防汚性物品および防汚性物品の製造方法
【課題】有効成分の脱落による防汚性低下の可能性が低く、優れた防汚性を有する防汚性物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の防汚性物品は、表面に下記式（１）で示される有機基を有することを特徴とする。
【化１】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。）
本発明の防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。
【解決手段】本発明の防汚性物品は、表面に下記式（１）で示される有機基を有することを特徴とする。
【化１】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。）
本発明の防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面に防汚性が付与された繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシート等の防汚性物品およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、物品の表面に防汚性を発揮する物質を塗布して、様々な物品に対し防汚性を付与するための技術が種々提案されている。
例えば、酸化チタンが樹脂バインダで固定されてなる繊維布帛が提案されている（特許文献１）。この繊維布帛は、酸化チタンの光触媒作用により高い防汚効果が得られるものである。また、特許文献２にはアルキルシリケートと光触媒とを含有するコーティング剤が示されている。特許文献３には疎水性樹脂と光触媒とを混合して含むコーティング剤とその部材が示され、これらの塗布部材には汚れが付着し難い性質があることが記されている。
【特許文献１】特開平８−７４１７１号公報
【特許文献２】特開平１１−７６９２３号公報
【特許文献３】特開２００１−８８２４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、特許文献１ないし３の技術はいずれも、各種の物品の表面に、光触媒を樹脂バインダで固定するものであるため、樹脂バインダが物品から物理的に脱落すると、有効成分である光触媒も同時に失われ、防汚効果が低下する。
【０００４】
そこで、本発明の目的は、上述のような欠点がなく、優れた防汚性を有する防汚性物品およびその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の防汚性物品は、表面に下記式（１）で示される有機基を有することを特徴とする。
【０００６】
【化１】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。）
【０００７】
本発明の防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。また、表面に式（１）で示される有機基を有する物品は特に湿潤条件下で高い耐摩耗性を示す。
また、本発明の防汚性物品は、その表面に防汚性を発揮する有機基が化学的に結合しており、従来のように有効成分を樹脂バインダで固定するものではないので、有効成分が物理的に脱落することがなく、防汚性が低下しにくい。
【０００８】
本発明の防汚性物品において、前記有機基中のｍは、０、１および２のいずれかであることが好ましい。
このような構成によれば、有機基中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成することができるので、防汚性物品がより優れた防汚性を示す。
【０００９】
本発明の防汚性物品において、該防汚性物品は、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートのいずれかであることが好ましい。
このような構成によれば、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートが、その表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。
なお、本発明の防汚性物品に適用される物品の材質は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン（ポリアミド）系樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂等の一般に知られている樹脂が挙げられる。
【００１０】
本発明の防汚性物品の製造方法は、下記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を物品の表面に導入する表面処理工程と、下記式（２）で示される化合物と前記表面処理工程で前記物品の表面に導入された前記官能基とを反応させる防汚処理工程と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
【化２】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。Ｍは、水素または一価の金属イオンを示す。）
【００１２】
本発明の防汚性物品の製造方法は、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を物品の表面に導入する表面処理工程と、式（２）で示される化合物と前記物品の表面に導入された前記官能基とを反応させる防汚処理工程と、を有するので、様々な物品の表面に、式（１）で示される有機基を導入することができる。
このような本製造方法により製造された防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。また、本発明の防汚性物品は、その表面に防汚性を発揮する有機基が化学的に結合しており、従来のように有効成分を樹脂バインダで固定するものではないので、有効成分が物理的に脱落することがなく、防汚性が低下しにくい。
【００１３】
本発明の防汚性物品の製造方法において、前記表面処理工程は、前記物品の表面にラジカルを発生させるラジカル発生工程と、前記ラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、前記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させる表面重合工程と、を含むことが好ましい。
このような構成によれば、表面処理工程が、物品の表面にラジカルを発生させるラジカル発生工程と、ラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させる表面重合工程と、を含むので、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を様々な物品の表面に容易に導入することができる。
【００１４】
本発明の防汚性物品の製造方法において、前記ラジカル発生工程は、プラズマ、光、電子線およびガンマ線のいずれかの照射またはオゾン処理によるものであることが好ましい。
このような構成によれば、ラジカル発生工程が、プラズマ、光、電子線およびガンマ線のいずれかの照射またはオゾン処理によるラジカル発生工程によるものであるから、様々な物品の表面に容易にラジカルを発生させることができる。
