましい。また、これらのうちの一つを単独で用いても良く、２種類以上の装置を組み合わせて使用しても良い。
【０１０５】
（分散メディア）
分散メディアとしては、用いる分散機の分散室内部の材質に応じて、ステンレス鋼、スチール等の鋼球ビーズや、アルミナ、ステアタイト、ジルコニア、ジルコン、シリカ、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスビーズや、ソーダガラス、ハイビー等のガラスビーズや、ＷＣ等の超硬ビーズ等の中から適宜選択し使用することができ、そのビーズ径は０．０３〜１．５ｍｍφの範囲が好ましい。
【０１０６】
該金属錯体を微粒化し、分散させるための本分散工程においては、該金属錯体と分散メディアの衝突により、該金属錯体に十分な剪断力を負荷し、粉砕・分散させることで微粒化する。ここで、該金属錯体と分散メディアの衝突エネルギーにより、分散液の液温が上昇するため、公知の冷却装置により、分散液を冷却しながら分散を実施するのが好ましい。冷却温度は特に限定されるものではないが、通常−５０〜１２０℃、好ましくは−３０〜８０℃、さらに好ましくは−２０〜６０℃である。
【０１０７】
（分散剤）
分散剤は、該金属錯体を分散媒中に安定に分散させるために、必要に応じて配合される。分散剤としては、例えば、アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジニウム塩、イミダゾリウム塩等のカチオン性分散剤や、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルジアリールジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩等のアニオン性分散剤や、アルキルベタインやアミドベタイン等の両性分散剤や、ノニオン性分散剤や、フッ素系分散剤や、シリコン系分散剤や、高分子系分散剤等を使用することができる。中でも、次に例示するようなノニオン性分散剤や高分子系分散剤が特に好ましい。
【０１０８】
ノニオン性分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類や、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類や、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類や、ソルビタン脂肪酸エステル類が好ましく用いられる。分散性や経済性の観点から、より好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類およびポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類である。
【０１０９】
高分子系分散剤としては、例えば、ポリウレタン、ポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸及びその塩、スチレン−アクリル酸共重合体、アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加物等が好ましく用いられる。
【０１１０】
これらの分散剤は単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１１】
前記分散剤の使用量は、通常該金属錯体１００重量部に対して０〜１００重量部、好ましくは０〜６０重量部である。１００重量部を超えて添加した場合には添加量に見合う分散効果が得られず、経済的でない。
【０１１２】
以上の方法で該金属錯体の微粒子が分散された紫外線吸収部材用組成物を得た後に、所望する濃度に希釈してもよい。
【０１１３】
希釈溶媒は特に限定されず、適宜選択し使用することができるが、希釈時における該金属錯体微粒子の再凝集を抑制するために、前記の分散工程で用いた分散媒を使用することが好ましい。前記分散工程において、分散媒を２種類以上組み合わせて用いた場合には、同一の組成比率の混合溶媒を用いることが好ましい。
【０１１４】
希釈方法としては、該金属錯体の微粒子分散液を攪拌しながら、希釈溶媒を添加する方法が好ましい。希釈溶媒中に前記の該金属錯体の微粒子が分散された紫外線吸収部材用組成物を添加すると、該金属錯体の微粒子が再凝集するおそれがある。
【０１１５】
また、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて従来公知の光吸収剤を該金属錯体と混合し、併用することも可能である。
【０１１６】
併用することのできる光吸収剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、有機系光吸収剤としては、フタロシアニン系、キナクリドン系、キナクリドンキノン系、ベンズイミダゾロン系、キノン系、アントアントロン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゼンジチオール金属錯体系、ジチオレン金属錯体系、アゾ金属系、金属フタロシアニン系、金属ナフタロシアニン系、ポルフィリン金属錯体系等の金属錯体系色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サルチレート系、サリチル酸フェニルエステル系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミド系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤等が挙げられる。経済性や光吸収性能の観点から、好ましくは、フタロシアニン系、キノン系、ペリレン系、アゾ系、シアニン系、アザシアニン系、スクアリリウム系、トリアリールメタン系等の有機色素や、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、ベンゾエート系、リン系、アミン系、硫黄系等の有機系紫外線吸収剤である。
【０１１７】
また、無機系光吸収剤としては、六ホウ化物、酸化タングステン、複合酸化タングステン、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化カルシウム、酸化ガリウム、酸化リチウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タリウム、酸化ニッケル、酸化ネオジム、酸化コバルト、酸化クロム、酸化ランタン、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化プラセオジウム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビニウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミニウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等の金属酸化物や、ＩＴＯ（インジウム−錫複合酸化物）、ＡＴＯ（アンチモン−錫複合酸化物）等の複合金属酸化物や、窒化チタン、窒化クロム酸等の金属窒化物等が挙げられる。
【０１１８】
また、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、硬化剤、硬化触媒、架橋剤、カップリング剤、レベリング剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、難燃剤、フィラー、着色剤、光触媒材料、防錆剤、撥水剤、導電性材料、アンチブロッキング材、軟化剤、離型剤、蛍光増白剤等を適宜添加してもよい。
