ＬＣＤ適用のための拡散板、その製造方法およびその使用
本発明は、ポリメチルメタクリレートマトリックス、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状散乱粒子（Ａ）（平均粒径Ｖ５０ ０．１〜４０μｍ、屈折率 ポリメチルメタクリレートマトリックスに対し０．０２〜０．２の範囲の値で相違）および光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状粒子（Ｂ）（平均粒径Ｖ５０ １０〜１５０μｍ、屈折率 ポリメチルメタクリレートマトリックスに対し０〜０．２の範囲の値で相違）を含有するＬＣＤ適用のための拡散板に関し、この場合、（Ａ）および（Ｂ）の全濃度は、光散乱ポリメチルメタクリレート層（質量）に対して１〜６０質量％であり、かつ（Ａ）および（Ｂ）は、異なる平均粒径Ｖ５０を有し、その際、拡散板の透過率は２０〜７０％および散乱力は０．３よりも大きく、ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均表面粗さの二乗と、（Ｂ）の粒径の三乗との比 Ｒｚ２／ＤＰＢ３が、０．０００２〜０．１３００μｍ−１であることを特徴とする、ＬＣＤ適用のための拡散板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１種の光散乱ポリメチルメタクリレート層を含有するＬＣＤ適用のための拡散板、その拡散板の製造方法およびその使用に関する。
【０００２】
液晶技術をベースとするモニターは、以前から知られている。これらＬＣＤｓ（液晶ディスプレイ）はしばしばコンピュータ上のディスプレイ媒体として使用される。近年になって、この技術の供給開始が、テレビ装置においても始まっている。さらにＬＣＤｓは、自動車、航空機および船舶におけるナビゲーション情報を含むグラフ表示に使用される。したがって、これらのモニター上には広範囲の要求がされる。多くのＬＣＤｓの共通する特徴はイルミネーションユニットであり、この場合、これらは、極性フィルムを有する実際のＬＣＤセルの後ろに取り付けられる。イルミネーションユニットとＬＣＤセルとの間においては、しばしば、ＬＣＤセルを均一に横断するディスプレイに必要とされる光を分散させる拡散板が使用される。
【０００３】
この目的のために適した、粒子混合物を含有するシートについてはよく知られている。たとえば、ＪＰ４−１３４４４０では、種々の屈折率を有する粒子を包含するリアプロジェクションスクリーンが記載されている。これは、良好な色あいの再現を生じる。
【０００４】
さらに、ＪＰ８−１９８９７６、ＪＰ５−５１４８０およびＪＰ２０００−２９６５８０では、たとえば光学的適用に使用することができるこの型のシートが記載されている。
【０００５】
散乱媒体を有する前記シートは、原則として拡散板として使用することができる。しかしながら、公知シートはバランスのとれた性能プロフィールを有するものではなかった。
【０００６】
たとえば、散乱媒体を備えた公知シートによって達成した明度分布は、しばしば十分なものではない。
【０００７】
さらに多くのシートは、かなり高い黄色度を有し、この場合、これらは、変色を生じうるものである。さらに、多くの拡散板は、過度に高いかまたは過度に低い透過率、および過度の曇り度を有する。
【０００８】
さらに、多くのよく知られた衝撃変性拡散板は、温度依存の光学的性質、たとえば、散乱力または半輝度角（halved-intensity angle）または黄色度を有する。温度依存性は、多くの適用においてたいして問題とならない場合もありうる。しかしながら、本発明は、自動車のダッシュボードが激しい温度変化を受けるという事実を考慮するものである。高い温度によって、特に明らかな不均一性を生じる。拡散板はこれらの激しい変化にかかわらず、性質の最大の均一性を提供するものでなければならない。
【０００９】
多くの拡散板はさらに、引掻に対して高い感受性を有する。この性質は取り付け後に、あまり問題とはならない場合もある。しかしながら、増加した予防尺度は、視覚的ディスプレイスクリーンのアセンブリ中で得られ、引掻を排除することができる。可視的引掻は、結果としてＬＣＤセル上に拡散した光において不均一性を生じる。
【００１０】
技術水準およびそこで示された事柄を考慮して、本発明の対象は、特にバランスのとれた性質プロフィールを生じうるＬＣＤ適用のための拡散板を提供することである。特に、拡散板は、高い発光効率とともに、高レベルの散乱作用を可能にするものである。
【００１１】
さらに拡散板は、特にニュートラルな、色ずれのない散乱光を生じさせることができるものでなければならない。ＬＣＤセルにより生じた色については、温度変化に基づいてわずかな変化のみを生じる。
【００１２】
本発明の他の対象は、ＬＣＤ適用のための拡散板を提供することから成り、この場合、これは特に均一な明度分布を有するものである。
【００１３】
さらに拡散板は、最大の安定性を有するものでなければならない。プラスチック板上の引掻は目につかないまたはわずかでなければならない。特に損傷は、拡散板を提供するモニターの明度分布上の効果において、全くないかまたはわずかでなければならない。
【００１４】
本発明に基づく他の対象は、ＬＣＤ適用のための拡散板を提供するものであり、この場合、これは、特に簡単な製造が可能である。したがって、特に拡散板は押出成形によって製造すべきである。
【００１５】
本発明の他の対象は、拡散板を提供するものであり、この場合、これらの性状プロフィールはわずかにのみ温度感受性である。この結果により、たとえば自動車において使用することができるＬＣＤｓを提供する。
【００１６】
本発明の他の対象は、大きさおよび形状を、簡単に要求に適合することができる拡散板を提供するものである。したがって、拡散板の工作において、極めて廉価な方法、たとえばレーザー切断システムを使用することが可能である。
【００１７】
本発明の他の対象は、高い耐久性、特にＵＶ照射または天候に対する高い耐性を有する拡散板を提供することから成る。
【００１８】
請求項１に記載の拡散板は、これらの目的を達成したものである。さらに他の対象についても、特に明記されているものではないが、ここで示された内容の結果として明確または必要不可欠なものである。本発明による拡散板の有用な改質化は、請求項１の従属請求項により保護される。
【００１９】
請求項２４は、本発明の基礎をなす、拡散板を製造するための方法に関する。
【００２０】
驚くべきことに、ＬＣＤ適用のための拡散板は、少なくとも１種の光散乱ポリメチルメタクリレート層を有し、この場合、この層は、ポリメチルメタクリレートマトリックス、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状の散乱粒子（Ａ）、その際、平均粒径（median size）Ｖ５０は、０．１〜４０μｍの範囲を有し、かつ、屈折率は、ポリメチルメタクリレートマトリックスの屈折率に対し０．０２〜０．２の範囲の値で相違するものであり、および、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状粒子（Ｂ）、その際、平均粒径Ｖ５０は１０〜１５０μｍの範囲を有し、かつ、屈折率は、ポリメチルメタクリレートマトリックスの屈折率に対し０〜０．２の範囲の値で相違するものである、を含有し、この場合、球状散乱粒子（Ａ）および粒子（Ｂ）の全濃度は、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して１〜６０質量％の範囲であり、かつ球状散乱粒子（Ａ）および球状粒子（Ｂ）は、異なる平均粒径Ｖ５０を有し、その際、拡散板の透過率は２０〜７０％であり、かつ、その散乱力は０．２よりも大きく、かつ極めて良好なバランスのとれた性状プロフィールが、ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均表面粗さの二乗と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比 Ｒｚ２／ＤＰＢ３が、０．０００２〜０．１３００μｍ−１である場合に、提供可能である。
【００２１】
以下の特別な利点は、特に、本発明による尺度によって達成される：
−本発明による拡散板は、明度分布を損なうか、および／または引掻に対する敏感性の任意の結果を有することなく、個々の要求に対して適合することができる。
−本発明の拡散板は、高い透過率および良好な散乱力を有していてもよい。
−本発明による拡散板上の画像の再現は、特に色の正確性を備えた画像を供給するＬＣＤｓを与えることができる。
−本発明により適用された拡散板は、特に均一な明度分布を有する。
−さらに本発明の拡散板は、高い機械的安定性を有する。ここで存在しうる引掻は、シート上でＬＣＤセルによって生じた画像において何ら影響を与えないかまたはあったとしてもわずかである。
−本発明の拡散板は、さらに特に高いレベルの温度変化に暴露されるＬＣＤｓ中で使用することができる。この温度変化は、明度分布、拡散板の透過率または引掻力上でわずかにのみ影響する。
−さらに本発明の拡散板は、特に簡単な方法で製造することができる。拡散板は特に押出成形によって製造することができる。
−本発明による拡散板は、天候、特にＵＶ照射に対して高い耐性を有する。
−拡散板の大きさおよび形状を、要求に適合させることができる。
【００２２】
本発明による拡散板の光散乱性ポリメチルメタクリレート層は、光散乱ポリメチルメタクリレート層に対して１〜６０質量％、特に３〜５５質量％および好ましくは６〜４８質量％の球状散乱粒子（Ａ）および球状粒子（Ｂ）を含有する。
【００２３】
散乱粒子（Ａ）および粒子（Ｂ）は球状である。本発明の目的のために、用語「球状」は、粒子が好ましくは球状の形状を有するものであるが、製造方法の結果として、これがさらに任意の他の形状を有していてもよいか、あるいは、粒子の形状が、理想的な球状の形状から逸脱していてもよいことは、当業者に自明である。
【００２４】
したがって、用語「球状」は、粒子の最も長い寸法と、最も短い寸法との比が４以下、好ましくは２以下であり、その際、これらそれぞれの寸法は、粒子の重心により測定されるものである。粒子の数に基づいて、少なくとも７０％の粒子、特に好ましくは少なくとも９０％も粒子が球状である。
【００２５】
散乱粒子（Ａ）の平均粒径Ｖ５０は、０．１〜４０μｍ、好ましくは０．５〜３０μｍ、特に好ましくは１〜１５μｍの範囲である。
【００２６】
光散乱ＰＭＭＡ層は、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％、好ましくは１〜２０質量％および特に好ましくは１．５〜１０質量％の球状散乱粒子（Ａ）を含有する。
【００２７】
この型の粒子は、当業者に公知であり、かつ市販されているものであってもよい。特にこれは、プラスチック粒子であり、かつさらには、無機材料を包含する粒子であってもよい。
【００２８】
本発明により使用されてもよい散乱粒子に特別な制限はないが、光の屈折が、散乱粒子（Ａ）とマトリックスプラスチックとの間の界面において生じるものである。
【００２９】
