防眩性積層体
【課題】
優れた防眩性、シンチレーションの防止性および画像鮮明性の向上の実現に加えて、高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、防眩フィルム製造時の作業性および安全性の向上させた防眩フィルムを提供すること。
【解決手段】
本発明の防眩フィルムは、基材フィルムにラクトン環含有樹脂フィルムを用い、基材フィルム上に防眩層を設けた防眩フィルムにおいて、防眩層の内部拡散による内部ヘイズＨｉを１＜Ｈｉ＜１５、防眩層の表面凹凸による表面ヘイズＨｓを７＜Ｈｓ＜３０することにより、優れた防眩性を実現し、シンチレーションの防止、画像鮮明性の向上、高い耐候性、高表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性・安全性を向上させた防眩フィルムが得られる。
優れた防眩性、シンチレーションの防止性および画像鮮明性の向上の実現に加えて、高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、防眩フィルム製造時の作業性および安全性の向上させた防眩フィルムを提供すること。
【解決手段】
本発明の防眩フィルムは、基材フィルムにラクトン環含有樹脂フィルムを用い、基材フィルム上に防眩層を設けた防眩フィルムにおいて、防眩層の内部拡散による内部ヘイズＨｉを１＜Ｈｉ＜１５、防眩層の表面凹凸による表面ヘイズＨｓを７＜Ｈｓ＜３０することにより、優れた防眩性を実現し、シンチレーションの防止、画像鮮明性の向上、高い耐候性、高表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性・安全性を向上させた防眩フィルムが得られる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）パネルなどの高精細画像用ディスプレイ表示装置の表面に設ける防眩性積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）パネルなどの高精細画像用ディスプレイや赤外線センサー、光導波路等の進歩に伴い、光学用透明高分子材料、特に面状（フィルム状やシート状など）の光学用透明高分子材料、つまり光学フィルムに対する要請が高まっている。
【０００３】
特に、ディスプレイ分野で使用される光学フィルムには、高い透明性、高い光学等方性に加えて、低い光学弾性率、耐熱性、高い機械的強度が高まっている。
上記のようなディスプレイにおいて、主として内部から出射する光がディスプレイ表面で拡散することなく直進すると、ディスプレイ表面を目視した場合、眩しいために、内部から出射する光をある程度拡散するための防眩フィルムをディスプレイ表面に設けている。
この防眩フィルムは、例えば特許文献１および２に開示されるように、透明基材フィルムの表面に、二酸化ケイ素（シリカ）等のフィラーを含む樹脂を塗工して形成したものである。
これらの防眩フィルムは、凝集性シリカ等の粒子の凝集によって防眩層の表面に凹凸形状を形成するタイプ、塗膜の膜厚以上の粒径を有する有機フィラーを樹脂中に添加して層表面に凹凸形状を形成するタイプ、あるいは層表面に凹凸をもったフィルムをラミネートして凹凸形状を転写するタイプがある。
屋外で使用される場合には、高い耐候性が要求されている。
また、ディスプレイ表面で使用される場合には、高い表面硬度が要求されている。
特許文献３では、防眩フィルムの防眩性に、シンチレーション（面のギラツキ）の抑制、白ボケを防止し画像鮮明性を向上させるべく、防眩フィルムの内部ヘイズ、表面ヘイズの制御に関して検討されている。
特許文献４では、基材フィルムにラクトン環含有樹脂を使用し、防眩フィルムの耐候性と表面硬度を向上させている。しかし、防眩性については不十分であった。
さらには、フィルム取り扱いの作業性、安全性を考慮すると、防眩フィルム製造・加工の際に発生する静電気を発生しにくくするために、フィルム自身の表面電位を小さく抑え、帯電させにくくすることが要求される。
しかし、上記のすべての特性を十分に満足するものは、従来の防眩フィルムになかった。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１８７０６
【特許文献２】特開平１０−２０１０３
【特許文献３】特開平１１−３０５０１０
【特許文献４】特開２００７−２９３２７２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような従来の防眩フィルムは、いずれのタイプでも、防眩層の表面形状の作用により、光拡散・防眩作用を得るようにしていて、防眩性を高めるためには前記凹凸形状を大きくする必要があるが、凹凸が大きくなると、塗膜の曇価（ヘイズ値）が上昇し、これに伴い画像の鮮明性が低下するという問題点がある。
上記に類似したものとして、微粒子を層内部に分散して光分散効果を得るようにした光拡散フィルムが、例えば反射型液晶表示装置用として、照明学会研究会誌ＭＤ−９６−４８（１９９６年）第２７７頁〜２８２頁に開示されている。
又、ディスプレイ表面に光拡散フィルムのような内部散乱効果により光拡散効果を得るものを防眩用として用いた場合には、その表面がほぼ平坦であるためディスプレイ表面への外光の写り込みを防止できないという問題点もある。
ここで用いられている内部散乱効果により十分な光拡散効果を得るためには、用いている微粒子の粒径を大きくしなければならず、このため、曇価の高いものの画像の鮮明性が非常に小さいという問題点がある。
更に又、上記従来のタイプの防眩フィルムは、フィルム表面に、シンチレーション（面のギラツキ）と呼ばれるキラキラ光る輝きが発生し、表示画面の視認性が低下するという問題がある。
このような防眩フィルムの評価基準の一つとしてヘイズ値があるが、表面のヘイズ値を低くすると、シンチレーションが強くなり、これを解消しようとしてヘイズ値を高くすると、全体が白っぽくなって黒濃度が低下し、これによりコントラストが低下してしまうという問題点がある。逆に、白っぽさを除くためにヘイズ値を低くすると、いわゆる映り込みとギラつき感が増加してしまうという問題点がある。
さらに、既存のフィルムを基材フィルムとした場合は、耐候性、表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性、安全性を十分確保できないという問題点がある。
この発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、ディスプレイ表面に取付けたとき、コントラストの低下を抑えると共にシンチレーション、写り込み、白化を防止し、さらには、高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、防眩フィルム製造・加工時の作業性および安全性の確保を同時に満たす防眩フィルムを用いた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、請求項１のように、透明基材フィルムであるラクトン環含有樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、屈折率の異なる微粒子を含有するバインダーからなる防眩層を積層し、この防眩層の表面凹凸における表面ヘイズ値Ｈｓを７＜Ｈｓ＜３０、前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉを１＜Ｈｉ＜１５となるようにして、上記目的を達成するものである。
【０００７】
又、前記防眩層の上に、更に、この防眩層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層を積層してもよい。
【０００８】
更に、前記低屈折率層を、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体から形成してもよい。
【０００９】
又、前記シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体を、フッ化ビニリデン及びヘキサフルオロプロピレンの共重合体であって、フッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物との重合体としてもよい。
【００１０】
更に又、前記低屈折率層は、少なくとも前記フッ素含有共重合体と前記エチレン性不飽和基を有する重合性化合物とから構成される塗膜を塗布後、活性エネルギー線を照射又は加熱して形成されたものとしてもよい。
【００１１】
又、前記低屈折率層を、酸化ケイ素の膜から形成すると共に、更にその上に防汚層を形成するようにしてもよい。
【００１２】
前記防眩フィルムにおける防眩層の表面凹凸におけるヘイズ値Ｈｓと前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉとの和が３０以下となるようにしてもよい。
【００１３】
又、前記防眩層におけるバインダーと微粒子との屈折率の差Δｎを、０．０１≦Δｎ≦０．５とすると共に、微粒子の平均粒径ｄを、０．１μｍ≦ｄ≦５μｍとしてもよい。
【００１４】
前記防眩フィルムにおけるバインダーを、熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方とし、前記微粒子を有機系微粒子としてもよい。
【００１５】
又、前記有機系微粒子をスチレンビーズとしてもよい。
【００１６】
又、透明基材フィルムと防眩層との間に透明導電性層を有し、かつ、防眩層中に導電材料が含有されるようにしてもよい。
【００１７】
表示装置に係る本発明は請求項１２のように、複数の画素を有し、各画素が光を透過又は光を反射することにより、画像を形成する表示パネルと、この表示パネルの表示面側に設けられた前記のいずれかの防眩フィルムと、を有してなる表示装置により上記目的を達成するものである。
【００１８】
この発明は、屈折率の異なる微粒子を含有するバインダーからなる防眩層を積層して防眩フィルムを形成する場合、防眩層の表面凹凸における表面ヘイズ値Ｈｓを７＜Ｈｓ＜３０、前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉを１＜Ｈｉ＜１５とすると、微粒子の粒径を小さくし、且つ例えば液晶ディスプレイ等における表示品位を良好以上にすることができるという知見に基づくものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明について詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更実施し得る。
【００２０】
本発明の実施形態の防眩フィルムは、透明基材フィルムであるラクトン環含有樹脂フィルムの一方の面に屈折率の異なる微粒子を含有するバインダーからなる防眩層を積層し、更に、その外側に低屈折率層を積層してなり、前記防眩層の表面凹凸における表面ヘイズ値Ｈｓが７＜Ｈｓ＜３０で、且つ、該防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉが１＜Ｈｉ＜１５となるようにしたものである。
【００２１】
なお、低屈折率層は反射防止作用を発現する通常範囲の材質、膜厚であれば、防眩層の表面のヘイズ値にほとんど影響を与えない。
【００２２】
防眩層の表面のヘイズ値は、低いほど表示のボケを小さくして明瞭なディスプレイ表示を得ることができるが、ヘイズ値が低すぎると映り込み及び面のギラツキが発生し、高すぎると白っぽくなり（白化；黒濃度低下）、表面ヘイズ値Ｈｓは後述のように７＜Ｈｓ＜３０が好ましく、７≦Ｈｓ≦２０が更に好ましく、７≦Ｈｓ≦１５が最も好ましい。又、表面ヘイズ値Ｈｓを最適にしても内部ヘイズ値Ｈｉが低いと面のギラツキが発生し易いが、防眩層の内部ヘイズ値Ｈｉを好ましくは１＜Ｈｉ＜１５、更に好ましくは２≦Ｈｉ＜１５、最も好ましくは３≦Ｈｉ≦１２とすると面のギラツキを低下させることができた。又、防眩層の表面及び内部の両ヘイズ値の和を３０以下にすると黒濃度（コントラスト）の低下を防止することができた。
【００２３】
上述のように、本発明では、防眩層における表面の拡散と、内部の拡散を併用して、所定の効果を得ているが、上記のような表面ヘイズ値Ｈｓと内部ヘイズ値Ｈｉとの和を所定値にするよう、防眩層を形成することにより、更に大きな効果を得ることができる。この際、通常、防眩層中に含有する微粒子により樹脂層表面に適度な凹凸を設けることができ、これが好ましい形態である。
【００２４】
又、透明基材フィルムに対して、微粒子を混ぜたバインダーを塗布し、この塗布層の上から、表面に、表面粗さＲａが１．２μｍ以下の微細な凹凸を形成された賦型フィルムを、該表面が前記塗布層に接するようにラミネートし、次に、前記バインダーが電子線あるいは紫外線硬化型樹脂の場合は、これら電子線あるいは紫外線を賦型フィルムを介して照射し、又溶剤乾燥型樹脂の場合は加熱して硬化した後、賦型フィルムを硬化した防眩層から剥離することによっても、凹凸を形成することが可能である。
【００２５】
このようにすると、防眩層は賦型フィルムに予め形成されている表面粗さＲａが１．２μｍ以下の細かな凹凸が賦型される。
【００２６】
上記のようにするため、上記実施の形態の例においては、防眩層を構成するバインダーの屈折率と微粒子の屈折率の差Δｎを０．０１≦Δｎ≦０．５とすると共に、拡散剤の平均粒径ｄを、０．１μｍ≦ｄ≦５μｍとしている。
【００２７】
上記のように、屈折率差Δｎが０．０１以上としたのは、０．０１未満であると、防眩層における光拡散性を発現するには非常に多くの拡散剤をバインダー中に含有させなければならず、このようにすると防眩層の透明基材フィルムへの接着性及び塗工適性が悪化し、又Δｎが０．５よりも大きい場合は、バインダー中の微粒子の含有量が少なく、均一で適度な凹凸を持つ防眩層が得られないからである。
【００２８】
微粒子の平均粒径ｄについては、これが０．１μｍ未満である場合、微粒子のバインダー中への分散が困難となり、凝集が生じて均一で適度な凹凸を持つ防眩層を形成することができず、又ｄ＞５μｍの場合、防眩層の内部における拡散効果が減少するため内部ヘイズ値が低下し面のギラツキが発生してしまう。更に膜厚が厚くなるためバインダーの製造過程における硬化収縮が増大し、割れやカールを生じてしまう。
【００２９】
又、上記防眩層の表面及び内部におけるヘイズ値を上記のようにしたのは、本発明者の実験によって得られた知見（後述の実施例及び表参照）に基づくものである。又、上記のようなヘイズ値は、具体的には、微粒子とバインダーとの比であるフィラー／バインダー比、溶剤等を調整して得られる。
【００３０】
≪透明基材フィルム≫
前記ラクトン環含有樹脂フィルムは、ラクトン環含有重合体を主成分として含む。
【００３１】
ラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００３２】
【化２】
【００３３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。）
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が５質量％未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。一方、ラクトン環構造の含有割合が９０質量％を超えると、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。
【００３４】
ラクトン環含有重合体は、一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造を有していてもよい。一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体の製造方法として後述するような、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記一般式（２）で表される単量体とからなる群より選択される少なくとも１種の単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【００３５】
【化３】
【００３６】
（式中、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ５基、または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ５およびＲ６は水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、（メタ）アクリル酸エステルを重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％であり、ヒドロキシ基含有単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。また、不飽和カルボン酸を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。さらに、一般式（２）で表される単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００３７】
ラクトン環含有重合体の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、重合工程によって分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）を得た後、得られた重合体（ａ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。
【００３８】
重合工程においては、下記一般式（３）で表される単量体を含む単量体成分の重合反応を行うことにより、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体が得られる。
【００３９】
【化４】
【００４０】
（式中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
一般式（３）で表される単量体としては、例えば、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｎ−ブチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｔ−ブチル、メタリルアルコールなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４１】
これらの単量体のうち、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性を向上させる効果が高い点において、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルが特に好ましい。
【００４２】
重合工程において供する単量体成分中における一般式（３）で表される単量体の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。一般式（３）で表される単量体の含有割合が５質量％未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。一方、一般式（３）で示される単量体の含有割合が９０質量％を超えると、重合工程やラクトン環化縮合工程においてゲル化が起こることや、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。
【００４３】
重合工程において供する単量体成分には、一般式（３）で示される単量体以外の単量体を含んでいてもよい。このような単量体としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、および、下記一般式（２）で表される単量体などが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４４】
【化５】
【００４５】
（式中、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ５基、または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ５およびＲ６は水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
（メタ）アクリル酸エステルとしては、一般式（３）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルである限り、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸エステルは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの（メタ）アクリル酸エステルのうち、得られた重合体の耐熱性や透明性が優れることから、メタクリル酸メチルが特に好ましい。
【００４６】
一般式（３）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％である。
【００４７】
ヒドロキシ基含有単量体としては、一般式（３）で表される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体である限り、特に限定されるものではないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられる。これらのヒドロキシ基含有単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４８】
一般式（３）で表される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００４９】
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられる。これらの不飽和カルボン酸は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不飽和カルボン酸のうち、本発明の効果が充分に発揮されることから、アクリル酸、メタクリル酸が特に好ましい。
【００５０】
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００５１】
一般式（２）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、本発明の効果を充分に発揮することから、スチレン、α−メチルスチレンが特に好ましい。
【００５２】
一般式（２）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００５３】
単量体成分を重合して分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体を得るための重合反応の形態としては、溶剤を用いた重合形態であることが好ましく、溶液重合が特に好ましい。
【００５４】
重合温度や重合時間は、使用する単量体の種類や割合などに応じて異なるが、例えば、好ましくは、重合温度が０〜１５０℃、重合時間が０．５〜２０時間であり、より好ましくは、重合温度が８０〜１４０℃、重合時間が１〜１０時間である。
【００５５】
溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。また、溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるラクトン環含有重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が５０〜２００℃である溶剤が好ましい。
【００５６】
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。
【００５７】
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。なお、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が低すぎると生産性が低下するので、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上である。
【００５８】
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより充分に抑止することができ、特に、ラクトン環含有割合を増やして耐熱性を向上させるために分子鎖中のヒドロキシ基とエステル基との割合を高めた場合であっても、ゲル化を充分に抑止することができる。添加する重合溶剤としては、例えば、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの単一溶剤であっても２種以上の混合溶剤であってもよい。
【００５９】
以上の重合工程を終了した時点で得られる重合反応混合物中には、通常、得られた重合体以外に溶剤が含まれているが、溶剤を完全に除去して重合体を固体状態で取り出す必要はなく、溶剤を含んだ状態で、続くラクトン環化縮合工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続くラクトン環化縮合工程に好適な溶剤を再添加してもよい。
【００６０】
重合工程で得られた重合体は、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）であり、重合体（ａ）の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。重合工程で得られた重合体（ａ）は、続くラクトン環化縮合工程において、加熱処理されることによりラクトン環構造が重合体に導入され、ラクトン環含有重合体となる。
【００６１】
重合体（ａ）へラクトン環構造を導入するための反応は、加熱により、重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とが環化縮合してラクトン環構造を生じる反応であり、その環化縮合によってアルコールが副生する。ラクトン環構造が重合体の分子鎖中（重合体の主骨格中）に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。ラクトン環構造を導く環化縮合反応の反応率が不充分であると、耐熱性が充分に向上しないことや、成形時の加熱処理によって成形途中に縮合反応が起こり、生じたアルコールが成形品中に泡やシルバーストリークとなって存在することがある。
【００６２】
ラクトン環化縮合工程において得られるラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００６３】
【化６】
【００６４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。）
重合体（ａ）を加熱処理する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を利用できる。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。あるいは、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。あるいは、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を備えた加熱炉や反応装置、脱揮装置を備えた押出機などを用いて加熱処理を行うこともできる。
【００６５】
環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。また、環化縮合反応を行う際には、必要に応じて、環化縮合反応の触媒として一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機カルボン酸類；有機リン化合物を触媒として用いてもよい。さらに、例えば、特開昭６１−２５４６０８号公報や特開昭６１−２６１３０３号公報に開示されているように、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。
【００６６】
これらの環化縮合反応の触媒の中でも、環化縮合反応率を向上させることができるとともに、得られるラクトン環含有重合体の着色を大幅に低減できることから、有機リン化合物が好ましい。さらに、有機リン化合物を環化縮合反応の触媒として用いることにより、後述の脱揮工程を併用する場合において起こり得る分子量低下を抑制することができ、優れた機械的強度を付与することができる。
【００６７】
環化縮合反応の際に触媒として用いることができる有機リン化合物としては、例えば、メチル亜ホスホン酸、エチル亜ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸等のアルキル（アリール）亜ホスホン酸（但し、これらは、互変異性体であるアルキル（アリール）ホスフィン酸になっていてもよい）およびこれらのモノエステルまたはジエステル；ジメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、フェニルメチルホスフィン酸、フェニルエチルホスフィン酸等のジアルキル（アリール）ホスフィン酸およびこれらのエステル；メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、トリフルオロメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸等のアルキル（アリール）ホスホン酸およびこれらのモノエステルまたはジエステル；メチル亜ホスフィン酸、エチル亜ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸等のアルキル（アリール）亜ホスフィン酸およびこれらのエステル；亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル等の亜リン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸イソデシル、リン酸ラウリル、リン酸ステアリル、リン酸イソステアリル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジ−２−エチルヘキシル、リン酸ジイソデシル、リン酸ジラウリル、リン酸ジステアリル、リン酸ジイソステアリル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリイソデシル、リン酸トリラウリル、リン酸トリステアリル、リン酸トリイソステアリル、リン酸トリフェニル等のリン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；メチルホスフィン、エチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のモノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、ジメチルクロロホスフィン、ジエチルクロロホスフィン、ジフェニルクロロホスフィン等のアルキル（アリール）ハロゲンホスフィン；酸化メチルホスフィン、酸化エチルホスフィン、酸化フェニルホスフィン、酸化ジメチルホスフィン、酸化ジエチルホスフィン、酸化ジフェニルホスフィン、酸化トリメチルホスフィン、酸化トリエチルホスフィン、酸化トリフェニルホスフィン等の酸化モノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウム等のハロゲン化テトラアルキル（アリール）ホスホニウム；などが挙げられる。これらの有機リン化合物は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機リン化合物のうち、触媒活性が高くて着色性が低いことから、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステル、アルキル（アリール）ホスホン酸が好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステルがより好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、リン酸モノエステルまたはジエステルが特に好ましい。
