電荷輸送膜、有機電子デバイス、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
【課題】可とう性及び靭性に優れた最表面層を持つ電荷輸送膜を提供すること
【解決手段】電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下である電荷輸送膜である。
【解決手段】電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下である電荷輸送膜である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電荷輸送膜、有機電子デバイス、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真感光体、有機ＥＬデバイス（有機エレクトロルミネッセンスデバイス）、有機トランジスタ、有機太陽電池など電子デバイスに用いられる、有機化合物を用いた電荷輸送膜が盛んに開発されている。
【０００３】
例えば、熱、あるいは光硬化した膜を用いた有機ＥＬデバイスが提案されている（例えば特許文献１参照）。
また、電荷輸送性基を含有するアクリルポリマーを用いた電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献２から４参照）。
また、電荷輸送性基と反応性基を含有するアクリルポリマーを膜形成後に架橋した電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献５参照）。
光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜が提案されている（例えば特許文献６参照）。
また、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材及びバインダー樹脂の混合物を熱、あるいは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が提案され、特に、単官能メタクリル変性した電荷移動材と、電荷輸送性を有さないメタクリルモノマーと、ポリカーボネート樹脂とに有機過酸化物を用いて硬化したものが提案されている（例えば特許文献７参照）。
また、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜が提案されている（例えば特許文献８参照）。
【０００４】
ところで、硫黄を含有した電荷輸送膜、またはこれを利用した光電変換デバイスとしては、チオール基を有する正孔輸送性化合物をシロキサンマトリックス中にドーピングし、硬化した膜を用いた電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献９参照）。
また、チオール基を有する正孔輸送性化合物をオキセタンマトリックス中にドーピングし、硬化した膜を用いた電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献１０参照）。
また、電荷輸送性構造を有する化合物と電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーとチオール基を含有する連鎖移動剤からなり、光エネルギー照射手段によって架橋膜を有する電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献１１参照）。
【０００５】
なお、エンチオール樹脂とは、近年、接着剤、コーティング剤、光学系材料における封止剤などで開発が行なわれており（特許文献１２〜１３参照）、ポリエン−ポリチオール系重合体などとも呼ばれることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ＷＯ０９７３３１９３Ａ２
【特許文献２】特開平５−２０２１３５号公報
【特許文献３】特開平６−２５６４２８号公報
【特許文献４】特開平９−１２６３０号公報
【特許文献５】特開２００５−２２９１号公報
【特許文献６】特開平５−４０３６０号公報
【特許文献７】特開平５−２１６２４９号公報
【特許文献８】特開２０００−２０６７１５号公報
【特許文献９】特開２０００−３１０８７０号公報
【特許文献１０】特開２００６−１８４８０３号公報
【特許文献１１】特開２００７−３２２４８３号公報
【特許文献１２】特開２００３−２７７５０５号公報
【特許文献１３】特開２００９−１０４０８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下である電荷輸送膜。
【０００９】
請求項２に係る発明は、
前記エンチオール樹脂の架橋物を含んで構成された硬化膜である電荷輸送膜。
【００１０】
請求項３に係る発明は、
前記エンチオール樹脂の電荷輸送性骨格が、下記一般式（ＡＡＡ）で表される電荷輸送性骨格である請求項１に記載の電子写真感光体。
【００１１】
【化１】
【００１２】
（一般式（ＡＡＡ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、
Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、
Ｄ１は、それぞれ独立に、エンチオール樹脂を構成する電荷輸送性骨格以外の部位と連結する連結基であって、「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−Ｓ−＊、又は「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｚ）ａ２−Ｙ’−ＣＨ（Ｒ）−ＣＨ２−＊を表し（但し、「Ａｒ」はＡｒ１〜Ａｒ５のうちＤ１が連結するものを表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−を表し、Ｙは−ＳＨが置換基として置換されていてもよい炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｚは−ＣＯ−、−Ｏ−、またはフェニレン基を表し、Ｒは水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、ａ１又はａ２はそれぞれ独立に０又は１を表す。なお、＊は電荷輸送性骨格以外の部位との連結部を表す。）、
ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、
ｋは０又は１を表し、Ｄ１の総数は２以上である。）
【００１３】
請求項４に係る発明は、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電荷輸送膜を有する有機電子デバイス。
【００１４】
請求項５に係る発明は、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電荷輸送膜を最表面層として有する電子写真感光体。
【００１５】
請求項６に係る発明は、
請求項５に記載の電子写真感光体を少なくとも備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
【００１６】
請求項７に係る発明は、
請求項５に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収容し、前記現像剤により、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が上記範囲でない場合に比べ、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜を提供できる。
請求項２に係る発明によれば、機械的強度に優れた硬化膜であっても、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜を提供できる。
請求項３に係る発明によれば、エンチオール樹脂の電荷輸送性骨格が上記一般式（ＡＡ）で表される電荷輸送性骨格でない場合に比べ、電荷輸送性と共に機械的特性に優れた電荷輸送膜を提供できる。
【００１８】
請求項４に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が上記範囲である電荷輸送膜を適用しない場合に比べ、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜を有する有機電子デバイスを提供できる。
【００１９】
請求項５に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が上記範囲である電荷輸送膜を最表面層として適用しない場合に比べ、可とう性及び靭性に優れた最表面層を有する電子写真感光体を提供できる。
【００２０】
請求項６、７に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が上記範囲である電荷輸送膜を最表面層として有する電子写真感光体を適用しない場合に比べ、繰り返し使用による画像欠陥の発生が抑制されるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図３】他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図４】他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図５】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図６】他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
［電荷輸送膜］
本実施形態に係る電荷輸送膜は、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下である電荷輸送膜である。
ここで、硫黄原子の含有率が上記範囲であることは、硫黄原子がエンチオール樹脂を構成する分子内に含まれていることを意味している。つまり、開始剤等の添加剤に由来する硫黄原子（添加剤に含まれる硫黄原子）のみでは、硫黄原子の含有率は上記範囲とはならないことを意味している。
【００２３】
本実施形態に係る電荷輸送膜は、上記構成とすることで、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜となる。
この理由は、定かではないが、以下の理由によるものと考えられる。
まず、電荷輸送膜として機能するために電荷輸送性を付与するためには、電荷輸送性骨格が膜中において規則的な分子配向をなし、分子内および分子間に共役系が広がっていることが必要と考えられる。電荷を輸送する経路（パス）が確保されると考えられるからである。
しかしながら、例えば、樹脂に電荷輸送機能を有する化合物を分散させるなどの方法により形成した電荷輸送膜おいては、溶媒を用いることで、両者の均一分散が実現されるが、製膜するときに溶媒の除去に伴い、樹脂と電荷輸送機能を有する化合物との互いの相溶性が悪化し、結果として樹脂中の電荷輸送速度が低下することが知られている。
この原因は明らかではないが、原因の一つとして、電荷輸送性骨格の希釈によるもの以外に、電荷輸送骨格と樹脂が互いに分散状態を保つことが困難となり、電荷輸送性を発揮しきれないことが挙げられる、
【００２４】
これに対して、本実施形態の如く、電荷輸送性骨格をエンチオール樹脂の重合体骨格に取り入れると、その相溶性の悪化を抑制し、さらにエンチオール樹脂特有の構造である炭素―硫黄結合という比較的柔軟な構造によって電荷輸送性骨格が結合されているため、製膜後も電荷輸送性骨格の規則的な分子配向、電荷輸送性骨格の分散化が達せられると考えられる。
そして、電荷輸送性骨格を重合体骨格に取り入れたエンチオール樹脂は、炭素―硫黄結合という比較的柔軟な構造を有すると共に、電荷輸送性骨格の規則的な分子配向、電荷輸送性骨格の分散化が達せられるが故に、当該エンチオール樹脂を含んで構成される電荷輸送膜に対して外力が加わっても、その応力集中が緩和されるものと考えられる。
そして、電荷輸送膜中に硫黄原子が上記含有率の上記範囲で存在することで、これら作用が発揮されるものと考えられる。
【００２５】
以上から、本実施形態に係る電荷輸送膜は、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜となると考えられる。その結果、耐曲げ性、耐折れ性、伸び特性が付与されるものと考えられる。
一方、この可とう性及び靭性の特性は、膜の機械的特性を向上させる目的で、エンチオール樹脂を架橋樹脂としても、炭素―硫黄結合という比較的柔軟な構造を有すると共に、電荷輸送性骨格の規則的な分子配向、電荷輸送性骨格の分散化が達せられるが故に、維持されると考えられる。このため、エンチオール樹脂の架橋物を含んで構成され、機械的強度に優れた硬化膜であっても、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜となると考えられる。その結果、高い表面硬度、耐摩耗性、耐傷付き性が付与されるものと考えられる。
【００２６】
また、本実施形態に係る電荷輸送膜は、電荷輸送性に優れた電荷輸送膜でもある。
これは、上述のように、電荷輸送性骨格の規則的な分子配向、電荷輸送性骨格の分散化が達せられる上、電荷輸送膜中に硫黄原子が上記含粒率の上記範囲で存在すると、電荷輸送性骨格同士の間と共に、電荷輸送性骨格と硫黄との間でも電子的な共役系が見かけ上広がると考えられるためである。
なお、電荷輸送性骨格を有するエンチオール樹脂は、例えば、炭素二重結合を持つ反応性官能基とチオール基の反応によって得られる場合、該反応が速やか、かつ選択的に起こり易いと考えられる。そのため、電荷輸送性骨格の劣化を引きおこす副反応が起き難いことが予想され、電荷輸送性骨格を有するエンチオール樹脂は、電荷輸送機能の劣化が抑えられると考えられる。
【００２７】
ここで、本実施形態に係る電荷輸送膜は、硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下であるが、電荷輸送性及び機械的特性と共に、可とう性及び靭性に優れた膜を得るといった観点から、２．５質量％以上１５質量％以下がよく、望ましくは３．０質量％以上１５質量％以下であり、より望ましくは４．０質量％以上１０質量％以下である。また、電荷輸送膜がエンチオール樹脂の架橋物を含んで構成された硬化膜である場合には、硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１１質量％以下が好ましい。
硫黄原子の含有率は、使用する原料が明らかな場合は、それぞれの原料の混合比率より計算上求める。使用する原料が明らかでない場合、電荷輸送膜のみを採取し、該膜中の硫黄の含有率を蛍光Ｘ線による元素分析法によって求める。
なお、硫黄原子の含有率は、例えば、エンチオール樹脂を合成する際に、チオール基を有する化合物量を調整することで制御される。
【００２８】
以下、本実施形態に係る電荷輸送膜を構成する、電荷輸送性骨格を有するエンチオール樹脂（以下、単に「エンチオール樹脂」と称することがある。）について詳細に説明する。
【００２９】
（エンチオール樹脂）
エンチオール樹脂は、例えば、炭素二重結合を持つ２つ以上の反応性官能基を有する化合物の１種類以上と、２つ以上のチオール基を有する化合物の１種類以上と、を原料として、水素引き抜き能を有する触媒の共存下、紫外線照射や熱などの外部エネルギーを加えることで重合し得られる樹脂であって、炭素二重結合を持つ反応性官能基を有する化合物、及びチオール基を有する化合物の少なくとも一方に電荷輸送性骨格が導入されたもの用いて得られる樹脂である。
なお、エンチオール樹脂は、その他の製法、原料であっても、結果として、上記方法と同じ構造をとりえるものであれば、特に限定されるものではない。
【００３０】
ここで、電荷輸送性骨格としては、公知の電子輸送性または正孔輸送性の構造の少なくとも一方を有する有機化合物骨格であり、特に限定されるものではないが、例えば、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物に由来する骨格が挙げられる。これらの中も、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、トリアリールアミン系化合物の骨格がよい。
【００３１】
ここで、特に、電荷輸送性骨格としては、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、下記一般式（ＡＡＡ）で表される骨格が好適に挙げられる。
【００３２】
【化２】
【００３３】
一般式（ＡＡＡ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表す。
Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表す。
Ｄ１は、それぞれ独立に、エンチオール樹脂を構成する電荷輸送性骨格以外の部位と連結する連結基であって、「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−Ｓ−＊、又は「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｚ）ａ２−Ｙ’−ＣＨ（Ｒ）−ＣＨ２−＊を表す。
ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表す。
ｋは０又は１を表し、Ｄ１の総数は２以上である。
【００３４】
ここで、一般式（ＡＡＡ）中、Ｄ１が表す基において、
「Ａｒ」は、Ａｒ１〜Ａｒ５のうちＤ１が連結するものを表す。
Ｇは、炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、具体的には、例えば、炭素数１以上５以下のアルキレン基、アルキレンエーテル基、ポリアルキレンエーテル基を表す。
Ｘは、−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−を表す。
Ｙは、ＳＨが置換基として置換されていてもよい炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、具体的には、例えば、−ＳＨが置換基として置換されていてもよい、炭素数１以上５以下のアルキレン基、アルキレンエーテル基、ポリアルキレンエーテル基を表す。
Ｙ’は、−炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、具体的には、例えば、炭素数１以上５以下のアルキレン基、アルキレンエーテル基、ポリアルキレンエーテル基を表す。
Ｚは、−ＣＯ−、−Ｏ−、又はフェニレン基を表す。
Ｒは、水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を表す。
ａ１及びａ２は、それぞれ独立に０又は１を表す。
＊は、エンチオール樹脂の電荷輸送性骨格以外の部位との連結部を表し、具体的には、例えば、ポリエン構造、ポリチオール構造の少なくとも一方の繰り返し単位との連結部である。
【００３５】
なお、一般式（ＡＡＡ）中、Ａｒ１〜Ａｒ５、ｃ１〜ｃ５、ｋについては、後述する一般式（Ａ）中のＡｒ１〜Ａｒ５、ｃ１〜ｃ５、ｋと同義であるため、説明を省略する。
【００３６】
エンチオール樹脂として、具体的には、例えば、以下の組み合わせを原料とした共重合体が挙げられる。
１）（Ｉ）炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物（以下（Ｉ）の化合物と称することがある）と、（ＩＩ）チオール基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物（以下（ＩＩ）の化合物と称することがある）と、の組み合わせ。
２）（ＩＩＩ）炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物（以下（ＩＩＩ）の化合物と称することがある）と、（ＩＶ）チオール基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物（以下（ＩＶ）の化合物と称することがある）と、の組み合わせ。
３）（Ｉ）の化合物と、（ＩＶ）の化合物と、の組み合わせ。
なお、エンチオール樹脂は、これら組み合わせの原料単独の共重合体であってもよし、これら２種類以上の組み合わせの原料を混合して用いた共重合体であってもよい。
また、エンチオール樹脂は、一分子中に、電荷輸送性骨格を有し、且つ炭素二重結合を持つ反応性官能基及びチオール基を合計で２つ以上有する化合物を原料とした重合体であってもよい。
【００３７】
ここで、エンチオール樹脂の架橋物を得る、つまり、機械的特性と共に、可とう性及び靭性に優れた膜を得るといった観点から、エンチオール樹脂を得るための炭素二重結合を持つ反応性官能基とチオール基のモル数の関係としては、［（チオール基のモル量）／（炭素二重結合を持つ反応性官能基のモル量）］×１００（％）が、例えば２０％以上１００％がよく、望ましくは３５％以上９０％以下、より望ましくは４５％以上８０％以下である。
すなわち、炭素二重結合を持つ反応性官能基とチオール基のモル数の関係を上記範囲となるように、原料の量を調整すると。炭素二重結合を持つ反応性官能基のモル数はチオール基のモル数よりも多くなり、その結果、炭素二重結合を持つ反応性官能基による重合が進行することによって膜の架橋硬化が進むと予想され、エンチオール樹脂が架橋物となり、得られる膜が硬化膜となると考えられる。
【００３８】
同様に、エンチオール樹脂の架橋物を得る、つまり、機械的特性と共に、可とう性及び靭性に優れた膜を得るといった観点から、上記（Ｉ）から（ＩＶ）の化合物から選択する組み合わせの原料において、少なくとも、炭素二重結合を持つ反応性官能基の数、又はチオール基のいずれかが、３つ以上有する化合物を用いることがよい。
つまり、上記（Ｉ）から（ＩＶ）の化合物から選択する組み合わせの原料において、少なくとも、炭素二重結合を持つ反応性官能基を３つ以上有する化合物、又はチオール基を３つ以上有する化合物を用いることがよい。
これにより、理論上、エンチオール樹脂が架橋物となり、得られる膜が硬化膜となると考えられる。
【００３９】
以下、（Ｉ）から（ＩＶ）の化合物について詳細に説明する。
【００４０】
−（Ｉ）の化合物−
（Ｉ）の化合物は、同一分子内に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物である。
【００４１】
（Ｉ）の化合物における炭素二重結合を持つ反応性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される基が挙げられる。これらの中も、その反応性に優れる観点から、連鎖重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、ビニル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つが挙げられる。
【００４２】
（Ｉ）の化合物としては、同一分子内に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上持つ化合物であることがよい。これにより、電荷輸送性、機械的強度が高い膜が得られ易くなる。
この炭素二重結合を持つ反応性官能基の数は、エンチオール樹脂で構成される膜を得るための原料組成物（塗布液）の安定性、電気特性の点から、２０以下の範囲、１０以下の範囲が挙げられる。
【００４３】
（Ｉ）の化合物として具体的には、例えば、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好適に挙げられる。
【００４４】
【化３】
【００４５】
一般式（Ａ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Ｄは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は２以上である。
【００４６】
ここで、一般式（Ａ）で表される化合物としては、得られる膜の機械的強度に優れるといった観点から、Ｄがアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基（特に、これら基が末端に有する基）を表す化合物がよい。
また、一般式（Ａ）で表される化合物としては、得られる膜の電荷輸送性及び機械的強度に優れるといった観点から、Ｄが−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、又はメチル基を表し、ｄは１以上５以下の整数、ｅは０又は１を表す）を表す化合物もよい。
そして、特に、Ｄが−（Ｇ）ａ１−（Ｚ）ａ２−Ｙ’−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ２（但し、Ｇ、Ｙ’Ｚ、Ｒ、ａ１、ａ２は、一般式（ＡＡＡ）中のものと同義である。）を表すことがよい。
【００４７】
なお、アクリロイル基、メタクロイル基、ビニルフェニル基は、連鎖移動剤との反応性が高く、得られる膜の機械的強度が高まる傾向がある。一方、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基は、反応性が低く、一般的な重合では反応が進行し難いが、チオール基を有する化合物（そのチオール基）と高反応性を有しており、重合が進行し、得られる膜の機械的強度が高まる。
【００４８】
一般式（Ａ）において、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄで表される基以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
【００４９】
Ａｒ１〜Ａｒ４として具体的は、下記式（１）〜（７）のうちのいずれか一つであることがよい。なお、下記式（１）〜（７）は、Ａｒ１〜Ａｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」〜「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に表した「−（Ｄ）Ｃ」と共に表す。
【００５０】
【化４】
【００５１】
式（１）〜（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。Ｒ２〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄは一般式（Ａ）におけるＤと同様の基を表し、ｃは１又は２を表し、ｓは０又は１を表し、ｔは０以上３以下の整数を表す。
【００５２】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）又は（９）で表されるものがよい。
【００５３】
【化５】
【００５４】
式（８）及び（９）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔ’は０以上３以下の整数を表す。
【００５５】
また、式（７）中、Ｚ’は２価の有機連結基を表すが、下記式（１０）〜（１７）のうちのいずれか一つで表されるものがよい。
【００５６】
【化６】
【００５７】
式（１０）〜（１７）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”は０以上３以下の整数を表す。
【００５８】
式（１６）〜（１７）中のＷとしては、下記（１８）〜（２６）で表される２価の基のうちのいずれか一つであることがよい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【００５９】
【化７】
【００６０】
また、一般式（Ａ）中、Ａｒ５は、ｋが０の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１〜Ａｒ４の説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Ａｒ５は、ｋが１の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１〜Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
【００６１】
以下、一般式（Ａ）で表される化合物（（Ｉ）の化合物）の具体例を示す。なお、一般式（Ａ）で表される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【００６２】
まず、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【００６３】
【化８】
【００６４】
【化９】
【００６５】
【化１０】
【００６６】
【化１１】
【００６７】
【化１２】
【００６８】
【化１３】
【００６９】
【化１４】
【００７０】
【化１５】
【００７１】
【化１６】
【００７２】
【化１７】
【００７３】
【化１８】
【００７４】
【化１９】
【００７５】
【化２０】
【００７６】
【化２１】
【００７７】
次に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を３つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【００７８】
【化２２】
【００７９】
【化２３】
【００８０】
【化２４】
【００８１】
【化２５】
【００８２】
【化２６】
【００８３】
次に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つから６つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【００８４】
【化２７】
【００８５】
【化２８】
【００８６】
【化２９】
【００８７】
【化３０】
【００８８】
【化３１】
【００８９】
【化３２】
【００９０】
【化３３】
【００９１】
【化３４】
【００９２】
【化３５】