散乱粒子（Ａ）の屈折率が測定される場合には、２０℃で、ナトリウムＤライン（５８９ｎｍ）に関して測定された屈折率ｎ０は、マトリックスプラスチックの屈折率ｎ０とは、０．０２〜０．２単位で相違する。
【００３０】
球状散乱粒子（Ａ）は、好ましくは、架橋ポリスチレン、ポリシリコーンおよび／または架橋ポリ（メト）アクリレートを包含する。
【００３１】
散乱剤として使用される好ましいプラスチック粒子の一つの群は、シリコーンを含有する。たとえば、この型の粒子は、オルガノトリアルコキシシランおよび／またはテトラアルコキシシランの加水分解および重縮合によって得られ、この場合、これらは、式
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ２）３およびＳｉ（ＯＲ２）４
［式中、Ｒ１は、たとえば置換または非置換のアルキル基、アルケニル基またはフェニル基であり、かつ加水分解可能なアルコキシ基の基Ｒ２はアルキル基、たとえばメチル、エチルまたはブチルであるか、あるいは、アルコキシ−置換された炭化水素基、たとえば２−メトキシエチルまたは２−エトキシエチルである］によって示される。オルガノトリアルコキシシランの例はメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチル−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシランおよびメチルトリス（２−メトキシエトキシ）シランである。
【００３２】
前記シラン化合物、および球状のシリコーン粒子を製造するための方法は、当業者に公知であり、かつＥＰ１１１６７４１、ＪＰ６３−０７７９４０およびＪＰ２０００−１８６１４８に記載されている。
【００３３】
シリコーンを含有し、かつ特に好ましくは本発明において使用される散乱剤は、ＧＥ Bayer Siliconesから、商標ＴＯＳＰＥＡＲＬ（Ｒ）１２０およびＴＯＳＰＥＡＲＬ（Ｒ）３１２０として得ることが可能である。
【００３４】
好ましいプラスチック粒子の他の群の構造は：
ｂ１）置換基として芳香族基を有するモノマー２５〜９９．９質量部、たとえばスチレン、α−メチルスチレン、環置換スチレン、フェニル（メト）アクリレート、ベンジル（メト）アクリレート、２−フェニルエチル（メト）アクリレート、３−フェニルプロピル（メト）アクリレートまたはビニルベンゾエートであり；さらに
ｂ２）脂肪族エステル基中に１〜１２個の炭素原子を有するアクリル酸エステルおよび／またはメタクリル酸エステル０〜６０質量部、この場合、これらは、モノマーｂ１）と共重合可能であり、かつたとえば以下のものが挙げられる：メチル（メト）アクリレート、エチル（メト）アクリレート、ｎ−プロピル（メト）アクリレート、イソプロピル（メト）アクリレート、ｎ−ブチル（メト）アクリレート、イソブチル（メト）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メト）アクリレート、シクロヘキシル（メト）アクリレート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシル（メト）アクリレート、２−エチルヘキシル（メト）アクリレート、ノルボルニル（メト）アクリレートまたはイソボルニル（メト）アクリレートであり；
ｂ３）ラジカル経路によって、ｂ１）および適切である場合にはｂ２）と、共重合可能な少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する架橋性コモノマー０．１〜１５質量部、たとえばジビニルベンゼン、グリコールジ（メト）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メト）アクリレート、アリル（メト）アクリレート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ジアリルスクシネート、ペンタエリトリットテトラ（メト）アクリレートまたはトリメチロールプロパントリ（メト）アクリレートであり、その際、コモノマーｂ１）、ｂ２）およびｂ３）は全部で１００質量部である。
【００３５】
プラスチック粒子から製造される混合物は、特に好ましくは少なくとも８０質量％のスチレンおよび少なくとも０．５質量％のジビニルベンゼンを含有する。
【００３６】
架橋されたプラスチック粒子の製造は当業者に公知である。たとえば、散乱粒子は、乳濁重合によって製造され、この場合、これらはたとえば、ＥＰ−Ａ３４２２８３またはＥＰ−Ａ２６９３２４に記載されており、かつ特に好ましくは有機相重合を介して、たとえばドイツ特許出願Ｐ４３２７４６４．１に記載されている。この重合技術によって、特に狭い粒度分布が生じるか、あるいは、いいかえれば、平均粒子直径と粒子直径との、特に小さい偏差が生じる。
【００３７】
少なくとも２００℃、特に少なくとも２５０℃までの耐熱性を有するプラスチック粒子を使用することが特に好ましいが、これに制限されるものではない。用語「耐熱性」は、ここで、粒子が任意の本質的な熱分解を生じないことを意味する。熱分解は、プラスチック材料を使用できないものとする望ましくない変色を生じる。
【００３８】
特に好ましい粒子は、特に、商標（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ ＳＢＸ−６、（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ ＳＢＸ−８および（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ ＳＢＸ−１２（Ｓｅｋｉｓｕｉ）である。
【００３９】
散乱粒子（Ａ）を製造することができる無機材料は、同様に、水酸化アルミニウム、珪酸カリウムアルミニウム（マイカ）、珪酸アルミニウム（カオリン）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、炭酸カルシウム、珪酸マグネシウム（滑石）である、特に好ましくはＢａＳＯ４である。
【００４０】
前記散乱粒子において、好ましくは無機材料を含む粒子である。
【００４１】
前記散乱粒子（Ａ）は、別個にかまたは２種またはそれ以上の型の混合物の形で使用することができる。
【００４２】
光散乱ＰＭＭＡ層は、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して、０．５〜５９．５質量％、好ましくは５〜４０質量％および特に好ましくは８〜２５質量％の球状粒子（Ｂ）を含有する。
【００４３】
本発明による使用されるべき粒子（Ｂ）は、平均粒径Ｖ５０を１０〜１５０μｍ、好ましくは１５〜７０μｍおよび特に好ましくは３０〜５０μｍの範囲で有するものである。粒子の屈折率が測定される場合には、２０℃で、ナトリウムＤライン（５８９ｎｍ）に対して測定された屈折率ｎ０は、マトリックスプラスチックの屈折率ｎ０と、０〜０．２単位で相違する。
【００４４】
粒子（Ｂ）は、同様に商業的に入手可能である。これらの粒子を製造する材料は、散乱粒子（Ａ）を製造するものと同様である。好ましくはここではプラスチック粒子を使用する。
【００４５】
球状粒子（Ｂ）は好ましくは架橋ポリスチレン、ポリシリコーンおよび／または架橋ポリ（メト）アクリレートを含有する。
【００４６】
前記粒子（Ｂ）は、別個にかまたは２種またはそれ以上の型の混合物の形で使用することができる。
【００４７】
散乱粒子（Ａ）と粒子（Ｂ）との質量平均粒径の比は、好ましくは１：１００〜１０：１、さらに好ましくは１：５０〜７．５：１、殊に好ましくは１：２５〜５：１および特に好ましくは１：１０〜３：１である。
【００４８】
散乱粒子（Ａ）と粒子（Ｂ）との平均粒径Ｖ５０の差は、好ましくは少なくとも５μｍ、特に少なくとも１０μｍであり、その際、粒子（Ｂ）は、散乱粒子（Ａ）よりも大きい。
【００４９】
レーザー吸光法は、粒径、さらには粒度分布を測定するために使用することができる。ここで、Ｇａｌａｙ−ＣＩＳ（L.O.T. GmbH）を使用することができ、粒度測定、さらには粒度分布についての試験方法は、使用書に記載されている。
【００５０】
Ｘ線沈降写真（sedigraph）を、無機粒子の大きさを測定するために使用することができる。ＭＩＣＲＯＳＣＡＮＩＩ装置（Qantachrome）は、この目的のために使用することができる。ＭＩＣＲＯＳＣＡＮＩＩ装置は、０．１〜３００μｍの測定幅を有する懸濁液中の粉末の粒度分布を測定するための自動測定装置である。ＭＩＣＲＯＳＣＡＮＩＩ装置の測定原理は、Ｘ線検出を含む沈降反応である。これに関して、粒子は、組み込まれたホースポンプを用いてか、あるいは、超音波処理によって、液体中で均一に分散される。粒径は、粒子密度および分散液を関数として、液体の粘度および粒子が沈澱する時点での粘度をストークスの法則により測定する。
【００５１】
粒径Ｖ５０は、質量平均のメジアンであり、その際、粒子の５０質量％に関する値は、この値と同一であるかまたはこれよりも小さく、かつ、粒子の５０質量％に関してはこの値と同一であるかまたはこれによりも大きい。
【００５２】
本発明の特別な態様によって、これらの粒子はプラスチックマトリックス中で均一な分布を有するが、その際、粒子の顕著な凝集または凝塊はみられない。均一な分布は、プラスチックマトリックスの範囲内の粒子の濃度が本質的に一定であることを意味する。
【００５３】
光散乱層は、球状粒子と共にポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を含む、プラスチックマトリックスを包含する。光散乱ポリメチルメタクリレート層は、好ましくは、光散乱層の質量に対して、少なくとも３０質量％、および好ましくは少なくとも４０質量％、特に好ましくは少なくとも５０質量％のポリメチルメタクリレートを含有する。
【００５４】
ポリメチルメタクリレートは、一般には、メチルメタクリレートを含有する混合物のラジカル重合を介して得られる。これらの混合物は一般に、モノマーの質量に対して少なくとも４０質量％、好ましくは少なくとも６０質量％および特に好ましくは少なくとも８０質量％のメチルメタクリレートを含有する。
【００５５】
これと一緒に、ポリメチルメタクリレートを製造するためのこれらの混合物は、他の（メト）アクリレートを含有していてもよく、この場合、これらは、メチルメタクリレートと一緒に共重合可能である。用語「（メト）アクリレート」は、メタクリレートおよびアクリレートを含有し、かつさらにはこれら２種の混合物を包含する。
【００５６】
これらのモノマーはよく知られている。これらは、飽和アルコールから誘導された（メト）アクリレート、たとえばメチルアクリレート、エチル（メト）アクリレート、プロピル（メト）アクリレート、ｎ−ブチル（メト）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メト）アクリレート、ペンチル（メト）アクリレートおよび２−エチルヘキシル（メト）アクリレートを含み；
不飽和アルコールから誘導された（メト）アクリレート、たとえば、オレイル（メト）アクリレート、２−プロピニル（メト）アクリレート、アリル（メト）アクリレート、ビニル（メト）アクリレートを含み；
