C型肝炎を治療するためのウラシルまたはチミン誘導体
【課題】C型肝炎(HCV)感染を治療するのに有用な化合物の提供。
【解決手段】上記化合物は、ウラシルまたはチミン誘導体が、フェニレンを介して縮合2環環式系(R6)に結合され、または代替的にさらなる2原子リンカ(L)を介して5−6員単環(R6)に結合されている。2つの具体的な化合物、すなわちN−(6(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドおよび(E)−N−(4(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3)4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)2−メトキシ−スチリル−フェニル)メタンスルホンアミドの多形体および擬多形体である。
【解決手段】上記化合物は、ウラシルまたはチミン誘導体が、フェニレンを介して縮合2環環式系(R6)に結合され、または代替的にさらなる2原子リンカ(L)を介して5−6員単環(R6)に結合されている。2つの具体的な化合物、すなわちN−(6(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドおよび(E)−N−(4(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3)4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)2−メトキシ−スチリル−フェニル)メタンスルホンアミドの多形体および擬多形体である。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
構造において、式Iに対応する化合物またはその塩
【化1】
[式中、
【化2】
は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択され;
R1は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択され;
R2は、水素、ハロ、ヒドロキシ、メチル、シクロプロピルおよびシクロブチルからなる群から選択され;
R3は、水素、ハロ、オキソおよびメチルからなる群から選択され;
R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで
(a)アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基
で置換されていてもよく、
(b)アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、独立に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基
で置換されていてもよく、
(c)カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される3つまでの置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基
で置換されていてもよく;
R5は、水素、ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、カルボシクリルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシおよびハロからなる群から選択され;
LおよびR6に関して、
Lは結合であり、ならびにR6は、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、または
Lは、C(RA)=C(RB)、C≡C、C(O)N(RC)、N(RD)C(O)、C1−C2−アルキレン、C(H)2O、OC(H)2、シクロプロピル−1,2−エン、C(H)2N(RL)、N(RM)C(H)2、C(O)CH2およびCH2C(O)からなる群から選択され、ならびにR6は、C5−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく;
RA、RB、RLおよびRMは、独立に、水素、C1−C6−アルキル、C1−C6−アルキルオキシ、C3−C8−シクロアルキルおよびハロからなる群から選択され;
C1−C6−アルキルは、独立に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく;
RCは、水素およびアルキルからなる群から選択され;
RDは、水素およびアルキルからなる群から選択され;
各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノ、アジドおよびアルデヒドからなる群から選択され;ここで
アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RFは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され;ここで
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノ、イミノ、アミノスルホニル、アミノカルボニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される置換基で置換されていてもよく;
各RGは、独立に、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RHは、独立に、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から選択され、ここで
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から選択され、ここで
(a)アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ならびに
(b)アミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシアルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ここで
カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、ハロ、アルキルおよびオキソからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノイミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、ここで
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で置換されていてもよく、ここで
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ならびに
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基
で置換されていてもよく、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ここで
アルキルは、1つ以上のヒドロキシで置換されていてもよく、
(c)当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;ならびに
各RKは、独立に、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択され、ここで
(a)アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;ならびに
(b)アミノスルホニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよい。]。
【請求項2】
R1が、水素およびメチルからなる群から選択され;
R2が、水素およびハロからなる群から選択され;
R3が、水素およびハロからなる群から選択され;
R4が、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで
(a)C1−C4−アルキルが、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される3つまでの置換基で置換されていてもよく、ならびに
(b)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルが、独立に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
R5が、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびハロからなる群から選択され;
LおよびR6に関して、
Lが結合であり、ならびにR6が、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されており、または
Lが、C(RA)=C(RB)、C≡C、C(O)N(RC)、N(RD)C(O)、C1−C2−アルキレン、C(H)2O、OC(H)2、シクロプロピル−1,2−エン、C(H)2N(RL)、N(RM)C(H)2、C(O)CH2およびCH2C(O)からなる群から選択され、ならびにR6が、C5−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されており;
RAおよびRBの一方が水素であり、ならびに他方が、水素、メチル、メトキシおよびハロからなる群から選択され;
RCが、水素およびメチルからなる群から選択され;
RDが、水素およびメチルからなる群から選択され;
各REが、独立に、クロロ、フルオロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノ、アルデヒドおよびアルキルアミノからなる群から選択され;
各RFが、カルボキシ、ハロ、アミノ、イミノおよびアミノスルホニルからなる群から選択される置換基で置換されていてもよい、独立に選択されたアルキルであり、ここで
アミノ、イミノおよびアミノスルホニルが、独立に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RIが、独立に、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、ここで
アミノカルボニルが、アルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で置換されていてもよく;
各RJが、独立に、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、ここで
(a)当該置換基のアミノ部分が、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で置換されていてもよく、ここで
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分が、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ならびに
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分が、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基
で置換されていてもよく、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分が、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノが、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ここで
アルキルが、1つ以上のヒドロキシで置換されていてもよく;
各RKが、独立に、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択され、ここで
(a)アルキルスルホニルが、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ならびに
(b)アミノスルホニルが、独立に選択されたアルキルの1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
RLが水素であり;ならびに
RMが水素である、
請求項1の化合物またはその塩。
【請求項3】
R1が水素であり;
R2が、水素およびハロからなる群から選択され;
R3が水素であり;
R4がtert−ブチルであり;
R5が、ヒドロキシおよびメトキシからなる群から選択され;
RAが水素であり;
RBが水素であり;
RCが水素であり;ならびに
RDが水素である、
請求項1または2の化合物またはその塩。
【請求項4】
Lが結合であり;ならびに
R6が、縮合2環ヘテロシクリルおよび縮合2環カルボシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている、
