説明

3−O−保護されたモルフィノンおよび3−O−保護されたモルフィノンジエノールカルボキシレートの製造方法

対応する一級又は二級のアルコールをトリクロロイソシアヌル酸、式R1SR2の化合物および塩基の存在下で反応させることを含む、アルデヒドおよびケトンを製造する方法が開示されている。一つの実施形態においては、アルコールは式(I)(式中、R3は保護基である)の化合物である。また、式(I)の化合物を塩素含有化合物および式R1SR2の化合物の存在下で酸化させ;そして酸化段階の生成物をアシル化剤と反応させることを含む3−O−保護されたモルフィンジエノールカルボキシレートを製造する方法も開示されている。



【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
1.技術分野
本発明は3−O−保護されたモルフィノンおよび3−O−保護されたモルフィノンジエノールカルボキシレートを製造する方法に関する。本発明は、また、対応する一級および二級アルコールからそれぞれアルデヒド及びケトンを製造する方法にも関する。
【背景技術】
【0002】
2.発明の背景
モルフィンおよびモルフィンの構造類似体(「モルフィンアルカロイド」)、例えばコデイン、ヒドロコドン、ヒドロモルホン、ナロキソン、ナルトレキソン、オキシコドンおよびオキシモルホンが鎮痛処方薬剤において使用される。他のモルフィン類似体、例えばテバインは、鎮痛性モルフィンアルカロイドを製造するのに有用な出発材料である。しかしながら、テバインはケシ植物の種子に見出されるモルフィンアルカロイドの少量成分しかなく、そしてテバインを製造するための合成方法は比較的高コストである(Chiuらへの米国特許第6,262,266B1号を参照のこと)。
【0003】
コデイノンジエノールアセテートは、モルフィノンジエノールアセテートの3−O−メチル誘導体であるが、鎮痛性および拮抗性のモルフィンアルカロイド、例えばナロキソン、ナルトレキソンおよびオキシコドンを製造するのに有用なモルフィンアルカロイドである(例えば、Huangらへの米国特許第6,013,796号を参照のこと)。コデイノンジエノールアセテートは、コデインをコデイノンに酸化し、続いてアシル化することにより製造可能である(例えば、Huangらへの米国特許第6,013,796号を参照のこと)。
【0004】
他の3−O−保護された−モルフィノンジエノールカルボキシレートは既知であり、そして一般に、対応する3−O−保護された−モルフィンを酸化し、続いてアシル化することにより製造される。多数のこれらの3−O−保護された−モルフィノンジエノールカルボキシレートが他の有用なモルフィンアルカロイドの製造に使用されてきた。
【0005】
次の段落は、対応する3−O−保護されたモルフィンの酸化による3−O−保護されたモルフィノンを製造するための既知の方法に関する。
【0006】
コデインは3−O−メチルモルフィンであり、そしてコデイノンは3−O−メチルモルフィノンである。
【0007】
Homeyerらへの米国特許第2,654,75号は、コデインとアルミニウムトリ(tert−ブトキシド)およびメトキシシクロヘキサノンとをトルエン中で反応させて、コデイノンを形成することを述べ、コデイノンの収率は50%未満であると報告している。
【0008】
Ninanら、Tetrahedron 48:6709-6716(1992)は、3−O−ジメチル−t−ブチルシリルモルフィンと二酸化マンガンとをクロロホルム中25℃で反応させて、3−O−ジメチル−t−ブチルシリルモルフィノンを形成することを述べている。
【0009】
Ninanらは、また、同文献で、3−O−ジメチル−t−ブチルシリルモルフィンと過ルテニウム酸テトラプロピルアンモニウムおよびN−メチルモルホリン−N−オキシドとをジクロロメタン中非特定の温度で反応させて、3−O−ジメチル−t−ブチルシリルモルフィノンを約86%収率で形成することも述べている。
【0010】
Huangらへの米国特許第6,013,796号は、3−O−アセチルモルフィンと塩基の存在下でジメチルスルホキシド(「DMSO」)とオキサリルクロリドから形成される錯体とを−78℃で反応させて(「スワーン酸化法」)、対応する3−アセチルモルフィノンを73%収率で得ることを述べている。米国特許第6,013,796号は、また、3−O−ベンジルモルフィンを類似の条件下で反応させて、3−O−ベンジルモルフィノンを65%収率で得ることも述べている。しかしながら、記述された方法はモルフィン1モル当たり少なくとも2.5モル当量のDMSOを必要とし、そして悪臭性のジメチルスルフィドを副成物として生成する。
【0011】
これらの記述された方法にも拘わらず、3−O−保護されたモルフィノンを製造するための改善された方法に対する必要性が存在する。
【0012】
上述されたスワーン酸化法は、攻撃的な無機酸化剤、例えばMnO2の使用を回避し、そして一般に、一級および二級アルコールをそれぞれアルデヒド及びケトンに酸化するのに有用であるために多くの研究の焦点となってきた。例えば、De Lucaら、J.Org.Chem.66:7907-7909(2001)は、一級又は二級アルコールとDMSOおよびトリクロロシアヌル酸(「TCCA」)から形成される錯体とをテトラヒドロフラン(「THF」)中−30℃でトリエチルアミンの存在下で反応させて、対応するアルデヒドおよびケトンがそれぞれ得られることを述べている。しかしながら、悪臭のジメチルスルフィドがこの反応の副成物として形成される。従って、スワーン酸化法の改良または更に魅力のある代替法の開発に多くの努力が費やされてきた。
【0013】
次の段落は、スワーン酸化法に対する既知の改良および代替法に関する。
【0014】
Nishideら、Tetrahedron.Lett.43:5177-5179(2002)は、ドデシルメチルスルホキシドをスルホキシド反応試剤として使用する低臭気性のスワーン酸化法を述べている。
【0015】
Harrisら、J.Org.Chem.63:2407-2409(1998)は、ポリマーに結合した6−(メチルスルフィニル)ヘキサン酸をスルホキシド反応試剤として使用する低臭気性のスワーン酸化法を述べており、そしてスルホキシド反応試剤はこのスルフィド副成物とNaIO4とを反応させることにより再生可能である。
【0016】
このスワーン反応の代替法がCoreyら、J.Am.Chem.Soc.94:7586-7587(1972)で述べられている。ここでは、一級又は二級アルコールがジメチルスルフィドおよびN−クロロスクシンアミド(「NCS」)またはCl2から形成される錯体と−25℃で塩基の存在下で反応(「Corey−Kim酸化」)されて、対応するアルデヒドおよびケトンをそれぞれ形成する。しかしながら、このCoreyの文献は、2−シクロヘキセノールの反応が2−シクロヘキセノンでなくクロロシクロヘキセンを形成するということを開示している。加えて、この記述された方法は悪臭性のジメチルスルフィドを試剤として使用する。
【0017】
Ohsugiら、Tetrahedron 59:8393-8398(1992)は低臭気性のCorey−Kim酸化法を述べている。ここでは、一級又は二級アルコールがCH3S(C1225)およびNCSとトリエチルアミンの存在下−40℃で反応されるが、記述された方法はアルコール1モル当たり少なくとも3倍モル過剰のこのスルフィドおよびNCSを使用する。
【0018】
これらの記述された方法にも拘わらず、一級又は二級アルコールをそれぞれ対応するアルデヒド又はケトンを酸化するための改善された方法に対する必要性が存在する。
【0019】
この出願のセクション2における任意の文献の引用は、この文献が本出願の先行技術であるということを認めたものでない。
【発明の開示】
【0020】
3.発明の概要
本発明は、対応する一級又は二級アルコールからそれぞれアルデヒドまたはケトンを形成するための方法に関する。
【0021】
一つの実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基の存在下でケトンを製造するのに充分な条件下で二級アルコールを反応させることを含むケトンを製造する方法に関する(式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルである)。
【0022】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基の存在下でアルデヒドを製造するのに充分な条件下で一級アルコールを反応させることを含むアルデヒドを製造する方法に関する(式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルである)。
【0023】
本発明は、また、3−O−保護されたモルフィノンを製造する方法にも関する。
【0024】
一つの実施形態においては、本発明は、式(I):
【化16】

の化合物を式R1SR2の化合物および塩素含有試剤の存在下で式(II):
【化17】

の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させることを含む式(II)の化合物を製造する方法に関する(式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;そしてR3は保護基である)。
【0025】
本発明は、また、モルフィノンの3−O−保護されたジエノールカルボキシレート誘導体を製造する方法にも関する。
【0026】
一つの実施形態においては、本発明は、
(a)式(I):
【化18】

の化合物を式R1SR2の化合物および塩素含有試剤の存在下で式(II):
【化19】

の化合物を含む混合物を製造するのに充分な条件下で反応させ、そして
(b)式(II)の化合物を第1の塩基および式R4C(O)OC(O)R4またはR4C(O)Xのアシル化剤
と式(III):
【化20】

の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させることを含む式(III)の化合物を製造する方法に関する
(式中、R1およびR2は各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;
3は保護基であり;
4は−(C1−C10)アルキルであり;そして
Xは−Cl、−Brまたは−Iである)。
【0027】
本発明は、また、一級又は二級アルコールをそれぞれアルデヒドまたはケトンに酸化するのに有用な新規な組成物にも関する。
【0028】
一つの実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基を含む組成物に関する(式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキル又は−フェニルである)。
【0029】
本発明は、また、モルフィノンの新規な3−O−保護されたジエノールカルボキシレート誘導体にも関する。
【0030】
一つの実施形態においては、本発明は、R3が−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)であり;そしてR4が−(C1−C10)アルキルである
式(III)の化合物に関する。
【0031】
本発明は、次の詳細な説明および本発明の非限定的な実施形態を例示する例示の実施例を参照することにより更によく理解し得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【0032】
4.発明の詳細な説明
4.1.定義
本明細書中で使用されるように、総括的な語句「3−O−保護されたモルフィン」は、式(I):
【化21】

