電極アセンブリのプレナムを洗浄する洗浄用取付具及び洗浄方法
【課題】電極アセンブリのプレナムを洗浄する洗浄用取付具及び洗浄方法
【解決手段】本発明の一実施形態にしたがって、電極アセンブリの１つ又は２つ以上の流体プレナムを洗浄する方法が提供される。方法にしたがって、流体プレナムと連通している複数の流体ポートが隔離され、プレナム入力ポート及びプレナム出力ポートのそれぞれのセットに区別される。入力ポート及び出力ポートは、それぞれの洗浄流体継ぎ手と係合される。プレナム入力ポートとプレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることによって、洗浄流体は、流体プレナムを通るように仕向けられる。圧力差ΔＰは、洗浄流体を強制的に洗浄流体供給ダクトから流体プレナムを通って洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさである。更なる実施形態が開示され、権利を要求される。
【解決手段】本発明の一実施形態にしたがって、電極アセンブリの１つ又は２つ以上の流体プレナムを洗浄する方法が提供される。方法にしたがって、流体プレナムと連通している複数の流体ポートが隔離され、プレナム入力ポート及びプレナム出力ポートのそれぞれのセットに区別される。入力ポート及び出力ポートは、それぞれの洗浄流体継ぎ手と係合される。プレナム入力ポートとプレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることによって、洗浄流体は、流体プレナムを通るように仕向けられる。圧力差ΔＰは、洗浄流体を強制的に洗浄流体供給ダクトから流体プレナムを通って洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさである。更なる実施形態が開示され、権利を要求される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ処理及びプラズマ処理チャンバ部品等に関するものである。特に、本発明は、プレナムを含む電極アセンブリ部品を洗浄する方法及びこれらの方法を促進するための洗浄用取付具に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマ処理チャンバは、エッチング、物理気相成長、化学気相成長、イオン注入、レジスト剥離などを非限定的に含む様々な技術によって基板を処理するために使用される。限定目的ではなく、例として、プラズマ処理チャンバの一種は、通例シャワーヘッド電極と呼ばれる上部電極と、底部電極とを含む。これらの電極間には、反応チャンバ内においてプロセスガスをプラズマ状態に励起して基板を処理するために、電場が確立される。
【０００３】
プラズマ処理チャンバのシャワーヘッド電極及びその他の部品は、通例、複数の部品を組み立てたアセンブリとして提供される。これらの部品の多くは、プロセス流体を仕向ける若しくは内包するためのプレナムを含む、又はアセンブリのその他の部品と共同して流体プレナムを形成するように構成される。本発明者らは、着目される特定の流体プレナムの形状、大きさ、又は機能にかかわらず、アセンブリと流体プレナムを含む部品とを洗浄するための改善された方法及び関連の器具が著しく必要とされていることを認識している。
【発明の概要】
【０００４】
本発明の一実施形態にしたがって、電極アセンブリの１つ又は２つ以上の流体プレナムを洗浄する方法が提供される。方法にしたがって、流体プレナムと連通している複数の流体ポートが隔離され、プレナム入力ポート及びプレナム出力ポートのそれぞれのセットに区別される。入力ポート及び出力ポートは、それぞれの洗浄流体継ぎ手と係合される。プレナム入力ポートとプレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることによって、洗浄流体は、流体プレナムを通るように仕向けられる。圧力差ΔＰは、洗浄流体を強制的に洗浄流体供給ダクトから流体プレナムを通って洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさである。
【０００５】
本発明の別の実施形態にしたがって、電極アセンブリの流体プレナムを洗浄するための洗浄用取付具が提供される。洗浄用取付具は、１つ又は２つ以上の流体供給ダクトと、１つ又は２つ以上の洗浄流体排出ダクトと、１つ又は２つ以上の洗浄流体継ぎ手とを含む。洗浄用取付具の洗浄流体継ぎ手は、電極アセンブリの流体プレナムの入力ポート及び出力ポートと係合してそれぞれの封止境界を形成するように構成される。洗浄流体継ぎ手によって形成される封止境界は、プレナム入力ポートとプレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることを可能にするのに充分であり、流体圧力差ΔＰは、プレナム流体入力ポート及びプレナム流体出力ポートにおける封止境界の圧力差障害閾値又は絶対圧力障害閾値を超えることなく洗浄流体を強制的に洗浄流体供給ダクトから流体プレナムを通って洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさである。
【０００６】
更なる実施形態が開示され、権利を要求される。
【０００７】
本発明の個々の実施形態に関する以下の詳細な説明は、以下の図面とあわせて読まれたときに最も良く理解することができる。図中、類似の構造は、類似の参照符号によって示されるものとする。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】表面下の流体プレナムを含む電極アセンブリの等角図である。
【図２】比較的単純な流体プレナム構成、及びそれに係合された本発明の特定の実施形態にしたがった洗浄用取付具の概略図である。
【図３】比較的単純な流体プレナム構成、及びそれに係合された本発明の特定の実施形態にしたがった洗浄用取付具の概略図である。
【図４】入力プレナムポート、出力プレナムポート、閉プレナムポートの可変指定を通じてどのように代わりの目標洗浄流体フローパターンを形成することができるかを例示している。
【図５】入力プレナムポート、出力プレナムポート、閉プレナムポートの可変指定を通じてどのように代わりの目標洗浄流体フローパターンを形成することができるかを例示している。