【００９３】
【化３６】
【００９４】
【化３７】
【００９５】
【化３８】
【００９６】
【化３９】
【００９７】
【化４０】
【００９８】
【化４１】
【００９９】
【化４２】
【０１００】
（Ｉ）の化合物は、例えば、以下のようにして合成される。
即ち、（Ｉ）の化合物は、例えば、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、又はメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させて合成する。特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合、アルコールと、ヒドロキシエチルメタクリレート等の水酸基を有するメタクリル酸誘導体と、の脱水エーテル化などにより合成してもよい。
【０１０１】
上記例示化合物ｉｖ−４及び例示化合物ｉｖ−１７の合成経路を一例として以下に示す。
【０１０２】
【化４３】
【０１０３】
【化４４】
【０１０４】
他の（Ｉ）の化合物は、例えば、上述した化合物ｉｖ−４の合成経路、及び化合物ｉｖ−１７合成経路と同様にして合成される。
【０１０５】
（Ｉ）の化合物としては、前述のように、得られる膜の機械的強度が向上するといった観点から、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上含む化合物が用いられることがよい。
また、（Ｉ）の化合物として、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上である化合物と、炭素二重結合を持つ反応性官能基を１つ以上３つ以下含む化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能の低下を抑制しつつ、膜の強度が調整される。
（Ｉ）の化合物として、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上である化合物と、炭素二重結合を持つ反応性官能基を１つ以上３つ以下含む化合物と、を併用する場合、（Ｉ）の化合物の総含有量に対して、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上である化合物の含有量を５質量％以上とすることがよく、特に２０質量％以上とすることがよい。
【０１０６】
次に、他の（Ｉ）の化合物について説明する。
（Ｉ）の化合物としては、下記一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーであってもよい。
【０１０７】
【化４５】
【０１０８】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立して炭素数１以上２０以下の２価の有機基を表し、ａは０又は１を表し、ＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。
ここで、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーの末端基としては、ラジカル重合反応による停止反応で生じた構造である。
【０１０９】
一般式（Ｂ）中、ＣＴが表す電子輸送性骨格を持つ有機基としては、上述した電荷輸送性骨格が挙げられるが、例えば、トリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、アリールアルカン骨格、アリール置換エチレン骨格、スチルベン骨格、アントラセン骨格、ヒドラゾン骨格を持つものなどが好適に挙げられるが、この中でもトリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、スチルベン骨格を持つものが望ましい。
【０１１０】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｘ、Ｙが表す２価の有機基としては、例えば、アルキレン基、−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−、芳香環、及びこれらを組み合わせてた連結基から選択される一つを含む２価の有機基が挙げられる。なお、Ｘ、Ｙが表す２価の有機基は、水酸基を有さないことが望ましい。
Ｘが表す２価の有機基として具体的には、例えば、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−（但し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す）。
Ｙが表す２価の有機基として具体的には、
−（ＣＨ）ｎ−（但し、ｎは１以上１０以下の整数を表す）、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−（但し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表し、「（ＣＨ２）ｎ」の水素原子の一部は水酸基が置換していてもよい。）、
−（ＣＨ２）ｎ−Ａｒ−（但し、Ａｒは芳香環数１以上５以下のアリーレン基を表し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す。）、
−Ａｒ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−（但し、Ａｒは芳香環数１以上５以下のアリーレン基を表し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す。）
等が挙げられる。
【０１１１】
一般式（Ｂ）で表される部分構造の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限られるわけではない。なお、「（Ｘ）ａ」の欄において、「−」が示されている場合は、ａ＝０のときを示しており、基が示されている場合は、ａ＝１のときで、ＣＴと共にＸが表す基を示している。
【０１１２】
【化４６】
【０１１３】
【化４７】
【０１１４】
【化４８】
【０１１５】
【化４９】
【０１１６】
【化５０】
【０１１７】
【化５１】
【０１１８】
次に、一般式（Ｃ）で表される部分構造の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限られるわけではない。
【０１１９】
【化５２】
【０１２０】
【化５３】
【０１２１】
【化５４】
【０１２２】
一般式（Ｂ）、（Ｃ）で表される部分構造のみからなるものとしては、下記一般式（Ｂ’）及び（Ｃ’）で表される部分構造を有するものが望ましい。
【０１２３】
【化５５】
【０１２４】
一般式（Ｂ’）及び（Ｃ’）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｘは、炭素数１以上２０以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は、−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−、アルキレン基、芳香環、及びこれらを組み合わせてた連結基であって水酸基を有しないものを表し、ａ、ｂはそれぞれ独立に０又は１を表し、ＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。
なお、一般式（Ｂ’）及び（Ｃ’）中、Ｘが表す２価の有機基、及びＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基としては、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中のＸ、ＣＴと同様である。
【０１２５】
このうち、更に下記構造式（Ｄ）で表されるものが溶解性、製膜性に優れ、望ましい。
【０１２６】
【化５６】
【０１２７】
一般式（Ｄ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｘは炭素数１以上２０以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−、アルキレン基、芳香環、及びこれらを組み合わせてた連結基であって水酸基を有しないものを表し、ａ、ｂはそれぞれ独立して０又は１を表し、ＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。
ｍ、ｎはそれぞれ５以上の整数を表し、１０＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．２＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５であり、強度、可とう性、電気特性の観点から、１５＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．３＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５が望ましく、２０＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．４＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５がさらに望ましい。
なお、一般式（Ｄ）中、Ｘが表す２価の有機基、及びＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基としては、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中のＸ、ＣＴと同様である。
【０１２８】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーは、例えば、一般式（Ａ）で表される化合物をモノマーとして使用し、メタクリル酸、アクリル酸、グリシジル化合物およびこれらの誘導体との共重合等、公知の方法によって製造される。
【０１２９】
また、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーは、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）で示されるものに加え、溶解性、可とう性を付与するために１官能のモノマーを共重合してもよい。
１官能のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、などのアクリレート、あるいは、メタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレンなどのスチレン誘導体などが挙げられる。
これらを共重合する際に使用される量（ｌ）は、溶解性及び可とう性を付与する観点から、上記一般式（Ｄ）中のｍに対してｌ／ｍ＜０．３が望ましく、ｌ／ｍ＜０．２がより望ましい。
【０１３０】
なお、これら（Ｉ）の化合物は、１単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１３１】
−（ＩＩ）の化合物−
（ＩＩ）の化合物は、同一分子内に、チオール基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物である。
【０１３２】
（ＩＩ）の化合物は、例えば、第１級チオール基を２つ以上有する化合物及び第２級チオール基を２つ以上有する化合物から選択される少なくとも１種の多官能チオール化合物が挙げられる。
なお、チオール基の数は、例えば、２以上６以下であることがよい。
【０１３３】
ここで、第１級チオール基とは、構造上、−ＣＨ２−ＳＨで表されるチオール基である。
一方、第２級チオール基とは、構造上、ＣＲ−ＣＨ（ＳＨ）−ＣＲ（ただし、Ｒは有機基を示す）で表されるチオール基である。
【０１３４】
第１級チオール基を２つ以上有する化合物としては、電荷輸送性骨格を有さず、第１級チオール基を２つ以上有する化合物であれば、特に制限はないが、例えば、以下のものが挙げられる。
第１級チオール基を２つ化合物としては、例えば、１，１０−デカンジチオール、１，２−ベンゼンジチオール、１，２−エタンジチオール、１，２−プロパンジチオール、１、４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、テトラエチレングリコール−ビス（３−メルカプトプロピオネート）等のオリゴマー化合物等が挙げられる。
第１級チオール基を３つ含有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパン トリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリス−[（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル]−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−トリオン）等が挙げられる。
第１級チオール基を４つ含有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトプロピオネート）等が挙げられる。
第１級チオール基を６つ含有する化合物としてはジペンタエリスリトール ヘキサキス （３−メルカプトプロピオネート）等が挙げられる。
第１級チオール基を２つ以上有する化合物としては、得られる膜の機械的強度に優れるといった観点から、第１級チオール基を３つ以上有する化合物がよい。
【０１３５】
一方、第２級チオール基を２つ以上有する化合物としては、電荷輸送性骨格を有さず、第２級チオール基を２つ以上有する化合物であれば、特に制限はないが、例えば、例えば、１、４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，３，５−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−トリオン）、ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトブチレート）等が挙げられる。
特に、第２級チオール基を２つ以上有する化合物は、エンチオール樹脂で構成される膜を得るための原料組成物（塗布液）の溶液の状態において、その溶液の粘度安定性に優れる点でよい。
【０１３６】
なお、これら（ＩＩ）の化合物は、１単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１３７】
−（ＩＩＩ）の化合物−
（ＩＩＩ）の化合物は、同一分子内に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物である。
【０１３８】
（ＩＩＩ）の化合物としては、電荷輸送性骨格を有さず、且つ炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有する化合物であれば、特に制限はないが、例えば、以下のものが挙げられる。
炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ有する化合物としては、例えば、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等の２官能の化合物が挙げられる。
炭素二重結合を持つ反応性官能基を３つ有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ付加トリアクリレート、グリセリンＰＯ付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート等の３官能の化合物が挙げられる。
【０１３９】
その他、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上有する化合物としては、例えば、イソシアヌル酸骨格を有する多官能アクリレートが挙げられ、具体的には、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリメタクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリメタクリレート、ビス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性アクリレート、ビス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性メタクリレート、ビス（メタアクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性アクリレート、ビス（メタアクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性メタアクリレート等の４官能以上の化合物が挙げられる。
【０１４０】
これらの中でも、得られる膜の機械的特性に優れるといった観点及び得られる膜において生じる相分離を抑える観点から、（ＩＩＩ）の化合物としては、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上４つ以下で有する化合物がよい。
【０１４１】
−（ＩＶ）の化合物−
（ＩＶ）の化合物は、同一分子内に、チオール基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物である。
【０１４２】
（ＩＶ）の化合物として具体的には、例えば、下記一般式（ＡＡ）で表される化合物が挙げられる。
・一般式（ＡＡ）： Ｆ−[（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ]ｂ
一般式（ＡＡ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−を表し、Ｙは−ＳＨが置換基として置換されていてもよい炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、ａ１及びａ２はそれぞれ独立に０又は１を表し、ｂは２以上６以下の整数を表す。
【０１４３】
ここで、一般式（ＡＡ）中、Ｆが表す電荷輸送性化合物から誘導される有機基は、電荷輸送性骨格に相当する。Ｆが表す電荷輸送性化合物から誘導される有機基における当該電荷輸送性化合物としては、知の電子輸送性または正孔輸送性の少なくとも一方を有する有機化合物であり、特に限定されるものではないが、例えばフタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物等が挙げられる。これらの中も、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、トリアリールアミン系化合物がよい。
また、ｂは、２以上６以下であるが、得られる膜の電荷輸送性及び機械的強度に優れるといった観点から、４以上６以下であることがよい。
【０１４４】
なお、一般式（ＡＡ）中、Ｇ、Ｘ、Ｙ、ａ１、ａ２は、一般式（ＡＡＡ）中のＤ１が表す基で説明したものと同義であるとので、説明を省略する。
【０１４５】
一般式（ＡＡ）で表される化合物として具体的には、例えば、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、下記一般式（ＡＢ）で表される化合物が好適に挙げられる。
【０１４６】
【化５７】
【０１４７】
一般式（ＡＢ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Ｄ２は、（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨを表し、ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は２以上である。
【０１４８】
一般式（ＡＢ）中、Ｄの総数は、例えば、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、４以上６以下であることがよい。
【０１４９】
なお、一般式（ＡＢ）中、Ａｒ１〜Ａｒ５は一般式（Ａ）中のものと同義であるため説明を省略する。
また、Ｄ２が表す基におけるＧ、Ｘ、Ｙ、ａ１、ａ２は、一般式（ＡＡ）中のもの同義であるため説明を省略する。
【０１５０】
以下、一般式（ＡＡ）で表される化合物（（ＩＶ）の化合物）の具体例を示す。なお、一般式（ＡＡ）で表される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【０１５１】
【化５８】
【０１５２】
【化５９】
【０１５３】
【化６０】
【０１５４】
【化６１】
【０１５５】
【化６２】
【０１５６】
【化６３】
【０１５７】
次に、一般式（ＡＡ）で表される化合物の合成方法について説明する。
一般式（ＡＡ）で表される化合物は、例えば、通常のエステル化反応で合成し得る。
例えば、一般式（ＡＡ）で表される化合物の合成方法としては、以下に示す合成方法が挙げられるが、これに限られるわけではない。
１）下記一般式（ＡＣ）で示されるアルコールと下記一般式（ＡＤ）で示されるカルボン酸との組み合わせ、又は下記一般式（ＡＥ）で示されるカルボン酸と下記一般式（ＡＦ）で示されるアルコールとの組み合わせを、酸触媒（例えば硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等）を用いてエステル化することにより合成する方法（但し、カルボン酸の代わりに対応するカルボン酸クロライドを用いてもよい。）
・一般式（ＡＣ）：Ｆ−［（Ｇ）ａ１−ＯＨ］ｂ
・一般式（ＡＤ）：ＨＯＯＣ−Ｙ−ＳＨ
・一般式（ＡＥ）：Ｆ−［（Ｇ）ａ１−ＣＯＯＨ］ｂ
・一般式（ＡＦ）：ＨＯ−Ｙ−ＳＨ
【０１５８】
一般式（ＡＣ）、（ＡＤ）、（ＡＥ）、（ＡＦ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｙは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、ａ１は０又は１を表し、ｂは１〜６の整数を表す。
ここで、一般式（ＡＣ）、（ＡＤ）、（ＡＥ）、（ＡＦ）中、Ｆ、Ｇ、Ｙ、ａ１、ｂは、一般式（ＡＡ）中のＦ、Ｇ、Ｙ、ａ１、ｂと同義である。
なお、上記合成法では、ａ２が１を表し、Ｘが−ＣＯ−Ｏ−を表す一般式（ＡＡ）で表される化合物が合成される。
【０１５９】
２）下記一般式（ＡＣ）で示されるアルコールと下記一般式（ＡＧ）で示されるアルコール若しくはハロゲン化物との組み合わせ、又は下記一般式（ＡＨ）で表されるアルコール若しくはハロゲン化物と下記一般式（ＡＦ）で示されるアルコールとの組み合わせを、反応させることにより合成する方法。
・一般式（ＡＣ）：Ｆ−［（Ｇ）ａ１−ＯＨ］ｂ
・一般式（ＡＧ）：Ｊ−Ｙ−ＳＨ
・一般式（ＡＨ）：Ｆ−［（Ｇ）ａ１−Ｊ］ｂ
・一般式（ＡＦ）：ＨＯ−Ｙ−ＳＨ
【０１６０】
一般式（ＡＣ）、（ＡＦ）、（ＡＧ）、（ＡＨ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｙは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、ａ１は０又は１を表し、ｂは１〜６の整数を表し、Ｊは水酸基、あるいは、塩素、臭素、ヨウ素を表す。）
ここで、一般式（ＡＣ）、（ＡＦ）、（ＡＧ）、（ＡＨ）中、Ｆ、Ｇ、Ｙ、ａ１、ｂは、一般式（ＡＡ）中のＦ、Ｇ、Ｙ、ａ１、ｂと同義である。
なお、上記合成法では、ａ２が１を表し、Ｘが−Ｏ−を表す一般式（ＡＡ）で表される化合物が合成される。
【０１６１】
ここで、一般式（ＡＡ）で表される化合物の合成方法としてより具体的には、例えば、原料としてアリールアミン化合物を用いる場合、特開平９−３１０３９号公報等に記載されたエステル基を含有する電荷輸送性化合物を含チオールアルコールとエステル交換反応を行って合成する方法、エステル基を含有する電荷輸送性化合物を加水分解によりフリーのカルボン酸とした後に、含チオールアルコール又は含チオール炭化水素の塩素化物、臭素化物、又はヨウ素化物等でエステル化して合成する方法が挙げられる。
一方。一般式（ＡＡ）で表される化合物の合成方法として具体的には、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物のエステル基を、たとえば、実験化学講座、第４版、２０巻、Ｐ．１０などに記載されたように、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどを用いて対応するアルコールに還元し、含チオールカルボン酸とエステル化して合成する方法も挙げられる。
【０１６２】
エステル交換は、例えば、実験化学講座、第４版、２８巻、Ｐ．２１７などに記載されたように、過剰量の含チオールアルコールと、有機金属化合物（チタン、スズ、亜鉛等の有機金属化合物）を用いて加熱することで行う。
【０１６３】
含チオールアルコールは、アリールアミン化合物のエステル基に対し１当量以上、好ましくは１．２当量以上、より好ましくは１．５当量以上加えることがよい。
無機酸（例えば硫酸、リン酸等）、酢酸塩（例えばチタンアルコキシド、カルシウム、コバルトなど酢酸塩）、炭酸塩（例えばチタンアルコキシド、カルシウム、コバルトなど炭酸塩）、酸化物（例えば亜鉛や鉛の酸化物）を触媒として加えてもよい。
触媒は、アリールアミン化合物の１質量部に対して、例えば。１／１００００質量部以上１質量部以下、好ましくは１／１０００質量部以上１／２質量部以下で用いることがよい。
反応は、例えば、反応温度１００℃以上３００℃以下で行い、好ましくは脱離するアルコールの沸点以上で行うことがよい。
【０１６４】
アリールアミン化合物のエステル基としては、エステル交換反応を促進するため、メタノール、エタノールなどの低沸点アルコールとのエステルがよい。反応は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で行うことがよく、また、ｐ−シメン、１ークロロナフタレンなどの高沸点溶剤を用いて反応させてもよい。
【０１６５】
アリールアミン化合物カルボン酸は、アリールアミン化合物のエステル基を、例えば、実験化学講座、第４版、２０巻、Ｐ．５１などに記載されたように、塩基性触媒（ＮａＯＨ、Ｋ２ＣＯ３等）、酸性触媒（例えばリン酸、硫酸等）を用いる加水分解により得られる。
この際、溶剤としては、種々のものが挙げられるが、メタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコール系を用いるか、これに水を混合して用いることがよい。
さらに、アリールアミン化合物の溶解性が低い場合には、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフランなどを加えてもよい。
溶剤の量は、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物１質量部に対して１質量部以上１００質量部以下、好ましくは２質量部以上５０質量部以下で用いることがよい。
反応温度は、例えば、室温（例えば２５℃）以上溶剤の沸点以下の範囲で設定され、反応速度の問題上、５０度以上が望ましい。
触媒の量については、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有する電荷電荷輸送化合物１質量部に対して０．００１質量部以上１質量部以下、好ましくは０．０１質量部以上０．５質量部以下で用いることがよい。
加水分解反応後、塩基性触媒で加水分解を行った場合には、生成した塩を酸（例えば塩酸等）で中和し、遊離させる。さらに、十分に水洗した後、乾燥して使用するか、必要によっては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトンなど、適当な溶剤により、再結晶精製を行った後、乾燥して使用してもよい。
【０１６６】
アリールアミン化合物カルボン酸に対し、例えば、含チオールアルコールを１当量以上、好ましくは、１．２当量以上、より好ましくは１．５当量以上加えることがよい。
無機酸（例えば硫酸、リン酸等）、有機酸（例えばｐ−トルエンスルホン酸等）を触媒として加えてもよい。
触媒は、アリールアミン化合物の１重量部に対して、例えば、１／１００００質量部以上１質量部以下、好ましくは１／１０００質量部以上１／２質量部以下で用いることがよい。
溶媒は、例えば、重合中に生成する水を除去するために、水と共沸可能な溶剤を用いることがよい。溶媒としては、例えば。トルエン、クロロベンゼン、１ークロロナフタレンなどが有効である。
溶媒の量は、アリールアミン化合物カルボン酸の１質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下、好ましくは２質量部以上５０質量部以下の範囲で用いることがよい。
反応温度は任意に設定できるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることがよい。
反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
【０１６７】
また、含チオール炭化水素の塩素化物、臭素化物、又はヨウ素化物等でエステル化して合成する方法の場合、ハロゲン基（Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等）を有する含チオール炭化水素を、アリールアミン化合物カルボン酸の酸基に対し、例えば１等量以上５等量以下、好ましくは１．１等量以上３等量以下と、塩基（例えばピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、ＤＢＵ、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）と、を有機溶剤（Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤；、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤；等）中で反応させ合成する。