【０１１９】
また、重合性モノマーを用いる場合において、後述の紫外線吸収部材を作製する際に重合工程を設ける場合には、別途重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤としては特に限定されるものではなく、使用する重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。また、その使用量は、重合性モノマーおよび重合開始剤の活性に応じて適宜選択することができる。重合開始剤の例示は前記の通りである。
【０１２０】
また、溶媒や分散媒を使用することなく、該金属錯体を、加熱により溶融させる等して流動性をもたせたマトリックス材料（溶媒を含まないマトリックス成分そのもの）中に練りこむ方法を採用してもよい。この場合には公知の溶融混練機を使用することが好ましい。一例を挙げると、短軸押出機を用いて溶融混練した後にストライド状に押し出し、ペレット状にカットすることで、成形材料としての光吸収部材用組成物を得ることができる。溶融混練時の温度は使用する有機色素安定化剤および有機色素の分解温度と、使用するマトリックス材料の融点またはガラス転移点の双方を考慮した上で適宜設定することができ、また混練時の圧力については、使用するマトリックス材料の物性に応じて適宜設定することができる。
尚、溶融混練時に使用するマトリックス材料の好ましい例示としては、後述の基材の項で有機系基材として例示するものと同じものが挙げられる。
【０１２１】
《紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材》
かくして得られた紫外線吸収部材用組成物を用いて紫外線吸収部材を作製することができる。本発明における紫外線吸収部材は主に以下の２種類の形態を示す。
（Ｉ）基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜（以下、マトリックス膜という）を有する積層体としての紫外線吸収部材
前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布し、乾燥および/または硬化することにより、基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。
【０１２２】
前記紫外線吸収部材用組成物を基材に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【０１２３】
基材は、所望によりフィルムでもボードでもよく、形状は限定されない。材質についても特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜選択し、使用することができる。例えば、ガラス等の無機系基材や、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等の有機系基材が挙げられる。中でも、透明性の観点から、ガラス、ポリ（シクロ）オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂等が好ましい。
【０１２４】
また、層間剥離、コートムラを防ぐ目的で、塗布前に基材表面を洗浄してもよい。洗浄方法としては特に限定されず、基材の種類に応じて適宜選択し、実施することができる。通常、超音波洗浄、ＵＶ洗浄、セリ粉洗浄、酸洗浄、アルカリ洗浄、界面活性剤洗浄、有機溶剤洗浄等を単独で、または組み合わせて実施することができる。洗浄終了後は、洗浄剤が残留しないように濯ぎ及び乾燥を行う。
【０１２５】
塗布により形成されるマトリックス材料のコーティング被膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．０１〜５０μｍ、さらに好ましくは０．０１〜３０μｍである。０．１μｍ未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、１００μｍを超えると、乾燥時に溶媒や分散媒等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。
【０１２６】
乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒の種類によって適宜設定することができる。
乾燥後、マトリックス膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
【０１２７】
例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に８０〜５００℃、好ましくは９０〜４００℃、より好ましくは１００〜３００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
８０℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、マトリックス膜中に含有される該金属錯体が熱分解してしまうおそれがある。
焼成時間は、所望のマトリックス膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
【０１２８】
また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
なお、後述の剥離性基材を用い、この上にコーティングを施した後、所望の別基材に該コーティング層を転写して得られた積層体も（Ｉ）の形態に含まれる。別基材としては前記の基材が例示される。
具体的な方法としては、例えば、紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）上に塗布し乾燥させた後、ラミネーター等を用いて別基材（例えばガラス基材）と貼り合わせ、その後剥離性基材を剥離することで、別基材上に該金属錯体を含有するマトリックス膜を有する積層体としての紫外線吸収部材を作製することができる。この場合にも、必要に応じて前記重合処理を設けてもよい。
【０１２９】
例えば、所望の基材上に異なる成分からなるマトリックス膜を多層化させた積層体を作製する場合に、このような転写法を用いることができる。すなわち、前記のように基材上に直接紫外線吸収部材用組成物を塗布し、コーティング層を形成する方法で多層膜を形成しようとする場合、例えば、ｎ＋１層目（ｎは自然数を表す）を形成する際に使用する紫外線吸収部材用組成物は、ｎ層目の構成成分が溶解したり膨潤したりしないものでなければならず、ｎ＋１層目を構成する紫外線吸収部材用組成物の構成成分が制限されてしまうが、かかる転写法を用いることにより、これらの制限を回避することができる。
【０１３０】
（ＩＩ）該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材
前記で得られた紫外線吸収部材用組成物を、剥離性基材上に塗布し、乾燥または硬化した後に、剥離性基材から該コーティング膜を剥離することによって得られる、該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材を作製することができる。
紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材に塗布する方法としては、特に限定されず、例えばディップコート法、スピンコート法、フローコート法、ロールコート法、グラビアコート法。フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、バーコート法、スプレー法、リバースコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【０１３１】
剥離性基材は、所望によりフィルムでもボードでも良く、形状は限定されない。剥離性基材は、基材を構成する素材が剥離性を有するものであれば基材単独でもよいし、基材を構成する素材が剥離性を有しない場合、または剥離性が乏しい場合には基材に剥離性層を積層したものであってもよい。前者の基材を構成する素材が剥離性を有するものである場合には、ポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等を用いることができる。
後者の、基材に剥離性層を積層したものである場合、基材としては前記（Ｉ）で例示したような基材を用いることができる。これら基材の表面に基材とは接着性を有し、紫外線吸収部材用組成物から作製される該金属錯体を含有する薄膜層に対しては剥離性を有する剥離性層を積層したものを使用することができる。
【０１３２】
剥離性層は、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、剥離性物質をバインダー樹脂中に溶解または分散させたもの等で構成される。
剥離性物質としては、特に制限されるものではなく、例えば長鎖アルキル化合物、カルナバワックスやモンタンワックスや酸化ポリエチレンや非酸化ポリエチレン等の合成ワックス等が挙げられる。
これらから選択される少なくとも１種以上を溶媒（分散媒）中に溶解、分散、希釈し、得られた組成物を基材上に公知の方法で塗布または印刷した後、乾燥または硬化することによって基材上に剥離性層を形成することができる。剥離性層の膜厚は、０．５μｍ〜１０μｍ程度であることが好ましい。
【０１３３】
紫外線吸収部材用組成物を剥離性基材上に塗布することによって形成される該金属錯体がマトリックス膜中に含有された薄膜の膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じて適宜調整することができるが、通常０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．０１〜５０μｍ、さらに好ましくは０．０１〜３０μｍである。０．０１μｍ未満では、十分な紫外線吸収能が得られないおそれがあり、１００μｍを超えると、乾燥時に溶媒や分散媒等が膜内部から蒸発し、膜表面に凹凸が生じたり、クラックを生じる可能性がある。
乾燥温度、乾燥時間は、用いる溶媒や分散媒等の種類によって適宜設定することができる。
乾燥後、該金属錯体を含有する薄膜の機械的強度等の物性を目的に見合うようにコントロールするため、養生工程や焼成工程を設けてもよい。
【０１３４】
例えば、マトリックス材料としてポリシロキサン系バインダーを用いた場合、前記乾燥工程の後に８０〜５００℃、好ましくは９０〜４００℃、より好ましくは１００〜３００℃での焼成工程を設けることによって膜自体の機械的強度を向上させることができる。
すなわち、前記乾燥工程において、ゾル（シロキサンオリゴマー）同士が重縮合反応を起こすことでシロキサンネットワークを拡大し、ゲル体の骨格構造を形成する。このゲル体を焼成することでさらにシロキサンネットワークが拡大する。このシロキサンネットワーク（ポリシロキサンの分子量）の大きさにより、得られるマトリックス膜の機械的強度をコントロールすることができる。
【０１３５】
８０℃より低温では、機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５００℃より高温では、マトリックス膜中に含有された該金属錯体が熱分解してしまうおそれがある。
焼成時間は、所望の薄膜の物性に応じて適宜調整可能であるが、通常、１０分間〜５時間、好ましくは３０分間〜３時間である。１０分間より短いと機械的強度が十分向上しないおそれがあり、５時間より長いと、時間に見合う効果が得られず経済的でない。
また、重合処理を設ける場合、加熱処理やＵＶ照射等の処理を設けることができる。加熱条件やＵＶ照射条件は、使用する重合開始剤や重合性モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。
【実施例】
【０１３６】
以下に実施例および比較例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。尚、以下の製造例および実施例で得られた各配位子および各金属錯体の同定は、下記の方法で実施した。
（１）１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル測定
ＮＭＲ装置：ＢＲＵＫＥＲ製ＡＶ４００型
測定溶媒：ジメチルスルホキシド-ｄ６
共鳴周波数：４００ＭＨｚ
（２）元素分析
（３）紫外可視分光吸収スペクトル測定
分光光度計：株式会社日立製作所製、Ｕ−４１００
【０１３７】
製造例１
２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）とフェノール１９．８ｇ（０．２１モル）とｏ−ジクロロベンゼン２４０ｇを混合し、１７０℃まで昇温した後、４０時間保温した。その後、反応液を８０℃まで冷却し、エタノール３００ｇを滴下し、さらに１時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別した。エタノールで洗浄後、乾燥し、配位子として微黄色粉末のビス｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン（Ｌ１：下記表１参照）３５．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールに対して５３％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９８．６％であった。
元素分析：Ｃ；４３．７％、Ｈ；３．１％、Ｎ；９．４％、Ｓ；２９．２％（理論値：Ｃ；４３．７２％、Ｈ；２．９８％、Ｎ；９．５６％、Ｓ；２９．１８％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：３．２６（ｓ、６Ｈ）、７．８６−７．９６（ｍ、４Ｈ）、８．６０（ｓ、２Ｈ）、１３．４６（ｂｒ、１Ｈ）
【０１３８】
製造例２
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾオキサゾール６３．７ｇ（０．３０モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、ベージュ色粉末のビス｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾオキサゾリル］｝アミン（Ｌ２：下記表１参照）３０．３ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾオキサゾールに対して５０％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９９．０％であった。
元素分析：Ｃ；４７．３％、Ｈ；３．１％、Ｎ；１０．４％、Ｓ；１５．８％（理論値：Ｃ；４７．１７％、Ｈ；３．２２％、Ｎ；１０．３１％、Ｓ；１５．７４％）
【０１３９】
製造例３