【図６】プラズマ処理チャンバの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の様々な態様を、プラズマ処理チャンバ１０との関連で例示することができる。プラズマ処理チャンバ１０は、本発明の主題に不可欠でない特定のプラズマ処理構成又はプラズマ処理部品に本発明の概念が限定されることのないように、図６に、概略的に例示されるにすぎない。一般に図６に例示されるように、プラズマ処理チャンバ１０は、真空源２０と、プロセスガス供給３０と、プラズマ動力供給４０と、下部電極アセンブリ５５及び上部電極アセンブリ１００を含む基板サポート５０とを含む。
【００１０】
図１〜６を参照すると、一般に、電極アセンブリ１００は、熱制御板１１０と、シャワーヘッド電極１２０と、熱制御板１１０とシャワーヘッド電極１２０との間の安定した接合を促進するための境界層１３０とを含む。プロセスガスをプロセスガス供給３０からシャワーヘッド電極１２０内のシャワーヘッド電極通路に仕向けるために、熱制御板１１０内に、１つ又は２つ以上の流体プレナム１４０が提供される。本発明は、特定の熱制御板構成又はシャワーヘッド電極構成に限定されないが、図６におけるプロセスガスフローの方向矢印によって概略的に例示されるように、熱制御板１１０内のプレナムは、通常は、プロセスガスを電極アセンブリ１００の裏側から、シャワーヘッド電極１２０の前面に沿って提供された小穴の配列に仕向ける。また、電極アセンブリ部品の設計においては、米国公開第２００５／０１３３１６０号を非限定的に含む様々な教示がベースとなってよいことにも留意されたい。或いは、又は更に、熱制御板１１０、シャワーヘッド電極１２０、又はそれらの両方は、電極アセンブリの温度の制御を助けるためにアセンブリ内において熱伝達流体を循環させるように構成することができる１つ又は２つ以上の表面下流体プレナム１４０を含んでよい。
【００１１】
境界層１３０は、説明のための例として提示されたものであり、接着接合材料、熱伝導性ガスケット、又は電極アセンブリ１００の組み立てを促進するその他の任意の構造を含んでよい。熱制御板１１０をシャワーヘッド電極１２０に固定するために、様々な封止部材及び固定器具を使用することができると考えられる。また、熱制御板１１０とシャワーヘッド電極１２０との切り離しを可能にするような固定器具が選択されてもよいと考えられる。いずれにせよ、境界層１３０、及び電極アセンブリ１００の一般的２パーツ構造は、説明を目的として提示されたものにすぎず、本発明の範囲を特定の電極アセンブリ構造に限定するために使用されるべきでない。むしろ、本発明の特定の実施形態にしたがった洗浄用取付具及び洗浄方法は、通常は、電極アセンブリ内において何らかの流体プレナムの存在を必要とするにすぎない。
【００１２】
より具体的には、図１〜５に概略的に例示された電極アセンブリ１００は、各自、１つ又は２つ以上の表面下流体プレナム１４０と、流体プレナム１４０と連通している複数の流体ポート１５０とを含む。本発明の範囲は、図１〜５に例示された特定のプレナム構成に限定されるべきでない。例示された構成は、プレナム洗浄に関連して本発明の概念を例示するために提示されたにすぎない。実際は、本発明の概念は、様々なレベルの複雑性を持つ様々なプレナム構成に適用可能であると考えられ、図１に例示されたような、隔離された流体ポート１５０が共通の流体プレナム１４０の個々の部分と連通している構成、又は隔離された流体ポートが独立の流体プレナムと連通している構成が含まれる。
【００１３】
図２を参照すると、本発明にしたがった、電極アセンブリを洗浄する１つの方法にしたがって、流体ポートが、プレナム入力ポート１５０Ａ及びプレナム出力ポート１５０Ｂのそれぞれのセットに区別される。入力ポート１５０Ａ及び出力ポート１５０Ｂは、係合先のポートとの封止境界を形成するように構成されたそれぞれの洗浄流体継ぎ手１５２と係合される。プレナム入力ポート１５０Ａと連通する１つ又は２つ以上の洗浄流体供給ダクト１５４及びプレナム出力ポート１５０Ｂと連通する１つ又は２つ以上の洗浄流体排出ダクト１５６を提供することによって、洗浄流体タンク１６０からの洗浄流体は、流体プレナム１４０を通るように仕向けられる。洗浄流体供給１５０は、ポンプ又は何らかの流体圧力生成構成を含み、プレナム入力ポート１５０Ａとプレナム出力ポート１５０Ｂとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させる。
【００１４】
圧力差ΔＰは、洗浄流体を強制的に洗浄流体供給ダクト１５４から流体プレナム１４０を通って洗浄流体排出ダクト１５６に向かわせるのに充分な大きさである。圧力差ΔＰがプレナム流体入力ポート１５０Ａ及びプレナム流体出力ポート１５０Ｂの封止境界の圧力差障害閾値未満に維持されるように、注意を払うことも可能である。また、プレナム入力ポート１５０Ａ及びプレナム出力ポート１５０Ｂにおけるそれぞれの圧力ＰIN及びＰOUTを入力ポート及び出力ポートの封止境界の絶対圧力障害閾値未満に維持することも、好ましいであろう。このようにして、洗浄流体をもっぱら流体プレナムに隔離しつつ、洗浄プレナム１４０を通るように強制的に仕向けることができる。また、洗浄プロセスの特性は、洗浄動作が電極アセンブリの製造及び構築の前、最中、又は後に実行可能であることである。洗浄動作の強制性は、また、流体プレナム１４０内に粒子が捕捉されたままになって、図６に例示されたプラズマ処理チャンバ１０内の汚染源として機能する可能性を、小さくする。
【００１５】
図３を参照すると、図２及び図３のそれぞれの流体プレナム１４０内における方向矢印の比較から明らかなように、流体ポート１５０は、流体プレナム１４０内における洗浄流体のフローパターンの調整に役立てるために、１つ又は２つ以上の閉プレナムポート１５０Ｃのセットに更に区別することができる。実際は、プレナム入力ポート１５０Ａ、プレナム出力ポート１５０Ｂ、及び閉プレナムポート１５０Ｃのそれぞれの位置を変更することによって、様々な流体フローパターンが形成可能であると考えられる。洗浄流体を流体プレナム１４０内において最適に分布させるために、特定の目標パターンが選択されてよい。
【００１６】