塩基は、アリールアミン化合物カルボン酸に対し、１等量以上３等量以下、好ましくは１等量以上２等量以下で用いることがよい。
使用する非プロトン性の有機溶媒は、カルボン酸誘導体に対し、例えば１質量部以上５０質量部以下、好ましくは１．５質量部以上３０質量部以下で用いることがよい。
反応温度は、例えば、０℃以上溶剤の沸点以下の間で設定され、０℃以上１５０℃以下がよい。
反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
【０１６８】
−電荷輸送膜の形成方法（エンチオール樹脂の形成方法）−
本実施形態に係る電荷輸送膜は、特に制限されないが、上述したエンチオール樹脂を形成するための原料を溶媒よって溶液化した塗布液を、被塗布物（例えば基板、金型等）に、周知の塗布方法（例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等）により塗布し、その後、電子線照射、光照射、熱によって、原料を重合し、エンチオール樹脂を形成することにより得られる。
このとき、必要に応じて、上記塗布液には、公知の添加剤を混合、添加してもよい。この添加剤としては、例えば、硬化剤（例えばエポキシ化合物、イソシアネート化合物等）や、バインダー樹脂（例えばポリカーボネート樹脂、エステル樹脂、スチレン樹脂等）、その他、カップリング剤、ハードコート剤、含フッ素化合物、酸化防止剤、シリコーンオイル、無機フィラーが挙げられる。
【０１６９】
ここで、本実施形態に係る電荷輸送膜（それを構成するエンチオール樹脂）を形成するための、原料の重合方法について具体的に説明する。
本実施形態に係る電荷輸送膜（それを構成するエンチオール樹脂）を形成するための原料の重合方法は、電子線照射、光照射、熱による各処理が挙げられる。
【０１７０】
電子線照射処理を行う場合、その際の加速電圧は、例えば３００ＫＶ以下が好ましく、最適には１５０ＫＶ以下である。また、線量は好ましくは１Ｍｒａｄ以上１０Ｍｒａｄ以下の範囲、より好ましくは３Ｍｒａｄ以上５０Ｍｒａｄ以下の範囲である。加速電圧が３００ＫＶを超えると電荷輸送膜の電荷輸送性に対する電子線照射の損傷が増加する傾向にある。また、線量が１Ｍｒａｄよりも少ない場合には架橋が不十分となり易く、１００Ｍｒａｄを超えると電荷輸送膜の劣化が起こり易い傾向となる。
【０１７１】
電子線照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が１０００ｐｐｍ、好ましくは、５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、あるいは、照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。
【０１７２】
また、光照射処理を行う場合、光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて照射する光の好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は特に制限されないが、例えば照度（３６５ｎｍ）は３００ｍＷ／ｃｍ２以上１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、例えば６００ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ光を照射する場合、５秒以上３６０秒以下程度照射すればよい。
【０１７３】
光照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下、好ましくは、５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、又は照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。
【０１７４】
この際、より重合を進めて、より機械的強度の高い電荷輸送膜を得る目的で、光重合触媒を用いてもよい。光重合触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、好ましくは上記原料の総量に対して０．０１質量％以上１０質量％以下、さらに好ましくは０．０３質量％以上８質量％以下、最も好ましくは０．０５質量％以上５質量％以下の範囲である。
【０１７５】
ここで、光重合触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンが挙げられる。
また、アルキルフェノン系としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、アセトフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルフォニルオキシ）アセトフェノンが挙げられる。
アミノアルキルフェノン系としては、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モリホニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。
ホスフィノキサイド系としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。
チタノセン系としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。
オキシム系としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などが挙げられる。
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。より具体的には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系としては、２−ベンゾイル安息香酸、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
チオキサントン系としては、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
ベンジル系としては、ベンジル、（±）−カンファーキノン、ｐ−アニシルなどが挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【０１７６】
また、熱処理（加熱処理）を行う場合、製造の効率、副反応の制御、組成物の劣化抑制の観点から、望ましい反応温度としては３０℃以上１８０℃以下であり、さらに望ましい８０℃以上１７０℃以下であり、最も好ましくは１００℃以上１６０℃以下である。
また、反応時間としては、反応温度によって選択されるが、好ましくは５分以上１０００分以下であり、より好ましくは１５分以上５００分以下であり、最も好ましくは３０分以上１２０分以下である。
なお、熱処理は、真空又は不活性ガス雰囲気下（例えば酸素濃度が１ｐｐｍ以上５％以下であり、さらに好ましくは５ｐｐｍ以上３％以下であり、最も好ましくは１０ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下の雰囲気下）で行うことがよい。
【０１７７】
この際、より重合を進めて、より機械的強度の高い膜を得る目的で、熱重合触媒を用いることができる。該使用量は、特に限定されるものではないが、好ましくは上記原料の総量に対して０．０１質量％以上１０質量％以下、さらに好ましくは０．０３質量％以上８質量％以下、最も好ましくは０．０３質量％以上５質量％以下の範囲である。
【０１７８】
ここで、熱重合開始剤としては、例えば、Ｖ−３０（１０時間半減期温度：１０４℃）、Ｖ−４０（同：８８℃）、Ｖ−５９（同：６７℃）、Ｖ−６０１（同：６６℃）、Ｖ−６５（同：５１℃）、Ｖ−７０（同：３０℃）、ＶＦ−０９６（同：９６℃）、Ｖａｍ−１１０（同：１１１℃）、Ｖａｍ−１１１（同：１１１℃）（以上、和光純薬工業（株）製）、ＯＴａｚｏ−１５（同：６１℃）、ＯＴａｚｏ−３０、ＡＩＢＭ（同：６５℃）、ＡＭＢＮ（同：６７℃）、ＡＤＶＮ（同：５２℃）、ＡＣＶＡ（同：６８℃）（以上、大塚化学（株）製）等のアゾ系開始剤；、パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ，パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイル ＩＢ、パーロイル ３５５、パーロイル Ｌ、パーロイル ＳＡ、ナイパー ＢＷ、ナイパー ＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイル ＩＰＰ、パーロイル ＮＰＰ、パーロイル ＴＣＰ、パーロイル ＯＰＰ、パーロイル ＳＢＰ、パークミル ＮＤ、パーオクタ ＮＤ、パーヘキシル ＮＤ、パーブチル ＮＤ、パーブチル ＮＨＰ、パーヘキシル ＰＶ、パーブチル ＰＶ、パーヘキサ ２５０、パーオクタ Ｏ、パーヘキシル Ｏ、パーブチル Ｏ、パーブチル Ｌ、パーブチル ３５５、パーヘキシル Ｉ、パーブチル Ｉ、パーブチル Ｅ、パーヘキサ ２５Ｚ、パーブチル Ａ、パーへヘキシル Ｚ、パーブチル ＺＴ、パーブチル Ｚ（以上、日油化学（株）製）、カヤケタール ＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス ３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックス Ｌ−Ｗ７５、パーカドックス ＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックス ＴＭＢＨ、カヤクメン Ｈ、カヤブチル Ｈ−７０、ペルカドックス ＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサ ＡＤ、パーカドックス １４、カヤブチル Ｃ、カヤブチル Ｄ、カヤヘキサ ＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス １２−ＸＬ２５、パーカドックス １２−ＥＢ２０、トリゴノックス ２２−Ｎ７０、トリゴノックス ２２−７０Ｅ、トリゴノックス Ｄ−Ｔ５０、トリゴノックス ４２３−Ｃ７０、カヤエステル ＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステル ＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス ２３−Ｃ７０、トリゴノックス ２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス ２５７−Ｃ７０、カヤエステル Ｐ−７０、カヤエステル ＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス １２１、カヤエステル Ｏ、カヤエステル ＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステル ＡＮ、トリゴノックス ４２、トリゴノックス Ｆ−Ｃ５０、カヤブチル Ｂ、カヤカルボン ＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボン ＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボン Ｉ−２０、カヤカルボン ＢＩＣ−７５、トリゴノックス １１７、カヤレン ６−７０（以上、化薬アクゾ（株）製）、ルペロックスＬＰ（同：６４℃）、ルペロックス６１０（同：３７℃）、ルペロックス１８８（同：３８℃）、ルペロックス８４４（同：４４℃）、ルペロックス２５９（同：４６℃）、ルペロックス１０（同：４８℃）、ルペロックス７０１（同：５３℃）、ルペロックス１１（同：５８℃）、ルペロックス２６（同：７７℃）、ルペロックス８０（同：８２℃）、ルペロックス７（同：１０２℃）、ルペロックス２７０（同：１０２℃）、ルペロックスＰ（同：１０４℃）、ルペロックス５４６（同：４６℃）、ルペロックス５５４（同：５５℃）、ルペロックス５７５（同：７５℃）、ルペロックスＴＡＮＰＯ（同：９６℃）、ルペロックス５５５（同：１００℃）、ルペロックス５７０（同：９６℃）、ルペロックスＴＡＰ（同：１００℃）、ルペロックスＴＢＩＣ（同：９９℃）、ルペロックスＴＢＥＣ（同：１００℃）、ルペロックスＪＷ（同：１００℃）、ルペロックスＴＡＩＣ（同：９６℃）、ルペロックスＴＡＥＣ（同：９９℃）、ルペロックスＤＣ（同：１１７℃）、ルペロックス１０１（同：１２０℃）、ルペロックスＦ（同：１１６℃）、ルペロックスＤＩ（同：１２９℃）、ルペロックス１３０（同：１３１℃）、ルペロックス２２０（同：１０７℃）、ルペロックス２３０（同：１０９℃）、ルペロックス２３３（同：１１４℃）、ルペロックス５３１（同：９３℃）（以上、アルケマ吉富（株）製）等が挙げられる。
熱重合開始剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
【０１７９】
なお、上記電子線照射、光照射、熱による各処理のうち、副反応等により電荷輸送骨格を劣化させず電荷輸送性に優れる電荷輸送膜を得る目的、さらにはより効率的に膜を得るといった観点から、好ましくは熱処理が好ましい。
【０１８０】
［有機電子デバイス］
本実施形態に係る有機電子デバイスは、上記本実施形態に係る電荷輸送膜を有するものである。上記本実施形態に係る電荷輸送膜は、上記特性を有することから、有機電子デバイスの電荷輸送膜として有用である。
【０１８１】
本実施形態に係る有機電子デバイスとしては、例えば、電子写真感光体、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパー等ディスプレイ材料、太陽電池用に用いられる有機デバイス、その他メモリー素子、波長変換素子等が挙げられる。
具体的には、例えば、有機エレクトロルミネッセンスの場合、一対の電極と発光層との間に介在させる電荷輸送層（正孔輸送層又は電子輸送層）に電荷輸送膜を適用する。
また、例えば、電子ペーパーの場合、例えば、一対の電極と表示層との間に介在させる電荷輸送層（正孔輸送層又は電子輸送層）に電荷輸送膜を適用する。
また、例えば、太陽電池の場合、例えば、一対の電極と光電変換層との間に介在させる電荷輸送層（正孔輸送層又は電子輸送層）に電荷輸送膜を適用する。
【０１８２】
以下、代表して、電子写真感光体（以下、本実施形態に係る電子写真感光体と称する）の詳細について説明する。
【０１８３】
本実施形態に係る電子写真感光体は、最表面層として上記本実施形態に係る電荷輸送膜を有する。
具体的には、本実施形態に係る電子写真感光体は、例えば、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、必要に応じて感光層上に設けられた保護層と、を有し、導電性基体上に設けられた層のうち、導電性基体から外側へ最も遠い位置に設けられる最表面層として、上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成された最表面層を持つ電子写真感光体である。
そして、最表面層は、特に保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けることがよい。
【０１８４】
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が上本実施形態に係る電荷輸送膜で構成される形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成される形態が挙げられる。
【０１８５】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。図２〜図４はそれぞれ他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【０１８６】
図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、及び電荷輸送層３が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成されている。
【０１８７】
図２に示す電子写真感光体７Ｂは、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６が形成された構造を有するものである。つまり、図２に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送性材料とを同一の層（単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層））に含有するものである。
【０１８８】
図３に示す電子写真感光体７Ｃは、図１に示す電子写真感光体７Ａに保護層５を設けたもの、つまり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【０１８９】
図４に示す電子写真感光体７Ｄは、図２に示す電子写真感光体７Ｂに保護層５を設けたもの、つまり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【０１９０】
そして、図１に示す電子写真感光体７Ａにおいては、電荷輸送層３が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成された構成となっている。
図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、単層型感光層６が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成された構成となっている。
図３〜図４に示す電子写真感光体７Ｃ〜７Ｄにおいては、保護層５が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成された構成となっている。
なお、図１〜図４に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
【０１９１】
以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。
【０１９２】
（導電性基体）
導電性基体としては、特に制限はなく、例えば、金属製の円筒状の基体が代表的なものとして挙げられるが、その他、例えば、導電性膜（例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の膜）を設けた樹脂フィルム、導電性付与剤を塗布若しくは含浸させた紙、又は導電性付与剤を塗布若しくは含浸させた樹脂フィルム等も挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体は、その導電部が例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を持つものがよい。
【０１９３】
導電性基体として金属製の筒状体を用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。
【０１９４】
（下引層）
下引層は、導電性基体の表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
【０１９５】
下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。
下引層に含まれる結着樹脂としては、例えば、公知の樹脂（例えばポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等）、導電性樹脂（例えば電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等）などが挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂がよく、具体的には、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などがよい。
なお、導電性樹脂は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を持つものがよい。
【０１９６】
下引層には、例えば、珪素化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。
【０１９７】
金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、目的とする電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。
【０１９８】
下引層には、例えば、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、例えば、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、例えば、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。
【０１９９】
ここで、下引層の構成として、例えば、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。
なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を有するものがよい。
【０２００】
導電性粒子としては、例えば、金属粒子（アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子）、導電性金属酸化物粒子（酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子）、導電性物質粒子（カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子）等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子がよい。導電性粒子は、２種以上混合して用いてもよい。
また、導電性粒子は、例えば、疎水化処理剤（例えばカップリング剤）等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂の質量に対して、１０質量％以上８０質量％以下の範囲、４０質量％以上８０質量％以下の範囲が挙げられる。
【０２０１】
下引層の形成の際には、例えば、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０２０２】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０２０３】
下引層の膜厚は、例えば、１５μｍ以上の範囲、２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【０２０４】
ここで、図示は省略するが、例えば、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物が挙げられ、その他に、例えば、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物なども挙げられる。これらの化合物は、単独に、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウム又はケイ素を含有する有機金属化合物を用いると、その他の結着樹脂を用いる場合に比べて、残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ない感光体が得られ易くなる。
【０２０５】
中間層の形成の際には、例えば、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。
中間層を形成する塗布方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０２０６】
なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、例えば、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。
したがって、中間層を形成する場合には、例えば、厚みを０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲にすることがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。
【０２０７】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。
電荷発生層を構成する電荷発生材料としては、例えば、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、例えば、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上を混合して用いてもよい。
【０２０８】
電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂（例えばビスフェノールＡタイプ、ビスフェノールＺタイプ等）、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比（電荷発生材料：結着樹脂）は、例えば、質量基準で１０：１乃至１：１０の範囲が挙げられる。
【０２０９】
電荷発生層の形成の際には、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。
【０２１０】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０２１１】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０２１２】
電荷発生層の膜厚は、例えば、０．０１μｍ以上５μｍ以下の範囲、０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【０２１３】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、本実施形態に係る電荷輸送膜が適用される。
なお、電荷輸送層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下の範囲、１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【０２１４】
以上、本実施形態に係る電子写真感光体として機能分離型の例を説明したが、図２に示す電子写真感光体の層構成の場合、その層構成において最表面に位置する単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）が該最表面層となり、この単層型感光層に上記本実施形態に係る電荷輸送膜が適用される。この場合、上記本実施形態に係る電荷輸送膜には、電荷発生材料が含まれ、その含有量は、全固形分質量に対して、例えば、１０質量％以上８５質量％以下の範囲、２０質量％以上５０質量％以下の範囲が挙げられる。単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下の範囲、１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【０２１５】
また、本実施形態では、上記本実施形態に係る電荷輸送膜からなる最表面層が電荷輸送層である形態を説明したが、図３及び図４に示す電子写真感光体の如く保護層を有する層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する保護層が該最表面層となり、この保護層に上記本実施形態に係る電荷輸送膜が適用される。保護層の膜厚は、例えば、１μｍ以上１５μｍ以下の範囲、３μｍ以上１０μｍ以下の範囲が挙げられる。
なお、保護層を有する場合の電荷輸送層、単層型感光層の構成は、周知の構成が採用される。
【０２１６】
［画像形成装置／プロセスカートリッジ］
図５は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１０１は、図５に示すように、例えば、矢印ａで示すように、時計回り方向に回転する電子写真感光体１０（上記本実施形態に係る電子写真感光体）と、電子写真感光体１０の上方に、電子写真感光体１０に相対して設けられ、電子写真感光体１０の表面を帯電する帯電装置２０（帯電手段の一例）と、帯電装置２０により帯電した電子写真感光体１０の表面に露光して、静電潜像を形成する露光装置３０（静電潜像形成手段の一例）と、トナーを含む現像剤を収容し、現像剤により、電子写真感光体１０に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像装置４０（現像手段の一例）と、電子写真感光体１０に接触しつつ矢印ｂで示す方向に走行するとともに、電子写真感光体１０の表面に形成されたトナー像を転写するベルト状の中間転写体５０と、電子写真感光体１０の表面をクリーニングするクリーニング装置７０（クリーニング手段の一例）とを備える。
【０２１７】
帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、中間転写体５０、潤滑剤供給装置６０及びクリーニング装置７０は、電子写真感光体１０を囲む円周上に、時計周り方向に配設されている。なお、本実施形態では、クリーニング装置７０内部に、潤滑剤供給装置６０が配置された形態を説明するが、これに限られるわけではなく、クリーニング装置７０とは別途、潤滑剤供給装置６０を配置した形態であってもよい。無論、潤滑剤供給装置６０を設けない形態であってもよい。
【０２１８】