アリル（メト）アクリレート、たとえばベンジル（メト）アクリレートまたはフェニル（メト）アクリレートであり、この場合、それぞれ、アリール基は非置換であるか、あるいは、４個までの置換基を有しており；
シクロアルキル（メト）アクリレート、たとえば３−ビニルシクロヘキシル（メト）アクリレート、ボルニル（メト）アクリレートを含み；
ヒドロキシアルキル（メト）アクリレート、たとえば３−ヒドロキシプロピル（メト）アクリレート、３，４−ジヒドロキシブチル（メト）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メト）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メト）アクリレートを含み；
グリコールジ（メト）アクリレート、たとえば１，４−ブタンジオール（メト）アクリレート、
エーテルアルコールの（メト）アクリレート、たとえばテトラヒドロフルフリル（メト）アクリレート、ビニルオキシエトキシエチル（メト）アクリレートを含み；
（メト）アクリル酸のアミドおよびニトリル、たとえばＮ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メト）アクリルアミド、Ｎ−（ジエチルホスホノ）（メト）アクリルアミドを含み、１−メタクリロイルアミド−２−メチル−２−プロパノール；
硫黄含有メタクリレート、たとえばエチル−スルフィニルエチル（メト）アクリレート、
４−チオシアネートブチル（メト）アクリレート、
エチルスルホニルエチル（メト）アクリレート、チオシアネートメチル（メト）アクリレート、
メチルスルフィニルメチル（メト）アクリレート、
ビス（（メト）アクリロイルオキシエチル）スルフィドを含み；
多官能価（メト）アクリレート、たとえばトリメチロイルプロパントリ（メト）アクリレートを含む。
【００５７】
前記（メト）アクリレートに加えて、重合すべき組成物はさらに、メチルメタクリレートおよび前記（メト）アクリレートと共重合可能な他の不飽和モノマーを含有していてもよい。
【００５８】
これらは１−アルケン、たとえば１−ヘキセン、１−ヘプテンであり；分枝アルケン、たとえばビニルシクロヘキサン、３，３−ジ−メチル−１−プロペン、３−メチル−１−ジイソブチレン、４−メチル−１−ペンテンを含み；
アクリロニトリル；ビニルエステル、たとえば酢酸ビニルを含み；スチレン、側鎖でアルキル置換基を有する置換スチレン、たとえばα−メチルスチレンおよびα−エチルスチレン、環上でアルキル置換基を有する置換されたスチレン、たとえばビニルトルエンおよびｐ−メチルスチレン、ハロゲン化スチレン、たとえばモノクロロスチレン、ジクロロスチレン、トリブロモスチレンおよびテトラブロモスチレンを含み；
ヘテロ環式ビニル化合物、たとえば２−ビニルピリジン、３−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピリジン、３−エチル−４−ビニルピリジン、２，３−ジメチル−５−ビニルピリジン、ビニル−ピリミジン、ビニルピペリジン、９−ビニルカルバゾール、３−ビニル−カルバゾール、４−ビニルカルバゾール、１−ビニルイミダゾール、２−メチル−１−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ビニル−ピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、３−ビニルピロリジン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルブチロラクタム、ビニルオキソラン、ビニルフラン、ビニルチオフェン、ビニルチオラン、ビニルチアゾールおよび水素化ビニルチオアゾール、ビニルオキサゾールおよび水素化ビニルオキサゾールを含み；
ビニルおよびイソプレニルエーテル；
マレイン酸誘導体、たとえばマレイン酸無水物、メチルマレイン酸無水物、マレイン酸イミド、メチルマレイン酸イミドを含み；かつ、ジエン、たとえばジビニルベンゼンを含む。
【００５９】
これらコモノマーの使用される一般的な量は、モノマーの質量に対して０〜６０質量％、好ましくは０〜４０質量％および特に好ましくは０〜２０質量％であり、かつこれらの化合物は、別個にかまたは混合物の形で使用することができる。
【００６０】
重合は一般には公知のラジカル開始剤を用いて開始される。好ましい開始剤は、特に、当業者に公知のアゾ開始剤、たとえばＡＩＢＮおよび１，１−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、およびさらにはペルオキシ化合物、たとえばメチルエチルケトンペルオキシド、アセチルアセトンペルオキシド、ジラウリルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチル−ペル−２−エチルヘキサノエート、ケトンペルオキシド、メチルイソブチルケトンペルオキシド、シクトヘキサノンペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカルボネート、２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチル２−エチルペルオキシヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチル３，５，５−トリメチルペルオキシヘキサノエート、ジクミルペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、クミルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）ペルオキシジカルボネート、前記化合物の互いの２種またはそれ以上の混合物およびさらには前記化合物と、挙げられてはいないが、同様にラジカルを形成する能力を有する化合物との混合物である。
【００６１】
これらの化合物にしばしば使用される量は、モノマーの質量に対して０．０１〜１０質量％、好ましくは０．５〜３質量％である。
【００６２】
ここで種々のポリ（メト）アクリレートが使用されてもよく、この場合、これらは、たとえばその分子量またはそのモノマー構造において異なる。
【００６３】
さらに光散乱層のマトリックスは、他のポリマーを、その性質を改質化するために含有していてもよい。これは特に、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネートおよびポリ塩化ビニルである。これらのポリマーは別個にか、あるいは、混合物の形で使用されてもよく、かつさらにここで、前記ポリマーから誘導されるコポリマーを使用することも可能である。
【００６４】
本発明によりマトリックスポリマーとして使用されるべきホモ−および／またはコポリマーの質量平均分子量Ｍｗは、広範囲で可変であってもよく、この場合、モル質量は通常は、意図される用途および成形体組成物の加工様式に適合させる。しかしながら、一般には２００００〜１００００００ｇ／モル、好ましくは５００００〜５０００００ｇ／モルおよび特に好ましくは８００００〜３０００００ｇ／モルであるが、これに制限されるものではない。
【００６５】
本発明の特別な実施態様において、光散乱ポリメチルメタクリレート層のマトリックスは、光散乱層のマトリックスの質量に対して少なくとも７０質量％、好ましくは少なくとも８０質量％および特に好ましくは少なくとも９０質量％のポリメチルメタクリレートを含有する。
【００６６】
本発明の特別な一つの実施態様において、光散乱層のマトリックスのポリ（メト）アクリレートは、ナトリウムＤライン（５８９ｎｍ）に対して、かつ２０℃で、１．４６〜１．５４の範囲の屈折率を有する。
【００６７】
光散乱層を製造するための成形体組成物は、任意の型の常用の添加剤を含有していてもよい。これらは、静電防止剤、抗酸化剤、離型剤、耐燃剤、滑剤、染料、流れ改善剤、充填剤、光安定化剤、ＵＶ吸収剤および有機リン化合物、たとえばホスフィットまたはホスホネート、顔料、耐候剤および可塑化剤である。しかしながら、添加剤の量は、意図する用途に関して制限される。たとえば、ポリメチルメタクリレート層の光散乱特性のみならず、その透過性も、添加剤によって過度に損なわれることがないようにすべきである。特に、その光学的性質が温度依存的である場合の、添加剤の添加量は極めて少量にすべきである。衝撃変性の拡散板中に存在する量は、たとえば、ＥＰ−Ａ０１１３９２４、ＥＰ−Ａ０５２２３５１、ＥＰ−Ａ０４６５０４９およびＥＰ−Ａ０６８３０２８に記載されており、したがって、極めて少量にのみすべきである。拡散板中の衝撃変性剤の量は、好ましくは最大２０質量％、さらに好ましくは１０質量％および特に好ましくは４質量％に制限すべきである。本発明の一つの特別な実施態様によれは、本発明の拡散板は、好ましくは衝撃変性剤を包含しないものである。
【００６８】
プラスチックマトリックスを製造するための特に好ましい成形体組成物は、Roehm GmbH & Co. KGから商業的に入手可能である。
【００６９】
光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さは、一般には１〜１００ｍｍ、好ましくは１〜１０ｍｍおよび特に好ましくは２〜５ｍｍである。
【００７０】
本発明の一つの特別な実施態様によれば、球状散乱粒子（Ａ）の濃度ＣＰＡ、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓ、および球状散乱粒子（Ａ）ＤＰＡの粒径は、球状散乱粒子（Ａ）の濃度ＣＰＡと光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓとの積と、球状散乱粒子（Ａ）の粒径の三乗との比ＣＰＡ＊ｄｓ／ＤＰＡ３が、好ましくは０．０００１〜０．５質量％＊ｍｍ／μｍ３、特に好ましくは０．００２５〜０．３質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択される。
【００７１】
使用された散乱媒体が、本発明による好ましい実施態様によればその粒径Ｖ５０が６〜３０μｍである粒子を含み、球状散乱粒子（Ａ）ＣＰＡの濃度と光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さとの積と、球状散乱粒子（Ａ）の粒径の三乗との比ＣＰＡ＊ｄｓ／ＤＰＡ３は、好ましくは０．００１５〜０．０９質量％＊ｍｍ／μｍ３、特に好ましくは０．００２５〜０．０６質量％＊ｍｍ／μｍ３であり、かつ特に好ましくは０．００５〜０．０４質量％＊ｍｍ／μｍ３である。
【００７２】
使用された散乱媒体が、Ｖ５０が０．１〜５μｍの範囲の無機粒子を含有する場合には、その後に本発明による一つの実施態様によれば、球状散乱粒子（Ａ）ＣＰＡの濃度と光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さとの積と、球状散乱粒子（Ａ）の粒径の三乗との比ＣＰＡ＊ｄｓ／ＤＰＡ３は、好ましくは０．０１５〜０．５質量％＊ｍｍ／μｍ３、特に好ましくは０．０２５〜０．３質量％＊ｍｍ／μｍ３である。
【００７３】