【００６８】
環化縮合反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。触媒の使用量が０．００１質量％未満であると、環化縮合反応の反応率が充分に向上しないことがある。一方、触媒の使用量が５質量％を超えると、得られた重合体が着色することや、重合体が架橋して、溶融成形が困難になることがある。
【００６９】
触媒の添加時期は、特に限定されるものではなく、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。
【００７０】
環化縮合反応を溶剤の存在下で行い、且つ、環化縮合反応の際に、脱揮工程を併用することが好ましい。この場合、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態、および、脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに過程の一部においてのみ併用する形態が挙げられる。脱揮工程を併用する方法では、縮合環化反応で副生するアルコールを強制的に脱揮させて除去するので、反応の平衡が生成側に有利となる。
【００７１】
脱揮工程とは、溶剤、残存単量体などの揮発分と、ラクトン環構造を導く環化縮合反応により副生したアルコールを、必要に応じて減圧加熱条件下で、除去処理する工程をいう。この除去処理が不充分であると、得られた重合体中の残存揮発分が多くなり、成形時の変質などにより着色することや、泡やシルバーストリークなどの成形不良が起こることがある。
【００７２】
環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、用いる装置については、特に限定されるものではないが、例えば、本発明をより効果的に行うために、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置やベント付き押出機、また、脱揮装置と押出機を直列に配置したものを用いることが好ましく、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置またはベント付き押出機を用いることがより好ましい。
【００７３】
熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度が１５０℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。一方、反応処理温度が３５０℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。
【００７４】
熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８〜６６．５ｈＰａ（６００〜５０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力が９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。一方、反応処理圧力が１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）未満であると、工業的な実施が困難になることがある。
【００７５】
前記ベント付き押出機を用いる場合、ベントは１個でも複数個でもいずれでもよいが、複数個のベントを有する方が好ましい。
【００７６】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度が１５０℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。一方、反応処理温度が３５０℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。
【００７７】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８〜１３．３ｈＰａ（６００〜１０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力が９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。一方、反応処理圧力が１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）未満であると、工業的な実施が困難になることがある。
【００７８】
なお、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、後述するように、厳しい熱処理条件では得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがあるので、前述した脱アルコール反応の触媒を用い、できるだけ温和な条件で、ベント付き押出機などを用いて行うことが好ましい。
【００７９】
また、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、好ましくは、重合工程で得られた重合体（ａ）を溶剤と共に環化縮合反応装置に導入するが、この場合、必要に応じて、もう一度ベント付き押出機などの環化縮合反応装置に通してもよい。
【００８０】
脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに、過程の一部においてのみ併用する形態を行ってもよい。例えば、重合体（ａ）を製造した装置を、さらに加熱し、必要に応じて脱揮工程を一部併用して、環化縮合反応を予めある程度進行させておき、その後に引き続いて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行い、反応を完結させる形態である。
【００８１】
先に述べた環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態では、例えば、重合体（ａ）を、二軸押出機を用いて、２５０℃付近、あるいはそれ以上の高温で熱処理する時に、熱履歴の違いにより環化縮合反応が起こる前に一部分解などが生じ、得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがある。そこで、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う前に、予め環化縮合反応をある程度進行させておくと、後半の反応条件を緩和でき、得られるラクトン環含有重合体の物性の低下を抑制できるので好ましい。特に好ましい形態としては、例えば、脱揮工程を環化縮合反応の開始から時間をおいて開始する形態、すなわち、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態が挙げられる。具体的には、例えば、予め釜型反応器を用いて溶剤の存在下で環化縮合反応をある程度の反応率まで進行させておき、その後、脱揮装置を備えた反応器、例えば、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置や、ベント付き押出機などで、環化縮合反応を完結させる形態が好ましく挙げられる。特に、この形態の場合、環化縮合反応用の触媒が存在していることがより好ましい。
【００８２】
前述のように、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う方法は、本発明においてラクトン環含有重合体を得る上で好ましい形態である。この形態により、ガラス転移温度がより高く、環化縮合反応率もより高まり、耐熱性に優れたラクトン環含有重合体が得られる。この場合、環化縮合反応率の目安としては、例えば、実施例に示すダイナッミクＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１％以下である。
【００８３】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に採用できる反応器は、特に限定されるものではないが、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置などが挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に好適なベント付き押出機も使用できる。これらの反応器のうち、オートクレーブ、釜型反応器が特に好ましい。しかし、ベント付き押出機などの反応器を用いる場合でも、ベント条件を温和にしたり、ベントをさせなかったり、温度条件やバレル条件、スクリュー形状、スクリュー運転条件などを調整することにより、オートクレーブや釜型反応器での反応状態と同じ様な状態で環化縮合反応を行うことが可能である。
【００８４】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、例えば、重合工程で得られた重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物を、（ｉ）触媒を添加して、加熱反応させる方法、（ｉｉ）無触媒で加熱反応させる方法、および、前記（ｉ）または（ｉｉ）を加圧下で行う方法などが挙げられる。
【００８５】
なお、ラクトン環化縮合工程において環化縮合反応に導入する「重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物」とは、重合工程で得られた重合反応混合物それ自体、あるいは、一旦溶剤を除去した後に環化縮合反応に適した溶剤を再添加して得られた混合物を意味する。
【００８６】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に再添加できる溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；クロロホルム、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。好ましくは、重合工程に用いた溶剤と同じ種類の溶剤である。
【００８７】
前記方法（ｉ）で添加する触媒としては、例えば、一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などが挙げられるが、本発明においては、前述の有機リン化合物を用いることが好ましい。触媒の添加時期は、特に限定されるものではないが、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。触媒の添加量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）の質量に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。方法（ｉ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは室温〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が室温未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。一方、加熱温度１８０℃を超えるか、あるいは、加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。
【００８８】
前記方法（ｉｉ）としては、例えば、耐圧性の釜型反応器などを用いて、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま加熱する方法などが挙げられる。方法（ｉｉ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは１００〜１８０℃、より好ましくは１５０〜１８０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が１００℃未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。逆に、加熱温度が１８０℃を超えるか、あるいは加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。
【００８９】
前記方法（ｉ）、（ｉｉ）のいずれにおいても、条件によっては、加圧下となっても何ら問題はない。
【００９０】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、溶剤の一部が反応中に自然に揮発しても何ら問題ではない。
【００９１】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の終了時、すなわち、脱揮工程開始直前における、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率は、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１％以下である。質量減少率が２％を超えると、続けて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行っても、環化縮合反応率が充分高いレベルまで上がらず、得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがある。なお、上記の環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。
【００９２】
重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態の場合、予め行う環化縮合反応で得られた重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）と溶剤を、そのまま脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入してもよいし、必要に応じて、前記重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）を単離してから溶剤を再添加するなどのその他の処理を経てから脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入しても構わない。
【００９３】
脱揮工程は、環化縮合反応と同時に終了することには限らず、環化縮合反応の終了から時間をおいて終了しても構わない。
【００９４】
ラクトン環含有重合体の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
【００９５】
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。
【００９６】
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成形後の成形品中に泡やシルバーストリークが入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によってラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体が充分に高い耐熱性を有している。
【００９７】
ラクトン環含有重合体は、濃度１５質量％のクロロホルム溶液にした場合、その着色度（ＹＩ）が、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６を超えると、着色により透明性が損なわれ、本来目的とする用途に使用できないことがある。
【００９８】
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、好ましくは３３０℃以上、より好ましくは３５０℃以上、さらに好ましくは３６０℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これが３３０℃未満であると、充分な熱安定性を発揮できないことがある。
【００９９】
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０℃以上、より好ましくは１１５℃以上、さらに好ましくは１２０℃以上である。
【０１００】
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは１，５００ｐｐｍ以下、より好ましくは１，０００ｐｐｍ以下である。残存揮発分の総量が１，５００ｐｐｍを超えると、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良の原因となる。
【０１０１】
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品に対するＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準拠した方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の指標であり、これが８５％未満であると、透明性が低下し、本来目的とする用途に使用できないことがある。
【０１０２】
ラクトン環含有樹脂フィルムに含まれるラクトン環含有重合体の含有割合は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは６０〜１００質量％、さらに好ましくは７０〜１００質量％、特に好ましくは８０〜１００質量％である。ラクトン環含有樹脂フィルムに含まれるラクトン環含有重合体の含有割合が５０質量％未満であると、本発明の効果を充分に発揮できないことがある。
【０１０３】
ラクトン環含有樹脂フィルムには、その他の成分として、ラクトン環含有重合体以外の重合体（以下「その他の重合体」ということがある。）を含有していてもよい。その他の重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系重合体；塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩素化ビニル樹脂等のハロゲン化ビニル系重合体；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。
【０１０４】
ラクトン環含有樹脂フィルムにおけるその他の重合体の含有割合は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜４０質量％、さらに好ましくは０〜３０質量％、特に好ましくは０〜２０質量％である。
【０１０５】
ラクトン環含有樹脂フィルムには、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；フェニルサリチレート、（２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；などが挙げられる。
【０１０６】
ラクトン環含有樹脂フィルムに添加される紫外線吸収剤の構造は、特に限定されるものではないが、発色団としてヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が好ましく、その中でも、ガラス転移温度が１１０℃以上の熱可塑性アクリル系樹脂と相溶性が高く吸収特性が優れている点から、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−アルキルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン骨格（アルキルオキシ；オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基）を有する紫外線吸収剤がより好ましく、下記式（４）で表される構造を有する紫外線吸収剤を主成分として含む紫外線吸収剤が特に好ましい。
【０１０７】
【化７】
【０１０８】
その他の紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾオキサジノン誘導体、トリアジン誘導体等が挙げられる。
【０１０９】
ベンゾトリアゾール誘導体としては、具体的には、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス[４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール]、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス[４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル]、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−[２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、３−[３−メチル−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５―ｔｅｒｔ―ブチル−４−ヒドロキシフェニル]プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応性生物、２−（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール等が挙げられる。
【０１１０】
ベンゾフェノン誘導体としては、具体的には、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジキロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’， ４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ジヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１１１】
ベンゾオキサジノン誘導体としては、具体的には、２−ｐ−メトキシフェニル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−α−ナフチル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−β−ナフチル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−ｐ−フタルイミドフェニル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−ジフェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジノン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６又は１，５−ジナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が挙げられ、その中でも特に融点が高いことと吸収特性の点から、２，２’−（１，４−ジフェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジノン−４−オン）（日本サイテックインダストリーズ（株）製、商品名：サイアソーブＵＶ−３６３８）が好ましい。
トリアジン誘導体としては、具体的には、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ｉｓｏ−オクチルフェニル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。また、イソオクチル置換トリスレゾルシノールトリアジン（例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカル社製の商品名「ＣＧＬ７７７ＭＰＡＤ」）、ｔｅｒｔ−ブチル置換トリスレゾルシノールトリアジン、クミル置換トリスレゾルシノールトリアジン等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１２】
ラクトン環含有樹脂フィルム中における添加剤の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。
【０１１３】
ラクトン環含有樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体と、その他の重合体や添加剤などを、従来公知の混合方法で充分に混合することにより樹脂組成物を調製し、これをフィルム成形することができる。また、延伸することによって、延伸フィルムとしてもよい。
【０１１４】
まず、熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサーなど、従来公知の混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混合機を用いることができる。
【０１１５】
フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など、従来公知のフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法が好ましい。
【０１１６】
溶液キャスト法（溶液流延法）に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチエルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１１７】
溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。
【０１１８】
溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。
【０１１９】
Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸などを行うこともできる。
【０１２０】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。ラクトン環含有重合体を主成分とする熱可塑性樹脂フィルムは、その他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持することができる。
【０１２１】
延伸を行う方法としては、例えば、一軸延伸法、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法など、従来公知のフィルム延伸方法が挙げられる。
【０１２２】
延伸温度は、フィルム原料であるラクトン環含有重合体を主成分とする樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）の範囲である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないことがある。一方、延伸温度が（ガラス転移温度＋１００℃）超えると、樹脂組成物の流動（フロー）が起こり、安定な延伸が行えなくなることがある。
【０１２３】
面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍の範囲である。延伸倍率が１．１倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないことがある。一方、延伸倍率が２５倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないことがある。
【０１２４】
延伸速度は、一方向で、好ましくは１０〜２０，０００％／分、より好ましくは１００〜１０，０００％／分の範囲である。延伸速度が１０％／分未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなることがある。一方、延伸速度が２０，０００％／分を超えると、延伸フィルムの破断などが起こることがある。
【０１２５】
また、得られたフィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うことができる。熱処理の条件は、従来公知の延伸フィルムに対して行われる熱処理の条件と同様に適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。
【０１２６】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、その厚さが好ましくは５μｍ〜２５０μｍ、より好ましくは１０〜１５０μｍである。この範囲外であると、加工工程における工程張力の変化や曲げ等の変形によって割れる問題が特に起こりにくくなり、また、適度な曲げ強さを有するため毎葉シートの状態での手や機械によるハンドリング時に折れ曲がりなどの問題が生じて好ましくない。
【０１２７】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、高透明性を有しており、可視光透過率が、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【０１２８】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した引張強度が、好ましくは１０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満、より好ましくは３０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満である。引張強度が１０ＭＰａ未満であると、充分な機械的強度を発現できなくなることがある。一方、引張強度が１００ＭＰａを越えると、加工性が低下することがある。
【０１２９】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した伸び率が、好ましくは１％以上である。上限は特に限定されないが、通常は１００％以下が好ましい。伸び率が１％未満であると、靭性に欠けるため好ましくない。
【０１３０】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した引張弾性率が、好ましくは０．５ＧＰａ以上、より好ましくは１ＧＰａ以上、さらに好ましくは２ＧＰａ以上である。上限は特に限定されないが、通常は２０ＧＰａ以下が好ましい。０．５ＧＰａ未満の場合には、充分な機械的強度を得られなくなることがある。
【０１３１】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、その表面の濡れ張力が、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５０ｍＮ／ｍ以上、さらに好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上である。表面の濡れ張力が少なくとも４０ｍＮ／ｍ以上であると、ラクトン環含有樹脂フィルムと防眩層との密着性がさらに向上する。表面の濡れ張力を調整するために、例えば、コロナ放電処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他の従来公知の表面処理を施すことができる。
≪バインダーおよびその硬化方法≫
前記防眩層を形成するバインダーとしては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。
【０１３２】
電離放射線硬化型樹脂組成物の被膜形成成分は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【０１３３】
更に、上記電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤としてアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリストリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【０１３４】