(式中、R3は保護基である)
の構造を有する化合物を指す。
【0033】
式(Ia)の化合物は構造:
【化22】

(式中、R3は保護基である)
を有する。
【0034】
本明細書中で使用されるように、総括的な語句「3−O−保護されたモルフィノン」は、式(II):
【化23】

(式中、R3は保護基である)
の構造を有する化合物を指す。
【0035】
式(IIa)の化合物は構造:
【化24】

(式中、R3は保護基である)
を有する。
【0036】
本明細書中で使用されるように、総括的な語句「3−O−保護されたモルフィノンジエノールカルボキシレート」は、式(III):
【化25】

(式中、R3は保護基であり、そしてR4は−(C1−C10)アルキルである)
の構造を有する化合物を指す。
【0037】
式(IIIa)の化合物は構造:
【化26】

(式中、R3は保護基であり、そしてR4は−(C1−C10)アルキルである)
を有する。
【0038】
本明細書中で使用されるように、用語「ハロ」は−F、−Cl、−Brまたは−Iを指す。
【0039】
本明細書中で使用されるように、用語「−(C1−C10)アルキル」は1〜10個の炭素原子を有する飽和した直鎖又は分岐鎖の炭化水素を意味する。代表的な飽和直鎖(C1−C10)アルキルは、−メチル、−エチル、−n−プロピル、−n−ブチル、−n−ペンチル、−n−ヘキシル、−n−ヘプチル、−n−オクチル、−n−ノニルおよび−n−デシルである。代表的な飽和分岐−(C1−C10)アルキルは、−イソプロピル、−sec−ブチル、−イソブチル、−tert−ブチルなどである。
【0040】
本明細書中で使用されるように、用語「−(C1−C20)アルキル」は1〜20個の炭素原子を有する飽和した直鎖又は分岐炭化水素を意味する。代表的な飽和直鎖(C1−C20)アルキルは、−メチル、−エチル、−n−プロピル、−n−ブチル、−n−ペンチル、−n−ヘキシル、−n−ヘプチル、−n−オクチル、−n−ノニル、−n−デシル、−n−ウンデシル、−n−ドデシル、−n−トリデシル、−n−テトラデシル、−n−ペンタデシル、−n−ヘキサデシル、−n−ヘプタデシル、−n−オクタデシル、−n−ノナデシル、および−n−エイコシルである。飽和分岐−(C1−C20)アルキルの非限定的な例は、−イソプロピル、−sec−ブチル、−イソ−ブチル、−tert−ブチルなどである。
【0041】
本明細書中で使用されるように、語句「保護基」は、モルフィン、モルフィノンおよびモルフィノンジエノールカルボキシレートの3−O−位置を望まない反応から保護するのに有用である、−H以外の基を意味する。保護基は、所望されるならば、式(III)の化合物を形成した後−Hまたは別の基により置換可能である。
【0042】
本明細書中で使用されるように、語句「無水」は、有機溶媒に関して使用される場合には、本明細書中で別に定義しない限り、水と有機溶媒の合計量の約0.01重量%未満の水の量を有する有機溶媒を意味する。
【0043】
本明細書中で使用されるように、語句「塩素含有試剤」は、モルフィノン形成方法またはモルフィノン形成段階に関して使用される場合には、式(I)の化合物から式(II)の化合物の形成を促進するのに有用である反応性塩素を有する化合物または錯体を指す。
【0044】
本明細書中で使用されるように、用語「単離」は、式(II)又は(III)の化合物を含む混合物に関して使用される場合、存在する場合には有機溶媒と存在する場合には水から式(II)又は(III)の化合物を分離することを意味する。
【0045】
4.2.一級又は二級アルコールの酸化方法
上記のように、本発明は、一級又は二級アルコールを酸化して、それぞれアルデヒドまたはケトンを形成する方法(「カルボニル形成方法」)に関する。既知の方法に比較して、一級又は二級アルコールを酸化する本発明の方法は、慣用の方法よりも温和な条件下でおよび/または効率的な試剤の使用により実施可能である。
【0046】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法は低臭気性の酸化法の使用を含む。
【0047】
一つの実施形態においては、本発明は、二級アルコールを式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基の存在下、ケトンを製造するのに充分な条件下で反応させることを含むケトンを製造する方法に関する(式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルである)。
【0048】
有用な二級アルコールの非限定的な例は、2−プロパノール、2−ブタノール、2−ペンタノール、3−メチルブタン−2−オル、2−ヘキサノール、3−メチル−2−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、3−ヘキサノール、2−メチル−3−ペンタノール、2−ヘプタノール、3−メチル−2−ヘキサノール、4−メチル−2−ヘキサノール、5−メチル−2−ヘキサノール、3−エチル−2−ペンタノール、3,3−ジメチル−2−ペンタノール、3,4−ジメチル−2−ペンタノール、4,4−ジメチル−2−ペンタノール、3−ヘプタノール、2−メチル−3−ヘプタノール、4−メチル−3−ヘプタノール、5−メチル−3−ヘプタノール、2,2−ジメチル−3−ペンタノール、2,4−ジメチル−3−ペンタノール、2−エチル−3−ペンタノール、4−エチル−3−ペンタノール、4−ヘプタノール、などの直鎖および分岐鎖のアルキル、アルケニル、およびアルキニルの一級アルコール;環状二級アルコール、例えばシクロヘキサノール;R3が保護基である式(I)又は(Ia)の化合物;アルキルアリール二級アルコール、例えば1−フェニル−1−エタノール、1−フェニル−l−プロパノール、1−フェニル−l−プロパノールなど;ジアルキル二級アルコール、例えばジフェニルメタノール;オリゴマーおよびポリマーアルコール、例えばポリビニルアルコールのオリゴマーおよびポリマーなどを含む。
【0049】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法は式(I)(式中、R3は保護基である)の化合物の使用を含む。
【0050】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法は式(Ia)の二級アルコールの使用を含む。
【0051】
カルボニル形成方法が式(I)の化合物を含む場合に有用な保護基の非限定的な例は、−(C1−C10)アルキル;−ベンジル;アシル、例えば−C(O)(C1−C10)アルキルおよび−C(O)C65;カーボネート、例えば−C(O)O(C1−C10)アルキル);シリル、例えば−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、及び−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル);ホスフィンオキシド、例えば−P(O)(CH32;ホスフィンスルフィド、例えば−P(S)(CH32;並びにアリールスルホネート、例えば−S(O)OC64−p−CH3を含む。
【0052】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法は、式(I)(式中、R3は−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O(C1−C10)アルキル、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である)の化合物の使用を含む。
【0053】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法は式(I)(式中、R3は−CH3である)の化合物の使用を含む。
【0054】
別の実施形態においては、カルボニル形成方法は式(I)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)である)の化合物の使用を含む。
【0055】
別の実施形態においては、カルボニル形成方法は式(I)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3である)の化合物の使用を含む。
【0056】
別の実施形態においては、カルボニル形成方法は式(I)(式中、R3は−Si(CH32(C(CH33)である)の化合物の使用を含む。
【0057】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基の存在下でアルデヒドを製造するのに充分な条件下で一級アルコールを反応させることを含むアルデヒドを製造する方法に関する(式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルである)。
【0058】
カルボニル形成方法において有用な一級アルコールの非限定的な例は、限定ではないが、直鎖および分岐鎖のアルキル、アルケニル、およびアルキニル一級アルコール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、2−メチルプロパノール、n−ペンタノール、2−メチルブタノール、3−メチルブタノール、n−ヘキサノール、2−メチルペンタノール、3−メチルペンタノール、4−メチルペンタノール、2,2−ジメチルブタノール、2,3−ジメチルブタノール、3,3−ジメチルブタノール、2−エチルブタノール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、n−ノナノール、n−デカノールなどを含む。
【0059】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法は、式R1SR2(式中、R1は−メチルであり、そしてR2は−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルである)の化合物の使用を含む。
【0060】
別の実施形態においては、カルボニル形成方法は、式R1SR2(式中、R1は−CH3であり、そしてR2は−(C1−C20)アルキルである)の化合物の使用を含む。
【0061】
別の実施形態においては、カルボニル形成方法は、式R1SR2(式中、R1は−CH3であり、そしてR2は−(C12)アルキルである)の化合物の使用を含む。
【0062】
塩基は有機塩基または無機塩基である。カルボニル形成方法において有用な有機塩基の非限定的な例は、限定ではないが、有機アミン、例えばトリアルキルアミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど;アリールジアルキルアミン、例えばジメチルフェニルアミンおよびジエチルフェニルアミン;ピリジンおよび1またはそれ以上の−(C1−C4)アルキルにより置換されたピリジン、例えば2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、2,3−ジメチルピリジン、2,4−ジメチルピリジン、2,5−ジメチルピリジン、3,4−ジメチルピリジン、3,5−ジメチルピリジン、2,3,4−トリメチルピリジン、2,3,5−トリメチルピリジン、2,4,5−トリメチルピリジン、3,4,5−トリメチルピリジンなど;ジアルキルアミノ基により置換されたピリジン、例えばパラ−N,N−ジメチルアミノピリジン;弱酸のアルカリ金属塩、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムおよびセシウムカルボキシレート;およびこれらの任意の組み合わせ物を含む。
【0063】
カルボニル形成方法における有用な無機塩基の非限定的な例は、アルカリ金属、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムおよびセシウムの水酸化物を含む。
【0064】
一つの実施形態においては、塩基は有機塩基である。別の実施形態においては、有機塩基は有機アミンである。別の実施形態においては、有機アミンは、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルピリジンまたはジメチルアミノピリジンである。別の実施形態においては、有機アミンはトリエチルアミンである。
【0065】
別の実施形態においては、塩基は無機塩基である。
【0066】
式(I)および(Ia)の化合物は市販されているか、またはセクション4.3に述べられている方法により製造可能である。
【0067】
トリクロロイソシアヌル酸はAldrich Chemical Co.(Milwaukee, WI)から入手し得る。
【0068】
式R1SR2の化合物は、Lancaster Synthesis(Windham, NH)から市販されているか、またはOhsugiら、Tetrahedron 59:8393-8398(2003)で述べられているように式R1SHの化合物とK2CO3およびR2Iとをジメチルホルムアミド中で反応させることにより製造可能である。
【0069】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法において使用されるアルコールの量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である;別の実施形態においては、カルボニル形成方法において使用されるアルコールの量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、カルボニル形成方法において使用されるアルコールの量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約4.0モル当量の範囲である。
【0070】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法において使用される式R1SR2の化合物の量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である;別の実施形態においては、カルボニル形成方法において使用される式R1SR2の化合物の量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、カルボニル形成方法において使用される式R1SR2の化合物の量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.5〜約3.5モル当量の範囲である。
【0071】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法において使用される塩基の量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約1.0〜約15.0モル当量の範囲である;別の実施形態においては、カルボニル形成方法において使用される塩基の量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約10.0モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、カルボニル形成方法において使用される塩基の量は、トリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.5〜約7.0モル当量の範囲である。
【0072】
一つの実施形態においては、カルボニル形成方法は有機溶媒の存在下で行われる。カルボニル形成方法において有用な有機溶媒の非限定的な例は、限定ではないが芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン;(C1−C4)ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン、クロロホルム、カーボンテトラクロリドおよびジクロロエタン;エーテル、例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン;およびエチルアセテートを含む。
【0073】
一つの実施形態においては、有機溶媒は、カルボニル形成方法において使用される場合には、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、カーボンテトラクロリド、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジ−ブチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチルアセテート、またはこれらの任意の組み合わせ物である。
【0074】
別の実施形態においては、有機溶媒は、カルボニル形成方法において使用される場合には、ジクロロメタンであるか、又はジクロロメタンを含む。
【0075】
別の実施形態においては、有機溶媒はトルエンであるか、又はトルエンを含む。
【0076】
一つの実施形態においては、有機溶媒は、カルボニル形成方法において使用される場合には、式R1SR2の化合物の重量基準で約0.1重量部から約50重量部までの範囲の量で存在する。別の実施形態においては、有機溶媒は、カルボニル形成方法において使用される場合には、式R1SR2の化合物の重量基準で約0.1重量部から約25重量部までの範囲の量で存在する。別の実施形態においては、有機溶媒は、カルボニル形成方法において使用される場合には、式R1SR2の化合物の重量基準で約0.1重量部から約10重量部までの範囲の量で存在する。
【0077】
一つの実施形態においては、有機溶媒は、カルボニル形成方法において使用される場合、無水である。無水有機溶媒は市販されているか、又は有機溶媒を好適な脱水剤、例えばモレキュラーシーブ;反応性金属、例えばLi、NaまたはK、およびこれらの混合物;金属水素化物、例えばCaHまたはLiAlH4;および金属および半金属酸化物、例えばBaO、CaOおよびP25と接触させることにより入手可能である(Amarego et al., Purification of Laboratory Chemicals(4th ed.1996);and Gordan et al., The Chemist's Companion 445-447(1972を参照のこと)。有機溶媒中の水の量は例えばカール−フィシャー滴定(ASTM E1064−00およびASTM E203−01を参照のこと)により定量可能である。
