電気光学装置の製造方法
【課題】絶縁層を幅広くすることによって開口率が低下するのを抑制し、高寿命化を図ることができる電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成した後、有機絶縁層１２及び補助電極層１４上の全面に渡って機能層１３を形成した。その後、機能層１３に対して粘着性を有したローラを機能層１３上に接触させながら回転させることで補助電極層１４上に形成された機能層１３を補助電極層１４から剥離した。そして、その補助電極層１４上に対向電極１５を形成した。従って、マスクを使用せずに機能層１３を形成したので、従来のように、マスクと基板Ｓとのアライメントの公差を確保する必要はないことから、有機絶縁層１２の幅広くする必要はない。
【解決手段】有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成した後、有機絶縁層１２及び補助電極層１４上の全面に渡って機能層１３を形成した。その後、機能層１３に対して粘着性を有したローラを機能層１３上に接触させながら回転させることで補助電極層１４上に形成された機能層１３を補助電極層１４から剥離した。そして、その補助電極層１４上に対向電極１５を形成した。従って、マスクを使用せずに機能層１３を形成したので、従来のように、マスクと基板Ｓとのアライメントの公差を確保する必要はないことから、有機絶縁層１２の幅広くする必要はない。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、広視野角、低消費電力、高応答性能等の観点から、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」を発光素子とした有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」という）が注目を集めている。有機ＥＬ素子は、一般に、有機発光層を含む機能層を上下から陽極（画素電極）と陰極（対向電極）で挟み込む構造を持ち、その有機発光層にて正孔と電子が再結合して発光が生じるものである。
【０００３】
ところで、有機ＥＬディスプレイは、基板側（陽極側）から光を取り出すようにしたボトムエミッションタイプと、基板と対向する側（陰極側）から光を取り出すようにしたトップエミッションタイプとに大別される。ボトムエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイは、陽極を光透過性導電材料で構成し発光層にて発せられた光を陽極（画素電極）及び基板を透過させて外部に出射するのに対して、トップエミッションタイプでは陰極（対向電極）を透過させて外部に出射する。従って、トップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイは、開口率を高くすることができることから、結果としてパネルの寿命を長くすることができるという利点がある。
【０００４】
ところで、トップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイでは、陰極（対向電極）の光透過性を確保するために、陰極（対向電極）を、インジウム−スズ（ＩＴＯ）や酸化亜鉛（ＺｎＯ）といった光透過性導電材料、またはマグネシウム−銀（ＭｇＡｇ）といった高導電材料を極薄膜化したものが用いられている。従って、陰極（対向電極）の抵抗値は比較的高くなるので、陰極（対向電極）上の各位置にて電位が不均一となり、その結果、画素の位置によって輝度がばらついてしまうことがあった。
【０００５】
そこで、各陽極（画素電極）間に、陽極（画素電極）が露出するように開口部を有した絶縁層を形成し、その絶縁層上に陰極（対向電極）と電気的に接触した補助電極層を備えたものが知られている。これにより、陰極（対向電極）上の各位置での電位が均一となることから、輝度のばらつきを抑えている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−３５２９６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記有機ＥＬ素子の機能層は、絶縁層上に補助電極層を形成した後、蒸着法によって陽極（画素電極）上に形成されるが、機能層を絶縁層の開口部に露出した陽極（画素電極）にのみ正確に形成するのは困難である。このため、絶縁層の縁に機能層が重なり、かつ陽極（画素電極）の露出表面が確実に機能層で覆われるように、精密なマスクを用いて蒸着するようにしている。従って、マスクとのアライメントの公差を確保するために、絶縁層を幅広くする必要がある。すると、開口率が低下し、結果としてパネルの寿命を低下させるという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたもので、絶縁層を幅広くすることによって開口率が低下するのを抑制し、高寿命化を図ることができる電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置される少なくとも発光層とを含む機能層とから構成された電気光学素子を複数備え、前記発光層にて発せられた光を、前記第２電極層を透過して前記基板と対向する側から出射する電気光学装置の製造方法において、前記基板上に、前記第１電極層に対応する位置に開口部を備えた絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層上に、前記第２電極層と電気的に接続する補助電極層を形成する補助電極層形成工程と、前記絶縁層及び前記補助電極層上に前記機能層を形成する機能層形成工程と、前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離する剥離工程と、前記補助電極層上に前記第２電極層を形成する電極層形成工程とを備えている。
【０００９】
これによれば、第１電極層に対応する位置に開口部が形成されたマスクを使用せずに機能層を形成するようにした。従って、マスクとのアライメントの公差を確保する必要はないことから、絶縁層を幅広くする必要がない。この結果、開口率の低下を抑制することができることから、電気光学装置の高寿命化を図ることができる。
【００１０】
この電気光学装置の製造方法において、前記補助電極層形成工程は、転写法によって行われるようにしてもよい。
これによれば、補助電極層を転写法によって形成するようにしたので、補助電極層を形成するためのマスクは不要であり、そのためのアライメントの公差を考慮する必要はない。従って、絶縁層の幅を狭くすることができる。この結果、開口率を高くすることができる。
【００１１】
この電気光学装置の製造方法において、前記剥離工程は、粘着性を有するローラ状の転写部材を、前記絶縁層及び前記補助電極層上の全面に形成された前記機能層に接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離するようにしてもよい。
【００１２】
これによれば、粘着性を有するローラを備えた転写部材を使用することで、簡単に補助電極層上に形成された機能層を補助電極層上から剥離することができる。また、粘着性を有するローラ状の転写部材をチャンバー内に配設することによって、大気に晒すことなく機能層を補助電極層上から剥離し、その状態で補助電極層上に第２電極層を形成することができることから、パーティクル等の不純物の付着や電極表面の変質が生じることなく電極上に機能層を形成することができる。