中間転写体５０は、内側から、支持ロール５０Ａ、５０Ｂ、背面ロール５０Ｃ、及び駆動ロール５０Ｄによって張力を付与されつつ保持されるとともに、駆動ロール５０Ｄの回転に伴い矢印ｂの方向に駆動される。中間転写体５０の内側における電子写真感光体１０に相対する位置には、中間転写体５０をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて中間転写体５０の外側の面に電子写真感光体１０上のトナーを吸着させる一次転写装置５１が設けられている。中間転写体５０の下方における外側には、記録紙Ｐ（被転写体の一例）をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて、中間転写体５０に形成されたトナー像を記録紙Ｐ上に転写する二次転写装置５２が背面ロール５０Ｃに対向して設けられている。なお、これら、電子写真感光体１０に形成されたトナー像を記録紙Ｐへ転写するための部材が転写手段の一例に相当する。
【０２１９】
中間転写体５０の下方には、さらに、二次転写装置５２に記録紙Ｐを供給する記録紙供給装置５３と、二次転写装置５２においてトナー像が形成された記録紙Ｐを搬送しつつ、トナー像を定着させる定着装置８０とが設けられている。
【０２２０】
記録紙供給装置５３は、１対の搬送ロール５３Ａと、搬送ロール５３Ａで搬送される記録紙Ｐを二次転写装置５２に向かって誘導する誘導板５３Ｂと、を備える。一方、定着装置８０は、二次転写装置５２によってトナー像が転写された記録紙Ｐを加熱・押圧することにより、トナー像の定着を行う１対の熱ロールである定着ロール８１と、定着ロール８１に向かって記録紙Ｐを搬送する搬送回転体８２とを有する。
【０２２１】
記録紙Ｐは、記録紙供給装置５３と二次転写装置５２と定着装置８０とにより、矢印ｃで示す方向に搬送される。
【０２２２】
中間転写体５０には、さらに、二次転写装置５２において記録紙Ｐにトナー像を転写した後に中間転写体５０に残ったトナーを除去するクリーニングブレードを有する中間転写体クリーニング装置５４が設けられている。
【０２２３】
以下、本実施形態に係る画像形成装置１０１における主な構成部材の詳細について説明する。
【０２２４】
−帯電装置−
帯電装置２０としては、例えば、導電性の帯電ロール、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。また、帯電装置２０としては、例えば、非接触方式のロール帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も挙げられる。帯電装置２０としては、接触型帯電器がよい。
【０２２５】
−露光装置−
露光装置３０としては、例えば、電子写真感光体１０表面に、半導体レーザー光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体１０の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザー光の波長としては、例えば、７８０ｎｍ前後に発振波長を有する近赤外がよい。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザー光や青色レーザー光として４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザー光も利用してもよい。また、露光装置３０としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【０２２６】
−現像装置−
現像装置４０は、例えば、現像領域で電子写真感光体１０に対向して配置されており、例えば、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を収容する現像容器４１（現像装置本体）と、補給用現像剤収納容器（トナーカートリッジ）４７と、を有している。現像容器４１は、現像容器本体４１Ａとその上端を塞ぐ現像容器カバー４１Ｂとを有している。
【０２２７】
現像容器本体４１Ａは、例えば、その内側に、現像ロール４２を収容する現像ロール室４２Ａを有しており、現像ロール室４２Ａに隣接して、第１攪拌室４３Ａと第１攪拌室４３Ａに隣接する第２攪拌室４４Ａとを有している。また、現像ロール室４２Ａ内には、例えば、現像容器カバー４１Ｂが現像容器本体４１Ａに装着された時に現像ロール４２表面の現像剤の層厚を規制するための層厚規制部材４５が設けられている。
【０２２８】
第１攪拌室４３Ａと第２攪拌室４４Ａとの間は例えば仕切り壁４１Ｃにより仕切られており、図示しないが、第１攪拌室４３Ａ及び第２攪拌室４４Ａは仕切り壁４１Ｃの長手方向（現像装置長手方向）両端部に開口部が設けられて通じており、第１攪拌室４３Ａ及び第２攪拌室４４Ａによって循環攪拌室（４３Ａ＋４４Ａ）を構成している。
【０２２９】
そして、現像ロール室４２Ａには、電子写真感光体１０と対向するように現像ロール４２が配置されている。現像ロール４２は、図示しないが磁性を有する磁性ロール（固定磁石）の外側にスリーブを設けたものである。第１攪拌室４３Ａの現像剤は磁性ロールの磁力によって現像ロール４２の表面上に吸着されて、現像領域に搬送される。また、現像ロール４２はそのロール軸が現像容器本体４１Ａに回転自由に支持されている。ここで、現像ロール４２と電子写真感光体１０とは、逆方向に回転し、対向部において、現像ロール４２の表面上に吸着された現像剤は、電子写真感光体１０の進行方向と同方向から現像領域に搬送するようにしている。
【０２３０】
また、現像ロール４２のスリーブには、不図示のバイアス電源が接続され、現像バイアスが印加されるようになっている（本実施形態では、現像領域に交番電界が印加されるように、直流成分（ＡＣ）に交流成分（ＤＣ）を重畳したバイアスを印加）。
【０２３１】
第１攪拌室４３Ａ及び第２攪拌室４４Ａには現像剤を攪拌しながら搬送する第１攪拌部材４３（攪拌・搬送部材）及び第２攪拌部材４４（攪拌・搬送部材）が配置されている。第１攪拌部材４３は、現像ロール４２の軸方向に伸びる第１回転軸と、回転軸の外周に螺旋状に固定された攪拌搬送羽根（突起部）とで構成されている。また、第２攪拌部材４４も、同様に、第２回転軸及び攪拌搬送羽根（突起部）とで構成されている。なお、攪拌部材は現像容器本体４１Ａに回転自由に支持されている。そして、第１攪拌部材４３及び第２攪拌部材４４は、その回転によって、第１攪拌室４３Ａ及び第２攪拌室４４Ａの中の現像剤は互いに逆方向に搬送されるように配設されている。
【０２３２】
そして、第２攪拌室４４Ａの長手方向一端側には、補給用トナー及び補給用キャリアを含む補給用現像剤を第２攪拌室４４Ａへ供給するための補給搬送路４６の一端が連結されており、補給搬送路４６の他端には、補給用現像剤を収容している補給用現像剤収納容器４７が連結されている。
【０２３３】
このように現像装置４０は、補給用現像剤収納容器（トナーカートリッジ）４７から補給搬送路４６を経て補給用現像剤を現像装置４０（第２攪拌室４４Ａ）へ供給する。
【０２３４】
ここで、現像装置４０に使用される現像剤について説明する。
現像剤は、例えば、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤が採用される。
【０２３５】
−転写装置−
一次転写装置５１、及び二次転写装置５２としては、例えば、ベルト、ロール、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２３６】
中間転写体５０としては、導電剤を含んだポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外に円筒状のものが用いられる。
【０２３７】
−クリーニング装置−
クリーニング装置７０は、筐体７１と、筐体７１から突出するように配設されるクリーニングブレード７２と、クリーニングブレード７２の電子写真感光体１０回転方向下流側に配置される潤滑剤供給装置６０と、を含んで構成されている。
なお、クリーニングブレード７２は、筐体７１の端部で支持された形態であってもよし、別途、支持部材（ホルダー）により支持される形態であってもよいが、本実施形態では、筐体７１の端部で支持された形態を示している。
【０２３８】
まず、クリーニングブレード７２について説明する。
クリーニングブレード７２を構成する材料としては、ウレタンゴム、シリコンゴム、フッ素ゴム、プロロピレンゴム、ブタジエンゴム等が挙げられる。これらの中で、ウレタンゴムがよい。
ウレタンゴム（ポリウレタン）は、例えば、通常、ポリウレタンの形成に用いられるものであれば特に限定されない。例えば、ポリオール（例えばポリエチレンアジペート、ポリカプロラクトンなどのポリエステルポリオール等）とイソシアネート（例えばジフェニルメタンジイソシアネート等）とからなるウレタンプレポリマーが挙げられる。また、ウレタンゴム（ポリウレタン）は、例えば、１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコールやこれらの混合物などの架橋剤を原料とするものよい。
【０２３９】
次に、潤滑剤供給装置６０について説明する。
潤滑剤供給装置６０は、例えば、クリーニング装置７０の内部であって、クリーニングブレード７２よりも電子写真感光体１０の回転方向上流側に設けられている。
【０２４０】
潤滑剤供給装置６０としては、例えば、電子写真感光体１０と接触して配置される回転ブラシ６１と、回転ブラシ６１に接触して配置される固形状の潤滑剤６２と、で構成されている。潤滑剤供給装置６０では、固形状の潤滑剤６２と接触した状態で回転ブラシ６１を回転させることで、回転ブラシ６１に潤滑剤６２が付着すると共に、その付着した潤滑剤６２が電子写真感光体１０の表面に供給され、当該潤滑剤６２の皮膜が形成される。
【０２４１】
なお、潤滑剤供給装置６０は、上記形態に限られず、例えば、回転ブラシ６１に代わりにゴムロールを採用した形態であってもよい。
【０２４２】
次に、本実施形態に係る画像形成装置１０１の動作について説明する。まず、電子写真感光体１０が矢印ａで示される方向に沿って回転すると同時に、帯電装置２０により負に帯電する。
【０２４３】
帯電装置２０によって表面が負に帯電した電子写真感光体１０は、露光装置３０により露光され、表面に潜像が形成される。
【０２４４】
電子写真感光体１０における潜像の形成された部分が現像装置４０に近づくと、現像装置４０（現像ロール４２）により、潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。
【０２４５】
トナー像が形成された電子写真感光体１０が矢印ａに方向にさらに回転すると、トナー像は中間転写体５０の外側の面に転写する。
【０２４６】
トナー像が中間転写体５０に転写されたら、記録紙供給装置５３により、二次転写装置５２に記録紙Ｐが供給され、中間転写体５０に転写されたトナー像が二次転写装置５２により、記録紙Ｐ上に転写される。これにより、記録紙Ｐにトナー像が形成される。
【０２４７】
画像が形成された記録紙Ｐは、定着装置８０でトナー像が定着される。
【０２４８】
ここで、トナー像が中間転写体５０に転写された後、電子写真感光体１０は、転写後、潤滑剤供給装置６０により潤滑剤６２が電子写真感光体１０の表面へ供給されて、当該電子写真感光体１０の表面に潤滑剤６２の皮膜が形成される。その後、クリーニング装置７０のクリーニングブレード７２により、表面に残ったトナーや放電生成物が除去される。そして、クリーニング装置７０において、転写残のトナーや放電生成物が除去された電子写真感光体１０は、帯電装置２０により、再び帯電せられ、露光装置３０において露光されて潜像が形成される。
【０２４９】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、例えば、図６に示すように、筐体１１内に、電子写真感光体１０、帯電装置２０、現像装置４０、潤滑剤供給装置６０、及びクリーニング装置７０を一体に収容させたプロセスカートリッジ１０１Ａを備えた形態であってもよい。このプロセスカートリッジ１０１Ａは、複数の部材を一体的に収容し、画像形成装置１０１に脱着させるものである。なお、図６に示す画像形成装置１０１では、現像装置４０には、補給用現像剤収納容器４７を設けない形態が示されている。
プロセスカートリッジ１０１Ａの構成は、これに限られず、例えば、少なくとも、電子写真感光体１０を備えていればよく、その他、例えば、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、一次転写装置５１、潤滑剤供給装置６０及びクリーング装置７０から選択される少なくとも一つを備えていてもよい。
【０２５０】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体１０の周囲であって、一次転写装置５１よりも電子写真感光体１０の回転方向下流側でクリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置２０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体１０の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０２５１】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体１０に形成したトナー像を直接、記録紙Ｐに転写する方式を採用してもよいし、タンデム方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例】
【０２５２】
以下、実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２５３】
［実施例１］
（電荷輸送性の評価用および摩擦磨耗試験の評価用サンプルの作製）
−下引き層の作製−
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ2/ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１.３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤 （ブロック化イソシアネート スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製) ：１３.５質量部とブチラール樹脂 （エスレックＢＭ−１ 、積水化学社製) １５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン ：２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０.００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて板状のアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μｍの下引層を得た。
【０２５４】
−電荷発生層の作製−
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２５５】
−電荷輸送層の作製−
炭素二重結合を持つ反応性官能基を有し、かつ電荷輸送性骨格を有する化合物である（ｉｉ−１８）で表される化合物［（ａ−１）］０．８０１ｇ、及びオール基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物であるカレンズＭＴ ＰＥ１（ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトブチレート）、昭和電工（株）製）［（ｂ−１）］０．３８１ｇをＴＨＦ（テトラヒドロフラン：安定剤不含有、和光純薬工業（株）製）／トルエン（脱水、和光純薬工業（株）製）＝５０質量部／５０質量部の混合溶媒１．４１０ｇに溶解させた。その後、重合開始剤であるＶＥ−７０（和光純薬工業（株）製）を（ａ−１）および（ｂ−１）の化合物の合計量の２質量％に相当する０．０２４ｇを加えて溶解させた。これを電荷輸送層形成用塗布液（電荷輸送性組成物）とした。
そして、電荷発生層上に、ギャップ０．１５ｍｍでブレード法によって塗布し、その後、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０±５℃、時間６０分で加熱処理して、電荷輸送膜を形成し、これを電荷輸送層とした。このとき電荷輸送層の膜厚は３２μｍであった。
【０２５６】
以上の操作を経て、電荷輸送性の評価用および摩擦磨耗試験の評価用サンプルの作製した。
【０２５７】
（折れ曲げ試験の評価用サンプルの作製）
上記電荷輸送層形成用塗布液を、ガラス基板上にギャップ０．３０ｍｍでブレード法によって塗布し、同様に加熱処理して得られた電荷輸送膜を形成した。このとき電荷輸送膜の膜厚は６９μｍであった。
以上の操作を経て、折れ曲げ試験の評価用サンプルを作製した。
【０２５８】
（電子写真感光体の作製）
電荷輸送性の評価用および摩擦磨耗試験の評価用サンプルと同様して、板状のアルミニウム基材上に、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層を形成し、この各層が形成されたアルミニウム基材を電荷輸送層が外側を向くようにして、円筒状のアルミニウム基材に巻き付けて接着した。
以上の操作を経て、電子写真感光体を作製した。
【０２５９】
［実施例２〜２７、比較例１〜１１］
表１〜表３に従って、電荷輸送層形成用塗布液（電荷輸送性組成物）の組成を変更し、この電荷輸送層形成用塗布液（電荷輸送性組成物）を用いた以外は、実施例１と同様にして、各評価用サンプル、及び電子写真感光体を作製した。
【０２６０】
［評価］
各例で作製した各評価用サンプル、及び電子写真感光体について、以下の評価を行った。結果を表４〜表６に示す。
【０２６１】
−電荷輸送層（電荷輸送膜）の硫黄原子含有率の測定−
作製した電子写真感光体より、電荷輸送層（電荷輸送膜）をカッターナイフにより削りだし、サンプルを採取し、蛍光Ｘ線による元素分析法によって硫黄原子の含有率を測定した。
【０２６２】
−電荷輸送層（電荷輸送膜）を構成する樹脂が架橋樹脂である否かの確認−
作製した電子写真感光体の電荷輸送層（電荷輸送膜）を、テトラヒドロフランを含浸させた綿棒を用いて表面を最低１０回、ストロークで約１ｃｍ擦り、膜が溶解し、綿棒で擦った跡が目視で観察された場合は架橋樹脂ではない、擦った跡が観測されなかった場合は架橋樹脂であるとした。
【０２６３】
−電荷輸送性の評価−
作製した電荷輸送性の評価用サンプルに対して、２０ｍｍφの小面積マスクを使用し、２５±３℃、５０±１０％ＲＨの環境下において、静電気帯電試験装置（ＥＰＡ８２００、川口電機製作所社製）を用いて光減衰率を測定した。条件を以下に示す。
・初期表面電位＝−５５０．０（Ｖ）
・帯電直後から露光までの暗減衰時間＝１．０ｓ、そのときの表面電位をＶ１（Ｖ）とし、露光後、０．２ｓ後の表面電位をＶ２（Ｖ）とし、光減衰率＝（Ｖ１−Ｖ２）／Ｖ１×１００（％）とした。
・露光後、１．０ｓ後の残留表面電位をＶ３（Ｖ）とした。
上記評価において、光減衰率が大きく、残留電位が０に近いことは、光電変換速度に優れ、かつ電気的トラップが少ないことを表し、電荷輸送機能に優れる膜であることを表す。
【０２６４】
−摩擦磨耗試験の評価−
作製した摩擦磨耗試験の評価用サンプルに対して、トライボギア荷重変動型摩擦摩耗試験機ＨＨＳ−２０００（新東科学社製）を用いて、摩擦磨耗試験を実施し、１往復目、１００往復目の摩擦力（ｇｆ）を測定し、摩擦力（ｇｆ）（１００往復目）―摩擦力（ｇｆ）（１往復目）の値によって評価した。該数値は、周期的な運動に対して摩擦力の変化を表す指標である。さらに、１００往復後の磨耗深さを走査型共焦点レーザー顕微鏡ＯＬＳ１１００ＯＬＳ（オリンパス社製）にて測定した。
条件を以下に示す。
・２５±３℃、５０±１０％ＲＨ
・ダイヤモンド製針Ｒ＝０．２ｍｍ
・荷重２０ｇ
・往復速度１５ｍｍ／ｓｅｃ．
・往復回数１００回
上記評価において、磨耗力の変動が小さく、磨耗深さが小さいことは、機械的強度が高く、摩擦磨耗特性として長期的に安定して膜を摺動部位に用いることができることを表す。
【０２６５】
−折れ曲げ試験の評価−
作製した折れ曲げ試験の評価用サンプルの電荷輸送層（電荷輸送膜）に対して、カッターナイフを用いて、縦×横＝２５±１ｍｍ×１０±１ｍｍの短冊試験片を切り出し、折れ曲げ試験の評価を以下の基準により実施した。
◎：短冊試験片を切り出すことができ、より曲げることができ、さらに膜に靭性があった。
○：短冊試験片を切り出すことができ、より曲げることができた。
△：短冊試験片を切り出すことができ、ある程度曲げると膜が割れた。
×：短冊試験片を切り出すことができず、膜が割れた。
上記評価において、短冊試験片をより曲げることができることは、膜に可とう性があることを表し、靭性があることは、膜に対して外力がかかった場合にその耐性に優れることを表し、また屈曲した状態での膜の利用において有利であることを示す。
【０２６６】
−画像評価−
作製した電子写真感光体をプロセスカートリッジに取り付け、本プロセスカートリッジを富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃｏｌｏｒ ４５０改造機に装着し、２０±３℃、４０±５％ＲＨの環境下において、Ａ４紙に、１００％ベタ塗りおよび画像濃度２０％ハーフトーン画像の印刷画像を１０枚印刷し、初期画像評価を実施した。
その後、２８±３℃、８５±５％ＲＨの環境下で連続して５０００枚印刷し、さらに１０±３℃、１５±５％ＲＨの環境下で連続して５０００枚印刷し、その後、２０±３℃、４０±５％ＲＨの環境下で１０枚印刷して経時後画像評価を実施した。
そして、初期画像評価は、１０枚目の印刷画像の画像濃度２０％ハーフトーン画像部分を用いて、光学顕微鏡（倍率１００倍）用いて任意の１ｍｍ角（以下観察部位）、５箇所を観察し、以下の基準で評価した。
同様に、経時後画像評価も１００００枚印刷後、１０枚目の印刷画像を用いて、初期画像評価と同様にして評価した。
なお、画像評価には、富士ゼロックスオフィスサプライ製Ｐ紙（Ａ４サイズ、短手方向送り）を用いた。
Ａ：観察部位全体において、網点が観察され、画像流れが発生していない。
Ｂ：観察部位一部において、網点が現像されていない、又は画像流れが発生した。
Ｃ：観察部位の半分以上の領域において、網点が現像されていない、又は画像流れが発生した。
【０２６７】
【表１】
【０２６８】
【表２】
【０２６９】
【表３】
【０２７０】
【表４】
【０２７１】
【表５】
【０２７２】
【表６】
【０２７３】
上記評価の結果から、本実施例は、比較例に比べ、電荷輸送性の評価、摩擦磨耗試験評価、折れ曲げ試験評価、画像評価につき、良好な結果が得られたことがわかる。
【０２７４】
以下、表中に示す各材料の詳細について示す。なお、表中の「一分子当たりの官能基数」は、使用する化合物における、炭素二重結合を有する反応性官能基、又はチオール基の数を意味している。
［炭素二重結合を有する反応性官能基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物」
・（ａ−１）：（ｉｉ−１８）で示される化合物
・（ａ−２）：（ｉｉ−１９）で示される化合物
・（ａ−３）：（ｉｖ−１６）で示される化合物
・（ａ−４）：（ｉｖ−２８）で示される化合物
・（ａ−５）：（ｉｖ−５５）で示される化合物
［チオール基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物］
・（ｂ−１）：カレンズＭＴ ＰＥ１（ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトブチレート）、昭和電工（株）製、第２級チオール基を４つ含有する化合物）
・（ｂ−２）：ＰＥＭＰ（ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ＳＣ有機化学（株）製、第１級チオール基を４つ含有する化合物）
・（ｂ−３）：カレンズＭＴ ＮＲ１（１，３，５−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−トリオン）、昭和電工（株）製、第２級チオール基を３つ含有する化合物）
・（ｂ−４）カレンズＭＴ ＢＤ１（１、４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、昭和電工（株）製、第２級チオール基を２つ含有する化合物）
・（ｂ−５）１−ドデカンチオール（和光純薬工業（株）製、第１級チオール基を１つ含有する化合物）
［炭素二重結合を持つ反応性官能基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物］
・（ｃ−１）：ＡＢＥ−３００（エトキシ化ビスフェノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製）
［チオール基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物］
・（ｄ−１）：（ＡＡ−６）で示される化合物
・（ｄ−２）：（ＡＡ−２２）で示される化合物
【符号の説明】
【０２７５】
１ 下引層。２ 電荷発生層、３ 電荷輸送層、４ 導電性基体、５ 保護層、６ 単層型感光層、７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、７ 電子写真感光体、１０ 電子写真感光体、２０ 帯電装置、３０ 露光装置、４０ 現像装置、４１ 現像容器、４１Ａ 現像容器本体、４１Ｂ 現像容器カバー、４１Ｃ 仕切り壁、４２ 現像ロール、４２Ａ 現像ロール室、４３ 攪拌部材、４３Ａ 攪拌室、４４ 攪拌部材、４４Ａ 攪拌室、４５ 層厚規制部材、４６ 補給搬送路、４７ 補給用現像剤収納容器、５０ 中間転写体、５０Ａ 支持ロール、５０Ｂ 支持ロール、５０Ｃ 背面ロール、５０Ｄ 駆動ロール、５１ 一次転写装置、５２ 二次転写装置、５３ 記録紙供給装置、５３Ａ 搬送ロール、５３Ｂ 誘導板、５４ 中間転写体クリーニング装置、７０ クリーニング装置、７１ 筐体、７２ クリーニングブレード、８０ 定着装置、８１ 定着ロール、８２ 搬送回転体、１０１ 画像形成装置、１０１Ａ プロセスカートリッジ、
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電荷輸送膜、有機電子デバイス、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真感光体、有機ＥＬデバイス（有機エレクトロルミネッセンスデバイス）、有機トランジスタ、有機太陽電池など電子デバイスに用いられる、有機化合物を用いた電荷輸送膜が盛んに開発されている。
【０００３】
例えば、熱、あるいは光硬化した膜を用いた有機ＥＬデバイスが提案されている（例えば特許文献１参照）。
また、電荷輸送性基を含有するアクリルポリマーを用いた電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献２から４参照）。
また、電荷輸送性基と反応性基を含有するアクリルポリマーを膜形成後に架橋した電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献５参照）。
光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜が提案されている（例えば特許文献６参照）。
また、炭素−炭素二重結合を有するモノマー、炭素−炭素二重結合を有する電荷移動材及びバインダー樹脂の混合物を熱、あるいは光のエネルギーによって前記モノマーの炭素−炭素二重結合と電荷移動材の炭素−炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が提案され、特に、単官能メタクリル変性した電荷移動材と、電荷輸送性を有さないメタクリルモノマーと、ポリカーボネート樹脂とに有機過酸化物を用いて硬化したものが提案されている（例えば特許文献７参照）。
また、同一分子内に二つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物を重合した化合物からなる膜が提案されている（例えば特許文献８参照）。
【０００４】
ところで、硫黄を含有した電荷輸送膜、またはこれを利用した光電変換デバイスとしては、チオール基を有する正孔輸送性化合物をシロキサンマトリックス中にドーピングし、硬化した膜を用いた電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献９参照）。
また、チオール基を有する正孔輸送性化合物をオキセタンマトリックス中にドーピングし、硬化した膜を用いた電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献１０参照）。
また、電荷輸送性構造を有する化合物と電荷輸送性構造を有しないラジカル重合性モノマーとチオール基を含有する連鎖移動剤からなり、光エネルギー照射手段によって架橋膜を有する電子写真感光体が提案されている（例えば特許文献１１参照）。
【０００５】
なお、エンチオール樹脂とは、近年、接着剤、コーティング剤、光学系材料における封止剤などで開発が行なわれており（特許文献１２〜１３参照）、ポリエン−ポリチオール系重合体などとも呼ばれることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ＷＯ０９７３３１９３Ａ２
【特許文献２】特開平５−２０２１３５号公報
【特許文献３】特開平６−２５６４２８号公報
【特許文献４】特開平９−１２６３０号公報
【特許文献５】特開２００５−２２９１号公報
【特許文献６】特開平５−４０３６０号公報
【特許文献７】特開平５−２１６２４９号公報
【特許文献８】特開２０００−２０６７１５号公報
【特許文献９】特開２０００−３１０８７０号公報
【特許文献１０】特開２００６−１８４８０３号公報
【特許文献１１】特開２００７−３２２４８３号公報
【特許文献１２】特開２００３−２７７５０５号公報