【００１５】
本発明の防汚性物品の製造方法において、前記重合性化合物は、エポキシ基を有し、前記表面重合工程は、前記含ラジカル物品の表面と前記重合性化合物の前記エポキシ基とを反応させることが好ましい。
このような構成によれば、重合性化合物のエポキシ基が、含ラジカル物品の表面のラジカルと容易に反応するので、表面重合工程において、含ラジカル物品の表面と重合性化合物のエポキシ基とを反応させることで、重合性化合物を効率的にグラフト重合させることができる。これにより、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を、様々な物品の表面に容易に導入することができる。
【００１６】
本発明の防汚性物品の製造方法において、前記重合性化合物は、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルであることが好ましい。
このような構成によれば、メタクリル酸グリシジルおよびアクリル酸グリシジルが、式（２）で示される化合物との反応性を有するので、含ラジカル物品の表面に、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルをグラフト重合させる表面重合工程により、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を、様々な物品の表面に容易に導入することができる。メタクリル酸グリシジルおよびアクリル酸グリシジルは、入手が容易な材料であるから、製造のコストを低く抑えることができる。
【００１７】
本発明の防汚性物品は、上述の防汚性物品の製造方法によって製造される防汚性物品であって、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートのいずれかであることを特徴とする。
本発明によれば、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートが、上述の防汚性物品の製造方法により製造されるので、その表面に式（１）で示される有機基を有しており、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。
なお、本発明の防汚性物品に適用される物品の材質は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン（ポリアミド）系樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂等の一般に知られている樹脂が挙げられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳述する。
本実施形態の防汚性物品は、表面に下記式（１）で示される有機基を有する。
【００１９】
【化３】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。）
ここで、有機基中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成し、より優れたな防汚性が得られることから、有機基中のｍは、０、１および２のいずれかであることが好ましい。特に、ｍ＝１であることが、電荷の分布が小さく、構造が安定であるため、より好ましい。
【００２０】
本実施形態の防汚性物品は、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートのいずれかであることが好ましい。
なお、本実施形態の防汚性物品に適用される物品の材質は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン（ポリアミド）系樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂等の一般に知られている樹脂が挙げられる。
本発明の防汚性物品は、以下のような防汚性物品の製造方法により得ることができる。
【００２１】
［防汚性物品の製造方法］
本実施形態の防汚性物品の製造方法は、下記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を物品の表面に導入する表面処理工程と、下記式（２）で示される化合物と表面処理工程で物品の表面に導入された官能基とを反応させる防汚処理工程と、を備える。
【００２２】
【化４】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。Ｍは、水素または一価の金属イオンを示す。）
【００２３】
（１．表面処理工程）
表面処理工程は、物品の表面にラジカルを発生させるラジカル発生工程と、ラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させる表面重合工程と、を含む。
【００２４】
（１−１．ラジカル発生工程）
ラジカル発生工程は、プラズマ、光、電子線およびガンマ線のいずれかの照射またはオゾン処理により、物品の表面にラジカルを発生させるものである。
例えば、電子線照射により物品の表面にラジカルを発生させる方法を適用することができる。ここで、電子線は物品の表面にラジカルを発生させる強さがあればよいが、２００ｋＧｙを超えると、基材である物品の強度が弱くなるので好ましくない。
このようなラジカル発生工程により、様々な物品の表面に容易にラジカルを発生させることができる。
【００２５】
（１−２．表面重合工程）
表面重合工程は、上述のラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させるものである。
ここで、重合性化合物は、エポキシ基を有するものであり、表面重合工程は、含ラジカル物品の表面と重合性化合物のエポキシ基とを反応させるものである。
重合性化合物のエポキシ基が、含ラジカル物品の表面のラジカルと容易に反応するので、表面重合工程において、含ラジカル物品の表面と重合性化合物のエポキシ基とを反応させることで、重合性化合物を効率的にグラフト重合させることができる。これにより、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を、様々な物品の表面に容易に導入することができる。
【００２６】
表面重合工程に用いる重合性化合物としては、例えば、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルを挙げることができる。メタクリル酸グリシジルおよびアクリル酸グリシジルが、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有するので、含ラジカル物品の表面に、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルをグラフト重合させる表面重合工程により、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を様々な物品の表面に容易に導入することができる。
【００２７】