請求項1から3のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項5】
R6が、縮合2環ヘテロシクリルおよび縮合2環カルボシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、RFおよびRJからなる群から選択される置換基で置換されており;
RFがアルキルスルホニルアミノアルキルであり;ならびに
RJがアルキルスルホニルアミノである、
請求項1から4のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項6】
置換された縮合2環カルボシクリルが、ナフタレニル、ジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル、ヘキサヒドロナフタレニル、オクタヒドロナフタレニル、デカヒドロナフタレニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ヘキサヒドロインデニル、オクタヒドロインデニル、ペンタレニル、オクタヒドロペンタレニルおよびヘキサヒドロペンタレニルからなる群から選択される、請求項1から5のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項7】
置換された縮合2環ヘテロシクリルが、
【化3】
からなる群から選択され;
X5、X6およびX7が、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X8が、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X19、X20およびX21の1つ以上がNであり、ならびに残りがC(H)であり;
X22、X23、X24およびX25の1つ以上がNであり、ならびに残りがC(H)であり;
X40、X41およびX42が、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X43、X44およびX45の1つがN(H)、OおよびSからなる群から選択され、ならびに残りの2つがC(H)2であり;
X56、X57およびX58は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X73、X74、X75およびX76の1つ以上がNであり、ならびに残りがC(H)であり;
X77およびX78の一方がN(H)であり、ならびに残りがC(H)2である、請求項1から5のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項8】
Lが、C(RA)=C(RB)、エチレンおよびシクロプロピル−1,2−エンからなる群から選択され;ならびに
R6が、C5−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている、
請求項1から3のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項9】
Lが、C≡C、C(O)N(RC)、N(RD)C(O)、C(H)2O、OC(H)2、C(H)2N(RL)、N(RM)C(H)2、C(O)CH2およびCH2C(O)からなる群から選択され、ならびに
R6が、C5−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている、
請求項1から3のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項10】
LがC≡Cである、請求項1から3および9のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項11】
R6が、RFおよびRJからなる群から選択される置換基で置換されたフェニルであり;
RFがアルキルスルホニルアミノアルキルであり;ならびに
RJがアルキルスルホニルアミノである、
請求項1から3および8から10のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項12】
実施例1−140に示されている化合物の群から選択される化合物またはその塩。
【請求項13】
8.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、19.2±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;
8.3±0.2、9.7±0.2、10.0±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、19.2±0.2、19.4±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;
実質的に図1に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;
5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、19.1±0.2および19.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;
5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、17.7±0.2、19.1±0.2、19.5±0.2、22.0±0.2、22.8±0.2および27.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;
実質的に図3に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;
7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、18.7±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート溶媒和物;
7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.7±0.2、17.4±0.2、18.7±0.2、21.7±0.2、22.0±0.2、28.2±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート溶媒和物;
実質的に図4に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート;
8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2および22.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;
8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2、22.5±0.2、23.8±0.2、26.0±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;
実質的に図5に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;
8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2および19.6±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;
8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.5±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2、19.6±0.2および27.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;
実質的に図6に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;
8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、19.3±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;
8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、10.5±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、18.6±0.2、19.3±0.2、21.0±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;
実質的に図7に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;
6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、16.2±0.2および18.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;
6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、10.1±0.2、14.9±0.2、16.2±0.2、18.3±0.2、19.8±0.2および26.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシ−フェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;
実質的に図8に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシ−フェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;
6.4±0.2、12.9±0.2、17.9±0.2および18.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;
6.4±0.2、12.9±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2および24.4±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;
6.4±0.2、12.7±0.2、12.9±0.2、14.1±0.2、15.7±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2、21.2±0.2、24.4±0.2および25.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図9に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;
4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、16.0±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2、23.9±0.2および28.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
実質的に図10に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2および22.1±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、17.8±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
実質的に図14に示されるX線粉末回折パターンを有するパターンC一ナトリウム塩を有する結晶パターンC N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
4.8±0.2、9.6±0.2、10.5±0.2、13.0±0.2、14.6±0.2、15.4±0.2、16.8±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;
4.8±0.2、9.6±0.2、10.5±0.2、13.0±0.2、14.6±0.2、15.4±0.2、16.8±0.2、22.7±0.2、23.0±0.2および23.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;
実質的に図15に示されるX線粉末回折パターンを有する二ナトリウム塩を有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;
5.0±0.2、9.9±0.2、11.3±0.2、13.3±0.2、16.9±0.2、18.1±0.2、19.1±0.2、20.0±0.2、21.1±0.2、23.5±0.2、24.8±0.2および25.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;