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール３４．２ｇ（０．１５モル）と２−アミノ−５−クロロベンゾオキサゾール２５．３ｇ（０．１５モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、ベージュ色粉末の［２−（５−クロロベンゾオキサゾリル）］｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン（Ｌ３：下記表１参照）３３．２ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールと２−アミノ−５−クロロベンゾオキサゾールの総量に対して５８％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９７．５％であった。
元素分析：Ｃ；４７．４％、Ｈ；２．６％、Ｃｌ；９．５％、Ｎ；１１．３％、Ｓ；１６．７％（理論値：Ｃ；４７．４３％、Ｈ；２．６５％、Ｃｌ；９．３３％、Ｎ；１１．０６％、Ｓ；１６．８８％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：３．２４（ｓ、３Ｈ）、７．２５（ｄｄ、１Ｈ）、７．５８−７．６０（ｍ、２Ｈ）、７．６３（ｄ、１Ｈ）、７．９５（ｄｄ、１Ｈ）、８．５４（ｄ、１Ｈ）、１３．６９（ｂｒ、１Ｈ）
【０１４０】
製造例４
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール３４．２ｇ（０．１５モル）と２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール２７．０ｇ（０．１５モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、微黄色粉末の｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝［２−（６−メトキシベンゾチアゾリル）］アミン（Ｌ４：下記表１参照）２６．４ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールと２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾールの総量に対して５０％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９７．２％であった。
元素分析：Ｃ；４９．２％、Ｈ；３．２％、Ｎ；１０．７％、Ｓ；２４．５％（理論値：Ｃ；４９．０９％、Ｈ；３．３５％、Ｎ；１０．７３％、Ｓ；２４．５７％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：３．２４（ｓ、３Ｈ）、３．８１（ｓ、３Ｈ）、７．０４（ｄｄ、１Ｈ）、７．５８（ｄ、２Ｈ）、７．８０（ｂｒ、１Ｈ）、７．９１（ｄｄ、１Ｈ）、８．５４（ｓ、１Ｈ）、１２．９９（ｂｒ、１Ｈ）
【０１４１】
製造例５
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール３４．２ｇ（０．１５モル）と２−アミノベンゾチアゾール２２．５ｇ（０．１５モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色粉末の（２−ベンゾチアゾリル）｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン（Ｌ５：下記表１参照）２３．３ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールと２−アミノベンゾチアゾールの総量に対して４３％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９８．０％であった。
元素分析：Ｃ；４９．６％、Ｈ；３．０％、Ｎ；１１．５％、Ｓ；２６．７％（理論値：Ｃ；４９．８４％、Ｈ；３．０７％、Ｎ；１１．６３％、Ｓ；２６．６１％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：３．２５（ｓ、３Ｈ）、７．２９（ｔ、１Ｈ）、７．４５（ｔ、１Ｈ）、７．６５（ｂｒ、１Ｈ）、７．８３（ｂｒ、１Ｈ）、７．９１−７．９６（ｍ、２Ｈ）、８．５６（ｓ、１Ｈ）、１３．１７（ｂｒ、１Ｈ）
【０１４２】
製造例６
製造例１において２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール６８．５ｇ（０．３０モル）に代えて、２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾール３４．２ｇ（０．１５モル）と２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾール２６．７ｇ（０．１５モル）を用いた以外は製造例１と同様にして、配位子として、白色粉末の［２−（５，６−ジメチルベンゾチアゾリル）］｛２−［６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾリル］｝アミン（Ｌ６：下記表１参照）２６．３ｇを得た。収率は２−アミノ−６−（メチルスルホニル）ベンゾチアゾールと２−アミノ−５，６−ジメチルベンゾチアゾールの総量に対して４５％であった。純度は、高速液体クロマトグラフにより測定し、９７．９％であった。
元素分析：Ｃ；５２．２％、Ｈ；３．８％、Ｎ；１０．９％、Ｓ；２４．５％（理論値：Ｃ；５２．４２％、Ｈ；３．８８％、Ｎ；１０．７９％、Ｓ；２４．７０％）
１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）：２．２９（ｓ、３Ｈ）、２．３２（ｓ、３Ｈ）、３．２４（ｓ、３Ｈ）、７．４１（ｂｒ、１Ｈ）、７．６６（ｓ、１Ｈ）、７．８２（ｂｒ、１Ｈ）、７．８９−７．９２（ｍ、１Ｈ）、８．５３（ｓ、１Ｈ）、１３．０２（ｂｒ、１Ｈ）
【０１４３】
得られた各配位子の構造式を表１に示す。
【表１】
【０１４４】
実施例１
製造例１で得られた配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）とＤＭＦ １５０ｇを混合し溶解させた。ここに酢酸銅・一水和物５．５９ｇ（０．０２８モル）を添加し、１００℃まで昇温した後、１時間保温した。その後、反応液を５０℃まで冷却し、メタノール１５０ｇを滴下し、さらに１時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出物を濾別した。メタノールで洗浄後、乾燥し、濃緑色粉末のビス｛Ｎ−［６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾリル−κＮ３］−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３｝銅（Ｃ１−Ｃｕ）２２．１ｇを得た。収率は配位子（Ｌ１）に対して９４．０％であった。
元素分析：Ｃ；４０．８％、Ｈ；２．７％、Ｃｕ；６．７％、Ｎ；９．１％、Ｓ；２７．４％（理論値：Ｃ；４０．８６％、Ｈ；２．５７％、Ｃｕ；６．７６％、Ｎ；８．９３％、Ｓ；２７．２７％）
【０１４５】
実施例２