球状粒子（Ｂ）の濃度ＣＰＢ、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓおよび球状粒子（Ｂ）ＤＰＢの粒径は、球状粒子（Ｂ）ＣＰＢの濃度と光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さとの積と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比ＣＰＢ＊ｄｓ／ＤＰＢ３が、好ましくは０．０００００５〜０．０４質量％＊ｍｍ／μｍ３、特に好ましくは０．００００５〜０．０２質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択される。
【００７４】
ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均の表面粗さの二乗と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比Ｒｚ２／ＤＰＢ３は、好ましくは０．０００２μｍ−１〜０．１３００μｍ−１、好ましくは０．０００９μｍ−１〜０．０９００μｍ−１、特に０．０００６μｍ−１−〜０．０８００μｍ−１および好ましくは０．０００８μｍ−１〜０．０４００μｍ−１の範囲であってもよい。
【００７５】
本発明の拡散板の特に好ましい実施態様によれば、球状散乱粒子（Ａ）ＣＰＡの濃度と、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓとの比ＣＰＡ／ｄｓは、０．２〜２０質量％／ｍｍ、特に０．５／１０質量％／ｍである。
【００７６】
本発明の拡散板の一つの特に好ましい実施態様によれば、球状粒子（Ｂ）の濃度ＣＰＢと、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓとの比ＣＰＢ／ｄｓは、２．５質量％ｍｍ以上であり、特に好ましくは４質量％／ｍｍ以上である。
【００７７】
光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓと、球状散乱粒子の粒径ＤＰＡとの比ｄｓ／ＤＰＡは、好ましくは５〜１５００、さらに好ましくは１０〜１０００および特に好ましくは１００〜６００であるが、これに制限されることはない。
【００７８】
光散乱ポリメチルメタクリレート層の光沢度Ｒ８５゜は、好ましくは６０以下、さらに好ましくは４０以下および特に好ましくは３０以下である。
【００７９】
本発明の拡散板、特に光散乱ポリメチルメタクリレート層は、特に高い引掻耐性を有する。本発明の特別な態様によれば、多くとも０．４Ｎ、好ましくは多くとも０．７Ｎおよび特に好ましくは多くとも１．０Ｎの応力を用いて、シート上に与えた引掻は、視覚的に検出可能なものではないが、これに制限されるものでもない。
【００８０】
引掻耐性は、ＤＩＮ５３７９９およびＤＩＮ ＥＮ４３８に対して、損傷表面の視覚的評価によって測定することができ、その際、損傷は、種々の応力を用いて、表面上にダイアモンドによって与えられる。
【００８１】
本発明の一つの好ましい実施態様によれば、シートの平均表面粗さＲｚは、好ましくは５〜５０μｍ、好ましくは５〜２５μｍ、さらに好ましくは６〜３５μｍおよび特に好ましくは６〜３０μｍの範囲である。
【００８２】
平均表面粗さＲｚは、ＤＩＮ４７６８に対して、Talysurf 50 試験器（Taylor Hobson）を用いて測定され、その際、Ｒｚは、粗さプロフィールの範囲内の、５個の連続する別個の測定位置からの、別個の粗さの深さの平均値である。
【００８３】
拡散板の表面粗さＲｚは、一般には粒子（Ｂ）の選択の結果である。この値はさらに、製造方法の性質に依存する種々のパラメータを変更することによって左右されてもよい。
【００８４】
これらは、成形工程中の溶融温度であり、その際、高い溶融温度は粗い表面を生じる。しかしながら、ここで考慮すべき要因は、溶融温度が、成形体組成物の正確な構造に依存することである。溶融温度は一般には１５０〜３００℃、好ましくは２００〜２９０℃である。これらの温度は、押出ダイからの搬出口における溶融の物の温度に基づく。
【００８５】
表面粗さはさらに、シートをポリッシングするために使用されるローラー間におけるギャップによって影響を受ける。たとえば、ポリッシングスタックが、３種のローラーを、Ｌ型配置で包含する場合には、この場合、成形体組成物は、押出ダイからローラー１とローラー２との間のギャップおよび６０〜１８０℃で包囲されたローラー２に導かれ、ローラー２とローラー３との間のギャップは、表面をポリッシングする。ローラー２とローラー３との間のギャップを、拡散板の厚さに調節する場合には、シート表面上の散乱粒子をプレスしてマトリックスにし、表面をさらにポリッシングさせることができる。より粗い表面を達成するために、このギャップは、一般には、製造すべき拡散板の厚さよりも幾分か大きいように調整し、その際、適切な値はしばしば、拡散板の厚さよりも０．１〜２ｍｍ、好ましくは０．１〜１．５ｍｍ上廻るが、これに制限されるものではない。表面粗さは、さらに、粒径およびシートの厚さにより影響され、その際、その依存性は実施例に示すとおりである。
【００８６】
光散乱層は、公知方法を介して製造することができ、その際、熱可塑性成形工程が好ましい。粒子を添加した後に、光散乱層は、前記成形体組成物から、通常の熱可塑性の成形方法を介して製造することができる。
【００８７】
本発明の特別な実施態様によれば、二軸スクリュー押出機を押出成形または散乱ビーズを含有する成形体組成物のペレットを製造するために使用される。これらの方法において、プラスチック粒子を、好ましくは、押出機中で溶融物にする。これにより、透過率の特に高いシートを形成する溶融物を得ることが可能である。
【００８８】
拡散板は、ここでは２段階工程を介して製造され、この場合、これらの工程は、二軸スクリュー押出機中で、本発明による側面供給物の化合をし、かつ中間造粒した後に、一軸スクリュー押出機中で、フィルムまたはシートの押出を実施するものである。二軸スクリュー押出機を介して得られたペレットは、散乱ビーズの特に高い割合を有するものが供給され、その際、種々の散乱ビーズ量を含む拡散板が、散乱ビーズ不含の成形体組成物とのブレンドによって簡単に製造することができる。
【００８９】
さらに、球状プラスチック粒子を溶融物に化合する単一工程による方法の実施は、記載のように、二軸スクリュー押出機中でおこなわれ、その際、適切である場合には、下流に圧力増加ユニット（たとえば溶融ポンプ）を有し、この場合、これは、その後すぐに押出ダイを介して、シート状製品に押し出す。驚くべきことに、前記手段によって、特に低い黄色度を有する拡散板を得ることができる。
【００９０】
さらに拡散板は、射出成形によって得られてよく、この場合には、しかしながら、工程パラメータまたは射出金型の選択は、本発明の範囲内での表面粗さを生じる程度におこなわれる。
【００９１】
マトリックスと散乱粒子との化合は、好ましくは、二軸スクリュー押出機を介しておこなわれ、かつ実際のシート押出機は、一軸押出機も使用することができるが、この場合、これに制限されるものではない。
【００９２】
本発明の拡散板の透過率は、３０〜７０％の範囲、好ましくは４０〜７０％および特に好ましくは４０〜６５％の範囲である。
【００９３】
拡散板の黄色度は、好ましくは１２以下であり、特に１０以下であるが、この場合、これに制限されるものではない。
【００９４】
本発明の拡散板の一つの好ましい実施態様は、１５゜以上の半輝度角、特に２５゜以上の半輝度角を有する。
【００９５】
本発明の拡散板の散乱力は、０．３以上、好ましくは０．４５以上および特に好ましくは０．６以上である。
【００９６】
本発明の好ましい実施態様によれば、本発明の拡散板の表面は、反射光下でマットな外観を有する。ＤＩＮ６７５３０に関して反射率計を用いての光沢度測定は、特徴付けのために使用することができる。８５゜の角度でのシートの光沢度は、好ましくは６０を下廻り、特に好ましくは４０を下廻り、かつさらに好ましくは３０を下廻る。
【００９７】
本発明の拡散板の大きさおよび形状にはなんら制限はない。しかしながら、拡散板の形状は、一般には、長方形の平板であり、それというのもＬＣＤｓは通常この型の形状を有するためである。
【００９８】
本発明の好ましい実施態様によれば、拡散板は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２、パート２−実験室用光源への暴露法：キノセンアーク源、に関して、高い耐候性を有する。
【００９９】
本発明による拡散板は、一般には天候に対する高い耐性を有する。したがって、好ましい拡散板のＤＩＮ５３３８７（キノテスト）に対する耐侯性は、少なくとも５０００時間である。
【０１００】
ＩＳＯ５２７−２に対する成形体の弾性率は、好ましくは少なくとも１５００ＭＰａ、特に好ましくは少なくとも２０００ＭＰａであるが、この場合、これに制限されるものではない。
【０１０１】
本発明の好ましい実施態様によれば、好ましい拡散板は、少なくとも６０℃、特に少なくとも７０℃の長期間の運転温度を有する。長時間の運転温度は、特に、拡散板が製造された材料に依存する。長時間の運転温度は、何時間もの後であっても、拡散板が変形することがないことを示す。
【０１０２】
同時に、これらの板は、好ましくは熱膨張性の低い効率を有し、したがって、少なくとも２０℃、特に少なくとも４０℃の加熱時に、多くとも０．５５％、特に多くとも０．３％の長手方向での膨張を生じる。
【０１０３】
本発明による拡散板は、他の光学的適用、たとえばリアプロジェクションスクリーンに使用することができる。
【０１０４】
実施例および比較例は、以下のように、本発明をより詳細に説明するのに用いられるが、この場合、これに制限されるものではない。
【０１０５】
実施例
Ａ）試験方法
平均粗さＲｚは、ＤＩＮ４７６８に対して、Taylor Hobson Talysurf 50試験器を用いて測定した。
【０１０６】
透過率τＤ６５／２゜は、ＤＩＮ５０３６に対して、Perkin Elmer Lambda 19試験器を用いて測定した。
【０１０７】
黄色度τＤ６５／１０゜は、ＤＩＮ６１６７に対して、Perkin Elmer Lambda 19試験器を用いて測定した。
【０１０８】
Ｒ８５゜光沢度は、８５゜でＤＩＮ６７５３０に対して、実験室用屈折率測定器（Ｄｒ．Ｌａｎｇｅ）を用いて測定した。
【０１０９】
散乱力および半輝度角を、ＤＩＮ５０３６に対して、ＧＯ−Ｔ−１５００ＬＭＴゴニオメーター試験ユニットを用いて測定した。
【０１１０】
Ｂ）プラスチック粒子の製造
プラスチック粒子Ｂ１）
球状プラスチック粒子を製造するために、水酸化アルミニウム−ピカリング（Pickering）−安定化剤を使用して、実際の重合開始前に、直接的に硫酸アルミニウムおよびソーダ溶液から沈澱させることにより製造した。この目的のために、Ａｌ２（ＳＯ４）３ １６ｇ、錯化剤（Trilon A）０．０３２ｇおよび乳化剤０．１６ｇ（Bayer AG からの乳化剤Ｋ３０；Ｃ１５パラフィンスルホネートのナトリウム塩）を、最初に、滅菌水０．８ｌ中に溶解した。１Ｎ炭酸ナトリウム溶液を、その後に約４０゜の温度で、水に溶解された硫酸アルミニウムに、撹拌しながら添加し、その際、得られたｐＨは、５〜５．５の範囲であった。この方法は、水中の安定化剤のコロイド状分散液を生じた。