【0078】
カルボニル形成方法はアルデヒドまたはケトンを製造するのに充分な条件下で行われる。一つの実施形態においては、アルコールの少なくとも約80モルパーセントがアルデヒドまたはケトンに変換されるまで、カルボニル形成方法は行われる;別の実施形態においては、アルコールの少なくとも約95モルパーセントがアルデヒドまたはケトンに変換されるまで、カルボニル形成方法は行われる;そして別の実施形態においては、アルコールの少なくとも約99モルパーセントがアルデヒドまたはケトンに変換されるまで、カルボニル形成方法は行われる。
【0079】
カルボニル形成方法の進行は、限定ではないが、薄層クロマトグラフィ(「TLC」)、高性能液体クロマトグラフィ(「HPLC」)、ガスクロマトグラフィ(「GC」)、ガス−液体クロマトグラフィ(「GLC」)、赤外分光法(「IR」)および1H又は13CNMRなどの核磁気共鳴分光法(「NMR」)を含む慣用の分析技術を用いてモニター可能である。
【0080】
通常、カルボニル形成方法を実施するのに充分な時間は、約0.25時間〜約20時間までの範囲である;別の実施形態においては、カルボニル形成方法を実施するのに充分な時間は、約0.5時間〜約10時間までの範囲である;そして別の実施形態においては、カルボニル形成方法を実施するのに充分な時間は、約1時間〜約5時間までの範囲である。
【0081】
通常、カルボニル形成方法を実施するのに充分な温度は、約−78℃〜約130℃の範囲である;別の実施形態においては、カルボニル形成方法を実施するのに充分な温度は、約−50℃〜約50℃の範囲である;そして別の実施形態においては、カルボニル形成方法を実施するのに充分な温度は、約−40℃〜約50℃の範囲である。
【0082】
カルボニル形成方法は減圧、大気圧又は加圧で実施可能である。一つの実施形態においては、カルボニル形成方法は大気圧で実施可能である。
【0083】
別の実施形態においては、カルボニル形成段階は、不活性雰囲気、例えばN2、He、Ne、Ar、Kr、Xe、またはこれらの任意の組み合わせ物下で実施される。一つの実施形態においては、カルボニル形成段階はN2雰囲気下で行われる。
【0084】
式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸、一級又は二級アルコール、塩基および存在する場合には有機溶媒の添加順序を変えてもよい。例は次の通りである。
【0085】
一つの非限定的な実施形態においては、カルボニル形成方法は、場合によっては有機溶媒の存在下で式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基を含む混和物に一級又は二級アルコールを場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0086】
別の非限定的な実施形態においては、カルボニル形成方法は、場合によっては有機溶媒の存在下で一級又は二級アルコールに式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基を含む混和物を場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0087】
別の非限定的な実施形態においては、カルボニル形成方法は、場合によっては有機溶媒の存在下で式R1SR2の化合物およびトリクロロイソシアヌル酸を含む混和物に塩基を場合によっては有機溶媒の存在下で添加し、続いて一級又は二級アルコールを場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0088】
別の非限定的な実施形態においては、カルボニル形成方法は、塩基に場合によっては有機溶媒の存在下で式R1SR2の化合物およびトリクロロイソシアヌル酸を含む混和物を場合によっては有機溶媒の存在下で添加し、続いて一級又は二級アルコールを場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0089】
別の非限定的な実施形態においては、カルボニル形成方法は、場合によっては有機溶媒の存在下で式R1SR2の化合物およびトリクロロイソシアヌル酸を含む混和物に一級又は二級アルコールを場合によっては有機溶媒の存在下で添加し、続いて塩基を場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0090】
別の非限定的な実施形態においては、カルボニル形成方法は、場合によっては有機溶媒の存在下で式R1SR2の化合物およびトリクロロイソシアヌル酸を含む混和物に式(I)の化合物を場合によっては有機溶媒の存在下で添加し、続いて塩基を場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0091】
別の非限定的な実施形態においては、カルボニル形成方法は、場合によっては有機溶媒の存在下で式R1SR2の化合物およびトリクロロイソシアヌル酸を含む混和物に塩基を場合によっては有機溶媒の存在下で添加し、続いて式(I)の化合物を場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0092】
カルボニル形成方法において形成されるアルデヒドまたはケトンは当分野で既知の方法により単離および精製可能である。例えば、アルデヒドまたはケトンを含む反応混合物は、分別蒸留;シリカ、アルミナまたはFLORISIL(商標)上でのクロマトグラフィ;および/または再結晶により精製可能である。アルデヒドまたはケトンを含む反応混合物が有機溶媒を更に含む場合には、有機溶媒の全部または一部は、精製前に通常、蒸発により場合によっては除去可能である。
【0093】
クロマトグラフィ溶出液として有用な有機溶媒の非限定的な例は、各々が1またはそれ以上のハロ基により置換可能である、直鎖および分岐鎖の脂肪族(C4−C10)炭化水素、例えばブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、およびデカン;脂肪族の環状(C4−C7)炭化水素、例えばシクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサンおよびシクロヘプタン;芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエンおよびキシレンを含む。
【0094】
クロマトグラフィ溶出液として有用な有機溶媒の他の非限定的な例は、(C1−C4)ハロゲン化炭化水素、例えばクロロメタン、メチレンクロリド、クロロホルムおよびカーボンテトラクロリド;(C1−C10)脂肪族アルコール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、n−ノナノール、n−デカノールなど;ジアルキルエーテル、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテルおよびメチルブチルエーテル;ジアリールエーテル、例えばジフェニルエーテル;環状エーテル、例えばテトラヒドロフランおよびジオキサン;グリム、例えばエチレングリコールジメチルエーテル;エチルアセテート;ジメチルスルホキシド;N−メチルピロリジノン;ヘキサメチルホスホルアミド;ジメチルホルムアミド;およびこれらの任意の混合物を含む。
【0095】
一つの実施形態においては、クロマトグラフィ溶出液として使用される有機溶媒は、脂肪族炭化水素とエーテルを含む。
【0096】
本発明は、更に、一級又は二級アルコール、本明細書で定義した式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基を含む組成物に関する。これらの組成物は、上述のようにケトンまたはアルデヒドの製造に有用である。
【0097】
一級又は二級アルコール、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基の非限定的な例は、カルボニル形成方法について上述したものを含む。
【0098】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸、塩基、および式(I)の化合物を含み、R3が保護基である組成物に関する。
【0099】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸、塩基式、および式(I)の化合物を含み、R3が−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O(C1−C10)アルキル、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である組成物に関する。
【0100】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸、塩基、および式(I)の化合物を含み、R3が−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2(C1−C10)アルキルである組成物に関する。
【0101】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸、塩基、および式(I)の化合物を含み、R3が−Si((C1−C10)アルキル)3である組成物に関する。
【0102】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸、塩基、および式(I)の化合物を含み、R3が−Si(CH32(C(CH33)である組成物に関する。
【0103】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸、塩基、および式(I)の化合物を含み、R3が−CH3である組成物に関する。
【0104】
別の実施形態においては、一級又は二級アルコール、式R1SR2の化合物、およびトリクロロイソシアヌル酸を含む組成物は、有機溶媒を更に含むことができる。有機溶媒の非限定的な例はカルボニル形成方法について上述したものを含む。
【0105】
一級又は二級アルコール、式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸、塩基、および存在する場合には有機溶媒の相対的なモル量は、カルボニル形成方法について上述したものである。
【0106】
4.3.モルフィノンの製造方法
別の実施形態においては、本発明は、式(I)の化合物を式R1SR2の化合物および塩素含有試剤の存在下で式(II)の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させることを含む式(II)の化合物を製造する方法(「モルフィノン形成方法」)に関する
(式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;そして
3は保護基である)。
【0107】
一つの実施形態においては、式(I)の化合物は、式(Ia)の化合物であり、そして式(II)の化合物は式(IIa)の化合物である。
【0108】
一つの実施形態においては、モルフィノン形成方法は、式(I)(式中、R3は−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O(C1−C10)アルキル、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である)の化合物の使用を含む。
【0109】
別の実施形態においては、モルフィノン形成方法は、式(I)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)である)の化合物の使用を含む。
【0110】
別の実施形態においては、モルフィノン形成方法は、式(I)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3である)の化合物の使用を含む。
【0111】
別の実施形態においては、モルフィノン形成方法は、式(I)(式中、R3は−Si(CH32(C(CH33)である)の化合物の使用を含む。
【0112】
別の実施形態においては、モルフィノン形成方法は、式(I)(式中、R3は−CH3である)の化合物の使用を含む。
【0113】
モルフィノン形成方法において有用な式R1SR2の化合物の非限定的な例はセクション4.2においてカルボニル形成方法について述べたものを含む。一つの実施形態においては、R1は−CH3であり、そしてR2は−(C12)アルキルである。
【0114】
モルフィノン形成方法において有用な塩素含有試剤の非限定的な例は、N−クロロアミン、例えばトリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、ジクロロイソシアヌル酸の塩、例えばジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン;Cl2;および次亜塩素酸、例えば次亜塩素酸カルシウムを含む。
【0115】
一つの実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用されるクロロ含有試剤は、トリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン、Cl2、次亜塩素酸カルシウム、またはこれらの任意の混合物である。
【0116】
別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用されるクロロ含有試剤は、トリクロロイソシアヌル酸である。
【0117】
別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用されるクロロ含有試剤はN−クロロスクシンイミドである。
【0118】
別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用されるクロロ含有試剤はCl2である。
【0119】
式(I)の化合物はフェノール系ヒドロキシ基の保護に有用な既知の方法により製造可能である(引用により本明細書に組み込まれている、Greeneら、Protective Groups in Organic Synthesis 143-170(1991)を参照のこと)。
【0120】
3が−(C1−C10)アルキルである式(I)の化合物は市販されているか、あるいはT.W.Greeneら、Protective Groups in Organic Synthesis 146(1991)および米国特許出願番号2003/0073848Alで述べられているようにモルフィンをハロ(C1−C10)アルキルとジメトキシエタン中およびテトラエチルアンモニウムフルオリドの存在下で20℃で反応させることにより製造可能である。
【0121】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)である式(I)の化合物は、Ninanら、Tetrahedron 48:6709-6716(1992)およびScheinmannらへの米国特許第6,046,313号で述べられているように3−O−ジメチル−t−ブチルシリルモルフィンを合成するために、モルフィンを金属Naまたはブチルリチウムと反応させ、そして生成する錯体をClSi((C1−C10)アルキル)3、ClSi(アリール)((C1−C10)アルキル)2またはClSi(アリール)2((C1−C10)アルキル)と反応させることにより製造可能である。別法としては、モルフィンの3−O−シリル誘導体は、式(I)(式中、R3は−Si(CH32(C(CH33)である)の化合物についてセクション5.1で述べられているように、モルフィンをClSi((C1−C10)アルキル)3、ClSi(アリール)(C1−C10)アルキル)2またはClSi(アリール)2((C1−C10)アルキル)と極性有機溶媒中および塩基の存在下で反応させることにより製造可能である。
【0122】
3が−C(O)(C1−C10)アルキルである式(I)の化合物は、Bundgaardらへの米国特許第5,908,846号で述べられているように、モルフィンヒドロクロリドを式(C1−C10)C(O)OC(O)(C1−C10)の化合物と重炭酸ナトリウム水溶液中で反応させることにより製造可能である。
【0123】
3が−ベンジルである式(I)の化合物は、Huangらへの米国特許第6,013,796号で述べられているように、モルフィンをベンジルブロミドおよびNaOHと水性メタノール中25℃で反応させることにより製造可能である。
【0124】
3が−C(O)O(C1−C10)アルキルである式(I)の化合物は、Wallaceへの米国特許第5,112,975号で述べられているように、モルフィンを式ClC(O)O(C1−C10)アルキルの化合物とクロロホルム中および重炭酸ナトリウムの存在下還流条件下で反応させることにより製造可能である。
【0125】
トリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントインおよび次亜塩素酸カルシウムはAldrich Chemical Co.(Milwaukee, WI)から入手できる。
【0126】
Cl2が塩素含有試剤である場合には、Cl2はガスまたは溶液の形であることができる。ガス形のCl2はMatheson(Montgomeryville, PA)から入手でき、そして例えばCl2を混和物の中に泡立てることにより反応混和物に添加可能である。Cl2添加の速度および量は、例えばガス流量調整器および/またはメーターを用いる当分野で既知の方法により制御可能である。
【0127】
溶液形のCl2はガス状Cl2を好適な有機溶媒に溶解させることにより製造可能である。溶液中のCl2の濃度は、当分野で既知の分析方法により決定可能である。
【0128】
理論により制約されるのでないが、本出願者らは、塩素含有試剤が式R1SR2の化合物と反応して、スルホニウムカチオン:
【化27】