実施例１において配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）に代えて製造例２で得られた配位子（Ｌ２）２０．４ｇ（０．０５モル）を、酢酸銅・一水和物５．５９ｇ（０．０２８モル）に代えて酢酸コバルト・四水和物６．９７ｇ（０．０２８モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、赤橙色粉末のビス｛Ｎ−［６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾオキサゾリル−κＮ３］−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾオキサゾールアミナト−κＮ３｝コバルト（Ｃ２−Ｃｏ）２０．３ｇを得た。収率は配位子（Ｌ２）に対して９３．１％であった。
元素分析：Ｃ；４４．０％、Ｈ；２．６％、Ｃｏ；６．９％、Ｎ；９．５％、Ｓ；１４．９％（理論値：Ｃ；４４．０９％、Ｈ；２．７７％、Ｃｏ；６．７６％、Ｎ；９．６４％、Ｓ；１４．７１％）
【０１４６】
実施例３
実施例１において配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）に代えて製造例３で得られた配位子（Ｌ３）１９．０ｇ（０．０５モル）を、酢酸銅・一水和物５．５９ｇ（０．０２８モル）に代えて酢酸ニッケル・四水和物６．９７ｇ（０．０２８モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、やや赤味がかったベージュ色粉末のビス［Ｎ−（５−クロロ−２−ベンゾオキサゾリル−κＮ３）−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３］ニッケル（Ｃ３−Ｎｉ）１９．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ３）に対して９７．０％であった。
元素分析：Ｃ；４４．０％、Ｈ；２．２％、Ｃｌ；８．５％、Ｎ；１０．１％、Ｎｉ；７．２％、Ｓ；１５．８％（理論値：Ｃ；４４．１４％、Ｈ；２．２２％、Ｃｌ；８．６９％、Ｎ；１０．２９％、Ｎｉ；７．１９％、Ｓ；１５．７１％）
【０１４７】
実施例４
実施例１において配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）に代えて製造例４で得られた配位子（Ｌ４）１９．６ｇ（０．０５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、緑色粉末のビス｛Ｎ−［６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾリル−κＮ３］−６−メトキシ−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３｝銅（Ｃ４−Ｃｕ）１９．４ｇを得た。収率は配位子（Ｌ４）に対して９１．９％であった。
元素分析：Ｃ；４５．４％、Ｈ；３．０％、Ｃｕ；７．３％、Ｎ；１０．１％、Ｓ；２２．６％（理論値：Ｃ；４５．５１％、Ｈ；２．８６％、Ｃｕ；７．５２％、Ｎ；９．９５％、Ｓ；２２．７８％）
【０１４８】
実施例５
実施例２おいて配位子（Ｌ２）２０．４ｇ（０．０５モル）に代えて、配位子（Ｌ５）１８．１ｇ（０．０５モル）を用いた以外は実施例２と同様にして、橙色粉末のビス［Ｎ−（２−ベンゾチアゾリル−κＮ３）−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３］コバルト（Ｃ５−Ｃｏ）１７．７ｇを得た。収率は配位子（Ｌ５）に対して９０．８％であった。
元素分析：Ｃ；４６．３％、Ｈ；２．６％、Ｃｏ；７．６％、Ｎ；１０．９、Ｓ；２４．５％（理論値：Ｃ；４６．２０％、Ｈ；２．５８％、Ｃｏ；７．５６％、Ｎ；１０．７８％、Ｓ；２４．６７％）
【０１４９】
実施例６
実施例１において配位子（Ｌ１）２２．０ｇ（０．０５モル）に代えて、配位子（Ｌ６）１９．５ｇ（０．０５モル）を用いた以外は実施例１と同様にして、緑色粉末のビス［Ｎ−（５，６−ジメチル−２−ベンゾチアゾリル−κＮ３）−６−（メチルスルホニル）−２−ベンゾチアゾールアミナト−κＮ３］銅（Ｃ６−Ｃｕ）１９．８ｇを得た。収率は配位子（Ｌ６）に対して９４．４％であった。
元素分析：Ｃ；４８．４％、Ｈ；３．２％、Ｃｕ；７．４％、Ｎ；１０．２％、Ｓ；２２．９％（理論値：Ｃ；４８．５８％、Ｈ；３．３６％、Ｃｕ；７．５６％、Ｎ；１０．００％、Ｓ；２２．８９％）
【０１５０】
（無機系バインダー：シリコンアルコキシドのゾル溶液の調製）
尚、以下に記載のシリコンアルコキシドのゾル溶液の加熱残分とは、ガラス基材上にゾル溶液の液滴をのせ２００℃で３０分間焼成した際にガラス基材上に残った固形分の重量を、前記のガラス基材上にのせたゾル溶液の液滴の重量で除した値である。それぞれの試料について３回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。
【０１５１】
製造例７
メチルトリエトキシシラン４９．９ｇ（０．２８モル）と、フェニルトリエトキシシラン２４．０ｇ（０．１０モル）と、ＰＧＭＥＡ ８０ｇとを混合し、室温で攪拌し、溶液を得た。この溶液に、触媒としてギ酸６．９ｇ（０．１５モル）および水２５．０ｇを添加し、室温で３０分間攪拌することにより、加水分解を行った。次に加水分解後の溶液を７０℃まで昇温し、４時間保温し、加水分解・重縮合反応を進行させ、さらに減圧下で、副生したアルコールと水を留去しつつ、さらに１時間加水分解・重縮合反応を進行させることで、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＰＧＭＥＡ溶液（シロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液，加熱残分４０．５％）を得た。
【０１５２】
製造例８
製造例７において、ＰＧＭＥＡ ８０ｇに代えてＩＰＡ ８０ｇを用いた以外は製造例７と同様にして、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＩＰＡ溶液（シロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液，加熱残分４１．７％）を得た。
【０１５３】
製造例９
製造例７において、ＰＧＭＥＡ ８０ｇに代えてＤＭＦ ８０ｇを用いた以外は製造例７と同様にして、無機系バインダー：ポリシロキサン系バインダー前駆体としての、シリコンアルコキシドのゾル/ＤＭＦ溶液（シロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液，加熱残分４５．３％）を得た。
【０１５４】
（金属錯体の微粒子分散液の調製）
以下に示す平均粒子径は、シスメックス社製「ゼータサイザーナノＺＳ」を用いて、光源：Ｈｅ−Ｎｅレーザー（６３３ｎｍ）、セル：ガラス角セル、測定温度：２５℃、Ｍｅａｓｕｒｅ ｐｏｓｉｔｉｏｎ：０．８５（ｍｍ）の条件下で測定した。また、それぞれの試料について３回ずつ測定し、得られた値の平均値を示した。
【０１５５】
製造例１０〜１５
表２に示す組成比率に基づき、実施例１〜６で得られた金属錯体、分散媒、分散剤および分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアボールを粉砕容器（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ用粉砕容器(内装ジルコニア製)）に入れ、遊星型ボールミル（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ Ｐ−７）を用いて６００ｒｐｍで５分間分散した後、１０分間冷却し、さらに１１００ｒｐｍで５分間分散処理を行い、分散液Ａ〜Ｆを得た。