更に、上記防眩層を形成するためのバインダーとして、上記のような電離放射線硬化型樹脂に対して溶剤乾燥型樹脂を含ませてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使用される。 更に、次のように、電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませる利点がある。
【０１３５】
電離放射線硬化型樹脂組成物をメタリングロールを有するロールコータで透明基材フィルムに塗布する場合、メタリングロール表面の液状残留樹脂膜が流動して経時で筋やムラ等になり、これらが塗布面に再転移して塗布面に筋やムラ等の欠点を生じるが、上記のように電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませると、このような塗布面の塗膜欠陥を防ぐことができる。
【０１３６】
上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法は通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
【０１３７】
ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【０１３８】
前記電離放射線硬化型樹脂に混合される熱可塑性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用され、これらの樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用する。
【０１３９】
≪微粒子≫
前記防眩層に含有させる微粒子としては、樹脂ビーズが好適であり、特に透明度が高く、マトリックス樹脂（バインダー）との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
【０１４０】
樹脂ビーズとしては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、塩ビビーズ等が用いられる。これらの樹脂ビーズの粒径は、前述のように０．１〜５μｍのものを適宜選択して用いる。上記樹脂ビーズのうち、スチレンビーズが特に好ましく用いられる。
【０１４１】
上記のような有機フィラーとしての微粒子を添加した場合には、樹脂組成物（バインダー）中で有機フィラーが沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加すればする程有機フィラーの沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１重量％未満程度含ませると沈降を防止することができる。
【０１４２】
有機フィラーの沈降防止のための沈降防止剤である無機フィラーを添加しない場合は、透明基材フィルムへの塗布時に有機フィラーが底に沈澱しているので、よく掻き混ぜて均一にして使用すればよい。
【０１４３】
ここで、一般に、電離放射線硬化型樹脂の屈折率は約１．５で、ガラスと同程度であるが、前記微粒子の屈折率との比較において、用いる樹脂の屈折率が低い場合には、該バインダーに、屈折率の高い微粒子であるＴi Ｏ2（屈折率；２．３〜２．７）、Ｙ2 Ｏ3 （屈折率；１．８７）、Ｌａ2 Ｏ3 （屈折率；１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率；２．０５）、Ａｌ2 Ｏ3 （屈折率；１．６３）等を塗膜の拡散性を保持できる程度に加えて、屈折率を上げて調整することができる。
【０１４４】
≪低屈折率層≫
本発明において用いられる低屈折率層はシリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなり、具体的には、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０重量部とからなる樹脂組成物であることを特徴とする。この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の低屈折率層を形成する。
【０１４５】
この低屈折率層に用いられる前記フッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体であり、当該モノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは４０〜７０重量％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０重量％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有するものであってもよい。
【０１４６】
又、このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、本発明の目的及び効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。ここに、当該他の共重合成分の具体例として、例えばフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモー３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモー３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができる。
【０１４７】
このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０重量％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。
【０１４８】
このフッ素含有重合体は、特にそのフッ素含有割合が上述の特定の範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。又、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、基材の表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。
【０１４９】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２０００００、特に１００００〜１０００００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。
【０１５０】
更に、フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。
【０１５１】
本発明において用いられる重合性化合物は、光重合開始剤の存在下又は非存在下で活性エネルギー線が照射されることにより、又は熱重合開始剤の存在下で加熱されることにより、付加重合を生ずるエチレン性不飽和基を有する化合物である。
【０１５２】
このような重合性化合物の具体例としては、例えば、前述の特開平８−９４８０６号に挙げるものを使用することができる。
【０１５３】
これらの化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【０１５４】
用いる重合性化合物が、エチレン性不飽和基を１分子中に３個以上含有するものである場合には、得られるフッ素系樹脂組成物は、特に、基材に対する密着性及び基材の表面の耐傷性等の機械的特性が極めて良好な薄膜を形成するものとなる。
【０１５５】
重合性化合物の使用量は、フッ素含有共重合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好ましくは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重量部である。
【０１５６】
この重合性化合物の使用割合が過小であると、得られる塗料によって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなり、一方、使用割合が過大であると、形成される薄膜は屈折率の高いものとなって良好な反射防止効果を得ることが困難となる。
【０１５７】
前記フッ素系樹脂組成物においては、フッ素含有共重合体及び重合性化合物を含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、特に３５〜５０重量％であることが好ましい。このような条件が満足される場合には、本発明の目的及び効果を更に十分に達成する薄膜を確実に形成することができる。フッ素含有割合が過大であるフッ素系樹脂組成物によって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなる傾向と共に、基材の表面の耐傷性等の機械的特性が若干低下するものとなり、一方、フッ素含有割合が過小であるフッ素系樹脂組成物により形成される薄膜は、屈折率が大きいものとなって反射防止効果が低下する傾向が生じる。
【０１５８】
本発明の低屈折率層は、シリコン含有フッ化ビニリデン重合体からなり、シリコン及びフッ素が表面の防汚性、耐傷性を向上させ、又、シリコンが、後述のケン化処理後における低屈折率層の物性の劣化を抑制することができる。
【０１５９】
前記防眩フィルムにおいては、低屈折率層が、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物を用いて形成されているので、特に、そのフッ素含有共重合体中においてヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％のモノマー成分を含んでいるので、この樹脂組成物の塗布により形成される低屈折率層において、１．４５以下の低屈折率を実現することができ、又、特に、そのフッ素含有共重合体中においてフッ化ビニリデン８０〜９０重量％のモノマー成分を含んでいるため、得られる樹脂組成物の溶剤溶解性が増し、塗布適性が良好となり、その膜厚を反射防止に適した２００ｎｍ以下の薄膜とすることができる。更に、塗布される樹脂組成物中に、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部が含まれているため、得られる塗膜は耐擦傷性の機械的強度の優れたものとなる。又、各樹脂成分は透明性が高いため、これらの成分を含有した樹脂組成物を用いて形成された低屈折率層は、透明性に優れている。
【０１６０】
前記防眩フィルムでは、接する空気からその内部に至るまで、空気層（屈折率１．０）、低屈折率層（屈折率１．６０未満、好ましくは１．４５以下）、防眩層（屈折率１．５０以上）、透明基材フィルム（防眩層より低くあるいはほぼ同様の屈折率）となっているので、効率のよい反射防止を行うことができる。防眩層の屈折率が透明基材フィルムの屈折率よりも高く構成されることが望ましく、このような場合には、透明基材フィルムと防眩層との間の界面における反射を防止する効果が更に付加される。
【０１６１】
前記低屈折率層に使用される溶剤は、当該フッ素系樹脂組成物の塗布性及び形成される薄膜の基材に対する密着性の点から、７６０ヘクトパスカルの圧力下における沸点が５０〜２００℃の範囲内のものが好ましい。
【０１６２】
このような溶剤の具体例としては、例えばアセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル。酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチル等のケトン類又はカルボン酸エステル類よりなる溶剤を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも２成分以上の混合物でもよく、更に上記に例示したもの以外の溶剤を、樹脂組成物の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。
【０１６３】
溶剤の使用量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物との合計量１００重量部に対して、通常２００〜１００００重量部、好ましくは１０００〜１００００重量部、特に好ましくは１２００〜４０００重量部である。
【０１６４】
溶剤の使用量をこの範囲とすることにより、フッ素系樹脂組成物の粘度の大きさを、樹脂組成物として好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、特に０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが容易であり、その結果、当該フッ素系樹脂組成物により、可視光線の反射防止膜として実用上好適な均一で塗布ムラのない厚さ１００〜２００ｎｍの薄膜を容易に形成することができ、しかも基材に対する密着性が特に優れた薄膜を形成することができる。
【０１６５】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物は、含有される重合性化合物のエチレン性不飽和基が重合反応することによって硬化するものであり、従って、当該樹脂組成物が塗布されて形成された塗膜に対し、当該重合性化合物を重合反応させる硬化処理が施されて固体状の薄膜が形成される。
【０１６６】
このような硬化処理の手段として、当該フッ素系樹脂組成物の塗膜に活性エネルギー線を照射する手段、又は塗膜を加熱する手段が利用され、これにより、本発明が目的とする硬化状態の薄膜を確実に且つ容易に形成することができるので、実際上極めて有利であり、薄膜形成操作の点においても便利である。
【０１６７】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物を活性エネルギー線の照射によって硬化処理する場合において、活性エネルギー線として電子線を用いるときは、当該フッ素系樹脂組成物には特に重合開始剤を添加することなしに、所期の硬化処理を行うことができる。
【０１６８】
又、硬化処理のための活性エネルギー線として、紫外線あるいは可視光線の如き光線を用いる場合には、当該活性エネルギー線の照射を受けて分解して、例えばラジカルを発生し、それによって重合性化合物の重合反応を開始させる光重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加される。
【０１６９】
このような光重合開始剤の具体例は、前述の特開平８−９４８０６号に開示されているが、１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロバン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルロチル）−１−ブタノン等が好ましい。
【０１７０】
更に、硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加される。
【０１７１】
熱重合開始剤の具体例としては、例えばベンゾイルパーオキサイト、ｔｅｒｔ−ブチル−オキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーアセテート、クミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等を挙げることができる。
【０１７２】
前記フッ素系樹脂組成物における光重合開始剤又は熱重合開始剤の添加量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物との合計１００重量部に対し、通常、０．５〜１０重量部、好ましくは１〜８重量部、特に好ましくは１〜３重量部である。この添加量が１０重量部を越えると、樹脂組成物の取り扱い並びに形成される薄膜の機械的強度等に悪影響を及ぼすことがあり、一方、添加量が０．５重量部未満では硬化速度が小さいものとなる。
【０１７３】
前記フッ素系樹脂組成物には、必要に応じて、本発明の目的及び効果が損なわれない範囲において、各種添加剤、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミン等のアミン系化合物から成る増感剤、もしくは重合促進剤；エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンスチレンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等のポリマー、あるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール等の重合禁止剤；その他にレベリング剤、漏れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、無機充填剤、樹脂粒子、顔料、染料等を配合することができる。
【０１７４】
なお、上記では、低屈折率層について、その反射防止効果を説明したが、低屈折率層には黒濃度を良好として高コントラストとする効果もあり、好ましい形態は前述と同様である。
【０１７５】
前記低屈折率層の形成方法は、他の一般的な薄膜成形手段、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例えば前記以外の反射防止塗料の塗膜、膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ2 等の極薄膜や金属蒸着膜、あるいはＳｉＯｘやＭｇＦ2 の蒸着膜により形成してもよい。
【０１７６】
なお、前述の如く、選択された低屈折率層の材料の屈折率に対して、（１）式を充足する屈折率のバインダーが得られない場合は、このバインダー中に、前述のような屈折率の高いＴｉＯ2 等の微粒子を加えて、屈折率を上げて調整する。
【０１７７】
なお、本発明の防眩フィルムは、低屈折率層を設けたものに限定されるものでなく、低屈折率層を設けないようにしてもよい。
≪その他≫
又、本発明の防眩フィルムは、粘着層、セパレータを設けるようにしてもよい。
【０１７８】
前記透明基材フィルムの防眩層と反対側に設けられている粘着層は、防眩フィルムを例えば液晶パネルに取り付ける場合に用いるものであり、セパレータを剥離した露出した粘着層を、液晶パネル等に押し付けることによって、防眩フィルムを取り付けることができる。
【０１７９】
又、本発明の防眩フィルムは、透明基材フィルムと防眩層との間に、透明導電性層を設け、更に、防眩層中に更に導電材料を含有するように構成することにより、帯電防止性能を付与することができる。この帯電防止性能は透明導電性層を設けることによって、本発明の各実施形態の例における全ての防眩フィルムに付与できる。
【０１８０】
透明導電性層は、導電性微粒子を樹脂組成物に分散したものであり、導電性微粒子としては、例えばアンチモンドープのインジウム・ティンオキサンド（以下、ＡＴＯと記載する）やインジウム・ティンオキサンド（ＩＴＯ）、金及び／又はニッケルで表面処理した有機化合物微粒子等を、樹脂組成物としては、アルキッド樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下本明細書では、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する）等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤を比較的多量に含むものが使用できる。
【０１８１】
防眩層に含有させる導電材料としては、金及び（又は）ニッケルで表面処理をした粒子を使用することができる。このような表面処理をする前の粒子は、シリカ、カーボンブラック、金属粒子及び樹脂粒子からなる群から選ぶことができる。
【０１８２】
≪表示装置≫
次に、本発明に係る表示装置を液晶表示装置に適用した場合の実施形態の例について説明する。
【０１８３】
液晶表示装置は、偏光素子、液晶パネルと、偏光板とを、この順で積層すると共に、偏光板側の背面にバックライトを配置した透過型の液晶表示装置である。偏光板としては、通常の液晶表示装置で用いられる偏光板を用いることができる。
【０１８４】
また、前記液晶表示装置におけるバックライトに代えて、偏光板に密着して反射板を配置することもできる。
【０１８５】
前記液晶表示装置における液晶パネルで使用される液晶モードとしては、ツイストネマティックタイプ（ＴＮ）、スーパーツイストネマティックタイプ（ＳＴＮ）、ゲスト−ホストタイプ（ＧＨ）、相転移タイプ（ＰＣ）、高分子分散タイプ（ＰＤＬＣ）等のいずれであってもよい。
【０１８６】
又、液晶の駆動モードとしては、単純マトリックスタイプ、アクティブマトリックスタイプのどちらでもよく、アクティブマトリックスタイプの場合では、ＴＦＴ、ＭＩＭ等の駆動方式が取られる。
【０１８７】
更に、液晶パネルは、カラータイプあるいはモノクロタイプのいずれであってもよい。
【０１８８】
更に又、本発明は液晶表示装置以外の表示装置、例えばプラズマ表示装置、ＣＲＴ表示装置にも適用されるものである。
【実施例】
【０１８９】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例により制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【０１９０】
≪評価方法≫
＜粒子の粒子径＞
コールタ−マルチサイザー（ベックマンコールター社製）を用いて測定した。
【０１９１】
＜粒子の屈折率＞
１００ｃｃのフラスコに粒子０．５ｇを秤量し、二硫化炭素４０ｇを加えた後、マグネチックスターラーにより室温で十分に攪拌し、混合溶液を作成した。この混合溶液に、ピペットにてエタノールを滴下していくと、最初白濁していた液が徐々に透明になる。目視で透明と判断した点を終点とする。終点時点での粒子分散液における二硫化炭素とエタノールの重量比に相当する混合溶剤を別途作製し、アッベ屈折率計（株式会社アタゴ製）にて混合溶剤の屈折率を測定し、この屈折率を粒子の屈折率とした。
【０１９２】
＜内部ヘイズ＞
内部ヘイズの測定は、フィルムの両面にシリコーンオイルを塗布した後、ガラス板でこのフィルムの両面を挟み、フィルム外側の影響（外部ヘイズ）を消去することにより、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ２０００）を用いて測定した。
【０１９３】
＜表面ヘイズ＞
表面ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００、日本電色工業（株）製）を用いて測定した全ヘイズの値から内部ヘイズの値を引いた値を用いた。
【０１９４】
＜反射率＞
反射率は、島津製作所製の分光反射率測定機ＭＰＣ−３１００で測定し、波長３８０〜７８０ｎｍ光での平均反射率をとった。
【０１９５】
＜面のギラツキ＞
面のギラツキの評価は、バックライト（ライトボックス５７００、ハクバ写真産業（株））上に、千鳥格子配置のカラーフィルター（ピッチ１５０μｍ）を設置し、カラーフィルター表面から１６０μｍ離れた位置に、防眩フィルム処理面を上に向けて貼着し、面のギラツキ状態を目視で評価した。
【０１９６】
＜映り込み＞
防眩フィルムの裏面に絶縁ビニールテープ（ヤマト製、幅３７．５ｍｍ）を貼り合わせ、２ｍの距離より、むき出し蛍光灯（１００００ｃｄ／ｍ2）を映し、その反射像のボケの程度により評価した。
評価基準
○：蛍光灯の輪郭がわからない
×：蛍光灯がほとんどボケず、輪郭が非常に明確に見える。
【０１９７】
＜黒濃度＞
黒濃度の評価は、防眩フィルムの裏面に黒い絶縁ビニールテープ（ヤマト製、幅３７．５ｍｍ）を貼って試験片とし、蛍光灯下でフィルム表面を観察した。更に、この試験片をＫｏｌｌｍｏｒｇｅｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＭａｃｂｅｔｈ ＲＤ９１４で測定した。同様に裏面に黒い絶縁ビニールテープを貼ったラクトン環含有樹脂フィルムを測定し、この値を基準、即ち黒濃度１００％とし、これに対し試験片の測定値が８５％以上である場合を良好とした。
【０１９８】
＜接触角＞
接触角は、純水を用い、固液界面解析システム（ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００、協和界面科学（株）製）により測定した。
【０１９９】
＜耐擦傷性＞ （耐スチールウール性）
スガ試験機（株）製学振型耐磨耗試験機を用いて、＃００００スチールウールを２００ｇ／ｃｍ２荷重で２０回往復させた後の傷の付き具合を目視で評価した。
評価基準
○：傷が全く観察されない場合
×：傷が観察される、もしくは粒子の脱落が多い場合
＜表面抵抗率＞
ＪＩＳ Ｋ６９１１に準拠して、デジタル絶縁計（東亜ディーケーケー社製、ＤＳＭ８１０４）を用いて測定した。
【０２００】
＜耐溶剤性＞
防眩フィルム（７０ｍｍ×７０ｍｍ）をメタノール中に１０分間浸漬後、取り出したフィルムについて目視により評価した。
評価基準
○：全く溶解しない
×：完全に、もしくは一部溶解してしまう
＜鉛筆硬度＞
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠して鉛筆引っかき試験を行い、傷付きにより評価した。
＜フィルム表面電位＞
２３℃、５０％ＲＨの環境の元、防眩フィルム同士を１０回こすり擦り合わせ、表面電位計（ＦＭＸ−００３、ＳＩＭＣＯ社製）を用い測定した。
評価基準
○：３ kＶより小さい
△：３kＶ以上、５kＶ以下
×：５kＶより大きい
≪ラクトン環含有樹脂フィルムの調製≫
次に、ラクトン環含有樹脂フィルムの製造例について説明する。
【０２０１】
まず、ラクトン環含有樹脂（以下「ラクトン環含有重合体」ということがある。）の評価方法について説明する。
【０２０２】
＜重合反応率、重合体組成分析＞
重合反応時の反応率および重合体中の特定単量体単位の含有率は、得られた重合反応混合物中の未反応単量体の量をガスクロマトグラフ（ＧＣ１７Ａ、（株）島津製作所製）を用いて測定して求めた。
【０２０３】
＜ダイナミックＴＧ＞
重合体（もしくは重合体溶液あるいはペレット）を一旦テトラヒドロフランに溶解または希釈し、過剰のヘキサンまたはメタノールに投入して再沈殿を行い、取り出した沈殿物を真空乾燥（１ｍｍＨｇ（１．３３ｈＰａ）、８０℃、３時間以上）することによって揮発成分などを除去し、得られた白色固形状の樹脂を以下の方法（ダイナミックＴＧ法）で分析した。
測定装置：差動型示差熱天秤（Ｔｈｅｒｍｏ Ｐｌｕｓ２ ＴＧ−８１２０ ダイナミックＴＧ、（株）リガク製）
測定条件：試料量 ５〜１０ｍｇ
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：窒素フロー １００ｍＬ／ｍｉｎ
方法：階段状等温制御法（６０℃から５００℃までの範囲における質量減少速度値０．００５％／ｓｅｃ以下に制御）
＜ラクトン環構造の含有割合＞
まず、得られた重合体組成からすべての水酸基がメタノールとして脱アルコールした際に起こる質量減少量を基準にし、ダイナミックＴＧ測定において質量減少が始まる前の１５０℃から重合体の分解が始まる前の３００℃までの脱アルコール反応による質量減少から、脱アルコール反応率を求めた。
【０２０４】
すなわち、ラクトン環構造を有する重合体のダイナミックＴＧ測定において１５０℃から３００℃までの間の質量減少率の測定を行い、得られた実測値を実測質量減少率（Ｘ）とする。他方、当該重合体の組成から、その重合体組成に含まれる全ての水酸基がラクトン環の形成に関与するためアルコールになり脱アルコールすると仮定した時の質量減少率（すなわち、その組成上において１００％脱アルコール反応が起きたと仮定して算出した質量減少率）を理論質量減少率（Ｙ）とする。なお、理論質量減少率（Ｙ）は、より具体的には、重合体中における脱アルコール反応に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体のモル比、すなわち当該重合体組成における原料単量体の含有率から算出することができる。これらの値を脱アルコール計算式：
１−（実測質量減少率（Ｘ）／理論質量減少率（Ｙ））
に代入してその値を求め、百分率（％）で表記すると、脱アルコール反応率が得られる。
【０２０５】
一例として、後述の製造例１で得られたペレットにおいてラクトン環構造の含有割合を計算する。この重合体の理論質量減少率（Ｙ）を求めてみると、メタノールの分子量は３２であり、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの分子量は１１６であり、重合体中における２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの含有率（質量比）は組成上２０．０質量％であるから、（３２／１１６）×２０．０≒５．５２質量％となる。他方、ダイナミックＴＧ測定による実測質量減少率（Ｘ）は０．３４質量％であった。これらの値を上記の脱アルコール計算式に当てはめると、１−（０．３４／５．５２）≒０．９３８となるので、脱アルコール反応率は９３．８％である。
【０２０６】
そして、この脱アルコール反応率分だけ所定のラクトン環化が行われたものとして、ラクトン環化に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体の当該共重合体組成における含有量（質量比）に、脱アルコール反応率を乗じ、ラクトン環構造の含有率（質量比）に換算することにより、当該共重合体におけるラクトン環構造の含有割合を算出することができる。後述の製造例の場合、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの当該共重合体における含有率が２０．０質量％、算出した脱アルコール反応率が９３．８％、分子量が１１６の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルがメタクリル酸メチルと縮合した場合に生成するラクトン環構造の式量が１７０であることから、当該共重合体におけるラクトン環構造の含有割合は２７．５（２０．０×０．９３８×１７０／１１６）質量％となる。
【０２０７】
＜重量平均分子量、数平均分子量＞
重合体の重量平均分子量や数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣシステム、東ソー（株）製）を用いて、ポリスチレン換算により求めた。
【０２０８】
＜重合体の熱分析＞
重合体の熱分析は、示差走査熱量計（ＤＳＣ−８２３０、（株）リガク製）を用いて、試料約１０ｍｇ、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、窒素フロー５０ｍＬ／ｍｉｎの条件で行った。なお、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ−Ｄ−３４１８に準拠して、中点法で求めた。
【０２０９】
≪製造例１≫ （ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の製造例）
まず、攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素ガス導入管を備えた容量３０Ｌの反応容器に、メタクリル酸メチル８ｋｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル２ｋｇ、メチルイソブチルケトン１０ｋｇ、ｎ−ドデシルメルカプタン５ｇを仕込んだ。
【０２１０】
この反応容器に窒素ガスを導入しながら、１０５℃まで昇温し、還流したところで、重合開始剤として、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７５、化薬アクゾ（株）製）５ｇを添加すると同時に、メチルイソブチルケトン２３０ｇにｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７５、化薬アクゾ（株）製）１０ｇを溶解した溶液を２時間かけて滴下しながら、還流下、約１０５〜１２０℃で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０２１１】
