防眩性積層体
【課題】
従来の薄いフィルム状の形状を大幅に変えることなく、防眩性、シンチレーション防止性、透過画像鮮明度、さらには、高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、フィルム製造・加工時の作業性および安全性の向上した防眩フィルム、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】
粒子を分散させた樹脂塗料を、透明基材フィルム上に塗布して、防眩フィルムを形成する点は従来と共通するが、特定の透明基材フィルムとして、ラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルム上に、バインダーと微粒子を含み、バインダーと微粒子の屈折率差を０．３以下とした塗料を、基材フィルム上に塗布・乾燥させ防眩層を形成し、その防眩層表面より０．１−０．３μｍ微粒子が突出していることを特徴とすることで、優れた防眩性を実現し、かつ、コントラスト改善、透過鮮明度向上、文字ボケの軽減、表示体を黒表示にした状態での優れた漆黒感（墨色の黒さの度合い）、高い耐候性、高表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性・安全性を向上させた防眩フィルムが得られる。
従来の薄いフィルム状の形状を大幅に変えることなく、防眩性、シンチレーション防止性、透過画像鮮明度、さらには、高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、フィルム製造・加工時の作業性および安全性の向上した防眩フィルム、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】
粒子を分散させた樹脂塗料を、透明基材フィルム上に塗布して、防眩フィルムを形成する点は従来と共通するが、特定の透明基材フィルムとして、ラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルム上に、バインダーと微粒子を含み、バインダーと微粒子の屈折率差を０．３以下とした塗料を、基材フィルム上に塗布・乾燥させ防眩層を形成し、その防眩層表面より０．１−０．３μｍ微粒子が突出していることを特徴とすることで、優れた防眩性を実現し、かつ、コントラスト改善、透過鮮明度向上、文字ボケの軽減、表示体を黒表示にした状態での優れた漆黒感（墨色の黒さの度合い）、高い耐候性、高表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性・安全性を向上させた防眩フィルムが得られる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）パネルなどの高精細画像用ディスプレイ表示装置の表面に設ける防眩性積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）パネルなどの高精細画像用ディスプレイや赤外線センサー、光導波路等の進歩に伴い、光学用透明高分子材料、特に面状（フィルム状やシート状など） の光学用透明高分子材料、つまり光学フィルムに対する要請が高まっている。
特に、ディスプレイ分野で使用される光学フィルムには、高い透明性、高い光学等方性に加えて、低い光学弾性率、耐熱性、高い機械的強度が高まっている。
このような光学フィルムの使用例としては、例えば、特許文献１および２に開示されるように、光学フィルムの表面に、二酸化ケイ素（シリカ）等のフィラーを含む樹脂を塗工して形成した防眩フィルムがある。
これらの防眩フィルムは、凝集性シリカ等の粒子の凝集によって防眩層の表面に凹凸形状を形成するタイプ、塗膜の膜厚以上の粒径を有する有機フィラーを樹脂中に添加して層表面に凹凸形状を形成するタイプ、あるいは層表面に凹凸をもったフィルムをラミネートして凹凸形状を転写するタイプがある。
特許文献３では、防眩フィルムの防眩性を低下させることなく、シンチレーション防止性、透過画像鮮明度を高めるべく、表面凹凸構造を制御するために、粒子径と屈折率のことなる２種類の微粒子を用いて検討されている。
特許文献４では、基材フィルムにラクトン環含有樹脂を使用し、防眩フィルムの耐候性と表面硬度を向上させている。しかし、防眩性については不十分であった。
さらには、フィルム取り扱いの作業性、安全性を考慮すると、防眩フィルム製造・加工の際に発生する静電気を発生しにくくするために、フィルム自身の表面電位を小さく抑え、帯電させにくくすることが要求される。
しかし、上記のすべての特性を十分に満足するものは、従来の防眩フィルムになかった
【特許文献１】特開平６−１８７０６
【特許文献２】特開平１０−２０１０３
【特許文献３】特開２０００−１２１８０９
【特許文献４】特開２００７−２９３２７２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記のような従来の防眩フィルムは、いずれのタイプでも、防眩層の表面形状の作用により、光拡散・防眩作用を得るようにしていて、防眩性を高めるためには前記凹凸形状を大きくする必要があるが、凹凸が大きくなると、塗膜の曇価（ヘイズ値）が上昇し、これに伴い透過鮮明度が低下するという問題点がある。
更に又、上記従来のタイプの防眩フィルムは、フィルム表面に、いわゆる面ぎら（シンチレーション）と呼ばれるキラキラ光る輝きが発生し、表示画面の視認性が低下するという問題がある。
上記問題点を解決するため、発明者らは、拡散・防眩性を低下させることなく、透過鮮明性を向上し、且つシンチレーションを低下させることができるようにした防眩フィルムの開発を行ない、特願平１０−１２５４９４号として出願している。しかしながら、拡散・防眩性と同時に反射防止性を兼ね備えるものではなかった。
反射防止性を持たせる方法としては、ガラスやプラスチック表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ2 等の極薄膜や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その上に蒸着によりＳｉＯ2 、ＭｇＦ2 の膜を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜を形成する方法が知られている。
しかしながら、防眩フィルムにおいては、その表面凹凸形状の作用により、光拡散・防眩作用を得るようにしているため、表面に上述のような塗膜加工を施すことができず、拡散・防眩性と同時に反射防止性を持たせられないという問題点があった。
さらに、既存のフィルムを用いた場合には、耐候性、表面硬度、フィルム製造・加工時の作業性および安全性が不十分となる問題がある。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、拡散・防眩性を低下させることなく、透過鮮明性を向上し、シンチレーションを低下させることができるようにし、且つ、反射防止性をもたせ、さらには、高い耐候性、表面硬度を有し、フィルム製造・加工時の作業性および安全性を向上させた防眩フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、請求項１、２のように、少なくとも透明基材フィルムと、バインダー中に第１の微粒子と第２の微粒子とを含む防眩層と、を積層してなり、前期透明基材フィルムが、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルムであり、前記第１の微粒子は、粒径が０．５〜２．０であり、且つ、前記バインダーとの屈折率の差が０．０４〜０．２０であり、前記第２の微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下であり、且つ、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出してなること特徴とする防眩フィルムにより、上記目的を達成するものである。
【０００５】
【化２】
[式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す；なお、該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい]
請求項３のように、前記第１の微粒子及び前記第２の微粒子が、単分散有機微粒子であってもよい。
【０００６】
又、請求項４のように、前記バインダーは、電離放射線硬化型樹脂としてもよい。
【０００７】
更に、透過型表示装置の発明は、請求項５のように、平面状の透光性表示体と、この透光性表示体を背面から照射する光源装置と、前記透光性表示体の表面に積層された上記のような防眩フィルムと、を有してなる透過型表示装置を構成し、上記の目的を達成するものである。
【発明を実施するため最良の形態】
【０００８】
以下、本発明について詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更実施し得る。
【０００９】
本発明の実施の形態の例に係る防眩フィルムは、透明基材フィルムと、バインダー中に第１の微粒子及び第２の微粒子とを含む防眩層と、を積層してなり、第１の微粒子は、粒径が０．５〜２．０μｍであり、且つ、前記バインダーとの屈折率の差が０．０４〜０．２０であり、第２の微粒子は、バインダーとの屈折率の差が０．３以下である。且つ、前記第２の微粒子は、前記防眩層の表面より突出してなる。
【００１０】
前記透明基材フィルムは、ラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルムである。
【００１１】
前記第２の微粒子は、前記防眩層の表面よりｄだけ突出しており、ｄの値は前述のように０．１〜０．３μｍである。また、第１の微粒子は、防眩層全体に含有され、一部の第１の微粒子は防眩層の表面より突出している。
【００１２】
上記防眩フィルムの構成において、第１の微粒子は主に拡散・シンチレーション防止に寄与し、第２の微粒子は主に防眩性、反射防止性に寄与している。
【００１３】
前記バインダーは、透明基材フィルムへ塗布後に硬化することができ、例えば紫外線硬化型樹脂（屈折率１．５３）からなり、前記第１の微粒子は、バインダー、例えばスチレンビーズ（屈折率１．６０）から構成され、前記第２の微粒子は、バインダー、例えばアクリルビーズ（屈折率１．４９）から構成されている。
【００１４】
前記第１の微粒子とバインダーとの屈折率の差を０．０４以上としたのは、防眩性の関点からは、屈折率差が０．０４未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、光拡散効果を得られず、又屈折率差が０．２よりも大きい場合は、光拡散性が高すぎて、フィルム全体が白化してしまうからである。なお、前記屈折率差は、０．０４以上、０．１以下が最も良い。前記屈折率差は、後述するように、反射防止性の関点からも好ましい。
【００１５】
前記第１の微粒子の粒径を０．５μｍ以上としたのは、０．５μｍ未満の場合、バインダーに添加すべき第１の微粒子の添加量を非常に大きくしないと光拡散効果が得られないからである。又、第１の微粒子の粒径を２．０μｍ以下としたのは、粒径が２．０μｍを超えるときは、防眩層の表面形状が粗くなり、ヘイズ値が高くなってしまうからである。なお、理想的には、第１の微粒子の直径は１μｍ以上、２μｍ以下である。
【００１６】
上記のようにすると、フィラーである第１の微粒子とバインダーとの僅かな屈折率差により、フィルム全体が白化したりすることなく、高い透過鮮明度を維持した状態で、拡散効果により防眩フィルム内を透過する光を平均化することができる。
このため、フィルムの曇価が高い場合でも、透過鮮明度を低下させることなく、表面のぎらつきを防止することができ、又、曇価が低い場合（ヘイズ値２０以下）でも、更に高い透過鮮明度を維持した状態で面のぎらつき（シンチレーション）を防止することができる。
【００１７】
前記第２の微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下であり、且つ、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出して形成したのは、その理由は明らかではないが、突出部分に光学的干渉が起こる厚さとするためである。
【００１８】
例えば、反射防止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％透過するための条件は、入射光が薄膜に垂直に入射する場合、特定の波長をλ0とし、この波長に対する反射防止層の屈折率をｎ0、反射防止膜の厚みをｈ、及び基板の屈折率をｎｇとすると、次の（１）式及び（２）式の関係を満たすことが必要であることが知られている（サイエンスライブラリ物理学＝９「光学」７０〜７２頁、昭和５５年、株式会社サイエンス社発行）。
【００１９】
n0
n0＝√ｎｇ …（１）
n0ｈ＝λ0／４ …（２）
即ち、屈折率が１より大きい場合は、必ずｎｇ＞ｎ0となる。従って、防眩層の表面に反射防止層を形成すると仮定すると、反射防止層の屈折率ｎ0を、防眩層の屈折率ｎｇよりも小さくしなければならない。
【００２０】
又、例えば屈折率ｎ0＝１．４９の材料を反射防止層に用いた場合、入射光の波長λ0＝５５０ｎｍとしたとき、前記（２）式から、反射防止膜の厚さｈは約０．１μｍが最適であると計算される。
【００２１】
本発明においては、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下である前記第２の微粒子を、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出して形成しており、防眩層よりも屈折率の低い膜が防眩層表面に適当な膜厚にて形成された状態が擬似的に構成され、結果として突出部分に光学的干渉が生じ、簡易的な反射防止効果を発現させることができる。
【００２２】
前記第２の微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３より大きかったり、前記防眩層の表面よりの突出が０．１μｍ未満であったり、突出が０．３μｍよりも大きい場合には、光学的干渉効果が低下し、十分な反射防止性が得られない。
【００２３】
また、前記第２の微粒子が前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出して形成されていることにより、表面に微細な凹凸が形成されることとなり、従来から知られている防眩作用を生じる。
【００２４】
≪ラクトン環含有樹脂フィルム≫
前記ラクトン環含有樹脂フィルムは、ラクトン環含有重合体を主成分として含む。
【００２５】
ラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００２６】
【化３】
【００２７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。）
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が５質量％未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。一方、ラクトン環構造の含有割合が９０質量％を超えると、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。
【００２８】
ラクトン環含有重合体は、一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造を有していてもよい。一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体の製造方法として後述するような、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記一般式（２）で表される単量体とからなる群より選択される少なくとも１種の単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【００２９】
【化４】
【００３０】
（式中、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ５基、または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ５およびＲ６は水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、（メタ）アクリル酸エステルを重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％であり、ヒドロキシ基含有単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。また、不飽和カルボン酸を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。さらに、一般式（２）で表される単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００３１】
ラクトン環含有重合体の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、重合工程によって分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）を得た後、得られた重合体（ａ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。
【００３２】
重合工程においては、下記一般式（３）で表される単量体を含む単量体成分の重合反応を行うことにより、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体が得られる。
【００３３】
【化５】
【００３４】
（式中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
一般式（３）で表される単量体としては、例えば、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｎ−ブチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｔ−ブチル、メタリルアルコールなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３５】
これらの単量体のうち、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性を向上させる効果が高い点において、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルが特に好ましい。
【００３６】
重合工程において供する単量体成分中における一般式（３）で表される単量体の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。一般式（３）で表される単量体の含有割合が５質量％未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。一方、一般式（３）で示される単量体の含有割合が９０質量％を超えると、重合工程やラクトン環化縮合工程においてゲル化が起こることや、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。
【００３７】
重合工程において供する単量体成分には、一般式（３）で示される単量体以外の単量体を含んでいてもよい。このような単量体としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、および、下記一般式（２）で表される単量体などが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３８】
【化６】
【００３９】
（式中、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ５基、または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ５およびＲ６は水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
（メタ）アクリル酸エステルとしては、一般式（３）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルである限り、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸エステルは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの（メタ）アクリル酸エステルのうち、得られた重合体の耐熱性や透明性が優れることから、メタクリル酸メチルが特に好ましい。
【００４０】
一般式（３）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％である。
【００４１】
ヒドロキシ基含有単量体としては、一般式（３）で表される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体である限り、特に限定されるものではないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられる。これらのヒドロキシ基含有単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４２】
一般式（３）で表される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００４３】
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられる。これらの不飽和カルボン酸は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不飽和カルボン酸のうち、本発明の効果が充分に発揮されることから、アクリル酸、メタクリル酸が特に好ましい。
【００４４】
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００４５】
一般式（２）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、本発明の効果を充分に発揮することから、スチレン、α−メチルスチレンが特に好ましい。
【００４６】
一般式（２）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００４７】
単量体成分を重合して分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体を得るための重合反応の形態としては、溶剤を用いた重合形態であることが好ましく、溶液重合が特に好ましい。
【００４８】
重合温度や重合時間は、使用する単量体の種類や割合などに応じて異なるが、例えば、好ましくは、重合温度が０〜１５０℃、重合時間が０．５〜２０時間であり、より好ましくは、重合温度が８０〜１４０℃、重合時間が１〜１０時間である。
【００４９】
溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。また、溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるラクトン環含有重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が５０〜２００℃である溶剤が好ましい。
【００５０】
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。
【００５１】
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。なお、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が低すぎると生産性が低下するので、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上である。
【００５２】
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより充分に抑止することができ、特に、ラクトン環含有割合を増やして耐熱性を向上させるために分子鎖中のヒドロキシ基とエステル基との割合を高めた場合であっても、ゲル化を充分に抑止することができる。添加する重合溶剤としては、例えば、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの単一溶剤であっても２種以上の混合溶剤であってもよい。