【０１５６】
【表２】
【０１５７】
（紫外線吸収部材用組成物およびこれを用いた紫外線吸収部材）
実施例７
製造例７で得られたシロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液２．０ｇにＰＧＭＥＡを０．７ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１０で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ａ）０．６ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ａを得た。平均粒子径は９２ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ａを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ａを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１５８】
実施例８
製造例８で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．７ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１１で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｂ）１．０ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｂを得た。平均粒子径は９９ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｂを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｂを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。
【０１５９】
実施例９
製造例７で得られたシロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液２．０ｇにＰＧＭＥＡを０．８ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１２で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｃ）０．８ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｃを得た。平均粒子径は９７ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｃを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｃを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。
【０１６０】
実施例１０
製造例８で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．８ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１３で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｄ）０．５ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｄを得た。平均粒子径は１０１ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｄを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｄを得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０１６１】
実施例１１
製造例７で得られたシロキサンオリゴマー/ＰＧＭＥＡ溶液２．０ｇにＰＧＭＥＡを０．８ｇ加え、混合した。次いでこれを、製造例１４で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｅ）０．５ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｅを得た。平均粒子径は１１３ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｅを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｅを得た。コーティング膜の膜厚は１１μｍであった。
【０１６２】
実施例１２
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＭＥＫ１．７ｇに溶解させ、これを製造例１５で得られた金属錯体の微粒子分散液（分散液Ｆ）０．６ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｆを得た。平均粒子径は１２３ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｆを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、８０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｆを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。
【０１６３】
実施例１３
製造例９で得られたシロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液２．０ｇにＤＭＦ ０．６ｇを加え、混合した。この溶液に、実施例１で得られた金属錯体（Ｃ１−Ｃｕ）０．１ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｇを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｇを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｇを得た。コーティング膜の膜厚は９μｍであった。
【０１６４】
実施例１４
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＤＭＦ １．７ｇに溶解させ、この溶液に、実施例２で得られた金属錯体（Ｃ２−Ｃｏ）０．３ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｈを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｈを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｈを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１６５】
実施例１５