得られた重合体溶液に、リン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８、堺化学工業（株）製）３０ｇを添加し、還流下、約９０〜１２０℃で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／ｈの処理速度で導入し、この押出機内で、さらに環化縮合反応と脱揮を行い、押し出すことにより、ラクトン環含有重合体の透明なペレットを得た。
【０２１２】
得られたラクトン環含有重合体について、ダイナミックＴＧの測定を行ったところ、０．３４質量％の質量減少を検知した。また、このラクトン環含有重合体は、重量平均分子量は１４４，０００であり、ガラス転移温度が１３１℃であった。
【０２１３】
このラクトン環含有重合体のペレットを、２０ｍｍφのスクリューを有する二軸押出機を用いて、幅１５０ｍｍのコートハンガータイプＴダイから溶融押出して、厚さ約１００μｍのラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）を調製した。
≪製造例２≫
（紫外線吸収能を付与したラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）の製造例）
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を付した３０Ｌ反応釜に、４１．５部のメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、６部の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、２．５部の２−〔２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ〕エチルフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学（株）製、商品名：ＲＵＶＡ−９３）、５０部のトルエン、０．０２５部のアデカスタブ２１１２（旭電化工業（株）製）、０．０２５部のｎ−ドデシルメルカプタンを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させ、還流したところで、開始剤として０．０５部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富（株）製、商品名：ルパゾール５７０）を添加すると同時に、０．１０部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエートを３時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０２１４】
得られた重合体溶液に、０．０５部のリン酸２−エチルヘキシル（堺化学工業（株）製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−８）を加え、還流下（約９０〜１１０℃）で２時間、環化縮合反応を行った。引き続きオートクレーブにより２４０℃で３０分間加熱処理を行い、環化縮合反応を完全に行った。
【０２１５】
次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２４０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）のベントタイプスクリュー二軸押出し機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、脱揮を行った。そのとき、別途準備しておいた酸化防止剤・失活剤混合溶液を、第１ベントの後から高圧ポンプを用いて０．０３ｋｇ／時間の投入速度で注入した。また、第２ベントの後より別途準備しておいた紫外線吸収剤溶液０．０５ｋｇ／時間の投入速度で注入した。更に第３ベントの後から高圧ポンプを用いてイオン交換水を０．０１ｋｇ／時間の投入速度で注入した。酸化防止剤・失活剤混合溶液はスミライザーＧＳ（住友化学（株）製）５０部、オクチル酸亜鉛（ニッカオクチクス亜鉛３．６％ 日本化学産業（株）製）３５部をトルエン２００部に溶解したものである。紫外線吸収剤溶液は、分子量が９５４の紫外線吸収剤が主成分（分子量７７１、９５４、および、１１３８の紫外線吸収剤の混合物）でヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有するＣＧＬ７７７ＭＰＡ（チバスペシャリティケミカルズ（株）社製 有効成分８０％）１９部をトルエン３１部に溶解したものである。
【０２１６】
上記脱揮操作により、透明で紫外線吸収性単量体単位を有する熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。ＧＰＣによる樹脂部の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は１４５０００、ガラス転移温度は１２２℃であった。
【０２１７】
上記樹脂を用い、２７０℃の押出温度でシリンダー径が２０ｍｍの単軸押出機を用い下記条件で押出成形し、１００μｍの厚みのラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）を得た。（Ｔ−ダイ：温度２７０℃、幅１２０ｍｍ、成膜：つや付き２本ロール、ロール温度１１０℃、引き取り速度：２．５ｍ／分）。
【０２１８】
≪シリカ粒子および樹脂粒子の合成≫
<合成例１>
（重合体シード粒子（Ｋ−１）の合成
冷却管、温度計、滴下口を備えた四ツ口フラスコに、イオン交換水９０ｇとスチレン１０ｇ、ｎ−デシルメルカプタン０．５ｇ、ＮａＣｌ０．１ｇを入れ、１時間窒素ガスを導入して反応容器内の窒素置換を行った。その後、反応液を７０℃に昇温させて、過硫酸カリウム０．１ｇを少量のイオン交換水に溶解した溶液を注射器を用いて添加し、７０℃で２４時間反応を行った。反応終了後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、重合体シード粒子（Ｋ−１）を得た。
得られた重合体シード粒子（Ｋ−１）の粒子径は０．７μｍ、変動係数は３．０％であった。
【０２１９】
（アクリル系樹脂粒子（Ｓ−１）の合成）
冷却管、温度計、滴下口を備えた四ツ口フラスコに、重合体シード粒子（Ｋ−１）０．５ｇ、イオン交換水５０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．０５ｇを加え均一に分散させ、さらにポリビニルアルコールの３重量％水溶液２０ｇを加え、重合体シード粒子分散液を調製した。次いで、乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム０．１ｇをイオン交換水５０ｇで溶解した溶液に、スチレン０．２５ｇ、エチレングリコールジメタクリレート０．０３ｇ、過酸化ベンゾイル０．０１ｇを溶解した溶液を加え、ホモジナイザーによりモノマーエマルションを調製し、得られたモノマーエマルションを上記重合体シード粒子分散液に添加して、さらに攪拌を行った。次いで、反応容器に窒素ガスを導入し、反応液を窒素雰囲気下で７０℃に昇温させて、７０℃で２４時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させてアクリル系樹脂粒子（Ｓ−１）を得た。
アクリル系樹脂粒子（Ｓ−１）の粒子径は１．３μｍ、変動係数は３．８％、屈折率は１．６０であった。
<合成例２>
（シリカ粒子（Ｓ−２）の合成）
撹拌器つきの内容積１０リットルのガラス製反応器にメタノール１６００ｃｃ、アンモニア水（２５重量％）６００ｃｃ、５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液１０ｃｃおよび界面活性剤としてアクチノールＦ−３（松本油脂製薬社製）２ｇを仕込み、良く混合した。また、メタノール１リットルに対して、テトラエチルシリケート（コルコート化学社製）を２０８ｇの割合で溶解した原料液を準備した。次に、反応媒体の温度を２０℃に保ちながら、原料液を１．０ｇ／ｍｉｎの速度で滴下を行い、合計６４０ｇのテトラエチルシリケートの原料液を添加した後、反応を停止し、反応液を静置してシリカ粒子を沈降させ上澄み液を分離した。さらに、メタノール中に再分散−デカンテーション処理を行い、エバポレーターでメタノールを除き、シリカ粒子（Ｓ−２）を得た。得られたシリカ粒子（Ｓ−２）の粒子径は１．０μｍ、変動係数は２．１％、屈折率は１．４６であった。
【０２２０】
≪防眩層形成用コーティング組成物の調製≫
<調製例１>
ペンタエリスリトールトリアクリレート３．６４ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、トルエン、酢酸ｎ−ブチルおよびイソブチルアルコールからなる混合溶剤７．２１ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を得た。
【０２２１】
<調製例２>
ペンタエリスリトールトリアクリレート２．２７ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．２ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．０６ｇ、トルエンおよび酢酸ｎ−ブチルからなる混合溶剤４．３８ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−２）を得た。
【０２２２】
<調製例３>
ペンタエリスリトールトリアクリレート３．６４ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、導電性微粒子（ＣＸ―Ｓ２０４ＩＰ；日産化学（株）製）２．０ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、トルエン、酢酸ｎ−ブチルおよびイソプロピルアルコールからなる混合溶剤５．２１ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−３）を得た。
【０２２３】
<調製例４>
シリコン含有フッ化ビニリデン２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．８６ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．０１ｇおよびメチルイソブチルケトン１４０．１４ｇを混合し、低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−１）を得た。
【０２２４】
<調製例５>
シリコン含有フッ化ビニリデン２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．０２ｇおよびメチルイソブチルケトン１９６ｇを混合し、低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−２）を得た。
【０２２５】
<比較調整例１>
ペンタエリスリトールトリアクリレート２．２７ｇ、シリカ粒子（Ｓ−２）０．２ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．０６ｇ、トルエンおよび酢酸ｎ−ブチルからなる混合溶剤４．３８ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−１）を得た。
【０２２６】
<比較調整例２>
ペンタエリスリトールトリアクリレート１４．１０ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．３９９ｇ、トルエン、酢酸ｎ−ブチルおよびイソブチルアルコールからなる混合溶剤３６．８ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−２）を得た。
【０２２７】
<比較調整例３>
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０．６ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、トルエン、酢酸ｎ−ブチルおよびイソブチルアルコールからなる混合溶剤２０ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−３）を得た。
【０２２８】
<比較調整例４>
ペンタエリスリトールトリアクリレート３．６４ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、酢酸エチルおよびシクロヘキサノンからなる混合溶剤７．２１ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−４）を得た。
【０２２９】
<比較調整例５>
ペンタエリスリトールトリアクリレート３．６４ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、メチルイソブチルケトン７．２１ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−５）を得た。
【０２３０】
<<防眩フィルムの評価>>
<実施例１>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、積算光量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して半硬化させることにより、防眩層を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２３１】
次に、得られた防眩層の上に、調製例４で得られた低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−１）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（Ａ−１）を得た。
【０２３２】
得られた防眩フィルム（Ａ−３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２３３】
<実施例２>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−２）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、積算光量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して半硬化させることにより、防眩層を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２３４】
次に、得られた防眩層の上に、調製例５で得られた低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−２）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（Ａ−２）を得た。
【０２３５】
得られた防眩フィルム（Ａ−３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２３６】
<実施例３>
まず、実施例１と同様に防眩層を形成したラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２３７】
次に、得られた防眩層を形成したラクトン環含有樹脂フィルムに対してケン化処理を行った後、真空度４×１０−５Ｔｏｒｒ、電圧８ｋＶ、電流２０〜４０ｍＡの条件でＳｉＯ２を真空蒸着することにより、膜厚０．１μｍのＳｉＯ２膜からなる低屈折率層を防眩層上に形成した。
【０２３８】
更に、低屈折率層上に、ＫＰ−８０１Ｍ（商品名；信越化学工業（株）製）０．０７ｇをフッ素系溶剤ＰＦ５０８０（商品名；住友スリーエム（株）製）９．９３ｇに溶解した溶液を、乾燥後の膜厚が約５ｎｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させることにより、防汚層を形成した防眩フィルム（Ａ−３）を得た。
【０２３９】
得られた防眩フィルム（Ａ−３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２４０】
<実施例４>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させることにより、防眩フィルム（Ａ−４）を得た。
【０２４１】
得られた防眩フィルム（Ａ−４）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を行った。結果を表２に示す。
【０２４２】
<実施例５>
実施例４において、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−２）としたこと以外は、実施例４と同様にして、防眩フィルム（Ａ−５）を得た。
【０２４３】
得られた防眩フィルム（Ａ−５）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を行った。結果を表２に示す。
【０２４４】
<実施例６>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させることにより、ラクトン環含有樹脂フィルム上に防眩層を作製した。
【０２４５】
次に、得られた防眩層を形成したラクトン環含有樹脂フィルムに対してケン化処理を行った後、ＫＰ−８０１Ｍ（商品名；信越化学工業（株）製）０．０７ｇをフッ素系溶剤ＰＦ５０８０（商品名；住友スリーエム（株）製）９．９３ｇに溶解した溶液を、乾燥後の膜厚が約５ｎｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させることにより、防汚層を形成した防眩フィルム（Ａ−６）を得た。
【０２４６】
得られた防眩フィルム（Ａ−５）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を行った。結果を表２に示す。
【０２４７】
<実施例７>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、透明導電層形成用材料として、ＡＴＯ含有導電インキ（ＤＡ−１２、住友大阪セメント（株）製）を膜厚２μｍとなるように塗布し、７０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５０ｍＪ／ｍ２の紫外線を照射して半硬化させ、透明導電層を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２４８】
次に、得られた透明導電層上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−３）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して半硬化させることにより、透明導電層と防眩層の積層膜を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２４９】
更に、得られた防眩層上に、低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−１）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下で積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記透明導電層および防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（Ａ−７）を得た。
【０２５０】
得られた防眩フィルム（Ａ−７）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を測定した。結果を表２に示す。
【０２５１】
<比較例１>
実施例２における防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−２）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−１）としたこと以外は、実施例２と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−１）を得た。
【０２５２】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２５３】
<比較例２>
実施例１における防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−２）としたこと以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−２）を得た。
【０２５４】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−２）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２５５】
<比較例３>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−３）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、賦型フィルムとして、ダイヤホイルＥ−１３０（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製；厚さ２６μｍ）をラミネートし、積算光量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、防眩層を半硬化させた。次に、前記賦型フィルムを剥離することにより、微細な凹凸を形成した防眩層を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２５６】
次に、得られた防眩層の上に、調製例４で得られた低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−１）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（ＲＡ−３）を得た。
【０２５７】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２５８】
<比較例４〜５>
実施例１における防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−４）〜（ＣＨＲ−５）としたこと以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−４）〜（ＲＡ−５）を得た。
【０２５９】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−４）〜（ＲＡ−５）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２６０】
<比較例６〜１０>
実施例４における防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−１）〜（ＣＨＲ−５）としたこと以外は、実施例４と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−６）〜（ＲＡ−１０）を得た。
【０２６１】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−６）〜（ＲＡ−１０）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を行った。結果を表２に示す。
【０２６２】
<比較例１１>
まず、実施例２と同様に防眩層を形成したラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２６３】
次に、得られた防眩層の上に、シリコンを含有しないフッ素系低屈折率ポリマー（ＴＭ００５、ＪＳＲ（株）製）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（ＲＡ−１１）を得た。
【０２６４】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１１）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
<比較例１２>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ、富士フィルム社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−１２）を得た。
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１２）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表３に示す。
<比較例１３>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにシクロオレフィンポリマーフィルム（ゼオノアＺＦ１４、日本ゼオン社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−１３）を得た。
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表３に示す。
<比較例１４>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにＰＥＴフィルム（ＨＢＰＦ８Ｗ、帝人デュポン社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−１４）を得た。
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１４）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定および耐擦傷性試験、ケン化試験、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度、フィルム表面電位による評価を行った。結果を表３に示す。
【０２６５】
【表１】
【０２６６】
【表２】
【０２６７】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【０２６８】
本発明の防眩フィルムは、高精細化したディスプレイに用いても優れた防眩性、シンチレーションの防止性、画像鮮明性、耐候性、表面硬度、フィルム製造・加工時の作業性および安全性がいずれも従来に比べ高く、各種光学用途に応じた特性を十分に発揮することができるので、例えば、液晶表示装置やプラズマディスプレイ、有機ＥＬ表示装置などのフラットパネルディスプレイなどに防眩性、光拡散性を付与する光学用途に好適である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）パネルなどの高精細画像用ディスプレイ表示装置の表面に設ける防眩性積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）パネルなどの高精細画像用ディスプレイや赤外線センサー、光導波路等の進歩に伴い、光学用透明高分子材料、特に面状（フィルム状やシート状など）の光学用透明高分子材料、つまり光学フィルムに対する要請が高まっている。
【０００３】
特に、ディスプレイ分野で使用される光学フィルムには、高い透明性、高い光学等方性に加えて、低い光学弾性率、耐熱性、高い機械的強度が高まっている。
上記のようなディスプレイにおいて、主として内部から出射する光がディスプレイ表面で拡散することなく直進すると、ディスプレイ表面を目視した場合、眩しいために、内部から出射する光をある程度拡散するための防眩フィルムをディスプレイ表面に設けている。
この防眩フィルムは、例えば特許文献１および２に開示されるように、透明基材フィルムの表面に、二酸化ケイ素（シリカ）等のフィラーを含む樹脂を塗工して形成したものである。
これらの防眩フィルムは、凝集性シリカ等の粒子の凝集によって防眩層の表面に凹凸形状を形成するタイプ、塗膜の膜厚以上の粒径を有する有機フィラーを樹脂中に添加して層表面に凹凸形状を形成するタイプ、あるいは層表面に凹凸をもったフィルムをラミネートして凹凸形状を転写するタイプがある。
屋外で使用される場合には、高い耐候性が要求されている。
また、ディスプレイ表面で使用される場合には、高い表面硬度が要求されている。
特許文献３では、防眩フィルムの防眩性に、シンチレーション（面のギラツキ）の抑制、白ボケを防止し画像鮮明性を向上させるべく、防眩フィルムの内部ヘイズ、表面ヘイズの制御に関して検討されている。
特許文献４では、基材フィルムにラクトン環含有樹脂を使用し、防眩フィルムの耐候性と表面硬度を向上させている。しかし、防眩性については不十分であった。
さらには、フィルム取り扱いの作業性、安全性を考慮すると、防眩フィルム製造・加工の際に発生する静電気を発生しにくくするために、フィルム自身の表面電位を小さく抑え、帯電させにくくすることが要求される。
しかし、上記のすべての特性を十分に満足するものは、従来の防眩フィルムになかった。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１８７０６
【特許文献２】特開平１０−２０１０３
【特許文献３】特開平１１−３０５０１０
【特許文献４】特開２００７−２９３２７２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような従来の防眩フィルムは、いずれのタイプでも、防眩層の表面形状の作用により、光拡散・防眩作用を得るようにしていて、防眩性を高めるためには前記凹凸形状を大きくする必要があるが、凹凸が大きくなると、塗膜の曇価（ヘイズ値）が上昇し、これに伴い画像の鮮明性が低下するという問題点がある。
上記に類似したものとして、微粒子を層内部に分散して光分散効果を得るようにした光拡散フィルムが、例えば反射型液晶表示装置用として、照明学会研究会誌ＭＤ−９６−４８（１９９６年）第２７７頁〜２８２頁に開示されている。
又、ディスプレイ表面に光拡散フィルムのような内部散乱効果により光拡散効果を得るものを防眩用として用いた場合には、その表面がほぼ平坦であるためディスプレイ表面への外光の写り込みを防止できないという問題点もある。
ここで用いられている内部散乱効果により十分な光拡散効果を得るためには、用いている微粒子の粒径を大きくしなければならず、このため、曇価の高いものの画像の鮮明性が非常に小さいという問題点がある。
更に又、上記従来のタイプの防眩フィルムは、フィルム表面に、シンチレーション（面のギラツキ）と呼ばれるキラキラ光る輝きが発生し、表示画面の視認性が低下するという問題がある。
このような防眩フィルムの評価基準の一つとしてヘイズ値があるが、表面のヘイズ値を低くすると、シンチレーションが強くなり、これを解消しようとしてヘイズ値を高くすると、全体が白っぽくなって黒濃度が低下し、これによりコントラストが低下してしまうという問題点がある。逆に、白っぽさを除くためにヘイズ値を低くすると、いわゆる映り込みとギラつき感が増加してしまうという問題点がある。
さらに、既存のフィルムを基材フィルムとした場合は、耐候性、表面硬度およびフィルム製造・加工時の作業性、安全性を十分確保できないという問題点がある。