表面重合工程として、例えば、０〜１００℃のメタクリル酸グリシジルのアルコール溶液に、含ラジカル物品を１分〜２４時間浸漬させる方法が適用できる。ここで、温度が０℃未満では、グラフト重合が進みにくく、１００℃を超えると、基材となる物品に悪影響を与えたり反応の制御が困難になるため好ましくない。また、浸漬時間が１分未満では、十分な量のメタクリル酸グリシジルを含ラジカル物品の表面にグラフト重合させることができず、２４時間を越えると、生産性が低下するため好ましくない。なお、溶液の温度は、５℃〜８０℃であることがより好ましく、２０℃〜 ６０℃であることがさらに好ましい。浸漬時間は、１分〜１２時間であることがより好ましく、１分〜２時間であることがさらに好ましい。
表面重合工程により、基材表面積１ｃｍ２当たり、４．０×１０−７ｇ以上のメタクリル酸グリシジルがグラフト重合されることが好ましい。
なお、反応に関与しなかったメタクリル酸グリシジルは、繰り返し使用して再利用することができる。
【００２８】
（２．防汚処理工程）
防汚処理工程は、式（２）で示される化合物と、表面処理工程で物品の表面に導入された式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基と、を反応させ、防汚性物品を得る工程である。
ここで、防汚性物品の表面に導入される有機基中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成し、より優れた防汚性が得られることから、式（２）中のｍは、０、１および２のいずれかであることが好ましい。特に、ｍ＝１のＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸であることが、電荷の分布が小さく、構造が安定であるため、より好ましい。
【００２９】
防汚処理工程としては、例えば、０〜１００℃のＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸水溶液に、表面処理工程を施した物品を１分〜４８時間浸漬させる方法を用いることができる。ここで、温度が０℃未満では、反応が進みにくく、１００℃を超えると、基材となる物品に悪影響を与えるため好ましくない。また、浸漬時間が１分未満では、十分な量のＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸を表面処理物品の表面と反応させることができず、４８時間を越えると、生産性が低下するため好ましくない。なお、Ｎ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸水溶液の温度は、１０℃〜８０℃であることがより好ましく、２０℃〜８０℃であることがさらに好ましい。浸漬時間は、５分〜３６時間であることがより好ましく、１０分〜２４時間であることがさらに好ましい。
【００３０】
防汚処理工程により、グラフト重合された重合性化合物に対し、０．１〜１００当量のＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸が導入されることが好ましい。ここで、Ｎ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸が０．１当量未満であると、物品の表面に導入される式（１）で示される有機基の量が少なく、十分な防汚性を得ることができず、１００当量を超えると経済的に非効率となるので好ましくない。
なお、反応に関与しなかったＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸は、繰り返し使用して再利用することができる。
このような製造工程により得られた本実施形態の防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するものとなる。
【００３１】
以上説明した本実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。
（１）本実施形態の防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。
（２）本実施形態の防汚性物品は、その表面に防汚性を発揮する有機基が化学的に結合しており、従来のように有効成分を樹脂バインダで固定するものではないので、有効成分が物理的に脱落することがなく、防汚性が低下しにくい。
（３）有機基中のｍが、０、１および２のいずれかであるから、有機基中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成することができるので、防汚性物品がより優れた防汚性を示す。
（４）本実施形態の防汚性物品の製造方法によれば、様々な物品の表面に、式（１）で示される有機基を導入することができ、得られた防汚性物品は優れた防汚性を示す。
【００３２】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、下記式（３）で示されるモノマーを含有するコーティング剤を用いて、防汚性物品に適用される物品の表面にコーティング層を形成することにより、防汚性物品とするものであってもよい。
【００３３】
【化５】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。Ａは、炭素数１〜１０の２価の炭化水素基を示し、骨格に酸素原子を含んでいてもよく、また、アルキル基、アリール基、アルコキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基およびチオニル基のいずれか一つまたは複数を含んでいてもよい。Ｘは、重合性基を示す。）
ここで、式（３）の化合物中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成し、より優れた防汚性が得られることから、式（３）の化合物中のｍは、０、１および２のいずれかであることが好ましい。特に、ｍ＝１であることが、電荷の分布が小さく、構造が安定であるため、より好ましい。
【００３４】
重合性基であるＸは、式（３）の化合物単独あるいは式（３）の化合物と他のモノマーとの重合により、防汚性物品に適用される物品の表面にコーティング層を形成することができるものであればよく、特に限定されないが、例えば、アクロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、エポキシ基、グリシジルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基等を挙げることができる。特に、反応性の高さや得られる重合物の化学的安定性から、Ｘは、メタクリロイルオキシ基またはメタクリロイルアミノ基であることが好ましい。
【００３５】
式（３）の化合物は、例えば、３級アミンを有するカルボン酸をメタクリル酸グリシジル等と反応させる方法、メタクリル酸（ジメチルアミノ）エチルと脱離基を有するカルボン酸を反応させる方法等により容易に得ることができる。
このような製造方法によって形成した防汚性物品は、表面に式（３）の化合物の重合により形成されたコーティング層を有し、このコーティング層が式（１）で示される有機基を有するので、前述の実施形態の防汚性物品と同様の良好な防汚性を得ることができる。
【００３６】
次に、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例の記載内容に何ら制限されるものではない。