図４及び図５を参照すると、流体プレナムの様々な部分が適切に網羅されることを保証するために、続く１つ又は２つ以上の洗浄流体フローパターンと連携する代替の目標洗浄流体フローパターンが選択されてよい。例えば、プレナム入力ポート１５０Ａ、プレナム出力ポート１５０Ｂ、及び閉プレナムポート１５０Ｃによって定められる図４の洗浄流体フローパターンは、多量の洗浄流体をプレナム１４０の大部分を通るように仕向けるが、プレナム１４０内における洗浄流体の流れによって充分に洗浄されないであろう比較的不活性な流体プレナム部分１４０Ａ、１４０Ｂを残らせる傾向もある。フローパターンに関するこれらの問題に対処するには、流体ポートを入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更することによって、洗浄流体を流体プレナムを通るように仕向けることが考えられる。より具体的には、図５を参照すると、これまで不活性であった流体プレナム部分１４０Ａ、１４０Ｂを通るように洗浄流体を仕向けるために、図４に例示された洗浄動作が実行される前又は後に、プレナム入力ポート１５０Ａ、プレナム出力ポート１５０Ｂ、及び閉プレナムポート１５０Ｃのそれぞれの場所を図４に例示されたものから変更することができる。
【００１７】
再び図２及び図３を参照すると、上述された、流体ポート１５０を入力ポート、出力ポート、及び閉ポートのぞれぞれに区別する方式の変更は、各洗浄流体継ぎ手１５２に関連付けられたそれぞれのバルブを制御することによって、実行することができる。或いは、流体ポートの区別の変更は、プログラマブルコントローラ１８０を使用して、洗浄流体タンク１６０及び洗浄流体供給ダクト１５４と連通している流体ルータを制御することによって実行することができる。洗浄流体タンク１６０は、図２及び図３において、使用済みの洗浄流体のための容器としても例示されている。
【００１８】
本発明の一態様にしたがうと、入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットを交替させて、流体プレナム１４０を通って流れる一連の往復交互洗浄パルスの繰り返しによって特徴付けられる少なくとも１回の入出力ポート交互動作を実行することによって、洗浄流体を流体プレナム１４０を通るように仕向けることができる。同様に、洗浄流体は、一連の洗浄流体パルスをシミュレートするために、変動流速で流体プレナムを通るように仕向けることができると考えられる。また、洗浄流体は、窒素又はろ過空気などの乱流発生ガス状媒質によって、流体プレナム１４０を通るように仕向けることができると考えられる。
【００１９】
図２及び図３は、また、係合された洗浄流体継ぎ手１５２の相対位置を固定するために、そして同様に構成された一連の電極アセンブリ１００を洗浄用取付具１７０及び関連の洗浄流体継ぎ手１５２を用いてプレナム洗浄ステーションへ簡便に移動させることを可能にするために、洗浄用取付具１７０を使用することを例示している。この状況では、一連の電極アセンブリが洗浄される間に、入力プレナムポート１５０Ａ、出力プレナムポート１５０Ｂ、及び閉プレナムポート１５０Ｃのそれぞれの位置を確立して維持することができるので、各洗浄流体継ぎ手１５２に関連付けられたそれぞれのバルブを使用する必要も、又は洗浄流体タンク１６０及び洗浄流体供給ダクト１５４と連通している流体ルータを制御するためにプログラマブルコントローラ１８０を使用する必要もないであろう。実際、ひとたび好ましい洗浄流体フローパターンが確立されたら、電極アセンブリ１００の裏側に取り付け可能な板として洗浄用取付具１７０を提供すれば充分であろう。この場合、板は、特定のプレナムポートを遮断する、又は特定のプレナムポートへの流体の進入若しくは特定の流体プレナムポートからの流体の排出を可能にする適切なチャネルを有すると考えられる。一連の電極アセンブリが同等の流体ポート形態を用いていない場合は、洗浄用取付具１７０は、固定された洗浄流体継ぎ手１５２のそれぞれの位置を流体ポート１５０のそれぞれの位置と一致するように変更可能であるように構成することができると考えられる。
【００２０】
上述のように、多くの場合、電極アセンブリ３０の裏側からのプロセスガスは、シャワーヘッド電極１２０の前面に沿って提供された小穴の配列に仕向けられる。この状況では、多くの場合、洗浄動作の完全性及び精密性の維持に役立てるために、シャワーヘッド電極１２０内のプロセスガス穴の配列を通した洗浄流体の散失又は喪失を阻止するように構成された洗浄用取付具遮断板１７５を提供することが好ましくなる。
【００２１】
本明細書における、特定の性質又は機能を特定の方式で具体化するように「構成され」ている本発明の部品に関する記載は、使用目的の記載ではなく構造的記載であることに留意されたい。より具体的には、本明細書における、部品が「構成される」方式に対する言及は、その部品の既存の物理的条件を意味しており、したがって、その部品の構造的特性の明確な記載と見なされるべきである。
【００２２】
本明細書で使用されるときの「好ましくは」、「通例」、「通常は」などの用語は、特許請求される発明の範囲を限定するために用いられるのでも、又は特許請求される発明の構造若しくは機能に対して特定の特徴が決定的、不可欠、若しくは重要であることを示差するために用いられるのでもなく、むしろ、これらの用語は、単に、本発明の実施形態の特定の態様を特定することを、又は本発明の特定の実施形態で用いられる若しくは用いられない代替の若しくは追加の特徴を強調することを意図している。
【００２３】
本発明は、その具体的な実施形態への言及によって詳細に説明されてきたが、添付の特許請求の範囲に定められた発明の範囲から逸脱することなく修正及び変更が可能であることが明らかである。より具体的には、本明細書では、本発明の幾つかの態様が好ましい又は特に有利なものとして特定されているが、本発明は、これら発明の好ましい態様に必ずしも限定されないと考えられる。
【００２４】
特許請求の範囲の請求項の１つ又は２つ以上では、文中に、転換句として「であり」や「であって」という用語を用いている。本発明を定める上では、この用語は、構造の一連の特性に関する記載を導入するために使用される制限的ではない転換句として請求項で用いられている。この語は、構成要件を列挙している語「を備える」と同様に、それ以外の要件を含むか含まないかを制限していないものとして解釈されるべきであることに留意されたい。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ処理及びプラズマ処理チャンバ部品等に関するものである。特に、本発明は、プレナムを含む電極アセンブリ部品を洗浄する方法及びこれらの方法を促進するための洗浄用取付具に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマ処理チャンバは、エッチング、物理気相成長、化学気相成長、イオン注入、レジスト剥離などを非限定的に含む様々な技術によって基板を処理するために使用される。限定目的ではなく、例として、プラズマ処理チャンバの一種は、通例シャワーヘッド電極と呼ばれる上部電極と、底部電極とを含む。これらの電極間には、反応チャンバ内においてプロセスガスをプラズマ状態に励起して基板を処理するために、電場が確立される。