この発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、ディスプレイ表面に取付けたとき、コントラストの低下を抑えると共にシンチレーション、写り込み、白化を防止し、さらには、高い耐候性および表面硬度を有し、かつ、防眩フィルム製造・加工時の作業性および安全性の確保を同時に満たす防眩フィルムを用いた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、請求項１のように、透明基材フィルムであるラクトン環含有樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、屈折率の異なる微粒子を含有するバインダーからなる防眩層を積層し、この防眩層の表面凹凸における表面ヘイズ値Ｈｓを７＜Ｈｓ＜３０、前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉを１＜Ｈｉ＜１５となるようにして、上記目的を達成するものである。
【０００７】
又、前記防眩層の上に、更に、この防眩層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層を積層してもよい。
【０００８】
更に、前記低屈折率層を、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体から形成してもよい。
【０００９】
又、前記シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体を、フッ化ビニリデン及びヘキサフルオロプロピレンの共重合体であって、フッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物との重合体としてもよい。
【００１０】
更に又、前記低屈折率層は、少なくとも前記フッ素含有共重合体と前記エチレン性不飽和基を有する重合性化合物とから構成される塗膜を塗布後、活性エネルギー線を照射又は加熱して形成されたものとしてもよい。
【００１１】
又、前記低屈折率層を、酸化ケイ素の膜から形成すると共に、更にその上に防汚層を形成するようにしてもよい。
【００１２】
前記防眩フィルムにおける防眩層の表面凹凸におけるヘイズ値Ｈｓと前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉとの和が３０以下となるようにしてもよい。
【００１３】
又、前記防眩層におけるバインダーと微粒子との屈折率の差Δｎを、０．０１≦Δｎ≦０．５とすると共に、微粒子の平均粒径ｄを、０．１μｍ≦ｄ≦５μｍとしてもよい。
【００１４】
前記防眩フィルムにおけるバインダーを、熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方とし、前記微粒子を有機系微粒子としてもよい。
【００１５】
又、前記有機系微粒子をスチレンビーズとしてもよい。
【００１６】
又、透明基材フィルムと防眩層との間に透明導電性層を有し、かつ、防眩層中に導電材料が含有されるようにしてもよい。
【００１７】
表示装置に係る本発明は請求項１２のように、複数の画素を有し、各画素が光を透過又は光を反射することにより、画像を形成する表示パネルと、この表示パネルの表示面側に設けられた前記のいずれかの防眩フィルムと、を有してなる表示装置により上記目的を達成するものである。
【００１８】
この発明は、屈折率の異なる微粒子を含有するバインダーからなる防眩層を積層して防眩フィルムを形成する場合、防眩層の表面凹凸における表面ヘイズ値Ｈｓを７＜Ｈｓ＜３０、前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉを１＜Ｈｉ＜１５とすると、微粒子の粒径を小さくし、且つ例えば液晶ディスプレイ等における表示品位を良好以上にすることができるという知見に基づくものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明について詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらの説明に拘束されることはなく、以下の例示以外についても、本発明の趣旨を損なわない範囲で適宜変更実施し得る。
【００２０】
本発明の実施形態の防眩フィルムは、透明基材フィルムであるラクトン環含有樹脂フィルムの一方の面に屈折率の異なる微粒子を含有するバインダーからなる防眩層を積層し、更に、その外側に低屈折率層を積層してなり、前記防眩層の表面凹凸における表面ヘイズ値Ｈｓが７＜Ｈｓ＜３０で、且つ、該防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉが１＜Ｈｉ＜１５となるようにしたものである。
【００２１】
なお、低屈折率層は反射防止作用を発現する通常範囲の材質、膜厚であれば、防眩層の表面のヘイズ値にほとんど影響を与えない。
【００２２】
防眩層の表面のヘイズ値は、低いほど表示のボケを小さくして明瞭なディスプレイ表示を得ることができるが、ヘイズ値が低すぎると映り込み及び面のギラツキが発生し、高すぎると白っぽくなり（白化；黒濃度低下）、表面ヘイズ値Ｈｓは後述のように７＜Ｈｓ＜３０が好ましく、７≦Ｈｓ≦２０が更に好ましく、７≦Ｈｓ≦１５が最も好ましい。又、表面ヘイズ値Ｈｓを最適にしても内部ヘイズ値Ｈｉが低いと面のギラツキが発生し易いが、防眩層の内部ヘイズ値Ｈｉを好ましくは１＜Ｈｉ＜１５、更に好ましくは２≦Ｈｉ＜１５、最も好ましくは３≦Ｈｉ≦１２とすると面のギラツキを低下させることができた。又、防眩層の表面及び内部の両ヘイズ値の和を３０以下にすると黒濃度（コントラスト）の低下を防止することができた。
【００２３】
上述のように、本発明では、防眩層における表面の拡散と、内部の拡散を併用して、所定の効果を得ているが、上記のような表面ヘイズ値Ｈｓと内部ヘイズ値Ｈｉとの和を所定値にするよう、防眩層を形成することにより、更に大きな効果を得ることができる。この際、通常、防眩層中に含有する微粒子により樹脂層表面に適度な凹凸を設けることができ、これが好ましい形態である。
【００２４】
又、透明基材フィルムに対して、微粒子を混ぜたバインダーを塗布し、この塗布層の上から、表面に、表面粗さＲａが１．２μｍ以下の微細な凹凸を形成された賦型フィルムを、該表面が前記塗布層に接するようにラミネートし、次に、前記バインダーが電子線あるいは紫外線硬化型樹脂の場合は、これら電子線あるいは紫外線を賦型フィルムを介して照射し、又溶剤乾燥型樹脂の場合は加熱して硬化した後、賦型フィルムを硬化した防眩層から剥離することによっても、凹凸を形成することが可能である。
【００２５】
このようにすると、防眩層は賦型フィルムに予め形成されている表面粗さＲａが１．２μｍ以下の細かな凹凸が賦型される。
【００２６】
上記のようにするため、上記実施の形態の例においては、防眩層を構成するバインダーの屈折率と微粒子の屈折率の差Δｎを０．０１≦Δｎ≦０．５とすると共に、拡散剤の平均粒径ｄを、０．１μｍ≦ｄ≦５μｍとしている。
【００２７】
上記のように、屈折率差Δｎが０．０１以上としたのは、０．０１未満であると、防眩層における光拡散性を発現するには非常に多くの拡散剤をバインダー中に含有させなければならず、このようにすると防眩層の透明基材フィルムへの接着性及び塗工適性が悪化し、又Δｎが０．５よりも大きい場合は、バインダー中の微粒子の含有量が少なく、均一で適度な凹凸を持つ防眩層が得られないからである。
【００２８】
微粒子の平均粒径ｄについては、これが０．１μｍ未満である場合、微粒子のバインダー中への分散が困難となり、凝集が生じて均一で適度な凹凸を持つ防眩層を形成することができず、又ｄ＞５μｍの場合、防眩層の内部における拡散効果が減少するため内部ヘイズ値が低下し面のギラツキが発生してしまう。更に膜厚が厚くなるためバインダーの製造過程における硬化収縮が増大し、割れやカールを生じてしまう。
【００２９】
又、上記防眩層の表面及び内部におけるヘイズ値を上記のようにしたのは、本発明者の実験によって得られた知見（後述の実施例及び表参照）に基づくものである。又、上記のようなヘイズ値は、具体的には、微粒子とバインダーとの比であるフィラー／バインダー比、溶剤等を調整して得られる。
【００３０】
≪透明基材フィルム≫
前記ラクトン環含有樹脂フィルムは、ラクトン環含有重合体を主成分として含む。
【００３１】
ラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００３２】
【化２】
【００３３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。）
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合が５質量％未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。一方、ラクトン環構造の含有割合が９０質量％を超えると、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。
【００３４】
ラクトン環含有重合体は、一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造を有していてもよい。一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体の製造方法として後述するような、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、下記一般式（２）で表される単量体とからなる群より選択される少なくとも１種の単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）が好ましい。
【００３５】
【化３】
【００３６】
（式中、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ５基、または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ５およびＲ６は水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
ラクトン環含有重合体構造中の一般式（１）で表されるラクトン環構造以外の構造の含有割合は、（メタ）アクリル酸エステルを重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％であり、ヒドロキシ基含有単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。また、不飽和カルボン酸を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。さらに、一般式（２）で表される単量体を重合して形成される重合体構造単位（繰り返し構造単位）の場合、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００３７】
ラクトン環含有重合体の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば、重合工程によって分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）を得た後、得られた重合体（ａ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。
【００３８】
重合工程においては、下記一般式（３）で表される単量体を含む単量体成分の重合反応を行うことにより、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体が得られる。
【００３９】
【化４】
【００４０】
（式中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
一般式（３）で表される単量体としては、例えば、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸イソプロピル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｎ−ブチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸ｔ−ブチル、メタリルアルコールなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４１】
これらの単量体のうち、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルが好ましく、耐熱性を向上させる効果が高い点において、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルが特に好ましい。
【００４２】
重合工程において供する単量体成分中における一般式（３）で表される単量体の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。一般式（３）で表される単量体の含有割合が５質量％未満であると、得られた重合体の耐熱性、耐溶剤性および表面硬度が低下することがある。一方、一般式（３）で示される単量体の含有割合が９０質量％を超えると、重合工程やラクトン環化縮合工程においてゲル化が起こることや、得られた重合体の成形加工性が低下することがある。
【００４３】
重合工程において供する単量体成分には、一般式（３）で示される単量体以外の単量体を含んでいてもよい。このような単量体としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシ基含有単量体、不飽和カルボン酸、および、下記一般式（２）で表される単量体などが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４４】
【化５】
【００４５】
（式中、Ｒ４は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ５基、または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ６基を表し、Ａｃはアセチル基を表し、Ｒ５およびＲ６は水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
（メタ）アクリル酸エステルとしては、一般式（３）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルである限り、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸エステルは、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの（メタ）アクリル酸エステルのうち、得られた重合体の耐熱性や透明性が優れることから、メタクリル酸メチルが特に好ましい。
【００４６】
一般式（３）で表される単量体以外の（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは１０〜９５質量％、より好ましくは１０〜９０質量％、さらに好ましくは４０〜９０質量％、特に好ましくは５０〜９０質量％である。
【００４７】
ヒドロキシ基含有単量体としては、一般式（３）で表される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体である限り、特に限定されるものではないが、例えば、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられる。これらのヒドロキシ基含有単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４８】
一般式（３）で表される単量体以外のヒドロキシ基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００４９】
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられる。これらの不飽和カルボン酸は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの不飽和カルボン酸のうち、本発明の効果が充分に発揮されることから、アクリル酸、メタクリル酸が特に好ましい。
【００５０】
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００５１】
一般式（２）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、本発明の効果を充分に発揮することから、スチレン、α−メチルスチレンが特に好ましい。
【００５２】
一般式（２）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中におけるその含有割合は、本発明の効果を充分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００５３】
単量体成分を重合して分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体を得るための重合反応の形態としては、溶剤を用いた重合形態であることが好ましく、溶液重合が特に好ましい。
【００５４】
重合温度や重合時間は、使用する単量体の種類や割合などに応じて異なるが、例えば、好ましくは、重合温度が０〜１５０℃、重合時間が０．５〜２０時間であり、より好ましくは、重合温度が８０〜１４０℃、重合時間が１〜１０時間である。
【００５５】
溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；などが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。また、溶剤の沸点が高すぎると、最終的に得られるラクトン環含有重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が５０〜２００℃である溶剤が好ましい。
【００５６】
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。
【００５７】
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。なお、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が低すぎると生産性が低下するので、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上である。
【００５８】
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより充分に抑止することができ、特に、ラクトン環含有割合を増やして耐熱性を向上させるために分子鎖中のヒドロキシ基とエステル基との割合を高めた場合であっても、ゲル化を充分に抑止することができる。添加する重合溶剤としては、例えば、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に使用した溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの単一溶剤であっても２種以上の混合溶剤であってもよい。
【００５９】
以上の重合工程を終了した時点で得られる重合反応混合物中には、通常、得られた重合体以外に溶剤が含まれているが、溶剤を完全に除去して重合体を固体状態で取り出す必要はなく、溶剤を含んだ状態で、続くラクトン環化縮合工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続くラクトン環化縮合工程に好適な溶剤を再添加してもよい。
【００６０】
重合工程で得られた重合体は、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体（ａ）であり、重合体（ａ）の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。重合工程で得られた重合体（ａ）は、続くラクトン環化縮合工程において、加熱処理されることによりラクトン環構造が重合体に導入され、ラクトン環含有重合体となる。
【００６１】
重合体（ａ）へラクトン環構造を導入するための反応は、加熱により、重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とが環化縮合してラクトン環構造を生じる反応であり、その環化縮合によってアルコールが副生する。ラクトン環構造が重合体の分子鎖中（重合体の主骨格中）に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。ラクトン環構造を導く環化縮合反応の反応率が不充分であると、耐熱性が充分に向上しないことや、成形時の加熱処理によって成形途中に縮合反応が起こり、生じたアルコールが成形品中に泡やシルバーストリークとなって存在することがある。
【００６２】
ラクトン環化縮合工程において得られるラクトン環含有重合体は、好ましくは、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有する。
【００６３】
【化６】
【００６４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す。なお、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。）
重合体（ａ）を加熱処理する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を利用できる。例えば、重合工程によって得られた、溶剤を含む重合反応混合物を、そのまま加熱処理してもよい。あるいは、溶剤の存在下で、必要に応じて閉環触媒を用いて加熱処理してもよい。あるいは、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を備えた加熱炉や反応装置、脱揮装置を備えた押出機などを用いて加熱処理を行うこともできる。
【００６５】
環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。また、環化縮合反応を行う際には、必要に応じて、環化縮合反応の触媒として一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機カルボン酸類；有機リン化合物を触媒として用いてもよい。さらに、例えば、特開昭６１−２５４６０８号公報や特開昭６１−２６１３０３号公報に開示されているように、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。
【００６６】
これらの環化縮合反応の触媒の中でも、環化縮合反応率を向上させることができるとともに、得られるラクトン環含有重合体の着色を大幅に低減できることから、有機リン化合物が好ましい。さらに、有機リン化合物を環化縮合反応の触媒として用いることにより、後述の脱揮工程を併用する場合において起こり得る分子量低下を抑制することができ、優れた機械的強度を付与することができる。
【００６７】
環化縮合反応の際に触媒として用いることができる有機リン化合物としては、例えば、メチル亜ホスホン酸、エチル亜ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸等のアルキル（アリール）亜ホスホン酸（但し、これらは、互変異性体であるアルキル（アリール）ホスフィン酸になっていてもよい）およびこれらのモノエステルまたはジエステル；ジメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、フェニルメチルホスフィン酸、フェニルエチルホスフィン酸等のジアルキル（アリール）ホスフィン酸およびこれらのエステル；メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、トリフルオロメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸等のアルキル（アリール）ホスホン酸およびこれらのモノエステルまたはジエステル；メチル亜ホスフィン酸、エチル亜ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸等のアルキル（アリール）亜ホスフィン酸およびこれらのエステル；亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル等の亜リン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸イソデシル、リン酸ラウリル、リン酸ステアリル、リン酸イソステアリル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジ−２−エチルヘキシル、リン酸ジイソデシル、リン酸ジラウリル、リン酸ジステアリル、リン酸ジイソステアリル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリイソデシル、リン酸トリラウリル、リン酸トリステアリル、リン酸トリイソステアリル、リン酸トリフェニル等のリン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；メチルホスフィン、エチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のモノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、ジメチルクロロホスフィン、ジエチルクロロホスフィン、ジフェニルクロロホスフィン等のアルキル（アリール）ハロゲンホスフィン；酸化メチルホスフィン、酸化エチルホスフィン、酸化フェニルホスフィン、酸化ジメチルホスフィン、酸化ジエチルホスフィン、酸化ジフェニルホスフィン、酸化トリメチルホスフィン、酸化トリエチルホスフィン、酸化トリフェニルホスフィン等の酸化モノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウム等のハロゲン化テトラアルキル（アリール）ホスホニウム；などが挙げられる。これらの有機リン化合物は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの有機リン化合物のうち、触媒活性が高くて着色性が低いことから、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステル、アルキル（アリール）ホスホン酸が好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステルがより好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、リン酸モノエステルまたはジエステルが特に好ましい。
【００６８】
環化縮合反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。触媒の使用量が０．００１質量％未満であると、環化縮合反応の反応率が充分に向上しないことがある。一方、触媒の使用量が５質量％を超えると、得られた重合体が着色することや、重合体が架橋して、溶融成形が困難になることがある。
【００６９】
触媒の添加時期は、特に限定されるものではなく、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。
【００７０】
環化縮合反応を溶剤の存在下で行い、且つ、環化縮合反応の際に、脱揮工程を併用することが好ましい。この場合、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態、および、脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに過程の一部においてのみ併用する形態が挙げられる。脱揮工程を併用する方法では、縮合環化反応で副生するアルコールを強制的に脱揮させて除去するので、反応の平衡が生成側に有利となる。
【００７１】
脱揮工程とは、溶剤、残存単量体などの揮発分と、ラクトン環構造を導く環化縮合反応により副生したアルコールを、必要に応じて減圧加熱条件下で、除去処理する工程をいう。この除去処理が不充分であると、得られた重合体中の残存揮発分が多くなり、成形時の変質などにより着色することや、泡やシルバーストリークなどの成形不良が起こることがある。
【００７２】
環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、用いる装置については、特に限定されるものではないが、例えば、本発明をより効果的に行うために、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置やベント付き押出機、また、脱揮装置と押出機を直列に配置したものを用いることが好ましく、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置またはベント付き押出機を用いることがより好ましい。
【００７３】
熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度が１５０℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。一方、反応処理温度が３５０℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。
【００７４】
熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８〜６６．５ｈＰａ（６００〜５０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力が９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。一方、反応処理圧力が１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）未満であると、工業的な実施が困難になることがある。
【００７５】
前記ベント付き押出機を用いる場合、ベントは１個でも複数個でもいずれでもよいが、複数個のベントを有する方が好ましい。
【００７６】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。反応処理温度が１５０℃未満であると、環化縮合反応が不充分となって残存揮発分が多くなることがある。一方、反応処理温度が３５０℃を超えると、得られた重合体の着色や分解が起こることがある。
【００７７】
前記ベント付き押出機を用いる場合の反応処理圧力は、好ましくは９３１〜１．３３ｈＰａ（７００〜１ｍｍＨｇ）、より好ましくは７９８〜１３．３ｈＰａ（６００〜１０ｍｍＨｇ）である。反応処理圧力が９３１ｈＰａ（７００ｍｍＨｇ）を超えると、アルコールを含めた揮発分が残存しやすいことがある。一方、反応処理圧力が１．３３ｈＰａ（１ｍｍＨｇ）未満であると、工業的な実施が困難になることがある。
【００７８】
なお、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、後述するように、厳しい熱処理条件では得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがあるので、前述した脱アルコール反応の触媒を用い、できるだけ温和な条件で、ベント付き押出機などを用いて行うことが好ましい。
【００７９】
また、環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態の場合、好ましくは、重合工程で得られた重合体（ａ）を溶剤と共に環化縮合反応装置に導入するが、この場合、必要に応じて、もう一度ベント付き押出機などの環化縮合反応装置に通してもよい。
【００８０】
脱揮工程を環化縮合反応の過程全体にわたっては併用せずに、過程の一部においてのみ併用する形態を行ってもよい。例えば、重合体（ａ）を製造した装置を、さらに加熱し、必要に応じて脱揮工程を一部併用して、環化縮合反応を予めある程度進行させておき、その後に引き続いて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行い、反応を完結させる形態である。
【００８１】