［表面処理物品の作製］
ポリエチレン製の多孔性中空糸膜５ｇに、照射線量が２００ｋＧｙとなるように電子線を照射して含ラジカル物品を得た。この含ラジカル物品を、４０℃のメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）のメタノール溶液（５ｖｏｌ％、２００ｍｌ）に２５分間浸漬させ、表面処理を施した物品（以下ＧＭＡ膜とする）を得た。
下記の式（４）により算出したＧＭＡ膜のグラフト率Ｇは１４４％であった。
Ｇ＝ＷＧ／Ｗ０×１００ …（４）
（式中ＷＧは、導入されたメタクリル酸グリシジルの重量を示し、Ｗ０は、浸漬前の多孔性中空糸膜の重量を示す。）
【００３７】
［実施例１］
上述のようにして得られたＧＭＡ膜０．１２０ｇを、６０℃のＮ，Ｎ−ジメチル−アミノブタン酸（ＤＧＡＢＡ）水溶液（０．５Ｍ、１０ｇ）に２４時間浸漬させたのち、重量変化がなくなるまで真空乾燥させ、０．１３９ｇの防汚性物品（以下ＤＧＡＢＡ膜とする）を得た。
［比較例１］
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノブタン酸の代わりにγアミノブタン酸（ＧＡＢＡ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、０．１２８ｇのＧＡＢＡ膜を得た。
【００３８】
［比較例２］
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノブタン酸の代わりにＮ，Ｎ−ジメチル−グリシン（ＤＧｌｙ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、０．１３６ｇのＤＧｌｙ膜を得た。
【００３９】
［比較例３］
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノブタン酸の代わりにグリシン（Ｇｌｙ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、０．１２９ｇのＧｌｙ膜を得た。
【００４０】
［比較例４］
ＧＭＡ膜を、８０℃の硫酸水溶液（０．５Ｍ）に２時間浸漬させ、残存エポキシ基をジオール化した後、ＮａＯＨ水溶液で中和した。水洗後、重量変化がなくなるまで真空乾燥させて、ｄｉｏｌ膜を得た。
［比較例５］
未加工のポリエチレン製多孔性中空糸膜である（ＰＥ膜とする）。
【００４１】
［評価方法］
実施例１および比較例１〜５で得られた各種の膜に、ｐＨ９．０、５０ｍＭの炭酸緩衝液を用いて調整した０．５ｇ／Ｌのリゾチーム溶液を、１０ｍｌ／時の流速で膜の内側から外側に向けて透過させた。透過直後のリゾチーム溶液の濃度が、０．５ｇ／Ｌになるまでリゾチーム溶液の流通を継続し、供給したリゾチームの重量と透過したリゾチームの重量の差から、膜に吸着されたリゾチームの重量（リゾチーム吸着量Ｗａ）を求めた。
【００４２】
次に、リゾチームが吸着した各種の膜に、ｐＨ９．０、５０ｍＭの炭酸緩衝液を１０ｍｌ／時の流速で膜の内側から外側に向けて透過、洗浄した。透過後の炭酸緩衝液にリゾチームが含まれなくなるまで炭酸緩衝液の流通を継続し、透過した全炭酸緩衝液中のリゾチームの重量と、上述の各種の膜へのリゾチーム吸着量Ｗａとの差から、洗浄後に膜に残存するリゾチームの重量（リゾチーム残存量Ｗｌ）を求めた。
下記の式（５）により各種の膜の洗浄率ａを算出した。
ａ＝（Ｗａ−Ｗｌ）／Ｗａ×１００ …（５）
また、下記の式（６）により各種の膜上に吸着したリゾチームの積層数ｂを算出した。
ｂ＝Ｗａ／Ｗｔ …（６）
（式中、Ｗｔは、各種の膜の表面にリゾチームが最密に充填したと仮定した場合の吸着量である理論単層吸着量を示す。）
以上の各種評価の結果を表１に示す。
【００４３】
【表１】
【００４４】
［評価結果］
表１から明らかなように、リゾチーム吸着量の多い比較例１〜５に対し、実施例１のＤＧＡＢＡ膜ではリゾチーム吸着量が少なく、優れた防汚性を示すことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明は、表面に防汚性が付与された繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシート等の防汚性物品およびその製造方法として利用することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面に防汚性が付与された繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシート等の防汚性物品およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、物品の表面に防汚性を発揮する物質を塗布して、様々な物品に対し防汚性を付与するための技術が種々提案されている。
例えば、酸化チタンが樹脂バインダで固定されてなる繊維布帛が提案されている（特許文献１）。この繊維布帛は、酸化チタンの光触媒作用により高い防汚効果が得られるものである。また、特許文献２にはアルキルシリケートと光触媒とを含有するコーティング剤が示されている。特許文献３には疎水性樹脂と光触媒とを混合して含むコーティング剤とその部材が示され、これらの塗布部材には汚れが付着し難い性質があることが記されている。
【特許文献１】特開平８−７４１７１号公報
【特許文献２】特開平１１−７６９２３号公報
【特許文献３】特開２００１−８８２４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、特許文献１ないし３の技術はいずれも、各種の物品の表面に、光触媒を樹脂バインダで固定するものであるため、樹脂バインダが物品から物理的に脱落すると、有効成分である光触媒も同時に失われ、防汚効果が低下する。
【０００４】
そこで、本発明の目的は、上述のような欠点がなく、優れた防汚性を有する防汚性物品およびその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の防汚性物品は、表面に下記式（１）で示される有機基を有することを特徴とする。
【０００６】
【化１】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。）
【０００７】
本発明の防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。また、表面に式（１）で示される有機基を有する物品は特に湿潤条件下で高い耐摩耗性を示す。
また、本発明の防汚性物品は、その表面に防汚性を発揮する有機基が化学的に結合しており、従来のように有効成分を樹脂バインダで固定するものではないので、有効成分が物理的に脱落することがなく、防汚性が低下しにくい。
【０００８】
本発明の防汚性物品において、前記有機基中のｍは、０、１および２のいずれかであることが好ましい。
このような構成によれば、有機基中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成することができるので、防汚性物品がより優れた防汚性を示す。
【０００９】
本発明の防汚性物品において、該防汚性物品は、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートのいずれかであることが好ましい。