【０１１１】
安定化剤の沈澱後に、水相を、ガラスビーカーに移した。メチルメタクリレート１１０ｇ、ベンジルメタクリレート８０ｇ、アリルメタクリレート１０ｇ、ジラウリルペルオキシド４ｇおよびｔｅｒｔ−ブチル２−エチルペルヘキサノエート０．４ｇを、ビーカー中に添加した。この混合物を、分散器によって、１５分に亘って７０００ｒｐｍで分散させた（UltraTurrax S50N-G45MF. Janke and Kunkel, Saufen）。
【０１１２】
引き続いて、これを剪断下に置き、反応混合物を反応器に装填し、この場合、これらの反応器は、適切な反応温度８０℃に予め加熱し、かつ撹拌しながら（６００ｒｐｍ）、約８０℃で（重合温度）、４５分に亘って（重合時間）重合させた。その後に、後反応相を約８５℃で、内部温度で１時間に亘って置いた。４５℃に冷却した後に、安定化剤を、５０％濃度の硫酸を添加することによって、水溶性硫酸アルミニウムに変換させた。このビーズを、濾過により後処理し、得られた懸濁液を、市販のテキスタイルフィルターに通し、かつ５０℃で２４時間に亘って加熱キャビネット中で乾燥させた。
【０１１３】
粒度分布は、レーザー吸光により試験した。粒子の平均粒径Ｖ５０は１８．６μｍであった。ビーズは球状をしており、繊維は検出されなかった。凝塊は生じなかった。得られた粒子は、プラスチック粒子Ｂ１として以下呼称する。
【０１１４】
プラスチック粒子Ｂ２）
ＤＥ３５２８１６５ Ｃ２によるプラスチック粒子を製造し、その際、粒子の構造は、本質的に前記プラスチック粒子Ｂ１）のものと同様であった。
【０１１５】
粒度分布をレーザー吸光により試験した。粒子の平均粒径Ｖ５０は４０．５μｍであった。ビーズは球状をしており、その際、繊維は検出されなかった。凝塊は生じなかった。得られた粒子は、以下プラスチック粒子Ｂ２と呼称する。
【０１１６】
Ｃ）例１〜６
種々の拡散板を、押出成形により製造した。この目的のために、最初に、プラスチック粒子Ｂ１、プラスチック粒子Ｂ２、約８．４μｍのＶ５０を有するスチレンをベースとするプラスチック粒子、この場合、これらは、商標、（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ ＳＢＸ−８（Ｓｅｋｉｓｕｉ）として商業的に入手可能なもの、およびＢａＳＯ４粒子、この場合、これらのｄ５０（ｓｅｄ．）平均粒径の値は約５μｍであり、この場合、これらは、Ｐ６３硫酸バリウムＶＥＬＶＯＬＵＸ Ｍ（Ｓａｃｈｔｌｅｂｅｎ）として入手可能なものである、からの種々の散乱ビーズを含有する化合物ならびにＰＭＭＡ成形体組成物（Roehm GmbH&Co.KG）（メチルメタクリレート９７質量％およびメチルアクリレート３質量％のコポリマー）を押出成形し、プラスチックシートとした。ここで成形体組成物は、ＴｉｎｕｖｉｎＰ（ＵＶ安定化剤、Ｃｉｂａから入手可能）０．０５質量％を含有していた。ＢＲＥＹＥＲ（直径６０ｍｍ）押出機を使用した。押出ダイからの搬出口における溶融温度は、一般には２７０℃であった。ポリッシングスタックは、一般には、最大表面粗さを達成するよう設定した。
【０１１７】
第１表は、ポリメチルメタクリレートマトリックス中の粒子の割合およびシートの厚さを示す。
【０１１８】
【表１】
【０１１９】
【表２】
【０１２０】
得られた拡散板は、前記試験方法によって試験され、得られた試験結果については第２表に示す。
【０１２１】
【表３】
【０１２２】
【表４】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１種の光散乱ポリメチルメタクリレート層を含有するＬＣＤ適用のための拡散板、その拡散板の製造方法およびその使用に関する。
【０００２】
液晶技術をベースとするモニターは、以前から知られている。これらＬＣＤｓ（液晶ディスプレイ）はしばしばコンピュータ上のディスプレイ媒体として使用される。近年になって、この技術の供給開始が、テレビ装置においても始まっている。さらにＬＣＤｓは、自動車、航空機および船舶におけるナビゲーション情報を含むグラフ表示に使用される。したがって、これらのモニター上には広範囲の要求がされる。多くのＬＣＤｓの共通する特徴はイルミネーションユニットであり、この場合、これらは、極性フィルムを有する実際のＬＣＤセルの後ろに取り付けられる。イルミネーションユニットとＬＣＤセルとの間においては、しばしば、ＬＣＤセルを均一に横断するディスプレイに必要とされる光を分散させる拡散板が使用される。
【０００３】
この目的のために適した、粒子混合物を含有するシートについてはよく知られている。たとえば、ＪＰ４−１３４４４０では、種々の屈折率を有する粒子を包含するリアプロジェクションスクリーンが記載されている。これは、良好な色あいの再現を生じる。
【０００４】
さらに、ＪＰ８−１９８９７６、ＪＰ５−５１４８０およびＪＰ２０００−２９６５８０では、たとえば光学的適用に使用することができるこの型のシートが記載されている。
【０００５】
散乱媒体を有する前記シートは、原則として拡散板として使用することができる。しかしながら、公知シートはバランスのとれた性能プロフィールを有するものではなかった。
【０００６】
たとえば、散乱媒体を備えた公知シートによって達成した明度分布は、しばしば十分なものではない。
【０００７】
さらに多くのシートは、かなり高い黄色度を有し、この場合、これらは、変色を生じうるものである。さらに、多くの拡散板は、過度に高いかまたは過度に低い透過率、および過度の曇り度を有する。
【０００８】
さらに、多くのよく知られた衝撃変性拡散板は、温度依存の光学的性質、たとえば、散乱力または半輝度角（halved-intensity angle）または黄色度を有する。温度依存性は、多くの適用においてたいして問題とならない場合もありうる。しかしながら、本発明は、自動車のダッシュボードが激しい温度変化を受けるという事実を考慮するものである。高い温度によって、特に明らかな不均一性を生じる。拡散板はこれらの激しい変化にかかわらず、性質の最大の均一性を提供するものでなければならない。
【０００９】
多くの拡散板はさらに、引掻に対して高い感受性を有する。この性質は取り付け後に、あまり問題とはならない場合もある。しかしながら、増加した予防尺度は、視覚的ディスプレイスクリーンのアセンブリ中で得られ、引掻を排除することができる。可視的引掻は、結果としてＬＣＤセル上に拡散した光において不均一性を生じる。
【００１０】
技術水準およびそこで示された事柄を考慮して、本発明の対象は、特にバランスのとれた性質プロフィールを生じうるＬＣＤ適用のための拡散板を提供することである。特に、拡散板は、高い発光効率とともに、高レベルの散乱作用を可能にするものである。
【００１１】
さらに拡散板は、特にニュートラルな、色ずれのない散乱光を生じさせることができるものでなければならない。ＬＣＤセルにより生じた色については、温度変化に基づいてわずかな変化のみを生じる。
【００１２】
本発明の他の対象は、ＬＣＤ適用のための拡散板を提供することから成り、この場合、これは特に均一な明度分布を有するものである。
【００１３】
さらに拡散板は、最大の安定性を有するものでなければならない。プラスチック板上の引掻は目につかないまたはわずかでなければならない。特に損傷は、拡散板を提供するモニターの明度分布上の効果において、全くないかまたはわずかでなければならない。
【００１４】
本発明に基づく他の対象は、ＬＣＤ適用のための拡散板を提供するものであり、この場合、これは、特に簡単な製造が可能である。したがって、特に拡散板は押出成形によって製造すべきである。
【００１５】
本発明の他の対象は、拡散板を提供するものであり、この場合、これらの性状プロフィールはわずかにのみ温度感受性である。この結果により、たとえば自動車において使用することができるＬＣＤｓを提供する。
【００１６】
本発明の他の対象は、大きさおよび形状を、簡単に要求に適合することができる拡散板を提供するものである。したがって、拡散板の工作において、極めて廉価な方法、たとえばレーザー切断システムを使用することが可能である。
【００１７】
本発明の他の対象は、高い耐久性、特にＵＶ照射または天候に対する高い耐性を有する拡散板を提供することから成る。
【００１８】
請求項１に記載の拡散板は、これらの目的を達成したものである。さらに他の対象についても、特に明記されているものではないが、ここで示された内容の結果として明確または必要不可欠なものである。本発明による拡散板の有用な改質化は、請求項１の従属請求項により保護される。
【００１９】
請求項２４は、本発明の基礎をなす、拡散板を製造するための方法に関する。
【００２０】
驚くべきことに、ＬＣＤ適用のための拡散板は、少なくとも１種の光散乱ポリメチルメタクリレート層を有し、この場合、この層は、ポリメチルメタクリレートマトリックス、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状の散乱粒子（Ａ）、その際、平均粒径（median size）Ｖ５０は、０．１〜４０μｍの範囲を有し、かつ、屈折率は、ポリメチルメタクリレートマトリックスの屈折率に対し０．０２〜０．２の範囲の値で相違するものであり、および、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状粒子（Ｂ）、その際、平均粒径Ｖ５０は１０〜１５０μｍの範囲を有し、かつ、屈折率は、ポリメチルメタクリレートマトリックスの屈折率に対し０〜０．２の範囲の値で相違するものである、を含有し、この場合、球状散乱粒子（Ａ）および粒子（Ｂ）の全濃度は、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して１〜６０質量％の範囲であり、かつ球状散乱粒子（Ａ）および球状粒子（Ｂ）は、異なる平均粒径Ｖ５０を有し、その際、拡散板の透過率は２０〜７０％であり、かつ、その散乱力は０．２よりも大きく、かつ極めて良好なバランスのとれた性状プロフィールが、ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均表面粗さの二乗と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比 Ｒｚ２／ＤＰＢ３が、０．０００２〜０．１３００μｍ−１である場合に、提供可能である。
【００２１】
以下の特別な利点は、特に、本発明による尺度によって達成される：
−本発明による拡散板は、明度分布を損なうか、および／または引掻に対する敏感性の任意の結果を有することなく、個々の要求に対して適合することができる。
−本発明の拡散板は、高い透過率および良好な散乱力を有していてもよい。
−本発明による拡散板上の画像の再現は、特に色の正確性を備えた画像を供給するＬＣＤｓを与えることができる。
−本発明により適用された拡散板は、特に均一な明度分布を有する。
−さらに本発明の拡散板は、高い機械的安定性を有する。ここで存在しうる引掻は、シート上でＬＣＤセルによって生じた画像において何ら影響を与えないかまたはあったとしてもわずかである。