【００１３】
この電気光学装置の製造方法において、前記剥離工程は、粘着性を有するシートをローラ状の転写部材によって前記絶縁層及び前記補助電極層上の全面に形成された前記機能層に接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離してもよい。
【００１４】
これによれば、粘着性を有するローラ状の転写部材を使用する場合に比べて、シートの長さを長くすることで、転写部材の交換頻度を少なくすることができる。
この電気光学装置の製造方法において、前記転写部材を前記補助電極層の長手方向に沿って接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離してもよい。
【００１５】
これによれば、補助電極層上に形成された機能層を、確実に補助電極層上から剥離することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
（第１実施形態）
以下、本発明の一実施形態に係る電気光学装置としてのトップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイの製造方法について図面に従って説明する。
【００１７】
まず、本発明の製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイの構成について説明する。
図１は、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構成を説明するための一部概略断面図である。本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１０は、アクティブマトリクス駆動方式であって、基板Ｓ上に各有機ＥＬ素子に供給する電流（キャリア）の量を制御するための駆動トランジスタ（本実施形態では、薄膜トランジスタ）Ｔｏ等を備えた回路形成層Ｓａを備えている。
【００１８】
そして、回路形成層Ｓａ上には、複数の第１電極としての画素電極１１をマトリクス状に配置形成している。各画素電極１１は、回路形成層Ｓａに形成された駆動トランジスタＴｏのドレイン電極に電気的に接続され、各駆動トランジスタＴｏにて制御された電流（キャリア）が供給されるようになっている。尚、画素電極１１は、光反射性を有し、かつ仕事関数の高い導電性材料で構成されている。本実施形態では、画素電極１１をクロム（Ｃｒ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）の反射膜の上にインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）を形成することで構成している。また、回路形成層Ｓａ上には、有機絶縁層１２が形成されている。有機絶縁層１２は、画素電極１１に対応した位置に開口部Ｑｏが形成されている。そして、各開口部Ｑｏによって画素領域Ｚが区画形成されている。尚、本実施形態の有機絶縁層１２は、ポリイミドで構成されている。
【００１９】
各画素電極１１及び開口部Ｑｏの周囲の有機絶縁層１２上には機能層１３が配置されている。機能層１３は、正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、発光層１３ｃ及び電子輸送層１３ｄから構成されており、画素電極１１側から正孔注入層１３ａ→正孔輸送層１３ｂ→発光層１３ｃ→電子輸送層１３ｄの順に積層されている。各正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、発光層１３ｃ及び電子輸送層１３ｄは、公知の低分子材料で構成されている。例えば、本実施形態では、正孔注入層１３ａに銅フタロシアニンを、正孔輸送層１３ｂにトリフェニルジアミン（ＴＰＤ）を、発光層１３ｃにアルキキノリール鎖体アルミニウム（Ａｌｑ３）を、電子輸送層１３ｄにオキサジアゾール（ＢＮＤ）を使用している。本実施形態の発光層１３ｃは白色の光を出射するものである。
【００２０】
有機絶縁層１２上であって、基板Ｓの一方向（紙面と直交する方向）に沿って配置された画素電極１１列の間には補助電極層１４が形成されている。各補助電極層１４は、基板Ｓの一方向（紙面と直交する方向）に沿った細長い線状の配線である。また、各補助電極層１４は、図示しないアース端子に接続され接地電位となっている。
【００２１】
機能層１３上の全面には、その一部が補助電極層１４と接触するように対向電極１５が形成されている。対向電極１５は、光透過性を有した導電性材料で構成されている。本実施形態では、対向電極１５をインジウム−スズ化合物（ＩＴＯ）で構成している。尚、補助電極層１４は、対向電極１５に比べて低抵抗な導電材料で構成され、本実施形態では、アルミニウム（Ａｌ）で構成している。この結果、対向電極１５上の各位置での電位は均一に接地電位になる。そして、各画素電極１１と、対向電極１５と、前記画素電極１１と前記対向電極１５との間に配置された機能層１３とで一つの電気光学素子としての有機ＥＬ素子１６が構成されている。
【００２２】
対向電極１５上の全面には保護層１７が形成されている。保護層１７は、光透過性を有した公知の絶縁材料で構成されている。また、保護層１７上の全面には、カラーフィルタ１８が取り付けられている。カラーフィルタ１８は、有機ＥＬ素子１６にて発せられた白
色の光を赤色の光に変換する赤色変換層１８Ｒと、緑色の光に変換する緑色変換層１８Ｇと、青色の光に変換する青色変換層１８Ｂとを備え、各変換層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを各画素領域Ｚに対応した位置に配置している。
【００２３】
そして、各有機ＥＬ素子１６の発光層１３ｃにて発せられた光は、その一部が画素電極１１によって対向電極１５側に反射されるとともに、対向電極１５を透過して基板Ｓと対向する側、即ち、カラーフィルタ１８側へ出射される。このとき、赤色変換層１８Ｒからは赤色の光ＬＲが、緑色変換層１８Ｇからは緑色の光ＬＧが、青色変換層１８Ｂからは青色の光ＬＢが、それぞれ出射される。
【００２４】
このように構成された有機ＥＬディスプレイ１０は、有機絶縁層１２の幅（図１中符号を「Ｗ」で示した長さ）が、従来のトップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイに比べて狭いため各有機ＥＬ素子１６の開口率が高くなっている。
【００２５】
次に、前述した有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について図２〜図８に従って説明する。
まず、公知の方法によって、基板Ｓ上に駆動トランジスタＴｏといった各種電子素子を形成して回路形成層Ｓａを形成する。続いて、その形成した駆動トランジスタＴｏのドレイン電極と電気的接続するように画素電極１１を形成する（図２（ａ）参照）。これは、例えば、回路形成層Ｓａ上の全面に、スパッタリング法によってクロム（Ｃｒ）からなる層を形成し、続いて、レジストフォトリソグラフィ工程を施して所定の画素形状に合わせたレジストパターンを形成し、さらにエッチング処理を施すことで所定形状の画素電極１１を形成する。