このような構成によれば、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートが、その表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。
なお、本発明の防汚性物品に適用される物品の材質は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン（ポリアミド）系樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂等の一般に知られている樹脂が挙げられる。
【００１０】
本発明の防汚性物品の製造方法は、下記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を物品の表面に導入する表面処理工程と、下記式（２）で示される化合物と前記表面処理工程で前記物品の表面に導入された前記官能基とを反応させる防汚処理工程と、を備えることを特徴とする。
【００１１】
【化２】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。Ｍは、水素または一価の金属イオンを示す。）
【００１２】
本発明の防汚性物品の製造方法は、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を物品の表面に導入する表面処理工程と、式（２）で示される化合物と前記物品の表面に導入された前記官能基とを反応させる防汚処理工程と、を有するので、様々な物品の表面に、式（１）で示される有機基を導入することができる。
このような本製造方法により製造された防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。また、本発明の防汚性物品は、その表面に防汚性を発揮する有機基が化学的に結合しており、従来のように有効成分を樹脂バインダで固定するものではないので、有効成分が物理的に脱落することがなく、防汚性が低下しにくい。
【００１３】
本発明の防汚性物品の製造方法において、前記表面処理工程は、前記物品の表面にラジカルを発生させるラジカル発生工程と、前記ラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、前記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させる表面重合工程と、を含むことが好ましい。
このような構成によれば、表面処理工程が、物品の表面にラジカルを発生させるラジカル発生工程と、ラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させる表面重合工程と、を含むので、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を様々な物品の表面に容易に導入することができる。
【００１４】
本発明の防汚性物品の製造方法において、前記ラジカル発生工程は、プラズマ、光、電子線およびガンマ線のいずれかの照射またはオゾン処理によるものであることが好ましい。
このような構成によれば、ラジカル発生工程が、プラズマ、光、電子線およびガンマ線のいずれかの照射またはオゾン処理によるラジカル発生工程によるものであるから、様々な物品の表面に容易にラジカルを発生させることができる。
【００１５】
本発明の防汚性物品の製造方法において、前記重合性化合物は、エポキシ基を有し、前記表面重合工程は、前記含ラジカル物品の表面と前記重合性化合物の前記エポキシ基とを反応させることが好ましい。
このような構成によれば、重合性化合物のエポキシ基が、含ラジカル物品の表面のラジカルと容易に反応するので、表面重合工程において、含ラジカル物品の表面と重合性化合物のエポキシ基とを反応させることで、重合性化合物を効率的にグラフト重合させることができる。これにより、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を、様々な物品の表面に容易に導入することができる。
【００１６】
本発明の防汚性物品の製造方法において、前記重合性化合物は、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルであることが好ましい。
このような構成によれば、メタクリル酸グリシジルおよびアクリル酸グリシジルが、式（２）で示される化合物との反応性を有するので、含ラジカル物品の表面に、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルをグラフト重合させる表面重合工程により、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を、様々な物品の表面に容易に導入することができる。メタクリル酸グリシジルおよびアクリル酸グリシジルは、入手が容易な材料であるから、製造のコストを低く抑えることができる。
【００１７】
本発明の防汚性物品は、上述の防汚性物品の製造方法によって製造される防汚性物品であって、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートのいずれかであることを特徴とする。
本発明によれば、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートが、上述の防汚性物品の製造方法により製造されるので、その表面に式（１）で示される有機基を有しており、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。
なお、本発明の防汚性物品に適用される物品の材質は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン（ポリアミド）系樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂等の一般に知られている樹脂が挙げられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳述する。
本実施形態の防汚性物品は、表面に下記式（１）で示される有機基を有する。
【００１９】
【化３】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。）
ここで、有機基中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成し、より優れたな防汚性が得られることから、有機基中のｍは、０、１および２のいずれかであることが好ましい。特に、ｍ＝１であることが、電荷の分布が小さく、構造が安定であるため、より好ましい。
【００２０】
本実施形態の防汚性物品は、繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシートのいずれかであることが好ましい。
なお、本実施形態の防汚性物品に適用される物品の材質は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン（ポリアミド）系樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂等の一般に知られている樹脂が挙げられる。