先に述べた環化縮合反応の全体を通じて脱揮工程を併用する形態では、例えば、重合体（ａ）を、二軸押出機を用いて、２５０℃付近、あるいはそれ以上の高温で熱処理する時に、熱履歴の違いにより環化縮合反応が起こる前に一部分解などが生じ、得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがある。そこで、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う前に、予め環化縮合反応をある程度進行させておくと、後半の反応条件を緩和でき、得られるラクトン環含有重合体の物性の低下を抑制できるので好ましい。特に好ましい形態としては、例えば、脱揮工程を環化縮合反応の開始から時間をおいて開始する形態、すなわち、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態が挙げられる。具体的には、例えば、予め釜型反応器を用いて溶剤の存在下で環化縮合反応をある程度の反応率まで進行させておき、その後、脱揮装置を備えた反応器、例えば、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置や、ベント付き押出機などで、環化縮合反応を完結させる形態が好ましく挙げられる。特に、この形態の場合、環化縮合反応用の触媒が存在していることがより好ましい。
【００８２】
前述のように、重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う方法は、本発明においてラクトン環含有重合体を得る上で好ましい形態である。この形態により、ガラス転移温度がより高く、環化縮合反応率もより高まり、耐熱性に優れたラクトン環含有重合体が得られる。この場合、環化縮合反応率の目安としては、例えば、実施例に示すダイナッミクＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１％以下である。
【００８３】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に採用できる反応器は、特に限定されるものではないが、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置などが挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に好適なベント付き押出機も使用できる。これらの反応器のうち、オートクレーブ、釜型反応器が特に好ましい。しかし、ベント付き押出機などの反応器を用いる場合でも、ベント条件を温和にしたり、ベントをさせなかったり、温度条件やバレル条件、スクリュー形状、スクリュー運転条件などを調整することにより、オートクレーブや釜型反応器での反応状態と同じ様な状態で環化縮合反応を行うことが可能である。
【００８４】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、例えば、重合工程で得られた重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物を、（ｉ）触媒を添加して、加熱反応させる方法、（ｉｉ）無触媒で加熱反応させる方法、および、前記（ｉ）または（ｉｉ）を加圧下で行う方法などが挙げられる。
【００８５】
なお、ラクトン環化縮合工程において環化縮合反応に導入する「重合体（ａ）と溶剤とを含む混合物」とは、重合工程で得られた重合反応混合物それ自体、あるいは、一旦溶剤を除去した後に環化縮合反応に適した溶剤を再添加して得られた混合物を意味する。
【００８６】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際に再添加できる溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；クロロホルム、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。好ましくは、重合工程に用いた溶剤と同じ種類の溶剤である。
【００８７】
前記方法（ｉ）で添加する触媒としては、例えば、一般に使用されるｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒、塩基性化合物、有機カルボン酸塩、炭酸塩などが挙げられるが、本発明においては、前述の有機リン化合物を用いることが好ましい。触媒の添加時期は、特に限定されるものではないが、例えば、反応初期に添加してもよいし、反応途中に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。触媒の添加量は、特に限定されるものではないが、例えば、重合体（ａ）の質量に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。方法（ｉ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは室温〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が室温未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。一方、加熱温度１８０℃を超えるか、あるいは、加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。
【００８８】
前記方法（ｉｉ）としては、例えば、耐圧性の釜型反応器などを用いて、重合工程で得られた重合反応混合物をそのまま加熱する方法などが挙げられる。方法（ｉｉ）の加熱温度や加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは１００〜１８０℃、より好ましくは１５０〜１８０℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が１００℃未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化縮合反応率が低下することがある。逆に、加熱温度が１８０℃を超えるか、あるいは加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。
【００８９】
前記方法（ｉ）、（ｉｉ）のいずれにおいても、条件によっては、加圧下となっても何ら問題はない。
【００９０】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の際には、溶剤の一部が反応中に自然に揮発しても何ら問題ではない。
【００９１】
脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応の前に予め行う環化縮合反応の終了時、すなわち、脱揮工程開始直前における、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率は、好ましくは２％以下、より好ましくは１．５％以下、さらに好ましくは１％以下である。質量減少率が２％を超えると、続けて脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行っても、環化縮合反応率が充分高いレベルまで上がらず、得られるラクトン環含有重合体の物性が低下することがある。なお、上記の環化縮合反応を行う際に、重合体（ａ）に加えて、他の熱可塑性樹脂を共存させてもよい。
【００９２】
重合工程で得られた重合体（ａ）の分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基とを予め環化縮合反応させて環化縮合反応率をある程度上げておき、引き続き、脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応を行う形態の場合、予め行う環化縮合反応で得られた重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）と溶剤を、そのまま脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入してもよいし、必要に応じて、前記重合体（分子鎖中に存在するヒドロキシ基とエステル基との少なくとも一部が環化縮合反応した重合体）を単離してから溶剤を再添加するなどのその他の処理を経てから脱揮工程を同時に併用した環化縮合反応に導入しても構わない。
【００９３】
脱揮工程は、環化縮合反応と同時に終了することには限らず、環化縮合反応の終了から時間をおいて終了しても構わない。
【００９４】
ラクトン環含有重合体の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
【００９５】
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内における質量減少率が好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。
【００９６】
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成形後の成形品中に泡やシルバーストリークが入るという欠点が回避できる。さらに、高い環化縮合反応率によってラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体が充分に高い耐熱性を有している。
【００９７】
ラクトン環含有重合体は、濃度１５質量％のクロロホルム溶液にした場合、その着色度（ＹＩ）が、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６を超えると、着色により透明性が損なわれ、本来目的とする用途に使用できないことがある。
【００９８】
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、好ましくは３３０℃以上、より好ましくは３５０℃以上、さらに好ましくは３６０℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これが３３０℃未満であると、充分な熱安定性を発揮できないことがある。
【００９９】
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０℃以上、より好ましくは１１５℃以上、さらに好ましくは１２０℃以上である。
【０１００】
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは１，５００ｐｐｍ以下、より好ましくは１，０００ｐｐｍ以下である。残存揮発分の総量が１，５００ｐｐｍを超えると、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良の原因となる。
【０１０１】
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品に対するＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準拠した方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、さらに好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の指標であり、これが８５％未満であると、透明性が低下し、本来目的とする用途に使用できないことがある。
【０１０２】
ラクトン環含有樹脂フィルムに含まれるラクトン環含有重合体の含有割合は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは６０〜１００質量％、さらに好ましくは７０〜１００質量％、特に好ましくは８０〜１００質量％である。ラクトン環含有樹脂フィルムに含まれるラクトン環含有重合体の含有割合が５０質量％未満であると、本発明の効果を充分に発揮できないことがある。
【０１０３】
ラクトン環含有樹脂フィルムには、その他の成分として、ラクトン環含有重合体以外の重合体（以下「その他の重合体」ということがある。）を含有していてもよい。その他の重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系重合体；塩化ビニル、塩化ビニリデン、塩素化ビニル樹脂等のハロゲン化ビニル系重合体；ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系重合体；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。
【０１０４】
ラクトン環含有樹脂フィルムにおけるその他の重合体の含有割合は、好ましくは０〜５０質量％、より好ましくは０〜４０質量％、さらに好ましくは０〜３０質量％、特に好ましくは０〜２０質量％である。
【０１０５】
ラクトン環含有樹脂フィルムには、種々の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系等の酸化防止剤；耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤等の安定剤；ガラス繊維、炭素繊維等の補強材；フェニルサリチレート、（２，２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモン等の難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤等の帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤；有機フィラーや無機フィラー；樹脂改質剤；有機充填剤や無機充填剤；可塑剤；滑剤；帯電防止剤；難燃剤；などが挙げられる。
【０１０６】
ラクトン環含有樹脂フィルムに添加される紫外線吸収剤の構造は、特に限定されるものではないが、発色団としてヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有する紫外線吸収剤が好ましく、その中でも、ガラス転移温度が１１０℃以上の熱可塑性アクリル系樹脂と相溶性が高く吸収特性が優れている点から、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−アルキルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン骨格（アルキルオキシ；オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基）を有する紫外線吸収剤がより好ましく、下記式（４）で表される構造を有する紫外線吸収剤を主成分として含む紫外線吸収剤が特に好ましい。
【０１０７】
【化７】
【０１０８】
その他の紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾオキサジノン誘導体、トリアジン誘導体等が挙げられる。
【０１０９】
ベンゾトリアゾール誘導体としては、具体的には、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス[４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール]、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス[４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル]、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−[２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、３−[３−メチル−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５―ｔｅｒｔ―ブチル−４−ヒドロキシフェニル]プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応性生物、２−（２Ｈ―ベンゾトリアゾール―２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール等が挙げられる。
【０１１０】
ベンゾフェノン誘導体としては、具体的には、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジキロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’， ４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ジヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１１１】
ベンゾオキサジノン誘導体としては、具体的には、２−ｐ−メトキシフェニル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−α−ナフチル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−β−ナフチル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−ｐ−フタルイミドフェニル（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−ジフェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジノン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６又は１，５−ジナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が挙げられ、その中でも特に融点が高いことと吸収特性の点から、２，２’−（１，４−ジフェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンゾオキサジノン−４−オン）（日本サイテックインダストリーズ（株）製、商品名：サイアソーブＵＶ−３６３８）が好ましい。
トリアジン誘導体としては、具体的には、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ｉｓｏ−オクチルフェニル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。また、イソオクチル置換トリスレゾルシノールトリアジン（例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカル社製の商品名「ＣＧＬ７７７ＭＰＡＤ」）、ｔｅｒｔ−ブチル置換トリスレゾルシノールトリアジン、クミル置換トリスレゾルシノールトリアジン等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１２】
ラクトン環含有樹脂フィルム中における添加剤の含有割合は、好ましくは０〜５質量％、より好ましくは０〜２質量％、さらに好ましくは０〜０．５質量％である。
【０１１３】
ラクトン環含有樹脂フィルムの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、ラクトン環含有重合体と、その他の重合体や添加剤などを、従来公知の混合方法で充分に混合することにより樹脂組成物を調製し、これをフィルム成形することができる。また、延伸することによって、延伸フィルムとしてもよい。
【０１１４】
まず、熱可塑性樹脂組成物を製造するには、例えば、オムニミキサーなど、従来公知の混合機で上記のフィルム原料をプレブレンドした後、得られた混合物を押出混練する。この場合、押出混練に用いる混合機は、特に限定されるものではなく、例えば、単軸押出機、二軸押出機などの押出機や加圧ニーダーなど、従来公知の混合機を用いることができる。
【０１１５】
フィルム成形の方法としては、例えば、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法、カレンダー法、圧縮成形法など、従来公知のフィルム成形法が挙げられる。これらのフィルム成形法のうち、溶液キャスト法（溶液流延法）、溶融押出法が好ましい。
【０１１６】
溶液キャスト法（溶液流延法）に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチエルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１１７】
溶液キャスト法（溶液流延法）を行うための装置としては、例えば、ドラム式キャスティングマシン、バンド式キャスティングマシン、スピンコーターなどが挙げられる。
【０１１８】
溶融押出法としては、例えば、Ｔダイ法、インフレーション法などが挙げられ、その際の成形温度は、好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃である。
【０１１９】
Ｔダイ法でフィルム成形する場合は、公知の単軸押出機や二軸押出機の先端部にＴダイを取り付け、フィルム状に押出されたフィルムを巻取って、ロール状のフィルムを得ることができる。この際、巻取りロールの温度を適宜調整して、押出方向に延伸を加えることで、１軸延伸することも可能である。また、押出方向と垂直な方向にフィルムを延伸することにより、同時２軸延伸、逐次２軸延伸などを行うこともできる。
【０１２０】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、未延伸フィルムまたは延伸フィルムのいずれでもよい。延伸フィルムである場合は、１軸延伸フィルムまたは２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸フィルムである場合は、同時２軸延伸フィルムまたは逐次２軸延伸フィルムのいずれでもよい。２軸延伸した場合は、機械的強度が向上し、フィルム性能が向上する。ラクトン環含有重合体を主成分とする熱可塑性樹脂フィルムは、その他の熱可塑性樹脂を混合することにより、延伸しても位相差の増大を抑制することができ、光学的等方性を保持することができる。
【０１２１】
延伸を行う方法としては、例えば、一軸延伸法、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法など、従来公知のフィルム延伸方法が挙げられる。
【０１２２】
延伸温度は、フィルム原料であるラクトン環含有重合体を主成分とする樹脂組成物のガラス転移温度近傍であることが好ましく、具体的には、好ましくは（ガラス転移温度−３０℃）〜（ガラス転移温度＋１００℃）、より好ましくは（ガラス転移温度−２０℃）〜（ガラス転移温度＋８０℃）の範囲である。延伸温度が（ガラス転移温度−３０℃）未満であると、充分な延伸倍率が得られないことがある。一方、延伸温度が（ガラス転移温度＋１００℃）超えると、樹脂組成物の流動（フロー）が起こり、安定な延伸が行えなくなることがある。
【０１２３】
面積比で定義した延伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍、より好ましくは１．３〜１０倍の範囲である。延伸倍率が１．１倍未満であると、延伸に伴う靭性の向上につながらないことがある。一方、延伸倍率が２５倍を超えると、延伸倍率を上げるだけの効果が認められないことがある。
【０１２４】
延伸速度は、一方向で、好ましくは１０〜２０，０００％／分、より好ましくは１００〜１０，０００％／分の範囲である。延伸速度が１０％／分未満であると、充分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなることがある。一方、延伸速度が２０，０００％／分を超えると、延伸フィルムの破断などが起こることがある。
【０１２５】
また、得られたフィルムは、その光学的等方性や機械的特性を安定化させるために、延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うことができる。熱処理の条件は、従来公知の延伸フィルムに対して行われる熱処理の条件と同様に適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。
【０１２６】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、その厚さが好ましくは５μｍ〜２５０μｍ、より好ましくは１０〜１５０μｍである。この範囲外であると、加工工程における工程張力の変化や曲げ等の変形によって割れる問題が特に起こりにくくなり、また、適度な曲げ強さを有するため毎葉シートの状態での手や機械によるハンドリング時に折れ曲がりなどの問題が生じて好ましくない。
【０１２７】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、高透明性を有しており、可視光透過率が、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【０１２８】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した引張強度が、好ましくは１０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満、より好ましくは３０ＭＰａ以上１００ＭＰａ未満である。引張強度が１０ＭＰａ未満であると、充分な機械的強度を発現できなくなることがある。一方、引張強度が１００ＭＰａを越えると、加工性が低下することがある。
【０１２９】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した伸び率が、好ましくは１％以上である。上限は特に限定されないが、通常は１００％以下が好ましい。伸び率が１％未満であると、靭性に欠けるため好ましくない。
【０１３０】
本発明にかかるラクトン環含有樹脂フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｄ−８８２−６１Ｔに基づいて測定した引張弾性率が、好ましくは０．５ＧＰａ以上、より好ましくは１ＧＰａ以上、さらに好ましくは２ＧＰａ以上である。上限は特に限定されないが、通常は２０ＧＰａ以下が好ましい。０．５ＧＰａ未満の場合には、充分な機械的強度を得られなくなることがある。
【０１３１】
ラクトン環含有樹脂フィルムは、その表面の濡れ張力が、好ましくは４０ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５０ｍＮ／ｍ以上、さらに好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上である。表面の濡れ張力が少なくとも４０ｍＮ／ｍ以上であると、ラクトン環含有樹脂フィルムと防眩層との密着性がさらに向上する。表面の濡れ張力を調整するために、例えば、コロナ放電処理、オゾン吹き付け、紫外線照射、火炎処理、化学薬品処理、その他の従来公知の表面処理を施すことができる。
≪バインダーおよびその硬化方法≫
前記防眩層を形成するバインダーとしては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。
【０１３２】
電離放射線硬化型樹脂組成物の被膜形成成分は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【０１３３】
更に、上記電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤としてアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリストリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【０１３４】
更に、上記防眩層を形成するためのバインダーとして、上記のような電離放射線硬化型樹脂に対して溶剤乾燥型樹脂を含ませてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使用される。 更に、次のように、電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませる利点がある。
【０１３５】
電離放射線硬化型樹脂組成物をメタリングロールを有するロールコータで透明基材フィルムに塗布する場合、メタリングロール表面の液状残留樹脂膜が流動して経時で筋やムラ等になり、これらが塗布面に再転移して塗布面に筋やムラ等の欠点を生じるが、上記のように電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませると、このような塗布面の塗膜欠陥を防ぐことができる。
【０１３６】
上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法は通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
【０１３７】
ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【０１３８】
前記電離放射線硬化型樹脂に混合される熱可塑性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用され、これらの樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用する。
【０１３９】
≪微粒子≫
前記防眩層に含有させる微粒子としては、樹脂ビーズが好適であり、特に透明度が高く、マトリックス樹脂（バインダー）との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
【０１４０】
樹脂ビーズとしては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ、塩ビビーズ等が用いられる。これらの樹脂ビーズの粒径は、前述のように０．１〜５μｍのものを適宜選択して用いる。上記樹脂ビーズのうち、スチレンビーズが特に好ましく用いられる。
【０１４１】
上記のような有機フィラーとしての微粒子を添加した場合には、樹脂組成物（バインダー）中で有機フィラーが沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加すればする程有機フィラーの沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１重量％未満程度含ませると沈降を防止することができる。
【０１４２】
有機フィラーの沈降防止のための沈降防止剤である無機フィラーを添加しない場合は、透明基材フィルムへの塗布時に有機フィラーが底に沈澱しているので、よく掻き混ぜて均一にして使用すればよい。
【０１４３】
ここで、一般に、電離放射線硬化型樹脂の屈折率は約１．５で、ガラスと同程度であるが、前記微粒子の屈折率との比較において、用いる樹脂の屈折率が低い場合には、該バインダーに、屈折率の高い微粒子であるＴi Ｏ2（屈折率；２．３〜２．７）、Ｙ2 Ｏ3 （屈折率；１．８７）、Ｌａ2 Ｏ3 （屈折率；１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率；２．０５）、Ａｌ2 Ｏ3 （屈折率；１．６３）等を塗膜の拡散性を保持できる程度に加えて、屈折率を上げて調整することができる。
【０１４４】
≪低屈折率層≫
本発明において用いられる低屈折率層はシリコン含有フッ化ビニリデン共重合体からなり、具体的には、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０重量部とからなる樹脂組成物であることを特徴とする。この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４５以下）の低屈折率層を形成する。
【０１４５】