【００２６】
続いて、蒸着法によって各画素電極１１を覆うように回路形成層Ｓａ上の全面に渡って有機絶縁層を形成し、続いて、画素電極１１に対応した位置に透過部を備えたレジストパターン（図示略）を使用して露光・現像を行う（絶縁層形成工程）。この結果、図２（ｂ）に示すように、画素電極１１に対応する位置に開口部Ｑｏが形成された有機絶縁層１２が形成される。図３は、このようにして形成された有機絶縁層１２を備えた基板Ｓの上面図であって、図２（ａ），（ｂ）は、図３中Ａ−Ａ断面に対応する。
【００２７】
次に、リソグラフィー法（転写法）を用いて有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成する（補助電極層形成工程）。これは、まず、図４（ａ）に示すように、画素電極１１及び有機絶縁層１２上の全面に渡って、アルミニウム（Ａｌ）からなる導電層２０を蒸着形成する。続いて、図４（ｂ）に示すように、導電層２０上に、基板Ｓの一方向（紙面と直交する方向）に沿った有機絶縁層１２に対応した位置に非透過部２１ａを備えたレジストパターン２１を形成し、露光・現像を行う。さらに、エッチング処理を施して非透過部２１ａ以外の領域に対応して配置された導電層２０を除去し、レジストパターン２１を取り除く。この結果、図４（ｃ）に示すように、有機絶縁層１２上に補助電極層１４が形成される。
【００２８】
次に、有機絶縁層１２及び補助電極層１４上の全面に機能層１３を形成する（機能層形成工程）。具体的には、公知の方法と同様にして、図示しない減圧チャンバーを使用して図５（ａ）に示すように、正孔注入層１３ａを蒸着形成する。本実施形態では、銅フタロシアニンを、例えば膜厚が６００Åとなるまで蒸着することで正孔注入層１３ａを形成する。その後、同様にして、正孔注入層１３ａ上にトリフェニルジアミン（ＴＰＤ）からなる正孔輸送層１３ｂを、正孔輸送層１３ｂ上にアルキキノリール鎖体アルミニウム（Ａｌｑ３）からなる発光層１３ｃを、発光層１３ｃ上にオキサジアゾールＢＮＤからなる電子輸送層１３ｄを、それぞれ順次蒸着する（図５（ｂ）参照）。図６は、このようにして形成された機能層１３及び補助電極層１４を備えた基板Ｓの上面図であって、図５（ａ），
（ｂ）は、図６中Ｂ−Ｂ断面に対応する。
【００２９】
次に、補助電極層１４上に形成された機能層１３を剥離する（剥離工程）。これは、機能層１３を形成する減圧チャンバーと連結された図示しないチャンバー内にて行われる。このチャンバー内には、図７（ａ）に示す転写部材２５が搭載されている。転写部材２５は、周囲に機能層１３に対して粘着性を有した粘着剤２６が付着したローラ２７を備え、補助電極層１４の長手方向（図７（ａ）及び図６中Ｘ矢印方向）に沿って移動可能となっている。
【００３０】
そして、図７（ｂ），（ｃ）に示すように、前記チャンバー内にてローラ２７を機能層１３に押し当てながら補助電極層１４の長手方向（図７（ｂ）中Ｘ矢印方向）に沿って移動させる。すると、補助電極層１４上に形成された機能層１３にローラ２７が接触し、図７（ｃ）に示すように、補助電極層１４上に形成された機能層１３が補助電極層１４上から剥離してローラ２７に貼り付く。この結果、図８（ａ）に示すように、補助電極層１４上から機能層１３が剥離される。
【００３１】
続いて、対向電極１５を形成する。これは、転写部材２５を搭載した前記チャンバーと連結された図示しない蒸着装置にて行われる。そして、補助電極層１４上から機能層１３が剥離した基板Ｓを、大気に晒されることなく蒸着装置に搬入する。その蒸着装置にて、図８（ｂ）に示すように、機能層１３上の全面に、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）を蒸着することで対向電極１５を形成する（電極層形成工程）。このとき、対向電極１５は補助電極層１４に接触する。その後、公知の方法を用いて、対向電極１５上に保護層１７を形成した後（図８（ｃ）参照）、別途作成したカラーフィルタ１８を貼着する。このようにすることで、有機ＥＬディスプレイ１０が製造される。
【００３２】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成した後、有機絶縁層１２及び補助電極層１４上の全面に渡って機能層１３を形成した。その後、機能層１３に対して粘着性を有したローラ２７を機能層１３上に接触させながら回転させることで補助電極層１４上に形成された機能層１３を補助電極層１４から剥離した。そして、その補助電極層１４上に対向電極１５を形成した。従って、マスクを使用せずに機能層１３を形成したので、従来のように、マスクと基板Ｓとのアライメントの公差を確保する必要はないことから、有機絶縁層１２の幅Ｗを広くする必要はない。この結果、各有機ＥＬ素子１６の開口率の低下を抑制することができるので、有機ＥＬディスプレイ１０の高寿命化を図ることができる。
（２）本実施形態によれば、有機絶縁層１２を形成した後、フォトリソグラフィー法（転写法）を使用して有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成した。従って、有機絶縁層１２の幅Ｗを狭くすることができる。従って、開口率を高くすることができる。
（３）本実施形態によれば、粘着性を有するローラ２７を備えた転写部材２５を、補助電極層１４上に形成された機能層１３に接触させながら回転させることで補助電極層１４上に形成された機能層１３を補助電極層１４上から剥離するようにした。従って、簡単に補助電極層１４上に形成された機能層１３を剥離することができる。
（４）本実施形態によれば、転写部材２５を補助電極層１４の長手方向に沿って接触させながら回転させることで、補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにした。従って、確実に機能層１３を剥離することができる。
（５）本実施形態によれば、転写部材２５を所定のチャンバー内に配設し、大気に晒すことなく機能層１３を補助電極層１４上から剥離し、その状態のまま補助電極層１４上に対向電極１５を形成するようにした。従って、補助電極層１４及び機能層１３表面上にパーティクル等の不純物が付着することや、補助電極層１４及び機能層１３の表面が大気によって変質するのを抑制することができる。この結果、補助電極層１４と対向電極１５との
付着力が良好となるので、対向電極１５の電位を確実に均一にすることができる。
（６）本実施形態によれば、機能層１３は、発光層１３ｃ以外に正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、電子輸送層１３ｄを有している。従って、各有機ＥＬ素子１６の発光効率を高くすることができる。この結果、高寿命な有機ＥＬディスプレイ１０を提供することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について図９に従って説明する。この第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法では、補助電極層１４上に形成された機能層１３を剥離するための転写部材の構成が上記第１実施形態に記載したものと異なっている以外は同じである。従って、本実施形態では、上記第１実施形態と同じ点については、その詳細な説明を省略する。
【００３３】