【００５３】
以上の重合工程を終了した時点で得られる重合反応混合物中には、通常、得られた重合体以外に溶剤が含まれているが、溶剤を完全に除去して重合体を固体状態で取り出す必要はなく、溶剤を含んだ状態で、続くラクトン環化縮合工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続くラクトン環化縮合工程に好適な溶剤を再添加してもよい。
【００５４】
重合工程で得られた重合体は、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）であり、重合体（ａ）の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。重合工程で得られた重合体（ａ）は、続くラクトン環化縮合工程において、加熱処理されることによりラクトン環構造が重合体に導入され、ラクトン環含有重合体となる。
【００５５】
重合体（ａ）へラクトン環構造を導入するための反応は、加熱により、重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とが環化縮合してラクトン環構造を生じる反応であり、その環化縮合によってアルコールが副生する。ラクトン環構造が重合体の分子鎖中（重合体の主骨格中）に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。ラクトン環構造を導く環化縮合反応の反応率が不充分であると、耐熱性が充分に向上しないことや、成形時の加熱処理によって成形途中に縮合反応が起こり、生じたアルコールが成形品中に泡やシルバーストリークとなって存在することがある。
【００５６】
ラクトン環化縮合工程において得られるラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００５７】
【化７】
【００５８】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。）
重合体（ａ）を加熱処理する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を利用できる。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。あるいは、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。あるいは、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を備えた加熱炉や反応装置、脱揮装置を備えた押出機などを用いて加熱処理を行うこともできる。
【００５９】
環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。また、環化縮合反応を行う際には、必要に応じて、環化縮合反応の触媒として一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機カルボン酸類；有機リン化合物を触媒として用いてもよい。さらに、例えば、特開昭６１−２５４６０８号公報や特開昭６１−２６１３０３号公報に開示されているように、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。
【００６０】
これらの環化縮合反応の触媒の中でも、環化縮合反応率を向上させることができるとともに、得られるラクトン環含有重合体の着色を大幅に低減できることから、有機リン化合物が好ましい。さらに、有機リン化合物を環化縮合反応の触媒として用いることにより、後述の脱揮工程を併用する場合において起こり得る分子量低下を抑制することができ、優れた機械的強度を付与することができる。
【００６１】
環化縮合反応の際に触媒として用いることができる有機リン化合物としては、例えば、メチル亜ホスホン酸、エチル亜ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸等のアルキル（アリール）亜ホスホン酸（但し、これらは、互変異性体であるアルキル（アリール）ホスフィン酸になっていてもよい）およびこれらのモノエステルまたはジエステル；ジメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、フェニルメチルホスフィン酸、フェニルエチルホスフィン酸等のジアルキル（アリール）ホスフィン酸およびこれらのエステル；メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、トリフルオロメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸等のアルキル（アリール）ホスホン酸およびこれらのモノエステルまたはジエステル；メチル亜ホスフィン酸、エチル亜ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸等のアルキル（アリール）亜ホスフィン酸およびこれらのエステル；亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル等の亜リン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸イソデシル、リン酸ラウリル、リン酸ステアリル、リン酸イソステアリル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジ−２−エチルヘキシル、リン酸ジイソデシル、リン酸ジラウリル、リン酸ジステアリル、リン酸ジイソステアリル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリイソデシル、リン酸トリラウリル、リン酸トリステアリル、リン酸トリイソステアリル、リン酸トリフェニル等のリン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；メチルホスフィン、エチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のモノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、ジメチルクロロホスフィン、ジエチルクロロホスフィン、ジフェニルクロロホスフィン等のアルキル（アリール）ハロゲンホスフィン；酸化メチルホスフィン、酸化エチルホスフィン、酸化フェニルホスフィン、酸化ジメチルホスフィン、酸化ジエチルホスフィン、酸化ジフェニルホスフィン、酸化トリメチルホスフィン、酸化トリエチルホスフィン、酸化トリフェニルホスフィン等の酸化モノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウム等のハロゲン化テトラアルキル（アリール）ホスホニウム；などが挙げられる。これらの有機リン化合物は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機リン化合物のうち、触媒活性が高くて着色性が低いことから、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステル、アルキル（アリール）ホスホン酸が好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステルがより好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、リン酸モノエステルまたはジエステルが特に好ましい。
【００６２】
環化縮合反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。触媒の使用量が０．００１質量％未満であると、環化縮合反応の反応率が充分に向上しないことがある。一方、触媒の使用量が５質量％を超えると、得られた重合体が着色することや、重合体が架橋して、溶融成形が困難になることがある。
【００６３】
触媒の添加時期は、特に限定されるものではなく、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。
【００６４】
環化縮合反応を溶剤の存在下で行い、且つ、環化縮合反応の際に、脱揮工程を併用することが好ましい。この場合、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態、および、脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに過程の一部においてのみ併用する形態が挙げられる。脱揮工程を併用する方法では、縮合環化反応で副生するアルコールを強制的に脱揮させて除去するので、反応の平衡が生成側に有利となる。
【００６５】
脱揮工程とは、溶剤、残存単量体などの揮発分と、ラクトン環構造を導く環化縮合反応により副生したアルコールを、必要に応じて減圧加熱条件下で、除去処理する工程をいう。この除去処理が不充分であると、得られた重合体中の残存揮発分が多くなり、成形時の変質などにより着色することや、泡やシルバーストリークなどの成形不良が起こることがある。
【００６６】
環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、用いる装置については、特に限定されるものではないが、例えば、本発明をより効果的に行うために、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置やベント付き押出機、また、脱揮装置と押出機を直列に配置したものを用いることが好ましく、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置またはベント付き押出機を用いることがより好ましい。
【００６７】
熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度が１５０℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。一方、反応処理温度が３５０℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。
【００６８】
熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８〜６６．５ｈＰａ（６００〜５０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力が９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。一方、反応処理圧力が１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）未満であると、工業的な実施が困難になることがある。
【００６９】
前記ベント付き押出機を用いる場合、ベントは１個でも複数個でもいずれでもよいが、複数個のベントを有する方が好ましい。
【００７０】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度が１５０℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。一方、反応処理温度が３５０℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。
【００７１】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８〜１３．３ｈＰａ（６００〜１０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力が９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。一方、反応処理圧力が１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）未満であると、工業的な実施が困難になることがある。
【００７２】
なお、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、後述するように、厳しい熱処理条件では得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがあるので、前述した脱アルコール反応の触媒を用い、できるだけ温和な条件で、ベント付き押出機などを用いて行うことが好ましい。
【００７３】
また、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、好ましくは、重合工程で得られた重合体（ａ）を溶剤と共に環化縮合反応装置に導入するが、この場合、必要に応じて、もう一度ベント付き押出機などの環化縮合反応装置に通してもよい。
【００７４】
脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに、過程の一部においてのみ併用する形態を行ってもよい。例えば、重合体（ａ）を製造した装置を、さらに加熱し、必要に応じて脱揮工程を一部併用して、環化縮合反応を予めある程度進行させておき、その後に引き続いて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行い、反応を完結させる形態である。
【００７５】
先に述べた環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態では、例えば、重合体（ａ）を、二軸押出機を用いて、２５０℃付近、あるいはそれ以上の高温で熱処理する時に、熱履歴の違いにより環化縮合反応が起こる前に一部分解などが生じ、得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがある。そこで、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う前に、予め環化縮合反応をある程度進行させておくと、後半の反応条件を緩和でき、得られるラクトン環含有重合体の物性の低下を抑制できるので好ましい。特に好ましい形態としては、例えば、脱揮工程を環化縮合反応の開始から時間をおいて開始する形態、すなわち、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態が挙げられる。具体的には、例えば、予め釜型反応器を用いて溶剤の存在下で環化縮合反応をある程度の反応率まで進行させておき、その後、脱揮装置を備えた反応器、例えば、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置や、ベント付き押出機などで、環化縮合反応を完結させる形態が好ましく挙げられる。特に、この形態の場合、環化縮合反応用の触媒が存在していることがより好ましい。
【００７６】
前述のように、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う方法は、本発明においてラクトン環含有重合体を得る上で好ましい形態である。この形態により、ガラス転移温度がより高く、環化縮合反応率もより高まり、耐熱性に優れたラクトン環含有重合体が得られる。この場合、環化縮合反応率の目安としては、例えば、実施例に示すダイナッミクＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１％以下である。
【００７７】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に採用できる反応器は、特に限定されるものではないが、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置などが挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に好適なベント付き押出機も使用できる。これらの反応器のうち、オートクレーブ、釜型反応器が特に好ましい。しかし、ベント付き押出機などの反応器を用いる場合でも、ベント条件を温和にしたり、ベントをさせなかったり、温度条件やバレル条件、スクリュー形状、スクリュー運転条件などを調整することにより、オートクレーブや釜型反応器での反応状態と同じ様な状態で環化縮合反応を行うことが可能である。
【００７８】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、例えば、重合工程で得られた重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物を、（ｉ）触媒を添加して、加熱反応させる方法、（ｉｉ）無触媒で加熱反応させる方法、および、前記（ｉ）または（ｉｉ）を加圧下で行う方法などが挙げられる。
【００７９】
なお、ラクトン環化縮合工程において環化縮合反応に導入する「重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物」とは、重合工程で得られた重合反応混合物それ自体、あるいは、一旦溶剤を除去した後に環化縮合反応に適した溶剤を再添加して得られた混合物を意味する。
【００８０】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に再添加できる溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；クロロホルム、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。好ましくは、重合工程に用いた溶剤と同じ種類の溶剤である。
【００８１】
前記方法（ｉ）で添加する触媒としては、例えば、一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などが挙げられるが、本発明においては、前述の有機リン化合物を用いることが好ましい。触媒の添加時期は、特に限定されるものではないが、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。触媒の添加量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）の質量に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。方法（ｉ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは室温〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が室温未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。一方、加熱温度１８０℃を超えるか、あるいは、加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。
【００８２】
前記方法（ｉｉ）としては、例えば、耐圧性の釜型反応器などを用いて、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま加熱する方法などが挙げられる。方法（ｉｉ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは１００〜１８０℃、より好ましくは１５０〜１８０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が１００℃未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。逆に、加熱温度が１８０℃を超えるか、あるいは加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。
【００８３】
前記方法（ｉ）、（ｉｉ）のいずれにおいても、条件によっては、加圧下となっても何ら問題はない。
【００８４】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、溶剤の一部が反応中に自然に揮発しても何ら問題ではない。
【００８５】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の終了時、すなわち、脱揮工程開始直前における、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率は、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１％以下である。質量減少率が２％を超えると、続けて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行っても、環化縮合反応率が充分高いレベルまで上がらず、得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがある。なお、上記の環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。
【００８６】
重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態の場合、予め行う環化縮合反応で得られた重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）と溶剤を、そのまま脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入してもよいし、必要に応じて、前記重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）を単離してから溶剤を再添加するなどのその他の処理を経てから脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入しても構わない。
【００８７】
脱揮工程は、環化縮合反応と同時に終了することには限らず、環化縮合反応の終了から時間をおいて終了しても構わない。
【００８８】
ラクトン環含有重合体の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
【００８９】
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。
【００９０】
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成形後の成形品中に泡やシルバーストリークが入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によってラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体が充分に高い耐熱性を有している。
【００９１】
ラクトン環含有重合体は、濃度１５質量％のクロロホルム溶液にした場合、その着色度（ＹＩ）が、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６を超えると、着色により透明性が損なわれ、本来目的とする用途に使用できないことがある。
【００９２】
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、好ましくは３３０℃以上、より好ましくは３５０℃以上、さらに好ましくは３６０℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これが３３０℃未満であると、充分な熱安定性を発揮できないことがある。
【００９３】
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０℃以上、より好ましくは１１５℃以上、さらに好ましくは１２０℃以上である。
【００９４】
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは１，５００ｐｐｍ以下、より好ましくは１，０００ｐｐｍ以下である。残存揮発分の総量が１，５００ｐｐｍを超えると、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良の原因となる。
【００９５】
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品に対するＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準拠した方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の指標であり、これが８５％未満であると、透明性が低下し、本来目的とする用途に使用できないことがある。