【特許文献１３】特開２００９−１０４０８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下である電荷輸送膜。
【０００９】
請求項２に係る発明は、
前記エンチオール樹脂の架橋物を含んで構成された硬化膜である電荷輸送膜。
【００１０】
請求項３に係る発明は、
前記エンチオール樹脂の電荷輸送性骨格が、下記一般式（ＡＡＡ）で表される電荷輸送性骨格である請求項１に記載の電子写真感光体。
【００１１】
【化１】
【００１２】
（一般式（ＡＡＡ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、
Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、
Ｄ１は、それぞれ独立に、エンチオール樹脂を構成する電荷輸送性骨格以外の部位と連結する連結基であって、「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−Ｓ−＊、又は「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｚ）ａ２−Ｙ’−ＣＨ（Ｒ）−ＣＨ２−＊を表し（但し、「Ａｒ」はＡｒ１〜Ａｒ５のうちＤ１が連結するものを表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−を表し、Ｙは−ＳＨが置換基として置換されていてもよい炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｚは−ＣＯ−、−Ｏ−、またはフェニレン基を表し、Ｒは水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、ａ１又はａ２はそれぞれ独立に０又は１を表す。なお、＊は電荷輸送性骨格以外の部位との連結部を表す。）、
ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、
ｋは０又は１を表し、Ｄ１の総数は２以上である。）
【００１３】
請求項４に係る発明は、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電荷輸送膜を有する有機電子デバイス。
【００１４】
請求項５に係る発明は、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電荷輸送膜を最表面層として有する電子写真感光体。
【００１５】
請求項６に係る発明は、
請求項５に記載の電子写真感光体を少なくとも備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
【００１６】
請求項７に係る発明は、
請求項５に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収容し、前記現像剤により、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が上記範囲でない場合に比べ、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜を提供できる。
請求項２に係る発明によれば、機械的強度に優れた硬化膜であっても、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜を提供できる。
請求項３に係る発明によれば、エンチオール樹脂の電荷輸送性骨格が上記一般式（ＡＡ）で表される電荷輸送性骨格でない場合に比べ、電荷輸送性と共に機械的特性に優れた電荷輸送膜を提供できる。
【００１８】
請求項４に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が上記範囲である電荷輸送膜を適用しない場合に比べ、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜を有する有機電子デバイスを提供できる。
【００１９】
請求項５に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が上記範囲である電荷輸送膜を最表面層として適用しない場合に比べ、可とう性及び靭性に優れた最表面層を有する電子写真感光体を提供できる。
【００２０】
請求項６、７に係る発明によれば、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が上記範囲である電荷輸送膜を最表面層として有する電子写真感光体を適用しない場合に比べ、繰り返し使用による画像欠陥の発生が抑制されるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図３】他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図４】他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図５】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図６】他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
［電荷輸送膜］
本実施形態に係る電荷輸送膜は、電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下である電荷輸送膜である。
ここで、硫黄原子の含有率が上記範囲であることは、硫黄原子がエンチオール樹脂を構成する分子内に含まれていることを意味している。つまり、開始剤等の添加剤に由来する硫黄原子（添加剤に含まれる硫黄原子）のみでは、硫黄原子の含有率は上記範囲とはならないことを意味している。
【００２３】
本実施形態に係る電荷輸送膜は、上記構成とすることで、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜となる。
この理由は、定かではないが、以下の理由によるものと考えられる。
まず、電荷輸送膜として機能するために電荷輸送性を付与するためには、電荷輸送性骨格が膜中において規則的な分子配向をなし、分子内および分子間に共役系が広がっていることが必要と考えられる。電荷を輸送する経路（パス）が確保されると考えられるからである。
しかしながら、例えば、樹脂に電荷輸送機能を有する化合物を分散させるなどの方法により形成した電荷輸送膜おいては、溶媒を用いることで、両者の均一分散が実現されるが、製膜するときに溶媒の除去に伴い、樹脂と電荷輸送機能を有する化合物との互いの相溶性が悪化し、結果として樹脂中の電荷輸送速度が低下することが知られている。
この原因は明らかではないが、原因の一つとして、電荷輸送性骨格の希釈によるもの以外に、電荷輸送骨格と樹脂が互いに分散状態を保つことが困難となり、電荷輸送性を発揮しきれないことが挙げられる、
【００２４】
これに対して、本実施形態の如く、電荷輸送性骨格をエンチオール樹脂の重合体骨格に取り入れると、その相溶性の悪化を抑制し、さらにエンチオール樹脂特有の構造である炭素―硫黄結合という比較的柔軟な構造によって電荷輸送性骨格が結合されているため、製膜後も電荷輸送性骨格の規則的な分子配向、電荷輸送性骨格の分散化が達せられると考えられる。
そして、電荷輸送性骨格を重合体骨格に取り入れたエンチオール樹脂は、炭素―硫黄結合という比較的柔軟な構造を有すると共に、電荷輸送性骨格の規則的な分子配向、電荷輸送性骨格の分散化が達せられるが故に、当該エンチオール樹脂を含んで構成される電荷輸送膜に対して外力が加わっても、その応力集中が緩和されるものと考えられる。
そして、電荷輸送膜中に硫黄原子が上記含有率の上記範囲で存在することで、これら作用が発揮されるものと考えられる。
【００２５】
以上から、本実施形態に係る電荷輸送膜は、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜となると考えられる。その結果、耐曲げ性、耐折れ性、伸び特性が付与されるものと考えられる。
一方、この可とう性及び靭性の特性は、膜の機械的特性を向上させる目的で、エンチオール樹脂を架橋樹脂としても、炭素―硫黄結合という比較的柔軟な構造を有すると共に、電荷輸送性骨格の規則的な分子配向、電荷輸送性骨格の分散化が達せられるが故に、維持されると考えられる。このため、エンチオール樹脂の架橋物を含んで構成され、機械的強度に優れた硬化膜であっても、可とう性及び靭性に優れた電荷輸送膜となると考えられる。その結果、高い表面硬度、耐摩耗性、耐傷付き性が付与されるものと考えられる。
【００２６】
また、本実施形態に係る電荷輸送膜は、電荷輸送性に優れた電荷輸送膜でもある。
これは、上述のように、電荷輸送性骨格の規則的な分子配向、電荷輸送性骨格の分散化が達せられる上、電荷輸送膜中に硫黄原子が上記含粒率の上記範囲で存在すると、電荷輸送性骨格同士の間と共に、電荷輸送性骨格と硫黄との間でも電子的な共役系が見かけ上広がると考えられるためである。
なお、電荷輸送性骨格を有するエンチオール樹脂は、例えば、炭素二重結合を持つ反応性官能基とチオール基の反応によって得られる場合、該反応が速やか、かつ選択的に起こり易いと考えられる。そのため、電荷輸送性骨格の劣化を引きおこす副反応が起き難いことが予想され、電荷輸送性骨格を有するエンチオール樹脂は、電荷輸送機能の劣化が抑えられると考えられる。
【００２７】
ここで、本実施形態に係る電荷輸送膜は、硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下であるが、電荷輸送性及び機械的特性と共に、可とう性及び靭性に優れた膜を得るといった観点から、２．５質量％以上１５質量％以下がよく、望ましくは３．０質量％以上１５質量％以下であり、より望ましくは４．０質量％以上１０質量％以下である。また、電荷輸送膜がエンチオール樹脂の架橋物を含んで構成された硬化膜である場合には、硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１１質量％以下が好ましい。
硫黄原子の含有率は、使用する原料が明らかな場合は、それぞれの原料の混合比率より計算上求める。使用する原料が明らかでない場合、電荷輸送膜のみを採取し、該膜中の硫黄の含有率を蛍光Ｘ線による元素分析法によって求める。
なお、硫黄原子の含有率は、例えば、エンチオール樹脂を合成する際に、チオール基を有する化合物量を調整することで制御される。
【００２８】
以下、本実施形態に係る電荷輸送膜を構成する、電荷輸送性骨格を有するエンチオール樹脂（以下、単に「エンチオール樹脂」と称することがある。）について詳細に説明する。
【００２９】
（エンチオール樹脂）
エンチオール樹脂は、例えば、炭素二重結合を持つ２つ以上の反応性官能基を有する化合物の１種類以上と、２つ以上のチオール基を有する化合物の１種類以上と、を原料として、水素引き抜き能を有する触媒の共存下、紫外線照射や熱などの外部エネルギーを加えることで重合し得られる樹脂であって、炭素二重結合を持つ反応性官能基を有する化合物、及びチオール基を有する化合物の少なくとも一方に電荷輸送性骨格が導入されたもの用いて得られる樹脂である。
なお、エンチオール樹脂は、その他の製法、原料であっても、結果として、上記方法と同じ構造をとりえるものであれば、特に限定されるものではない。
【００３０】
ここで、電荷輸送性骨格としては、公知の電子輸送性または正孔輸送性の構造の少なくとも一方を有する有機化合物骨格であり、特に限定されるものではないが、例えば、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物に由来する骨格が挙げられる。これらの中も、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、トリアリールアミン系化合物の骨格がよい。
【００３１】
ここで、特に、電荷輸送性骨格としては、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、下記一般式（ＡＡＡ）で表される骨格が好適に挙げられる。
【００３２】
【化２】
【００３３】
一般式（ＡＡＡ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表す。
Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表す。
Ｄ１は、それぞれ独立に、エンチオール樹脂を構成する電荷輸送性骨格以外の部位と連結する連結基であって、「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−Ｓ−＊、又は「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｚ）ａ２−Ｙ’−ＣＨ（Ｒ）−ＣＨ２−＊を表す。
ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表す。
ｋは０又は１を表し、Ｄ１の総数は２以上である。
【００３４】
ここで、一般式（ＡＡＡ）中、Ｄ１が表す基において、
「Ａｒ」は、Ａｒ１〜Ａｒ５のうちＤ１が連結するものを表す。
Ｇは、炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、具体的には、例えば、炭素数１以上５以下のアルキレン基、アルキレンエーテル基、ポリアルキレンエーテル基を表す。
Ｘは、−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−を表す。
Ｙは、ＳＨが置換基として置換されていてもよい炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、具体的には、例えば、−ＳＨが置換基として置換されていてもよい、炭素数１以上５以下のアルキレン基、アルキレンエーテル基、ポリアルキレンエーテル基を表す。
Ｙ’は、−炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、具体的には、例えば、炭素数１以上５以下のアルキレン基、アルキレンエーテル基、ポリアルキレンエーテル基を表す。
Ｚは、−ＣＯ−、−Ｏ−、又はフェニレン基を表す。
Ｒは、水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を表す。
ａ１及びａ２は、それぞれ独立に０又は１を表す。
＊は、エンチオール樹脂の電荷輸送性骨格以外の部位との連結部を表し、具体的には、例えば、ポリエン構造、ポリチオール構造の少なくとも一方の繰り返し単位との連結部である。
【００３５】
なお、一般式（ＡＡＡ）中、Ａｒ１〜Ａｒ５、ｃ１〜ｃ５、ｋについては、後述する一般式（Ａ）中のＡｒ１〜Ａｒ５、ｃ１〜ｃ５、ｋと同義であるため、説明を省略する。
【００３６】
エンチオール樹脂として、具体的には、例えば、以下の組み合わせを原料とした共重合体が挙げられる。
１）（Ｉ）炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物（以下（Ｉ）の化合物と称することがある）と、（ＩＩ）チオール基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物（以下（ＩＩ）の化合物と称することがある）と、の組み合わせ。
２）（ＩＩＩ）炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物（以下（ＩＩＩ）の化合物と称することがある）と、（ＩＶ）チオール基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物（以下（ＩＶ）の化合物と称することがある）と、の組み合わせ。
３）（Ｉ）の化合物と、（ＩＶ）の化合物と、の組み合わせ。
なお、エンチオール樹脂は、これら組み合わせの原料単独の共重合体であってもよし、これら２種類以上の組み合わせの原料を混合して用いた共重合体であってもよい。
また、エンチオール樹脂は、一分子中に、電荷輸送性骨格を有し、且つ炭素二重結合を持つ反応性官能基及びチオール基を合計で２つ以上有する化合物を原料とした重合体であってもよい。
【００３７】
ここで、エンチオール樹脂の架橋物を得る、つまり、機械的特性と共に、可とう性及び靭性に優れた膜を得るといった観点から、エンチオール樹脂を得るための炭素二重結合を持つ反応性官能基とチオール基のモル数の関係としては、［（チオール基のモル量）／（炭素二重結合を持つ反応性官能基のモル量）］×１００（％）が、例えば２０％以上１００％がよく、望ましくは３５％以上９０％以下、より望ましくは４５％以上８０％以下である。
すなわち、炭素二重結合を持つ反応性官能基とチオール基のモル数の関係を上記範囲となるように、原料の量を調整すると。炭素二重結合を持つ反応性官能基のモル数はチオール基のモル数よりも多くなり、その結果、炭素二重結合を持つ反応性官能基による重合が進行することによって膜の架橋硬化が進むと予想され、エンチオール樹脂が架橋物となり、得られる膜が硬化膜となると考えられる。
【００３８】
同様に、エンチオール樹脂の架橋物を得る、つまり、機械的特性と共に、可とう性及び靭性に優れた膜を得るといった観点から、上記（Ｉ）から（ＩＶ）の化合物から選択する組み合わせの原料において、少なくとも、炭素二重結合を持つ反応性官能基の数、又はチオール基のいずれかが、３つ以上有する化合物を用いることがよい。
つまり、上記（Ｉ）から（ＩＶ）の化合物から選択する組み合わせの原料において、少なくとも、炭素二重結合を持つ反応性官能基を３つ以上有する化合物、又はチオール基を３つ以上有する化合物を用いることがよい。
これにより、理論上、エンチオール樹脂が架橋物となり、得られる膜が硬化膜となると考えられる。
【００３９】
以下、（Ｉ）から（ＩＶ）の化合物について詳細に説明する。
【００４０】
−（Ｉ）の化合物−
（Ｉ）の化合物は、同一分子内に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物である。
【００４１】
（Ｉ）の化合物における炭素二重結合を持つ反応性官能基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される基が挙げられる。これらの中も、その反応性に優れる観点から、連鎖重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、ビニル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つが挙げられる。
【００４２】
（Ｉ）の化合物としては、同一分子内に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上持つ化合物であることがよい。これにより、電荷輸送性、機械的強度が高い膜が得られ易くなる。
この炭素二重結合を持つ反応性官能基の数は、エンチオール樹脂で構成される膜を得るための原料組成物（塗布液）の安定性、電気特性の点から、２０以下の範囲、１０以下の範囲が挙げられる。
【００４３】
（Ｉ）の化合物として具体的には、例えば、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好適に挙げられる。
【００４４】
【化３】
【００４５】
一般式（Ａ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Ｄは、炭素二重結合を持つ官能基を有する基を表し、ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は２以上である。
【００４６】
ここで、一般式（Ａ）で表される化合物としては、得られる膜の機械的強度に優れるといった観点から、Ｄがアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルフェニル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくも一つを有する基（特に、これら基が末端に有する基）を表す化合物がよい。
また、一般式（Ａ）で表される化合物としては、得られる膜の電荷輸送性及び機械的強度に優れるといった観点から、Ｄが−（ＣＨ２）ｄ−（Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２）ｅ−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ’）＝ＣＨ２（但し、Ｒ’は水素原子、又はメチル基を表し、ｄは１以上５以下の整数、ｅは０又は１を表す）を表す化合物もよい。
そして、特に、Ｄが−（Ｇ）ａ１−（Ｚ）ａ２−Ｙ’−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ２（但し、Ｇ、Ｙ’Ｚ、Ｒ、ａ１、ａ２は、一般式（ＡＡＡ）中のものと同義である。）を表すことがよい。
【００４７】
なお、アクリロイル基、メタクロイル基、ビニルフェニル基は、連鎖移動剤との反応性が高く、得られる膜の機械的強度が高まる傾向がある。一方、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基、アリルビニルエーテル基は、反応性が低く、一般的な重合では反応が進行し難いが、チオール基を有する化合物（そのチオール基）と高反応性を有しており、重合が進行し、得られる膜の機械的強度が高まる。
【００４８】
一般式（Ａ）において、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表す。Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ、同一でもあってもよいし、異なっていてもよい。
ここで、置換アリール基における置換基としては、Ｄで表される基以外のものとして、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のアリール基等が挙げられる。
【００４９】
Ａｒ１〜Ａｒ４として具体的は、下記式（１）〜（７）のうちのいずれか一つであることがよい。なお、下記式（１）〜（７）は、Ａｒ１〜Ａｒ４の各々に連結され得る「−（Ｄ）Ｃ１」〜「−（Ｄ）Ｃ４」を総括的に表した「−（Ｄ）Ｃ」と共に表す。
【００５０】
【化４】
【００５１】
式（１）〜（７）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基若しくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、及び炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表す。Ｒ２〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表す。Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄは一般式（Ａ）におけるＤと同様の基を表し、ｃは１又は２を表し、ｓは０又は１を表し、ｔは０以上３以下の整数を表す。
【００５２】
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記構造式（８）又は（９）で表されるものがよい。
【００５３】
【化５】
【００５４】
式（８）及び（９）中、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔ’は０以上３以下の整数を表す。
【００５５】
また、式（７）中、Ｚ’は２価の有機連結基を表すが、下記式（１０）〜（１７）のうちのいずれか一つで表されるものがよい。
【００５６】
【化６】
【００５７】
式（１０）〜（１７）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１以上１０以下の整数を表し、ｔ”は０以上３以下の整数を表す。
【００５８】
式（１６）〜（１７）中のＷとしては、下記（１８）〜（２６）で表される２価の基のうちのいずれか一つであることがよい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。
【００５９】
【化７】
【００６０】
また、一般式（Ａ）中、Ａｒ５は、ｋが０の時は置換若しくは未置換のアリール基であり、このアリール基としては、Ａｒ１〜Ａｒ４の説明で例示されたアリール基と同様のものが挙げられる。また、Ａｒ５は、ｋが１の時は置換若しくは未置換のアリーレン基であり、このアリーレン基としては、Ａｒ１〜Ａｒ４の説明で例示されたアリール基から目的とする位置の水素原子を１つ除いたアリーレン基が挙げられる。
【００６１】
以下、一般式（Ａ）で表される化合物（（Ｉ）の化合物）の具体例を示す。なお、一般式（Ａ）で表される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【００６２】
まず、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【００６３】
【化８】
【００６４】
【化９】
【００６５】
【化１０】
【００６６】
【化１１】
【００６７】
【化１２】
【００６８】
【化１３】
【００６９】
【化１４】
【００７０】
【化１５】
【００７１】
【化１６】
【００７２】
【化１７】
【００７３】
【化１８】
【００７４】
【化１９】
【００７５】
【化２０】
【００７６】
【化２１】
【００７７】
次に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を３つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【００７８】
【化２２】
【００７９】
【化２３】
【００８０】
【化２４】
【００８１】
【化２５】
【００８２】
【化２６】
【００８３】
次に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つから６つ有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。
【００８４】
【化２７】
【００８５】
【化２８】
【００８６】
【化２９】
【００８７】
【化３０】
【００８８】
【化３１】
【００８９】
【化３２】
【００９０】
【化３３】
【００９１】
【化３４】
【００９２】
【化３５】
【００９３】
【化３６】
【００９４】
【化３７】
【００９５】
【化３８】
【００９６】
【化３９】
【００９７】
【化４０】
【００９８】
【化４１】
【００９９】
【化４２】
【０１００】
（Ｉ）の化合物は、例えば、以下のようにして合成される。
即ち、（Ｉ）の化合物は、例えば、前駆体であるアルコールを、対応するメタクリル酸、又はメタクリル酸ハロゲン化物と縮合させて合成する。特定の電荷輸送性材料は、例えば、前駆体であるアルコールがベンジルアルコール構造の場合、アルコールと、ヒドロキシエチルメタクリレート等の水酸基を有するメタクリル酸誘導体と、の脱水エーテル化などにより合成してもよい。
【０１０１】
上記例示化合物ｉｖ−４及び例示化合物ｉｖ−１７の合成経路を一例として以下に示す。
【０１０２】
【化４３】
【０１０３】
【化４４】
【０１０４】
他の（Ｉ）の化合物は、例えば、上述した化合物ｉｖ−４の合成経路、及び化合物ｉｖ−１７合成経路と同様にして合成される。
【０１０５】
（Ｉ）の化合物としては、前述のように、得られる膜の機械的強度が向上するといった観点から、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上含む化合物が用いられることがよい。
また、（Ｉ）の化合物として、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上である化合物と、炭素二重結合を持つ反応性官能基を１つ以上３つ以下含む化合物と、を併用してもよい。この併用により、電荷輸送性能の低下を抑制しつつ、膜の強度が調整される。
（Ｉ）の化合物として、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上である化合物と、炭素二重結合を持つ反応性官能基を１つ以上３つ以下含む化合物と、を併用する場合、（Ｉ）の化合物の総含有量に対して、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上である化合物の含有量を５質量％以上とすることがよく、特に２０質量％以上とすることがよい。
【０１０６】
次に、他の（Ｉ）の化合物について説明する。
（Ｉ）の化合物としては、下記一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーであってもよい。
【０１０７】
【化４５】
【０１０８】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立して炭素数１以上２０以下の２価の有機基を表し、ａは０又は１を表し、ＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。
ここで、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーの末端基としては、ラジカル重合反応による停止反応で生じた構造である。
【０１０９】
一般式（Ｂ）中、ＣＴが表す電子輸送性骨格を持つ有機基としては、上述した電荷輸送性骨格が挙げられるが、例えば、トリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、アリールアルカン骨格、アリール置換エチレン骨格、スチルベン骨格、アントラセン骨格、ヒドラゾン骨格を持つものなどが好適に挙げられるが、この中でもトリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、スチルベン骨格を持つものが望ましい。