図９（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、本実施形態に係る転写部材３０を使用して補助電極層１４上に形成された機能層１３を剥離する方法を説明するための図である。図９（ａ）に示すように、本実施形態に係る転写部材３０は、機能層１３に対して粘着性を有した粘着シート３１がローラ２７によって張設されている。そして、図９（ｂ），（ｃ）に示すように、機能層１３上にローラ２７を介して粘着シート３１を押し当てることで、粘着シート３１を機能層１３に対して接触させながら補助電極層１４の長手方向（図９中Ｘ矢印方向）に沿って移動させる。
【００３４】
すると、補助電極層１４上に形成された機能層１３が粘着シート３１に接触し補助電極層１４上に形成された機能層１３が補助電極層１４上から剥離する。このとき、機能層１３は補助電極層１４の長手方向に沿って剥離するので、機能層１３が確実に補助電極層１４上から剥離される。
【００３５】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、粘着シート３１の長さを長くすることで、転写部材３０の使用期間が延びるので、上記第１実施形態の転写部材２５と比べて、転写部材の交換頻度を少なくすることができる。
【００３６】
尚、発明の実施形態は、上記実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
○上記各実施形態では、転写部材２５，３０を使用して補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにしたが、本発明はこれに限定されず、転写部材２５，３０以外のものを使用して機能層１３を剥離するようにしてもよい。例えば、ヘラ状のもので補助電極層１４上の機能層１３を摺接処理することで補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにしてもよい。
【００３７】
○上記各実施形態では、転写部材２５，３０を、補助電極層１４の長手方向に沿って移動させることで補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにしたが、本発明はこれに限定されない。例えば、転写部材２５，３０を、補助電極層１４の長手方向に対して斜めに沿って移動させることで補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにしてもよい。このようにすることで、機能層１３が補助電極層１４上から剥離しやすくなるので、機能層１３を確実に剥離させることができる。
【００３８】
○上記第１実施形態では、有機ＥＬ素子１６は、その機能層１３を構成する正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、発光層１３ｃ及び電子輸送層１３ｄは、低分子系有機材料で構成されていたが、本発明はこれに限定されるものではなく、高分子系有機材料で構成されたものであっても適用可能である。
【００３９】
○上記第１実施形態では、電気光学素子として有機ＥＬ素子１６に適用したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）といった他の態様の電気光学素子であってもよい。
【００４０】
○上記第１実施形態では、画素電極１１を形成した後に補助電極層１４を形成し、その後、画素電極１１上に機能層１３を形成したが、画素電極１１を形成した後、酸素プラズマ処理を施して画素電極１１の表面改質を行うようにしてもよい。このようにすることにより、画素電極１１と機能層１３との接触を良好にすることができるので、画素電極１１から機能層１３へのキャリア注入の効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の電気光学装置の製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイの概略断面図。
【図２】（ａ），（ｂ）は、それぞれ、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図３】同じく、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図４】同じく、（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図５】同じく、（ａ），（ｂ）は、それぞれ本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図６】同じく、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図７】同じく、（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ機能層の剥離方法を説明するための図。
【図８】同じく、（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図９】（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ第２実施形態に係る機能層の剥離方法を説明するための図。
【符号の説明】
【００４２】
Ｑ…開口部、Ｓ…基板、１１…第１電極層としての画素電極、１２…絶縁層としての有機絶縁層、１３ｃ…発光層、１３…機能層、１４…補助電極層、１５…第２電極層としての対向電極、１６…電気光学素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子、２５，３０…転写部材、３１…シート。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、広視野角、低消費電力、高応答性能等の観点から、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」を発光素子とした有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」という）が注目を集めている。有機ＥＬ素子は、一般に、有機発光層を含む機能層を上下から陽極（画素電極）と陰極（対向電極）で挟み込む構造を持ち、その有機発光層にて正孔と電子が再結合して発光が生じるものである。
【０００３】
ところで、有機ＥＬディスプレイは、基板側（陽極側）から光を取り出すようにしたボトムエミッションタイプと、基板と対向する側（陰極側）から光を取り出すようにしたトップエミッションタイプとに大別される。ボトムエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイは、陽極を光透過性導電材料で構成し発光層にて発せられた光を陽極（画素電極）及び基板を透過させて外部に出射するのに対して、トップエミッションタイプでは陰極（対向電極）を透過させて外部に出射する。従って、トップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイは、開口率を高くすることができることから、結果としてパネルの寿命を長くすることができるという利点がある。
【０００４】