を形成すると考える。次に、スルホニウム化合物は、一級又は二級アルコールのヒドロキシル基と反応して、カルボニル基を形成する。
【0129】
一つの実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される式(I)の化合物の量は、塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である;別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される式(I)の化合物の量は、塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される式(I)の化合物の量は、塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約4.0モル当量の範囲である。
【0130】
一つの実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される式R1SR2の化合物の量は、塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である;別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される式R1SR2の化合物の量は、塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される式R1SR2の化合物の量は、塩素含有試剤1モル当量当たり約2.5〜約3.5モル当量の範囲である。
【0131】
一つの実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される塩素含有試剤の量は、式(I)の化合物1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である;別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される塩素含有試剤の量は、式(I)の化合物1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、モルフィノン形成方法において使用される塩素含有試剤の量は、式(I)の化合物1モル当量当たり約2.0〜約4.0モル当量の範囲である。
【0132】
ある実施形態においては、モルフィノン形成方法は塩基の使用を更に含み得る。有用な塩基の非限定的な例は、カルボニル形成方法についてセクション4.2で述べた有機塩基および無機塩基を含む。
【0133】
一つの実施形態においては、塩基は有機塩基である。一つの実施形態においては、有機塩基はトリエチルアミンまたはパラ−N,N−ジメチルアミノピリジンである。
【0134】
別の実施形態においては、塩基は無機塩基である。
【0135】
一つの実施形態においては、塩基の量は、モルフィノン形成方法において使用される場合、塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約15.0モル当量の範囲である;別の実施形態においては、塩基の量は、モルフィノン形成方法において使用される場合、塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約10.0モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、塩基の量は、モルフィノン形成方法において使用される場合、塩素含有試剤1モル当量当たり約2.5〜約7.0モル当量の範囲である。
【0136】
ある実施形態においては、モルフィノン形成方法は有機溶媒の使用を更に含み得る。有用な有機溶媒の非限定的な例はカルボニル形成方法について上述したものを含む。一つの実施形態においては、有機溶媒はジクロロメタンである。
【0137】
一つの実施形態においては、有機溶媒は、モルフィノン形成方法において使用される場合、式(I)の化合物の重量基準で約0.1重量部から約50重量部までの量で存在する;別の実施形態においては、有機溶媒は、モルフィノン形成方法において使用される場合、式(I)の化合物の重量基準で約0.1重量部から約25重量部までの量で存在する;そして別の実施形態においては、有機溶媒は、モルフィノン形成方法において使用される場合、式(I)の化合物の重量基準で約0.1重量部から約10重量部までの量で存在する。
【0138】
一つの実施形態においては、有機溶媒は無水である。無水溶媒の製造方法はカルボニル形成方法についてセクション4.2で述べられている。
【0139】
モルフィノン形成方法は式(II)の化合物を製造するのに充分である条件下で行われる。一つの非限定的な実施形態においては、式(I)の化合物の少なくとも約80モルパーセントが式(II)の化合物に変換されるまでモルフィノン形成方法は行われる;別の非限定的な実施形態においては、式(I)の化合物の少なくとも約95モルパーセントが式(II)の化合物に変換されるまでモルフィノン形成方法は行われる;そして別の非限定的な実施形態においては、式(I)の化合物の少なくとも約99モルパーセントが式(II)の化合物に変換されるまでモルフィノン形成方法は行われる。
【0140】
モルフィノン形成方法の進行は、カルボニル形成方法のモニターについてセクション4.2で述べたものに匹敵する慣用の分析技術を用いてモニター可能である。
【0141】
通常、モルフィノン形成方法を行うのに充分である時間は約0.25時間〜約50時間の範囲である;別の実施形態においては、カルボニル形成方法を行うのに充分である時間は約0.5時間〜約25時間の範囲である;そして別の実施形態においては、モルフィノン形成方法を行うのに充分である時間は約1時間〜約10時間の範囲である。
【0142】
通常、モルフィノン形成方法を行うのに充分である温度は約−78℃〜約130℃の範囲である;別の実施形態においては、モルフィノン形成方法を行うのに充分である温度は約−50℃〜約50℃の範囲である;そして別の実施形態においては、モルフィノン形成方法を行うのに充分である温度は約−40℃〜約50℃の範囲である。
【0143】
モルフィノン形成方法は減圧、大気圧又は加圧で実施可能である。一つの実施形態においては、モルフィノン形成方法は大気圧で実施可能である。
【0144】
別の実施形態においては、モルフィノン形成方法は不活性雰囲気、例えばN2、He、Ne、Ar、Kr、Xe、またはこれらの任意の組み合わせ物下で実施する。一つの実施形態においては、モルフィノン形成方法はN2雰囲気下で行われる。
【0145】
本発明は、更に、式(I)の化合物、式R1SR2の化合物、および塩素含有化合物を含み;R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;そしてR3が保護基である組成物に関する。これらの組成物は式(II)の化合物を製造するのに有用である。
【0146】
別の実施形態においては、本発明は、式(I)の化合物、式R1SR2の化合物、および塩素含有化合物を含み;R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;R3は保護基であり;そして塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン、Cl2、次亜塩素酸カルシウム、またはこれらの任意の混合物である組成物に関する。
【0147】
別の実施形態においては、本発明は、式(I)の化合物、式R1SR2の化合物、および塩素含有化合物を含み;R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;R3は保護基であり;そして塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、Cl2、またはこれらの任意の混合物である組成物に関する。
【0148】
別の実施形態においては、本発明は、式(I)の化合物、式R1SR2の化合物およびトリクロロイソシアヌル酸を含み;R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;そしてR3が保護基である組成物に関する。
【0149】
一つの実施形態においては、本発明は、本明細書中で定義した式R1SR2の化合物、塩素含有化合物および式(I)の化合物を含み、R3が−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O((C1−C10)アルキル)、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である組成物に関する。
【0150】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、塩素含有試剤および式(I)化合物を含み、R3が−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2(C1−C10)アルキルである組成物に関する。
【0151】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、塩素含有試剤および式(I)の化合物を含み、R3が−Si((C1−C10)アルキル)3である組成物に関する。
【0152】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、塩素含有試剤および式(I)の化合物を含み、R3が−Si(CH32(C(CH33)である組成物に関する。
【0153】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、塩素含有試剤および式(I)の化合物を含み、R3が−CH3である組成物に関する。
【0154】
別の実施形態においては、本発明は、式R1SR2の化合物、塩素含有試剤および式(Ia)の化合物を含む組成物に関する。
【0155】
別の実施形態においては、式(I)又は(Ia)の化合物、式R1SR2の化合物、および塩素含有試剤を含む組成物は塩基を更に含む。塩基の非限定的な例はカルボニル形成方法についてセクション4.2で述べたものを含む。
【0156】
別の実施形態においては、式(I)又は(Ia)の化合物、式R1SR2の化合物および塩素含有試剤を含む組成物は有機溶媒を更に含む。有機溶媒の非限定的な例はカルボニル形成方法についてセクション4.2で述べたものを含む。
【0157】
式(I)又は(Ia)の化合物、式R1SR2の化合物、塩素含有試剤、存在する場合には塩基、および存在する場合には有機溶媒の相対的なモル量は、モルフィノン形成方法について上述したものである。
【0158】
4.4.3−O−保護されたモルフィノンジエノールカルボキシレートの製造方法
上記のように、本発明は、また、式(III)の化合物を製造する方法にも関する。
【0159】
一つの実施形態においては、本発明は、
(a)式(I)の化合物を式R1SR2の化合物および塩素含有試剤の存在下で式(II)の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させ、そして
(b)式(II)の化合物を第1の塩基および式R4C(O)OC(O)R4またはR4C(O)Xのアシル化剤と式(III)の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させることを含む式(III)の化合物を製造する方法に関する
(式中、R1およびR2は各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;
3は保護基であり;
4は−(C1−C10)アルキルであり;そして
Xは−Cl、−Brまたは−Iである)。
【0160】
式(I)の化合物を式R1SR2の化合物および塩素含有試剤の存在下で式(II)の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させる段階(「モルフィノン形成段階」)は、モルフィノン形成方法についてセクション4.3で述べた方法により実施可能である。
【0161】
一つの実施形態においては、モルフィノン形成方法を塩基の存在下で実施する場合には、モルフィノン形成段階は、セクション4.3で述べた塩基(「第2の塩基」)の存在下で実施される。有用な第2の塩基の非限定的な例はカルボニル形成方法についてセクション4.2で述べたものを含む。第2の塩基は、モルフィノン形成段階において使用される場合、第1の塩基と同一であるか、又は異なってもよい。一つの実施形態においては、第1の塩基と第2の塩基は、使用される場合、同一である。
【0162】
一つの実施形態においては、第2の塩基は、モルフィノン形成段階において使用される場合には、トリエチルアミンまたはパラ−N,N−ジメチルアミノピリジンである。
【0163】
別の実施形態においては、第2の塩基は、モルフィノン形成段階において使用される場合にはトリエチルアミンである。
【0164】
一つの実施形態においては、第2の塩基の量は、モルフィノン形成段階において使用される場合には塩素含有試剤の1モル当量当たり約1.0〜約15.0モル当量の範囲である;別の実施形態においては、第2の塩基の量は、モルフィノン形成段階において使用される場合、塩素含有試剤の1モル当量当たり約2.0〜約10.0モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、第2の塩基の量は、モルフィノン形成段階において使用される場合、塩素含有試剤の1モル当量当たり約2.5〜約7.0モル当量の範囲である。