5.0±0.2、9.9±0.2、11.3±0.2、13.3±0.2、16.9±0.2、18.1±0.2、19.1±0.2、20.0±0.2、21.1±0.2、21.5±0.2、23.5±0.2、24.8±0.2および25.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有するパターンC一ナトリウム塩を有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;
実質的に図17に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;
10.9±0.2、12.1±0.2、13.4±0.2、15.5±0.2、17.0±0.2、17.8±0.2、18.3±0.2、19.5±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
10.9±0.2、12.1±0.2、13.0±0.2、13.4±0.2、13.6±0.2、15.5±0.2、17.0±0.2、17.8±0.2、18.3±0.2、19.5±0.2、19.7±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
実質的に図19に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
8.0±0.2、9.4±0.2、11.0±0.2、13.0±0.2、13.7±0.2、15.9±0.2、17.0±0.2、18.3±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
8.0±0.2、9.4±0.2、11.0±0.2、13.0±0.2、13.3±0.2、13.7±0.2、15.9±0.2、17.0±0.2、17.4±0.2、18.3±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2、21.8±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
実質的に図21に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
8.6±0.2、11.0±0.2、12.9±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩;
8.6±0.2、11.0±0.2、12.9±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2、21.9±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩;および
実質的に図23に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩
からなる群から選択されるN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド結晶形。
【請求項14】
4.3±0.2、10.4±0.2、10.9±0.2、11.6±0.2、12.9±0.2、14.7±0.2、16.4±0.2、17.8±0.2、19.4±0.2、19.8±0.2、20.8±0.2、21.9±0.2および23.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩九水和物;
4.3±0.2、10.4±0.2、10.9±0.2、11.6±0.2、12.9±0.2、14.7±0.2、14.9±0.2、16.4±0.2、17.8±0.2、19.4±0.2、19.7±0.2、19.8±0.2、20.8±0.2、20.9±0.2、21.9±0.2、22.1±0.2および23.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩九水和物;
実質的に図24に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩九水和物;
aが8.9Åであり、bが9.4Åであり、cが20.7Åであるセル単位パラメータを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド九水和物二ナトリウム塩;
4.8±0.2、12.1±0.2、14.0±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、20.9±0.2、21.6±0.2、25.0±0.2および29.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩四水和物;
4.8±0.2、12.1±0.2、14.0±0.2、14.4±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、20.9±0.2、21.6±0.2、25.0±0.2、29.5±0.2および34.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩四水和物;
実質的に図25に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩四水和物;
5.0±0.2、11.9±0.2、12.4±0.2、13.7±0.2、15.0±0.2、16.5±0.2、17.1±0.2、20.8±0.2、21.3±0.2、22.2±0.2、24.0±0.2、26.4±0.2および29.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二カリウム塩四水和物;
5.0±0.2、11.9±0.2、12.4±0.2、12.6±0.2、13.7±0.2、15.0±0.2、16.5±0.2、16.7±0.2、17.1±0.2、20.7±0.2、20.8±0.2、21.3±0.2、22.2±0.2、22.4±0.2、24.0±0.2、26.4±0.2および29.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二カリウム塩四水和物;
実質的に図27に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二カリウム塩四水和物;
aが14.5Åであり、bが10.8Åであり、cが35.8Åであるセル単位パラメータを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二カリウム塩四水和物;
4.8±0.2、10.8±0.2、11.3±0.2、13.4±0.2、15.3±0.2、16.9±0.2、21.2±0.2、21.7±0.2、22.1±0.2、22.5±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩三水和物;
4.8±0.2、10.8±0.2、11.3±0.2、13.4±0.2、13.6±0.2、15.3±0.2、16.9±0.2、21.2±0.2、21.7±0.2、21.7±0.2、22.1±0.2、22.5±0.2、22.6±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩三水和物;
4.8±0.2、10.8±0.2、11.3±0.2、13.4±0.2、15.3±0.2、16.9±0.2、21.2±0.2、21.7±0.2、22.1±0.2、22.5±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩三水和物;
aが9.0Åであり、bが8.3Åであり、cが18.6Åであるセル単位パラメータを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩三水和物;
7.7±0.2、8.8±0.2、16.1±0.2および19.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩二水和物;
7.7±0.2、8.8±0.2、12.4±0.2、14.0±0.2、16.1±0.2、17.7±0.2、19.2±0.2、19.7±0.2、23.1±0.2および29.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩二水和物;
実質的に図29に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩二水和物;
7.7±0.2、8.3±0.2、10.1±0.2、10.6±0.2、11.4±0.2、12.0±0.2、13.4±0.2、15.6±0.2、16.3±0.2、16.7±0.2、17.2±0.2、18.3±0.2、18.8±0.2、19.4±0.2、19.9±0.2、20.2±0.2、20.5±0.2、21.2±0.2、22.1±0.2および22.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド1/7カリウム塩;
7.7±0.2、8.3±0.2、10.1±0.2、10.6±0.2、11.4±0.2、12.0±0.2、13.4±0.2、15.6±0.2、16.3±0.2、16.7±0.2、17.2±0.2、18.3±0.2、18.8±0.2、19.4±0.2、19.9±0.2、20.2±0.2、20.5±0.2、20.8±0.2、21.2±0.2、22.1±0.2、22.9±0.2、24.3±0.2、24.9±0.2および25.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド1/7カリウム塩;
実質的に図31に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド1/7カリウム塩;
9.5±0.2、10.0±0.2、11.8±0.2、12.1±0.2、14.4±0.2、16.8±0.2、17.6±0.2、19.8±0.2、20.8±0.2、21.4±0.2、21.8±0.2および29.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミドモノジエチルアミン塩四水和物;
9.5±0.2、10.0±0.2、11.8±0.2、12.1±0.2、14.4±0.2、16.8±0.2、17.6±0.2、19.4±0.2、19.8±0.2、20.8±0.2、21.4±0.2、21.8±0.2、21.9±0.2および29.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミドモノジエチルアミン塩四水和物;
実質的に図32に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミドモノジエチルアミン塩四水和物;
5.8±0.2、9.9±0.2、11.8±0.2、12.4±0.2、14.5±0.2、18.8±0.2、22.7±0.2および29.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
5.8±0.2、9.9±0.2、11.8±0.2、12.4±0.2、14.0±0.2、14.5±0.2、15.3±0.2、18.5±0.2、18.8±0.2、22.2±0.2、22.7±0.2、23.8±0.2、26.0±0.2および29.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
実質的に図34に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
11.5±0.2、13.3±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、17.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、20.4±0.2、21.6±0.2、22.4±0.2、24.0±0.2、26.8±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
実質的に図36に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
7.7±0.2、10.1±0.2、10.6±0.2、12.0±0.2、13.4±0.2、16.2±0.2、19.4±0.2、20.5±0.2、21.4±0.2、22.0±0.2、22.6±0.2、24.3±0.2および27.6±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
実質的に図37に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