ところで、トップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイでは、陰極（対向電極）の光透過性を確保するために、陰極（対向電極）を、インジウム−スズ（ＩＴＯ）や酸化亜鉛（ＺｎＯ）といった光透過性導電材料、またはマグネシウム−銀（ＭｇＡｇ）といった高導電材料を極薄膜化したものが用いられている。従って、陰極（対向電極）の抵抗値は比較的高くなるので、陰極（対向電極）上の各位置にて電位が不均一となり、その結果、画素の位置によって輝度がばらついてしまうことがあった。
【０００５】
そこで、各陽極（画素電極）間に、陽極（画素電極）が露出するように開口部を有した絶縁層を形成し、その絶縁層上に陰極（対向電極）と電気的に接触した補助電極層を備えたものが知られている。これにより、陰極（対向電極）上の各位置での電位が均一となることから、輝度のばらつきを抑えている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−３５２９６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上記有機ＥＬ素子の機能層は、絶縁層上に補助電極層を形成した後、蒸着法によって陽極（画素電極）上に形成されるが、機能層を絶縁層の開口部に露出した陽極（画素電極）にのみ正確に形成するのは困難である。このため、絶縁層の縁に機能層が重なり、かつ陽極（画素電極）の露出表面が確実に機能層で覆われるように、精密なマスクを用いて蒸着するようにしている。従って、マスクとのアライメントの公差を確保するために、絶縁層を幅広くする必要がある。すると、開口率が低下し、結果としてパネルの寿命を低下させるという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたもので、絶縁層を幅広くすることによって開口率が低下するのを抑制し、高寿命化を図ることができる電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置される少なくとも発光層とを含む機能層とから構成された電気光学素子を複数備え、前記発光層にて発せられた光を、前記第２電極層を透過して前記基板と対向する側から出射する電気光学装置の製造方法において、前記基板上に、前記第１電極層に対応する位置に開口部を備えた絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層上に、前記第２電極層と電気的に接続する補助電極層を形成する補助電極層形成工程と、前記絶縁層及び前記補助電極層上に前記機能層を形成する機能層形成工程と、前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離する剥離工程と、前記補助電極層上に前記第２電極層を形成する電極層形成工程とを備えている。
【０００９】
これによれば、第１電極層に対応する位置に開口部が形成されたマスクを使用せずに機能層を形成するようにした。従って、マスクとのアライメントの公差を確保する必要はないことから、絶縁層を幅広くする必要がない。この結果、開口率の低下を抑制することができることから、電気光学装置の高寿命化を図ることができる。
【００１０】
この電気光学装置の製造方法において、前記補助電極層形成工程は、転写法によって行われるようにしてもよい。
これによれば、補助電極層を転写法によって形成するようにしたので、補助電極層を形成するためのマスクは不要であり、そのためのアライメントの公差を考慮する必要はない。従って、絶縁層の幅を狭くすることができる。この結果、開口率を高くすることができる。
【００１１】
この電気光学装置の製造方法において、前記剥離工程は、粘着性を有するローラ状の転写部材を、前記絶縁層及び前記補助電極層上の全面に形成された前記機能層に接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離するようにしてもよい。
【００１２】
これによれば、粘着性を有するローラを備えた転写部材を使用することで、簡単に補助電極層上に形成された機能層を補助電極層上から剥離することができる。また、粘着性を有するローラ状の転写部材をチャンバー内に配設することによって、大気に晒すことなく機能層を補助電極層上から剥離し、その状態で補助電極層上に第２電極層を形成することができることから、パーティクル等の不純物の付着や電極表面の変質が生じることなく電極上に機能層を形成することができる。
【００１３】
この電気光学装置の製造方法において、前記剥離工程は、粘着性を有するシートをローラ状の転写部材によって前記絶縁層及び前記補助電極層上の全面に形成された前記機能層に接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離してもよい。
【００１４】
これによれば、粘着性を有するローラ状の転写部材を使用する場合に比べて、シートの長さを長くすることで、転写部材の交換頻度を少なくすることができる。
この電気光学装置の製造方法において、前記転写部材を前記補助電極層の長手方向に沿って接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離してもよい。
【００１５】
これによれば、補助電極層上に形成された機能層を、確実に補助電極層上から剥離することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
（第１実施形態）
以下、本発明の一実施形態に係る電気光学装置としてのトップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイの製造方法について図面に従って説明する。
【００１７】
まず、本発明の製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイの構成について説明する。
図１は、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構成を説明するための一部概略断面図である。本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１０は、アクティブマトリクス駆動方式であって、基板Ｓ上に各有機ＥＬ素子に供給する電流（キャリア）の量を制御するための駆動トランジスタ（本実施形態では、薄膜トランジスタ）Ｔｏ等を備えた回路形成層Ｓａを備えている。
【００１８】
そして、回路形成層Ｓａ上には、複数の第１電極としての画素電極１１をマトリクス状に配置形成している。各画素電極１１は、回路形成層Ｓａに形成された駆動トランジスタＴｏのドレイン電極に電気的に接続され、各駆動トランジスタＴｏにて制御された電流（キャリア）が供給されるようになっている。尚、画素電極１１は、光反射性を有し、かつ仕事関数の高い導電性材料で構成されている。本実施形態では、画素電極１１をクロム（Ｃｒ）あるいはアルミニウム（Ａｌ）の反射膜の上にインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）を形成することで構成している。また、回路形成層Ｓａ上には、有機絶縁層１２が形成されている。有機絶縁層１２は、画素電極１１に対応した位置に開口部Ｑｏが形成されている。そして、各開口部Ｑｏによって画素領域Ｚが区画形成されている。尚、本実施形態の有機絶縁層１２は、ポリイミドで構成されている。
【００１９】