本発明の防汚性物品は、以下のような防汚性物品の製造方法により得ることができる。
【００２１】
［防汚性物品の製造方法］
本実施形態の防汚性物品の製造方法は、下記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を物品の表面に導入する表面処理工程と、下記式（２）で示される化合物と表面処理工程で物品の表面に導入された官能基とを反応させる防汚処理工程と、を備える。
【００２２】
【化４】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。Ｍは、水素または一価の金属イオンを示す。）
【００２３】
（１．表面処理工程）
表面処理工程は、物品の表面にラジカルを発生させるラジカル発生工程と、ラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させる表面重合工程と、を含む。
【００２４】
（１−１．ラジカル発生工程）
ラジカル発生工程は、プラズマ、光、電子線およびガンマ線のいずれかの照射またはオゾン処理により、物品の表面にラジカルを発生させるものである。
例えば、電子線照射により物品の表面にラジカルを発生させる方法を適用することができる。ここで、電子線は物品の表面にラジカルを発生させる強さがあればよいが、２００ｋＧｙを超えると、基材である物品の強度が弱くなるので好ましくない。
このようなラジカル発生工程により、様々な物品の表面に容易にラジカルを発生させることができる。
【００２５】
（１−２．表面重合工程）
表面重合工程は、上述のラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させるものである。
ここで、重合性化合物は、エポキシ基を有するものであり、表面重合工程は、含ラジカル物品の表面と重合性化合物のエポキシ基とを反応させるものである。
重合性化合物のエポキシ基が、含ラジカル物品の表面のラジカルと容易に反応するので、表面重合工程において、含ラジカル物品の表面と重合性化合物のエポキシ基とを反応させることで、重合性化合物を効率的にグラフト重合させることができる。これにより、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を、様々な物品の表面に容易に導入することができる。
【００２６】
表面重合工程に用いる重合性化合物としては、例えば、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルを挙げることができる。メタクリル酸グリシジルおよびアクリル酸グリシジルが、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有するので、含ラジカル物品の表面に、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルをグラフト重合させる表面重合工程により、式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を様々な物品の表面に容易に導入することができる。
【００２７】
表面重合工程として、例えば、０〜１００℃のメタクリル酸グリシジルのアルコール溶液に、含ラジカル物品を１分〜２４時間浸漬させる方法が適用できる。ここで、温度が０℃未満では、グラフト重合が進みにくく、１００℃を超えると、基材となる物品に悪影響を与えたり反応の制御が困難になるため好ましくない。また、浸漬時間が１分未満では、十分な量のメタクリル酸グリシジルを含ラジカル物品の表面にグラフト重合させることができず、２４時間を越えると、生産性が低下するため好ましくない。なお、溶液の温度は、５℃〜８０℃であることがより好ましく、２０℃〜 ６０℃であることがさらに好ましい。浸漬時間は、１分〜１２時間であることがより好ましく、１分〜２時間であることがさらに好ましい。
表面重合工程により、基材表面積１ｃｍ２当たり、４．０×１０−７ｇ以上のメタクリル酸グリシジルがグラフト重合されることが好ましい。
なお、反応に関与しなかったメタクリル酸グリシジルは、繰り返し使用して再利用することができる。
【００２８】
（２．防汚処理工程）
防汚処理工程は、式（２）で示される化合物と、表面処理工程で物品の表面に導入された式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基と、を反応させ、防汚性物品を得る工程である。
ここで、防汚性物品の表面に導入される有機基中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成し、より優れた防汚性が得られることから、式（２）中のｍは、０、１および２のいずれかであることが好ましい。特に、ｍ＝１のＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸であることが、電荷の分布が小さく、構造が安定であるため、より好ましい。
【００２９】
防汚処理工程としては、例えば、０〜１００℃のＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸水溶液に、表面処理工程を施した物品を１分〜４８時間浸漬させる方法を用いることができる。ここで、温度が０℃未満では、反応が進みにくく、１００℃を超えると、基材となる物品に悪影響を与えるため好ましくない。また、浸漬時間が１分未満では、十分な量のＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸を表面処理物品の表面と反応させることができず、４８時間を越えると、生産性が低下するため好ましくない。なお、Ｎ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸水溶液の温度は、１０℃〜８０℃であることがより好ましく、２０℃〜８０℃であることがさらに好ましい。浸漬時間は、５分〜３６時間であることがより好ましく、１０分〜２４時間であることがさらに好ましい。
【００３０】
防汚処理工程により、グラフト重合された重合性化合物に対し、０．１〜１００当量のＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸が導入されることが好ましい。ここで、Ｎ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸が０．１当量未満であると、物品の表面に導入される式（１）で示される有機基の量が少なく、十分な防汚性を得ることができず、１００当量を超えると経済的に非効率となるので好ましくない。
なお、反応に関与しなかったＮ，Ｎ−ジメチル−γ−アミノブタン酸は、繰り返し使用して再利用することができる。
このような製造工程により得られた本実施形態の防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するものとなる。
【００３１】
以上説明した本実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。
（１）本実施形態の防汚性物品は、表面に式（１）で示される有機基を有するので、タンパク質が吸着安定化しにくく、優れた防汚性を示す。
