説明

(Zn,In,Al)O系透明電極層を構成層とする太陽電池および前記(Zn,In,Al)O系透明電極層の形成に用いられるZnO−In2O3−Al系スパッタリングターゲット

【課題】 低い体積抵抗率を有し、もって光電変換効率の向上に寄与する(Zn,In,Al)O系透明電極層を構成層とする太陽電池および前記(Zn,In,Al)O系透明電極層の形成に用いられるZnO−In−Al系スパッタリングターゲットを提供する。
【課題手段】太陽電池を構成する(Zn,In)O系透明電極層を、質量%で、 酸化インジウム:0.1〜10%、金属Al:0.1〜5%、酸化亜鉛:残り、からなる配合組成(ただし、不可避不純物含有量:0.1%以下)を有する加圧成形体の焼結体で構成されたZnO−In−Al系スパッタリングターゲットを用いてスパッタ成膜する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、低い体積抵抗率を有し、もって光電変換効率の向上に寄与する(Zn,In,Al)O系透明電極層を構成層とする太陽電池および前記(Zn,In,Al)O系透明電極層の形成に用いられるZnO−In―Al系スパッタリングターゲットに関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来、ZnO系透明電極層を構成層とする太陽電池として複数種の太陽電池が提案されており、これら太陽電池の中でも光電変換効率の高い太陽電池として、例えばCIGS(CuInGaSe)化合物半導体系太陽電池が注目されている。
上記のCIGS化合物半導体系太陽電池(以下、CIGS太陽電池という)が、図3に概略縦断面説明図で例示される通り、例えば、ガラス基板の表面に、前記基板側から順に、スパッタ成膜された金属Mo電極層、同じくスパッタ成膜されたCuGa膜とIn膜の積層膜をHSe雰囲気で加熱反応させることで形成されたCIGS(CuInGaSe)層からなる光吸収層、化学析出法により堆積させたCdS層からなるバッファ層(前記バッファ層形成に際しては、前記光吸収層の上部側にCdが拡散してn型半導体層となり、この結果光吸収層のp型半導体層と繋がって発電に必要なp−n接合を形成する)、およびZnO系透明電極層を積層形成してなるセル構造を有することは良く知られるところである。
【0003】
また、上記のCIGS太陽電池の構成層であるZnO系透明電極層として、質量%で(以下、%は質量%を示す)
酸化インジウム(以下、Inで示す):0.1〜10%、
酸化亜鉛(以下、ZnOで示す):残り、
からなる配合組成(ただし、不可避不純物含有量:0.1%以下)を有する加圧成形体の焼結体からなるZnO−In系スパッタリングターゲットを用いてスパッタ成膜することにより形成された(Zn,In)O系透明電極層が知られている。
【0004】
さらに、一般に太陽電池の構成層である透明電極層においては、太陽光の透過率が高く、抵抗が低いほど太陽電池の光電変換効率を向上させる方向に作用するが、その理由は、透過率が高くなるほど透明電極層を通過して光吸収層まで到達する光の量が多くなり、これに対応して発電量が増加するようになるからであり、また、透明電極層には発生した電荷(電子またはホール)の集電層としての働きがあり、したがって、抵抗が低くなるほど発生した電荷を少ないロスで運べるようになるからである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開平04−219359号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
一方、近年の太陽電池のより一層の高性能化に対する要求は強く、これに伴い、これの構成層である透明電極層についても、これの透明性および導電性を高くして、太陽電池の光電変換効率の向上を図る研究が数多く行われている。
【課題を解決するための手段】