各画素電極１１及び開口部Ｑｏの周囲の有機絶縁層１２上には機能層１３が配置されている。機能層１３は、正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、発光層１３ｃ及び電子輸送層１３ｄから構成されており、画素電極１１側から正孔注入層１３ａ→正孔輸送層１３ｂ→発光層１３ｃ→電子輸送層１３ｄの順に積層されている。各正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、発光層１３ｃ及び電子輸送層１３ｄは、公知の低分子材料で構成されている。例えば、本実施形態では、正孔注入層１３ａに銅フタロシアニンを、正孔輸送層１３ｂにトリフェニルジアミン（ＴＰＤ）を、発光層１３ｃにアルキキノリール鎖体アルミニウム（Ａｌｑ３）を、電子輸送層１３ｄにオキサジアゾール（ＢＮＤ）を使用している。本実施形態の発光層１３ｃは白色の光を出射するものである。
【００２０】
有機絶縁層１２上であって、基板Ｓの一方向（紙面と直交する方向）に沿って配置された画素電極１１列の間には補助電極層１４が形成されている。各補助電極層１４は、基板Ｓの一方向（紙面と直交する方向）に沿った細長い線状の配線である。また、各補助電極層１４は、図示しないアース端子に接続され接地電位となっている。
【００２１】
機能層１３上の全面には、その一部が補助電極層１４と接触するように対向電極１５が形成されている。対向電極１５は、光透過性を有した導電性材料で構成されている。本実施形態では、対向電極１５をインジウム−スズ化合物（ＩＴＯ）で構成している。尚、補助電極層１４は、対向電極１５に比べて低抵抗な導電材料で構成され、本実施形態では、アルミニウム（Ａｌ）で構成している。この結果、対向電極１５上の各位置での電位は均一に接地電位になる。そして、各画素電極１１と、対向電極１５と、前記画素電極１１と前記対向電極１５との間に配置された機能層１３とで一つの電気光学素子としての有機ＥＬ素子１６が構成されている。
【００２２】
対向電極１５上の全面には保護層１７が形成されている。保護層１７は、光透過性を有した公知の絶縁材料で構成されている。また、保護層１７上の全面には、カラーフィルタ１８が取り付けられている。カラーフィルタ１８は、有機ＥＬ素子１６にて発せられた白
色の光を赤色の光に変換する赤色変換層１８Ｒと、緑色の光に変換する緑色変換層１８Ｇと、青色の光に変換する青色変換層１８Ｂとを備え、各変換層１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを各画素領域Ｚに対応した位置に配置している。
【００２３】
そして、各有機ＥＬ素子１６の発光層１３ｃにて発せられた光は、その一部が画素電極１１によって対向電極１５側に反射されるとともに、対向電極１５を透過して基板Ｓと対向する側、即ち、カラーフィルタ１８側へ出射される。このとき、赤色変換層１８Ｒからは赤色の光ＬＲが、緑色変換層１８Ｇからは緑色の光ＬＧが、青色変換層１８Ｂからは青色の光ＬＢが、それぞれ出射される。
【００２４】
このように構成された有機ＥＬディスプレイ１０は、有機絶縁層１２の幅（図１中符号を「Ｗ」で示した長さ）が、従来のトップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイに比べて狭いため各有機ＥＬ素子１６の開口率が高くなっている。
【００２５】
次に、前述した有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について図２〜図８に従って説明する。
まず、公知の方法によって、基板Ｓ上に駆動トランジスタＴｏといった各種電子素子を形成して回路形成層Ｓａを形成する。続いて、その形成した駆動トランジスタＴｏのドレイン電極と電気的接続するように画素電極１１を形成する（図２（ａ）参照）。これは、例えば、回路形成層Ｓａ上の全面に、スパッタリング法によってクロム（Ｃｒ）からなる層を形成し、続いて、レジストフォトリソグラフィ工程を施して所定の画素形状に合わせたレジストパターンを形成し、さらにエッチング処理を施すことで所定形状の画素電極１１を形成する。
【００２６】
続いて、蒸着法によって各画素電極１１を覆うように回路形成層Ｓａ上の全面に渡って有機絶縁層を形成し、続いて、画素電極１１に対応した位置に透過部を備えたレジストパターン（図示略）を使用して露光・現像を行う（絶縁層形成工程）。この結果、図２（ｂ）に示すように、画素電極１１に対応する位置に開口部Ｑｏが形成された有機絶縁層１２が形成される。図３は、このようにして形成された有機絶縁層１２を備えた基板Ｓの上面図であって、図２（ａ），（ｂ）は、図３中Ａ−Ａ断面に対応する。
【００２７】
次に、リソグラフィー法（転写法）を用いて有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成する（補助電極層形成工程）。これは、まず、図４（ａ）に示すように、画素電極１１及び有機絶縁層１２上の全面に渡って、アルミニウム（Ａｌ）からなる導電層２０を蒸着形成する。続いて、図４（ｂ）に示すように、導電層２０上に、基板Ｓの一方向（紙面と直交する方向）に沿った有機絶縁層１２に対応した位置に非透過部２１ａを備えたレジストパターン２１を形成し、露光・現像を行う。さらに、エッチング処理を施して非透過部２１ａ以外の領域に対応して配置された導電層２０を除去し、レジストパターン２１を取り除く。この結果、図４（ｃ）に示すように、有機絶縁層１２上に補助電極層１４が形成される。
【００２８】
次に、有機絶縁層１２及び補助電極層１４上の全面に機能層１３を形成する（機能層形成工程）。具体的には、公知の方法と同様にして、図示しない減圧チャンバーを使用して図５（ａ）に示すように、正孔注入層１３ａを蒸着形成する。本実施形態では、銅フタロシアニンを、例えば膜厚が６００Åとなるまで蒸着することで正孔注入層１３ａを形成する。その後、同様にして、正孔注入層１３ａ上にトリフェニルジアミン（ＴＰＤ）からなる正孔輸送層１３ｂを、正孔輸送層１３ｂ上にアルキキノリール鎖体アルミニウム（Ａｌｑ３）からなる発光層１３ｃを、発光層１３ｃ上にオキサジアゾールＢＮＤからなる電子輸送層１３ｄを、それぞれ順次蒸着する（図５（ｂ）参照）。図６は、このようにして形成された機能層１３及び補助電極層１４を備えた基板Ｓの上面図であって、図５（ａ），
（ｂ）は、図６中Ｂ−Ｂ断面に対応する。
【００２９】
次に、補助電極層１４上に形成された機能層１３を剥離する（剥離工程）。これは、機能層１３を形成する減圧チャンバーと連結された図示しないチャンバー内にて行われる。このチャンバー内には、図７（ａ）に示す転写部材２５が搭載されている。転写部材２５は、周囲に機能層１３に対して粘着性を有した粘着剤２６が付着したローラ２７を備え、補助電極層１４の長手方向（図７（ａ）及び図６中Ｘ矢印方向）に沿って移動可能となっている。
【００３０】
そして、図７（ｂ），（ｃ）に示すように、前記チャンバー内にてローラ２７を機能層１３に押し当てながら補助電極層１４の長手方向（図７（ｂ）中Ｘ矢印方向）に沿って移動させる。すると、補助電極層１４上に形成された機能層１３にローラ２７が接触し、図７（ｃ）に示すように、補助電極層１４上に形成された機能層１３が補助電極層１４上から剥離してローラ２７に貼り付く。この結果、図８（ａ）に示すように、補助電極層１４上から機能層１３が剥離される。