−本発明の拡散板は、さらに特に高いレベルの温度変化に暴露されるＬＣＤｓ中で使用することができる。この温度変化は、明度分布、拡散板の透過率または引掻力上でわずかにのみ影響する。
−さらに本発明の拡散板は、特に簡単な方法で製造することができる。拡散板は特に押出成形によって製造することができる。
−本発明による拡散板は、天候、特にＵＶ照射に対して高い耐性を有する。
−拡散板の大きさおよび形状を、要求に適合させることができる。
【００２２】
本発明による拡散板の光散乱性ポリメチルメタクリレート層は、光散乱ポリメチルメタクリレート層に対して１〜６０質量％、特に３〜５５質量％および好ましくは６〜４８質量％の球状散乱粒子（Ａ）および球状粒子（Ｂ）を含有する。
【００２３】
散乱粒子（Ａ）および粒子（Ｂ）は球状である。本発明の目的のために、用語「球状」は、粒子が好ましくは球状の形状を有するものであるが、製造方法の結果として、これがさらに任意の他の形状を有していてもよいか、あるいは、粒子の形状が、理想的な球状の形状から逸脱していてもよいことは、当業者に自明である。
【００２４】
したがって、用語「球状」は、粒子の最も長い寸法と、最も短い寸法との比が４以下、好ましくは２以下であり、その際、これらそれぞれの寸法は、粒子の重心により測定されるものである。粒子の数に基づいて、少なくとも７０％の粒子、特に好ましくは少なくとも９０％も粒子が球状である。
【００２５】
散乱粒子（Ａ）の平均粒径Ｖ５０は、０．１〜４０μｍ、好ましくは０．５〜３０μｍ、特に好ましくは１〜１５μｍの範囲である。
【００２６】
光散乱ＰＭＭＡ層は、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％、好ましくは１〜２０質量％および特に好ましくは１．５〜１０質量％の球状散乱粒子（Ａ）を含有する。
【００２７】
この型の粒子は、当業者に公知であり、かつ市販されているものであってもよい。特にこれは、プラスチック粒子であり、かつさらには、無機材料を包含する粒子であってもよい。
【００２８】
本発明により使用されてもよい散乱粒子に特別な制限はないが、光の屈折が、散乱粒子（Ａ）とマトリックスプラスチックとの間の界面において生じるものである。
【００２９】
散乱粒子（Ａ）の屈折率が測定される場合には、２０℃で、ナトリウムＤライン（５８９ｎｍ）に関して測定された屈折率ｎ０は、マトリックスプラスチックの屈折率ｎ０とは、０．０２〜０．２単位で相違する。
【００３０】
球状散乱粒子（Ａ）は、好ましくは、架橋ポリスチレン、ポリシリコーンおよび／または架橋ポリ（メト）アクリレートを包含する。
【００３１】
散乱剤として使用される好ましいプラスチック粒子の一つの群は、シリコーンを含有する。たとえば、この型の粒子は、オルガノトリアルコキシシランおよび／またはテトラアルコキシシランの加水分解および重縮合によって得られ、この場合、これらは、式
Ｒ１Ｓｉ（ＯＲ２）３およびＳｉ（ＯＲ２）４
［式中、Ｒ１は、たとえば置換または非置換のアルキル基、アルケニル基またはフェニル基であり、かつ加水分解可能なアルコキシ基の基Ｒ２はアルキル基、たとえばメチル、エチルまたはブチルであるか、あるいは、アルコキシ−置換された炭化水素基、たとえば２−メトキシエチルまたは２−エトキシエチルである］によって示される。オルガノトリアルコキシシランの例はメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチル−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシランおよびメチルトリス（２−メトキシエトキシ）シランである。
【００３２】
前記シラン化合物、および球状のシリコーン粒子を製造するための方法は、当業者に公知であり、かつＥＰ１１１６７４１、ＪＰ６３−０７７９４０およびＪＰ２０００−１８６１４８に記載されている。
【００３３】
シリコーンを含有し、かつ特に好ましくは本発明において使用される散乱剤は、ＧＥ Bayer Siliconesから、商標ＴＯＳＰＥＡＲＬ（Ｒ）１２０およびＴＯＳＰＥＡＲＬ（Ｒ）３１２０として得ることが可能である。
【００３４】
好ましいプラスチック粒子の他の群の構造は：
ｂ１）置換基として芳香族基を有するモノマー２５〜９９．９質量部、たとえばスチレン、α−メチルスチレン、環置換スチレン、フェニル（メト）アクリレート、ベンジル（メト）アクリレート、２−フェニルエチル（メト）アクリレート、３−フェニルプロピル（メト）アクリレートまたはビニルベンゾエートであり；さらに
ｂ２）脂肪族エステル基中に１〜１２個の炭素原子を有するアクリル酸エステルおよび／またはメタクリル酸エステル０〜６０質量部、この場合、これらは、モノマーｂ１）と共重合可能であり、かつたとえば以下のものが挙げられる：メチル（メト）アクリレート、エチル（メト）アクリレート、ｎ−プロピル（メト）アクリレート、イソプロピル（メト）アクリレート、ｎ−ブチル（メト）アクリレート、イソブチル（メト）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メト）アクリレート、シクロヘキシル（メト）アクリレート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシル（メト）アクリレート、２−エチルヘキシル（メト）アクリレート、ノルボルニル（メト）アクリレートまたはイソボルニル（メト）アクリレートであり；
ｂ３）ラジカル経路によって、ｂ１）および適切である場合にはｂ２）と、共重合可能な少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する架橋性コモノマー０．１〜１５質量部、たとえばジビニルベンゼン、グリコールジ（メト）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メト）アクリレート、アリル（メト）アクリレート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ジアリルスクシネート、ペンタエリトリットテトラ（メト）アクリレートまたはトリメチロールプロパントリ（メト）アクリレートであり、その際、コモノマーｂ１）、ｂ２）およびｂ３）は全部で１００質量部である。
【００３５】
プラスチック粒子から製造される混合物は、特に好ましくは少なくとも８０質量％のスチレンおよび少なくとも０．５質量％のジビニルベンゼンを含有する。
【００３６】
架橋されたプラスチック粒子の製造は当業者に公知である。たとえば、散乱粒子は、乳濁重合によって製造され、この場合、これらはたとえば、ＥＰ−Ａ３４２２８３またはＥＰ−Ａ２６９３２４に記載されており、かつ特に好ましくは有機相重合を介して、たとえばドイツ特許出願Ｐ４３２７４６４．１に記載されている。この重合技術によって、特に狭い粒度分布が生じるか、あるいは、いいかえれば、平均粒子直径と粒子直径との、特に小さい偏差が生じる。
【００３７】
少なくとも２００℃、特に少なくとも２５０℃までの耐熱性を有するプラスチック粒子を使用することが特に好ましいが、これに制限されるものではない。用語「耐熱性」は、ここで、粒子が任意の本質的な熱分解を生じないことを意味する。熱分解は、プラスチック材料を使用できないものとする望ましくない変色を生じる。
【００３８】
特に好ましい粒子は、特に、商標（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ ＳＢＸ−６、（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ ＳＢＸ−８および（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ ＳＢＸ−１２（Ｓｅｋｉｓｕｉ）である。
【００３９】
散乱粒子（Ａ）を製造することができる無機材料は、同様に、水酸化アルミニウム、珪酸カリウムアルミニウム（マイカ）、珪酸アルミニウム（カオリン）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、炭酸カルシウム、珪酸マグネシウム（滑石）である、特に好ましくはＢａＳＯ４である。
【００４０】
前記散乱粒子において、好ましくは無機材料を含む粒子である。
【００４１】
前記散乱粒子（Ａ）は、別個にかまたは２種またはそれ以上の型の混合物の形で使用することができる。
【００４２】
光散乱ＰＭＭＡ層は、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して、０．５〜５９．５質量％、好ましくは５〜４０質量％および特に好ましくは８〜２５質量％の球状粒子（Ｂ）を含有する。
【００４３】
本発明による使用されるべき粒子（Ｂ）は、平均粒径Ｖ５０を１０〜１５０μｍ、好ましくは１５〜７０μｍおよび特に好ましくは３０〜５０μｍの範囲で有するものである。粒子の屈折率が測定される場合には、２０℃で、ナトリウムＤライン（５８９ｎｍ）に対して測定された屈折率ｎ０は、マトリックスプラスチックの屈折率ｎ０と、０〜０．２単位で相違する。
【００４４】
粒子（Ｂ）は、同様に商業的に入手可能である。これらの粒子を製造する材料は、散乱粒子（Ａ）を製造するものと同様である。好ましくはここではプラスチック粒子を使用する。
【００４５】
球状粒子（Ｂ）は好ましくは架橋ポリスチレン、ポリシリコーンおよび／または架橋ポリ（メト）アクリレートを含有する。
【００４６】
前記粒子（Ｂ）は、別個にかまたは２種またはそれ以上の型の混合物の形で使用することができる。
【００４７】
散乱粒子（Ａ）と粒子（Ｂ）との質量平均粒径の比は、好ましくは１：１００〜１０：１、さらに好ましくは１：５０〜７．５：１、殊に好ましくは１：２５〜５：１および特に好ましくは１：１０〜３：１である。
【００４８】
散乱粒子（Ａ）と粒子（Ｂ）との平均粒径Ｖ５０の差は、好ましくは少なくとも５μｍ、特に少なくとも１０μｍであり、その際、粒子（Ｂ）は、散乱粒子（Ａ）よりも大きい。
【００４９】
レーザー吸光法は、粒径、さらには粒度分布を測定するために使用することができる。ここで、Ｇａｌａｙ−ＣＩＳ（L.O.T. GmbH）を使用することができ、粒度測定、さらには粒度分布についての試験方法は、使用書に記載されている。
【００５０】
Ｘ線沈降写真（sedigraph）を、無機粒子の大きさを測定するために使用することができる。ＭＩＣＲＯＳＣＡＮＩＩ装置（Qantachrome）は、この目的のために使用することができる。ＭＩＣＲＯＳＣＡＮＩＩ装置は、０．１〜３００μｍの測定幅を有する懸濁液中の粉末の粒度分布を測定するための自動測定装置である。ＭＩＣＲＯＳＣＡＮＩＩ装置の測定原理は、Ｘ線検出を含む沈降反応である。これに関して、粒子は、組み込まれたホースポンプを用いてか、あるいは、超音波処理によって、液体中で均一に分散される。粒径は、粒子密度および分散液を関数として、液体の粘度および粒子が沈澱する時点での粘度をストークスの法則により測定する。
【００５１】
粒径Ｖ５０は、質量平均のメジアンであり、その際、粒子の５０質量％に関する値は、この値と同一であるかまたはこれよりも小さく、かつ、粒子の５０質量％に関してはこの値と同一であるかまたはこれによりも大きい。
【００５２】