【００９６】
ラクトン環含有樹脂フィルムに含まれるラクトン環含有重合体の含有割合は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは６０〜１００質量％、さらに好ましくは７０〜１００質量％、特に好ましくは８０〜１００質量％である。ラクトン環含有樹脂フィルムに含まれるラクトン環含有重合体の含有割合が５０質量％未満であると、本発明の効果を充分に発揮できないことがある。
【００９７】
ラクトン環含有樹脂フィルムには、その他の成分として、ラクトン環含有重合体以外の重合体（以下「その他の重合体」ということがある。）を含有していてもよい。その他の重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系重合体；塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩素化ビニル樹脂等のハロゲン化ビニル系重合体；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。
【００９８】
ラクトン環含有樹脂フィルムにおけるその他の重合体の含有割合は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜４０質量％、さらに好ましくは０〜３０質量％、特に好ましくは０〜２０質量％である。
【００９９】
ラクトン環含有樹脂フィルムには、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；フェニルサリチレート、（２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；などが挙げられる。
【０１００】
ラクトン環含有樹脂フィルムに添加される紫外線吸収剤の構造は、特に限定されるものではないが、発色団としてヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が好ましく、その中でも、ガラス転移温度が１１０℃以上の熱可塑性アクリル系樹脂と相溶性が高く吸収特性が優れている点から、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−アルキルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン骨格（アルキルオキシ；オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基）を有する紫外線吸収剤がより好ましく、下記式（４）で表される構造を有する紫外線吸収剤を主成分として含む紫外線吸収剤が特に好ましい。
【０１０１】
【化８】
その他の紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾオキサジノン誘導体、トリアジン誘導体等が挙げられる。
【０１０２】
ベンゾトリアゾール誘導体としては、具体的には、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス[４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール]、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス[４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル]、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−[２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、３−[３−メチル−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５―ｔｅｒｔ―ブチル−４−ヒドロキシフェニル]プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応性生物、２−（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール等が挙げられる。
【０１０３】
ベンゾフェノン誘導体としては、具体的には、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジキロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’， ４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ジヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１０４】
ベンゾオキサジノン誘導体としては、具体的には、２−ｐ−メトキシフェニル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−α−ナフチル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−β−ナフチル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−ｐ−フタルイミドフェニル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−ジフェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジノン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６又は１，５−ジナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が挙げられ、その中でも特に融点が高いことと吸収特性の点から、２，２’−（１，４−ジフェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジノン−４−オン）（日本サイテックインダストリーズ（株）製、商品名：サイアソーブＵＶ−３６３８）が好ましい。
トリアジン誘導体としては、具体的には、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ｉｓｏ−オクチルフェニル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。また、イソオクチル置換トリスレゾルシノールトリアジン（例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカル社製の商品名「ＣＧＬ７７７ＭＰＡＤ」）、ｔｅｒｔ−ブチル置換トリスレゾルシノールトリアジン、クミル置換トリスレゾルシノールトリアジン等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０５】
ラクトン環含有樹脂フィルム中における添加剤の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。
【０１０６】
ラクトン環含有樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体と、その他の重合体や添加剤などを、従来公知の混合方法で充分に混合することにより樹脂組成物を調製し、これをフィルム成形することができる。また、延伸することによって、延伸フィルムとしてもよい。
【０１０７】
まず、熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサーなど、従来公知の混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混合機を用いることができる。
【０１０８】
フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など、従来公知のフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法が好ましい。
【０１０９】
溶液キャスト法（溶液流延法）に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチエルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１１０】
溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。
【０１１１】
溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。
【０１１２】
Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸などを行うこともできる。
【０１１３】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。ラクトン環含有重合体を主成分とする熱可塑性樹脂フィルムは、その他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持することができる。
【０１１４】
延伸を行う方法としては、例えば、一軸延伸法、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法など、従来公知のフィルム延伸方法が挙げられる。
【０１１５】
延伸温度は、フィルム原料であるラクトン環含有重合体を主成分とする樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）の範囲である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないことがある。一方、延伸温度が（ガラス転移温度＋１００℃）超えると、樹脂組成物の流動（フロー）が起こり、安定な延伸が行えなくなることがある。
【０１１６】
面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍の範囲である。延伸倍率が１．１倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないことがある。一方、延伸倍率が２５倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないことがある。
【０１１７】
延伸速度は、一方向で、好ましくは１０〜２０，０００％／分、より好ましくは１００〜１０，０００％／分の範囲である。延伸速度が１０％／分未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなることがある。一方、延伸速度が２０，０００％／分を超えると、延伸フィルムの破断などが起こることがある。
【０１１８】
また、得られたフィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うことができる。熱処理の条件は、従来公知の延伸フィルムに対して行われる熱処理の条件と同様に適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。
【０１１９】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、その厚さが好ましくは５μｍ〜２５０μｍ、より好ましくは１０〜１５０μｍである。この範囲外であると、加工工程における工程張力の変化や曲げ等の変形によって割れる問題が特に起こりにくくなり、また、適度な曲げ強さを有するため毎葉シートの状態での手や機械によるハンドリング時に折れ曲がりなどの問題が生じて好ましくない。
【０１２０】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、高透明性を有しており、可視光透過率が、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【０１２１】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した引張強度が、好ましくは１０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満、より好ましくは３０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満である。引張強度が１０ＭＰａ未満であると、充分な機械的強度を発現できなくなることがある。一方、引張強度が１００ＭＰａを越えると、加工性が低下することがある。
【０１２２】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した伸び率が、好ましくは１％以上である。上限は特に限定されないが、通常は１００％以下が好ましい。伸び率が１％未満であると、靭性に欠けるため好ましくない。
【０１２３】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した引張弾性率が、好ましくは０．５ＧＰａ以上、より好ましくは１ＧＰａ以上、さらに好ましくは２ＧＰａ以上である。上限は特に限定されないが、通常は２０ＧＰａ以下が好ましい。０．５ＧＰａ未満の場合には、充分な機械的強度を得られなくなることがある。
【０１２４】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、その表面の濡れ張力が、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５０ｍＮ／ｍ以上、さらに好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上である。表面の濡れ張力が少なくとも４０ｍＮ／ｍ以上であると、ラクトン環含有樹脂フィルムと防眩層との密着性がさらに向上する。表面の濡れ張力を調整するために、例えば、コロナ放電処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他の従来公知の表面処理を施すことができる。
【０１２５】
≪バインダー≫
前記防眩層を形成するバインダーとしては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。又、厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍとすると良い。
【０１２６】
電離放射線硬化型樹脂組成物の被膜形成成分は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下本明細書では、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する。）などのオリゴマー又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてを比較的多量に含む電離放射線硬化型樹脂から構成する。
上記希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドンなどの単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどがある。
【０１２７】
特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【０１２８】
更に、上記防眩層を形成するためのバインダーとして、上記のような電離放射線硬化型樹脂に対して溶剤乾燥型樹脂を含ませてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として、熱可塑性樹脂例えば、セノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が用いられる。
【０１２９】
次のように、電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませる利点がある。
【０１３０】
電離放射線硬化型樹脂組成物をメタリングロールを有するロールコータで透明基材フィルムに塗布する場合、メタリングロール表面の液状残留樹脂膜が流動して経時で筋やムラ等になり、これらが塗布面に筋やムラ等の欠点を生じるが、上記のように電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませると、このような塗布面の塗膜欠点を防ぐことができる。
【０１３１】
上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
【０１３２】
例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
≪微粒子≫
前記防眩層に含有させる第１の微粒子としては、樹脂微粒子が好適であり、特に透明度が高く、マトリックス樹脂（バインダー）との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
【０１３３】
第１の微粒子に用いられる樹脂微粒子としては、メラミン微粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート微粒子（屈折率１．５７）、ポリエチレン微粒子（屈折率１．５０）、ポリスチレン微粒子（１．６０）、ポリ塩化ビニル微粒子（屈折率１．６０）等が用いられる。これらの樹脂微粒子の粒径は、前述のように０．５〜５μｍのものを適宜選択して用い、５〜３０重量％含有させるとよい。
【０１３４】
上記のような有機フィラーとしての第１の微粒子を添加した場合には、樹脂組成物（バインダー）中で有機フィラーが沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、有機フィラーの沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１重量％未満程度含有させるとよい。
【０１３５】
前記防眩層に含有させる第２の微粒子としては、樹脂微粒子が好適であり、特に透明度が高く、マトリックス樹脂（バインダー）との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
【０１３６】
第２の微粒子に用いられる樹脂微粒子としては、アクリル微粒子（屈折率１．４９）、アクリル−スチレン微粒子（屈折率１．５４）等が用いられる。これらの樹脂微粒子の粒径は、防眩層の膜厚によって用いるものが異なり、好ましくは防眩層の膜厚より０．１〜０．３μｍ粒径が大きいものを適宜選択して用い、５〜２０重量％含有させるとよい。
【０１３７】
なお、第１及び第２の微粒子として用いる樹脂微粒子としては、防眩層の拡散、防眩、反射防止の各機能をバランスを保って発現させるためには粒径が整っているほうが良く、単分散有機微粒子が好ましく用いられる。
【０１３８】
≪光重合開始剤≫
上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルホスフィンなどを混合して使用することができる。
【０１３９】
≪防眩層形成≫
次に、前記透明基材フィルムの面に、防眩層を形成する過程について説明する。
【０１４０】
透明基材フィルムに対して、第１の微粒子及び第２の微粒子を混ぜたバインダーを塗布し、第１の微粒子及び第２の微粒子によるバインダー表面の形状が充分に形成されるまで放置し、次に前記バインダーが電子線あるいは紫外線硬化型樹脂の場合は、これら電子線あるいは紫外線を照射し、又溶剤乾燥型樹脂の場合は加熱して硬化する。
【０１４１】
このようにすると、防眩層は全体として平滑な状態となり、バインダー表面に第１の微粒子のよる凹凸が形成され、且つ、バインダー表面より第２の微粒子が０．１〜０．３μｍ突出した防眩層が形成される。
【０１４２】
≪その他の用途≫
液晶表示装置は、バックライト、偏光板、液晶パネル、偏光板、この順で積層した透明型の液晶表示装置である。
【０１４３】
前記液晶表示装置における液晶パネルで使用される液晶モードとしては、ツイストネマチックタイプ（ＴＮ）、スーパーツイストネマチックタイプ（ＳＴＮ）、相転移タイプ（ＰＣ）、高分子分散タイプ（ＰＤＬＣ）等のいずれであってもよい。
【０１４４】
又、液晶の駆動モードとしては、単純マトリックスタイプ、アクティブマトリックスタイプのどちらでもよく、アクティブマトリックスタイプの場合では、ＴＦＴ、ＭＩＭ等の駆動方式が取られる。
【０１４５】
更に、液晶パネルは、カラータイプあるいはモノクロタイプのいずれであってもよい。
【実施例】
【０１４６】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例により制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【０１４７】
≪評価方法≫
<微粒子の粒子径>
コールタ−マルチサイザー（ベックマンコールター社製）を用いて測定した。
【０１４８】
<微粒子の屈折率>
１００ｃｃのフラスコに粒子０．５ｇを秤量し、二硫化炭素４０ｇを加えた後、マグネチックスターラーにより室温で十分に攪拌し、混合溶液を作成した。この混合溶液に、ピペットにてエタノールを滴下していくと、最初白濁していた液が徐々に透明になる。目視で透明と判断した点を終点とする。終点時点での粒子分散液における二硫化炭素とエタノールの重量比に相当する混合溶剤を別途作製し、アッベ屈折率計（株式会社アタゴ製）にて混合溶剤の屈折率を測定し、この屈折率を粒子の屈折率とした。
【０１４９】
<ヘイズ>
ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ２０００）を用いて測定した。
【０１５０】
<防眩層膜厚>
マイクロメータを用い１０点測定を行い、平均値から基材フィルムの膜厚を引いた値を防眩層膜厚とした。
【０１５１】
<透過鮮明度>
ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、スガ試験機（株）製「写像性試験器ＩＣＭ−１Ｔ」により、２ｍｍ、１ｍｍ、０．５ｍｍ及び０．１２５ｍｍの巾をもつ光学くしを通して、各光学くしに対応する透過鮮明度を測定した。４点の値の和を透過鮮明度として求めた。
【０１５２】
<光反射率>
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３７００）を用いてフィルムの反射率を波長４００−８００ｎｍの範囲で測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率を防眩フィルムの光反射率とした。
【０１５３】
<シンチレーション>
高精細画像である１８０μｍの画素ピッチの画像をもつデイスプレイに貼着して画像の状態を目視で評価した。
評価基準
○：ちらつきが無く良好
×：画像にちらつきがみられる
<耐候性>
岩崎電気（株）製超促進耐候性試験装置を用いて試験を行い、１００ｍＷ／ｃｍ２の条件にて、１００時間後に△ｂ*値の初期値からの変化量により評価した。
評価基準
○：変化量が５．０％未満
×：変化量が５．０％以上
<耐溶剤性>
防眩フィルム（７０ｍｍ×７０ｍｍ）をメタノール中に１０分間浸漬後、取り出したフィルムについて目視により評価した。
評価基準
○：全く溶解しない
×：完全に、もしくは一部溶解してしまう
<鉛筆硬度>
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠して鉛筆引っかき試験を行い、傷付きにより評価した。
<フィルム表面電位>
２３℃、５０％ＲＨの環境の元、防眩フィルム同士を１０回こすり擦り合わせ、表面電位計（ＦＭＸ−００３、ＳＩＭＣＯ社製）を用い測定した。
評価基準
○：３ kＶより小さい
△：３kＶ以上、５kＶ以下
×：５kＶより大きい
≪微粒子の合成例≫
<合成例１>
重合体シード粒子（Ｋ−１）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水９０ｇとスチレン１０ｇ、ｎ−デシルメルカプタン０．５ｇ、ＮａＣｌ０．１ｇを入れ、１時間窒素を流して反応器内の窒素置換を行った。その後反応液を７０℃に昇温させて、続いて少量のイオン交換水に溶かした０．１ｇの過硫酸カリウムを注射器を用いて反応系中に注ぎ込んだ。その後７０℃で２４時間反応を行った。反応終了後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した。得られた重合体シード粒子（Ｋ−１）の粒子径をコールタ−マルチサイザー（ベックマンコールター社製）により測定したところ、平均粒子径は０．７μｍ、変動係数は３．０％であった。
【０１５４】