5.8±0.2、10.7±0.2、11.2±0.2、15.2±0.2、16.1±0.2、16.9±0.2、19.9±0.2、22.1±0.2、24.7±0.2および26.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
5.8±0.2、10.7±0.2、11.2±0.2、15.2±0.2、16.1±0.2、16.9±0.2、17.1±0.2、19.9±0.2、20.1±0.2、22.1±0.2、24.7±0.2および26.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
実質的に図38に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
5.1±0.2、7.9±0.2、9.5±0.2、10.3±0.2、13.7±0.2、16.5±0.2、17.1±0.2、17.5±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、20.7±0.2、21.3±0.2、21.6±0.2、25.8±0.2、26.8±0.2および28.4±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図39に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.3±0.2、7.7±0.2、10.4±0.2、12.7±0.2、13.3±0.2、14.9±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、18.6±0.2、18.9±0.2、19.4±0.2、22.5±0.2、23.5±0.2、24.0±0.2、26.8±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.3±0.2、7.7±0.2、10.4±0.2、12.7±0.2、13.3±0.2、13.5±0.2、14.9±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、18.5±0.2、18.6±0.2、18.9±0.2、19.4±0.2、22.5±0.2、23.5±0.2、24.0±0.2、26.8±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図41に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
10.5±0.2、13.3±0.2、14.9±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、18.6±0.2、19.0±0.2、19.4±0.2、22.5±0.2、23.5±0.2、26.9±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
10.5±0.2、13.3±0.2、13.5±0.2、14.9±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、18.6±0.2、19.0±0.2、19.4±0.2、22.5±0.2、23.5±0.2、26.9±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図43に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.6±0.2、10.0±0.2、10.5±0.2、11.1±0.2、11.6±0.2、12.2±0.2、14.2±0.2、16.6±0.2、17.1±0.2、17.7±0.2、18.5±0.2、18.8±0.2、19.3±0.2、21.4±0.2、22.7±0.2、23.1±0.2、23.6±0.2、24.6±0.2、25.2±0.2、27.2±0.2、29.1±0.2および31.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.6±0.2、10.0±0.2、10.5±0.2、11.1±0.2、11.6±0.2、12.2±0.2、12.5±0.2、14.2±0.2、16.6±0.2、17.1±0.2、17.7±0.2、18.5±0.2、18.8±0.2、19.3±0.2、21.4±0.2、22.7±0.2、22.8±0.2、23.1±0.2、23.6±0.2、24.6±0.2、24.9±0.2、25.2±0.2、27.2±0.2、29.1±0.2および31.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図45に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
aが17.8Åであり、bが9.6Åであり、cが27.0Åであるセル単位パラメータを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.2±0.2、7.8±0.2、10.2±0.2、10.7±0.2、12.1±0.2、16.3±0.2、19.7±0.2、20.9±0.2、21.8±0.2、24.5±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンE(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.2±0.2、7.8±0.2、10.2±0.2、10.4±0.2、10.7±0.2、12.1±0.2、16.3±0.2、19.7±0.2、20.9±0.2、21.8±0.2、24.5±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンE(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図46に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンE(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;および
aが9.5Åであり、bが14.5Åであり、cが17.3Åであるセル単位パラメータを有する結晶パターンE(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物
からなる群から選択される(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド結晶形。
【請求項15】
(a)請求項1から12のいずれか一項に記載の1つ以上の化合物および/または塩、または請求項13または14に記載の1つ以上の結晶形;(b)1つ以上の賦形剤;ならびに任意選択によって(c)1つ以上のさらなる治療薬を含む組成物。
【請求項16】
リボ核酸(RNA)ウイルスを、請求項1から12のいずれか一項に記載の1つ以上の化合物および/または塩または請求項13または14に記載の1つ以上の結晶形に曝露することを含む、リボ核酸(RNA)ウイルスの複製を阻害するための方法。
【請求項17】
請求項1から12のいずれか一項に記載の1つ以上の化合物および/または塩、または請求項13または14に記載の1つ以上の結晶形、ならびに任意選択によって1つ以上のさらなる治療薬を哺乳動物に投与することを含む、C型肝炎の治療を必要とする該哺乳動物におけるC型肝炎を治療するため方法。
【請求項18】
構造において、式IIに対応する式IIの化合物またはその塩
【化4】
[式中、
【化5】
、R1、R2、R3、R4およびR5は、請求項1に定義されている通りであり;
X2はハロである。]。
【請求項19】
R1、R2、R3、R4およびR5が、請求項3に定義されている通りであり;
X2が、クロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択される、請求項18の化合物またはその塩。
【請求項20】
式III(R1、R2およびR3は、請求項18に定義されている通りである。)の化合物と式IV(R4、R5およびX2は、請求項18に定義されている通りであり;X1はハロである。)の化合物とを、(i)銅(I)塩触媒および(ii)窒素含有ヘテロアリールリガンドの存在下で反応させることを含む、請求項18の化合物またはその塩を調製するための方法。
【化6】
【請求項21】
X1が、クロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択される、請求項20の方法。
【請求項22】
塩基の存在下で実施される、請求項20および21のいずれか一項の方法。
【請求項23】
塩基が、カリウム塩、ナトリウム塩およびセシウム塩からなる群から選択される、請求項22に記載の方法。
【請求項24】
窒素含有ヘテロアリールリガンドが、構造において、式Vに対応するピコリンアミド化合物を含む、請求項20から23のいずれか一項の方法。
【化7】
[R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17は、独立に、水素、C1−4−ペルフルオロアルキル、C1−4−アルキルオキシ、C1−4−ハロアルキル、クロロおよびシアノからなる群から選択される。]。
【請求項25】
窒素含有ヘテロアリールリガンドが、8−ヒドロキシキノリン、2−(2−ピリジル)ベンズイミダゾール、N−(4−シアノ−フェニル)ピコリンアミドおよびN−(2−シアノフェニル)ピコリンアミドからなる群から選択される、請求項20から24のいずれか一項の方法。
【請求項1】
構造において、式Iに対応する化合物またはその塩
【化1】
[式中、
【化2】
は、炭素−炭素単結合および炭素−炭素二重結合からなる群から選択され;
R1は、水素、メチルおよび窒素保護基からなる群から選択され;
R2は、水素、ハロ、ヒドロキシ、メチル、シクロプロピルおよびシクロブチルからなる群から選択され;
R3は、水素、ハロ、オキソおよびメチルからなる群から選択され;
R4は、ハロ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ニトロ、シアノ、アジド、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで
(a)アミノ、アミノカルボニルおよびアミノスルホニルは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基
で置換されていてもよく、
(b)アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシおよびアルキルスルホニルは、独立に、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基
で置換されていてもよく、
(c)カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロ、オキソ、ニトロ、シアノ、アジド、ヒドロキシ、アミノ、アルキルオキシ、トリメチルシリル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される3つまでの置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノは、
(1)独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、カルボシクリルアルキルおよびヘテロシクリルアルキルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基、または
(2)アミノ窒素と一緒になって単環ヘテロシクリルを形成する2つの置換基
で置換されていてもよく;
R5は、水素、ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、カルボシクリルスルホニルオキシ、ハロアルキルスルホニルオキシおよびハロからなる群から選択され;
LおよびR6に関して、
Lは結合であり、ならびにR6は、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、または
Lは、C(RA)=C(RB)、C≡C、C(O)N(RC)、N(RD)C(O)、C1−C2−アルキレン、C(H)2O、OC(H)2、シクロプロピル−1,2−エン、C(H)2N(RL)、N(RM)C(H)2、C(O)CH2およびCH2C(O)からなる群から選択され、ならびにR6は、C5−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく;
RA、RB、RLおよびRMは、独立に、水素、C1−C6−アルキル、C1−C6−アルキルオキシ、C3−C8−シクロアルキルおよびハロからなる群から選択され;
C1−C6−アルキルは、独立に、カルボキシ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、アミノ、シアノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく;