【０１１０】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中、Ｘ、Ｙが表す２価の有機基としては、例えば、アルキレン基、−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−、芳香環、及びこれらを組み合わせてた連結基から選択される一つを含む２価の有機基が挙げられる。なお、Ｘ、Ｙが表す２価の有機基は、水酸基を有さないことが望ましい。
Ｘが表す２価の有機基として具体的には、例えば、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−（但し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す）。
Ｙが表す２価の有機基として具体的には、
−（ＣＨ）ｎ−（但し、ｎは１以上１０以下の整数を表す）、
−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−（但し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表し、「（ＣＨ２）ｎ」の水素原子の一部は水酸基が置換していてもよい。）、
−（ＣＨ２）ｎ−Ａｒ−（但し、Ａｒは芳香環数１以上５以下のアリーレン基を表し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す。）、
−Ａｒ−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−（但し、Ａｒは芳香環数１以上５以下のアリーレン基を表し、ｎは０又は１以上１０以下の整数を表す。）
等が挙げられる。
【０１１１】
一般式（Ｂ）で表される部分構造の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限られるわけではない。なお、「（Ｘ）ａ」の欄において、「−」が示されている場合は、ａ＝０のときを示しており、基が示されている場合は、ａ＝１のときで、ＣＴと共にＸが表す基を示している。
【０１１２】
【化４６】
【０１１３】
【化４７】
【０１１４】
【化４８】
【０１１５】
【化４９】
【０１１６】
【化５０】
【０１１７】
【化５１】
【０１１８】
次に、一般式（Ｃ）で表される部分構造の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これに限られるわけではない。
【０１１９】
【化５２】
【０１２０】
【化５３】
【０１２１】
【化５４】
【０１２２】
一般式（Ｂ）、（Ｃ）で表される部分構造のみからなるものとしては、下記一般式（Ｂ’）及び（Ｃ’）で表される部分構造を有するものが望ましい。
【０１２３】
【化５５】
【０１２４】
一般式（Ｂ’）及び（Ｃ’）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｘは、炭素数１以上２０以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は、−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−、アルキレン基、芳香環、及びこれらを組み合わせてた連結基であって水酸基を有しないものを表し、ａ、ｂはそれぞれ独立に０又は１を表し、ＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。
なお、一般式（Ｂ’）及び（Ｃ’）中、Ｘが表す２価の有機基、及びＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基としては、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中のＸ、ＣＴと同様である。
【０１２５】
このうち、更に下記構造式（Ｄ）で表されるものが溶解性、製膜性に優れ、望ましい。
【０１２６】
【化５６】
【０１２７】
一般式（Ｄ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｘは炭素数１以上２０以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は−Ｃ(＝Ｏ)−、−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−、アルキレン基、芳香環、及びこれらを組み合わせてた連結基であって水酸基を有しないものを表し、ａ、ｂはそれぞれ独立して０又は１を表し、ＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基を表す。
ｍ、ｎはそれぞれ５以上の整数を表し、１０＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．２＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５であり、強度、可とう性、電気特性の観点から、１５＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．３＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５が望ましく、２０＜ｍ＋ｎ＜２０００、かつ０．４＜ｍ／（ｍ＋ｎ）＜０．９５がさらに望ましい。
なお、一般式（Ｄ）中、Ｘが表す２価の有機基、及びＣＴは電荷輸送性骨格を持つ有機基としては、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中のＸ、ＣＴと同様である。
【０１２８】
一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーは、例えば、一般式（Ａ）で表される化合物をモノマーとして使用し、メタクリル酸、アクリル酸、グリシジル化合物およびこれらの誘導体との共重合等、公知の方法によって製造される。
【０１２９】
また、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）によりそれぞれ表される部分構造を含むポリマーは、一般式（Ｂ）及び（Ｃ）で示されるものに加え、溶解性、可とう性を付与するために１官能のモノマーを共重合してもよい。
１官能のモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、などのアクリレート、あるいは、メタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレンなどのスチレン誘導体などが挙げられる。
これらを共重合する際に使用される量（ｌ）は、溶解性及び可とう性を付与する観点から、上記一般式（Ｄ）中のｍに対してｌ／ｍ＜０．３が望ましく、ｌ／ｍ＜０．２がより望ましい。
【０１３０】
なお、これら（Ｉ）の化合物は、１単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１３１】
−（ＩＩ）の化合物−
（ＩＩ）の化合物は、同一分子内に、チオール基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物である。
【０１３２】
（ＩＩ）の化合物は、例えば、第１級チオール基を２つ以上有する化合物及び第２級チオール基を２つ以上有する化合物から選択される少なくとも１種の多官能チオール化合物が挙げられる。
なお、チオール基の数は、例えば、２以上６以下であることがよい。
【０１３３】
ここで、第１級チオール基とは、構造上、−ＣＨ２−ＳＨで表されるチオール基である。
一方、第２級チオール基とは、構造上、ＣＲ−ＣＨ（ＳＨ）−ＣＲ（ただし、Ｒは有機基を示す）で表されるチオール基である。
【０１３４】
第１級チオール基を２つ以上有する化合物としては、電荷輸送性骨格を有さず、第１級チオール基を２つ以上有する化合物であれば、特に制限はないが、例えば、以下のものが挙げられる。
第１級チオール基を２つ化合物としては、例えば、１，１０−デカンジチオール、１，２−ベンゼンジチオール、１，２−エタンジチオール、１，２−プロパンジチオール、１、４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、テトラエチレングリコール−ビス（３−メルカプトプロピオネート）等のオリゴマー化合物等が挙げられる。
第１級チオール基を３つ含有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパン トリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリス−[（３−メルカプトプロピオニルオキシ）−エチル]−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−トリオン）等が挙げられる。
第１級チオール基を４つ含有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトプロピオネート）等が挙げられる。
第１級チオール基を６つ含有する化合物としてはジペンタエリスリトール ヘキサキス （３−メルカプトプロピオネート）等が挙げられる。
第１級チオール基を２つ以上有する化合物としては、得られる膜の機械的強度に優れるといった観点から、第１級チオール基を３つ以上有する化合物がよい。
【０１３５】
一方、第２級チオール基を２つ以上有する化合物としては、電荷輸送性骨格を有さず、第２級チオール基を２つ以上有する化合物であれば、特に制限はないが、例えば、例えば、１、４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，３，５−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−トリオン）、ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトブチレート）等が挙げられる。
特に、第２級チオール基を２つ以上有する化合物は、エンチオール樹脂で構成される膜を得るための原料組成物（塗布液）の溶液の状態において、その溶液の粘度安定性に優れる点でよい。
【０１３６】
なお、これら（ＩＩ）の化合物は、１単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１３７】
−（ＩＩＩ）の化合物−
（ＩＩＩ）の化合物は、同一分子内に、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物である。
【０１３８】
（ＩＩＩ）の化合物としては、電荷輸送性骨格を有さず、且つ炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上有する化合物であれば、特に制限はないが、例えば、以下のものが挙げられる。
炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ有する化合物としては、例えば、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３‐プロパンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリシクロデカンメタノールジメタクリレート等の２官能の化合物が挙げられる。
炭素二重結合を持つ反応性官能基を３つ有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ付加トリアクリレート、グリセリンＰＯ付加トリアクリレート、トリスアクロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化イソシアヌルトリアクリレート等の３官能の化合物が挙げられる。
【０１３９】
その他、炭素二重結合を持つ反応性官能基を４つ以上有する化合物としては、例えば、イソシアヌル酸骨格を有する多官能アクリレートが挙げられ、具体的には、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリメタクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリメタクリレート、ビス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性アクリレート、ビス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性メタクリレート、ビス（メタアクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性アクリレート、ビス（メタアクリロキシエチル）イソシアヌレートのカプロラクトン変性メタアクリレート等の４官能以上の化合物が挙げられる。
【０１４０】
これらの中でも、得られる膜の機械的特性に優れるといった観点及び得られる膜において生じる相分離を抑える観点から、（ＩＩＩ）の化合物としては、炭素二重結合を持つ反応性官能基を２つ以上４つ以下で有する化合物がよい。
【０１４１】
−（ＩＶ）の化合物−
（ＩＶ）の化合物は、同一分子内に、チオール基を２つ以上有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物である。
【０１４２】
（ＩＶ）の化合物として具体的には、例えば、下記一般式（ＡＡ）で表される化合物が挙げられる。
・一般式（ＡＡ）： Ｆ−[（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨ]ｂ
一般式（ＡＡ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−を表し、Ｙは−ＳＨが置換基として置換されていてもよい炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、ａ１及びａ２はそれぞれ独立に０又は１を表し、ｂは２以上６以下の整数を表す。
【０１４３】
ここで、一般式（ＡＡ）中、Ｆが表す電荷輸送性化合物から誘導される有機基は、電荷輸送性骨格に相当する。Ｆが表す電荷輸送性化合物から誘導される有機基における当該電荷輸送性化合物としては、知の電子輸送性または正孔輸送性の少なくとも一方を有する有機化合物であり、特に限定されるものではないが、例えばフタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物等が挙げられる。これらの中も、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、トリアリールアミン系化合物がよい。
また、ｂは、２以上６以下であるが、得られる膜の電荷輸送性及び機械的強度に優れるといった観点から、４以上６以下であることがよい。
【０１４４】
なお、一般式（ＡＡ）中、Ｇ、Ｘ、Ｙ、ａ１、ａ２は、一般式（ＡＡＡ）中のＤ１が表す基で説明したものと同義であるとので、説明を省略する。
【０１４５】
一般式（ＡＡ）で表される化合物として具体的には、例えば、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、下記一般式（ＡＢ）で表される化合物が好適に挙げられる。
【０１４６】
【化５７】
【０１４７】
一般式（ＡＢ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、Ｄ２は、（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−ＳＨを表し、ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、ｋは０又は１を表し、Ｄの総数は２以上である。
【０１４８】
一般式（ＡＢ）中、Ｄの総数は、例えば、得られる膜の電荷輸送性、及び機械的特性に優れるといった観点から、４以上６以下であることがよい。
【０１４９】
なお、一般式（ＡＢ）中、Ａｒ１〜Ａｒ５は一般式（Ａ）中のものと同義であるため説明を省略する。
また、Ｄ２が表す基におけるＧ、Ｘ、Ｙ、ａ１、ａ２は、一般式（ＡＡ）中のもの同義であるため説明を省略する。
【０１５０】
以下、一般式（ＡＡ）で表される化合物（（ＩＶ）の化合物）の具体例を示す。なお、一般式（ＡＡ）で表される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【０１５１】
【化５８】
【０１５２】
【化５９】
【０１５３】
【化６０】
【０１５４】
【化６１】
【０１５５】
【化６２】
【０１５６】
【化６３】
【０１５７】
次に、一般式（ＡＡ）で表される化合物の合成方法について説明する。
一般式（ＡＡ）で表される化合物は、例えば、通常のエステル化反応で合成し得る。
例えば、一般式（ＡＡ）で表される化合物の合成方法としては、以下に示す合成方法が挙げられるが、これに限られるわけではない。
１）下記一般式（ＡＣ）で示されるアルコールと下記一般式（ＡＤ）で示されるカルボン酸との組み合わせ、又は下記一般式（ＡＥ）で示されるカルボン酸と下記一般式（ＡＦ）で示されるアルコールとの組み合わせを、酸触媒（例えば硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等）を用いてエステル化することにより合成する方法（但し、カルボン酸の代わりに対応するカルボン酸クロライドを用いてもよい。）
・一般式（ＡＣ）：Ｆ−［（Ｇ）ａ１−ＯＨ］ｂ
・一般式（ＡＤ）：ＨＯＯＣ−Ｙ−ＳＨ
・一般式（ＡＥ）：Ｆ−［（Ｇ）ａ１−ＣＯＯＨ］ｂ
・一般式（ＡＦ）：ＨＯ−Ｙ−ＳＨ
【０１５８】
一般式（ＡＣ）、（ＡＤ）、（ＡＥ）、（ＡＦ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｙは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、ａ１は０又は１を表し、ｂは１〜６の整数を表す。
ここで、一般式（ＡＣ）、（ＡＤ）、（ＡＥ）、（ＡＦ）中、Ｆ、Ｇ、Ｙ、ａ１、ｂは、一般式（ＡＡ）中のＦ、Ｇ、Ｙ、ａ１、ｂと同義である。
なお、上記合成法では、ａ２が１を表し、Ｘが−ＣＯ−Ｏ−を表す一般式（ＡＡ）で表される化合物が合成される。
【０１５９】
２）下記一般式（ＡＣ）で示されるアルコールと下記一般式（ＡＧ）で示されるアルコール若しくはハロゲン化物との組み合わせ、又は下記一般式（ＡＨ）で表されるアルコール若しくはハロゲン化物と下記一般式（ＡＦ）で示されるアルコールとの組み合わせを、反応させることにより合成する方法。
・一般式（ＡＣ）：Ｆ−［（Ｇ）ａ１−ＯＨ］ｂ
・一般式（ＡＧ）：Ｊ−Ｙ−ＳＨ
・一般式（ＡＨ）：Ｆ−［（Ｇ）ａ１−Ｊ］ｂ
・一般式（ＡＦ）：ＨＯ−Ｙ−ＳＨ
【０１６０】
一般式（ＡＣ）、（ＡＦ）、（ＡＧ）、（ＡＨ）中、Ｆは電荷輸送性化合物から誘導される有機基を表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｙは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、ａ１は０又は１を表し、ｂは１〜６の整数を表し、Ｊは水酸基、あるいは、塩素、臭素、ヨウ素を表す。）
ここで、一般式（ＡＣ）、（ＡＦ）、（ＡＧ）、（ＡＨ）中、Ｆ、Ｇ、Ｙ、ａ１、ｂは、一般式（ＡＡ）中のＦ、Ｇ、Ｙ、ａ１、ｂと同義である。
なお、上記合成法では、ａ２が１を表し、Ｘが−Ｏ−を表す一般式（ＡＡ）で表される化合物が合成される。
【０１６１】
ここで、一般式（ＡＡ）で表される化合物の合成方法としてより具体的には、例えば、原料としてアリールアミン化合物を用いる場合、特開平９−３１０３９号公報等に記載されたエステル基を含有する電荷輸送性化合物を含チオールアルコールとエステル交換反応を行って合成する方法、エステル基を含有する電荷輸送性化合物を加水分解によりフリーのカルボン酸とした後に、含チオールアルコール又は含チオール炭化水素の塩素化物、臭素化物、又はヨウ素化物等でエステル化して合成する方法が挙げられる。
一方。一般式（ＡＡ）で表される化合物の合成方法として具体的には、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物のエステル基を、たとえば、実験化学講座、第４版、２０巻、Ｐ．１０などに記載されたように、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウムなどを用いて対応するアルコールに還元し、含チオールカルボン酸とエステル化して合成する方法も挙げられる。
【０１６２】
エステル交換は、例えば、実験化学講座、第４版、２８巻、Ｐ．２１７などに記載されたように、過剰量の含チオールアルコールと、有機金属化合物（チタン、スズ、亜鉛等の有機金属化合物）を用いて加熱することで行う。
【０１６３】
含チオールアルコールは、アリールアミン化合物のエステル基に対し１当量以上、好ましくは１．２当量以上、より好ましくは１．５当量以上加えることがよい。
無機酸（例えば硫酸、リン酸等）、酢酸塩（例えばチタンアルコキシド、カルシウム、コバルトなど酢酸塩）、炭酸塩（例えばチタンアルコキシド、カルシウム、コバルトなど炭酸塩）、酸化物（例えば亜鉛や鉛の酸化物）を触媒として加えてもよい。
触媒は、アリールアミン化合物の１質量部に対して、例えば。１／１００００質量部以上１質量部以下、好ましくは１／１０００質量部以上１／２質量部以下で用いることがよい。
反応は、例えば、反応温度１００℃以上３００℃以下で行い、好ましくは脱離するアルコールの沸点以上で行うことがよい。
【０１６４】
アリールアミン化合物のエステル基としては、エステル交換反応を促進するため、メタノール、エタノールなどの低沸点アルコールとのエステルがよい。反応は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で行うことがよく、また、ｐ−シメン、１ークロロナフタレンなどの高沸点溶剤を用いて反応させてもよい。
【０１６５】
アリールアミン化合物カルボン酸は、アリールアミン化合物のエステル基を、例えば、実験化学講座、第４版、２０巻、Ｐ．５１などに記載されたように、塩基性触媒（ＮａＯＨ、Ｋ２ＣＯ３等）、酸性触媒（例えばリン酸、硫酸等）を用いる加水分解により得られる。
この際、溶剤としては、種々のものが挙げられるが、メタノール、エタノール、エチレングリコールなどのアルコール系を用いるか、これに水を混合して用いることがよい。
さらに、アリールアミン化合物の溶解性が低い場合には、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、エーテル、テトラヒドロフランなどを加えてもよい。
溶剤の量は、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有するアリールアミン化合物１質量部に対して１質量部以上１００質量部以下、好ましくは２質量部以上５０質量部以下で用いることがよい。
反応温度は、例えば、室温（例えば２５℃）以上溶剤の沸点以下の範囲で設定され、反応速度の問題上、５０度以上が望ましい。
触媒の量については、特に制限はないが、例えば、エステル基を含有する電荷電荷輸送化合物１質量部に対して０．００１質量部以上１質量部以下、好ましくは０．０１質量部以上０．５質量部以下で用いることがよい。
加水分解反応後、塩基性触媒で加水分解を行った場合には、生成した塩を酸（例えば塩酸等）で中和し、遊離させる。さらに、十分に水洗した後、乾燥して使用するか、必要によっては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトンなど、適当な溶剤により、再結晶精製を行った後、乾燥して使用してもよい。
【０１６６】
アリールアミン化合物カルボン酸に対し、例えば、含チオールアルコールを１当量以上、好ましくは、１．２当量以上、より好ましくは１．５当量以上加えることがよい。
無機酸（例えば硫酸、リン酸等）、有機酸（例えばｐ−トルエンスルホン酸等）を触媒として加えてもよい。
触媒は、アリールアミン化合物の１重量部に対して、例えば、１／１００００質量部以上１質量部以下、好ましくは１／１０００質量部以上１／２質量部以下で用いることがよい。
溶媒は、例えば、重合中に生成する水を除去するために、水と共沸可能な溶剤を用いることがよい。溶媒としては、例えば。トルエン、クロロベンゼン、１ークロロナフタレンなどが有効である。
溶媒の量は、アリールアミン化合物カルボン酸の１質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下、好ましくは２質量部以上５０質量部以下の範囲で用いることがよい。
反応温度は任意に設定できるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることがよい。
反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
【０１６７】
また、含チオール炭化水素の塩素化物、臭素化物、又はヨウ素化物等でエステル化して合成する方法の場合、ハロゲン基（Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等）を有する含チオール炭化水素を、アリールアミン化合物カルボン酸の酸基に対し、例えば１等量以上５等量以下、好ましくは１．１等量以上３等量以下と、塩基（例えばピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、ＤＢＵ、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）と、を有機溶剤（Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤；、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤；等）中で反応させ合成する。
塩基は、アリールアミン化合物カルボン酸に対し、１等量以上３等量以下、好ましくは１等量以上２等量以下で用いることがよい。
使用する非プロトン性の有機溶媒は、カルボン酸誘導体に対し、例えば１質量部以上５０質量部以下、好ましくは１．５質量部以上３０質量部以下で用いることがよい。
反応温度は、例えば、０℃以上溶剤の沸点以下の間で設定され、０℃以上１５０℃以下がよい。
反応終了後、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチルなどの溶剤で抽出、水洗し、さらに、必要により活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土などの吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
【０１６８】
−電荷輸送膜の形成方法（エンチオール樹脂の形成方法）−
本実施形態に係る電荷輸送膜は、特に制限されないが、上述したエンチオール樹脂を形成するための原料を溶媒よって溶液化した塗布液を、被塗布物（例えば基板、金型等）に、周知の塗布方法（例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等）により塗布し、その後、電子線照射、光照射、熱によって、原料を重合し、エンチオール樹脂を形成することにより得られる。
このとき、必要に応じて、上記塗布液には、公知の添加剤を混合、添加してもよい。この添加剤としては、例えば、硬化剤（例えばエポキシ化合物、イソシアネート化合物等）や、バインダー樹脂（例えばポリカーボネート樹脂、エステル樹脂、スチレン樹脂等）、その他、カップリング剤、ハードコート剤、含フッ素化合物、酸化防止剤、シリコーンオイル、無機フィラーが挙げられる。
【０１６９】
ここで、本実施形態に係る電荷輸送膜（それを構成するエンチオール樹脂）を形成するための、原料の重合方法について具体的に説明する。
本実施形態に係る電荷輸送膜（それを構成するエンチオール樹脂）を形成するための原料の重合方法は、電子線照射、光照射、熱による各処理が挙げられる。
【０１７０】
電子線照射処理を行う場合、その際の加速電圧は、例えば３００ＫＶ以下が好ましく、最適には１５０ＫＶ以下である。また、線量は好ましくは１Ｍｒａｄ以上１０Ｍｒａｄ以下の範囲、より好ましくは３Ｍｒａｄ以上５０Ｍｒａｄ以下の範囲である。加速電圧が３００ＫＶを超えると電荷輸送膜の電荷輸送性に対する電子線照射の損傷が増加する傾向にある。また、線量が１Ｍｒａｄよりも少ない場合には架橋が不十分となり易く、１００Ｍｒａｄを超えると電荷輸送膜の劣化が起こり易い傾向となる。
【０１７１】
電子線照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が１０００ｐｐｍ、好ましくは、５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、あるいは、照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。
【０１７２】
また、光照射処理を行う場合、光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて照射する光の好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は特に制限されないが、例えば照度（３６５ｎｍ）は３００ｍＷ／ｃｍ２以上１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、例えば６００ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ光を照射する場合、５秒以上３６０秒以下程度照射すればよい。
【０１７３】
光照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下、好ましくは、５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、又は照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。