樹脂粒子（Ｓ−１）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、重合体シード粒子（Ｋ−１）０．５ｇ、イオン交換水５０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．０５ｇを加え均一に分散させ、さらにポリビニルアルコールの３重量％水溶液を２０ｇ加えたものを重合体シード粒子分散液とした。次いで、乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム０．１部をイオン交換水５０ｇで溶解した溶液に、スチレン ０．２５ｇ、エチレングリコールジメタクリレート ０．０３ｇ、過酸化ベンゾイル ０．０１ｇを溶解した溶液を加えホモジナイザーによりモノマーエマルションを調整し、得られたモノマーエマルションを上記重合体シード粒子の乳濁液中に添加して、さらに攪拌を行った。次いで反応液を窒素雰囲気下で７０℃に昇温させて、７０℃で２４時間保持しモノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させて樹脂粒子（Ｓ−１）を得た。樹脂粒子（Ｓ−１）の平均粒子径は１．３μｍ、変動係数は４．２％、屈折率は１．６０である。
【０１５５】
<製造例２>
樹脂粒子（Ｓ−２）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四ツ口フラスコに、重合体シード粒子（Ｋ−１）０．５ｇ、イオン交換水５０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．０５ｇを加え均一に分散させ、さらにポリビニルアルコールの３重量％水溶液を２０ｇ加え、重合体シード粒子分散液を調製した。次いで、乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム０．１部をイオン交換水５０ｇで溶解した溶液に、メチルメタクリレート４．９１ｇ、エチレングリコールジメタクリレート０．５５ｇ、過酸化ベンゾイル０．２７ｇを溶解した溶液を加え、ホモジナイザーによりモノマーエマルションを調製し、得られたモノマーエマルションを上記重合体シード粒子分散液に添加して、さらに攪拌を行った。次いで、反応容器に窒素ガスを導入し、反応液を窒素雰囲気下で７０℃に昇温させて、７０℃で２４時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させて樹脂粒子（Ｓ−２）を得た。
得られた樹脂粒子（Ｓ−２）の粒子径は３．５μｍ、変動係数は３．２％、屈折率は１．４９であった。
【０１５６】
<製造例３>
樹脂粒子（Ｓ−３）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四ツ口フラスコに、重合体シード粒子（Ｋ−１）０．５ｇ、イオン交換水５０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．０５ｇを加え均一に分散させ、さらにポリビニルアルコールの３重量％水溶液を２０ｇ加え、重合体シード粒子分散液を調製した。次いで、乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム０．１部をイオン交換水５０ｇで溶解した溶液に、スチレン５．７２ｇ、メチルメタクリレート８．５９ｇ、エチレングリコールジメタクリレート１．５９ｇ、過酸化ベンゾイル０．６０ｇを溶解した溶液を加え、ホモジナイザーによりモノマーエマルションを調製し、得られたモノマーエマルションを上記重合体シード粒子分散液に添加して、さらに攪拌を行った。次いで、反応容器に窒素ガスを導入し、反応液を窒素雰囲気下で７０℃に昇温させて、７０℃で２４時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させて樹脂粒子（Ｓ−３）を得た。
得られた樹脂粒子（Ｓ−３）の粒子径は５．０μｍ、変動係数は４．１％、屈折率は１．５４であった。
【０１５７】
<製造例４>
樹脂粒子（Ｓ−４）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水５２６部と２５％アンモニア水１．６部、メタノール１１８部を入れ、攪拌しながらこの溶液に３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３０部を滴下口から添加して、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解・縮合を行ってオルガノポリシロキサン粒子を調整した。反応開始から２時間後、得られたオルガノポリシロキサン粒子の乳濁液をサンプリングし、コールタ−マルチサイザー（ベックマンコールター社製）により粒子径を測定したところ、平均粒子径は１．９５μｍであった。次いで、乳化剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩（第一工業製薬社製、ハイテノールＮＦ−０８）２．５部をイオン交換水１７５部で溶解した溶液に、スチレン９０部、ジビニルベンゼン１０部、２、２’−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業社製、Ｖ−６５）２部を溶解した溶液を加えＴＫホモミキサー（特殊機化工業社製）により６０００ｒｐｍで５分間乳化分散させてモノマーエマルションを調整し、得られたモノマーエマルションをオルガノポリシロキサン粒子の乳濁液中に添加して、さらに攪拌を行った。モノマーエマルション添加から２時間後、反応液をサンプリングして顕微鏡で観察を行ったところ、オルガノポリシロキサン粒子がモノマーを吸収して肥大化している事が確認された。次いで反応液を窒素雰囲気下で６５℃に昇温させて、６５℃で２時間保持しモノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させて樹脂粒子（１）を得た。得られた樹脂粒子（Ｓ−４）の粒子径は３．５μｍ、変動係数は３．９％、屈折率は１．６０であった。
【０１５８】
≪コーティング剤の調製例≫
<調製例１>
紫外線硬化型樹脂であるＤ Ｐ Ｈ Ａ （ 日本化薬社製、硬化塗膜屈折率１ ．５ ３ ）を１００ｇ、光重合開始剤であるイルガキュア１８４（チバ・チバスペシャルティケミカルズ社製） を５ｇ、第１微粒子としての樹脂粒子（Ｓ−１）を５ｇ、第２微粒子として樹脂粒子（Ｓ−２）を１５ｇ、トルエン ４５ｇを十分混合して塗布液として調整した。この塗布液を孔径３ ０ μ ｍ のポリプロピレン製フィルターでろ過してコーティング組成物（Ｃ−１）を調製した。
【０１５９】
<調製例２>
第２微粒子として樹脂粒子（Ｓ−２）の代わりに樹脂粒子（Ｓ−３）を用い、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−２）を得た。
【０１６０】
<調製例３>
第１微粒子として樹脂粒子（Ｓ−１）の代わりに樹脂粒子（Ｓ−４）を用い、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−３）を得た。
【０１６１】
<調製例４>
第１微粒子として樹脂粒子（Ｓ−１）の代わりに凝集性シリカ（日本シリカ社製、粒子径１．０μｍ）、第２微粒子を用いず、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−４）を得た。
【０１６２】
<調製例５>
第２微粒子を用いず、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−５）を得た。
【０１６３】
<調製例６>
第１微粒子を用いず、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−６）を得た。
【０１６４】
≪ラクトン環含有樹脂フィルムの調製≫
次に、ラクトン環含有樹脂フィルムの製造例について説明する。
【０１６５】
まず、ラクトン環含有樹脂（以下「ラクトン環含有重合体」ということがある。）の評価方法について説明する。
【０１６６】
<重合反応率、重合体組成分析>
重合反応時の反応率および重合体中の特定単量体単位の含有率は、得られた重合反応混合物中の未反応単量体の量をガスクロマトグラフ（ＧＣ１７Ａ、（株）島津製作所製）を用いて測定して求めた。
【０１６７】
<ダイナミックＴＧ>
重合体（もしくは重合体溶液あるいはペレット）を一旦テトラヒドロフランに溶解または希釈し、過剰のヘキサンまたはメタノールに投入して再沈殿を行い、取り出した沈殿物を真空乾燥（１ｍｍＨｇ（１．３３ｈＰａ）、８０℃、３時間以上）することによって揮発成分などを除去し、得られた白色固形状の樹脂を以下の方法（ダイナミックＴＧ法）で分析した。
測定装置：差動型示差熱天秤（Ｔｈｅｒｍｏ Ｐｌｕｓ２ ＴＧ−８１２０ ダイナミックＴＧ、（株）リガク製）
測定条件：試料量 ５〜１０ｍｇ
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：窒素フロー １００ｍＬ／ｍｉｎ
方法：階段状等温制御法（６０℃から５００℃までの範囲における質量減少速度値０．００５％／ｓｅｃ以下に制御）
<ラクトン環構造の含有割合>
まず、得られた重合体組成からすべての水酸基がメタノールとして脱アルコールした際に起こる質量減少量を基準にし、ダイナミックＴＧ測定において質量減少が始まる前の１５０℃から重合体の分解が始まる前の３００℃までの脱アルコール反応による質量減少から、脱アルコール反応率を求めた。
【０１６８】
すなわち、ラクトン環構造を有する重合体のダイナミックＴＧ測定において１５０℃から３００℃までの間の質量減少率の測定を行い、得られた実測値を実測質量減少率（Ｘ）とする。他方、当該重合体の組成から、その重合体組成に含まれる全ての水酸基がラクトン環の形成に関与するためアルコールになり脱アルコールすると仮定した時の質量減少率（すなわち、その組成上において１００％脱アルコール反応が起きたと仮定して算出した質量減少率）を理論質量減少率（Ｙ）とする。なお、理論質量減少率（Ｙ）は、より具体的には、重合体中における脱アルコール反応に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体のモル比、すなわち当該重合体組成における原料単量体の含有率から算出することができる。これらの値を脱アルコール計算式：１−（実測質量減少率（Ｘ）／理論質量減少率（Ｙ））に代入してその値を求め、百分率（％）で表記すると、脱アルコール反応率が得られる。
【０１６９】
一例として、後述の製造例１で得られたペレットにおいてラクトン環構造の含有割合を計算する。この重合体の理論質量減少率（Ｙ）を求めてみると、メタノールの分子量は３２であり、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの分子量は１１６であり、重合体中における２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの含有率（質量比）は組成上２０．０質量％であるから、（３２／１１６）×２０．０≒５．５２質量％となる。他方、ダイナミックＴＧ測定による実測質量減少率（Ｘ）は０．３４質量％であった。これらの値を上記の脱アルコール計算式に当てはめると、１−（０．３４／５．５２）≒０．９３８となるので、脱アルコール反応率は９３．８％である。
【０１７０】
そして、この脱アルコール反応率分だけ所定のラクトン環化が行われたものとして、ラクトン環化に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体の当該共重合体組成における含有量（質量比）に、脱アルコール反応率を乗じ、ラクトン環構造の含有率（質量比）に換算することにより、当該共重合体におけるラクトン環構造の含有割合を算出することができる。後述の製造例の場合、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの当該共重合体における含有率が２０．０質量％、算出した脱アルコール反応率が９３．８％、分子量が１１６の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルがメタクリル酸メチルと縮合した場合に生成するラクトン環構造の式量が１７０であることから、当該共重合体におけるラクトン環構造の含有割合は２７．５（２０．０×０．９３８×１７０／１１６）質量％となる。
【０１７１】
<重量平均分子量、数平均分子量>
重合体の重量平均分子量や数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣシステム、東ソー（株）製）を用いて、ポリスチレン換算により求めた。
【０１７２】
<重合体の熱分析>
重合体の熱分析は、示差走査熱量計（ＤＳＣ−８２３０、（株）リガク製）を用いて、試料約１０ｍｇ、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、窒素フロー５０ｍＬ／ｍｉｎの条件で行った。なお、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ−Ｄ−３４１８に準拠して、中点法で求めた。
【０１７３】
<製造例１> （ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の製造例）
まず、攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素ガス導入管を備えた容量３０Ｌの反応容器に、メタクリル酸メチル８ｋｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル２ｋｇ、メチルイソブチルケトン１０ｋｇ、ｎ−ドデシルメルカプタン５ｇを仕込んだ。
【０１７４】
この反応容器に窒素ガスを導入しながら、１０５℃まで昇温し、還流したところで、重合開始剤として、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７５、化薬アクゾ（株）製）５ｇを添加すると同時に、メチルイソブチルケトン２３０ｇにｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７５、化薬アクゾ（株）製）１０ｇを溶解した溶液を２時間かけて滴下しながら、還流下、約１０５〜１２０℃で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０１７５】
得られた重合体溶液に、リン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８、堺化学工業（株）製）３０ｇを添加し、還流下、約９０〜１２０℃で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／ｈの処理速度で導入し、この押出機内で、さらに環化縮合反応と脱揮を行い、押し出すことにより、ラクトン環含有重合体の透明なペレットを得た。
【０１７６】
得られたラクトン環含有重合体について、ダイナミックＴＧの測定を行ったところ、０．３４質量％の質量減少を検知した。また、このラクトン環含有重合体は、重量平均分子量は１４４，０００であり、ガラス転移温度が１３１℃であった。
【０１７７】
このラクトン環含有重合体のペレットを、２０ｍｍφのスクリューを有する二軸押出機を用いて、幅１５０ｍｍのコートハンガータイプＴダイから溶融押出して、厚さ約１００μｍのラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）を調製した。
【０１７８】
<製造例２>
（紫外線吸収能を付与したラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）の製造例）
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を付した３０Ｌ反応釜に、４１．５部のメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、６部の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、２．５部の２−〔２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ〕エチルフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学（株）製、商品名：ＲＵＶＡ−９３）、５０部のトルエン、０．０２５部のアデカスタブ２１１２（旭電化工業（株）製）、０．０２５部のｎ−ドデシルメルカプタンを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させ、還流したところで、開始剤として０．０５部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富（株）製、商品名：ルパゾール５７０）を添加すると同時に、０．１０部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエートを３時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０１７９】
得られた重合体溶液に、０．０５部のリン酸２−エチルヘキシル（堺化学工業（株）製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−８）を加え、還流下（約９０〜１１０℃）で２時間、環化縮合反応を行った。引き続きオートクレーブにより２４０℃で３０分間加熱処理を行い、環化縮合反応を完全に行った。
【０１８０】
次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２４０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）のベントタイプスクリュー二軸押出し機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、脱揮を行った。そのとき、別途準備しておいた酸化防止剤・失活剤混合溶液を、第１ベントの後から高圧ポンプを用いて０．０３ｋｇ／時間の投入速度で注入した。また、第２ベントの後より別途準備しておいた紫外線吸収剤溶液０．０５ｋｇ／時間の投入速度で注入した。更に第３ベントの後から高圧ポンプを用いてイオン交換水を０．０１ｋｇ／時間の投入速度で注入した。酸化防止剤・失活剤混合溶液はスミライザーＧＳ（住友化学（株）製）５０部、オクチル酸亜鉛（ニッカオクチクス亜鉛３．６％ 日本化学産業（株）製）３５部をトルエン２００部に溶解したものである。紫外線吸収剤溶液は、分子量が９５４の紫外線吸収剤が主成分（分子量７７１、９５４、および、１１３８の紫外線吸収剤の混合物）でヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有するＣＧＬ７７７ＭＰＡ（チバスペシャリティケミカルズ（株）社製 有効成分８０％）１９部をトルエン３１部に溶解したものである。
【０１８１】
上記脱揮操作により、透明で紫外線吸収性単量体単位を有する熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。ＧＰＣによる樹脂部の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は１４５０００、ガラス転移温度は１２２℃であった。
【０１８２】
上記樹脂を用い、２７０℃の押出温度でシリンダー径が２０ｍｍの単軸押出機を用い下記条件で押出成形し、１００μｍの厚みのラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）を得た。（Ｔ−ダイ：温度２７０℃、幅１２０ｍｍ、成膜：つや付き２本ロール、ロール温度１１０℃、引き取り速度：２．５ｍ／分）。
〔実施例１〕
調製したコーティング組成物（Ｃ−１）を基材フィルムであるラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）に、バーコーターを用いて塗布した。塗布層を１００℃で２分乾燥した後に凹凸層を形成させ、窒素パージ下（酸素濃度１０００ｐｐｍ以下）で、高圧水銀灯で２５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより硬化させ、防眩層を形成させ、防眩フィルムを得た。得られた防眩フィルムについて、防眩層膜厚、ヘイズ、透過鮮明度、光反射率、シンチレーション、耐候性、耐溶剤性、鉛筆硬度およびフィルム帯電電位を評価した。結果を表３に示した。
〔実施例２〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−２）を利用し、基材フィルムにラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表３に示した。
〔実施例３〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−３）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表３に示した。
〔比較例１〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−４）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例２〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−５）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例３〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−６）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例４〕
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ、富士フィルム社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例５〕
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにシクロオレフィンポリマーフィルム（ゼオノアＺＦ１４、日本ゼオン社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例６〕
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにＰＥＴフィルム（ＨＢＰＦ８Ｗ、帝人デュポン社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
【０１８３】
【表１】
【０１８４】
【表２】
【０１８５】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【０１８６】
本発明の防眩フィルムは、防眩性に加えて、ヘイズの抑制、透過画像鮮明度の向上、耐候性、表面硬度、フィルム製造・加工時の作業性および安全性がいずれも従来に比べ高く、各種光学用途に応じた特性を十分に発揮することができるので、例えば、液晶表示装置やプラズマディスプレイ、有機ＥＬ表示装置などのフラットパネルディスプレイなどに防眩性、光拡散性を付与する光学用途に好適である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）パネルなどの高精細画像用ディスプレイ表示装置の表面に設ける防眩性積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）パネルなどの高精細画像用ディスプレイや赤外線センサー、光導波路等の進歩に伴い、光学用透明高分子材料、特に面状（フィルム状やシート状など） の光学用透明高分子材料、つまり光学フィルムに対する要請が高まっている。
特に、ディスプレイ分野で使用される光学フィルムには、高い透明性、高い光学等方性に加えて、低い光学弾性率、耐熱性、高い機械的強度が高まっている。
このような光学フィルムの使用例としては、例えば、特許文献１および２に開示されるように、光学フィルムの表面に、二酸化ケイ素（シリカ）等のフィラーを含む樹脂を塗工して形成した防眩フィルムがある。
これらの防眩フィルムは、凝集性シリカ等の粒子の凝集によって防眩層の表面に凹凸形状を形成するタイプ、塗膜の膜厚以上の粒径を有する有機フィラーを樹脂中に添加して層表面に凹凸形状を形成するタイプ、あるいは層表面に凹凸をもったフィルムをラミネートして凹凸形状を転写するタイプがある。