【0007】
そこで、本発明者らは、上記の観点から、太陽電池の構成層である透明電極層、特に上記の従来ZnO−In系スパッタリングターゲットを用いてスパッタ成膜された(Zn,In)O系透明電極層に着目し、これの透明性および導電性の一層の向上を図るべく研究を行なった結果、
(a)上記の通り、一般に透明電極層には、できるだけ高い透明性(高透過率)と導電性(低抵抗)を具備することが要求されるが、透明性は膜厚が薄くなるほど高くなり、実用膜厚が100〜300nm程度の(Zn,In)O系透明電極層では、薄膜のため、透明性に問題はないが、導電性(抵抗)は膜厚に大きく影響され、膜厚が薄くなればなるほど抵抗は高いものとなるので、膜厚が100〜300nm程度の薄膜の(Zn,In)O系透明電極層では抵抗の低下を図ることが太陽電池の光電変換効率の向上に不可欠であること。
なお、実用膜厚が100〜300nm程度の薄膜の(Zn,In)O系透明電極層では、上記の通り膜厚が抵抗に及ぼす影響がきわめて大きなものとなるので、抵抗を体積抵抗率、すなわち「膜厚×抵抗」で表すのが一般的である。
【0008】
(b)上記の従来ZnO−In系スパッタリングターゲット、すなわち原料粉末として、いずれも99%以上の純度および1μm以下の平均粒径を有するZnO粉末およびIn粉末を用い、
In:0.1〜10%、
ZnO:残り、
からなる配合組成(ただし、不可避不純物含有量:0.1%以下)に配合して、加圧成形体とし、これを焼結して焼結体としてなる従来ZnO−In系スパッタリングターゲット(以下、従来ターゲットという)について、XRD(X線回折)装置およびSEM(走査型電子顕微鏡)装置を用いて、その組織を観察したところ、ZnOの素地にInが分散分布した組織を示すことが確認され、また、前記従来ターゲットからDCマグネトロンスパッタリング装置を用いて形成された(Zn,In)O系透明電極層(以下、従来透明電極層という)の体積抵抗率を4探針法を用いて測定すると、150nmの膜厚で(36.88〜127.6)×10−4Ω・cmの体積抵抗率を示すこと。
【0009】
(c)上記(b)の従来ターゲットに金属Alを配合したZnO−In−Al系スパッタリングターゲット、すなわち原料粉末として、いずれも同じく99%以上の純度および1μm以下の平均粒径を有するZnO粉末およびIn粉末、さらに99%以上の純度および10μm以下の平均粒径を有する金属Al粉末を用い、
In:0.1〜10%、
金属Al:0.1〜5%、
ZnO:残り、
からなる配合組成(ただし、不可避不純物含有量:0.1%以下)に配合して、加圧成形体とし、これを焼結して焼結体としてなるZnO−In−Al系スパッタリングターゲット(以下、本発明ターゲットという)について、同じくXRD装置およびSEM装置を用いて、その組織を観察したところ、ZnOの素地にInおよび金属Alが分散分布した組織を示すことが確認され、また、この結果得られた本発明ターゲットから、同じくDCマグネトロンスパッタリング装置を用いて形成された(Zn,In,Al)O系透明電極層(以下、本発明透明電極層という)について、その組織をXRD装置を用いて観察したところ、ZnOのもつ六方晶結晶構造が観察され、一方金属Alは観察されず、さらにその体積抵抗率を同じく4探針法を用いて測定すると、150nmの膜厚で(3.53〜4.98)×10−4Ω・cmの体積抵抗率を示すこと。
【0010】