【0165】
式(II)の化合物を第1の塩基および式R4C(O)OC(O)R4又はR4C(O)Xのアシル化剤と式(III)の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させる段階(「モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階」)は、下記で述べる方法により実施可能である。
【0166】
一つの実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は、式(II)(式中、R3は−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O((C1−C10)アルキル)、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である)の化合物の使用を含む。
【0167】
一つの実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式(II)(式中、R3は−CH3である)の化合物の使用を含む。
【0168】
別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式(II)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)である)の化合物の使用を含む。
【0169】
別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式(II)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3である)の化合物の使用を含む。
【0170】
別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式(II)(式中、R3は−Si(CH32(C(CH33)である)の化合物の使用を含む。
【0171】
一つの実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式R4C(O)OC(O)R4のアシル化剤の使用を含む。
【0172】
別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式CH3C(O)OC(O)CH3のアシル化剤の使用を含む。
【0173】
別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式R4C(O)Xのアシル化剤を含む。
【0174】
別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式R4C(O)X(式中、Xは−F、−Cl、−Brまたは−Iである)のアシル化剤の使用を含む。
【0175】
別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は式CH3C(O)Clのアシル化剤の使用を含む。
【0176】
モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階に有用な第1の塩基の非限定的な例は、カルボニル形成方法についてセクション4.2で述べたものを含む。
【0177】
一つの実施形態においては、第1の塩基はトリアルキルアミン、パラ−N,N−ジメチルピリジンまたはアルカリ金属カルボキシレートである。
【0178】
別の実施形態においては、第1の塩基はトリエチルアミンである。
【0179】
別の実施形態においては、第1の塩基はパラ−N,N−ジメチルピリジンである。
【0180】
式R4C(O)OC(O)R4またはR4C(O)Xのアシル化剤は市販されているか、あるいは既知の方法により製造可能である。
【0181】
一つの実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用されるアシル化剤の量は式(II)の化合物1モル当量当たり約1〜約15モル当量の範囲である;別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用されるアシル化剤の量は式(II)の化合物1モル当量当たり約1〜約10モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用されるアシル化剤の量は式(II)の化合物1モル当量当たり約2〜約7モル当量の範囲である。
【0182】
一つの実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される第1の塩基の量はアシル化剤1モル当量当たり約1〜約15モル当量の範囲である;別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される第1の塩基の量はアシル化剤1モル当量当たり約2〜約7モル当量の範囲である;そして別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される第1の塩基の量はアシル化剤1モル当量当たり約3〜約6モル当量の範囲である。
【0183】
一つの実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は有機溶媒の存在下で行われる。モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階に有用な有機溶媒の非限定的な例は、カルボニル形成方法についてセクション4.2で述べたものを含む。
【0184】
一つの実施形態においては、有機溶媒は、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される場合、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、トルエン、またはこれらの任意の混合物である。
【0185】
一つの実施形態においては、有機溶媒の量は、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される場合、式(II)の化合物の重量基準で約1重量部から約100重量部までの範囲である;別の実施形態においては、有機溶媒の量は、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される場合、式(II)の化合物の重量基準で約5重量部から約50重量部までの範囲である;そして別の実施形態においては、有機溶媒の量は、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される場合、式(II)の化合物の重量基準で約10重量部から約25重量部までの範囲である。
【0186】
一つの実施形態においては、有機溶媒は、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される場合、無水である。無水の有機溶媒の製造方法はカルボニル形成方法についてセクション4.2で述べたものである。
【0187】
モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は、モルフィノンジエノールカルボキシレートを製造するのに充分である条件下で行われる。一つの非限定的な実施形態においては、式(II)の化合物の少なくとも約80モルパーセントが式(III)の化合物に転換されるまで、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は行われる;別の非限定的な実施形態においては、式(II)の化合物の少なくとも約95モルパーセントが式(III)の化合物に転換されるまで、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は行われる;そして別の非限定的な実施形態においては、式(II)の化合物の少なくとも約99モルパーセントが式(III)の化合物に転換されるまで、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は行われる。
【0188】
モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階の進行は、セクション4.2で述べたものに匹敵する慣用の分析技術を用いてモニター可能である。
【0189】
モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は、式(III)の化合物を製造するのに充分な時間および温度で行われる。一つの実施形態においては、式(III)の化合物を製造するのに充分な時間は、約1時間から約50時間までの範囲である;別の実施形態においては、式(III)の化合物を製造するのに充分な時間は、約5時間から約30時間までの範囲である;そして別の実施形態においては、式(III)の化合物を製造するのに充分な時間は、約5時間から約25時間までの範囲である。
【0190】
一つの実施形態においては、式(III)の化合物を製造するのに充分な温度は、約−78℃から使用する場合には有機溶媒の大体の沸点までの範囲である;別の実施形態においては、式(III)の化合物を製造するのに充分な温度は、約−78℃から約130℃までの範囲である;別の実施形態においては、式(III)の化合物を製造するのに充分な温度は、約0℃から約100℃までの範囲である;そして別の実施形態においては、式(III)の化合物を製造するのに充分な温度は、約20℃から約75℃までの範囲である。
【0191】
モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は減圧、大気圧または加圧で実施可能である。一つの実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は大気圧で実施可能である。
【0192】
一つの実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は、不活性雰囲気、例えばN2、He、Ne、Ar、Kr、Xe、またはこれらの任意の組み合わせ物下で行われる。別の実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階はN2雰囲気下で行われる。
【0193】
モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階においては、式(II)の化合物、アシル化剤、第1の塩基および存在する場合には有機溶媒の添加順を変えることができる。
【0194】
一つの非限定的な実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は、場合によっては有機溶媒の存在下でアシル化剤および第1の塩基を含む混和物に式(II)の化合物を場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0195】
別の非限定的な実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は、場合によっては有機溶媒の存在下でアシル化剤および第1の塩基を含む混和物を式(II)の化合物に場合によっては有機溶媒の存在下で添加することにより行われる。
【0196】
別の非限定的な実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は、場合によっては有機溶媒の存在下で式(II)の化合物を含む混和物に第1の塩基を場合によっては有機溶媒の存在下で添加し、続いて場合によっては有機溶媒の存在下でアシル化剤を添加することにより行われる。
【0197】
別の非限定的な実施形態においては、モルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階は、場合によっては有機溶媒の存在下で式(II)の化合物を含む混和物にアシル化剤を場合によっては有機溶媒の存在下で添加し、続いて場合によっては有機溶媒の存在下で第1の塩基を添加することにより行われる。
【0198】
一つの実施形態においては、式(II)の化合物は、モルフィノン形成段階を用いて製造され、そしてモルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階において使用される前には単離されない。
【0199】
別の実施形態においては、式(II)の化合物はモルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階後には単離されず、そしてアシル化剤と第1の塩基は式(II)の化合物に添加される。すなわち「ワンポット」法である。
【0200】
別の実施形態においては、式(II)の化合物はモルフィノン形成段階後には単離されず、そしてアシル化剤と第1の塩基は式(II)の化合物に同時に添加される。
【0201】
別の実施形態においては、式(II)の化合物はモルフィノン形成段階後には単離されず、そしてアシル化剤が式(II)の化合物に最初に添加され、続いて第1の塩基が添加される。
【0202】