特許文献３では、防眩フィルムの防眩性を低下させることなく、シンチレーション防止性、透過画像鮮明度を高めるべく、表面凹凸構造を制御するために、粒子径と屈折率のことなる２種類の微粒子を用いて検討されている。
特許文献４では、基材フィルムにラクトン環含有樹脂を使用し、防眩フィルムの耐候性と表面硬度を向上させている。しかし、防眩性については不十分であった。
さらには、フィルム取り扱いの作業性、安全性を考慮すると、防眩フィルム製造・加工の際に発生する静電気を発生しにくくするために、フィルム自身の表面電位を小さく抑え、帯電させにくくすることが要求される。
しかし、上記のすべての特性を十分に満足するものは、従来の防眩フィルムになかった
【特許文献１】特開平６−１８７０６
【特許文献２】特開平１０−２０１０３
【特許文献３】特開２０００−１２１８０９
【特許文献４】特開２００７−２９３２７２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記のような従来の防眩フィルムは、いずれのタイプでも、防眩層の表面形状の作用により、光拡散・防眩作用を得るようにしていて、防眩性を高めるためには前記凹凸形状を大きくする必要があるが、凹凸が大きくなると、塗膜の曇価（ヘイズ値）が上昇し、これに伴い透過鮮明度が低下するという問題点がある。
更に又、上記従来のタイプの防眩フィルムは、フィルム表面に、いわゆる面ぎら（シンチレーション）と呼ばれるキラキラ光る輝きが発生し、表示画面の視認性が低下するという問題がある。
上記問題点を解決するため、発明者らは、拡散・防眩性を低下させることなく、透過鮮明性を向上し、且つシンチレーションを低下させることができるようにした防眩フィルムの開発を行ない、特願平１０−１２５４９４号として出願している。しかしながら、拡散・防眩性と同時に反射防止性を兼ね備えるものではなかった。
反射防止性を持たせる方法としては、ガラスやプラスチック表面に反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基板の表面に膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ2 等の極薄膜や金属蒸着膜を設ける方法、プラスチックレンズ等のプラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、その上に蒸着によりＳｉＯ2 、ＭｇＦ2 の膜を形成する方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化膜上に低屈折率の塗膜を形成する方法が知られている。
しかしながら、防眩フィルムにおいては、その表面凹凸形状の作用により、光拡散・防眩作用を得るようにしているため、表面に上述のような塗膜加工を施すことができず、拡散・防眩性と同時に反射防止性を持たせられないという問題点があった。
さらに、既存のフィルムを用いた場合には、耐候性、表面硬度、フィルム製造・加工時の作業性および安全性が不十分となる問題がある。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、拡散・防眩性を低下させることなく、透過鮮明性を向上し、シンチレーションを低下させることができるようにし、且つ、反射防止性をもたせ、さらには、高い耐候性、表面硬度を有し、フィルム製造・加工時の作業性および安全性を向上させた防眩フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、請求項１、２のように、少なくとも透明基材フィルムと、バインダー中に第１の微粒子と第２の微粒子とを含む防眩層と、を積層してなり、前期透明基材フィルムが、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルムであり、前記第１の微粒子は、粒径が０．５〜２．０であり、且つ、前記バインダーとの屈折率の差が０．０４〜０．２０であり、前記第２の微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下であり、且つ、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出してなること特徴とする防眩フィルムにより、上記目的を達成するものである。
【０００５】
【化２】
[式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す；なお、該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい]
請求項３のように、前記第１の微粒子及び前記第２の微粒子が、単分散有機微粒子であってもよい。
【０００６】
又、請求項４のように、前記バインダーは、電離放射線硬化型樹脂としてもよい。
【０００７】
更に、透過型表示装置の発明は、請求項５のように、平面状の透光性表示体と、この透光性表示体を背面から照射する光源装置と、前記透光性表示体の表面に積層された上記のような防眩フィルムと、を有してなる透過型表示装置を構成し、上記の目的を達成するものである。
【発明を実施するため最良の形態】
【０００８】
以下、本発明について詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更実施し得る。
【０００９】
本発明の実施の形態の例に係る防眩フィルムは、透明基材フィルムと、バインダー中に第１の微粒子及び第２の微粒子とを含む防眩層と、を積層してなり、第１の微粒子は、粒径が０．５〜２．０μｍであり、且つ、前記バインダーとの屈折率の差が０．０４〜０．２０であり、第２の微粒子は、バインダーとの屈折率の差が０．３以下である。且つ、前記第２の微粒子は、前記防眩層の表面より突出してなる。
【００１０】
前記透明基材フィルムは、ラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルムである。
【００１１】
前記第２の微粒子は、前記防眩層の表面よりｄだけ突出しており、ｄの値は前述のように０．１〜０．３μｍである。また、第１の微粒子は、防眩層全体に含有され、一部の第１の微粒子は防眩層の表面より突出している。
【００１２】
上記防眩フィルムの構成において、第１の微粒子は主に拡散・シンチレーション防止に寄与し、第２の微粒子は主に防眩性、反射防止性に寄与している。
【００１３】
前記バインダーは、透明基材フィルムへ塗布後に硬化することができ、例えば紫外線硬化型樹脂（屈折率１．５３）からなり、前記第１の微粒子は、バインダー、例えばスチレンビーズ（屈折率１．６０）から構成され、前記第２の微粒子は、バインダー、例えばアクリルビーズ（屈折率１．４９）から構成されている。
【００１４】
前記第１の微粒子とバインダーとの屈折率の差を０．０４以上としたのは、防眩性の関点からは、屈折率差が０．０４未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、光拡散効果を得られず、又屈折率差が０．２よりも大きい場合は、光拡散性が高すぎて、フィルム全体が白化してしまうからである。なお、前記屈折率差は、０．０４以上、０．１以下が最も良い。前記屈折率差は、後述するように、反射防止性の関点からも好ましい。
【００１５】
前記第１の微粒子の粒径を０．５μｍ以上としたのは、０．５μｍ未満の場合、バインダーに添加すべき第１の微粒子の添加量を非常に大きくしないと光拡散効果が得られないからである。又、第１の微粒子の粒径を２．０μｍ以下としたのは、粒径が２．０μｍを超えるときは、防眩層の表面形状が粗くなり、ヘイズ値が高くなってしまうからである。なお、理想的には、第１の微粒子の直径は１μｍ以上、２μｍ以下である。
【００１６】
上記のようにすると、フィラーである第１の微粒子とバインダーとの僅かな屈折率差により、フィルム全体が白化したりすることなく、高い透過鮮明度を維持した状態で、拡散効果により防眩フィルム内を透過する光を平均化することができる。
このため、フィルムの曇価が高い場合でも、透過鮮明度を低下させることなく、表面のぎらつきを防止することができ、又、曇価が低い場合（ヘイズ値２０以下）でも、更に高い透過鮮明度を維持した状態で面のぎらつき（シンチレーション）を防止することができる。
【００１７】
前記第２の微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下であり、且つ、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出して形成したのは、その理由は明らかではないが、突出部分に光学的干渉が起こる厚さとするためである。
【００１８】
例えば、反射防止膜が光の反射を１００％防止し、光を１００％透過するための条件は、入射光が薄膜に垂直に入射する場合、特定の波長をλ0とし、この波長に対する反射防止層の屈折率をｎ0、反射防止膜の厚みをｈ、及び基板の屈折率をｎｇとすると、次の（１）式及び（２）式の関係を満たすことが必要であることが知られている（サイエンスライブラリ物理学＝９「光学」７０〜７２頁、昭和５５年、株式会社サイエンス社発行）。
【００１９】
n0
n0＝√ｎｇ …（１）
n0ｈ＝λ0／４ …（２）
即ち、屈折率が１より大きい場合は、必ずｎｇ＞ｎ0となる。従って、防眩層の表面に反射防止層を形成すると仮定すると、反射防止層の屈折率ｎ0を、防眩層の屈折率ｎｇよりも小さくしなければならない。
【００２０】
又、例えば屈折率ｎ0＝１．４９の材料を反射防止層に用いた場合、入射光の波長λ0＝５５０ｎｍとしたとき、前記（２）式から、反射防止膜の厚さｈは約０．１μｍが最適であると計算される。
【００２１】
本発明においては、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下である前記第２の微粒子を、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出して形成しており、防眩層よりも屈折率の低い膜が防眩層表面に適当な膜厚にて形成された状態が擬似的に構成され、結果として突出部分に光学的干渉が生じ、簡易的な反射防止効果を発現させることができる。
【００２２】
前記第２の微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３より大きかったり、前記防眩層の表面よりの突出が０．１μｍ未満であったり、突出が０．３μｍよりも大きい場合には、光学的干渉効果が低下し、十分な反射防止性が得られない。
【００２３】
また、前記第２の微粒子が前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出して形成されていることにより、表面に微細な凹凸が形成されることとなり、従来から知られている防眩作用を生じる。
【００２４】
≪ラクトン環含有樹脂フィルム≫
前記ラクトン環含有樹脂フィルムは、ラクトン環含有重合体を主成分として含む。
【００２５】
ラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００２６】
【化３】
【００２７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。）
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が５質量％未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。一方、ラクトン環構造の含有割合が９０質量％を超えると、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。
【００２８】
ラクトン環含有重合体は、一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造を有していてもよい。一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体の製造方法として後述するような、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記一般式（２）で表される単量体とからなる群より選択される少なくとも１種の単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【００２９】
【化４】
【００３０】
（式中、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ５基、または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ５およびＲ６は水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、（メタ）アクリル酸エステルを重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％であり、ヒドロキシ基含有単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。また、不飽和カルボン酸を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。さらに、一般式（２）で表される単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００３１】
ラクトン環含有重合体の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、重合工程によって分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）を得た後、得られた重合体（ａ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。
【００３２】
重合工程においては、下記一般式（３）で表される単量体を含む単量体成分の重合反応を行うことにより、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体が得られる。
【００３３】
【化５】
【００３４】
（式中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
一般式（３）で表される単量体としては、例えば、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｎ−ブチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｔ−ブチル、メタリルアルコールなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３５】
これらの単量体のうち、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性を向上させる効果が高い点において、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルが特に好ましい。
【００３６】
重合工程において供する単量体成分中における一般式（３）で表される単量体の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。一般式（３）で表される単量体の含有割合が５質量％未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。一方、一般式（３）で示される単量体の含有割合が９０質量％を超えると、重合工程やラクトン環化縮合工程においてゲル化が起こることや、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。
【００３７】
重合工程において供する単量体成分には、一般式（３）で示される単量体以外の単量体を含んでいてもよい。このような単量体としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、および、下記一般式（２）で表される単量体などが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００３８】
【化６】
【００３９】
（式中、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ５基、または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ５およびＲ６は水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
（メタ）アクリル酸エステルとしては、一般式（３）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルである限り、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸エステルは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの（メタ）アクリル酸エステルのうち、得られた重合体の耐熱性や透明性が優れることから、メタクリル酸メチルが特に好ましい。
【００４０】
一般式（３）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％である。
【００４１】
ヒドロキシ基含有単量体としては、一般式（３）で表される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体である限り、特に限定されるものではないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられる。これらのヒドロキシ基含有単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４２】
一般式（３）で表される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００４３】
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられる。これらの不飽和カルボン酸は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不飽和カルボン酸のうち、本発明の効果が充分に発揮されることから、アクリル酸、メタクリル酸が特に好ましい。
【００４４】
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００４５】
一般式（２）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、本発明の効果を充分に発揮することから、スチレン、α−メチルスチレンが特に好ましい。
【００４６】
一般式（２）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００４７】
単量体成分を重合して分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体を得るための重合反応の形態としては、溶剤を用いた重合形態であることが好ましく、溶液重合が特に好ましい。
【００４８】
重合温度や重合時間は、使用する単量体の種類や割合などに応じて異なるが、例えば、好ましくは、重合温度が０〜１５０℃、重合時間が０．５〜２０時間であり、より好ましくは、重合温度が８０〜１４０℃、重合時間が１〜１０時間である。
【００４９】
溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。また、溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるラクトン環含有重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が５０〜２００℃である溶剤が好ましい。
【００５０】
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。
【００５１】
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。なお、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が低すぎると生産性が低下するので、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上である。
【００５２】
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより充分に抑止することができ、特に、ラクトン環含有割合を増やして耐熱性を向上させるために分子鎖中のヒドロキシ基とエステル基との割合を高めた場合であっても、ゲル化を充分に抑止することができる。添加する重合溶剤としては、例えば、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの単一溶剤であっても２種以上の混合溶剤であってもよい。
【００５３】
以上の重合工程を終了した時点で得られる重合反応混合物中には、通常、得られた重合体以外に溶剤が含まれているが、溶剤を完全に除去して重合体を固体状態で取り出す必要はなく、溶剤を含んだ状態で、続くラクトン環化縮合工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続くラクトン環化縮合工程に好適な溶剤を再添加してもよい。
【００５４】
重合工程で得られた重合体は、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）であり、重合体（ａ）の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。重合工程で得られた重合体（ａ）は、続くラクトン環化縮合工程において、加熱処理されることによりラクトン環構造が重合体に導入され、ラクトン環含有重合体となる。
【００５５】
重合体（ａ）へラクトン環構造を導入するための反応は、加熱により、重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とが環化縮合してラクトン環構造を生じる反応であり、その環化縮合によってアルコールが副生する。ラクトン環構造が重合体の分子鎖中（重合体の主骨格中）に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。ラクトン環構造を導く環化縮合反応の反応率が不充分であると、耐熱性が充分に向上しないことや、成形時の加熱処理によって成形途中に縮合反応が起こり、生じたアルコールが成形品中に泡やシルバーストリークとなって存在することがある。
【００５６】
ラクトン環化縮合工程において得られるラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００５７】
【化７】
【００５８】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。）
重合体（ａ）を加熱処理する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を利用できる。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。あるいは、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。あるいは、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を備えた加熱炉や反応装置、脱揮装置を備えた押出機などを用いて加熱処理を行うこともできる。
【００５９】
環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。また、環化縮合反応を行う際には、必要に応じて、環化縮合反応の触媒として一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機カルボン酸類；有機リン化合物を触媒として用いてもよい。さらに、例えば、特開昭６１−２５４６０８号公報や特開昭６１−２６１３０３号公報に開示されているように、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。
【００６０】