RCは、水素およびアルキルからなる群から選択され;
RDは、水素およびアルキルからなる群から選択され;
各REは、独立に、ハロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、シアノ、アミノ、イミノ、アジドおよびアルデヒドからなる群から選択され;ここで
アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RFは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択され;ここで
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、イミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノ、イミノ、アミノスルホニル、アミノカルボニル、カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、ヒドロキシおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、
アルキルスルホニルアミノのアミノ部分は、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される置換基で置換されていてもよく;
各RGは、独立に、カルボシクリルおよびヘテロシクリルからなる群から選択され、
各当該置換基は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RHは、独立に、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシおよびアルキニルスルホニルオキシからなる群から選択され、ここで
各当該置換基は、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RIは、独立に、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アミノカルボニル、アルキルオキシカルボニル、カルボシクリルカルボニルおよびヘテロシクリルカルボニルからなる群から選択され、ここで
(a)アルキルカルボニル、アルケニルカルボニルおよびアルキニルカルボニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ならびに
(b)アミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシアルキル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ここで
カルボシクリルおよびヘテロシクリルは、独立に、ハロ、アルキルおよびオキソからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RJは、独立に、カルボシクリルスルホニルアミノ、ヘテロシクリルスルホニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、アルキニルカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノ、アルケニルオキシカルボニルアミノ、アルキニルオキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノ、アミノカルボニルアミノ、アルキルオキシカルボニルアミノイミノ、アルキルスルホニルアミノイミノ、アルケニルスルホニルアミノイミノおよびアルキニルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、ここで
(a)当該置換基のアミノ部分は、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で置換されていてもよく、ここで
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジド、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ならびに
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分は、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基
で置換されていてもよく、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分は、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノは、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシおよびアルキニルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ここで
アルキルは、1つ以上のヒドロキシで置換されていてもよく、
(c)当該置換基のカルボシクリルおよびヘテロシクリル部分は、独立に、アルキル、アルケニル、アルキニル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、アジドおよびアミノからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;ならびに
各RKは、独立に、アミノスルホニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルからなる群から選択され、ここで
(a)アルキルスルホニル、アルケニルスルホニルおよびアルキニルスルホニルは、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、アジド、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つ以上の置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノ、アミノスルホニルおよびアミノカルボニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;ならびに
(b)アミノスルホニルは、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよい。]。
【請求項2】
R1が、水素およびメチルからなる群から選択され;
R2が、水素およびハロからなる群から選択され;
R3が、水素およびハロからなる群から選択され;
R4が、C1−C4−アルキル、C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、ここで
(a)C1−C4−アルキルが、独立に、ハロ、オキソ、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびトリメチルシリルからなる群から選択される3つまでの置換基で置換されていてもよく、ならびに
(b)C3−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルが、独立に、アルキル、ハロおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
R5が、水素、ヒドロキシ、アルキルオキシおよびハロからなる群から選択され;
LおよびR6に関して、
Lが結合であり、ならびにR6が、縮合2環カルボシクリルおよび縮合2環ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されており、または
Lが、C(RA)=C(RB)、C≡C、C(O)N(RC)、N(RD)C(O)、C1−C2−アルキレン、C(H)2O、OC(H)2、シクロプロピル−1,2−エン、C(H)2N(RL)、N(RM)C(H)2、C(O)CH2およびCH2C(O)からなる群から選択され、ならびにR6が、C5−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RF、RG、RH、RI、RJおよびRKからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されており;
RAおよびRBの一方が水素であり、ならびに他方が、水素、メチル、メトキシおよびハロからなる群から選択され;
RCが、水素およびメチルからなる群から選択され;
RDが、水素およびメチルからなる群から選択され;
各REが、独立に、クロロ、フルオロ、ニトロ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、アミノ、イミノ、アルデヒドおよびアルキルアミノからなる群から選択され;
各RFが、カルボキシ、ハロ、アミノ、イミノおよびアミノスルホニルからなる群から選択される置換基で置換されていてもよい、独立に選択されたアルキルであり、ここで
アミノ、イミノおよびアミノスルホニルが、独立に、アルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
各RIが、独立に、アルキルカルボニルおよびアミノカルボニルからなる群から選択され、ここで
アミノカルボニルが、アルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルスルホニルおよびアルキルスルホニルアミノからなる群から選択される置換基で置換されていてもよく;
各RJが、独立に、アルキルスルホニルアミノ、アルケニルスルホニルアミノ、アルキニルスルホニルアミノおよびアルキルスルホニルアミノイミノからなる群から選択され、ここで
(a)当該置換基のアミノ部分が、独立に、カルボシクリルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルカルボニルオキシ、アミノカルボニルアルキル、アルキル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシアルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシアルキルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択される置換基で置換されていてもよく、ここで
(1)カルボシクリルアルキルのカルボシクリル部分およびヘテロシクリルアルキルのヘテロシクリル部分が、独立に、アルキル、カルボキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロ、ニトロ、シアノ、オキソおよびアミノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ならびに
(2)アミノカルボニルアルキルのアミノ部分が、独立に、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基
で置換されていてもよく、
(b)当該置換基のアルキル、アルケニルおよびアルキニル部分が、独立に、カルボキシ、ハロ、オキソ、アミノ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドロキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリルおよびシアノからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ここで
アミノが、独立に、アルキルおよびアルキルオキシからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ここで
アルキルが、1つ以上のヒドロキシで置換されていてもよく;
各RKが、独立に、アミノスルホニルおよびアルキルスルホニルからなる群から選択され、ここで
(a)アルキルスルホニルが、独立に、カルボキシ、ヒドロキシ、ハロ、アミノ、ニトロ、オキソ、アミノスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシ、カルボシクリル、ヘテロシクリル、シアノおよびアミノカルボニルからなる群から選択される1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく、ならびに
(b)アミノスルホニルが、独立に選択されたアルキルの1つまたは2つの置換基で置換されていてもよく;
RLが水素であり;ならびに
RMが水素である、
請求項1の化合物またはその塩。
【請求項3】
R1が水素であり;
R2が、水素およびハロからなる群から選択され;
R3が水素であり;
R4がtert−ブチルであり;
R5が、ヒドロキシおよびメトキシからなる群から選択され;
RAが水素であり;
RBが水素であり;
RCが水素であり;ならびに
RDが水素である、
請求項1または2の化合物またはその塩。
【請求項4】
Lが結合であり;ならびに
R6が、縮合2環ヘテロシクリルおよび縮合2環カルボシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている、