【０００３】
プラズマ処理チャンバのシャワーヘッド電極及びその他の部品は、通例、複数の部品を組み立てたアセンブリとして提供される。これらの部品の多くは、プロセス流体を仕向ける若しくは内包するためのプレナムを含む、又はアセンブリのその他の部品と共同して流体プレナムを形成するように構成される。本発明者らは、着目される特定の流体プレナムの形状、大きさ、又は機能にかかわらず、アセンブリと流体プレナムを含む部品とを洗浄するための改善された方法及び関連の器具が著しく必要とされていることを認識している。
【発明の概要】
【０００４】
本発明の一実施形態にしたがって、電極アセンブリの１つ又は２つ以上の流体プレナムを洗浄する方法が提供される。方法にしたがって、流体プレナムと連通している複数の流体ポートが隔離され、プレナム入力ポート及びプレナム出力ポートのそれぞれのセットに区別される。入力ポート及び出力ポートは、それぞれの洗浄流体継ぎ手と係合される。プレナム入力ポートとプレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることによって、洗浄流体は、流体プレナムを通るように仕向けられる。圧力差ΔＰは、洗浄流体を強制的に洗浄流体供給ダクトから流体プレナムを通って洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさである。
【０００５】
本発明の別の実施形態にしたがって、電極アセンブリの流体プレナムを洗浄するための洗浄用取付具が提供される。洗浄用取付具は、１つ又は２つ以上の流体供給ダクトと、１つ又は２つ以上の洗浄流体排出ダクトと、１つ又は２つ以上の洗浄流体継ぎ手とを含む。洗浄用取付具の洗浄流体継ぎ手は、電極アセンブリの流体プレナムの入力ポート及び出力ポートと係合してそれぞれの封止境界を形成するように構成される。洗浄流体継ぎ手によって形成される封止境界は、プレナム入力ポートとプレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることを可能にするのに充分であり、流体圧力差ΔＰは、プレナム流体入力ポート及びプレナム流体出力ポートにおける封止境界の圧力差障害閾値又は絶対圧力障害閾値を超えることなく洗浄流体を強制的に洗浄流体供給ダクトから流体プレナムを通って洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさである。
【０００６】
更なる実施形態が開示され、権利を要求される。
【０００７】
本発明の個々の実施形態に関する以下の詳細な説明は、以下の図面とあわせて読まれたときに最も良く理解することができる。図中、類似の構造は、類似の参照符号によって示されるものとする。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】表面下の流体プレナムを含む電極アセンブリの等角図である。
【図２】比較的単純な流体プレナム構成、及びそれに係合された本発明の特定の実施形態にしたがった洗浄用取付具の概略図である。
【図３】比較的単純な流体プレナム構成、及びそれに係合された本発明の特定の実施形態にしたがった洗浄用取付具の概略図である。
【図４】入力プレナムポート、出力プレナムポート、閉プレナムポートの可変指定を通じてどのように代わりの目標洗浄流体フローパターンを形成することができるかを例示している。
【図５】入力プレナムポート、出力プレナムポート、閉プレナムポートの可変指定を通じてどのように代わりの目標洗浄流体フローパターンを形成することができるかを例示している。
【図６】プラズマ処理チャンバの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の様々な態様を、プラズマ処理チャンバ１０との関連で例示することができる。プラズマ処理チャンバ１０は、本発明の主題に不可欠でない特定のプラズマ処理構成又はプラズマ処理部品に本発明の概念が限定されることのないように、図６に、概略的に例示されるにすぎない。一般に図６に例示されるように、プラズマ処理チャンバ１０は、真空源２０と、プロセスガス供給３０と、プラズマ動力供給４０と、下部電極アセンブリ５５及び上部電極アセンブリ１００を含む基板サポート５０とを含む。
【００１０】
図１〜６を参照すると、一般に、電極アセンブリ１００は、熱制御板１１０と、シャワーヘッド電極１２０と、熱制御板１１０とシャワーヘッド電極１２０との間の安定した接合を促進するための境界層１３０とを含む。プロセスガスをプロセスガス供給３０からシャワーヘッド電極１２０内のシャワーヘッド電極通路に仕向けるために、熱制御板１１０内に、１つ又は２つ以上の流体プレナム１４０が提供される。本発明は、特定の熱制御板構成又はシャワーヘッド電極構成に限定されないが、図６におけるプロセスガスフローの方向矢印によって概略的に例示されるように、熱制御板１１０内のプレナムは、通常は、プロセスガスを電極アセンブリ１００の裏側から、シャワーヘッド電極１２０の前面に沿って提供された小穴の配列に仕向ける。また、電極アセンブリ部品の設計においては、米国公開第２００５／０１３３１６０号を非限定的に含む様々な教示がベースとなってよいことにも留意されたい。或いは、又は更に、熱制御板１１０、シャワーヘッド電極１２０、又はそれらの両方は、電極アセンブリの温度の制御を助けるためにアセンブリ内において熱伝達流体を循環させるように構成することができる１つ又は２つ以上の表面下流体プレナム１４０を含んでよい。
【００１１】
境界層１３０は、説明のための例として提示されたものであり、接着接合材料、熱伝導性ガスケット、又は電極アセンブリ１００の組み立てを促進するその他の任意の構造を含んでよい。熱制御板１１０をシャワーヘッド電極１２０に固定するために、様々な封止部材及び固定器具を使用することができると考えられる。また、熱制御板１１０とシャワーヘッド電極１２０との切り離しを可能にするような固定器具が選択されてもよいと考えられる。いずれにせよ、境界層１３０、及び電極アセンブリ１００の一般的２パーツ構造は、説明を目的として提示されたものにすぎず、本発明の範囲を特定の電極アセンブリ構造に限定するために使用されるべきでない。むしろ、本発明の特定の実施形態にしたがった洗浄用取付具及び洗浄方法は、通常は、電極アセンブリ内において何らかの流体プレナムの存在を必要とするにすぎない。
【００１２】