これらの環化縮合反応の触媒の中でも、環化縮合反応率を向上させることができるとともに、得られるラクトン環含有重合体の着色を大幅に低減できることから、有機リン化合物が好ましい。さらに、有機リン化合物を環化縮合反応の触媒として用いることにより、後述の脱揮工程を併用する場合において起こり得る分子量低下を抑制することができ、優れた機械的強度を付与することができる。
【００６１】
環化縮合反応の際に触媒として用いることができる有機リン化合物としては、例えば、メチル亜ホスホン酸、エチル亜ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸等のアルキル（アリール）亜ホスホン酸（但し、これらは、互変異性体であるアルキル（アリール）ホスフィン酸になっていてもよい）およびこれらのモノエステルまたはジエステル；ジメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、フェニルメチルホスフィン酸、フェニルエチルホスフィン酸等のジアルキル（アリール）ホスフィン酸およびこれらのエステル；メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、トリフルオロメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸等のアルキル（アリール）ホスホン酸およびこれらのモノエステルまたはジエステル；メチル亜ホスフィン酸、エチル亜ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸等のアルキル（アリール）亜ホスフィン酸およびこれらのエステル；亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル等の亜リン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸イソデシル、リン酸ラウリル、リン酸ステアリル、リン酸イソステアリル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジ−２−エチルヘキシル、リン酸ジイソデシル、リン酸ジラウリル、リン酸ジステアリル、リン酸ジイソステアリル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリイソデシル、リン酸トリラウリル、リン酸トリステアリル、リン酸トリイソステアリル、リン酸トリフェニル等のリン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；メチルホスフィン、エチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のモノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、ジメチルクロロホスフィン、ジエチルクロロホスフィン、ジフェニルクロロホスフィン等のアルキル（アリール）ハロゲンホスフィン；酸化メチルホスフィン、酸化エチルホスフィン、酸化フェニルホスフィン、酸化ジメチルホスフィン、酸化ジエチルホスフィン、酸化ジフェニルホスフィン、酸化トリメチルホスフィン、酸化トリエチルホスフィン、酸化トリフェニルホスフィン等の酸化モノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウム等のハロゲン化テトラアルキル（アリール）ホスホニウム；などが挙げられる。これらの有機リン化合物は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機リン化合物のうち、触媒活性が高くて着色性が低いことから、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステル、アルキル（アリール）ホスホン酸が好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステルがより好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、リン酸モノエステルまたはジエステルが特に好ましい。
【００６２】
環化縮合反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。触媒の使用量が０．００１質量％未満であると、環化縮合反応の反応率が充分に向上しないことがある。一方、触媒の使用量が５質量％を超えると、得られた重合体が着色することや、重合体が架橋して、溶融成形が困難になることがある。
【００６３】
触媒の添加時期は、特に限定されるものではなく、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。
【００６４】
環化縮合反応を溶剤の存在下で行い、且つ、環化縮合反応の際に、脱揮工程を併用することが好ましい。この場合、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態、および、脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに過程の一部においてのみ併用する形態が挙げられる。脱揮工程を併用する方法では、縮合環化反応で副生するアルコールを強制的に脱揮させて除去するので、反応の平衡が生成側に有利となる。
【００６５】
脱揮工程とは、溶剤、残存単量体などの揮発分と、ラクトン環構造を導く環化縮合反応により副生したアルコールを、必要に応じて減圧加熱条件下で、除去処理する工程をいう。この除去処理が不充分であると、得られた重合体中の残存揮発分が多くなり、成形時の変質などにより着色することや、泡やシルバーストリークなどの成形不良が起こることがある。
【００６６】
環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、用いる装置については、特に限定されるものではないが、例えば、本発明をより効果的に行うために、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置やベント付き押出機、また、脱揮装置と押出機を直列に配置したものを用いることが好ましく、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置またはベント付き押出機を用いることがより好ましい。
【００６７】
熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度が１５０℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。一方、反応処理温度が３５０℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。
【００６８】
熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８〜６６．５ｈＰａ（６００〜５０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力が９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。一方、反応処理圧力が１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）未満であると、工業的な実施が困難になることがある。
【００６９】
前記ベント付き押出機を用いる場合、ベントは１個でも複数個でもいずれでもよいが、複数個のベントを有する方が好ましい。
【００７０】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度が１５０℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。一方、反応処理温度が３５０℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。
【００７１】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８〜１３．３ｈＰａ（６００〜１０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力が９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。一方、反応処理圧力が１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）未満であると、工業的な実施が困難になることがある。
【００７２】
なお、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、後述するように、厳しい熱処理条件では得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがあるので、前述した脱アルコール反応の触媒を用い、できるだけ温和な条件で、ベント付き押出機などを用いて行うことが好ましい。
【００７３】
また、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、好ましくは、重合工程で得られた重合体（ａ）を溶剤と共に環化縮合反応装置に導入するが、この場合、必要に応じて、もう一度ベント付き押出機などの環化縮合反応装置に通してもよい。
【００７４】
脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに、過程の一部においてのみ併用する形態を行ってもよい。例えば、重合体（ａ）を製造した装置を、さらに加熱し、必要に応じて脱揮工程を一部併用して、環化縮合反応を予めある程度進行させておき、その後に引き続いて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行い、反応を完結させる形態である。
【００７５】
先に述べた環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態では、例えば、重合体（ａ）を、二軸押出機を用いて、２５０℃付近、あるいはそれ以上の高温で熱処理する時に、熱履歴の違いにより環化縮合反応が起こる前に一部分解などが生じ、得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがある。そこで、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う前に、予め環化縮合反応をある程度進行させておくと、後半の反応条件を緩和でき、得られるラクトン環含有重合体の物性の低下を抑制できるので好ましい。特に好ましい形態としては、例えば、脱揮工程を環化縮合反応の開始から時間をおいて開始する形態、すなわち、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態が挙げられる。具体的には、例えば、予め釜型反応器を用いて溶剤の存在下で環化縮合反応をある程度の反応率まで進行させておき、その後、脱揮装置を備えた反応器、例えば、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置や、ベント付き押出機などで、環化縮合反応を完結させる形態が好ましく挙げられる。特に、この形態の場合、環化縮合反応用の触媒が存在していることがより好ましい。
【００７６】
前述のように、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う方法は、本発明においてラクトン環含有重合体を得る上で好ましい形態である。この形態により、ガラス転移温度がより高く、環化縮合反応率もより高まり、耐熱性に優れたラクトン環含有重合体が得られる。この場合、環化縮合反応率の目安としては、例えば、実施例に示すダイナッミクＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１％以下である。
【００７７】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に採用できる反応器は、特に限定されるものではないが、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置などが挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に好適なベント付き押出機も使用できる。これらの反応器のうち、オートクレーブ、釜型反応器が特に好ましい。しかし、ベント付き押出機などの反応器を用いる場合でも、ベント条件を温和にしたり、ベントをさせなかったり、温度条件やバレル条件、スクリュー形状、スクリュー運転条件などを調整することにより、オートクレーブや釜型反応器での反応状態と同じ様な状態で環化縮合反応を行うことが可能である。
【００７８】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、例えば、重合工程で得られた重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物を、（ｉ）触媒を添加して、加熱反応させる方法、（ｉｉ）無触媒で加熱反応させる方法、および、前記（ｉ）または（ｉｉ）を加圧下で行う方法などが挙げられる。
【００７９】
なお、ラクトン環化縮合工程において環化縮合反応に導入する「重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物」とは、重合工程で得られた重合反応混合物それ自体、あるいは、一旦溶剤を除去した後に環化縮合反応に適した溶剤を再添加して得られた混合物を意味する。
【００８０】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に再添加できる溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；クロロホルム、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。好ましくは、重合工程に用いた溶剤と同じ種類の溶剤である。
【００８１】
前記方法（ｉ）で添加する触媒としては、例えば、一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などが挙げられるが、本発明においては、前述の有機リン化合物を用いることが好ましい。触媒の添加時期は、特に限定されるものではないが、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。触媒の添加量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）の質量に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。方法（ｉ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは室温〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が室温未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。一方、加熱温度１８０℃を超えるか、あるいは、加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。
【００８２】
前記方法（ｉｉ）としては、例えば、耐圧性の釜型反応器などを用いて、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま加熱する方法などが挙げられる。方法（ｉｉ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは１００〜１８０℃、より好ましくは１５０〜１８０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が１００℃未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。逆に、加熱温度が１８０℃を超えるか、あるいは加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。
【００８３】
前記方法（ｉ）、（ｉｉ）のいずれにおいても、条件によっては、加圧下となっても何ら問題はない。
【００８４】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、溶剤の一部が反応中に自然に揮発しても何ら問題ではない。
【００８５】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の終了時、すなわち、脱揮工程開始直前における、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率は、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１％以下である。質量減少率が２％を超えると、続けて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行っても、環化縮合反応率が充分高いレベルまで上がらず、得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがある。なお、上記の環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。
【００８６】
重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態の場合、予め行う環化縮合反応で得られた重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）と溶剤を、そのまま脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入してもよいし、必要に応じて、前記重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）を単離してから溶剤を再添加するなどのその他の処理を経てから脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入しても構わない。
【００８７】
脱揮工程は、環化縮合反応と同時に終了することには限らず、環化縮合反応の終了から時間をおいて終了しても構わない。
【００８８】
ラクトン環含有重合体の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
【００８９】
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。
【００９０】
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成形後の成形品中に泡やシルバーストリークが入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によってラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体が充分に高い耐熱性を有している。
【００９１】
ラクトン環含有重合体は、濃度１５質量％のクロロホルム溶液にした場合、その着色度（ＹＩ）が、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６を超えると、着色により透明性が損なわれ、本来目的とする用途に使用できないことがある。
【００９２】
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、好ましくは３３０℃以上、より好ましくは３５０℃以上、さらに好ましくは３６０℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これが３３０℃未満であると、充分な熱安定性を発揮できないことがある。
【００９３】
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０℃以上、より好ましくは１１５℃以上、さらに好ましくは１２０℃以上である。
【００９４】
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは１，５００ｐｐｍ以下、より好ましくは１，０００ｐｐｍ以下である。残存揮発分の総量が１，５００ｐｐｍを超えると、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良の原因となる。
【００９５】
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品に対するＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準拠した方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の指標であり、これが８５％未満であると、透明性が低下し、本来目的とする用途に使用できないことがある。
【００９６】
ラクトン環含有樹脂フィルムに含まれるラクトン環含有重合体の含有割合は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは６０〜１００質量％、さらに好ましくは７０〜１００質量％、特に好ましくは８０〜１００質量％である。ラクトン環含有樹脂フィルムに含まれるラクトン環含有重合体の含有割合が５０質量％未満であると、本発明の効果を充分に発揮できないことがある。
【００９７】
ラクトン環含有樹脂フィルムには、その他の成分として、ラクトン環含有重合体以外の重合体（以下「その他の重合体」ということがある。）を含有していてもよい。その他の重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系重合体；塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩素化ビニル樹脂等のハロゲン化ビニル系重合体；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。
【００９８】
ラクトン環含有樹脂フィルムにおけるその他の重合体の含有割合は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜４０質量％、さらに好ましくは０〜３０質量％、特に好ましくは０〜２０質量％である。
【００９９】
ラクトン環含有樹脂フィルムには、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；フェニルサリチレート、（２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；などが挙げられる。
【０１００】
ラクトン環含有樹脂フィルムに添加される紫外線吸収剤の構造は、特に限定されるものではないが、発色団としてヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が好ましく、その中でも、ガラス転移温度が１１０℃以上の熱可塑性アクリル系樹脂と相溶性が高く吸収特性が優れている点から、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−アルキルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン骨格（アルキルオキシ；オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基）を有する紫外線吸収剤がより好ましく、下記式（４）で表される構造を有する紫外線吸収剤を主成分として含む紫外線吸収剤が特に好ましい。
【０１０１】
【化８】
その他の紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾオキサジノン誘導体、トリアジン誘導体等が挙げられる。
【０１０２】
ベンゾトリアゾール誘導体としては、具体的には、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス[４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール]、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス[４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル]、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−[２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、３−[３−メチル−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５―ｔｅｒｔ―ブチル−４−ヒドロキシフェニル]プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応性生物、２−（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール等が挙げられる。