請求項1から3のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項5】
R6が、縮合2環ヘテロシクリルおよび縮合2環カルボシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、RFおよびRJからなる群から選択される置換基で置換されており;
RFがアルキルスルホニルアミノアルキルであり;ならびに
RJがアルキルスルホニルアミノである、
請求項1から4のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項6】
置換された縮合2環カルボシクリルが、ナフタレニル、ジヒドロナフタレニル、テトラヒドロナフタレニル、ヘキサヒドロナフタレニル、オクタヒドロナフタレニル、デカヒドロナフタレニル、インデニル、ジヒドロインデニル、ヘキサヒドロインデニル、オクタヒドロインデニル、ペンタレニル、オクタヒドロペンタレニルおよびヘキサヒドロペンタレニルからなる群から選択される、請求項1から5のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項7】
置換された縮合2環ヘテロシクリルが、
【化3】
からなる群から選択され;
X5、X6およびX7が、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X8が、N(H)、OおよびSからなる群から選択され;
X19、X20およびX21の1つ以上がNであり、ならびに残りがC(H)であり;
X22、X23、X24およびX25の1つ以上がNであり、ならびに残りがC(H)であり;
X40、X41およびX42が、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X43、X44およびX45の1つがN(H)、OおよびSからなる群から選択され、ならびに残りの2つがC(H)2であり;
X56、X57およびX58は、独立に、NおよびC(H)からなる群から選択され;
X73、X74、X75およびX76の1つ以上がNであり、ならびに残りがC(H)であり;
X77およびX78の一方がN(H)であり、ならびに残りがC(H)2である、請求項1から5のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項8】
Lが、C(RA)=C(RB)、エチレンおよびシクロプロピル−1,2−エンからなる群から選択され;ならびに
R6が、C5−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基が、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている、
請求項1から3のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項9】
Lが、C≡C、C(O)N(RC)、N(RD)C(O)、C(H)2O、OC(H)2、C(H)2N(RL)、N(RM)C(H)2、C(O)CH2およびCH2C(O)からなる群から選択され、ならびに
R6が、C5−C6−カルボシクリルおよび5−6員ヘテロシクリルからなる群から選択され、各当該置換基は、独立に、RE、RFおよびRJからなる群から選択される1つ、2つまたは3つの置換基で置換されている、
請求項1から3のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項10】
LがC≡Cである、請求項1から3および9のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項11】
R6が、RFおよびRJからなる群から選択される置換基で置換されたフェニルであり;
RFがアルキルスルホニルアミノアルキルであり;ならびに
RJがアルキルスルホニルアミノである、
請求項1から3および8から10のいずれか一項の化合物またはその塩。
【請求項12】
実施例1−140に示されている化合物の群から選択される化合物またはその塩。
【請求項13】
8.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、19.2±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;
8.3±0.2、9.7±0.2、10.0±0.2、10.6±0.2、13.6±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、19.2±0.2、19.4±0.2、22.7±0.2、26.9±0.2および29.4±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;
実質的に図1に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエタノール溶媒和物;
5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、19.1±0.2および19.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;
5.3±0.2、8.3±0.2、9.7±0.2、10.5±0.2、13.8±0.2、17.2±0.2、17.7±0.2、19.1±0.2、19.5±0.2、22.0±0.2、22.8±0.2および27.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;
実質的に図3に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドアセトニトリル溶媒和物;
7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、18.7±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート溶媒和物;
7.9±0.2、9.3±0.2、9.7±0.2、10.6±0.2、13.7±0.2、17.4±0.2、18.7±0.2、21.7±0.2、22.0±0.2、28.2±0.2、38.5±0.2および44.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート溶媒和物;
実質的に図4に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドエチルアセテート;
8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2および22.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;
8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、16.3±0.2、18.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、21.6±0.2、22.5±0.2、23.8±0.2、26.0±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;
実質的に図5に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド2−プロパノール溶媒和物;
8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2および19.6±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;
8.4±0.2、9.7±0.2、10.1±0.2、13.5±0.2、13.8±0.2、17.4±0.2、19.3±0.2、19.6±0.2および27.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;
実質的に図6に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドメタノール溶媒和物;
8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、19.3±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;
8.2±0.2、9.3±0.2、10.1±0.2、10.5±0.2、15.7±0.2、16.2±0.2、18.4±0.2、18.6±0.2、19.3±0.2、21.0±0.2、21.6±0.2および22.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;
実質的に図7に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド1−プロパノール溶媒和物;
6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、16.2±0.2および18.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;
6.2±0.2、7.9±0.2、9.9±0.2、10.1±0.2、14.9±0.2、16.2±0.2、18.3±0.2、19.8±0.2および26.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシ−フェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;
実質的に図8に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶無溶媒N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシ−フェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド;
6.4±0.2、12.9±0.2、17.9±0.2および18.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;
6.4±0.2、12.9±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2および24.4±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;
6.4±0.2、12.7±0.2、12.9±0.2、14.1±0.2、15.7±0.2、17.2±0.2、17.5±0.2、17.9±0.2、18.9±0.2、21.2±0.2、24.4±0.2および25.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図9に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド水和物;
4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2および23.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
4.6±0.2、10.4±0.2、12.0±0.2、15.6±0.2、16.0±0.2、18.6±0.2、22.8±0.2、23.3±0.2、23.9±0.2および28.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
実質的に図10に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.4±0.2、10.8±0.2、14.4±0.2、16.3±0.2、17.0±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、19.6±0.2、21.6±0.2、22.1±0.2、23.7±0.2、28.8±0.2、29.1±0.2および31.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2、22.1±0.2および23.7±0.2度2θからなる群から選択される3つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.4±0.2、10.8±0.2、16.3±0.2および22.1±0.2度2θのピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
5.0±0.2、12.0±0.2、17.5±0.2、17.8±0.2、18.8±0.2および22.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