本発明の特別な態様によって、これらの粒子はプラスチックマトリックス中で均一な分布を有するが、その際、粒子の顕著な凝集または凝塊はみられない。均一な分布は、プラスチックマトリックスの範囲内の粒子の濃度が本質的に一定であることを意味する。
【００５３】
光散乱層は、球状粒子と共にポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を含む、プラスチックマトリックスを包含する。光散乱ポリメチルメタクリレート層は、好ましくは、光散乱層の質量に対して、少なくとも３０質量％、および好ましくは少なくとも４０質量％、特に好ましくは少なくとも５０質量％のポリメチルメタクリレートを含有する。
【００５４】
ポリメチルメタクリレートは、一般には、メチルメタクリレートを含有する混合物のラジカル重合を介して得られる。これらの混合物は一般に、モノマーの質量に対して少なくとも４０質量％、好ましくは少なくとも６０質量％および特に好ましくは少なくとも８０質量％のメチルメタクリレートを含有する。
【００５５】
これと一緒に、ポリメチルメタクリレートを製造するためのこれらの混合物は、他の（メト）アクリレートを含有していてもよく、この場合、これらは、メチルメタクリレートと一緒に共重合可能である。用語「（メト）アクリレート」は、メタクリレートおよびアクリレートを含有し、かつさらにはこれら２種の混合物を包含する。
【００５６】
これらのモノマーはよく知られている。これらは、飽和アルコールから誘導された（メト）アクリレート、たとえばメチルアクリレート、エチル（メト）アクリレート、プロピル（メト）アクリレート、ｎ−ブチル（メト）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メト）アクリレート、ペンチル（メト）アクリレートおよび２−エチルヘキシル（メト）アクリレートを含み；
不飽和アルコールから誘導された（メト）アクリレート、たとえば、オレイル（メト）アクリレート、２−プロピニル（メト）アクリレート、アリル（メト）アクリレート、ビニル（メト）アクリレートを含み；
アリル（メト）アクリレート、たとえばベンジル（メト）アクリレートまたはフェニル（メト）アクリレートであり、この場合、それぞれ、アリール基は非置換であるか、あるいは、４個までの置換基を有しており；
シクロアルキル（メト）アクリレート、たとえば３−ビニルシクロヘキシル（メト）アクリレート、ボルニル（メト）アクリレートを含み；
ヒドロキシアルキル（メト）アクリレート、たとえば３−ヒドロキシプロピル（メト）アクリレート、３，４−ジヒドロキシブチル（メト）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メト）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メト）アクリレートを含み；
グリコールジ（メト）アクリレート、たとえば１，４−ブタンジオール（メト）アクリレート、
エーテルアルコールの（メト）アクリレート、たとえばテトラヒドロフルフリル（メト）アクリレート、ビニルオキシエトキシエチル（メト）アクリレートを含み；
（メト）アクリル酸のアミドおよびニトリル、たとえばＮ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メト）アクリルアミド、Ｎ−（ジエチルホスホノ）（メト）アクリルアミドを含み、１−メタクリロイルアミド−２−メチル−２−プロパノール；
硫黄含有メタクリレート、たとえばエチル−スルフィニルエチル（メト）アクリレート、
４−チオシアネートブチル（メト）アクリレート、
エチルスルホニルエチル（メト）アクリレート、チオシアネートメチル（メト）アクリレート、
メチルスルフィニルメチル（メト）アクリレート、
ビス（（メト）アクリロイルオキシエチル）スルフィドを含み；
多官能価（メト）アクリレート、たとえばトリメチロイルプロパントリ（メト）アクリレートを含む。
【００５７】
前記（メト）アクリレートに加えて、重合すべき組成物はさらに、メチルメタクリレートおよび前記（メト）アクリレートと共重合可能な他の不飽和モノマーを含有していてもよい。
【００５８】
これらは１−アルケン、たとえば１−ヘキセン、１−ヘプテンであり；分枝アルケン、たとえばビニルシクロヘキサン、３，３−ジ−メチル−１−プロペン、３−メチル−１−ジイソブチレン、４−メチル−１−ペンテンを含み；
アクリロニトリル；ビニルエステル、たとえば酢酸ビニルを含み；スチレン、側鎖でアルキル置換基を有する置換スチレン、たとえばα−メチルスチレンおよびα−エチルスチレン、環上でアルキル置換基を有する置換されたスチレン、たとえばビニルトルエンおよびｐ−メチルスチレン、ハロゲン化スチレン、たとえばモノクロロスチレン、ジクロロスチレン、トリブロモスチレンおよびテトラブロモスチレンを含み；
ヘテロ環式ビニル化合物、たとえば２−ビニルピリジン、３−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピリジン、３−エチル−４−ビニルピリジン、２，３−ジメチル−５−ビニルピリジン、ビニル−ピリミジン、ビニルピペリジン、９−ビニルカルバゾール、３−ビニル−カルバゾール、４−ビニルカルバゾール、１−ビニルイミダゾール、２−メチル−１−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ビニル−ピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、３−ビニルピロリジン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルブチロラクタム、ビニルオキソラン、ビニルフラン、ビニルチオフェン、ビニルチオラン、ビニルチアゾールおよび水素化ビニルチオアゾール、ビニルオキサゾールおよび水素化ビニルオキサゾールを含み；
ビニルおよびイソプレニルエーテル；
マレイン酸誘導体、たとえばマレイン酸無水物、メチルマレイン酸無水物、マレイン酸イミド、メチルマレイン酸イミドを含み；かつ、ジエン、たとえばジビニルベンゼンを含む。
【００５９】
これらコモノマーの使用される一般的な量は、モノマーの質量に対して０〜６０質量％、好ましくは０〜４０質量％および特に好ましくは０〜２０質量％であり、かつこれらの化合物は、別個にかまたは混合物の形で使用することができる。
【００６０】
重合は一般には公知のラジカル開始剤を用いて開始される。好ましい開始剤は、特に、当業者に公知のアゾ開始剤、たとえばＡＩＢＮおよび１，１−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、およびさらにはペルオキシ化合物、たとえばメチルエチルケトンペルオキシド、アセチルアセトンペルオキシド、ジラウリルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチル−ペル−２−エチルヘキサノエート、ケトンペルオキシド、メチルイソブチルケトンペルオキシド、シクトヘキサノンペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカルボネート、２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチル２−エチルペルオキシヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチル３，５，５−トリメチルペルオキシヘキサノエート、ジクミルペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、クミルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）ペルオキシジカルボネート、前記化合物の互いの２種またはそれ以上の混合物およびさらには前記化合物と、挙げられてはいないが、同様にラジカルを形成する能力を有する化合物との混合物である。
【００６１】
これらの化合物にしばしば使用される量は、モノマーの質量に対して０．０１〜１０質量％、好ましくは０．５〜３質量％である。
【００６２】
ここで種々のポリ（メト）アクリレートが使用されてもよく、この場合、これらは、たとえばその分子量またはそのモノマー構造において異なる。
【００６３】
さらに光散乱層のマトリックスは、他のポリマーを、その性質を改質化するために含有していてもよい。これは特に、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネートおよびポリ塩化ビニルである。これらのポリマーは別個にか、あるいは、混合物の形で使用されてもよく、かつさらにここで、前記ポリマーから誘導されるコポリマーを使用することも可能である。
【００６４】
本発明によりマトリックスポリマーとして使用されるべきホモ−および／またはコポリマーの質量平均分子量Ｍｗは、広範囲で可変であってもよく、この場合、モル質量は通常は、意図される用途および成形体組成物の加工様式に適合させる。しかしながら、一般には２００００〜１００００００ｇ／モル、好ましくは５００００〜５０００００ｇ／モルおよび特に好ましくは８００００〜３０００００ｇ／モルであるが、これに制限されるものではない。
【００６５】
本発明の特別な実施態様において、光散乱ポリメチルメタクリレート層のマトリックスは、光散乱層のマトリックスの質量に対して少なくとも７０質量％、好ましくは少なくとも８０質量％および特に好ましくは少なくとも９０質量％のポリメチルメタクリレートを含有する。
【００６６】
本発明の特別な一つの実施態様において、光散乱層のマトリックスのポリ（メト）アクリレートは、ナトリウムＤライン（５８９ｎｍ）に対して、かつ２０℃で、１．４６〜１．５４の範囲の屈折率を有する。
【００６７】
光散乱層を製造するための成形体組成物は、任意の型の常用の添加剤を含有していてもよい。これらは、静電防止剤、抗酸化剤、離型剤、耐燃剤、滑剤、染料、流れ改善剤、充填剤、光安定化剤、ＵＶ吸収剤および有機リン化合物、たとえばホスフィットまたはホスホネート、顔料、耐候剤および可塑化剤である。しかしながら、添加剤の量は、意図する用途に関して制限される。たとえば、ポリメチルメタクリレート層の光散乱特性のみならず、その透過性も、添加剤によって過度に損なわれることがないようにすべきである。特に、その光学的性質が温度依存的である場合の、添加剤の添加量は極めて少量にすべきである。衝撃変性の拡散板中に存在する量は、たとえば、ＥＰ−Ａ０１１３９２４、ＥＰ−Ａ０５２２３５１、ＥＰ−Ａ０４６５０４９およびＥＰ−Ａ０６８３０２８に記載されており、したがって、極めて少量にのみすべきである。拡散板中の衝撃変性剤の量は、好ましくは最大２０質量％、さらに好ましくは１０質量％および特に好ましくは４質量％に制限すべきである。本発明の一つの特別な実施態様によれは、本発明の拡散板は、好ましくは衝撃変性剤を包含しないものである。
【００６８】
プラスチックマトリックスを製造するための特に好ましい成形体組成物は、Roehm GmbH & Co. KGから商業的に入手可能である。
【００６９】