製造例９で得られたシロキサンオリゴマー/ＤＭＦ溶液２．０ｇにＤＭＦ ０．６ｇを加え、混合した。この溶液に、実施例３で得られた金属錯体（Ｃ３−Ｎｉ）０．２ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｉを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｉを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｉを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１６６】
実施例１６
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＤＭＦ １．７ｇに溶解させ、この溶液に、実施例４で得られた金属錯体（Ｃ４−Ｃｕ）０．１ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｊを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｊを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｊを得た。コーティング膜の膜厚は１２μｍであった。
【０１６７】
実施例１７
実施例５で得られた金属錯体（Ｃ５―Ｃｏ）２．４ｇと、分散媒としてシクロペンタノン５５．０ｇ、分散媒兼重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２５．０ｇ、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の商品名：イルガキュア８１９）４．０ｇ、分散剤としてディスパロンＤＮ−９００（楠本化成株式会社製）１．０ｇ、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアボールを粉砕容器（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ用粉砕容器(内装ジルコニア製)）に入れ、遊星型ボールミル（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ Ｐ−７）を用いて６００ｒｐｍで５分間分散した後、１０分間冷却し、さらに１１００ｒｐｍで５分間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｋを得た。平均粒子径は８６ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｊを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１４０℃で１分間乾燥し、さらに露光装置（ナノテック株式会社製の商品名：マスクアライナーＬＡ ４１０ｓ、株式会社三永電機製作所製の商品名：超高圧水銀ランプＬ２５０１Ｌ）を用いて露光（単色化なし、波長３６５ｎｍにおける光強度４０ｍＷ/ｃｍ２、２．５秒間照射）し、硬化させ、紫外線吸収部材Ｋを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。
【０１６８】
実施例１８
実施例６で得られた金属錯体（Ｃ６―Ｃｕ）２．１ｇと、分散媒兼重合性モノマーとして３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート２．８ｇおよび３−エチル−３−［｛（３−エチルオキセタニル）メトキシ｝メチル］オキセタン５．５ｇ、熱重合開始剤（三新化学株式会社製の商品名；ＳＩ−６０Ｌ）０．２５ｇ、分散剤としてポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル０．６８ｇ、分散メディアとして０．１ｍｍφのジルコニアボールを粉砕容器（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ用粉砕容器(内装ジルコニア製)）に入れ、遊星型ボールミル（フリッチュ社製の商品名：ｐｒｅｍｉｕｍ ｌｉｎｅ Ｐ−７）を用いて６００ｒｐｍで５分間分散した後、１０分間冷却し、さらに１１００ｒｐｍで５分間分散処理を行い、分散液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｌを得た。平均粒子径は１０８ｎｍであった。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｌを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に、１６０℃で４０分間かけて硬化し、紫外線吸収部材Ｌを得た。コーティング膜の膜厚は１０μｍであった。
【０１６９】
比較例１
製造例８で得られたシロキサンオリゴマー/ＩＰＡ溶液２．０ｇにＩＰＡを０．４ｇ加え、混合した。次いでこれを、酸化亜鉛微粒子分散液（ハクスイテック株式会社製、製品名：パゼットＧＫ−ＩＰＡ分散体、粉体一次粒子径：２０〜４０ｎｍ、酸化亜鉛濃度：２０重量％）２．０ｇに攪拌しながら加え、混合することにより、紫外線吸収部材用組成物を得た。
得られた紫外線吸収部材用組成物Ｍを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に２００℃で３０分間焼成し、紫外線吸収部材Ｍを得た。コーティング膜の膜厚は８μｍであった。
【０１７０】
比較例２
有機系バインダーとしてアクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体（ローム・アンド・ハース社製の商品名；パラロイド Ｂ−７２）０．８ｇをＤＭＦ １．７ｇに溶解させ、この溶液に、Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６（ＢＡＳＦ製）０．７ｇを加え、溶解させることにより、溶液形態の紫外線吸収部材用組成物Ｎを得た。
この紫外線吸収部材用組成物Ｎを、スピンコーター（株式会社アクティブ製、型番：ＡＣＴ−３００Ａ）を用いてソーダライムガラス基材上に塗布し、その後、室温下、窒素雰囲気において１０分間予備乾燥させた後に１６０℃で３分間乾燥し、紫外線吸収部材Ｎを得た。コーティング膜の膜厚は１３μｍであった。
【０１７１】
[紫外線吸収部材の評価]
実施例７〜１８および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｎについて、以下の手順により実施した。
（１）透過率
実施例７〜１８および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｎについて、分光光度計（株式会社日立製作所製、型番：Ｕ−４１００）を用いて特定波長（λ＝３８０ｎｍ：紫外線ＵＶ−Ａ、λ＝４６０ｎｍ、５４５ｎｍ、６１０ｎｍ：可視光線）における透過率を測定し、紫外線吸収能（ＵＶ−Ａ吸収能）および可視光透明性の評価を実施した。
尚、測定はガラス基材にマトリックス層を施した試験片（紫外線吸収剤は含まず、マトリックスの種類は測定対象試料と同じものをそれぞれ使用し、同条件で試験片を作製）を別途作製し、これをブランクとして用いてバックグラウンド補正を行った。すなわち、以下の表に示す透過率の値は、膜自体の透過性能は反映しておらず、専ら紫外線吸収剤に由来するものと見なすことができる。
【０１７２】
（２）耐光性試験