より具体的には、図１〜５に概略的に例示された電極アセンブリ１００は、各自、１つ又は２つ以上の表面下流体プレナム１４０と、流体プレナム１４０と連通している複数の流体ポート１５０とを含む。本発明の範囲は、図１〜５に例示された特定のプレナム構成に限定されるべきでない。例示された構成は、プレナム洗浄に関連して本発明の概念を例示するために提示されたにすぎない。実際は、本発明の概念は、様々なレベルの複雑性を持つ様々なプレナム構成に適用可能であると考えられ、図１に例示されたような、隔離された流体ポート１５０が共通の流体プレナム１４０の個々の部分と連通している構成、又は隔離された流体ポートが独立の流体プレナムと連通している構成が含まれる。
【００１３】
図２を参照すると、本発明にしたがった、電極アセンブリを洗浄する１つの方法にしたがって、流体ポートが、プレナム入力ポート１５０Ａ及びプレナム出力ポート１５０Ｂのそれぞれのセットに区別される。入力ポート１５０Ａ及び出力ポート１５０Ｂは、係合先のポートとの封止境界を形成するように構成されたそれぞれの洗浄流体継ぎ手１５２と係合される。プレナム入力ポート１５０Ａと連通する１つ又は２つ以上の洗浄流体供給ダクト１５４及びプレナム出力ポート１５０Ｂと連通する１つ又は２つ以上の洗浄流体排出ダクト１５６を提供することによって、洗浄流体タンク１６０からの洗浄流体は、流体プレナム１４０を通るように仕向けられる。洗浄流体供給１５０は、ポンプ又は何らかの流体圧力生成構成を含み、プレナム入力ポート１５０Ａとプレナム出力ポート１５０Ｂとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させる。
【００１４】
圧力差ΔＰは、洗浄流体を強制的に洗浄流体供給ダクト１５４から流体プレナム１４０を通って洗浄流体排出ダクト１５６に向かわせるのに充分な大きさである。圧力差ΔＰがプレナム流体入力ポート１５０Ａ及びプレナム流体出力ポート１５０Ｂの封止境界の圧力差障害閾値未満に維持されるように、注意を払うことも可能である。また、プレナム入力ポート１５０Ａ及びプレナム出力ポート１５０Ｂにおけるそれぞれの圧力ＰIN及びＰOUTを入力ポート及び出力ポートの封止境界の絶対圧力障害閾値未満に維持することも、好ましいであろう。このようにして、洗浄流体をもっぱら流体プレナムに隔離しつつ、洗浄プレナム１４０を通るように強制的に仕向けることができる。また、洗浄プロセスの特性は、洗浄動作が電極アセンブリの製造及び構築の前、最中、又は後に実行可能であることである。洗浄動作の強制性は、また、流体プレナム１４０内に粒子が捕捉されたままになって、図６に例示されたプラズマ処理チャンバ１０内の汚染源として機能する可能性を、小さくする。
【００１５】
図３を参照すると、図２及び図３のそれぞれの流体プレナム１４０内における方向矢印の比較から明らかなように、流体ポート１５０は、流体プレナム１４０内における洗浄流体のフローパターンの調整に役立てるために、１つ又は２つ以上の閉プレナムポート１５０Ｃのセットに更に区別することができる。実際は、プレナム入力ポート１５０Ａ、プレナム出力ポート１５０Ｂ、及び閉プレナムポート１５０Ｃのそれぞれの位置を変更することによって、様々な流体フローパターンが形成可能であると考えられる。洗浄流体を流体プレナム１４０内において最適に分布させるために、特定の目標パターンが選択されてよい。
【００１６】
図４及び図５を参照すると、流体プレナムの様々な部分が適切に網羅されることを保証するために、続く１つ又は２つ以上の洗浄流体フローパターンと連携する代替の目標洗浄流体フローパターンが選択されてよい。例えば、プレナム入力ポート１５０Ａ、プレナム出力ポート１５０Ｂ、及び閉プレナムポート１５０Ｃによって定められる図４の洗浄流体フローパターンは、多量の洗浄流体をプレナム１４０の大部分を通るように仕向けるが、プレナム１４０内における洗浄流体の流れによって充分に洗浄されないであろう比較的不活性な流体プレナム部分１４０Ａ、１４０Ｂを残らせる傾向もある。フローパターンに関するこれらの問題に対処するには、流体ポートを入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更することによって、洗浄流体を流体プレナムを通るように仕向けることが考えられる。より具体的には、図５を参照すると、これまで不活性であった流体プレナム部分１４０Ａ、１４０Ｂを通るように洗浄流体を仕向けるために、図４に例示された洗浄動作が実行される前又は後に、プレナム入力ポート１５０Ａ、プレナム出力ポート１５０Ｂ、及び閉プレナムポート１５０Ｃのそれぞれの場所を図４に例示されたものから変更することができる。
【００１７】
再び図２及び図３を参照すると、上述された、流体ポート１５０を入力ポート、出力ポート、及び閉ポートのぞれぞれに区別する方式の変更は、各洗浄流体継ぎ手１５２に関連付けられたそれぞれのバルブを制御することによって、実行することができる。或いは、流体ポートの区別の変更は、プログラマブルコントローラ１８０を使用して、洗浄流体タンク１６０及び洗浄流体供給ダクト１５４と連通している流体ルータを制御することによって実行することができる。洗浄流体タンク１６０は、図２及び図３において、使用済みの洗浄流体のための容器としても例示されている。
【００１８】
本発明の一態様にしたがうと、入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットを交替させて、流体プレナム１４０を通って流れる一連の往復交互洗浄パルスの繰り返しによって特徴付けられる少なくとも１回の入出力ポート交互動作を実行することによって、洗浄流体を流体プレナム１４０を通るように仕向けることができる。同様に、洗浄流体は、一連の洗浄流体パルスをシミュレートするために、変動流速で流体プレナムを通るように仕向けることができると考えられる。また、洗浄流体は、窒素又はろ過空気などの乱流発生ガス状媒質によって、流体プレナム１４０を通るように仕向けることができると考えられる。
【００１９】