(d)上記(b)および(c)に示される結果から、上記(c)の金属Alを配合した本発明ターゲットを用いてスパッタ成膜された本発明透明電極層の方が上記(b)の金属Alの配合がない従来ターゲットを用いてスパッタ成膜された従来透明電極層に比して、低い体積抵抗率を示すことが明らかであるが、これは以下に述べる理由によるものと解されること。すなわち、図2は従来透明電極層の六方晶結晶構造を模式図で示すが、図示される通り、成膜時に、六方晶のZnO結晶格子中にInが入る際に、In(原子比で、In:O=1:1.5)ではZnO(同Zn:O=1:1)と比べて酸素の割合が多いので、In:1分子当たり0.5個の酸素が余ってしまい、これが結晶格子の隙間に位置することになり、この結晶格子の隙間に位置する格子間酸素原子は、Inから出されるキャリア電子を捕獲し、中性的な格子間不純物となってキャリア電子を減少させると同時に、伝導電子を散乱し、移動度を減少させることから、抵抗率が増加することになる。一方、図1は本発明透明電極層の六方晶結晶構造を模式図で示すが、図示される通り、成膜時に、六方晶のZnO結晶格子中にInが入る際に、原料粉末としてターゲット中に配合した金属AlがIn:1分子当たり0.5個の余分な酸素を伴ってAlOの形でZnOの六方晶結晶格子中に取込まれるために、格子間に位置する中性的な格子間不純物が減少し、この結果キャリア電子および伝導電子の移動度とも増加することから、体積抵抗率が低下するようになるものと解されること。
以上(a)〜(d)に示される研究結果を得たのである。
【0011】
この発明は、かかる研究結果に基づいてなされたものであって、
(1)(Zn,In)O系透明電極層を構成層とする太陽電池において、前記(Zn,In)O系透明電極層を、
In:0.1〜10%、
金属Al:0.1〜5%、
ZnO:残り、
からなる配合組成(ただし、不可避不純物含有量:0.1%以下)を有する加圧成形体の焼結体で構成されたZnO−In−Al系スパッタリングターゲット(本発明ターゲット)を用いてスパッタ成膜してなる、体積抵抗率の低い(Zn,In,Al)O系透明電極層(本発明透明電極層)で構成してなる光電変換効率の高い太陽電池。
(2)上記(1)の(Zn,In,Al)O系透明電極層が150nmの膜厚で(3.53〜4.98)×10−4Ω・cmの体積抵抗率を示す上記(1)記載の光電変換効率の高い太陽電池。
(3)太陽電池を構成する(Zn,In)O系透明電極層のスパッタ成膜に用いられ、かつ、
In:0.1〜10%、
金属Al:0.1〜5%、
ZnO:残り、
からなる配合組成(ただし、不可避不純物含有量:0.1%以下)を有する加圧成形体の焼結体で構成してなるZnO−In−Al系スパッタリングターゲット(本発明ターゲット)。
以上(1)〜(3)に特徴を有するものである。
【0012】
つぎに、上記の太陽電池を構成する本発明透明電極層の形成に用いられる本発明ターゲットの配合組成を上記の通りに限定した理由を説明する。
(a)In
In:には、ターゲットの抵抗を下げて、成膜速度の速いDCスパッタでも安定した成膜ができるようにする作用があるが、その割合が0.1%未満では前記作用を十分に発揮することができず、一方その割合が10%を越えると、透明電極層における結晶格子の隙間に位置する格子間酸素原子の割合が多くなり過ぎ、これがAlから出されるキャリア電子を捕獲し、中性的な格子間不純物となってキャリア電子を減少させると同時に、伝導電子を散乱し、移動度を減少させ、この結果透明電極層の抵抗が上昇するようになることから、その割合を0.1〜10%、望ましくは1〜7%と定めた。
【0013】
(b)金属Al
金属Alには、上記の通り、スパッタ成膜時にInの余分な酸素を伴ってAlOの形でZnOの六方晶結晶格子中に入り込み、格子間に位置する中性的な格子間不純物を減少させ、もって透明電極層の体積抵抗率を低下させる作用があるが、その割合が0.1%未満では前記作用が不十分となり、所望の体積抵抗率低下を図ることができず、一方その割合が10%を越えると、透明電極層の結晶性が急激に低下するようになり、これが原因で透明電極層の体積抵抗率が増加するようになることから、その割合を0.1〜5%、望ましくは0.5〜3%と定めた。