別の実施形態においては、式(II)の化合物はモルフィノン形成段階後には単離されず、そして第1の塩基が式(II)の化合物に最初に添加され、続いてアシル化剤が添加される。
【0203】
別の実施形態においては、モルフィノン形成段階は第2の塩基を更に含む;式(II)の化合物はモルフィノン形成段階後には単離されない;そして、アシル化剤が式(II)の化合物に添加され、続いて第1の塩基が添加される。
【0204】
別の実施形態においては、モルフィノン形成段階は第2の塩基を更に含む;式(II)の化合物はモルフィノン形成段階後には単離されない;そして、アシル化剤と第1の塩基は式(II)の化合物に同時に添加される;ここで、第2の塩基と第1の塩基は同一である。
【0205】
一つの実施形態においては、式(II)の化合物はモルフィノン形成段階後には単離されず、そしてモルフィノン形成段階は第1の塩基および第2の塩基の使用を含む。モルフィノン形成段階が第1の塩基および第2の塩基の使用を含む場合には、第1の塩基と第2の塩基は同一であるか、あるいは異なることができる。一つの実施形態においては、第1の塩基と第2の塩基は同一である。別の実施形態においては、第1の塩基と第2の塩基は両方ともトリエチルアミンである。
【0206】
別の実施形態においては、式(II)の化合物はモルフィノンジエノールカルボキシレート形成段階におけるその使用前に単離される。式(II)の化合物の単離方法は、カルボニル形成方法において形成されるケトンまたはアルデヒドについてセクション4.2で述べたものを含む。
【0207】
所望ならば、式(III)の化合物は、カルボニル形成方法において形成されるケトンおよびアルデヒドの単離および精製についてセクション4.2で述べたものに匹敵する方法により、および/または下記に述べる方法により単離および精製可能である。
【0208】
一つの実施形態においては、式(III)の化合物の単離方法は、式(III)の化合物を有機溶媒および水と接触させることを含む。
【0209】
例えば、式(III)の化合物は、式(III)の化合物および有機溶媒を含む混和物を場合によっては酸性化されている水と接触させること(「接触段階」)により単離可能である。接触段階において使用される水を酸性化しない場合には、有機相を捕集し、水相を有機溶媒と更に接触させることができ、そして生成する二相混和物を塩基、例えば25%NaOH水溶液により場合によっては更に処理して、水相のpHを約7.0〜約9.0の範囲内まで増加させることができる。
【0210】
接触段階において使用される水を酸性化する場合には、水相を捕集し、水相を有機溶媒と更に接触させ;生成する二相混和物を塩基、例えば25%NaOH水溶液により更に処理して、水相のpHを約7.0〜約9.0の範囲内まで増加させ;そして有機相を捕集する。
【0211】
合体された有機相を減圧下で残渣まで濃縮し、そして生成する残渣をセクション4.2で述べたものに匹敵する方法、例えば蒸留、結晶化および/またはクロマトグラフィによりさらに単離および精製可能である。
【0212】
式(III)の化合物を水の存在下で接触させるために有用な有機溶媒の非限定的な例は、水−非混和性有機溶媒、例えば直鎖および分岐鎖の脂肪族(C4−C10)炭化水素、例えばブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン;環状脂肪族(C4−C7)炭化水素、例えばシクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサンおよびシクロヘプタン;各々1またはそれ以上の−ハロ又は−ヒドロキシ基により置換可能である、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素;2つ以上の−ハロ基により置換された(C1−C3)炭化水素、例えばジクロロメタン、クロロホルムおよびカーボンテトラクロリド;ジアルキルエーテル、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテルおよびメチルブチルエーテル;エチルアセテート;およびこれらの任意の混合物を含む。一つの実施形態においては、有機溶媒はジクロロメタンである。
【0213】
式(III)の化合物はモルフィンアルカロイド、例えばナロキソン、ナルトレキソンおよびオキシコドンを当分野で既知の方法(例えば、Huangらへの米国特許第6,013,796号を参照のこと)により製造するのに有用である。
【0214】
所望ならば、式(III)の化合物のR3保護基は、−Hなどの基により除去および置換可能である(「脱保護段階」)。通常、脱保護段階は、モルフィンアルカロイドのベンジル環上のヒドロキシル基の存在により悪影響を受ける他の化学過程を完結するまで行われない。モルフィンアルカロイドから特定の保護基を除去する方法は、例えば、Schwartzへの米国特許第4,472,253号(ここでは、R3はアルキルである);Wallaceへの米国特許第5,112,975号(ここでは、R3は−カーボネートである);およびHuangらの米国特許第6、008、355号(ここでは、R3は−アシルである)で;あるいは当分野でフェノール類の脱保護に知られている方法(例えば、Greene et al., Protective Groups in Organic Synthesis 143-170(1991)を参照のこと、各文献は引用により本明細書に組み込まれている)により述べられている。
【0215】
上述のように、本発明は、また、式(III)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2(C1−C10)アルキルであり;そしてR4は−(C1−C10)アルキルである)の新規な化合物にも関する。
【0216】
一つの実施形態においては、本発明は式(III)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3である)の新規な化合物に関する。
【0217】
別の実施形態においては、本発明は、また、式(III)(式中、R3は−Si(CH32(C(CH33)である)の新規な化合物にも関する。
【0218】
別の実施形態においては、本発明は、また、式(III)(式中、R4は−CH3である)の新規な化合物にも関する。
【0219】
式(III)の新規な化合物は、式(II)(式中、R3は−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)である)の化合物を第1の塩基およびアシル化剤と上述のように式(III)の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させることにより製造可能である。
【0220】
次の実施例は本発明の理解を助けるようにもうけられ、そして本明細書中で説明され、そして特許請求されている本発明を限定するものではない。当業者の視野内にある、現在既知であるか、又は後から開発されるすべての等価物の置換、および配合の変更または実験設計の小変更を含む本発明のこのような変形は、本発明の範囲内に入るものである。
【実施例】
【0221】
5.1 実施例1:3−O−ビス(ジメチル−t−ブチル)シリルモルフィンの合成
テトラヒドロフラン(76mL)(Aldrich)中のジメチル−t−ブチルシリルクロリド(0.115g、0.76ミリモル)の溶液をモルフィン塩基(20.38g、71ミリモル)、イミダゾール(14.59g;214ミリモル)およびジメチルホルムアミド(「DMF」)(100ml)の溶液に25℃N2雰囲気下で約5分間かけて添加した。生成する緑色溶液を25℃で24時間撹拌し、そして減圧下および40℃で濃縮した。生成する粘稠混合物を脱イオン水(500g)に25℃で添加し、そして生成する白色沈澱物を濾過により捕集した。この固体をジクロロメタン(100ml)に溶解し、そして生成する有機相を捕集した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして濾液を減圧下40℃で濃縮した。生成する残渣を沸騰ヘプタン(75ml)から再結晶して、3−O−ビス(ジメチル−t−ブチル)シリルモルフィンを白色結晶として得た。収率:13.60g(34ミリモル、48%)
【0222】
5.2 実施例2:コデイノンジエノールアセテートのワンポット合成
コデイノンの製造:
トリクロロイソシアヌル酸(2.30g、3.8ミリモル)を蒸留頭を備えた100ml丸底フラスコに装填し、そしてフラスコの内容物をN2雰囲気下で−30℃まで冷却した。無水ジクロロメタン(15ml)をこのフラスコに装填し、そして生成する懸濁液を−30℃で30分間撹拌した。無水ジクロロメタン(15ml)中のコデイン(2.97g、9.9ミリモル)の溶液をこの懸濁液に約5分かけて滴加し、そしてフラスコの内容物を−30℃で約30分間混合した。生成する乳状懸濁液を−30℃で維持し、そしてニート(neat)のトリエチルアミン(6.91ml、50ミリモル)を約10分かけて滴加した。生成する淡褐色懸濁液を2時間かけて10℃まで温めた。この時点ではコデインのコデイノンへの変換を完結していた。
【0223】
コデイノンジエノールアセテートの製造:
上記の褐色懸濁液を室温まで温め、そしてニート(neat)の酢酸無水物(4.68ml、50ミリモル)を添加した。フラスコの内容物を約50℃まで温め、そしてジクロロメタンの約90%を蒸留により除去した。生成するスラリーを約25℃まで冷却し、25℃で17時間混合した。この時点ではコデイノンのコデイノンジエノールアセテートへの変換を完結していた。
【0224】
ジクロロメタン(20ml)を反応混合物に添加し、そして混合物を0℃まで冷却した。20mlの水中の3mlの88%(w/w)ギ酸の約0℃の溶液を冷却した混合物に添加し、そしてこの二相混合物を0℃で5分間振盪した。生成する有機相を捕集し、そして20mlの水中の1mlの88%(w/w)ギ酸の溶液により洗浄した。水層を合体し、約0℃まで冷却した。ジクロロメタン(20ml)を添加し、次に水相のpHが8.75となるまで25%(w/w)水酸化ナトリウム水溶液を添加した。水層を捕集し、ジクロロメタン(20ml)により抽出した。合体した有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして減圧下30℃で濃縮した。生成する油状残渣を40トール30℃で更に乾燥して、コデイノンジエノールアセテートを淡褐色固体として得た。収率:2.82g(83ミリモル;84%)
【0225】
本発明は、本発明のいくつかの態様の例示として意図されている実施例において開示される特定の実施形態により範囲の点で限定されず、そして機能的に同等であるいかなる実施形態も本発明の範囲内にある。実際、本明細書中で示され、そして説明されているものに加えて本発明の種々の改変は当業者には明白となるであろうし、そして添付の特許請求の範囲の範囲内に入ることが意図される。
【0226】
多数の文献が引用されたが、これらの全体の開示は引用により本明細書に組み込まれている。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基を含む組成物であり、式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキル又は−フェニルである、前記組成物。
【請求項2】
1が−CH3であり、およびR2が−(C1−C20)アルキルである請求項1に記載の組成物。
【請求項3】
1が−CH3であり、およびR2が−(C12)アルキルである請求項2に記載の組成物。
【請求項4】
式R1SR2の化合物の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である請求項1に記載の組成物。
【請求項5】
式R1SR2の化合物の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である請求項4に記載の組成物。
【請求項6】
式R1SR2の化合物の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.5〜約3.5モル当量の範囲である請求項5に記載の組成物。
【請求項7】
塩基が有機アミンである請求項1に記載の組成物。
【請求項8】
有機アミンがトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルピリジンまたはジメチルアミノピリジンである請求項7に記載の組成物。
【請求項9】
有機アミンがトリエチルアミンである請求項8に記載の組成物。
【請求項10】
塩基の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約1.0〜約15.0モル当量の範囲である請求項1に記載の組成物。
【請求項11】
塩基の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約10.0モル当量の範囲である請求項10に記載の組成物。
【請求項12】
塩基の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.5〜約7.0モル当量の範囲である請求項11に記載の組成物。
【請求項13】
一級又は二級アルコールを更に含む請求項1に記載の組成物。
【請求項14】
二級アルコールが式(I):
【化1】