図２及び図３は、また、係合された洗浄流体継ぎ手１５２の相対位置を固定するために、そして同様に構成された一連の電極アセンブリ１００を洗浄用取付具１７０及び関連の洗浄流体継ぎ手１５２を用いてプレナム洗浄ステーションへ簡便に移動させることを可能にするために、洗浄用取付具１７０を使用することを例示している。この状況では、一連の電極アセンブリが洗浄される間に、入力プレナムポート１５０Ａ、出力プレナムポート１５０Ｂ、及び閉プレナムポート１５０Ｃのそれぞれの位置を確立して維持することができるので、各洗浄流体継ぎ手１５２に関連付けられたそれぞれのバルブを使用する必要も、又は洗浄流体タンク１６０及び洗浄流体供給ダクト１５４と連通している流体ルータを制御するためにプログラマブルコントローラ１８０を使用する必要もないであろう。実際、ひとたび好ましい洗浄流体フローパターンが確立されたら、電極アセンブリ１００の裏側に取り付け可能な板として洗浄用取付具１７０を提供すれば充分であろう。この場合、板は、特定のプレナムポートを遮断する、又は特定のプレナムポートへの流体の進入若しくは特定の流体プレナムポートからの流体の排出を可能にする適切なチャネルを有すると考えられる。一連の電極アセンブリが同等の流体ポート形態を用いていない場合は、洗浄用取付具１７０は、固定された洗浄流体継ぎ手１５２のそれぞれの位置を流体ポート１５０のそれぞれの位置と一致するように変更可能であるように構成することができると考えられる。
【００２０】
上述のように、多くの場合、電極アセンブリ３０の裏側からのプロセスガスは、シャワーヘッド電極１２０の前面に沿って提供された小穴の配列に仕向けられる。この状況では、多くの場合、洗浄動作の完全性及び精密性の維持に役立てるために、シャワーヘッド電極１２０内のプロセスガス穴の配列を通した洗浄流体の散失又は喪失を阻止するように構成された洗浄用取付具遮断板１７５を提供することが好ましくなる。
【００２１】
本明細書における、特定の性質又は機能を特定の方式で具体化するように「構成され」ている本発明の部品に関する記載は、使用目的の記載ではなく構造的記載であることに留意されたい。より具体的には、本明細書における、部品が「構成される」方式に対する言及は、その部品の既存の物理的条件を意味しており、したがって、その部品の構造的特性の明確な記載と見なされるべきである。
【００２２】
本明細書で使用されるときの「好ましくは」、「通例」、「通常は」などの用語は、特許請求される発明の範囲を限定するために用いられるのでも、又は特許請求される発明の構造若しくは機能に対して特定の特徴が決定的、不可欠、若しくは重要であることを示差するために用いられるのでもなく、むしろ、これらの用語は、単に、本発明の実施形態の特定の態様を特定することを、又は本発明の特定の実施形態で用いられる若しくは用いられない代替の若しくは追加の特徴を強調することを意図している。
【００２３】
本発明は、その具体的な実施形態への言及によって詳細に説明されてきたが、添付の特許請求の範囲に定められた発明の範囲から逸脱することなく修正及び変更が可能であることが明らかである。より具体的には、本明細書では、本発明の幾つかの態様が好ましい又は特に有利なものとして特定されているが、本発明は、これら発明の好ましい態様に必ずしも限定されないと考えられる。
【００２４】
特許請求の範囲の請求項の１つ又は２つ以上では、文中に、転換句として「であり」や「であって」という用語を用いている。本発明を定める上では、この用語は、構造の一連の特性に関する記載を導入するために使用される制限的ではない転換句として請求項で用いられている。この語は、構成要件を列挙している語「を備える」と同様に、それ以外の要件を含むか含まないかを制限していないものとして解釈されるべきであることに留意されたい。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極アセンブリの１つ又は２つ以上の流体プレナムを洗浄する方法であって、
前記流体プレナムと連通している複数の流体ポートを隔離すること、
１つ又は２つ以上のプレナム入力ポート及び１つ又は２つ以上のプレナム出力ポートのそれぞれのセットに前記流体ポートを区別すること、
前記入力ポート及び前記出力ポートをそれぞれの洗浄流体継ぎ手と係合させて、前記洗浄流体継ぎ手の各自は、係合先の前記ポートとの封止境界を形成するように構成すること、
前記プレナム入力ポートと連通している１つ又は２つ以上の洗浄流体供給ダクト及び前記プレナム出力ポートと連通している１つ又は２つ以上の洗浄流体排出ダクトを提供し、前記プレナム入力ポートと前記プレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることによって、洗浄流体を前記流体プレナムを通るように仕向け、
前記圧力差ΔＰは、洗浄流体を強制的に前記洗浄流体供給ダクトから前記流体プレナムを通って前記洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさであり、且つ
前記圧力差ΔＰは、前記プレナム流体入力ポート及び前記プレナム流体出力ポートにおける前記封止境界の圧力差障害閾値未満に維持され、且つ
前記プレナム入力ポート及び前記プレナム出力ポートにおけるそれぞれの圧力は、前記プレナム入力ポート及び前記プレナム出力ポートにおける前記封止境界の絶対圧力障害閾値未満に維持されること
を備えた方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記流体ポートを入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法であって、
前記流体ポートの区別の変更は、各洗浄流体継ぎ手に関連付けられたそれぞれのバルブを制御することによって実行される方法。
【請求項４】
請求項２記載の方法であって、
前記流体ポートの区別の変更は、洗浄流体タンク及び前記洗浄流体供給ダクトと連通している流体ルータを通じて実行される方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記流体ポートを入力プレナムポート、出力プレナムポート、及び閉プレナムポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられ、
前記流体ポートの区別の変更は、各洗浄流体継ぎ手に関連付けられたそれぞれのバルブを制御することによって又は前記洗浄流体供給ダクトと連通している流体ルータを使用することによって実行される
方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記流体ポートを入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更して、前記流体プレナム内における前記洗浄流体のフローパターンを変更することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記入力ポート及び前記出力ポートのそれぞれのセットを交替させて、少なくとも１回の入出力ポート交互動作を実行することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、