（２）本実施形態の防汚性物品は、その表面に防汚性を発揮する有機基が化学的に結合しており、従来のように有効成分を樹脂バインダで固定するものではないので、有効成分が物理的に脱落することがなく、防汚性が低下しにくい。
（３）有機基中のｍが、０、１および２のいずれかであるから、有機基中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成することができるので、防汚性物品がより優れた防汚性を示す。
（４）本実施形態の防汚性物品の製造方法によれば、様々な物品の表面に、式（１）で示される有機基を導入することができ、得られた防汚性物品は優れた防汚性を示す。
【００３２】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、下記式（３）で示されるモノマーを含有するコーティング剤を用いて、防汚性物品に適用される物品の表面にコーティング層を形成することにより、防汚性物品とするものであってもよい。
【００３３】
【化５】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。Ａは、炭素数１〜１０の２価の炭化水素基を示し、骨格に酸素原子を含んでいてもよく、また、アルキル基、アリール基、アルコキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基およびチオニル基のいずれか一つまたは複数を含んでいてもよい。Ｘは、重合性基を示す。）
ここで、式（３）の化合物中の両性電解質が安定な５〜７員環を形成し、より優れた防汚性が得られることから、式（３）の化合物中のｍは、０、１および２のいずれかであることが好ましい。特に、ｍ＝１であることが、電荷の分布が小さく、構造が安定であるため、より好ましい。
【００３４】
重合性基であるＸは、式（３）の化合物単独あるいは式（３）の化合物と他のモノマーとの重合により、防汚性物品に適用される物品の表面にコーティング層を形成することができるものであればよく、特に限定されないが、例えば、アクロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、エポキシ基、グリシジルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基等を挙げることができる。特に、反応性の高さや得られる重合物の化学的安定性から、Ｘは、メタクリロイルオキシ基またはメタクリロイルアミノ基であることが好ましい。
【００３５】
式（３）の化合物は、例えば、３級アミンを有するカルボン酸をメタクリル酸グリシジル等と反応させる方法、メタクリル酸（ジメチルアミノ）エチルと脱離基を有するカルボン酸を反応させる方法等により容易に得ることができる。
このような製造方法によって形成した防汚性物品は、表面に式（３）の化合物の重合により形成されたコーティング層を有し、このコーティング層が式（１）で示される有機基を有するので、前述の実施形態の防汚性物品と同様の良好な防汚性を得ることができる。
【００３６】
次に、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例の記載内容に何ら制限されるものではない。
［表面処理物品の作製］
ポリエチレン製の多孔性中空糸膜５ｇに、照射線量が２００ｋＧｙとなるように電子線を照射して含ラジカル物品を得た。この含ラジカル物品を、４０℃のメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）のメタノール溶液（５ｖｏｌ％、２００ｍｌ）に２５分間浸漬させ、表面処理を施した物品（以下ＧＭＡ膜とする）を得た。
下記の式（４）により算出したＧＭＡ膜のグラフト率Ｇは１４４％であった。
Ｇ＝ＷＧ／Ｗ０×１００ …（４）
（式中ＷＧは、導入されたメタクリル酸グリシジルの重量を示し、Ｗ０は、浸漬前の多孔性中空糸膜の重量を示す。）
【００３７】
［実施例１］
上述のようにして得られたＧＭＡ膜０．１２０ｇを、６０℃のＮ，Ｎ−ジメチル−アミノブタン酸（ＤＧＡＢＡ）水溶液（０．５Ｍ、１０ｇ）に２４時間浸漬させたのち、重量変化がなくなるまで真空乾燥させ、０．１３９ｇの防汚性物品（以下ＤＧＡＢＡ膜とする）を得た。
［比較例１］
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノブタン酸の代わりにγアミノブタン酸（ＧＡＢＡ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、０．１２８ｇのＧＡＢＡ膜を得た。
【００３８】
［比較例２］
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノブタン酸の代わりにＮ，Ｎ−ジメチル−グリシン（ＤＧｌｙ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、０．１３６ｇのＤＧｌｙ膜を得た。
【００３９】
［比較例３］
Ｎ，Ｎ−ジメチル−アミノブタン酸の代わりにグリシン（Ｇｌｙ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、０．１２９ｇのＧｌｙ膜を得た。
【００４０】
［比較例４］
ＧＭＡ膜を、８０℃の硫酸水溶液（０．５Ｍ）に２時間浸漬させ、残存エポキシ基をジオール化した後、ＮａＯＨ水溶液で中和した。水洗後、重量変化がなくなるまで真空乾燥させて、ｄｉｏｌ膜を得た。
［比較例５］
未加工のポリエチレン製多孔性中空糸膜である（ＰＥ膜とする）。
【００４１】
［評価方法］
実施例１および比較例１〜５で得られた各種の膜に、ｐＨ９．０、５０ｍＭの炭酸緩衝液を用いて調整した０．５ｇ／Ｌのリゾチーム溶液を、１０ｍｌ／時の流速で膜の内側から外側に向けて透過させた。透過直後のリゾチーム溶液の濃度が、０．５ｇ／Ｌになるまでリゾチーム溶液の流通を継続し、供給したリゾチームの重量と透過したリゾチームの重量の差から、膜に吸着されたリゾチームの重量（リゾチーム吸着量Ｗａ）を求めた。
【００４２】
次に、リゾチームが吸着した各種の膜に、ｐＨ９．０、５０ｍＭの炭酸緩衝液を１０ｍｌ／時の流速で膜の内側から外側に向けて透過、洗浄した。透過後の炭酸緩衝液にリゾチームが含まれなくなるまで炭酸緩衝液の流通を継続し、透過した全炭酸緩衝液中のリゾチームの重量と、上述の各種の膜へのリゾチーム吸着量Ｗａとの差から、洗浄後に膜に残存するリゾチームの重量（リゾチーム残存量Ｗｌ）を求めた。
下記の式（５）により各種の膜の洗浄率ａを算出した。
ａ＝（Ｗａ−Ｗｌ）／Ｗａ×１００ …（５）
また、下記の式（６）により各種の膜上に吸着したリゾチームの積層数ｂを算出した。
ｂ＝Ｗａ／Ｗｔ …（６）
（式中、Ｗｔは、各種の膜の表面にリゾチームが最密に充填したと仮定した場合の吸着量である理論単層吸着量を示す。）
以上の各種評価の結果を表１に示す。
【００４３】
【表１】
【００４４】
［評価結果］
表１から明らかなように、リゾチーム吸着量の多い比較例１〜５に対し、実施例１のＤＧＡＢＡ膜ではリゾチーム吸着量が少なく、優れた防汚性を示すことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明は、表面に防汚性が付与された繊維、繊維布帛（織物、編物、不織布含む）、繊維積層体（合成皮革、塩化ビニルレザー含む）、フィルムおよびシート等の防汚性物品およびその製造方法として利用することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に下記式（１）で示される有機基を有することを特徴とする防汚性物品。