(式中、R3は保護基である)
を有する請求項13に記載の組成物。
【請求項15】
3が−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O(C1−C10)アルキル、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である請求項14に記載の組成物。
【請求項16】
3が−CH3である請求項15に記載の組成物。
【請求項17】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)である請求項15に記載の組成物。
【請求項18】
3が−Si(CH32(C(CH33)である請求項17に記載の組成物。
【請求項19】
アルコールの量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である請求項13に記載の組成物。
【請求項20】
アルコールの量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である請求項19に記載の組成物。
【請求項21】
アルコールの量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約4.0モル当量の範囲である請求項20に記載の組成物。
【請求項22】
有機溶媒を更に含む請求項1に記載の組成物。
【請求項23】
有機溶媒がベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、カーボンテトラクロリド、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジ−ブチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、エチルアセテート、またはこれらの任意の組み合わせ物である請求項21に記載の組成物。
【請求項24】
有機溶媒がジクロロメタンである請求項23に記載の組成物。
【請求項25】
式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基の存在下でケトンを製造するのに充分な条件下で二級アルコールを反応させることを含むケトンを製造する方法であり、式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルである、前記方法。
【請求項26】
1が−CH3であり、およびR2が−(C1−C20)アルキルである請求項25に記載の方法。
【請求項27】
1が−CH3であり、およびR2が−(C12)アルキルである請求項26に記載の方法。
【請求項28】
式R1SR2の化合物の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である請求項25に記載の方法。
【請求項29】
式R1SR2の化合物の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である請求項28に記載の方法。
【請求項30】
式R1SR2の化合物の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.5〜約3.5モル当量の範囲である請求項29に記載の方法。
【請求項31】
塩基が有機アミンである請求項25に記載の方法。
【請求項32】
有機アミンがトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルピリジンまたはジメチルアミノピリジンである請求項31に記載の方法。
【請求項33】
有機アミンがトリエチルアミンである請求項32に記載の方法。
【請求項34】
塩基の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約1.0〜約15.0モル当量の範囲である請求項25に記載の方法。
【請求項35】
塩基の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.0〜約10.0モル当量の範囲である請求項34に記載の方法。
【請求項36】
塩基の量がトリクロロイソシアヌル酸1モル当量当たり約2.5〜約7.0モル当量の範囲である請求項35に記載の方法。
【請求項37】
式R1SR2の化合物、トリクロロイソシアヌル酸および塩基の存在下でアルデヒドを製造するのに充分な条件下で一級アルコールを反応させることを含むアルデヒドを製造する方法であり、式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルである、前記方法。
【請求項38】
式(I):
【化2】