また、ターゲット中の不可避不純物の割合が0.1%を越えて多くなると、これを用いて形成された透明電極層における不可避不純物の割合も0.1%を越えて多くなってしまい、透明性(透過率)および導電性(抵抗率)とも低下するようになることから、ターゲット中の不可避不純物の含有割合を0.1%以下にして、透明電極層中の不可避不純物の割合を0.1%以下にする必要がある。
【発明の効果】
【0014】
上記の配合組成を有する本発明ターゲットを用いて形成された本発明透明電極層は、ターゲット中のAlがスパッタ成膜時にInの余分な酸素を伴ってAlOの形でZnOの六方晶結晶格子中に入り込むので、格子間に位置する中性的な格子間不純物が減少し、この結果実用膜厚が100〜300nmの薄膜でも体積抵抗率のきわめて低いものとなるので、太陽電池の光電変換効率が向上するようになるものである。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】本発明透明電極層の六方晶結晶構造を示す模式図である。
【図2】従来透明電極層の六方晶結晶構造を示す模式図である。
【図3】CIGS太陽電池のセル構造を示す概略縦断面説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
つぎに、本発明ターゲットおよび本発明透明電極層を実施例により従来ターゲットおよび従来透明電極層と比較しながら具体的に説明する。
【実施例】
【0017】
原料として、いずれも平均粒径:0.5μm、純度:99.9%以上のZnO粉末およびIn粉末、さらに平均粒径:5μm、純度:99%以上の金属Al粉末を用意し、これら原料粉末を表1に示される配合割合に配合し、乾式ボールミルで48時間混合し、混合粉末を黒鉛型に投入し、圧力:350kgf/cmの、温度:600℃、保持時間:3時間の条件で加圧成形体とし、ついで、これを大気中、1400℃の温度に5時間保持して焼結体とし、これを研削して、直径:125mm×厚さ:5mmの円板状形状を有する本発明ターゲット1〜12および従来ターゲット1〜12をそれぞれ製造した。
この結果得られた本発明ターゲット1〜12および従来ターゲット1〜12について、それぞれ試料を切り出し、粉末状に粉砕し、XRD装置を用いて成分組成の分析を行ったところ、本発明ターゲット1〜12は、いずれもZnO、In、および金属Alの回折ピークが現れ、この結果Inおよび金属AlがZnO中に固溶していないことが確認され、SEM装置による組織観察では前記ZnO、In、および金属Alがそれぞれ分離分布して存在する組織をもつことが確認され、また、配合組成と実質的に同じ成分組成をもつことも確認され、一方従来ターゲット1〜12は、いずれもZnOおよびInの回折ピークが現れ、この結果InがZnO中に固溶せずに混在する組織をもつことが確認された。さらに、いずれのターゲットも不可避不純物の含有量は0.1%以下であった。
また、いずれのターゲットも5.36〜5.52g/cmの範囲内の密度を示した。
【0018】
ついで、平面寸法:50mm×50mm、厚さ:0.7mmのノンアルカリガラス基板を用意し、これをDCマグネトロンスパッタリング装置内に装入し、通常の形成条件で、前記ガラス基板の表面に、まず厚さ:0.2μmの金属Mo電極層をスパッタ形成した後、Cu−Ga合金層(Ga:30原子%含有)および金属In層をそれぞれ1.5μmおよび0.5μmの厚さで積層形成し(前記In層が上側)、これを別途設けたアニ―ル用真空チャンバーに装入し、ガス圧:0.1PaのHSe雰囲気中、基板温度:550℃で1時間保持のアニール処理を施して、CuInGaSe合金層(CIGS光吸収層)を形成し、つぎに化学析出法にて厚さ:0.06μmのCdS層(バッファー層)を堆積形成し、ついで前記バッファー層形成後、再びDCマグネトロンスパッタリング装置内に装入し、さらに、透明電極層の体積抵抗率を測定する目的で、別途平面寸法:50mm×50mm、厚さ:0.7mmのノンアルカリガラス基板を一緒に装入し、上記の本発明ターゲット1〜12および従来ターゲット1〜12を、それぞれ無酸素銅製バッキングプレートにInはんだを用いてはんだ付けした状態で用い、
