【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できる、ネガ型レジスト組成物に用いる樹脂成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式（ｆ１−１）又は一般式（ｆ１−２）で表される塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と架橋性基含有基を含む構成単位（ｆ２）とを有する高分子化合物。式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜５の低級アルキル基、又は炭素原子数１〜５のハロゲン化低級アルキル基であり；Ｘは二価の有機基であり、Ａ_ａｒｙｌは置換基を有していてもよい芳香族環式基であり、Ｘ_０１は単結合又は二価の連結基であり、Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と架橋性基含有基を含む構成単位（ｆ２）とを有する高分子化合物であって、
前記構成単位（ｆ１）が、下記一般式（ｆ１−１）又は一般式（ｆ１−２）で表される構成単位であることを特徴とする高分子化合物。
【化１】

［式中、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜５の低級アルキル基、又は炭素原子数１〜５のハロゲン化低級アルキル基であり；Ｘは二価の有機基であり、Ａ_ａｒｙｌは置換基を有していてもよい芳香族環式基であり、Ｘ_０１は単結合又は二価の連結基であり、Ｒ^２はそれぞれ独立してフッ素原子を有する有機基である。］
【請求項２】
前記構成単位（ｆ２）が、下記一般式（ｆ２−１）で表される基を含む構成単位、一般式（ｆ２−２）で表される基を含む構成単位および一般式（ｆ２−３）で表される基を含む構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位である請求項１記載の高分子化合物。
【化２】

［式中、Ｑ^１１はエーテル結合を有していてもよいアルキレン基であり、Ｑ^１２は２価の連結基であり、Ｑ^１３は−ＳＯ_２−又は−Ｃ（＝Ｏ）−であり、Ｑ^１４は芳香族環式基である。］

【図１】

【公開番号】特開２０１３−７０４６（Ｐ２０１３−７０４６Ａ）
【公開日】平成２５年１月１０日（２０１３．１．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−１８５４６２（Ｐ２０１２−１８５４６２）
【出願日】平成２４年８月２４日（２０１２．８．２４）
【分割の表示】特願２００８−１７６８４６（Ｐ２００８−１７６８４６）の分割
【原出願日】平成２０年７月７日（２００８．７．７）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】