【０１７４】
この際、より重合を進めて、より機械的強度の高い電荷輸送膜を得る目的で、光重合触媒を用いてもよい。光重合触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、好ましくは上記原料の総量に対して０．０１質量％以上１０質量％以下、さらに好ましくは０．０３質量％以上８質量％以下、最も好ましくは０．０５質量％以上５質量％以下の範囲である。
【０１７５】
ここで、光重合触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンが挙げられる。
また、アルキルフェノン系としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、アセトフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルフォニルオキシ）アセトフェノンが挙げられる。
アミノアルキルフェノン系としては、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モリホニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。
ホスフィノキサイド系としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。
チタノセン系としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。
オキシム系としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などが挙げられる。
水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。より具体的には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系としては、２−ベンゾイル安息香酸、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
チオキサントン系としては、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
ベンジル系としては、ベンジル、（±）−カンファーキノン、ｐ−アニシルなどが挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【０１７６】
また、熱処理（加熱処理）を行う場合、製造の効率、副反応の制御、組成物の劣化抑制の観点から、望ましい反応温度としては３０℃以上１８０℃以下であり、さらに望ましい８０℃以上１７０℃以下であり、最も好ましくは１００℃以上１６０℃以下である。
また、反応時間としては、反応温度によって選択されるが、好ましくは５分以上１０００分以下であり、より好ましくは１５分以上５００分以下であり、最も好ましくは３０分以上１２０分以下である。
なお、熱処理は、真空又は不活性ガス雰囲気下（例えば酸素濃度が１ｐｐｍ以上５％以下であり、さらに好ましくは５ｐｐｍ以上３％以下であり、最も好ましくは１０ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下の雰囲気下）で行うことがよい。
【０１７７】
この際、より重合を進めて、より機械的強度の高い膜を得る目的で、熱重合触媒を用いることができる。該使用量は、特に限定されるものではないが、好ましくは上記原料の総量に対して０．０１質量％以上１０質量％以下、さらに好ましくは０．０３質量％以上８質量％以下、最も好ましくは０．０３質量％以上５質量％以下の範囲である。
【０１７８】
ここで、熱重合開始剤としては、例えば、Ｖ−３０（１０時間半減期温度：１０４℃）、Ｖ−４０（同：８８℃）、Ｖ−５９（同：６７℃）、Ｖ−６０１（同：６６℃）、Ｖ−６５（同：５１℃）、Ｖ−７０（同：３０℃）、ＶＦ−０９６（同：９６℃）、Ｖａｍ−１１０（同：１１１℃）、Ｖａｍ−１１１（同：１１１℃）（以上、和光純薬工業（株）製）、ＯＴａｚｏ−１５（同：６１℃）、ＯＴａｚｏ−３０、ＡＩＢＭ（同：６５℃）、ＡＭＢＮ（同：６７℃）、ＡＤＶＮ（同：５２℃）、ＡＣＶＡ（同：６８℃）（以上、大塚化学（株）製）等のアゾ系開始剤；、パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ，パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイル ＩＢ、パーロイル ３５５、パーロイル Ｌ、パーロイル ＳＡ、ナイパー ＢＷ、ナイパー ＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイル ＩＰＰ、パーロイル ＮＰＰ、パーロイル ＴＣＰ、パーロイル ＯＰＰ、パーロイル ＳＢＰ、パークミル ＮＤ、パーオクタ ＮＤ、パーヘキシル ＮＤ、パーブチル ＮＤ、パーブチル ＮＨＰ、パーヘキシル ＰＶ、パーブチル ＰＶ、パーヘキサ ２５０、パーオクタ Ｏ、パーヘキシル Ｏ、パーブチル Ｏ、パーブチル Ｌ、パーブチル ３５５、パーヘキシル Ｉ、パーブチル Ｉ、パーブチル Ｅ、パーヘキサ ２５Ｚ、パーブチル Ａ、パーへヘキシル Ｚ、パーブチル ＺＴ、パーブチル Ｚ（以上、日油化学（株）製）、カヤケタール ＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス ３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックス Ｌ−Ｗ７５、パーカドックス ＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックス ＴＭＢＨ、カヤクメン Ｈ、カヤブチル Ｈ−７０、ペルカドックス ＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサ ＡＤ、パーカドックス １４、カヤブチル Ｃ、カヤブチル Ｄ、カヤヘキサ ＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス １２−ＸＬ２５、パーカドックス １２−ＥＢ２０、トリゴノックス ２２−Ｎ７０、トリゴノックス ２２−７０Ｅ、トリゴノックス Ｄ−Ｔ５０、トリゴノックス ４２３−Ｃ７０、カヤエステル ＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステル ＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス ２３−Ｃ７０、トリゴノックス ２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス ２５７−Ｃ７０、カヤエステル Ｐ−７０、カヤエステル ＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス １２１、カヤエステル Ｏ、カヤエステル ＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステル ＡＮ、トリゴノックス ４２、トリゴノックス Ｆ−Ｃ５０、カヤブチル Ｂ、カヤカルボン ＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボン ＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボン Ｉ−２０、カヤカルボン ＢＩＣ−７５、トリゴノックス １１７、カヤレン ６−７０（以上、化薬アクゾ（株）製）、ルペロックスＬＰ（同：６４℃）、ルペロックス６１０（同：３７℃）、ルペロックス１８８（同：３８℃）、ルペロックス８４４（同：４４℃）、ルペロックス２５９（同：４６℃）、ルペロックス１０（同：４８℃）、ルペロックス７０１（同：５３℃）、ルペロックス１１（同：５８℃）、ルペロックス２６（同：７７℃）、ルペロックス８０（同：８２℃）、ルペロックス７（同：１０２℃）、ルペロックス２７０（同：１０２℃）、ルペロックスＰ（同：１０４℃）、ルペロックス５４６（同：４６℃）、ルペロックス５５４（同：５５℃）、ルペロックス５７５（同：７５℃）、ルペロックスＴＡＮＰＯ（同：９６℃）、ルペロックス５５５（同：１００℃）、ルペロックス５７０（同：９６℃）、ルペロックスＴＡＰ（同：１００℃）、ルペロックスＴＢＩＣ（同：９９℃）、ルペロックスＴＢＥＣ（同：１００℃）、ルペロックスＪＷ（同：１００℃）、ルペロックスＴＡＩＣ（同：９６℃）、ルペロックスＴＡＥＣ（同：９９℃）、ルペロックスＤＣ（同：１１７℃）、ルペロックス１０１（同：１２０℃）、ルペロックスＦ（同：１１６℃）、ルペロックスＤＩ（同：１２９℃）、ルペロックス１３０（同：１３１℃）、ルペロックス２２０（同：１０７℃）、ルペロックス２３０（同：１０９℃）、ルペロックス２３３（同：１１４℃）、ルペロックス５３１（同：９３℃）（以上、アルケマ吉富（株）製）等が挙げられる。
熱重合開始剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
【０１７９】
なお、上記電子線照射、光照射、熱による各処理のうち、副反応等により電荷輸送骨格を劣化させず電荷輸送性に優れる電荷輸送膜を得る目的、さらにはより効率的に膜を得るといった観点から、好ましくは熱処理が好ましい。
【０１８０】
［有機電子デバイス］
本実施形態に係る有機電子デバイスは、上記本実施形態に係る電荷輸送膜を有するものである。上記本実施形態に係る電荷輸送膜は、上記特性を有することから、有機電子デバイスの電荷輸送膜として有用である。
【０１８１】
本実施形態に係る有機電子デバイスとしては、例えば、電子写真感光体、有機エレクトロルミネッセンス、電子ペーパー等ディスプレイ材料、太陽電池用に用いられる有機デバイス、その他メモリー素子、波長変換素子等が挙げられる。
具体的には、例えば、有機エレクトロルミネッセンスの場合、一対の電極と発光層との間に介在させる電荷輸送層（正孔輸送層又は電子輸送層）に電荷輸送膜を適用する。
また、例えば、電子ペーパーの場合、例えば、一対の電極と表示層との間に介在させる電荷輸送層（正孔輸送層又は電子輸送層）に電荷輸送膜を適用する。
また、例えば、太陽電池の場合、例えば、一対の電極と光電変換層との間に介在させる電荷輸送層（正孔輸送層又は電子輸送層）に電荷輸送膜を適用する。
【０１８２】
以下、代表して、電子写真感光体（以下、本実施形態に係る電子写真感光体と称する）の詳細について説明する。
【０１８３】
本実施形態に係る電子写真感光体は、最表面層として上記本実施形態に係る電荷輸送膜を有する。
具体的には、本実施形態に係る電子写真感光体は、例えば、導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層と、必要に応じて感光層上に設けられた保護層と、を有し、導電性基体上に設けられた層のうち、導電性基体から外側へ最も遠い位置に設けられる最表面層として、上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成された最表面層を持つ電子写真感光体である。
そして、最表面層は、特に保護層として機能する層、又は、電荷輸送層として機能する層として設けることがよい。
【０１８４】
最表面層が保護層として機能する層の場合、導電性基体上に、感光層、及び最表面層として保護層を有し、該保護層が上本実施形態に係る電荷輸送膜で構成される形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層の場合、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層として電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成される形態が挙げられる。
【０１８５】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。図２〜図４はそれぞれ他の本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【０１８６】
図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、及び電荷輸送層３が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成されている。
【０１８７】
図２に示す電子写真感光体７Ｂは、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６が形成された構造を有するものである。つまり、図２に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送性材料とを同一の層（単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層））に含有するものである。
【０１８８】
図３に示す電子写真感光体７Ｃは、図１に示す電子写真感光体７Ａに保護層５を設けたもの、つまり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【０１８９】
図４に示す電子写真感光体７Ｄは、図２に示す電子写真感光体７Ｂに保護層５を設けたもの、つまり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【０１９０】
そして、図１に示す電子写真感光体７Ａにおいては、電荷輸送層３が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成された構成となっている。
図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、単層型感光層６が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成された構成となっている。
図３〜図４に示す電子写真感光体７Ｃ〜７Ｄにおいては、保護層５が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記本実施形態に係る電荷輸送膜で構成された構成となっている。
なお、図１〜図４に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。
【０１９１】
以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。
【０１９２】
（導電性基体）
導電性基体としては、特に制限はなく、例えば、金属製の円筒状の基体が代表的なものとして挙げられるが、その他、例えば、導電性膜（例えばアルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）等の膜）を設けた樹脂フィルム、導電性付与剤を塗布若しくは含浸させた紙、又は導電性付与剤を塗布若しくは含浸させた樹脂フィルム等も挙げられる。基体の形状は円筒状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。
なお、導電性基体は、その導電部が例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を持つものがよい。
【０１９３】
導電性基体として金属製の筒状体を用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。
【０１９４】
（下引層）
下引層は、導電性基体の表面における光反射の防止、導電性基体から感光層への不要なキャリアの流入の防止などの目的で、必要に応じて設けられる。
【０１９５】
下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。
下引層に含まれる結着樹脂としては、例えば、公知の樹脂（例えばポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等）、導電性樹脂（例えば電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等）などが挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂がよく、具体的には、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などがよい。
なお、導電性樹脂は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を持つものがよい。
【０１９６】
下引層には、例えば、珪素化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。
【０１９７】
金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、目的とする電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。
【０１９８】
下引層には、例えば、表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、例えば、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、例えば、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が用いられる。
【０１９９】
ここで、下引層の構成として、例えば、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。
なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が１０７Ω・ｃｍ未満の導電性を有するものがよい。
【０２００】
導電性粒子としては、例えば、金属粒子（アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子）、導電性金属酸化物粒子（酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子）、導電性物質粒子（カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子）等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子がよい。導電性粒子は、２種以上混合して用いてもよい。
また、導電性粒子は、例えば、疎水化処理剤（例えばカップリング剤）等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。
導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂の質量に対して、１０質量％以上８０質量％以下の範囲、４０質量％以上８０質量％以下の範囲が挙げられる。
【０２０１】
下引層の形成の際には、例えば、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液が使用される。
また、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０２０２】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０２０３】
下引層の膜厚は、例えば、１５μｍ以上の範囲、２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【０２０４】
ここで、図示は省略するが、例えば、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物が挙げられ、その他に、例えば、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物なども挙げられる。これらの化合物は、単独に、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウム又はケイ素を含有する有機金属化合物を用いると、その他の結着樹脂を用いる場合に比べて、残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ない感光体が得られ易くなる。
【０２０５】
中間層の形成の際には、例えば、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液が使用される。
中間層を形成する塗布方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０２０６】
なお、中間層は上層の塗布性改善の他に、例えば、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感や繰り返しによる電位の上昇を引き起こすことがある。
したがって、中間層を形成する場合には、例えば、厚みを０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲にすることがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。
【０２０７】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂中とを含んで構成される。
電荷発生層を構成する電荷発生材料としては、例えば、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、例えば、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上を混合して用いてもよい。
【０２０８】
電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂（例えばビスフェノールＡタイプ、ビスフェノールＺタイプ等）、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比（電荷発生材料：結着樹脂）は、例えば、質量基準で１０：１乃至１：１０の範囲が挙げられる。
【０２０９】
電荷発生層の形成の際には、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液が使用される。
【０２１０】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０２１１】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０２１２】
電荷発生層の膜厚は、例えば、０．０１μｍ以上５μｍ以下の範囲、０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【０２１３】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、本実施形態に係る電荷輸送膜が適用される。
なお、電荷輸送層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下の範囲、１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【０２１４】
以上、本実施形態に係る電子写真感光体として機能分離型の例を説明したが、図２に示す電子写真感光体の層構成の場合、その層構成において最表面に位置する単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）が該最表面層となり、この単層型感光層に上記本実施形態に係る電荷輸送膜が適用される。この場合、上記本実施形態に係る電荷輸送膜には、電荷発生材料が含まれ、その含有量は、全固形分質量に対して、例えば、１０質量％以上８５質量％以下の範囲、２０質量％以上５０質量％以下の範囲が挙げられる。単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下の範囲、１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲が挙げられる。
【０２１５】
また、本実施形態では、上記本実施形態に係る電荷輸送膜からなる最表面層が電荷輸送層である形態を説明したが、図３及び図４に示す電子写真感光体の如く保護層を有する層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する保護層が該最表面層となり、この保護層に上記本実施形態に係る電荷輸送膜が適用される。保護層の膜厚は、例えば、１μｍ以上１５μｍ以下の範囲、３μｍ以上１０μｍ以下の範囲が挙げられる。
なお、保護層を有する場合の電荷輸送層、単層型感光層の構成は、周知の構成が採用される。
【０２１６】
［画像形成装置／プロセスカートリッジ］
図５は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１０１は、図５に示すように、例えば、矢印ａで示すように、時計回り方向に回転する電子写真感光体１０（上記本実施形態に係る電子写真感光体）と、電子写真感光体１０の上方に、電子写真感光体１０に相対して設けられ、電子写真感光体１０の表面を帯電する帯電装置２０（帯電手段の一例）と、帯電装置２０により帯電した電子写真感光体１０の表面に露光して、静電潜像を形成する露光装置３０（静電潜像形成手段の一例）と、トナーを含む現像剤を収容し、現像剤により、電子写真感光体１０に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像装置４０（現像手段の一例）と、電子写真感光体１０に接触しつつ矢印ｂで示す方向に走行するとともに、電子写真感光体１０の表面に形成されたトナー像を転写するベルト状の中間転写体５０と、電子写真感光体１０の表面をクリーニングするクリーニング装置７０（クリーニング手段の一例）とを備える。
【０２１７】
帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、中間転写体５０、潤滑剤供給装置６０及びクリーニング装置７０は、電子写真感光体１０を囲む円周上に、時計周り方向に配設されている。なお、本実施形態では、クリーニング装置７０内部に、潤滑剤供給装置６０が配置された形態を説明するが、これに限られるわけではなく、クリーニング装置７０とは別途、潤滑剤供給装置６０を配置した形態であってもよい。無論、潤滑剤供給装置６０を設けない形態であってもよい。
【０２１８】
中間転写体５０は、内側から、支持ロール５０Ａ、５０Ｂ、背面ロール５０Ｃ、及び駆動ロール５０Ｄによって張力を付与されつつ保持されるとともに、駆動ロール５０Ｄの回転に伴い矢印ｂの方向に駆動される。中間転写体５０の内側における電子写真感光体１０に相対する位置には、中間転写体５０をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて中間転写体５０の外側の面に電子写真感光体１０上のトナーを吸着させる一次転写装置５１が設けられている。中間転写体５０の下方における外側には、記録紙Ｐ（被転写体の一例）をトナーの帯電極性とは異なる極性に帯電させて、中間転写体５０に形成されたトナー像を記録紙Ｐ上に転写する二次転写装置５２が背面ロール５０Ｃに対向して設けられている。なお、これら、電子写真感光体１０に形成されたトナー像を記録紙Ｐへ転写するための部材が転写手段の一例に相当する。
【０２１９】
中間転写体５０の下方には、さらに、二次転写装置５２に記録紙Ｐを供給する記録紙供給装置５３と、二次転写装置５２においてトナー像が形成された記録紙Ｐを搬送しつつ、トナー像を定着させる定着装置８０とが設けられている。
【０２２０】
記録紙供給装置５３は、１対の搬送ロール５３Ａと、搬送ロール５３Ａで搬送される記録紙Ｐを二次転写装置５２に向かって誘導する誘導板５３Ｂと、を備える。一方、定着装置８０は、二次転写装置５２によってトナー像が転写された記録紙Ｐを加熱・押圧することにより、トナー像の定着を行う１対の熱ロールである定着ロール８１と、定着ロール８１に向かって記録紙Ｐを搬送する搬送回転体８２とを有する。
【０２２１】
記録紙Ｐは、記録紙供給装置５３と二次転写装置５２と定着装置８０とにより、矢印ｃで示す方向に搬送される。
【０２２２】
中間転写体５０には、さらに、二次転写装置５２において記録紙Ｐにトナー像を転写した後に中間転写体５０に残ったトナーを除去するクリーニングブレードを有する中間転写体クリーニング装置５４が設けられている。
【０２２３】
以下、本実施形態に係る画像形成装置１０１における主な構成部材の詳細について説明する。
【０２２４】
−帯電装置−
帯電装置２０としては、例えば、導電性の帯電ロール、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が挙げられる。また、帯電装置２０としては、例えば、非接触方式のロール帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も挙げられる。帯電装置２０としては、接触型帯電器がよい。
【０２２５】
−露光装置−
露光装置３０としては、例えば、電子写真感光体１０表面に、半導体レーザー光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体１０の分光感度領域にあるものがよい。半導体レーザー光の波長としては、例えば、７８０ｎｍ前後に発振波長を有する近赤外がよい。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザー光や青色レーザー光として４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザー光も利用してもよい。また、露光装置３０としては、例えばカラー画像形成のためにはマルチビーム出力するタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【０２２６】