実質的に図14に示されるX線粉末回折パターンを有するパターンC一ナトリウム塩を有する結晶パターンC N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一ナトリウム塩;
4.8±0.2、9.6±0.2、10.5±0.2、13.0±0.2、14.6±0.2、15.4±0.2、16.8±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;
4.8±0.2、9.6±0.2、10.5±0.2、13.0±0.2、14.6±0.2、15.4±0.2、16.8±0.2、22.7±0.2、23.0±0.2および23.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;
実質的に図15に示されるX線粉末回折パターンを有する二ナトリウム塩を有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩;
5.0±0.2、9.9±0.2、11.3±0.2、13.3±0.2、16.9±0.2、18.1±0.2、19.1±0.2、20.0±0.2、21.1±0.2、23.5±0.2、24.8±0.2および25.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;
5.0±0.2、9.9±0.2、11.3±0.2、13.3±0.2、16.9±0.2、18.1±0.2、19.1±0.2、20.0±0.2、21.1±0.2、21.5±0.2、23.5±0.2、24.8±0.2および25.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有するパターンC一ナトリウム塩を有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;
実質的に図17に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド一カリウム塩;
10.9±0.2、12.1±0.2、13.4±0.2、15.5±0.2、17.0±0.2、17.8±0.2、18.3±0.2、19.5±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
10.9±0.2、12.1±0.2、13.0±0.2、13.4±0.2、13.6±0.2、15.5±0.2、17.0±0.2、17.8±0.2、18.3±0.2、19.5±0.2、19.7±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
実質的に図19に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
8.0±0.2、9.4±0.2、11.0±0.2、13.0±0.2、13.7±0.2、15.9±0.2、17.0±0.2、18.3±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
8.0±0.2、9.4±0.2、11.0±0.2、13.0±0.2、13.3±0.2、13.7±0.2、15.9±0.2、17.0±0.2、17.4±0.2、18.3±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2、21.8±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
実質的に図21に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドモノコリン塩;
8.6±0.2、11.0±0.2、12.9±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2および21.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩;
8.6±0.2、11.0±0.2、12.9±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、18.9±0.2、19.8±0.2、21.9±0.2および22.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩;および
実質的に図23に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶N−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミドジコリン塩
からなる群から選択されるN−(6−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシフェニル)ナフタレン−2−イル)メタンスルホンアミド結晶形。
【請求項14】
4.3±0.2、10.4±0.2、10.9±0.2、11.6±0.2、12.9±0.2、14.7±0.2、16.4±0.2、17.8±0.2、19.4±0.2、19.8±0.2、20.8±0.2、21.9±0.2および23.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩九水和物;
4.3±0.2、10.4±0.2、10.9±0.2、11.6±0.2、12.9±0.2、14.7±0.2、14.9±0.2、16.4±0.2、17.8±0.2、19.4±0.2、19.7±0.2、19.8±0.2、20.8±0.2、20.9±0.2、21.9±0.2、22.1±0.2および23.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩九水和物;
実質的に図24に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩九水和物;
aが8.9Åであり、bが9.4Åであり、cが20.7Åであるセル単位パラメータを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド九水和物二ナトリウム塩;
4.8±0.2、12.1±0.2、14.0±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、20.9±0.2、21.6±0.2、25.0±0.2および29.5±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩四水和物;
4.8±0.2、12.1±0.2、14.0±0.2、14.4±0.2、17.0±0.2、17.5±0.2、20.9±0.2、21.6±0.2、25.0±0.2、29.5±0.2および34.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩四水和物;
実質的に図25に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二ナトリウム塩四水和物;
5.0±0.2、11.9±0.2、12.4±0.2、13.7±0.2、15.0±0.2、16.5±0.2、17.1±0.2、20.8±0.2、21.3±0.2、22.2±0.2、24.0±0.2、26.4±0.2および29.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二カリウム塩四水和物;
5.0±0.2、11.9±0.2、12.4±0.2、12.6±0.2、13.7±0.2、15.0±0.2、16.5±0.2、16.7±0.2、17.1±0.2、20.7±0.2、20.8±0.2、21.3±0.2、22.2±0.2、22.4±0.2、24.0±0.2、26.4±0.2および29.3±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二カリウム塩四水和物;
実質的に図27に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二カリウム塩四水和物;
aが14.5Åであり、bが10.8Åであり、cが35.8Åであるセル単位パラメータを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド二カリウム塩四水和物;
4.8±0.2、10.8±0.2、11.3±0.2、13.4±0.2、15.3±0.2、16.9±0.2、21.2±0.2、21.7±0.2、22.1±0.2、22.5±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩三水和物;
4.8±0.2、10.8±0.2、11.3±0.2、13.4±0.2、13.6±0.2、15.3±0.2、16.9±0.2、21.2±0.2、21.7±0.2、21.7±0.2、22.1±0.2、22.5±0.2、22.6±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩三水和物;
4.8±0.2、10.8±0.2、11.3±0.2、13.4±0.2、15.3±0.2、16.9±0.2、21.2±0.2、21.7±0.2、22.1±0.2、22.5±0.2および23.0±0.2度2θからなる群から選択される5つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩三水和物;
aが9.0Åであり、bが8.3Åであり、cが18.6Åであるセル単位パラメータを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩三水和物;
7.7±0.2、8.8±0.2、16.1±0.2および19.7±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩二水和物;
7.7±0.2、8.8±0.2、12.4±0.2、14.0±0.2、16.1±0.2、17.7±0.2、19.2±0.2、19.7±0.2、23.1±0.2および29.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩二水和物;
実質的に図29に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド一カリウム塩二水和物;
7.7±0.2、8.3±0.2、10.1±0.2、10.6±0.2、11.4±0.2、12.0±0.2、13.4±0.2、15.6±0.2、16.3±0.2、16.7±0.2、17.2±0.2、18.3±0.2、18.8±0.2、19.4±0.2、19.9±0.2、20.2±0.2、20.5±0.2、21.2±0.2、22.1±0.2および22.9±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド1/7カリウム塩;
7.7±0.2、8.3±0.2、10.1±0.2、10.6±0.2、11.4±0.2、12.0±0.2、13.4±0.2、15.6±0.2、16.3±0.2、16.7±0.2、17.2±0.2、18.3±0.2、18.8±0.2、19.4±0.2、19.9±0.2、20.2±0.2、20.5±0.2、20.8±0.2、21.2±0.2、22.1±0.2、22.9±0.2、24.3±0.2、24.9±0.2および25.1±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド1/7カリウム塩;
実質的に図31に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド1/7カリウム塩;
9.5±0.2、10.0±0.2、11.8±0.2、12.1±0.2、14.4±0.2、16.8±0.2、17.6±0.2、19.8±0.2、20.8±0.2、21.4±0.2、21.8±0.2および29.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミドモノジエチルアミン塩四水和物;
9.5±0.2、10.0±0.2、11.8±0.2、12.1±0.2、14.4±0.2、16.8±0.2、17.6±0.2、19.4±0.2、19.8±0.2、20.8±0.2、21.4±0.2、21.8±0.2、21.9±0.2および29.8±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミドモノジエチルアミン塩四水和物;
実質的に図32に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミドモノジエチルアミン塩四水和物;
5.8±0.2、9.9±0.2、11.8±0.2、12.4±0.2、14.5±0.2、18.8±0.2、22.7±0.2および29.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