【００３１】
続いて、対向電極１５を形成する。これは、転写部材２５を搭載した前記チャンバーと連結された図示しない蒸着装置にて行われる。そして、補助電極層１４上から機能層１３が剥離した基板Ｓを、大気に晒されることなく蒸着装置に搬入する。その蒸着装置にて、図８（ｂ）に示すように、機能層１３上の全面に、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）を蒸着することで対向電極１５を形成する（電極層形成工程）。このとき、対向電極１５は補助電極層１４に接触する。その後、公知の方法を用いて、対向電極１５上に保護層１７を形成した後（図８（ｃ）参照）、別途作成したカラーフィルタ１８を貼着する。このようにすることで、有機ＥＬディスプレイ１０が製造される。
【００３２】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成した後、有機絶縁層１２及び補助電極層１４上の全面に渡って機能層１３を形成した。その後、機能層１３に対して粘着性を有したローラ２７を機能層１３上に接触させながら回転させることで補助電極層１４上に形成された機能層１３を補助電極層１４から剥離した。そして、その補助電極層１４上に対向電極１５を形成した。従って、マスクを使用せずに機能層１３を形成したので、従来のように、マスクと基板Ｓとのアライメントの公差を確保する必要はないことから、有機絶縁層１２の幅Ｗを広くする必要はない。この結果、各有機ＥＬ素子１６の開口率の低下を抑制することができるので、有機ＥＬディスプレイ１０の高寿命化を図ることができる。
（２）本実施形態によれば、有機絶縁層１２を形成した後、フォトリソグラフィー法（転写法）を使用して有機絶縁層１２上に補助電極層１４を形成した。従って、有機絶縁層１２の幅Ｗを狭くすることができる。従って、開口率を高くすることができる。
（３）本実施形態によれば、粘着性を有するローラ２７を備えた転写部材２５を、補助電極層１４上に形成された機能層１３に接触させながら回転させることで補助電極層１４上に形成された機能層１３を補助電極層１４上から剥離するようにした。従って、簡単に補助電極層１４上に形成された機能層１３を剥離することができる。
（４）本実施形態によれば、転写部材２５を補助電極層１４の長手方向に沿って接触させながら回転させることで、補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにした。従って、確実に機能層１３を剥離することができる。
（５）本実施形態によれば、転写部材２５を所定のチャンバー内に配設し、大気に晒すことなく機能層１３を補助電極層１４上から剥離し、その状態のまま補助電極層１４上に対向電極１５を形成するようにした。従って、補助電極層１４及び機能層１３表面上にパーティクル等の不純物が付着することや、補助電極層１４及び機能層１３の表面が大気によって変質するのを抑制することができる。この結果、補助電極層１４と対向電極１５との
付着力が良好となるので、対向電極１５の電位を確実に均一にすることができる。
（６）本実施形態によれば、機能層１３は、発光層１３ｃ以外に正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、電子輸送層１３ｄを有している。従って、各有機ＥＬ素子１６の発光効率を高くすることができる。この結果、高寿命な有機ＥＬディスプレイ１０を提供することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について図９に従って説明する。この第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法では、補助電極層１４上に形成された機能層１３を剥離するための転写部材の構成が上記第１実施形態に記載したものと異なっている以外は同じである。従って、本実施形態では、上記第１実施形態と同じ点については、その詳細な説明を省略する。
【００３３】
図９（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、本実施形態に係る転写部材３０を使用して補助電極層１４上に形成された機能層１３を剥離する方法を説明するための図である。図９（ａ）に示すように、本実施形態に係る転写部材３０は、機能層１３に対して粘着性を有した粘着シート３１がローラ２７によって張設されている。そして、図９（ｂ），（ｃ）に示すように、機能層１３上にローラ２７を介して粘着シート３１を押し当てることで、粘着シート３１を機能層１３に対して接触させながら補助電極層１４の長手方向（図９中Ｘ矢印方向）に沿って移動させる。
【００３４】
すると、補助電極層１４上に形成された機能層１３が粘着シート３１に接触し補助電極層１４上に形成された機能層１３が補助電極層１４上から剥離する。このとき、機能層１３は補助電極層１４の長手方向に沿って剥離するので、機能層１３が確実に補助電極層１４上から剥離される。
【００３５】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、粘着シート３１の長さを長くすることで、転写部材３０の使用期間が延びるので、上記第１実施形態の転写部材２５と比べて、転写部材の交換頻度を少なくすることができる。
【００３６】
尚、発明の実施形態は、上記実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
○上記各実施形態では、転写部材２５，３０を使用して補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにしたが、本発明はこれに限定されず、転写部材２５，３０以外のものを使用して機能層１３を剥離するようにしてもよい。例えば、ヘラ状のもので補助電極層１４上の機能層１３を摺接処理することで補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにしてもよい。
【００３７】
○上記各実施形態では、転写部材２５，３０を、補助電極層１４の長手方向に沿って移動させることで補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにしたが、本発明はこれに限定されない。例えば、転写部材２５，３０を、補助電極層１４の長手方向に対して斜めに沿って移動させることで補助電極層１４上の機能層１３を剥離するようにしてもよい。このようにすることで、機能層１３が補助電極層１４上から剥離しやすくなるので、機能層１３を確実に剥離させることができる。
【００３８】
○上記第１実施形態では、有機ＥＬ素子１６は、その機能層１３を構成する正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、発光層１３ｃ及び電子輸送層１３ｄは、低分子系有機材料で構成されていたが、本発明はこれに限定されるものではなく、高分子系有機材料で構成されたものであっても適用可能である。
【００３９】
○上記第１実施形態では、電気光学素子として有機ＥＬ素子１６に適用したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）といった他の態様の電気光学素子であってもよい。
【００４０】