【０１０３】
ベンゾフェノン誘導体としては、具体的には、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジキロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’， ４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ジヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１０４】
ベンゾオキサジノン誘導体としては、具体的には、２−ｐ−メトキシフェニル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−α−ナフチル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−β−ナフチル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−ｐ−フタルイミドフェニル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−ジフェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジノン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６又は１，５−ジナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が挙げられ、その中でも特に融点が高いことと吸収特性の点から、２，２’−（１，４−ジフェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジノン−４−オン）（日本サイテックインダストリーズ（株）製、商品名：サイアソーブＵＶ−３６３８）が好ましい。
トリアジン誘導体としては、具体的には、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ｉｓｏ−オクチルフェニル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。また、イソオクチル置換トリスレゾルシノールトリアジン（例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカル社製の商品名「ＣＧＬ７７７ＭＰＡＤ」）、ｔｅｒｔ−ブチル置換トリスレゾルシノールトリアジン、クミル置換トリスレゾルシノールトリアジン等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０５】
ラクトン環含有樹脂フィルム中における添加剤の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。
【０１０６】
ラクトン環含有樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体と、その他の重合体や添加剤などを、従来公知の混合方法で充分に混合することにより樹脂組成物を調製し、これをフィルム成形することができる。また、延伸することによって、延伸フィルムとしてもよい。
【０１０７】
まず、熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサーなど、従来公知の混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混合機を用いることができる。
【０１０８】
フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など、従来公知のフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法が好ましい。
【０１０９】
溶液キャスト法（溶液流延法）に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチエルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１１０】
溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。
【０１１１】
溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。
【０１１２】
Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸などを行うこともできる。
【０１１３】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。ラクトン環含有重合体を主成分とする熱可塑性樹脂フィルムは、その他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持することができる。
【０１１４】
延伸を行う方法としては、例えば、一軸延伸法、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法など、従来公知のフィルム延伸方法が挙げられる。
【０１１５】
延伸温度は、フィルム原料であるラクトン環含有重合体を主成分とする樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）の範囲である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないことがある。一方、延伸温度が（ガラス転移温度＋１００℃）超えると、樹脂組成物の流動（フロー）が起こり、安定な延伸が行えなくなることがある。
【０１１６】
面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍の範囲である。延伸倍率が１．１倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないことがある。一方、延伸倍率が２５倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないことがある。
【０１１７】
延伸速度は、一方向で、好ましくは１０〜２０，０００％／分、より好ましくは１００〜１０，０００％／分の範囲である。延伸速度が１０％／分未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなることがある。一方、延伸速度が２０，０００％／分を超えると、延伸フィルムの破断などが起こることがある。
【０１１８】
また、得られたフィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うことができる。熱処理の条件は、従来公知の延伸フィルムに対して行われる熱処理の条件と同様に適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。
【０１１９】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、その厚さが好ましくは５μｍ〜２５０μｍ、より好ましくは１０〜１５０μｍである。この範囲外であると、加工工程における工程張力の変化や曲げ等の変形によって割れる問題が特に起こりにくくなり、また、適度な曲げ強さを有するため毎葉シートの状態での手や機械によるハンドリング時に折れ曲がりなどの問題が生じて好ましくない。
【０１２０】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、高透明性を有しており、可視光透過率が、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【０１２１】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した引張強度が、好ましくは１０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満、より好ましくは３０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満である。引張強度が１０ＭＰａ未満であると、充分な機械的強度を発現できなくなることがある。一方、引張強度が１００ＭＰａを越えると、加工性が低下することがある。
【０１２２】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した伸び率が、好ましくは１％以上である。上限は特に限定されないが、通常は１００％以下が好ましい。伸び率が１％未満であると、靭性に欠けるため好ましくない。
【０１２３】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した引張弾性率が、好ましくは０．５ＧＰａ以上、より好ましくは１ＧＰａ以上、さらに好ましくは２ＧＰａ以上である。上限は特に限定されないが、通常は２０ＧＰａ以下が好ましい。０．５ＧＰａ未満の場合には、充分な機械的強度を得られなくなることがある。
【０１２４】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、その表面の濡れ張力が、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５０ｍＮ／ｍ以上、さらに好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上である。表面の濡れ張力が少なくとも４０ｍＮ／ｍ以上であると、ラクトン環含有樹脂フィルムと防眩層との密着性がさらに向上する。表面の濡れ張力を調整するために、例えば、コロナ放電処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他の従来公知の表面処理を施すことができる。
【０１２５】
≪バインダー≫
前記防眩層を形成するバインダーとしては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。又、厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍとすると良い。
【０１２６】
電離放射線硬化型樹脂組成物の被膜形成成分は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下本明細書では、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する。）などのオリゴマー又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてを比較的多量に含む電離放射線硬化型樹脂から構成する。
上記希釈剤としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドンなどの単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどがある。
【０１２７】
特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【０１２８】
更に、上記防眩層を形成するためのバインダーとして、上記のような電離放射線硬化型樹脂に対して溶剤乾燥型樹脂を含ませてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として、熱可塑性樹脂例えば、セノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が用いられる。
【０１２９】
次のように、電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませる利点がある。
【０１３０】
電離放射線硬化型樹脂組成物をメタリングロールを有するロールコータで透明基材フィルムに塗布する場合、メタリングロール表面の液状残留樹脂膜が流動して経時で筋やムラ等になり、これらが塗布面に筋やムラ等の欠点を生じるが、上記のように電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませると、このような塗布面の塗膜欠点を防ぐことができる。
【０１３１】
上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
【０１３２】
例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
≪微粒子≫
前記防眩層に含有させる第１の微粒子としては、樹脂微粒子が好適であり、特に透明度が高く、マトリックス樹脂（バインダー）との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
【０１３３】
第１の微粒子に用いられる樹脂微粒子としては、メラミン微粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート微粒子（屈折率１．５７）、ポリエチレン微粒子（屈折率１．５０）、ポリスチレン微粒子（１．６０）、ポリ塩化ビニル微粒子（屈折率１．６０）等が用いられる。これらの樹脂微粒子の粒径は、前述のように０．５〜５μｍのものを適宜選択して用い、５〜３０重量％含有させるとよい。
【０１３４】
上記のような有機フィラーとしての第１の微粒子を添加した場合には、樹脂組成物（バインダー）中で有機フィラーが沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、有機フィラーの沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１重量％未満程度含有させるとよい。
【０１３５】
前記防眩層に含有させる第２の微粒子としては、樹脂微粒子が好適であり、特に透明度が高く、マトリックス樹脂（バインダー）との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
【０１３６】
第２の微粒子に用いられる樹脂微粒子としては、アクリル微粒子（屈折率１．４９）、アクリル−スチレン微粒子（屈折率１．５４）等が用いられる。これらの樹脂微粒子の粒径は、防眩層の膜厚によって用いるものが異なり、好ましくは防眩層の膜厚より０．１〜０．３μｍ粒径が大きいものを適宜選択して用い、５〜２０重量％含有させるとよい。
【０１３７】
なお、第１及び第２の微粒子として用いる樹脂微粒子としては、防眩層の拡散、防眩、反射防止の各機能をバランスを保って発現させるためには粒径が整っているほうが良く、単分散有機微粒子が好ましく用いられる。
【０１３８】
≪光重合開始剤≫
上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルホスフィンなどを混合して使用することができる。
【０１３９】
≪防眩層形成≫
次に、前記透明基材フィルムの面に、防眩層を形成する過程について説明する。
【０１４０】
透明基材フィルムに対して、第１の微粒子及び第２の微粒子を混ぜたバインダーを塗布し、第１の微粒子及び第２の微粒子によるバインダー表面の形状が充分に形成されるまで放置し、次に前記バインダーが電子線あるいは紫外線硬化型樹脂の場合は、これら電子線あるいは紫外線を照射し、又溶剤乾燥型樹脂の場合は加熱して硬化する。
【０１４１】
このようにすると、防眩層は全体として平滑な状態となり、バインダー表面に第１の微粒子のよる凹凸が形成され、且つ、バインダー表面より第２の微粒子が０．１〜０．３μｍ突出した防眩層が形成される。
【０１４２】
≪その他の用途≫
液晶表示装置は、バックライト、偏光板、液晶パネル、偏光板、この順で積層した透明型の液晶表示装置である。
【０１４３】
前記液晶表示装置における液晶パネルで使用される液晶モードとしては、ツイストネマチックタイプ（ＴＮ）、スーパーツイストネマチックタイプ（ＳＴＮ）、相転移タイプ（ＰＣ）、高分子分散タイプ（ＰＤＬＣ）等のいずれであってもよい。
【０１４４】
又、液晶の駆動モードとしては、単純マトリックスタイプ、アクティブマトリックスタイプのどちらでもよく、アクティブマトリックスタイプの場合では、ＴＦＴ、ＭＩＭ等の駆動方式が取られる。
【０１４５】
更に、液晶パネルは、カラータイプあるいはモノクロタイプのいずれであってもよい。
【実施例】
【０１４６】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例により制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【０１４７】
≪評価方法≫
<微粒子の粒子径>
コールタ−マルチサイザー（ベックマンコールター社製）を用いて測定した。
【０１４８】
<微粒子の屈折率>
１００ｃｃのフラスコに粒子０．５ｇを秤量し、二硫化炭素４０ｇを加えた後、マグネチックスターラーにより室温で十分に攪拌し、混合溶液を作成した。この混合溶液に、ピペットにてエタノールを滴下していくと、最初白濁していた液が徐々に透明になる。目視で透明と判断した点を終点とする。終点時点での粒子分散液における二硫化炭素とエタノールの重量比に相当する混合溶剤を別途作製し、アッベ屈折率計（株式会社アタゴ製）にて混合溶剤の屈折率を測定し、この屈折率を粒子の屈折率とした。
【０１４９】
<ヘイズ>
ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ２０００）を用いて測定した。
【０１５０】
<防眩層膜厚>
マイクロメータを用い１０点測定を行い、平均値から基材フィルムの膜厚を引いた値を防眩層膜厚とした。
【０１５１】
<透過鮮明度>
ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、スガ試験機（株）製「写像性試験器ＩＣＭ−１Ｔ」により、２ｍｍ、１ｍｍ、０．５ｍｍ及び０．１２５ｍｍの巾をもつ光学くしを通して、各光学くしに対応する透過鮮明度を測定した。４点の値の和を透過鮮明度として求めた。
【０１５２】
<光反射率>
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３７００）を用いてフィルムの反射率を波長４００−８００ｎｍの範囲で測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率を防眩フィルムの光反射率とした。
【０１５３】
<シンチレーション>
高精細画像である１８０μｍの画素ピッチの画像をもつデイスプレイに貼着して画像の状態を目視で評価した。
評価基準
○：ちらつきが無く良好
×：画像にちらつきがみられる
<耐候性>
岩崎電気（株）製超促進耐候性試験装置を用いて試験を行い、１００ｍＷ／ｃｍ２の条件にて、１００時間後に△ｂ*値の初期値からの変化量により評価した。
評価基準
○：変化量が５．０％未満
×：変化量が５．０％以上
<耐溶剤性>
防眩フィルム（７０ｍｍ×７０ｍｍ）をメタノール中に１０分間浸漬後、取り出したフィルムについて目視により評価した。
評価基準
○：全く溶解しない
×：完全に、もしくは一部溶解してしまう
<鉛筆硬度>
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠して鉛筆引っかき試験を行い、傷付きにより評価した。
<フィルム表面電位>
２３℃、５０％ＲＨの環境の元、防眩フィルム同士を１０回こすり擦り合わせ、表面電位計（ＦＭＸ−００３、ＳＩＭＣＯ社製）を用い測定した。
評価基準
○：３ kＶより小さい
△：３kＶ以上、５kＶ以下
×：５kＶより大きい
≪微粒子の合成例≫
<合成例１>
重合体シード粒子（Ｋ−１）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水９０ｇとスチレン１０ｇ、ｎ−デシルメルカプタン０．５ｇ、ＮａＣｌ０．１ｇを入れ、１時間窒素を流して反応器内の窒素置換を行った。その後反応液を７０℃に昇温させて、続いて少量のイオン交換水に溶かした０．１ｇの過硫酸カリウムを注射器を用いて反応系中に注ぎ込んだ。その後７０℃で２４時間反応を行った。反応終了後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄した。得られた重合体シード粒子（Ｋ−１）の粒子径をコールタ−マルチサイザー（ベックマンコールター社製）により測定したところ、平均粒子径は０．７μｍ、変動係数は３．０％であった。
【０１５４】
樹脂粒子（Ｓ−１）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、重合体シード粒子（Ｋ−１）０．５ｇ、イオン交換水５０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．０５ｇを加え均一に分散させ、さらにポリビニルアルコールの３重量％水溶液を２０ｇ加えたものを重合体シード粒子分散液とした。次いで、乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム０．１部をイオン交換水５０ｇで溶解した溶液に、スチレン ０．２５ｇ、エチレングリコールジメタクリレート ０．０３ｇ、過酸化ベンゾイル ０．０１ｇを溶解した溶液を加えホモジナイザーによりモノマーエマルションを調整し、得られたモノマーエマルションを上記重合体シード粒子の乳濁液中に添加して、さらに攪拌を行った。次いで反応液を窒素雰囲気下で７０℃に昇温させて、７０℃で２４時間保持しモノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させて樹脂粒子（Ｓ−１）を得た。樹脂粒子（Ｓ−１）の平均粒子径は１．３μｍ、変動係数は４．２％、屈折率は１．６０である。
【０１５５】
<製造例２>
樹脂粒子（Ｓ−２）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四ツ口フラスコに、重合体シード粒子（Ｋ−１）０．５ｇ、イオン交換水５０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．０５ｇを加え均一に分散させ、さらにポリビニルアルコールの３重量％水溶液を２０ｇ加え、重合体シード粒子分散液を調製した。次いで、乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム０．１部をイオン交換水５０ｇで溶解した溶液に、メチルメタクリレート４．９１ｇ、エチレングリコールジメタクリレート０．５５ｇ、過酸化ベンゾイル０．２７ｇを溶解した溶液を加え、ホモジナイザーによりモノマーエマルションを調製し、得られたモノマーエマルションを上記重合体シード粒子分散液に添加して、さらに攪拌を行った。次いで、反応容器に窒素ガスを導入し、反応液を窒素雰囲気下で７０℃に昇温させて、７０℃で２４時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させて樹脂粒子（Ｓ−２）を得た。
得られた樹脂粒子（Ｓ−２）の粒子径は３．５μｍ、変動係数は３．２％、屈折率は１．４９であった。
【０１５６】
<製造例３>
樹脂粒子（Ｓ−３）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四ツ口フラスコに、重合体シード粒子（Ｋ−１）０．５ｇ、イオン交換水５０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．０５ｇを加え均一に分散させ、さらにポリビニルアルコールの３重量％水溶液を２０ｇ加え、重合体シード粒子分散液を調製した。次いで、乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム０．１部をイオン交換水５０ｇで溶解した溶液に、スチレン５．７２ｇ、メチルメタクリレート８．５９ｇ、エチレングリコールジメタクリレート１．５９ｇ、過酸化ベンゾイル０．６０ｇを溶解した溶液を加え、ホモジナイザーによりモノマーエマルションを調製し、得られたモノマーエマルションを上記重合体シード粒子分散液に添加して、さらに攪拌を行った。次いで、反応容器に窒素ガスを導入し、反応液を窒素雰囲気下で７０℃に昇温させて、７０℃で２４時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させて樹脂粒子（Ｓ−３）を得た。