前記入出力ポート交互動作は、一連の交互洗浄パルスの繰り返しとして実行される方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記流体ポートを入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更して、前記流体プレナム内における前記洗浄流体のフローパターンを変更することによって、並びに前記入力ポート及び前記出力ポートのそれぞれのセットを交替させて、少なくとも１回の入出力ポート交互動作を実行することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、
前記流体ポートは、更に、１つ又は２つ以上の閉プレナムポートのセットに区別される方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法であって、
前記隔離された流体ポートは、共通の流体プレナムの個々の部分と連通している方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法であって、
前記隔離された流体ポートは、独立の流体プレナムと連通している方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の方法であって、
前記流体ポートは、目標洗浄流体フローパターンにしたがって、１つ又は２つ以上のプレナム入力ポート及び１つ又は２つ以上のプレナム出力ポートのそれぞれのセットに区別される方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、一連の洗浄流体パルスをシミュレートする変動流速で前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、乱流発生ガス状媒質によって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項１６】
請求項１に記載の方法であって、
前記係合された洗浄流体継ぎ手の相対位置は、洗浄用取付具を使用して少なくとも一時的に固定される方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法であって、更に、
前記洗浄用取付具の前記固定された洗浄流体継ぎ手を使用して、前記洗浄流体を更なる流体プレナムを通るように仕向けること
を備えた方法。
【請求項１８】
請求項１６に記載の方法であって、更に、
前記洗浄用取付具の前記固定された洗浄流体継ぎ手を調整することによって、前記洗浄流体を更なる流体プレナムを通るように仕向けること
を備えた方法。
【請求項１９】
請求項１６に記載の方法であって、更に、
前記シャワーヘッド電極内のプロセスガス穴を通した洗浄流体の散失又は喪失を阻止するように構成された洗浄用取付具遮断板を使用すること
を備える方法。
【請求項２０】
１つ又は２つ以上の流体供給ダクト、１つ又は２つ以上の洗浄流体排出ダクト、及び１つ又は２つ以上の洗浄流体継ぎ手を備え、電極アセンブリの流体プレナムを洗浄するための洗浄用取付具であって、
前記洗浄用取付具の前記洗浄流体継ぎ手は、１つ又は２つ以上の前記洗浄流体継ぎ手を通じて前記電極アセンブリの流体プレナムの入力ポート及び出力ポートと係合してそれぞれの封止境界を形成するように構成され、
前記洗浄流体継ぎ手によって形成される前記封止境界は、前記プレナム入力ポートと前記プレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることを可能にするのに充分であり、前記流体圧力差ΔＰは、前記プレナム流体入力ポート及び前記プレナム流体出力ポートにおける前記封止境界の圧力差障害閾値又は絶対圧力障害閾値を超えることなく洗浄流体を強制的に前記洗浄流体供給ダクトから前記流体プレナムを通って前記洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさである
洗浄用取付具。
【請求項１】
電極アセンブリの１つ又は２つ以上の流体プレナムを洗浄する方法であって、
前記流体プレナムと連通している複数の流体ポートを隔離すること、
１つ又は２つ以上のプレナム入力ポート及び１つ又は２つ以上のプレナム出力ポートのそれぞれのセットに前記流体ポートを区別すること、
前記入力ポート及び前記出力ポートをそれぞれの洗浄流体継ぎ手と係合させて、前記洗浄流体継ぎ手の各自は、係合先の前記ポートとの封止境界を形成するように構成すること、
前記プレナム入力ポートと連通している１つ又は２つ以上の洗浄流体供給ダクト及び前記プレナム出力ポートと連通している１つ又は２つ以上の洗浄流体排出ダクトを提供し、前記プレナム入力ポートと前記プレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることによって、洗浄流体を前記流体プレナムを通るように仕向け、
前記圧力差ΔＰは、洗浄流体を強制的に前記洗浄流体供給ダクトから前記流体プレナムを通って前記洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさであり、且つ
前記圧力差ΔＰは、前記プレナム流体入力ポート及び前記プレナム流体出力ポートにおける前記封止境界の圧力差障害閾値未満に維持され、且つ
前記プレナム入力ポート及び前記プレナム出力ポートにおけるそれぞれの圧力は、前記プレナム入力ポート及び前記プレナム出力ポートにおける前記封止境界の絶対圧力障害閾値未満に維持されること
を備えた方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記流体ポートを入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法であって、
前記流体ポートの区別の変更は、各洗浄流体継ぎ手に関連付けられたそれぞれのバルブを制御することによって実行される方法。
【請求項４】
請求項２記載の方法であって、
前記流体ポートの区別の変更は、洗浄流体タンク及び前記洗浄流体供給ダクトと連通している流体ルータを通じて実行される方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記流体ポートを入力プレナムポート、出力プレナムポート、及び閉プレナムポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられ、