5.8±0.2、9.9±0.2、11.8±0.2、12.4±0.2、14.0±0.2、14.5±0.2、15.3±0.2、18.5±0.2、18.8±0.2、22.2±0.2、22.7±0.2、23.8±0.2、26.0±0.2および29.2±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
実質的に図34に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
11.5±0.2、13.3±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、17.1±0.2、18.6±0.2、19.4±0.2、20.4±0.2、21.6±0.2、22.4±0.2、24.0±0.2、26.8±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
実質的に図36に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
7.7±0.2、10.1±0.2、10.6±0.2、12.0±0.2、13.4±0.2、16.2±0.2、19.4±0.2、20.5±0.2、21.4±0.2、22.0±0.2、22.6±0.2、24.3±0.2および27.6±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
実質的に図37に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
5.8±0.2、10.7±0.2、11.2±0.2、15.2±0.2、16.1±0.2、16.9±0.2、19.9±0.2、22.1±0.2、24.7±0.2および26.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
5.8±0.2、10.7±0.2、11.2±0.2、15.2±0.2、16.1±0.2、16.9±0.2、17.1±0.2、19.9±0.2、20.1±0.2、22.1±0.2、24.7±0.2および26.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
実質的に図38に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド;
5.1±0.2、7.9±0.2、9.5±0.2、10.3±0.2、13.7±0.2、16.5±0.2、17.1±0.2、17.5±0.2、18.8±0.2、19.2±0.2、20.7±0.2、21.3±0.2、21.6±0.2、25.8±0.2、26.8±0.2および28.4±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図39に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.3±0.2、7.7±0.2、10.4±0.2、12.7±0.2、13.3±0.2、14.9±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、18.6±0.2、18.9±0.2、19.4±0.2、22.5±0.2、23.5±0.2、24.0±0.2、26.8±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンA (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.3±0.2、7.7±0.2、10.4±0.2、12.7±0.2、13.3±0.2、13.5±0.2、14.9±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、18.5±0.2、18.6±0.2、18.9±0.2、19.4±0.2、22.5±0.2、23.5±0.2、24.0±0.2、26.8±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図41に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンB (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
10.5±0.2、13.3±0.2、14.9±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、18.6±0.2、19.0±0.2、19.4±0.2、22.5±0.2、23.5±0.2、26.9±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
10.5±0.2、13.3±0.2、13.5±0.2、14.9±0.2、15.4±0.2、16.4±0.2、18.6±0.2、19.0±0.2、19.4±0.2、22.5±0.2、23.5±0.2、26.9±0.2および29.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図43に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンC (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.6±0.2、10.0±0.2、10.5±0.2、11.1±0.2、11.6±0.2、12.2±0.2、14.2±0.2、16.6±0.2、17.1±0.2、17.7±0.2、18.5±0.2、18.8±0.2、19.3±0.2、21.4±0.2、22.7±0.2、23.1±0.2、23.6±0.2、24.6±0.2、25.2±0.2、27.2±0.2、29.1±0.2および31.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.6±0.2、10.0±0.2、10.5±0.2、11.1±0.2、11.6±0.2、12.2±0.2、12.5±0.2、14.2±0.2、16.6±0.2、17.1±0.2、17.7±0.2、18.5±0.2、18.8±0.2、19.3±0.2、21.4±0.2、22.7±0.2、22.8±0.2、23.1±0.2、23.6±0.2、24.6±0.2、24.9±0.2、25.2±0.2、27.2±0.2、29.1±0.2および31.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図45に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
aが17.8Åであり、bが9.6Åであり、cが27.0Åであるセル単位パラメータを有する結晶パターンD (E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.2±0.2、7.8±0.2、10.2±0.2、10.7±0.2、12.1±0.2、16.3±0.2、19.7±0.2、20.9±0.2、21.8±0.2、24.5±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンE(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
6.2±0.2、7.8±0.2、10.2±0.2、10.4±0.2、10.7±0.2、12.1±0.2、16.3±0.2、19.7±0.2、20.9±0.2、21.8±0.2、24.5±0.2および28.0±0.2度2θからなる群から選択される1つ以上のピークを含むX線粉末回折パターンを有する結晶パターンE(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;
実質的に図46に示されるX線粉末回折パターンを有する結晶パターンE(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物;および
aが9.5Åであり、bが14.5Åであり、cが17.3Åであるセル単位パラメータを有する結晶パターンE(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド水和物
からなる群から選択される(E)−N−(4−(3−tert−ブチル−5−(2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロピリミジン−1(2H)−イル)−2−メトキシスチリル)フェニル)メタンスルホンアミド結晶形。
【請求項15】
(a)請求項1から12のいずれか一項に記載の1つ以上の化合物および/または塩、または請求項13または14に記載の1つ以上の結晶形;(b)1つ以上の賦形剤;ならびに任意選択によって(c)1つ以上のさらなる治療薬を含む組成物。
【請求項16】
リボ核酸(RNA)ウイルスを、請求項1から12のいずれか一項に記載の1つ以上の化合物および/または塩または請求項13または14に記載の1つ以上の結晶形に曝露することを含む、リボ核酸(RNA)ウイルスの複製を阻害するための方法。
【請求項17】
請求項1から12のいずれか一項に記載の1つ以上の化合物および/または塩、または請求項13または14に記載の1つ以上の結晶形、ならびに任意選択によって1つ以上のさらなる治療薬を哺乳動物に投与することを含む、C型肝炎の治療を必要とする該哺乳動物におけるC型肝炎を治療するため方法。
【請求項18】
構造において、式IIに対応する式IIの化合物またはその塩
【化4】
[式中、
【化5】
、R1、R2、R3、R4およびR5は、請求項1に定義されている通りであり;
X2はハロである。]。
【請求項19】
R1、R2、R3、R4およびR5が、請求項3に定義されている通りであり;
X2が、クロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択される、請求項18の化合物またはその塩。
【請求項20】
式III(R1、R2およびR3は、請求項18に定義されている通りである。)の化合物と式IV(R4、R5およびX2は、請求項18に定義されている通りであり;X1はハロである。)の化合物とを、(i)銅(I)塩触媒および(ii)窒素含有ヘテロアリールリガンドの存在下で反応させることを含む、請求項18の化合物またはその塩を調製するための方法。
【化6】
【請求項21】
X1が、クロロ、ブロモおよびヨードからなる群から選択される、請求項20の方法。
【請求項22】
塩基の存在下で実施される、請求項20および21のいずれか一項の方法。
【請求項23】
塩基が、カリウム塩、ナトリウム塩およびセシウム塩からなる群から選択される、請求項22に記載の方法。
【請求項24】
窒素含有ヘテロアリールリガンドが、構造において、式Vに対応するピコリンアミド化合物を含む、請求項20から23のいずれか一項の方法。
【化7】
[R11、R12、R13、R14、R15、R16およびR17は、独立に、水素、C1−4−ペルフルオロアルキル、C1−4−アルキルオキシ、C1−4−ハロアルキル、クロロおよびシアノからなる群から選択される。]。
【請求項25】
窒素含有ヘテロアリールリガンドが、8−ヒドロキシキノリン、2−(2−ピリジル)ベンズイミダゾール、N−(4−シアノ−フェニル)ピコリンアミドおよびN−(2−シアノフェニル)ピコリンアミドからなる群から選択される、請求項20から24のいずれか一項の方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
【図45】
【図46】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
【図45】
【図46】
【公開番号】特開2013−49681(P2013−49681A)
【公開日】平成25年3月14日(2013.3.14)
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願2012−225875(P2012−225875)
【出願日】平成24年10月11日(2012.10.11)
【分割の表示】特願2010−525102(P2010−525102)の分割
【原出願日】平成20年9月17日(2008.9.17)
【出願人】(391008788)アボット・ラボラトリーズ (650)
【氏名又は名称原語表記】ABBOTT LABORATORIES
【Fターム(参考)】
【公開日】平成25年3月14日(2013.3.14)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2012−225875(P2012−225875)
【出願日】平成24年10月11日(2012.10.11)
【分割の表示】特願2010−525102(P2010−525102)の分割
【原出願日】平成20年9月17日(2008.9.17)
【出願人】(391008788)アボット・ラボラトリーズ (650)
【氏名又は名称原語表記】ABBOTT LABORATORIES
【Fターム(参考)】
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