説明

4−ニトロイミダゾール化合物の製造法

【課題】本発明は、抗結核剤を合成するための中間体として有用な1位置換−4−ニトロイミダゾール化合物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の1位置換−4−ニトロイミダゾール化合物は、一般式(1)


[式中、Rは、水素原子、低級アルコキシ基置換低級アルキル基、フェニル低級アルコキシ置換低級アルキル基、シアノ置換低級アルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル低級アルキル基等を示す。Xは、ハロゲン原子又は基−S(O)n−R1を示す。ここでR1は、フェニル環上にニトロ基、ハロゲン原子及び低級アルキル基からなる群より選ばれた少なくとも1種の置換基を1〜3個有することのあるフェニル基を示し、nは0、1又は2を示す。]
で表される。


Notice: Undefined index: DEJ in /mnt/www/gzt_disp.php on line 298

【特許請求の範囲】
【請求項1】
一般式(3)
【化1】

[式中、R'は、低級アルコキシ基置換低級アルキル基、フェニル低級アルコキシ置換低級アルキル基、シアノ置換低級アルキル基又はフェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル低級アルキル基を示す。X及びXは、それぞれハロゲン原子を示す。]
で表される4−ニトロイミダゾール化合物を還元し、次いで得られる一般式(1a)
【化2】

[式中、R'及びXは前記に同じ。]
で表される1位置換−4−ニトロイミダゾール化合物を脱R'基化することを特徴とする一般式(2a)
【化3】

[式中、Xは前記に同じ。]
で表される4−ニトロイミダゾール化合物の製造法。
【請求項2】
一般式(4)
【化4】

[式中、X及びXは、前記に同じ。]
で表される4−ニトロイミダゾール化合物を還元することを特徴とする一般式(2a)
【化5】

[式中、Xは前記に同じ。]
で表される4−ニトロイミダゾール化合物の製造法。
【請求項3】
一般式(26)
【化6】

[式中、Rは、フェニル環上にニトロ基、ハロゲン原子及び低級アルキル基からなる群より選ばれた少なくとも1種の置換基を1〜3個有することのあるフェニル基を示す。]
で表される1−ニトロイミダゾール化合物を転移反応に付すことを特徴とする一般式(2b)
【化7】

[式中、Rは前記に同じ。]
で表される4−ニトロイミダゾール化合物の製造法。
【請求項4】
一般式(15)
【化8】

[式中、Xは前記に同じ。]
で表されるイミダゾール化合物を、ニトロニウムハロゲン化ボレート類の存在下にニトロ化することを特徴とする一般式(15a)
【化9】

[式中、Xは前記に同じ。]
で表される4−ニトロイミダゾール化合物の製造法。
【請求項5】
ニトロニウムハロゲン化ボレート類がニトロニウムテトラフルオロボレートである請求項4に記載の製造法。
【請求項6】
ニトロ化反応をニトロメタン中で行う請求項4又は請求項5に記載の製造法。

【公開番号】特開2009−102329(P2009−102329A)
【公開日】平成21年5月14日(2009.5.14)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−305239(P2008−305239)
【出願日】平成20年11月28日(2008.11.28)
【分割の表示】特願2003−354575(P2003−354575)の分割
【原出願日】平成15年10月15日(2003.10.15)
【出願人】(000206956)大塚製薬株式会社 (230)