得られた樹脂粒子（Ｓ−３）の粒子径は５．０μｍ、変動係数は４．１％、屈折率は１．５４であった。
【０１５７】
<製造例４>
樹脂粒子（Ｓ−４）の製造
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水５２６部と２５％アンモニア水１．６部、メタノール１１８部を入れ、攪拌しながらこの溶液に３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン３０部を滴下口から添加して、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解・縮合を行ってオルガノポリシロキサン粒子を調整した。反応開始から２時間後、得られたオルガノポリシロキサン粒子の乳濁液をサンプリングし、コールタ−マルチサイザー（ベックマンコールター社製）により粒子径を測定したところ、平均粒子径は１．９５μｍであった。次いで、乳化剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩（第一工業製薬社製、ハイテノールＮＦ−０８）２．５部をイオン交換水１７５部で溶解した溶液に、スチレン９０部、ジビニルベンゼン１０部、２、２’−アゾビス（２、４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業社製、Ｖ−６５）２部を溶解した溶液を加えＴＫホモミキサー（特殊機化工業社製）により６０００ｒｐｍで５分間乳化分散させてモノマーエマルションを調整し、得られたモノマーエマルションをオルガノポリシロキサン粒子の乳濁液中に添加して、さらに攪拌を行った。モノマーエマルション添加から２時間後、反応液をサンプリングして顕微鏡で観察を行ったところ、オルガノポリシロキサン粒子がモノマーを吸収して肥大化している事が確認された。次いで反応液を窒素雰囲気下で６５℃に昇温させて、６５℃で２時間保持しモノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させて樹脂粒子（１）を得た。得られた樹脂粒子（Ｓ−４）の粒子径は３．５μｍ、変動係数は３．９％、屈折率は１．６０であった。
【０１５８】
≪コーティング剤の調製例≫
<調製例１>
紫外線硬化型樹脂であるＤ Ｐ Ｈ Ａ （ 日本化薬社製、硬化塗膜屈折率１ ．５ ３ ）を１００ｇ、光重合開始剤であるイルガキュア１８４（チバ・チバスペシャルティケミカルズ社製） を５ｇ、第１微粒子としての樹脂粒子（Ｓ−１）を５ｇ、第２微粒子として樹脂粒子（Ｓ−２）を１５ｇ、トルエン ４５ｇを十分混合して塗布液として調整した。この塗布液を孔径３ ０ μ ｍ のポリプロピレン製フィルターでろ過してコーティング組成物（Ｃ−１）を調製した。
【０１５９】
<調製例２>
第２微粒子として樹脂粒子（Ｓ−２）の代わりに樹脂粒子（Ｓ−３）を用い、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−２）を得た。
【０１６０】
<調製例３>
第１微粒子として樹脂粒子（Ｓ−１）の代わりに樹脂粒子（Ｓ−４）を用い、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−３）を得た。
【０１６１】
<調製例４>
第１微粒子として樹脂粒子（Ｓ−１）の代わりに凝集性シリカ（日本シリカ社製、粒子径１．０μｍ）、第２微粒子を用いず、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−４）を得た。
【０１６２】
<調製例５>
第２微粒子を用いず、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−５）を得た。
【０１６３】
<調製例６>
第１微粒子を用いず、各成分量を表１に示した量とした以外は、コーティング組成物（Ｃ−１）と同様にして、コーティング組成物（Ｃ−６）を得た。
【０１６４】
≪ラクトン環含有樹脂フィルムの調製≫
次に、ラクトン環含有樹脂フィルムの製造例について説明する。
【０１６５】
まず、ラクトン環含有樹脂（以下「ラクトン環含有重合体」ということがある。）の評価方法について説明する。
【０１６６】
<重合反応率、重合体組成分析>
重合反応時の反応率および重合体中の特定単量体単位の含有率は、得られた重合反応混合物中の未反応単量体の量をガスクロマトグラフ（ＧＣ１７Ａ、（株）島津製作所製）を用いて測定して求めた。
【０１６７】
<ダイナミックＴＧ>
重合体（もしくは重合体溶液あるいはペレット）を一旦テトラヒドロフランに溶解または希釈し、過剰のヘキサンまたはメタノールに投入して再沈殿を行い、取り出した沈殿物を真空乾燥（１ｍｍＨｇ（１．３３ｈＰａ）、８０℃、３時間以上）することによって揮発成分などを除去し、得られた白色固形状の樹脂を以下の方法（ダイナミックＴＧ法）で分析した。
測定装置：差動型示差熱天秤（Ｔｈｅｒｍｏ Ｐｌｕｓ２ ＴＧ−８１２０ ダイナミックＴＧ、（株）リガク製）
測定条件：試料量 ５〜１０ｍｇ
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：窒素フロー １００ｍＬ／ｍｉｎ
方法：階段状等温制御法（６０℃から５００℃までの範囲における質量減少速度値０．００５％／ｓｅｃ以下に制御）
<ラクトン環構造の含有割合>
まず、得られた重合体組成からすべての水酸基がメタノールとして脱アルコールした際に起こる質量減少量を基準にし、ダイナミックＴＧ測定において質量減少が始まる前の１５０℃から重合体の分解が始まる前の３００℃までの脱アルコール反応による質量減少から、脱アルコール反応率を求めた。
【０１６８】
すなわち、ラクトン環構造を有する重合体のダイナミックＴＧ測定において１５０℃から３００℃までの間の質量減少率の測定を行い、得られた実測値を実測質量減少率（Ｘ）とする。他方、当該重合体の組成から、その重合体組成に含まれる全ての水酸基がラクトン環の形成に関与するためアルコールになり脱アルコールすると仮定した時の質量減少率（すなわち、その組成上において１００％脱アルコール反応が起きたと仮定して算出した質量減少率）を理論質量減少率（Ｙ）とする。なお、理論質量減少率（Ｙ）は、より具体的には、重合体中における脱アルコール反応に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体のモル比、すなわち当該重合体組成における原料単量体の含有率から算出することができる。これらの値を脱アルコール計算式：１−（実測質量減少率（Ｘ）／理論質量減少率（Ｙ））に代入してその値を求め、百分率（％）で表記すると、脱アルコール反応率が得られる。
【０１６９】
一例として、後述の製造例１で得られたペレットにおいてラクトン環構造の含有割合を計算する。この重合体の理論質量減少率（Ｙ）を求めてみると、メタノールの分子量は３２であり、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの分子量は１１６であり、重合体中における２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの含有率（質量比）は組成上２０．０質量％であるから、（３２／１１６）×２０．０≒５．５２質量％となる。他方、ダイナミックＴＧ測定による実測質量減少率（Ｘ）は０．３４質量％であった。これらの値を上記の脱アルコール計算式に当てはめると、１−（０．３４／５．５２）≒０．９３８となるので、脱アルコール反応率は９３．８％である。
【０１７０】
そして、この脱アルコール反応率分だけ所定のラクトン環化が行われたものとして、ラクトン環化に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体の当該共重合体組成における含有量（質量比）に、脱アルコール反応率を乗じ、ラクトン環構造の含有率（質量比）に換算することにより、当該共重合体におけるラクトン環構造の含有割合を算出することができる。後述の製造例の場合、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの当該共重合体における含有率が２０．０質量％、算出した脱アルコール反応率が９３．８％、分子量が１１６の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルがメタクリル酸メチルと縮合した場合に生成するラクトン環構造の式量が１７０であることから、当該共重合体におけるラクトン環構造の含有割合は２７．５（２０．０×０．９３８×１７０／１１６）質量％となる。
【０１７１】
<重量平均分子量、数平均分子量>
重合体の重量平均分子量や数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣシステム、東ソー（株）製）を用いて、ポリスチレン換算により求めた。
【０１７２】
<重合体の熱分析>
重合体の熱分析は、示差走査熱量計（ＤＳＣ−８２３０、（株）リガク製）を用いて、試料約１０ｍｇ、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、窒素フロー５０ｍＬ／ｍｉｎの条件で行った。なお、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ−Ｄ−３４１８に準拠して、中点法で求めた。
【０１７３】
<製造例１> （ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の製造例）
まず、攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素ガス導入管を備えた容量３０Ｌの反応容器に、メタクリル酸メチル８ｋｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル２ｋｇ、メチルイソブチルケトン１０ｋｇ、ｎ−ドデシルメルカプタン５ｇを仕込んだ。
【０１７４】
この反応容器に窒素ガスを導入しながら、１０５℃まで昇温し、還流したところで、重合開始剤として、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７５、化薬アクゾ（株）製）５ｇを添加すると同時に、メチルイソブチルケトン２３０ｇにｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７５、化薬アクゾ（株）製）１０ｇを溶解した溶液を２時間かけて滴下しながら、還流下、約１０５〜１２０℃で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０１７５】
得られた重合体溶液に、リン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８、堺化学工業（株）製）３０ｇを添加し、還流下、約９０〜１２０℃で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／ｈの処理速度で導入し、この押出機内で、さらに環化縮合反応と脱揮を行い、押し出すことにより、ラクトン環含有重合体の透明なペレットを得た。
【０１７６】
得られたラクトン環含有重合体について、ダイナミックＴＧの測定を行ったところ、０．３４質量％の質量減少を検知した。また、このラクトン環含有重合体は、重量平均分子量は１４４，０００であり、ガラス転移温度が１３１℃であった。
【０１７７】
このラクトン環含有重合体のペレットを、２０ｍｍφのスクリューを有する二軸押出機を用いて、幅１５０ｍｍのコートハンガータイプＴダイから溶融押出して、厚さ約１００μｍのラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）を調製した。
【０１７８】
<製造例２>
（紫外線吸収能を付与したラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）の製造例）
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を付した３０Ｌ反応釜に、４１．５部のメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、６部の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、２．５部の２−〔２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ〕エチルフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学（株）製、商品名：ＲＵＶＡ−９３）、５０部のトルエン、０．０２５部のアデカスタブ２１１２（旭電化工業（株）製）、０．０２５部のｎ−ドデシルメルカプタンを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させ、還流したところで、開始剤として０．０５部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富（株）製、商品名：ルパゾール５７０）を添加すると同時に、０．１０部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエートを３時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０１７９】
得られた重合体溶液に、０．０５部のリン酸２−エチルヘキシル（堺化学工業（株）製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−８）を加え、還流下（約９０〜１１０℃）で２時間、環化縮合反応を行った。引き続きオートクレーブにより２４０℃で３０分間加熱処理を行い、環化縮合反応を完全に行った。
【０１８０】
次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２４０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）のベントタイプスクリュー二軸押出し機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、脱揮を行った。そのとき、別途準備しておいた酸化防止剤・失活剤混合溶液を、第１ベントの後から高圧ポンプを用いて０．０３ｋｇ／時間の投入速度で注入した。また、第２ベントの後より別途準備しておいた紫外線吸収剤溶液０．０５ｋｇ／時間の投入速度で注入した。更に第３ベントの後から高圧ポンプを用いてイオン交換水を０．０１ｋｇ／時間の投入速度で注入した。酸化防止剤・失活剤混合溶液はスミライザーＧＳ（住友化学（株）製）５０部、オクチル酸亜鉛（ニッカオクチクス亜鉛３．６％ 日本化学産業（株）製）３５部をトルエン２００部に溶解したものである。紫外線吸収剤溶液は、分子量が９５４の紫外線吸収剤が主成分（分子量７７１、９５４、および、１１３８の紫外線吸収剤の混合物）でヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有するＣＧＬ７７７ＭＰＡ（チバスペシャリティケミカルズ（株）社製 有効成分８０％）１９部をトルエン３１部に溶解したものである。
【０１８１】
上記脱揮操作により、透明で紫外線吸収性単量体単位を有する熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。ＧＰＣによる樹脂部の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は１４５０００、ガラス転移温度は１２２℃であった。
【０１８２】
上記樹脂を用い、２７０℃の押出温度でシリンダー径が２０ｍｍの単軸押出機を用い下記条件で押出成形し、１００μｍの厚みのラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）を得た。（Ｔ−ダイ：温度２７０℃、幅１２０ｍｍ、成膜：つや付き２本ロール、ロール温度１１０℃、引き取り速度：２．５ｍ／分）。
〔実施例１〕
調製したコーティング組成物（Ｃ−１）を基材フィルムであるラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）に、バーコーターを用いて塗布した。塗布層を１００℃で２分乾燥した後に凹凸層を形成させ、窒素パージ下（酸素濃度１０００ｐｐｍ以下）で、高圧水銀灯で２５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより硬化させ、防眩層を形成させ、防眩フィルムを得た。得られた防眩フィルムについて、防眩層膜厚、ヘイズ、透過鮮明度、光反射率、シンチレーション、耐候性、耐溶剤性、鉛筆硬度およびフィルム帯電電位を評価した。結果を表３に示した。
〔実施例２〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−２）を利用し、基材フィルムにラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表３に示した。
〔実施例３〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−３）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表３に示した。
〔比較例１〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−４）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例２〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−５）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例３〕
コーティング組成物（Ｃ−１）の代わりにコーティング組成物（Ｃ−６）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例４〕
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ、富士フィルム社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例５〕
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにシクロオレフィンポリマーフィルム（ゼオノアＺＦ１４、日本ゼオン社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
〔比較例６〕
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにＰＥＴフィルム（ＨＢＰＦ８Ｗ、帝人デュポン社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルムを得た。結果を表４に示した。
【０１８３】
【表１】
【０１８４】
【表２】
【０１８５】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【０１８６】
本発明の防眩フィルムは、防眩性に加えて、ヘイズの抑制、透過画像鮮明度の向上、耐候性、表面硬度、フィルム製造・加工時の作業性および安全性がいずれも従来に比べ高く、各種光学用途に応じた特性を十分に発揮することができるので、例えば、液晶表示装置やプラズマディスプレイ、有機ＥＬ表示装置などのフラットパネルディスプレイなどに防眩性、光拡散性を付与する光学用途に好適である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルム上に、バインダーと少なくとも１種類の微粒子を含む防眩層と、を積層してなり、前記透明基材フィルムが、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルムであり、前記微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下であり、且つ、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出してなることを特徴とする防眩フィルム。
【化１】
[式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す；なお、該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい]
【請求項２】
少なくとも透明基材フィルムと、バインダー中に第１の微粒子と第２の微粒子とを含む防眩層と、を積層してなり、前記第１の微粒子は、粒径が０．５〜２．０μｍであり、且つ、前記バインダーとの屈折率の差が０．０４〜０．２０であり、前記第２の微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下であり、且つ、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出してなることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記微粒子が、単分散有機微粒子であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、前記バインダーは、電離放射線硬化型樹脂であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項５】
平面状の透光性表示体と、この透光性表示体を背面から照射する光源装置と、前記透光性表示体の表面に積層された請求項１乃至４のいずれかの防眩フィルムと、を有してなる透過型表示装置。
【請求項１】
透明基材フィルム上に、バインダーと少なくとも１種類の微粒子を含む防眩層と、を積層してなり、前記透明基材フィルムが、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルムであり、前記微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下であり、且つ、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出してなることを特徴とする防眩フィルム。
【化１】
[式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す；なお、該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい]
【請求項２】
少なくとも透明基材フィルムと、バインダー中に第１の微粒子と第２の微粒子とを含む防眩層と、を積層してなり、前記第１の微粒子は、粒径が０．５〜２．０μｍであり、且つ、前記バインダーとの屈折率の差が０．０４〜０．２０であり、前記第２の微粒子は、前記バインダーとの屈折率の差が０．３以下であり、且つ、前記防眩層の表面より０．１〜０．３μｍ突出してなることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記微粒子が、単分散有機微粒子であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、前記バインダーは、電離放射線硬化型樹脂であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項５】
平面状の透光性表示体と、この透光性表示体を背面から照射する光源装置と、前記透光性表示体の表面に積層された請求項１乃至４のいずれかの防眩フィルムと、を有してなる透過型表示装置。
【公開番号】特開２００９−１７５３３５（Ｐ２００９−１７５３３５Ａ）
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１２６５３（Ｐ２００８−１２６５３）
【出願日】平成２０年１月２３日（２００８．１．２３）
【出願人】（０００００４６２８）株式会社日本触媒 (2,292)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月２３日（２００８．１．２３）
【出願人】（０００００４６２８）株式会社日本触媒 (2,292)
【Ｆターム（参考）】
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