【化１】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。）
【請求項２】
請求項１に記載の防汚性物品において、
前記有機基中のｍは、０、１および２のいずれかであることを特徴とする防汚性物品。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の防汚性物品において、
該防汚性物品は、繊維、繊維布帛、繊維積層体、フィルムおよびシートのいずれかであることを特徴とする防汚性物品。
【請求項４】
下記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を物品の表面に導入する表面処理工程と、
下記式（２）で示される化合物と前記表面処理工程で前記物品の表面に導入された前記官能基とを反応させる防汚処理工程と、を備えることを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【化２】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。Ｍは、水素または一価の金属イオンを示す。）
【請求項５】
請求項４に記載の防汚性物品の製造方法において、
前記表面処理工程は、
前記物品の表面にラジカルを発生させるラジカル発生工程と、
前記ラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、前記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させる表面重合工程と、を含むことを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の防汚性物品の製造方法において
前記ラジカル発生工程は、プラズマ、光、電子線およびガンマ線のいずれかの照射またはオゾン処理によるものであることを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載の防汚性物品の製造方法において、
前記重合性化合物は、エポキシ基を有し、
前記表面重合工程は、前記含ラジカル物品の表面と前記重合性化合物の前記エポキシ基とを反応させることを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【請求項８】
請求項５ないし請求項７のいずれかに記載の防汚性物品の製造方法において、
前記重合性化合物は、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルであることを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【請求項９】
請求項４ないし請求項８のいずれかに記載の防汚性物品の製造方法によって製造される防汚性物品であって、
繊維、繊維布帛、繊維積層体、フィルムおよびシートのいずれかであることを特徴とする防汚性物品。
【請求項１】
表面に下記式（１）で示される有機基を有することを特徴とする防汚性物品。
【化１】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。）
【請求項２】
請求項１に記載の防汚性物品において、
前記有機基中のｍは、０、１および２のいずれかであることを特徴とする防汚性物品。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の防汚性物品において、
該防汚性物品は、繊維、繊維布帛、繊維積層体、フィルムおよびシートのいずれかであることを特徴とする防汚性物品。
【請求項４】
下記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を物品の表面に導入する表面処理工程と、
下記式（２）で示される化合物と前記表面処理工程で前記物品の表面に導入された前記官能基とを反応させる防汚処理工程と、を備えることを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【化２】
（式中Ｒ１、Ｒ２は、炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは０〜４の整数を示す。Ｍは、水素または一価の金属イオンを示す。）
【請求項５】
請求項４に記載の防汚性物品の製造方法において、
前記表面処理工程は、
前記物品の表面にラジカルを発生させるラジカル発生工程と、
前記ラジカル発生工程により得られた含ラジカル物品の表面に、前記式（２）で示される化合物と化学的に反応し得る官能基を有する重合性化合物をグラフト重合させる表面重合工程と、を含むことを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の防汚性物品の製造方法において
前記ラジカル発生工程は、プラズマ、光、電子線およびガンマ線のいずれかの照射またはオゾン処理によるものであることを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載の防汚性物品の製造方法において、
前記重合性化合物は、エポキシ基を有し、
前記表面重合工程は、前記含ラジカル物品の表面と前記重合性化合物の前記エポキシ基とを反応させることを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【請求項８】
請求項５ないし請求項７のいずれかに記載の防汚性物品の製造方法において、
前記重合性化合物は、メタクリル酸グリシジルまたはアクリル酸グリシジルであることを特徴とする防汚性物品の製造方法。
【請求項９】
請求項４ないし請求項８のいずれかに記載の防汚性物品の製造方法によって製造される防汚性物品であって、
繊維、繊維布帛、繊維積層体、フィルムおよびシートのいずれかであることを特徴とする防汚性物品。
【公開番号】特開２００８−１１５２０４（Ｐ２００８−１１５２０４Ａ）
【公開日】平成２０年５月２２日（２００８．５．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２９６９２６（Ｐ２００６−２９６９２６）
【出願日】平成１８年１０月３１日（２００６．１０．３１）
【出願人】（３０４０２１８３１）国立大学法人 千葉大学 (601)
【出願人】（５００２４２３８４）出光テクノファイン株式会社 (55)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年５月２２日（２００８．５．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月３１日（２００６．１０．３１）
【出願人】（３０４０２１８３１）国立大学法人 千葉大学 (601)
【出願人】（５００２４２３８４）出光テクノファイン株式会社 (55)
【Ｆターム（参考）】
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