の化合物を式R1SR2の化合物および塩素含有試剤の存在下で式(II):
【化3】

の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させることを含む式(II)の化合物を製造する方法であり、
式中、R1およびR2が各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;および
3は保護基である、前記方法。
【請求項39】
式(I)の化合物が式(Ia):
【化4】

の化合物であり、および式(II)の化合物が式(IIa):
【化5】

の化合物である請求項38に記載の方法。
【請求項40】
3が−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O(C1−C10)アルキル、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である請求項38に記載の方法。
【請求項41】
3が−CH3である請求項40に記載の方法。
【請求項42】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)である請求項40に記載の方法。
【請求項43】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3である請求項42に記載の方法。
【請求項44】
3が−Si(CH32(C(CH33)である請求項43に記載の方法。
【請求項45】
塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン、Cl2、次亜塩素酸カルシウム、または任意のこれらの混合物である請求項38に記載の方法。
【請求項46】
塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸である請求項45に記載の方法。
【請求項47】
式(I)の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である請求項38に記載の方法。
【請求項48】
式(I)の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である請求項47に記載の方法。
【請求項49】
式(I)の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約4.0モル当量の範囲である請求項48に記載の方法。
【請求項50】
1が−CH3であり、およびR2が−(C1−C20)アルキルである請求項38に記載の方法。
【請求項51】
1が−CH3であり、およびR2が−(C12)アルキルである請求項50に記載の方法。
【請求項52】
式R1SR2の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である請求項38に記載の方法。
【請求項53】
式R1SR2の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である請求項52に記載の方法。
【請求項54】
式R1SR2の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.5〜約3.5モル当量の範囲である請求項53に記載の方法。
【請求項55】
塩基の使用を更に含む請求項38に記載の方法。
【請求項56】
塩基が有機アミンである請求項55に記載の方法。
【請求項57】
有機アミンがトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルピリジンまたはジメチルアミノピリジンである請求項56に記載の方法。
【請求項58】
有機アミンがトリエチルアミンである請求項57に記載の方法。
【請求項59】
塩基の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約15.0モル当量の範囲である請求項55に記載の方法。
【請求項60】
塩基の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約10.0モル当量の範囲である請求項59に記載の方法。
【請求項61】
塩基の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.5〜約7.0モル当量の範囲である請求項60に記載の方法。
【請求項62】
式(I):
【化6】

の化合物、式R1SR2の化合物、および塩素含有化合物を含む組成物であり、
式中、R1およびR2は各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;および
3は保護基である、前記組成物。
【請求項63】
式(I)の化合物が式(Ia):
【化7】

の化合物である請求項62に記載の組成物。
【請求項64】
塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン、Cl2、次亜塩素酸カルシウム、または任意のこれらの混合物である請求項62に記載の組成物。
【請求項65】
塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、Cl2、または任意のこれらの混合物である請求項64に記載の組成物。
【請求項66】
塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸である請求項65に記載の組成物。
【請求項67】
3が−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O(C1−C10)アルキル、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である請求項62に記載の組成物。
【請求項68】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2(C1−C10)アルキルである請求項67に記載の組成物。
【請求項69】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3である請求項68に記載の組成物。
【請求項70】
3が−Si(CH32(C(CH33)である請求項69に記載の組成物。
【請求項71】
3が−CH3である請求項67に記載の組成物。
【請求項72】
塩基を更に含む請求項62に記載の組成物。
【請求項73】
有機溶媒を更に含む請求項62に記載の組成物。
【請求項74】
(a)式(I):
【化8】

の化合物を式R1SR2の化合物および塩素含有試剤の存在下で式(II):
【化9】

の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させ、および
(b)式(II)の化合物を第1の塩基および式R4C(O)OC(O)R4またはR4C(O)Xのアシル化剤と式(III):
【化10】

の化合物を製造するのに充分な条件下で反応させることを含む式(III)の化合物を製造する方法であり、
式中、R1およびR2は各々独立に−(C1−C20)アルキル、−(C3−C8)シクロアルキルまたは−フェニルであり;
3は保護基であり;
4は−(C1−C10)アルキルであり;および
Xは−Cl、−Brまたは−Iである、前記方法。
【請求項75】
3が−(C1−C10)アルキル、−ベンジル、−C(O)(C1−C10)アルキル、−C(O)O(C1−C10)アルキル、−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)、−P(O)((C1−C10)アルキル)2、−P(S)((C1−C10)アルキル)2、または−S(O)OC64−p−CH3である請求項74に記載の方法。
【請求項76】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)である請求項75に記載の方法。
【請求項77】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3である請求項76に記載の方法。
【請求項78】
3が−Si(CH32(C(CH33)である請求項77に記載の方法。
【請求項79】
3が−CH3である請求項75に記載の方法。
【請求項80】
塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸、N−クロロスクシンイミド、ジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン、Cl2、次亜塩素酸カルシウム、または任意のこれらの混合物である請求項74に記載の方法。
【請求項81】
塩素含有試剤がトリクロロイソシアヌル酸である請求項80に記載の方法。
【請求項82】
式(I)の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である請求項81に記載の方法。
【請求項83】
式(I)の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である請求項82に記載の方法。
【請求項84】
式(I)の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約4.0モル当量の範囲である請求項83に記載の方法。
【請求項85】
1が−CH3であり、およびR2が−(C1−C20)アルキルである請求項74に記載の方法。
【請求項86】
1が−CH3であり、およびR2が−(C12)アルキルである請求項85に記載の方法。
【請求項87】
式R1SR2の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約9.0モル当量の範囲である請求項74に記載の方法。
【請求項88】
式R1SR2の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約5.0モル当量の範囲である請求項87に記載の方法。
【請求項89】
式R1SR2の化合物の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.5〜約3.5モル当量の範囲である請求項88に記載の方法。
【請求項90】
段階(a)が第2の塩基の使用を更に含む請求項74に記載の方法。
【請求項91】
第2の塩基が有機アミンである請求項90に記載の方法。
【請求項92】
有機アミンがトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルピリジンまたはジメチルアミノピリジンである請求項91に記載の方法。
【請求項93】
有機アミンがトリエチルアミンである請求項92に記載の方法。
【請求項94】
第2の塩基の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約1.0〜約15.0モル当量の範囲である請求項90に記載の方法。
【請求項95】
第2の塩基の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.0〜約10.0モル当量の範囲である請求項94に記載の方法。
【請求項96】
第2の塩基の量が塩素含有試剤1モル当量当たり約2.5〜約7.0モル当量の範囲である請求項95に記載の方法。
【請求項97】
第1の塩基が有機アミンである請求項74に記載の方法。
【請求項98】
有機アミンがトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルピリジンまたはジメチルアミノピリジンである請求項97に記載の方法。
【請求項99】
有機アミンがトリエチルアミンである請求項98に記載の方法。
【請求項100】
アシル化剤がR4C(O)OC(O)R4である請求項74に記載の方法。
【請求項101】
アシル化剤が−CH3C(O)OC(O)CH3である請求項100に記載の方法。
【請求項102】
アシル化剤がR4C(O)Xである請求項74に記載の方法。
【請求項103】
アシル化剤がCH3C(O)Xである請求項102に記載の方法。
【請求項104】
アシル化剤がCH3C(O)Clである請求項105に記載の方法。
【請求項105】
第1の塩基の量がアシル化剤1モル当量当たり約1〜約10モル当量の範囲である請求項74に記載の方法。
【請求項106】
第1の塩基の量がアシル化剤の化合物1モル当量当たり約2〜約7モル当量の範囲である請求項105に記載の方法。
【請求項107】
第1の塩基の量がアシル化剤の化合物1モル当量当たり約3〜約6モル当量の範囲である請求項106に記載の方法。
【請求項108】
アシル化剤の量が式(II)の化合物1モル当量当たり約1〜約15モル当量の範囲である請求項74に記載の方法。
【請求項109】
アシル化剤の量が式(II)の化合物1モル当量当たり約1〜約10モル当量の範囲である請求項108に記載の方法。
【請求項110】
アシル化剤の量が式(II)の化合物1モル当量当たり約2〜約7モル当量の範囲である請求項109に記載の方法。
【請求項111】
第1の塩基と第2の塩基が同一である請求項90に記載の方法。
【請求項112】
段階(b)を行う前に、段階(a)が式(II)の化合物を単離することを更に含む請求項74に記載の方法。
【請求項113】
段階(a)において製造される式(II)の化合物を最初に単離することなく段階(b)が行われる請求項74に記載の方法。
【請求項114】
式(I)の化合物が式(Ia):
【化11】

の化合物であり、式(II)の化合物が式(IIa):
【化12】

の化合物であり、および式(III)の化合物が式(IIIa):
【化13】

の化合物である請求項74に記載の方法。
【請求項115】
式中、R3がSi((C1−C10)アルキル)3、−Si(アリール)((C1−C10)アルキル)2、または−Si(アリール)2((C1−C10)アルキル)であり;および
4が−(C1−C10)アルキルである式(III):
【化14】

の化合物。
【請求項116】
3が−Si((C1−C10)アルキル)3である請求項115に記載の化合物。
【請求項117】
3が−Si(CH32(C(CH33)である請求項116に記載の化合物。
【請求項118】
4が−CH3である請求項117に記載の化合物。
【請求項119】
式(III)の化合物が式(IIIa):
【化15】

の化合物である請求項115に記載の化合物。

【公表番号】特表2007−520563(P2007−520563A)
【公表日】平成19年7月26日(2007.7.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−552236(P2006−552236)
【出願日】平成17年2月4日(2005.2.4)
【国際出願番号】PCT/US2005/003390
【国際公開番号】WO2005/077957
【国際公開日】平成17年8月25日(2005.8.25)
【出願人】(599108792)ユーロ−セルティーク エス.エイ. (134)
【Fターム(参考)】