○上記第１実施形態では、画素電極１１を形成した後に補助電極層１４を形成し、その後、画素電極１１上に機能層１３を形成したが、画素電極１１を形成した後、酸素プラズマ処理を施して画素電極１１の表面改質を行うようにしてもよい。このようにすることにより、画素電極１１と機能層１３との接触を良好にすることができるので、画素電極１１から機能層１３へのキャリア注入の効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の電気光学装置の製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイの概略断面図。
【図２】（ａ），（ｂ）は、それぞれ、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図３】同じく、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図４】同じく、（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図５】同じく、（ａ），（ｂ）は、それぞれ本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図６】同じく、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図７】同じく、（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ機能層の剥離方法を説明するための図。
【図８】同じく、（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図９】（ａ），（ｂ），（ｃ）は、それぞれ第２実施形態に係る機能層の剥離方法を説明するための図。
【符号の説明】
【００４２】
Ｑ…開口部、Ｓ…基板、１１…第１電極層としての画素電極、１２…絶縁層としての有機絶縁層、１３ｃ…発光層、１３…機能層、１４…補助電極層、１５…第２電極層としての対向電極、１６…電気光学素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子、２５，３０…転写部材、３１…シート。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置される少なくとも発光層とを含む機能層とから構成された電気光学素子を複数備え、前記発光層にて発せられた光を、前記第２電極層を透過して前記基板と対向する側から出射する電気光学装置の製造方法において、
前記基板上に、前記第１電極層に対応する位置に開口部を備えた絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
前記絶縁層上に、前記第２電極層と電気的に接続する補助電極層を形成する補助電極層形成工程と、
前記絶縁層及び前記補助電極層上に前記機能層を形成する機能層形成工程と、
前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離する剥離工程と、
前記補助電極層上に前記第２電極層を形成する電極層形成工程と
を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記補助電極層形成工程は、転写法によって行われるようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記剥離工程は、粘着性を有するローラ状の転写部材を、前記絶縁層及び前記補助電極層上の全面に形成された前記機能層に接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記剥離工程は、粘着性を有するシートをローラ状の転写部材によって前記絶縁層及び前記補助電極層上の全面に形成された前記機能層に接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項３または４に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記転写部材を前記補助電極層の長手方向に沿って接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１】
基板上に、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置される少なくとも発光層とを含む機能層とから構成された電気光学素子を複数備え、前記発光層にて発せられた光を、前記第２電極層を透過して前記基板と対向する側から出射する電気光学装置の製造方法において、
前記基板上に、前記第１電極層に対応する位置に開口部を備えた絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
前記絶縁層上に、前記第２電極層と電気的に接続する補助電極層を形成する補助電極層形成工程と、
前記絶縁層及び前記補助電極層上に前記機能層を形成する機能層形成工程と、
前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離する剥離工程と、
前記補助電極層上に前記第２電極層を形成する電極層形成工程と
を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記補助電極層形成工程は、転写法によって行われるようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記剥離工程は、粘着性を有するローラ状の転写部材を、前記絶縁層及び前記補助電極層上の全面に形成された前記機能層に接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記剥離工程は、粘着性を有するシートをローラ状の転写部材によって前記絶縁層及び前記補助電極層上の全面に形成された前記機能層に接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項３または４に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記転写部材を前記補助電極層の長手方向に沿って接触させながら回転させることで前記補助電極層上に形成された前記機能層を前記補助電極層上から剥離することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００７−２１４０００（Ｐ２００７−２１４０００Ａ）
【公開日】平成１９年８月２３日（２００７．８．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３３３４０（Ｐ２００６−３３３４０）
【出願日】平成１８年２月１０日（２００６．２．１０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年８月２３日（２００７．８．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月１０日（２００６．２．１０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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