この低屈折率層に用いられる前記フッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体であり、当該モノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは４０〜７０重量％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０重量％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有するものであってもよい。
【０１４６】
又、このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、本発明の目的及び効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。ここに、当該他の共重合成分の具体例として、例えばフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモー３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモー３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができる。
【０１４７】
このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０重量％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。
【０１４８】
このフッ素含有重合体は、特にそのフッ素含有割合が上述の特定の範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。又、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、基材の表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。
【０１４９】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２０００００、特に１００００〜１０００００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。
【０１５０】
更に、フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。屈折率が１．４５を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。
【０１５１】
本発明において用いられる重合性化合物は、光重合開始剤の存在下又は非存在下で活性エネルギー線が照射されることにより、又は熱重合開始剤の存在下で加熱されることにより、付加重合を生ずるエチレン性不飽和基を有する化合物である。
【０１５２】
このような重合性化合物の具体例としては、例えば、前述の特開平８−９４８０６号に挙げるものを使用することができる。
【０１５３】
これらの化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【０１５４】
用いる重合性化合物が、エチレン性不飽和基を１分子中に３個以上含有するものである場合には、得られるフッ素系樹脂組成物は、特に、基材に対する密着性及び基材の表面の耐傷性等の機械的特性が極めて良好な薄膜を形成するものとなる。
【０１５５】
重合性化合物の使用量は、フッ素含有共重合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好ましくは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重量部である。
【０１５６】
この重合性化合物の使用割合が過小であると、得られる塗料によって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなり、一方、使用割合が過大であると、形成される薄膜は屈折率の高いものとなって良好な反射防止効果を得ることが困難となる。
【０１５７】
前記フッ素系樹脂組成物においては、フッ素含有共重合体及び重合性化合物を含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、特に３５〜５０重量％であることが好ましい。このような条件が満足される場合には、本発明の目的及び効果を更に十分に達成する薄膜を確実に形成することができる。フッ素含有割合が過大であるフッ素系樹脂組成物によって形成される薄膜は、基材に対する密着性が低いものとなる傾向と共に、基材の表面の耐傷性等の機械的特性が若干低下するものとなり、一方、フッ素含有割合が過小であるフッ素系樹脂組成物により形成される薄膜は、屈折率が大きいものとなって反射防止効果が低下する傾向が生じる。
【０１５８】
本発明の低屈折率層は、シリコン含有フッ化ビニリデン重合体からなり、シリコン及びフッ素が表面の防汚性、耐傷性を向上させ、又、シリコンが、後述のケン化処理後における低屈折率層の物性の劣化を抑制することができる。
【０１５９】
前記防眩フィルムにおいては、低屈折率層が、フッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部からなる樹脂組成物を用いて形成されているので、特に、そのフッ素含有共重合体中においてヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％のモノマー成分を含んでいるので、この樹脂組成物の塗布により形成される低屈折率層において、１．４５以下の低屈折率を実現することができ、又、特に、そのフッ素含有共重合体中においてフッ化ビニリデン８０〜９０重量％のモノマー成分を含んでいるため、得られる樹脂組成物の溶剤溶解性が増し、塗布適性が良好となり、その膜厚を反射防止に適した２００ｎｍ以下の薄膜とすることができる。更に、塗布される樹脂組成物中に、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物３０〜１５０重量部が含まれているため、得られる塗膜は耐擦傷性の機械的強度の優れたものとなる。又、各樹脂成分は透明性が高いため、これらの成分を含有した樹脂組成物を用いて形成された低屈折率層は、透明性に優れている。
【０１６０】
前記防眩フィルムでは、接する空気からその内部に至るまで、空気層（屈折率１．０）、低屈折率層（屈折率１．６０未満、好ましくは１．４５以下）、防眩層（屈折率１．５０以上）、透明基材フィルム（防眩層より低くあるいはほぼ同様の屈折率）となっているので、効率のよい反射防止を行うことができる。防眩層の屈折率が透明基材フィルムの屈折率よりも高く構成されることが望ましく、このような場合には、透明基材フィルムと防眩層との間の界面における反射を防止する効果が更に付加される。
【０１６１】
前記低屈折率層に使用される溶剤は、当該フッ素系樹脂組成物の塗布性及び形成される薄膜の基材に対する密着性の点から、７６０ヘクトパスカルの圧力下における沸点が５０〜２００℃の範囲内のものが好ましい。
【０１６２】
このような溶剤の具体例としては、例えばアセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル。酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸第二アミル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチル等のケトン類又はカルボン酸エステル類よりなる溶剤を挙げることができる。これらの溶剤は単一でも２成分以上の混合物でもよく、更に上記に例示したもの以外の溶剤を、樹脂組成物の性能が損なわれない範囲で加えることもできる。
【０１６３】
溶剤の使用量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物との合計量１００重量部に対して、通常２００〜１００００重量部、好ましくは１０００〜１００００重量部、特に好ましくは１２００〜４０００重量部である。
【０１６４】
溶剤の使用量をこの範囲とすることにより、フッ素系樹脂組成物の粘度の大きさを、樹脂組成物として好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、特に０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが容易であり、その結果、当該フッ素系樹脂組成物により、可視光線の反射防止膜として実用上好適な均一で塗布ムラのない厚さ１００〜２００ｎｍの薄膜を容易に形成することができ、しかも基材に対する密着性が特に優れた薄膜を形成することができる。
【０１６５】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物は、含有される重合性化合物のエチレン性不飽和基が重合反応することによって硬化するものであり、従って、当該樹脂組成物が塗布されて形成された塗膜に対し、当該重合性化合物を重合反応させる硬化処理が施されて固体状の薄膜が形成される。
【０１６６】
このような硬化処理の手段として、当該フッ素系樹脂組成物の塗膜に活性エネルギー線を照射する手段、又は塗膜を加熱する手段が利用され、これにより、本発明が目的とする硬化状態の薄膜を確実に且つ容易に形成することができるので、実際上極めて有利であり、薄膜形成操作の点においても便利である。
【０１６７】
本発明の光学機能性フィルムに使用されるフッ素系樹脂組成物を活性エネルギー線の照射によって硬化処理する場合において、活性エネルギー線として電子線を用いるときは、当該フッ素系樹脂組成物には特に重合開始剤を添加することなしに、所期の硬化処理を行うことができる。
【０１６８】
又、硬化処理のための活性エネルギー線として、紫外線あるいは可視光線の如き光線を用いる場合には、当該活性エネルギー線の照射を受けて分解して、例えばラジカルを発生し、それによって重合性化合物の重合反応を開始させる光重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加される。
【０１６９】
このような光重合開始剤の具体例は、前述の特開平８−９４８０６号に開示されているが、１−ヒドロキシルシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロバン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルロチル）−１−ブタノン等が好ましい。
【０１７０】
更に、硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加される。
【０１７１】
熱重合開始剤の具体例としては、例えばベンゾイルパーオキサイト、ｔｅｒｔ−ブチル−オキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル、アセチルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーアセテート、クミルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等を挙げることができる。
【０１７２】
前記フッ素系樹脂組成物における光重合開始剤又は熱重合開始剤の添加量は、フッ素含有共重合体と重合性化合物との合計１００重量部に対し、通常、０．５〜１０重量部、好ましくは１〜８重量部、特に好ましくは１〜３重量部である。この添加量が１０重量部を越えると、樹脂組成物の取り扱い並びに形成される薄膜の機械的強度等に悪影響を及ぼすことがあり、一方、添加量が０．５重量部未満では硬化速度が小さいものとなる。
【０１７３】
前記フッ素系樹脂組成物には、必要に応じて、本発明の目的及び効果が損なわれない範囲において、各種添加剤、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミン等のアミン系化合物から成る増感剤、もしくは重合促進剤；エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンスチレンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等のポリマー、あるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール等の重合禁止剤；その他にレベリング剤、漏れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、無機充填剤、樹脂粒子、顔料、染料等を配合することができる。
【０１７４】
なお、上記では、低屈折率層について、その反射防止効果を説明したが、低屈折率層には黒濃度を良好として高コントラストとする効果もあり、好ましい形態は前述と同様である。
【０１７５】
前記低屈折率層の形成方法は、他の一般的な薄膜成形手段、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例えば前記以外の反射防止塗料の塗膜、膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ2 等の極薄膜や金属蒸着膜、あるいはＳｉＯｘやＭｇＦ2 の蒸着膜により形成してもよい。
【０１７６】
なお、前述の如く、選択された低屈折率層の材料の屈折率に対して、（１）式を充足する屈折率のバインダーが得られない場合は、このバインダー中に、前述のような屈折率の高いＴｉＯ2 等の微粒子を加えて、屈折率を上げて調整する。
【０１７７】
なお、本発明の防眩フィルムは、低屈折率層を設けたものに限定されるものでなく、低屈折率層を設けないようにしてもよい。
≪その他≫
又、本発明の防眩フィルムは、粘着層、セパレータを設けるようにしてもよい。
【０１７８】
前記透明基材フィルムの防眩層と反対側に設けられている粘着層は、防眩フィルムを例えば液晶パネルに取り付ける場合に用いるものであり、セパレータを剥離した露出した粘着層を、液晶パネル等に押し付けることによって、防眩フィルムを取り付けることができる。
【０１７９】
又、本発明の防眩フィルムは、透明基材フィルムと防眩層との間に、透明導電性層を設け、更に、防眩層中に更に導電材料を含有するように構成することにより、帯電防止性能を付与することができる。この帯電防止性能は透明導電性層を設けることによって、本発明の各実施形態の例における全ての防眩フィルムに付与できる。
【０１８０】
透明導電性層は、導電性微粒子を樹脂組成物に分散したものであり、導電性微粒子としては、例えばアンチモンドープのインジウム・ティンオキサンド（以下、ＡＴＯと記載する）やインジウム・ティンオキサンド（ＩＴＯ）、金及び／又はニッケルで表面処理した有機化合物微粒子等を、樹脂組成物としては、アルキッド樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下本明細書では、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する）等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤を比較的多量に含むものが使用できる。
【０１８１】
防眩層に含有させる導電材料としては、金及び（又は）ニッケルで表面処理をした粒子を使用することができる。このような表面処理をする前の粒子は、シリカ、カーボンブラック、金属粒子及び樹脂粒子からなる群から選ぶことができる。
【０１８２】
≪表示装置≫
次に、本発明に係る表示装置を液晶表示装置に適用した場合の実施形態の例について説明する。
【０１８３】
液晶表示装置は、偏光素子、液晶パネルと、偏光板とを、この順で積層すると共に、偏光板側の背面にバックライトを配置した透過型の液晶表示装置である。偏光板としては、通常の液晶表示装置で用いられる偏光板を用いることができる。
【０１８４】
また、前記液晶表示装置におけるバックライトに代えて、偏光板に密着して反射板を配置することもできる。
【０１８５】
前記液晶表示装置における液晶パネルで使用される液晶モードとしては、ツイストネマティックタイプ（ＴＮ）、スーパーツイストネマティックタイプ（ＳＴＮ）、ゲスト−ホストタイプ（ＧＨ）、相転移タイプ（ＰＣ）、高分子分散タイプ（ＰＤＬＣ）等のいずれであってもよい。
【０１８６】
又、液晶の駆動モードとしては、単純マトリックスタイプ、アクティブマトリックスタイプのどちらでもよく、アクティブマトリックスタイプの場合では、ＴＦＴ、ＭＩＭ等の駆動方式が取られる。
【０１８７】
更に、液晶パネルは、カラータイプあるいはモノクロタイプのいずれであってもよい。
【０１８８】
更に又、本発明は液晶表示装置以外の表示装置、例えばプラズマ表示装置、ＣＲＴ表示装置にも適用されるものである。
【実施例】
【０１８９】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例により制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【０１９０】
≪評価方法≫
＜粒子の粒子径＞
コールタ−マルチサイザー（ベックマンコールター社製）を用いて測定した。
【０１９１】
＜粒子の屈折率＞
１００ｃｃのフラスコに粒子０．５ｇを秤量し、二硫化炭素４０ｇを加えた後、マグネチックスターラーにより室温で十分に攪拌し、混合溶液を作成した。この混合溶液に、ピペットにてエタノールを滴下していくと、最初白濁していた液が徐々に透明になる。目視で透明と判断した点を終点とする。終点時点での粒子分散液における二硫化炭素とエタノールの重量比に相当する混合溶剤を別途作製し、アッベ屈折率計（株式会社アタゴ製）にて混合溶剤の屈折率を測定し、この屈折率を粒子の屈折率とした。
【０１９２】
＜内部ヘイズ＞
内部ヘイズの測定は、フィルムの両面にシリコーンオイルを塗布した後、ガラス板でこのフィルムの両面を挟み、フィルム外側の影響（外部ヘイズ）を消去することにより、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ２０００）を用いて測定した。
【０１９３】
＜表面ヘイズ＞
表面ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００、日本電色工業（株）製）を用いて測定した全ヘイズの値から内部ヘイズの値を引いた値を用いた。
【０１９４】
＜反射率＞
反射率は、島津製作所製の分光反射率測定機ＭＰＣ−３１００で測定し、波長３８０〜７８０ｎｍ光での平均反射率をとった。
【０１９５】
＜面のギラツキ＞
面のギラツキの評価は、バックライト（ライトボックス５７００、ハクバ写真産業（株））上に、千鳥格子配置のカラーフィルター（ピッチ１５０μｍ）を設置し、カラーフィルター表面から１６０μｍ離れた位置に、防眩フィルム処理面を上に向けて貼着し、面のギラツキ状態を目視で評価した。
【０１９６】
＜映り込み＞
防眩フィルムの裏面に絶縁ビニールテープ（ヤマト製、幅３７．５ｍｍ）を貼り合わせ、２ｍの距離より、むき出し蛍光灯（１００００ｃｄ／ｍ2）を映し、その反射像のボケの程度により評価した。
評価基準
○：蛍光灯の輪郭がわからない
×：蛍光灯がほとんどボケず、輪郭が非常に明確に見える。
【０１９７】
＜黒濃度＞
黒濃度の評価は、防眩フィルムの裏面に黒い絶縁ビニールテープ（ヤマト製、幅３７．５ｍｍ）を貼って試験片とし、蛍光灯下でフィルム表面を観察した。更に、この試験片をＫｏｌｌｍｏｒｇｅｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＭａｃｂｅｔｈ ＲＤ９１４で測定した。同様に裏面に黒い絶縁ビニールテープを貼ったラクトン環含有樹脂フィルムを測定し、この値を基準、即ち黒濃度１００％とし、これに対し試験片の測定値が８５％以上である場合を良好とした。
【０１９８】
＜接触角＞
接触角は、純水を用い、固液界面解析システム（ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００、協和界面科学（株）製）により測定した。
【０１９９】
＜耐擦傷性＞ （耐スチールウール性）
スガ試験機（株）製学振型耐磨耗試験機を用いて、＃００００スチールウールを２００ｇ／ｃｍ２荷重で２０回往復させた後の傷の付き具合を目視で評価した。
評価基準
○：傷が全く観察されない場合
×：傷が観察される、もしくは粒子の脱落が多い場合
＜表面抵抗率＞
ＪＩＳ Ｋ６９１１に準拠して、デジタル絶縁計（東亜ディーケーケー社製、ＤＳＭ８１０４）を用いて測定した。
【０２００】
＜耐溶剤性＞
防眩フィルム（７０ｍｍ×７０ｍｍ）をメタノール中に１０分間浸漬後、取り出したフィルムについて目視により評価した。
評価基準
○：全く溶解しない
×：完全に、もしくは一部溶解してしまう
＜鉛筆硬度＞
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠して鉛筆引っかき試験を行い、傷付きにより評価した。
＜フィルム表面電位＞
２３℃、５０％ＲＨの環境の元、防眩フィルム同士を１０回こすり擦り合わせ、表面電位計（ＦＭＸ−００３、ＳＩＭＣＯ社製）を用い測定した。
評価基準
○：３ kＶより小さい
△：３kＶ以上、５kＶ以下
×：５kＶより大きい
≪ラクトン環含有樹脂フィルムの調製≫
次に、ラクトン環含有樹脂フィルムの製造例について説明する。
【０２０１】
まず、ラクトン環含有樹脂（以下「ラクトン環含有重合体」ということがある。）の評価方法について説明する。
【０２０２】
＜重合反応率、重合体組成分析＞
重合反応時の反応率および重合体中の特定単量体単位の含有率は、得られた重合反応混合物中の未反応単量体の量をガスクロマトグラフ（ＧＣ１７Ａ、（株）島津製作所製）を用いて測定して求めた。
【０２０３】
＜ダイナミックＴＧ＞
重合体（もしくは重合体溶液あるいはペレット）を一旦テトラヒドロフランに溶解または希釈し、過剰のヘキサンまたはメタノールに投入して再沈殿を行い、取り出した沈殿物を真空乾燥（１ｍｍＨｇ（１．３３ｈＰａ）、８０℃、３時間以上）することによって揮発成分などを除去し、得られた白色固形状の樹脂を以下の方法（ダイナミックＴＧ法）で分析した。
測定装置：差動型示差熱天秤（Ｔｈｅｒｍｏ Ｐｌｕｓ２ ＴＧ−８１２０ ダイナミックＴＧ、（株）リガク製）
測定条件：試料量 ５〜１０ｍｇ
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：窒素フロー １００ｍＬ／ｍｉｎ
方法：階段状等温制御法（６０℃から５００℃までの範囲における質量減少速度値０．００５％／ｓｅｃ以下に制御）
＜ラクトン環構造の含有割合＞
まず、得られた重合体組成からすべての水酸基がメタノールとして脱アルコールした際に起こる質量減少量を基準にし、ダイナミックＴＧ測定において質量減少が始まる前の１５０℃から重合体の分解が始まる前の３００℃までの脱アルコール反応による質量減少から、脱アルコール反応率を求めた。
【０２０４】
すなわち、ラクトン環構造を有する重合体のダイナミックＴＧ測定において１５０℃から３００℃までの間の質量減少率の測定を行い、得られた実測値を実測質量減少率（Ｘ）とする。他方、当該重合体の組成から、その重合体組成に含まれる全ての水酸基がラクトン環の形成に関与するためアルコールになり脱アルコールすると仮定した時の質量減少率（すなわち、その組成上において１００％脱アルコール反応が起きたと仮定して算出した質量減少率）を理論質量減少率（Ｙ）とする。なお、理論質量減少率（Ｙ）は、より具体的には、重合体中における脱アルコール反応に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体のモル比、すなわち当該重合体組成における原料単量体の含有率から算出することができる。これらの値を脱アルコール計算式：
１−（実測質量減少率（Ｘ）／理論質量減少率（Ｙ））
に代入してその値を求め、百分率（％）で表記すると、脱アルコール反応率が得られる。
【０２０５】
一例として、後述の製造例１で得られたペレットにおいてラクトン環構造の含有割合を計算する。この重合体の理論質量減少率（Ｙ）を求めてみると、メタノールの分子量は３２であり、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの分子量は１１６であり、重合体中における２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの含有率（質量比）は組成上２０．０質量％であるから、（３２／１１６）×２０．０≒５．５２質量％となる。他方、ダイナミックＴＧ測定による実測質量減少率（Ｘ）は０．３４質量％であった。これらの値を上記の脱アルコール計算式に当てはめると、１−（０．３４／５．５２）≒０．９３８となるので、脱アルコール反応率は９３．８％である。
【０２０６】
そして、この脱アルコール反応率分だけ所定のラクトン環化が行われたものとして、ラクトン環化に関与する構造（水酸基）を有する原料単量体の当該共重合体組成における含有量（質量比）に、脱アルコール反応率を乗じ、ラクトン環構造の含有率（質量比）に換算することにより、当該共重合体におけるラクトン環構造の含有割合を算出することができる。後述の製造例の場合、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルの当該共重合体における含有率が２０．０質量％、算出した脱アルコール反応率が９３．８％、分子量が１１６の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチルがメタクリル酸メチルと縮合した場合に生成するラクトン環構造の式量が１７０であることから、当該共重合体におけるラクトン環構造の含有割合は２７．５（２０．０×０．９３８×１７０／１１６）質量％となる。
【０２０７】
＜重量平均分子量、数平均分子量＞
重合体の重量平均分子量や数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣシステム、東ソー（株）製）を用いて、ポリスチレン換算により求めた。
【０２０８】
＜重合体の熱分析＞
重合体の熱分析は、示差走査熱量計（ＤＳＣ−８２３０、（株）リガク製）を用いて、試料約１０ｍｇ、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、窒素フロー５０ｍＬ／ｍｉｎの条件で行った。なお、ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ−Ｄ−３４１８に準拠して、中点法で求めた。
【０２０９】
≪製造例１≫ （ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の製造例）
まず、攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素ガス導入管を備えた容量３０Ｌの反応容器に、メタクリル酸メチル８ｋｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル２ｋｇ、メチルイソブチルケトン１０ｋｇ、ｎ−ドデシルメルカプタン５ｇを仕込んだ。
【０２１０】
この反応容器に窒素ガスを導入しながら、１０５℃まで昇温し、還流したところで、重合開始剤として、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７５、化薬アクゾ（株）製）５ｇを添加すると同時に、メチルイソブチルケトン２３０ｇにｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（カヤカルボンＢＩＣ−７５、化薬アクゾ（株）製）１０ｇを溶解した溶液を２時間かけて滴下しながら、還流下、約１０５〜１２０℃で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０２１１】
得られた重合体溶液に、リン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８、堺化学工業（株）製）３０ｇを添加し、還流下、約９０〜１２０℃で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／ｈの処理速度で導入し、この押出機内で、さらに環化縮合反応と脱揮を行い、押し出すことにより、ラクトン環含有重合体の透明なペレットを得た。
【０２１２】
得られたラクトン環含有重合体について、ダイナミックＴＧの測定を行ったところ、０．３４質量％の質量減少を検知した。また、このラクトン環含有重合体は、重量平均分子量は１４４，０００であり、ガラス転移温度が１３１℃であった。
【０２１３】
このラクトン環含有重合体のペレットを、２０ｍｍφのスクリューを有する二軸押出機を用いて、幅１５０ｍｍのコートハンガータイプＴダイから溶融押出して、厚さ約１００μｍのラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）を調製した。
≪製造例２≫
（紫外線吸収能を付与したラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）の製造例）
攪拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を付した３０Ｌ反応釜に、４１．５部のメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、６部の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、２．５部の２−〔２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ〕エチルフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学（株）製、商品名：ＲＵＶＡ−９３）、５０部のトルエン、０．０２５部のアデカスタブ２１１２（旭電化工業（株）製）、０．０２５部のｎ−ドデシルメルカプタンを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させ、還流したところで、開始剤として０．０５部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富（株）製、商品名：ルパゾール５７０）を添加すると同時に、０．１０部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエートを３時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
【０２１４】
得られた重合体溶液に、０．０５部のリン酸２−エチルヘキシル（堺化学工業（株）製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−８）を加え、還流下（約９０〜１１０℃）で２時間、環化縮合反応を行った。引き続きオートクレーブにより２４０℃で３０分間加熱処理を行い、環化縮合反応を完全に行った。
【０２１５】
次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２４０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）のベントタイプスクリュー二軸押出し機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、脱揮を行った。そのとき、別途準備しておいた酸化防止剤・失活剤混合溶液を、第１ベントの後から高圧ポンプを用いて０．０３ｋｇ／時間の投入速度で注入した。また、第２ベントの後より別途準備しておいた紫外線吸収剤溶液０．０５ｋｇ／時間の投入速度で注入した。更に第３ベントの後から高圧ポンプを用いてイオン交換水を０．０１ｋｇ／時間の投入速度で注入した。酸化防止剤・失活剤混合溶液はスミライザーＧＳ（住友化学（株）製）５０部、オクチル酸亜鉛（ニッカオクチクス亜鉛３．６％ 日本化学産業（株）製）３５部をトルエン２００部に溶解したものである。紫外線吸収剤溶液は、分子量が９５４の紫外線吸収剤が主成分（分子量７７１、９５４、および、１１３８の紫外線吸収剤の混合物）でヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有するＣＧＬ７７７ＭＰＡ（チバスペシャリティケミカルズ（株）社製 有効成分８０％）１９部をトルエン３１部に溶解したものである。