（１）の手順により実施例７〜１８および比較例１〜２で得られた紫外線吸収部材Ａ〜Ｎについて透過率を測定した後、キセノンウェザーメーター（スガ試験機株式会社製、型番：Ｘ２５）を用いて、これら紫外線吸収部材Ａ〜Ｎに放射強度６０Ｗ／ｍ２（３００〜４００ｎｍ域における積算）の光を１０００時間照射した。このとき、紫外線吸収部材Ａ〜Ｎのソーダライムガラス基材側からではなく、コーティング層側から光を照射した。すなわちこれは、ソーダライムガラスは短波長域の紫外線を吸収する性質があるので、紫外線吸収部材Ａ〜Ｎのソーダライムガラス基材側からではなくコーティング層側から光を照射することにより、光源から放射された光を、コーティング層中の紫外線吸収剤に直接照射し、紫外線吸収剤にとってより過酷な条件とすることを意図したものである。光照射後の紫外線吸収部材Ａ〜Ｎについて、それぞれ透過率を測定し、光照射による紫外線吸収能の変化を評価した。
以下の表３に結果を示す。
尚、表中のΔ％Ｔは光照射後の透過率から光照射前の透過率を差し引きした値を示す。
【０１７３】
【表３】
【０１７４】
実施例７〜１２および実施例１７〜１８は、紫外線吸収剤として式（１）で表される金属錯体を微粒子として分散系で使用した系である。これらの分散系の紫外線吸収部材Ａ〜Ｆ、Ｋ、Ｌは、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽し、且つ光照射による透過率の変化も小さく、優れた耐光性を示すことが確認された。
【０１７５】
また、実施例１３〜１６は、紫外線吸収剤として式（１）で表される金属錯体を溶解系で使用した系である。これらの溶解系の紫外線吸収部材Ｇ〜Ｊは、前記の分散系に比べると全体的に耐光性は若干劣るものの、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽し、可視域においては優れた透明性を示すことが確認された。
【０１７６】
比較例１は、無機系紫外線吸収剤として従来公知の酸化亜鉛微粒子（ハクスイテック株式会社製、製品名：パゼットＧＫ−ＩＰＡ分散体）を使用した系で、比較例２は有機系紫外線吸収剤として従来公知のトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製、製品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６）を使用した系である。酸化亜鉛微粒子を使用した系では耐光性は非常に良好であるものの、ＵＶ−Ａを十分に遮蔽することはできず、またトリアゾール系紫外線吸収剤を使用した系でもＵＶ−Ａを十分に遮蔽することはできず、さらに耐光性も不良であることが確認された。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
（式中、ＸおよびＹはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ２は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）で表される金属錯体。
【請求項２】
式（１）において、Ｍで示される金属原子が銅、コバルトまたはニッケルである請求項１に記載の金属錯体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物。
【請求項４】
溶媒を含むか、あるいは溶媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が溶媒を兼ねる溶液形態である請求項３に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【請求項５】
分散媒を含むか、あるいは分散媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が分散媒を兼ね、該金属錯体の微粒子が分散した分散液形態である請求項３に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれか１項に記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
【請求項７】
基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜を有する積層体としての紫外線吸収部材である請求項６に記載の紫外線吸収部材。
【請求項８】
該金属錯体がマトリックス材料の膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材である請求項６に記載の紫外線吸収部材。
【請求項１】
式（１）：
【化１】
（式中、ＸおよびＹはそれぞれ互いに独立して酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ２は、存在しないか、あるいは存在する場合は、１つのベンゼン環の６個の炭素原子のうち５員環と共有された２個の炭素原子を除いた４個の炭素原子に結合する４個の水素原子のうち１ないし４個を置換することができ、ベンゼン環の水素原子を置換した置換基はそれぞれ互いに独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基であり、Ｍは金属原子を示す。）で表される金属錯体。
【請求項２】
式（１）において、Ｍで示される金属原子が銅、コバルトまたはニッケルである請求項１に記載の金属錯体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の少なくとも１種類の金属錯体と、少なくとも１種類のマトリックス材料および/またはマトリックス材料の前駆体としての重合性モノマーとを含む紫外線吸収部材用組成物。
【請求項４】
溶媒を含むか、あるいは溶媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が溶媒を兼ねる溶液形態である請求項３に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【請求項５】
分散媒を含むか、あるいは分散媒を含むことなくマトリックス材料の前駆体が分散媒を兼ね、該金属錯体の微粒子が分散した分散液形態である請求項３に記載の紫外線吸収部材用組成物。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれか１項に記載の紫外線吸収部材用組成物を用いて作製される紫外線吸収部材。
【請求項７】
基材上に該金属錯体を含有するマトリックス材料の膜を有する積層体としての紫外線吸収部材である請求項６に記載の紫外線吸収部材。
【請求項８】
該金属錯体がマトリックス材料の膜中に含有された薄膜形態の紫外線吸収部材である請求項６に記載の紫外線吸収部材。
【公開番号】特開２０１３−２３４６１（Ｐ２０１３−２３４６１Ａ）
【公開日】平成２５年２月４日（２０１３．２．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１５８５８９（Ｐ２０１１−１５８５８９）
【出願日】平成２３年７月２０日（２０１１．７．２０）
【出願人】（０００１９５６６１）住友精化株式会社 (352)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月４日（２０１３．２．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月２０日（２０１１．７．２０）
【出願人】（０００１９５６６１）住友精化株式会社 (352)
【Ｆターム（参考）】
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