−現像装置−
現像装置４０は、例えば、現像領域で電子写真感光体１０に対向して配置されており、例えば、トナー及びキャリアからなる２成分現像剤を収容する現像容器４１（現像装置本体）と、補給用現像剤収納容器（トナーカートリッジ）４７と、を有している。現像容器４１は、現像容器本体４１Ａとその上端を塞ぐ現像容器カバー４１Ｂとを有している。
【０２２７】
現像容器本体４１Ａは、例えば、その内側に、現像ロール４２を収容する現像ロール室４２Ａを有しており、現像ロール室４２Ａに隣接して、第１攪拌室４３Ａと第１攪拌室４３Ａに隣接する第２攪拌室４４Ａとを有している。また、現像ロール室４２Ａ内には、例えば、現像容器カバー４１Ｂが現像容器本体４１Ａに装着された時に現像ロール４２表面の現像剤の層厚を規制するための層厚規制部材４５が設けられている。
【０２２８】
第１攪拌室４３Ａと第２攪拌室４４Ａとの間は例えば仕切り壁４１Ｃにより仕切られており、図示しないが、第１攪拌室４３Ａ及び第２攪拌室４４Ａは仕切り壁４１Ｃの長手方向（現像装置長手方向）両端部に開口部が設けられて通じており、第１攪拌室４３Ａ及び第２攪拌室４４Ａによって循環攪拌室（４３Ａ＋４４Ａ）を構成している。
【０２２９】
そして、現像ロール室４２Ａには、電子写真感光体１０と対向するように現像ロール４２が配置されている。現像ロール４２は、図示しないが磁性を有する磁性ロール（固定磁石）の外側にスリーブを設けたものである。第１攪拌室４３Ａの現像剤は磁性ロールの磁力によって現像ロール４２の表面上に吸着されて、現像領域に搬送される。また、現像ロール４２はそのロール軸が現像容器本体４１Ａに回転自由に支持されている。ここで、現像ロール４２と電子写真感光体１０とは、逆方向に回転し、対向部において、現像ロール４２の表面上に吸着された現像剤は、電子写真感光体１０の進行方向と同方向から現像領域に搬送するようにしている。
【０２３０】
また、現像ロール４２のスリーブには、不図示のバイアス電源が接続され、現像バイアスが印加されるようになっている（本実施形態では、現像領域に交番電界が印加されるように、直流成分（ＡＣ）に交流成分（ＤＣ）を重畳したバイアスを印加）。
【０２３１】
第１攪拌室４３Ａ及び第２攪拌室４４Ａには現像剤を攪拌しながら搬送する第１攪拌部材４３（攪拌・搬送部材）及び第２攪拌部材４４（攪拌・搬送部材）が配置されている。第１攪拌部材４３は、現像ロール４２の軸方向に伸びる第１回転軸と、回転軸の外周に螺旋状に固定された攪拌搬送羽根（突起部）とで構成されている。また、第２攪拌部材４４も、同様に、第２回転軸及び攪拌搬送羽根（突起部）とで構成されている。なお、攪拌部材は現像容器本体４１Ａに回転自由に支持されている。そして、第１攪拌部材４３及び第２攪拌部材４４は、その回転によって、第１攪拌室４３Ａ及び第２攪拌室４４Ａの中の現像剤は互いに逆方向に搬送されるように配設されている。
【０２３２】
そして、第２攪拌室４４Ａの長手方向一端側には、補給用トナー及び補給用キャリアを含む補給用現像剤を第２攪拌室４４Ａへ供給するための補給搬送路４６の一端が連結されており、補給搬送路４６の他端には、補給用現像剤を収容している補給用現像剤収納容器４７が連結されている。
【０２３３】
このように現像装置４０は、補給用現像剤収納容器（トナーカートリッジ）４７から補給搬送路４６を経て補給用現像剤を現像装置４０（第２攪拌室４４Ａ）へ供給する。
【０２３４】
ここで、現像装置４０に使用される現像剤について説明する。
現像剤は、例えば、トナーとキャリアを含む二成分系現像剤が採用される。
【０２３５】
−転写装置−
一次転写装置５１、及び二次転写装置５２としては、例えば、ベルト、ロール、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２３６】
中間転写体５０としては、導電剤を含んだポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外に円筒状のものが用いられる。
【０２３７】
−クリーニング装置−
クリーニング装置７０は、筐体７１と、筐体７１から突出するように配設されるクリーニングブレード７２と、クリーニングブレード７２の電子写真感光体１０回転方向下流側に配置される潤滑剤供給装置６０と、を含んで構成されている。
なお、クリーニングブレード７２は、筐体７１の端部で支持された形態であってもよし、別途、支持部材（ホルダー）により支持される形態であってもよいが、本実施形態では、筐体７１の端部で支持された形態を示している。
【０２３８】
まず、クリーニングブレード７２について説明する。
クリーニングブレード７２を構成する材料としては、ウレタンゴム、シリコンゴム、フッ素ゴム、プロロピレンゴム、ブタジエンゴム等が挙げられる。これらの中で、ウレタンゴムがよい。
ウレタンゴム（ポリウレタン）は、例えば、通常、ポリウレタンの形成に用いられるものであれば特に限定されない。例えば、ポリオール（例えばポリエチレンアジペート、ポリカプロラクトンなどのポリエステルポリオール等）とイソシアネート（例えばジフェニルメタンジイソシアネート等）とからなるウレタンプレポリマーが挙げられる。また、ウレタンゴム（ポリウレタン）は、例えば、１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコールやこれらの混合物などの架橋剤を原料とするものよい。
【０２３９】
次に、潤滑剤供給装置６０について説明する。
潤滑剤供給装置６０は、例えば、クリーニング装置７０の内部であって、クリーニングブレード７２よりも電子写真感光体１０の回転方向上流側に設けられている。
【０２４０】
潤滑剤供給装置６０としては、例えば、電子写真感光体１０と接触して配置される回転ブラシ６１と、回転ブラシ６１に接触して配置される固形状の潤滑剤６２と、で構成されている。潤滑剤供給装置６０では、固形状の潤滑剤６２と接触した状態で回転ブラシ６１を回転させることで、回転ブラシ６１に潤滑剤６２が付着すると共に、その付着した潤滑剤６２が電子写真感光体１０の表面に供給され、当該潤滑剤６２の皮膜が形成される。
【０２４１】
なお、潤滑剤供給装置６０は、上記形態に限られず、例えば、回転ブラシ６１に代わりにゴムロールを採用した形態であってもよい。
【０２４２】
次に、本実施形態に係る画像形成装置１０１の動作について説明する。まず、電子写真感光体１０が矢印ａで示される方向に沿って回転すると同時に、帯電装置２０により負に帯電する。
【０２４３】
帯電装置２０によって表面が負に帯電した電子写真感光体１０は、露光装置３０により露光され、表面に潜像が形成される。
【０２４４】
電子写真感光体１０における潜像の形成された部分が現像装置４０に近づくと、現像装置４０（現像ロール４２）により、潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。
【０２４５】
トナー像が形成された電子写真感光体１０が矢印ａに方向にさらに回転すると、トナー像は中間転写体５０の外側の面に転写する。
【０２４６】
トナー像が中間転写体５０に転写されたら、記録紙供給装置５３により、二次転写装置５２に記録紙Ｐが供給され、中間転写体５０に転写されたトナー像が二次転写装置５２により、記録紙Ｐ上に転写される。これにより、記録紙Ｐにトナー像が形成される。
【０２４７】
画像が形成された記録紙Ｐは、定着装置８０でトナー像が定着される。
【０２４８】
ここで、トナー像が中間転写体５０に転写された後、電子写真感光体１０は、転写後、潤滑剤供給装置６０により潤滑剤６２が電子写真感光体１０の表面へ供給されて、当該電子写真感光体１０の表面に潤滑剤６２の皮膜が形成される。その後、クリーニング装置７０のクリーニングブレード７２により、表面に残ったトナーや放電生成物が除去される。そして、クリーニング装置７０において、転写残のトナーや放電生成物が除去された電子写真感光体１０は、帯電装置２０により、再び帯電せられ、露光装置３０において露光されて潜像が形成される。
【０２４９】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、例えば、図６に示すように、筐体１１内に、電子写真感光体１０、帯電装置２０、現像装置４０、潤滑剤供給装置６０、及びクリーニング装置７０を一体に収容させたプロセスカートリッジ１０１Ａを備えた形態であってもよい。このプロセスカートリッジ１０１Ａは、複数の部材を一体的に収容し、画像形成装置１０１に脱着させるものである。なお、図６に示す画像形成装置１０１では、現像装置４０には、補給用現像剤収納容器４７を設けない形態が示されている。
プロセスカートリッジ１０１Ａの構成は、これに限られず、例えば、少なくとも、電子写真感光体１０を備えていればよく、その他、例えば、帯電装置２０、露光装置３０、現像装置４０、一次転写装置５１、潤滑剤供給装置６０及びクリーング装置７０から選択される少なくとも一つを備えていてもよい。
【０２５０】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体１０の周囲であって、一次転写装置５１よりも電子写真感光体１０の回転方向下流側でクリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置７０よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置２０よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体１０の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０２５１】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０１は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体１０に形成したトナー像を直接、記録紙Ｐに転写する方式を採用してもよいし、タンデム方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例】
【０２５２】
以下、実施例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２５３】
［実施例１］
（電荷輸送性の評価用および摩擦磨耗試験の評価用サンプルの作製）
−下引き層の作製−
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ2/ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１.３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間）焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤 （ブロック化イソシアネート スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製) ：１３.５質量部とブチラール樹脂 （エスレックＢＭ−１ 、積水化学社製) １５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン ：２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０.００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて板状のアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μｍの下引層を得た。
【０２５４】
−電荷発生層の作製−
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度(２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０２５５】
−電荷輸送層の作製−
炭素二重結合を持つ反応性官能基を有し、かつ電荷輸送性骨格を有する化合物である（ｉｉ−１８）で表される化合物［（ａ−１）］０．８０１ｇ、及びオール基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物であるカレンズＭＴ ＰＥ１（ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトブチレート）、昭和電工（株）製）［（ｂ−１）］０．３８１ｇをＴＨＦ（テトラヒドロフラン：安定剤不含有、和光純薬工業（株）製）／トルエン（脱水、和光純薬工業（株）製）＝５０質量部／５０質量部の混合溶媒１．４１０ｇに溶解させた。その後、重合開始剤であるＶＥ−７０（和光純薬工業（株）製）を（ａ−１）および（ｂ−１）の化合物の合計量の２質量％に相当する０．０２４ｇを加えて溶解させた。これを電荷輸送層形成用塗布液（電荷輸送性組成物）とした。
そして、電荷発生層上に、ギャップ０．１５ｍｍでブレード法によって塗布し、その後、酸素濃度３００ｐｐｍ以下の状態で、温度１５０±５℃、時間６０分で加熱処理して、電荷輸送膜を形成し、これを電荷輸送層とした。このとき電荷輸送層の膜厚は３２μｍであった。
【０２５６】
以上の操作を経て、電荷輸送性の評価用および摩擦磨耗試験の評価用サンプルの作製した。
【０２５７】
（折れ曲げ試験の評価用サンプルの作製）
上記電荷輸送層形成用塗布液を、ガラス基板上にギャップ０．３０ｍｍでブレード法によって塗布し、同様に加熱処理して得られた電荷輸送膜を形成した。このとき電荷輸送膜の膜厚は６９μｍであった。
以上の操作を経て、折れ曲げ試験の評価用サンプルを作製した。
【０２５８】
（電子写真感光体の作製）
電荷輸送性の評価用および摩擦磨耗試験の評価用サンプルと同様して、板状のアルミニウム基材上に、下引き層、電荷発生層、及び電荷輸送層を形成し、この各層が形成されたアルミニウム基材を電荷輸送層が外側を向くようにして、円筒状のアルミニウム基材に巻き付けて接着した。
以上の操作を経て、電子写真感光体を作製した。
【０２５９】
［実施例２〜２７、比較例１〜１１］
表１〜表３に従って、電荷輸送層形成用塗布液（電荷輸送性組成物）の組成を変更し、この電荷輸送層形成用塗布液（電荷輸送性組成物）を用いた以外は、実施例１と同様にして、各評価用サンプル、及び電子写真感光体を作製した。
【０２６０】
［評価］
各例で作製した各評価用サンプル、及び電子写真感光体について、以下の評価を行った。結果を表４〜表６に示す。
【０２６１】
−電荷輸送層（電荷輸送膜）の硫黄原子含有率の測定−
作製した電子写真感光体より、電荷輸送層（電荷輸送膜）をカッターナイフにより削りだし、サンプルを採取し、蛍光Ｘ線による元素分析法によって硫黄原子の含有率を測定した。
【０２６２】
−電荷輸送層（電荷輸送膜）を構成する樹脂が架橋樹脂である否かの確認−
作製した電子写真感光体の電荷輸送層（電荷輸送膜）を、テトラヒドロフランを含浸させた綿棒を用いて表面を最低１０回、ストロークで約１ｃｍ擦り、膜が溶解し、綿棒で擦った跡が目視で観察された場合は架橋樹脂ではない、擦った跡が観測されなかった場合は架橋樹脂であるとした。
【０２６３】
−電荷輸送性の評価−
作製した電荷輸送性の評価用サンプルに対して、２０ｍｍφの小面積マスクを使用し、２５±３℃、５０±１０％ＲＨの環境下において、静電気帯電試験装置（ＥＰＡ８２００、川口電機製作所社製）を用いて光減衰率を測定した。条件を以下に示す。
・初期表面電位＝−５５０．０（Ｖ）
・帯電直後から露光までの暗減衰時間＝１．０ｓ、そのときの表面電位をＶ１（Ｖ）とし、露光後、０．２ｓ後の表面電位をＶ２（Ｖ）とし、光減衰率＝（Ｖ１−Ｖ２）／Ｖ１×１００（％）とした。
・露光後、１．０ｓ後の残留表面電位をＶ３（Ｖ）とした。
上記評価において、光減衰率が大きく、残留電位が０に近いことは、光電変換速度に優れ、かつ電気的トラップが少ないことを表し、電荷輸送機能に優れる膜であることを表す。
【０２６４】
−摩擦磨耗試験の評価−
作製した摩擦磨耗試験の評価用サンプルに対して、トライボギア荷重変動型摩擦摩耗試験機ＨＨＳ−２０００（新東科学社製）を用いて、摩擦磨耗試験を実施し、１往復目、１００往復目の摩擦力（ｇｆ）を測定し、摩擦力（ｇｆ）（１００往復目）―摩擦力（ｇｆ）（１往復目）の値によって評価した。該数値は、周期的な運動に対して摩擦力の変化を表す指標である。さらに、１００往復後の磨耗深さを走査型共焦点レーザー顕微鏡ＯＬＳ１１００ＯＬＳ（オリンパス社製）にて測定した。
条件を以下に示す。
・２５±３℃、５０±１０％ＲＨ
・ダイヤモンド製針Ｒ＝０．２ｍｍ
・荷重２０ｇ
・往復速度１５ｍｍ／ｓｅｃ．
・往復回数１００回
上記評価において、磨耗力の変動が小さく、磨耗深さが小さいことは、機械的強度が高く、摩擦磨耗特性として長期的に安定して膜を摺動部位に用いることができることを表す。
【０２６５】
−折れ曲げ試験の評価−
作製した折れ曲げ試験の評価用サンプルの電荷輸送層（電荷輸送膜）に対して、カッターナイフを用いて、縦×横＝２５±１ｍｍ×１０±１ｍｍの短冊試験片を切り出し、折れ曲げ試験の評価を以下の基準により実施した。
◎：短冊試験片を切り出すことができ、より曲げることができ、さらに膜に靭性があった。
○：短冊試験片を切り出すことができ、より曲げることができた。
△：短冊試験片を切り出すことができ、ある程度曲げると膜が割れた。
×：短冊試験片を切り出すことができず、膜が割れた。
上記評価において、短冊試験片をより曲げることができることは、膜に可とう性があることを表し、靭性があることは、膜に対して外力がかかった場合にその耐性に優れることを表し、また屈曲した状態での膜の利用において有利であることを示す。
【０２６６】
−画像評価−
作製した電子写真感光体をプロセスカートリッジに取り付け、本プロセスカートリッジを富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃｏｌｏｒ ４５０改造機に装着し、２０±３℃、４０±５％ＲＨの環境下において、Ａ４紙に、１００％ベタ塗りおよび画像濃度２０％ハーフトーン画像の印刷画像を１０枚印刷し、初期画像評価を実施した。
その後、２８±３℃、８５±５％ＲＨの環境下で連続して５０００枚印刷し、さらに１０±３℃、１５±５％ＲＨの環境下で連続して５０００枚印刷し、その後、２０±３℃、４０±５％ＲＨの環境下で１０枚印刷して経時後画像評価を実施した。
そして、初期画像評価は、１０枚目の印刷画像の画像濃度２０％ハーフトーン画像部分を用いて、光学顕微鏡（倍率１００倍）用いて任意の１ｍｍ角（以下観察部位）、５箇所を観察し、以下の基準で評価した。
同様に、経時後画像評価も１００００枚印刷後、１０枚目の印刷画像を用いて、初期画像評価と同様にして評価した。
なお、画像評価には、富士ゼロックスオフィスサプライ製Ｐ紙（Ａ４サイズ、短手方向送り）を用いた。
Ａ：観察部位全体において、網点が観察され、画像流れが発生していない。
Ｂ：観察部位一部において、網点が現像されていない、又は画像流れが発生した。
Ｃ：観察部位の半分以上の領域において、網点が現像されていない、又は画像流れが発生した。
【０２６７】
【表１】
【０２６８】
【表２】
【０２６９】
【表３】
【０２７０】
【表４】
【０２７１】
【表５】
【０２７２】
【表６】
【０２７３】
上記評価の結果から、本実施例は、比較例に比べ、電荷輸送性の評価、摩擦磨耗試験評価、折れ曲げ試験評価、画像評価につき、良好な結果が得られたことがわかる。
【０２７４】
以下、表中に示す各材料の詳細について示す。なお、表中の「一分子当たりの官能基数」は、使用する化合物における、炭素二重結合を有する反応性官能基、又はチオール基の数を意味している。
［炭素二重結合を有する反応性官能基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物」
・（ａ−１）：（ｉｉ−１８）で示される化合物
・（ａ−２）：（ｉｉ−１９）で示される化合物
・（ａ−３）：（ｉｖ−１６）で示される化合物
・（ａ−４）：（ｉｖ−２８）で示される化合物
・（ａ−５）：（ｉｖ−５５）で示される化合物
［チオール基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物］
・（ｂ−１）：カレンズＭＴ ＰＥ１（ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトブチレート）、昭和電工（株）製、第２級チオール基を４つ含有する化合物）
・（ｂ−２）：ＰＥＭＰ（ペンタエリスリトール テトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ＳＣ有機化学（株）製、第１級チオール基を４つ含有する化合物）
・（ｂ−３）：カレンズＭＴ ＮＲ１（１，３，５−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ−トリオン）、昭和電工（株）製、第２級チオール基を３つ含有する化合物）
・（ｂ−４）カレンズＭＴ ＢＤ１（１、４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、昭和電工（株）製、第２級チオール基を２つ含有する化合物）
・（ｂ−５）１−ドデカンチオール（和光純薬工業（株）製、第１級チオール基を１つ含有する化合物）
［炭素二重結合を持つ反応性官能基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有しない化合物］
・（ｃ−１）：ＡＢＥ−３００（エトキシ化ビスフェノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製）
［チオール基を有し、且つ電荷輸送性骨格を有する化合物］
・（ｄ−１）：（ＡＡ−６）で示される化合物
・（ｄ−２）：（ＡＡ−２２）で示される化合物
【符号の説明】
【０２７５】
１ 下引層。２ 電荷発生層、３ 電荷輸送層、４ 導電性基体、５ 保護層、６ 単層型感光層、７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、７ 電子写真感光体、１０ 電子写真感光体、２０ 帯電装置、３０ 露光装置、４０ 現像装置、４１ 現像容器、４１Ａ 現像容器本体、４１Ｂ 現像容器カバー、４１Ｃ 仕切り壁、４２ 現像ロール、４２Ａ 現像ロール室、４３ 攪拌部材、４３Ａ 攪拌室、４４ 攪拌部材、４４Ａ 攪拌室、４５ 層厚規制部材、４６ 補給搬送路、４７ 補給用現像剤収納容器、５０ 中間転写体、５０Ａ 支持ロール、５０Ｂ 支持ロール、５０Ｃ 背面ロール、５０Ｄ 駆動ロール、５１ 一次転写装置、５２ 二次転写装置、５３ 記録紙供給装置、５３Ａ 搬送ロール、５３Ｂ 誘導板、５４ 中間転写体クリーニング装置、７０ クリーニング装置、７１ 筐体、７２ クリーニングブレード、８０ 定着装置、８１ 定着ロール、８２ 搬送回転体、１０１ 画像形成装置、１０１Ａ プロセスカートリッジ、
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下である電荷輸送膜。
【請求項２】
前記エンチオール樹脂の架橋物を含んで構成された硬化膜である電荷輸送膜。
【請求項３】
前記エンチオール樹脂の電荷輸送性骨格が、下記一般式（ＡＡＡ）で表される電荷輸送性骨格である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化１】
（一般式（ＡＡＡ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、
Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、
Ｄ１は、それぞれ独立に、エンチオール樹脂を構成する電荷輸送性骨格以外の部位と連結する連結基であって、「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−Ｓ−＊、又は「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｚ）ａ２−Ｙ’−ＣＨ（Ｒ）−ＣＨ２−＊を表し（但し、「Ａｒ」はＡｒ１〜Ａｒ５のうちＤ１が連結するものを表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−を表し、Ｙは−ＳＨが置換基として置換されていてもよい炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｚは−ＣＯ−、−Ｏ−、またはフェニレン基を表し、Ｒは水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、ａ１又はａ２はそれぞれ独立に０又は１を表す。なお、＊は電荷輸送性骨格以外の部位との連結部を表す。）、
ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、
ｋは０又は１を表し、Ｄ１の総数は２以上である。）
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電荷輸送膜を有する有機電子デバイス。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電荷輸送膜を最表面層として有する電子写真感光体。
【請求項６】
請求項５に記載の電子写真感光体を少なくとも備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
【請求項７】
請求項５に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収容し、前記現像剤により、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【請求項１】
電荷輸送性骨格を持つエンチオール樹脂を含んで構成され、且つ硫黄原子の含有率が２．０質量％以上１５質量％以下である電荷輸送膜。
【請求項２】
前記エンチオール樹脂の架橋物を含んで構成された硬化膜である電荷輸送膜。
【請求項３】
前記エンチオール樹脂の電荷輸送性骨格が、下記一般式（ＡＡＡ）で表される電荷輸送性骨格である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化１】
（一般式（ＡＡＡ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４は、それぞれ独立に、置換若しくは未置換のアリール基を表し、
Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基、又は置換若しくは未置換のアリーレン基を表し、
Ｄ１は、それぞれ独立に、エンチオール樹脂を構成する電荷輸送性骨格以外の部位と連結する連結基であって、「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｘ）ａ２−Ｙ−Ｓ−＊、又は「Ａｒ」−（Ｇ）ａ１−（Ｚ）ａ２−Ｙ’−ＣＨ（Ｒ）−ＣＨ２−＊を表し（但し、「Ａｒ」はＡｒ１〜Ａｒ５のうちＤ１が連結するものを表し、Ｇは炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｘは−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−を表し、Ｙは−ＳＨが置換基として置換されていてもよい炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｙ’は炭素数１以上５以下の２価の有機基を表し、Ｚは−ＣＯ−、−Ｏ−、またはフェニレン基を表し、Ｒは水素原子または炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、ａ１又はａ２はそれぞれ独立に０又は１を表す。なお、＊は電荷輸送性骨格以外の部位との連結部を表す。）、
ｃ１〜ｃ５はそれぞれ独立に０、１又は２を表し、
ｋは０又は１を表し、Ｄ１の総数は２以上である。）
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電荷輸送膜を有する有機電子デバイス。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電荷輸送膜を最表面層として有する電子写真感光体。
【請求項６】
請求項５に記載の電子写真感光体を少なくとも備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
【請求項７】
請求項５に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤を収容し、前記現像剤により、前記電子写真感光体に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【図２】
【図１】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図１】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１２−１５４９５６（Ｐ２０１２−１５４９５６Ａ）
【公開日】平成２４年８月１６日（２０１２．８．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１１０１９（Ｐ２０１１−１１０１９）
【出願日】平成２３年１月２１日（２０１１．１．２１）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月１６日（２０１２．８．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１月２１日（２０１１．１．２１）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
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