前記流体ポートの区別の変更は、各洗浄流体継ぎ手に関連付けられたそれぞれのバルブを制御することによって又は前記洗浄流体供給ダクトと連通している流体ルータを使用することによって実行される
方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記流体ポートを入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更して、前記流体プレナム内における前記洗浄流体のフローパターンを変更することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記入力ポート及び前記出力ポートのそれぞれのセットを交替させて、少なくとも１回の入出力ポート交互動作を実行することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、
前記入出力ポート交互動作は、一連の交互洗浄パルスの繰り返しとして実行される方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、前記流体ポートを入力ポート及び出力ポートのそれぞれのセットに区別する方式を変更して、前記流体プレナム内における前記洗浄流体のフローパターンを変更することによって、並びに前記入力ポート及び前記出力ポートのそれぞれのセットを交替させて、少なくとも１回の入出力ポート交互動作を実行することによって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、
前記流体ポートは、更に、１つ又は２つ以上の閉プレナムポートのセットに区別される方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法であって、
前記隔離された流体ポートは、共通の流体プレナムの個々の部分と連通している方法。
【請求項１２】
請求項１に記載の方法であって、
前記隔離された流体ポートは、独立の流体プレナムと連通している方法。
【請求項１３】
請求項１に記載の方法であって、
前記流体ポートは、目標洗浄流体フローパターンにしたがって、１つ又は２つ以上のプレナム入力ポート及び１つ又は２つ以上のプレナム出力ポートのそれぞれのセットに区別される方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、一連の洗浄流体パルスをシミュレートする変動流速で前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の方法であって、
前記洗浄流体は、乱流発生ガス状媒質によって、前記流体プレナムを通るように仕向けられる方法。
【請求項１６】
請求項１に記載の方法であって、
前記係合された洗浄流体継ぎ手の相対位置は、洗浄用取付具を使用して少なくとも一時的に固定される方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法であって、更に、
前記洗浄用取付具の前記固定された洗浄流体継ぎ手を使用して、前記洗浄流体を更なる流体プレナムを通るように仕向けること
を備えた方法。
【請求項１８】
請求項１６に記載の方法であって、更に、
前記洗浄用取付具の前記固定された洗浄流体継ぎ手を調整することによって、前記洗浄流体を更なる流体プレナムを通るように仕向けること
を備えた方法。
【請求項１９】
請求項１６に記載の方法であって、更に、
前記シャワーヘッド電極内のプロセスガス穴を通した洗浄流体の散失又は喪失を阻止するように構成された洗浄用取付具遮断板を使用すること
を備える方法。
【請求項２０】
１つ又は２つ以上の流体供給ダクト、１つ又は２つ以上の洗浄流体排出ダクト、及び１つ又は２つ以上の洗浄流体継ぎ手を備え、電極アセンブリの流体プレナムを洗浄するための洗浄用取付具であって、
前記洗浄用取付具の前記洗浄流体継ぎ手は、１つ又は２つ以上の前記洗浄流体継ぎ手を通じて前記電極アセンブリの流体プレナムの入力ポート及び出力ポートと係合してそれぞれの封止境界を形成するように構成され、
前記洗浄流体継ぎ手によって形成される前記封止境界は、前記プレナム入力ポートと前記プレナム出力ポートとの間に流体圧力差ΔＰ＝ＰIN−ＰOUTを発生させることを可能にするのに充分であり、前記流体圧力差ΔＰは、前記プレナム流体入力ポート及び前記プレナム流体出力ポートにおける前記封止境界の圧力差障害閾値又は絶対圧力障害閾値を超えることなく洗浄流体を強制的に前記洗浄流体供給ダクトから前記流体プレナムを通って前記洗浄流体排出ダクトに向かわせるのに充分な大きさである
洗浄用取付具。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公表番号】特表２０１１−５０１４１１（Ｐ２０１１−５０１４１１Ａ）
【公表日】平成２３年１月６日（２０１１．１．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５２８９１９（Ｐ２０１０−５２８９１９）
【出願日】平成２０年９月９日（２００８．９．９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０７５６７５
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０４８７０２
【国際公開日】平成２１年４月１６日（２００９．４．１６）
【出願人】（５９２０１００８１）ラム リサーチ コーポレーション (467)
【氏名又は名称原語表記】ＬＡＭ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２３年１月６日（２０１１．１．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月９日（２００８．９．９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００８／０７５６７５
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０４８７０２
【国際公開日】平成２１年４月１６日（２００９．４．１６）
【出願人】（５９２０１００８１）ラム リサーチ コーポレーション (467)
【氏名又は名称原語表記】ＬＡＭ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】
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