磁界強度:1000ガウス(ターゲット直上、水平成分)、
基板温度:200℃、
到達圧力(真空度):5×10−5Pa、
スパッタリングガス:Ar
スパッタリングガス圧:0.5Pa、
DC出力:200W、
膜厚:150nm、
の条件で本発明透明電極層1〜12および従来透明電極層1〜12をそれぞれ形成することにより本発明太陽電池試料1〜12および従来太陽電池試料1〜12、並びに前記透明電極層の体積抵抗率測定用試片をそれぞれ製造した。
【0019】
この結果得られた本発明太陽電池試料1〜12および従来太陽電池試料1〜12について、電流電圧測定装置としてI−Vカーブトレーサーを用い、光源をソーラーシミュレーター(AM:1.5、1SUNの擬似太陽光)とした条件で測定を行い、得られたI−Vカーブより、開放電圧(Jsc)、短絡電流(Voc)、フィルファクター(FF)を求め、これから光電変換効率を算出し、さらに上記の透明電極層の体積抵抗率測定用試片を用い、4探針法にてそれぞれの透明電極層の体積抵抗率を測定した。これらの結果を表2に示した。
【0020】
【表1】

【0021】
【表2】

【0022】
表1,2に示される通り、本発明ターゲット1〜12を用いて、スパッタ成膜された本発明透明電極層1〜9は、いずれも3.53〜4.98×10−4Ω・cmの相対的にきわめて低い体積抵抗率を示し、一方従来ターゲット1〜12を用いて、スパッタ成膜された従来透明電極層1〜12は、いずれも著しく高い36.88〜127.6×10−4Ω・cmの体積抵抗率を示し、この結果が光電変換効率に現れ、本発明太陽電池試料1〜12は従来太陽電池試料1〜12に比して一段とすぐれた光電変換効率を示すことが明らかである。
【産業上の利用可能性】
【0023】
この発明の透明電極層は、CIGS化合物半導体系太陽電池以外の化合物半導体系太陽電池、さらに有機太陽電池や色素増感太陽電池などの透明電極層としての適用も可能である。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
(Zn,In)O系透明電極層を構成層とする太陽電池において、前記(Zn,In)O系透明電極層を、質量%で、
酸化インジウム:0.1〜10%、
金属Al:0.1〜5%、
酸化亜鉛:残り、
からなる配合組成(ただし、不可避不純物含有量:0.1%以下)を有する加圧成形体の焼結体で構成されたZnO−In−Al系スパッタリングターゲットを用いてスパッタ成膜してなる、体積抵抗率の低い(Zn,In,Al)O系透明電極層で構成したことを特徴とする光電変換効率の高い太陽電池。
【請求項2】
上記(Zn,In,Al)O系透明電極層が150nmの膜厚で(3.53〜4.98)×10−4Ω・cmの体積抵抗率を示すことを特徴とする請求項1記載の光電変換効率の高い太陽電池。
【請求項3】
太陽電池を構成する(Zn,In)O系透明電極層のスパッタ成膜に用いられ、かつ、質量%で、
酸化インジウム:0.1〜10%、
金属Al:0.1〜5%、
酸化亜鉛:残り、
からなる配合組成(ただし、不可避不純物含有量:0.1%以下)を有する加圧成形体の焼結体で構成したことを特徴とするZnO−In−Al系スパッタリングターゲット。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【公開番号】特開2010−238894(P2010−238894A)
【公開日】平成22年10月21日(2010.10.21)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2009−84915(P2009−84915)
【出願日】平成21年3月31日(2009.3.31)
【出願人】(000006264)三菱マテリアル株式会社 (4,417)
【Fターム(参考)】