【０２１６】
上記脱揮操作により、透明で紫外線吸収性単量体単位を有する熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。ＧＰＣによる樹脂部の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は１４５０００、ガラス転移温度は１２２℃であった。
【０２１７】
上記樹脂を用い、２７０℃の押出温度でシリンダー径が２０ｍｍの単軸押出機を用い下記条件で押出成形し、１００μｍの厚みのラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）を得た。（Ｔ−ダイ：温度２７０℃、幅１２０ｍｍ、成膜：つや付き２本ロール、ロール温度１１０℃、引き取り速度：２．５ｍ／分）。
【０２１８】
≪シリカ粒子および樹脂粒子の合成≫
<合成例１>
（重合体シード粒子（Ｋ−１）の合成
冷却管、温度計、滴下口を備えた四ツ口フラスコに、イオン交換水９０ｇとスチレン１０ｇ、ｎ−デシルメルカプタン０．５ｇ、ＮａＣｌ０．１ｇを入れ、１時間窒素ガスを導入して反応容器内の窒素置換を行った。その後、反応液を７０℃に昇温させて、過硫酸カリウム０．１ｇを少量のイオン交換水に溶解した溶液を注射器を用いて添加し、７０℃で２４時間反応を行った。反応終了後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、重合体シード粒子（Ｋ−１）を得た。
得られた重合体シード粒子（Ｋ−１）の粒子径は０．７μｍ、変動係数は３．０％であった。
【０２１９】
（アクリル系樹脂粒子（Ｓ−１）の合成）
冷却管、温度計、滴下口を備えた四ツ口フラスコに、重合体シード粒子（Ｋ−１）０．５ｇ、イオン交換水５０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．０５ｇを加え均一に分散させ、さらにポリビニルアルコールの３重量％水溶液２０ｇを加え、重合体シード粒子分散液を調製した。次いで、乳化剤としてラウリル硫酸ナトリウム０．１ｇをイオン交換水５０ｇで溶解した溶液に、スチレン０．２５ｇ、エチレングリコールジメタクリレート０．０３ｇ、過酸化ベンゾイル０．０１ｇを溶解した溶液を加え、ホモジナイザーによりモノマーエマルションを調製し、得られたモノマーエマルションを上記重合体シード粒子分散液に添加して、さらに攪拌を行った。次いで、反応容器に窒素ガスを導入し、反応液を窒素雰囲気下で７０℃に昇温させて、７０℃で２４時間保持し、モノマーのラジカル重合を行った。ラジカル重合後、得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、次いでメタノールで洗浄し、さらに８０℃で１２時間真空乾燥させてアクリル系樹脂粒子（Ｓ−１）を得た。
アクリル系樹脂粒子（Ｓ−１）の粒子径は１．３μｍ、変動係数は３．８％、屈折率は１．６０であった。
<合成例２>
（シリカ粒子（Ｓ−２）の合成）
撹拌器つきの内容積１０リットルのガラス製反応器にメタノール１６００ｃｃ、アンモニア水（２５重量％）６００ｃｃ、５Ｎ−ＮａＯＨ水溶液１０ｃｃおよび界面活性剤としてアクチノールＦ−３（松本油脂製薬社製）２ｇを仕込み、良く混合した。また、メタノール１リットルに対して、テトラエチルシリケート（コルコート化学社製）を２０８ｇの割合で溶解した原料液を準備した。次に、反応媒体の温度を２０℃に保ちながら、原料液を１．０ｇ／ｍｉｎの速度で滴下を行い、合計６４０ｇのテトラエチルシリケートの原料液を添加した後、反応を停止し、反応液を静置してシリカ粒子を沈降させ上澄み液を分離した。さらに、メタノール中に再分散−デカンテーション処理を行い、エバポレーターでメタノールを除き、シリカ粒子（Ｓ−２）を得た。得られたシリカ粒子（Ｓ−２）の粒子径は１．０μｍ、変動係数は２．１％、屈折率は１．４６であった。
【０２２０】
≪防眩層形成用コーティング組成物の調製≫
<調製例１>
ペンタエリスリトールトリアクリレート３．６４ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、トルエン、酢酸ｎ−ブチルおよびイソブチルアルコールからなる混合溶剤７．２１ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を得た。
【０２２１】
<調製例２>
ペンタエリスリトールトリアクリレート２．２７ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．２ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．０６ｇ、トルエンおよび酢酸ｎ−ブチルからなる混合溶剤４．３８ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−２）を得た。
【０２２２】
<調製例３>
ペンタエリスリトールトリアクリレート３．６４ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、導電性微粒子（ＣＸ―Ｓ２０４ＩＰ；日産化学（株）製）２．０ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、トルエン、酢酸ｎ−ブチルおよびイソプロピルアルコールからなる混合溶剤５．２１ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−３）を得た。
【０２２３】
<調製例４>
シリコン含有フッ化ビニリデン２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．８６ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．０１ｇおよびメチルイソブチルケトン１４０．１４ｇを混合し、低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−１）を得た。
【０２２４】
<調製例５>
シリコン含有フッ化ビニリデン２ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．０２ｇおよびメチルイソブチルケトン１９６ｇを混合し、低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−２）を得た。
【０２２５】
<比較調整例１>
ペンタエリスリトールトリアクリレート２．２７ｇ、シリカ粒子（Ｓ−２）０．２ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．０６ｇ、トルエンおよび酢酸ｎ−ブチルからなる混合溶剤４．３８ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−１）を得た。
【０２２６】
<比較調整例２>
ペンタエリスリトールトリアクリレート１４．１０ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．３９９ｇ、トルエン、酢酸ｎ−ブチルおよびイソブチルアルコールからなる混合溶剤３６．８ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−２）を得た。
【０２２７】
<比較調整例３>
ペンタエリスリトールトリアクリレート１０．６ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、トルエン、酢酸ｎ−ブチルおよびイソブチルアルコールからなる混合溶剤２０ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−３）を得た。
【０２２８】
<比較調整例４>
ペンタエリスリトールトリアクリレート３．６４ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、酢酸エチルおよびシクロヘキサノンからなる混合溶剤７．２１ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−４）を得た。
【０２２９】
<比較調整例５>
ペンタエリスリトールトリアクリレート３．６４ｇ、樹脂粒子（Ｓ−１）０．４ｇ、イルガキュア６５１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製；光重合開始剤）０．１１ｇ、メチルイソブチルケトン７．２１ｇを十分混合し、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−５）を得た。
【０２３０】
<<防眩フィルムの評価>>
<実施例１>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、積算光量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して半硬化させることにより、防眩層を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２３１】
次に、得られた防眩層の上に、調製例４で得られた低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−１）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（Ａ−１）を得た。
【０２３２】
得られた防眩フィルム（Ａ−３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２３３】
<実施例２>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−２）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−２）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、積算光量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して半硬化させることにより、防眩層を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２３４】
次に、得られた防眩層の上に、調製例５で得られた低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−２）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（Ａ−２）を得た。
【０２３５】
得られた防眩フィルム（Ａ−３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２３６】
<実施例３>
まず、実施例１と同様に防眩層を形成したラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２３７】
次に、得られた防眩層を形成したラクトン環含有樹脂フィルムに対してケン化処理を行った後、真空度４×１０−５Ｔｏｒｒ、電圧８ｋＶ、電流２０〜４０ｍＡの条件でＳｉＯ２を真空蒸着することにより、膜厚０．１μｍのＳｉＯ２膜からなる低屈折率層を防眩層上に形成した。
【０２３８】
更に、低屈折率層上に、ＫＰ−８０１Ｍ（商品名；信越化学工業（株）製）０．０７ｇをフッ素系溶剤ＰＦ５０８０（商品名；住友スリーエム（株）製）９．９３ｇに溶解した溶液を、乾燥後の膜厚が約５ｎｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させることにより、防汚層を形成した防眩フィルム（Ａ−３）を得た。
【０２３９】
得られた防眩フィルム（Ａ−３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２４０】
<実施例４>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させることにより、防眩フィルム（Ａ−４）を得た。
【０２４１】
得られた防眩フィルム（Ａ−４）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を行った。結果を表２に示す。
【０２４２】
<実施例５>
実施例４において、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−２）としたこと以外は、実施例４と同様にして、防眩フィルム（Ａ−５）を得た。
【０２４３】
得られた防眩フィルム（Ａ−５）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を行った。結果を表２に示す。
【０２４４】
<実施例６>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化させることにより、ラクトン環含有樹脂フィルム上に防眩層を作製した。
【０２４５】
次に、得られた防眩層を形成したラクトン環含有樹脂フィルムに対してケン化処理を行った後、ＫＰ−８０１Ｍ（商品名；信越化学工業（株）製）０．０７ｇをフッ素系溶剤ＰＦ５０８０（商品名；住友スリーエム（株）製）９．９３ｇに溶解した溶液を、乾燥後の膜厚が約５ｎｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させることにより、防汚層を形成した防眩フィルム（Ａ−６）を得た。
【０２４６】
得られた防眩フィルム（Ａ−５）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を行った。結果を表２に示す。
【０２４７】
<実施例７>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、透明導電層形成用材料として、ＡＴＯ含有導電インキ（ＤＡ−１２、住友大阪セメント（株）製）を膜厚２μｍとなるように塗布し、７０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５０ｍＪ／ｍ２の紫外線を照射して半硬化させ、透明導電層を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２４８】
次に、得られた透明導電層上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−３）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して半硬化させることにより、透明導電層と防眩層の積層膜を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２４９】
更に、得られた防眩層上に、低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−１）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下で積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記透明導電層および防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（Ａ−７）を得た。
【０２５０】
得られた防眩フィルム（Ａ−７）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を測定した。結果を表２に示す。
【０２５１】
<比較例１>
実施例２における防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−２）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−１）としたこと以外は、実施例２と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−１）を得た。
【０２５２】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２５３】
<比較例２>
実施例１における防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−２）としたこと以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−２）を得た。
【０２５４】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−２）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２５５】
<比較例３>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）上に、防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−３）を、硬化後の膜厚が４μｍとなるように塗布し、６０℃で１分間乾燥させた後、賦型フィルムとして、ダイヤホイルＥ−１３０（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製；厚さ２６μｍ）をラミネートし、積算光量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、防眩層を半硬化させた。次に、前記賦型フィルムを剥離することにより、微細な凹凸を形成した防眩層を有するラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２５６】
次に、得られた防眩層の上に、調製例４で得られた低屈折率層形成用コーティング組成物（ＣＬ−１）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（ＲＡ−３）を得た。
【０２５７】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２５８】
<比較例４〜５>
実施例１における防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−４）〜（ＣＨＲ−５）としたこと以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−４）〜（ＲＡ−５）を得た。
【０２５９】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−４）〜（ＲＡ−５）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
【０２６０】
<比較例６〜１０>
実施例４における防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨ−１）を防眩層形成用コーティング組成物（ＣＨＲ−１）〜（ＣＨＲ−５）としたこと以外は、実施例４と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−６）〜（ＲＡ−１０）を得た。
【０２６１】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−６）〜（ＲＡ−１０）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位を行った。結果を表２に示す。
【０２６２】
<比較例１１>
まず、実施例２と同様に防眩層を形成したラクトン環含有樹脂フィルムを得た。
【０２６３】
次に、得られた防眩層の上に、シリコンを含有しないフッ素系低屈折率ポリマー（ＴＭ００５、ＪＳＲ（株）製）を、硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、８０℃で１分間乾燥させた後、窒素パージ下において積算光量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、前記防眩層と共に完全硬化させることにより、防眩フィルム（ＲＡ−１１）を得た。
【０２６４】
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１１）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表２に示す。
<比較例１２>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ、富士フィルム社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−１２）を得た。
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１２）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表３に示す。
<比較例１３>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにシクロオレフィンポリマーフィルム（ゼオノアＺＦ１４、日本ゼオン社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−１３）を得た。
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１３）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度およびフィルム表面電位による評価を行った。結果を表３に示す。
<比較例１４>
ラクトン環含有樹脂フィルム（Ｆ−１）の代わりにＰＥＴフィルム（ＨＢＰＦ８Ｗ、帝人デュポン社製）を利用した以外は、実施例１と同様にして、防眩フィルム（ＲＡ−１４）を得た。
得られた防眩フィルム（ＲＡ−１４）について、内部ヘイズ、表面ヘイズ、反射率、面のギラツキ、映り込み、黒濃度、接触角の測定および耐擦傷性試験、ケン化試験、耐候性試験、耐溶剤性試験、鉛筆硬度、フィルム表面電位による評価を行った。結果を表３に示す。
【０２６５】
【表１】
【０２６６】
【表２】
【０２６７】
【表３】
【産業上の利用可能性】
【０２６８】
本発明の防眩フィルムは、高精細化したディスプレイに用いても優れた防眩性、シンチレーションの防止性、画像鮮明性、耐候性、表面硬度、フィルム製造・加工時の作業性および安全性がいずれも従来に比べ高く、各種光学用途に応じた特性を十分に発揮することができるので、例えば、液晶表示装置やプラズマディスプレイ、有機ＥＬ表示装置などのフラットパネルディスプレイなどに防眩性、光拡散性を付与する光学用途に好適である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルム上に形成されてなる防眩層とを備えてなる防眩フィルムであって、前記透明基材フィルムが、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルムであり、前記防眩層が屈折率の異なる微粒子を含有するバインダーから構成され、前記防眩層の表面凹凸における表面ヘイズ値Ｈｓを７＜Ｈｓ＜３０、前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉを１＜Ｈｉ＜１５としたことを特徴とする防眩フィルム。
【化１】
[式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す；なお、該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい]
【請求項２】
請求項１において、前記防眩層の上に、更に、この防眩層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層を積層してなることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記低屈折率層を、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体から形成したことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項４】
請求項３において、前記シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体が、フッ化ビニリデン及びヘキサフルオロプロピレンの共重合体であって、フッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物との重合体であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項５】
請求項４において、前記低屈折率層は、少なくとも前記フッ素含有共重合体と前記エチレン性不飽和基を有する重合性化合物とから構成される塗膜を塗布後、活性エネルギー線を照射又は加熱して形成されたものであることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項６】
請求項２乃至５のいずれかにおいて、前記低屈折率層を、酸化ケイ素の膜から形成すると共に、更にその上に防汚層を形成したことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、前記防眩層の表面凹凸におけるヘイズ値Ｈｓと前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉとの和が３０以下となるようにしたことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、前記防眩層におけるバインダーと微粒子との屈折率の差Δｎを、０．０１≦Δｎ≦０．５とすると共に、微粒子の平均粒径ｄを、０．１μｍ≦ｄ≦５μｍとしたことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、前記バインダーが、熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方であり、前記微粒子が有機系微粒子であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項１０】
請求項９において、前記有機系微粒子がスチレンビーズであることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれかにおいて、透明基材フィルムと防眩層との間に透明導電性層を有し、かつ、防眩層中に導電材料が含有されたことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項１２】
複数の画素を有し、各画素が光を透過又は光を反射することにより、画像を形成する表示パネルと、この表示パネルの表示面側に設けられた請求項１乃至１１のいずれかの防眩フィルムと、を有してなる表示装置。
【請求項１】
透明基材フィルム上に形成されてなる防眩層とを備えてなる防眩フィルムであって、前記透明基材フィルムが、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造を有しているラクトン環含有樹脂フィルムであり、前記防眩層が屈折率の異なる微粒子を含有するバインダーから構成され、前記防眩層の表面凹凸における表面ヘイズ値Ｈｓを７＜Ｈｓ＜３０、前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉを１＜Ｈｉ＜１５としたことを特徴とする防眩フィルム。
【化１】
[式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を表す；なお、該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい]
【請求項２】
請求項１において、前記防眩層の上に、更に、この防眩層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層を積層してなることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記低屈折率層を、シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体から形成したことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項４】
請求項３において、前記シリコン含有フッ化ビニリデン共重合体が、フッ化ビニリデン及びヘキサフルオロプロピレンの共重合体であって、フッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物との重合体であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項５】
請求項４において、前記低屈折率層は、少なくとも前記フッ素含有共重合体と前記エチレン性不飽和基を有する重合性化合物とから構成される塗膜を塗布後、活性エネルギー線を照射又は加熱して形成されたものであることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項６】
請求項２乃至５のいずれかにおいて、前記低屈折率層を、酸化ケイ素の膜から形成すると共に、更にその上に防汚層を形成したことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、前記防眩層の表面凹凸におけるヘイズ値Ｈｓと前記防眩層の内部拡散による内部ヘイズ値Ｈｉとの和が３０以下となるようにしたことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、前記防眩層におけるバインダーと微粒子との屈折率の差Δｎを、０．０１≦Δｎ≦０．５とすると共に、微粒子の平均粒径ｄを、０．１μｍ≦ｄ≦５μｍとしたことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、前記バインダーが、熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方であり、前記微粒子が有機系微粒子であることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項１０】
請求項９において、前記有機系微粒子がスチレンビーズであることを特徴とする防眩フィルム。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれかにおいて、透明基材フィルムと防眩層との間に透明導電性層を有し、かつ、防眩層中に導電材料が含有されたことを特徴とする防眩フィルム。
【請求項１２】
複数の画素を有し、各画素が光を透過又は光を反射することにより、画像を形成する表示パネルと、この表示パネルの表示面側に設けられた請求項１乃至１１のいずれかの防眩フィルムと、を有してなる表示装置。
【公開番号】特開２００９−１７５３８０（Ｐ２００９−１７５３８０Ａ）
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１３２５７（Ｐ２００８−１３２５７）
【出願日】平成２０年１月２４日（２００８．１．２４）
【出願人】（０００００４６２８）株式会社日本触媒 (2,292)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月６日（２００９．８．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月２４日（２００８．１．２４）
【出願人】（０００００４６２８）株式会社日本触媒 (2,292)
【Ｆターム（参考）】
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