光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さは、一般には１〜１００ｍｍ、好ましくは１〜１０ｍｍおよび特に好ましくは２〜５ｍｍである。
【００７０】
本発明の一つの特別な実施態様によれば、球状散乱粒子（Ａ）の濃度ＣＰＡ、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓ、および球状散乱粒子（Ａ）ＤＰＡの粒径は、球状散乱粒子（Ａ）の濃度ＣＰＡと光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓとの積と、球状散乱粒子（Ａ）の粒径の三乗との比ＣＰＡ＊ｄｓ／ＤＰＡ３が、好ましくは０．０００１〜０．５質量％＊ｍｍ／μｍ３、特に好ましくは０．００２５〜０．３質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択される。
【００７１】
使用された散乱媒体が、本発明による好ましい実施態様によればその粒径Ｖ５０が６〜３０μｍである粒子を含み、球状散乱粒子（Ａ）ＣＰＡの濃度と光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さとの積と、球状散乱粒子（Ａ）の粒径の三乗との比ＣＰＡ＊ｄｓ／ＤＰＡ３は、好ましくは０．００１５〜０．０９質量％＊ｍｍ／μｍ３、特に好ましくは０．００２５〜０．０６質量％＊ｍｍ／μｍ３であり、かつ特に好ましくは０．００５〜０．０４質量％＊ｍｍ／μｍ３である。
【００７２】
使用された散乱媒体が、Ｖ５０が０．１〜５μｍの範囲の無機粒子を含有する場合には、その後に本発明による一つの実施態様によれば、球状散乱粒子（Ａ）ＣＰＡの濃度と光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さとの積と、球状散乱粒子（Ａ）の粒径の三乗との比ＣＰＡ＊ｄｓ／ＤＰＡ３は、好ましくは０．０１５〜０．５質量％＊ｍｍ／μｍ３、特に好ましくは０．０２５〜０．３質量％＊ｍｍ／μｍ３である。
【００７３】
球状粒子（Ｂ）の濃度ＣＰＢ、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓおよび球状粒子（Ｂ）ＤＰＢの粒径は、球状粒子（Ｂ）ＣＰＢの濃度と光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さとの積と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比ＣＰＢ＊ｄｓ／ＤＰＢ３が、好ましくは０．０００００５〜０．０４質量％＊ｍｍ／μｍ３、特に好ましくは０．００００５〜０．０２質量％＊ｍｍ／μｍ３であるように選択される。
【００７４】
ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均の表面粗さの二乗と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比Ｒｚ２／ＤＰＢ３は、好ましくは０．０００２μｍ−１〜０．１３００μｍ−１、好ましくは０．０００９μｍ−１〜０．０９００μｍ−１、特に０．０００６μｍ−１−〜０．０８００μｍ−１および好ましくは０．０００８μｍ−１〜０．０４００μｍ−１の範囲であってもよい。
【００７５】
本発明の拡散板の特に好ましい実施態様によれば、球状散乱粒子（Ａ）ＣＰＡの濃度と、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓとの比ＣＰＡ／ｄｓは、０．２〜２０質量％／ｍｍ、特に０．５／１０質量％／ｍである。
【００７６】
本発明の拡散板の一つの特に好ましい実施態様によれば、球状粒子（Ｂ）の濃度ＣＰＢと、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓとの比ＣＰＢ／ｄｓは、２．５質量％ｍｍ以上であり、特に好ましくは４質量％／ｍｍ以上である。
【００７７】
光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓと、球状散乱粒子の粒径ＤＰＡとの比ｄｓ／ＤＰＡは、好ましくは５〜１５００、さらに好ましくは１０〜１０００および特に好ましくは１００〜６００であるが、これに制限されることはない。
【００７８】
光散乱ポリメチルメタクリレート層の光沢度Ｒ８５゜は、好ましくは６０以下、さらに好ましくは４０以下および特に好ましくは３０以下である。
【００７９】
本発明の拡散板、特に光散乱ポリメチルメタクリレート層は、特に高い引掻耐性を有する。本発明の特別な態様によれば、多くとも０．４Ｎ、好ましくは多くとも０．７Ｎおよび特に好ましくは多くとも１．０Ｎの応力を用いて、シート上に与えた引掻は、視覚的に検出可能なものではないが、これに制限されるものでもない。
【００８０】
引掻耐性は、ＤＩＮ５３７９９およびＤＩＮ ＥＮ４３８に対して、損傷表面の視覚的評価によって測定することができ、その際、損傷は、種々の応力を用いて、表面上にダイアモンドによって与えられる。
【００８１】
本発明の一つの好ましい実施態様によれば、シートの平均表面粗さＲｚは、好ましくは５〜５０μｍ、好ましくは５〜２５μｍ、さらに好ましくは６〜３５μｍおよび特に好ましくは６〜３０μｍの範囲である。
【００８２】
平均表面粗さＲｚは、ＤＩＮ４７６８に対して、Talysurf 50 試験器（Taylor Hobson）を用いて測定され、その際、Ｒｚは、粗さプロフィールの範囲内の、５個の連続する別個の測定位置からの、別個の粗さの深さの平均値である。
【００８３】
拡散板の表面粗さＲｚは、一般には粒子（Ｂ）の選択の結果である。この値はさらに、製造方法の性質に依存する種々のパラメータを変更することによって左右されてもよい。
【００８４】
これらは、成形工程中の溶融温度であり、その際、高い溶融温度は粗い表面を生じる。しかしながら、ここで考慮すべき要因は、溶融温度が、成形体組成物の正確な構造に依存することである。溶融温度は一般には１５０〜３００℃、好ましくは２００〜２９０℃である。これらの温度は、押出ダイからの搬出口における溶融の物の温度に基づく。
【００８５】
表面粗さはさらに、シートをポリッシングするために使用されるローラー間におけるギャップによって影響を受ける。たとえば、ポリッシングスタックが、３種のローラーを、Ｌ型配置で包含する場合には、この場合、成形体組成物は、押出ダイからローラー１とローラー２との間のギャップおよび６０〜１８０℃で包囲されたローラー２に導かれ、ローラー２とローラー３との間のギャップは、表面をポリッシングする。ローラー２とローラー３との間のギャップを、拡散板の厚さに調節する場合には、シート表面上の散乱粒子をプレスしてマトリックスにし、表面をさらにポリッシングさせることができる。より粗い表面を達成するために、このギャップは、一般には、製造すべき拡散板の厚さよりも幾分か大きいように調整し、その際、適切な値はしばしば、拡散板の厚さよりも０．１〜２ｍｍ、好ましくは０．１〜１．５ｍｍ上廻るが、これに制限されるものではない。表面粗さは、さらに、粒径およびシートの厚さにより影響され、その際、その依存性は実施例に示すとおりである。
【００８６】
光散乱層は、公知方法を介して製造することができ、その際、熱可塑性成形工程が好ましい。粒子を添加した後に、光散乱層は、前記成形体組成物から、通常の熱可塑性の成形方法を介して製造することができる。
【００８７】
本発明の特別な実施態様によれば、二軸スクリュー押出機を押出成形または散乱ビーズを含有する成形体組成物のペレットを製造するために使用される。これらの方法において、プラスチック粒子を、好ましくは、押出機中で溶融物にする。これにより、透過率の特に高いシートを形成する溶融物を得ることが可能である。
【００８８】
拡散板は、ここでは２段階工程を介して製造され、この場合、これらの工程は、二軸スクリュー押出機中で、本発明による側面供給物の化合をし、かつ中間造粒した後に、一軸スクリュー押出機中で、フィルムまたはシートの押出を実施するものである。二軸スクリュー押出機を介して得られたペレットは、散乱ビーズの特に高い割合を有するものが供給され、その際、種々の散乱ビーズ量を含む拡散板が、散乱ビーズ不含の成形体組成物とのブレンドによって簡単に製造することができる。
【００８９】
さらに、球状プラスチック粒子を溶融物に化合する単一工程による方法の実施は、記載のように、二軸スクリュー押出機中でおこなわれ、その際、適切である場合には、下流に圧力増加ユニット（たとえば溶融ポンプ）を有し、この場合、これは、その後すぐに押出ダイを介して、シート状製品に押し出す。驚くべきことに、前記手段によって、特に低い黄色度を有する拡散板を得ることができる。
【００９０】
さらに拡散板は、射出成形によって得られてよく、この場合には、しかしながら、工程パラメータまたは射出金型の選択は、本発明の範囲内での表面粗さを生じる程度におこなわれる。
【００９１】
マトリックスと散乱粒子との化合は、好ましくは、二軸スクリュー押出機を介しておこなわれ、かつ実際のシート押出機は、一軸押出機も使用することができるが、この場合、これに制限されるものではない。
【００９２】
本発明の拡散板の透過率は、３０〜７０％の範囲、好ましくは４０〜７０％および特に好ましくは４０〜６５％の範囲である。
【００９３】
拡散板の黄色度は、好ましくは１２以下であり、特に１０以下であるが、この場合、これに制限されるものではない。
【００９４】
本発明の拡散板の一つの好ましい実施態様は、１５゜以上の半輝度角、特に２５゜以上の半輝度角を有する。
【００９５】
本発明の拡散板の散乱力は、０．３以上、好ましくは０．４５以上および特に好ましくは０．６以上である。
【００９６】
本発明の好ましい実施態様によれば、本発明の拡散板の表面は、反射光下でマットな外観を有する。ＤＩＮ６７５３０に関して反射率計を用いての光沢度測定は、特徴付けのために使用することができる。８５゜の角度でのシートの光沢度は、好ましくは６０を下廻り、特に好ましくは４０を下廻り、かつさらに好ましくは３０を下廻る。
【００９７】
本発明の拡散板の大きさおよび形状にはなんら制限はない。しかしながら、拡散板の形状は、一般には、長方形の平板であり、それというのもＬＣＤｓは通常この型の形状を有するためである。
【００９８】
本発明の好ましい実施態様によれば、拡散板は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２、パート２−実験室用光源への暴露法：キノセンアーク源、に関して、高い耐候性を有する。
【００９９】
本発明による拡散板は、一般には天候に対する高い耐性を有する。したがって、好ましい拡散板のＤＩＮ５３３８７（キノテスト）に対する耐侯性は、少なくとも５０００時間である。
【０１００】
ＩＳＯ５２７−２に対する成形体の弾性率は、好ましくは少なくとも１５００ＭＰａ、特に好ましくは少なくとも２０００ＭＰａであるが、この場合、これに制限されるものではない。
【０１０１】
本発明の好ましい実施態様によれば、好ましい拡散板は、少なくとも６０℃、特に少なくとも７０℃の長期間の運転温度を有する。長時間の運転温度は、特に、拡散板が製造された材料に依存する。長時間の運転温度は、何時間もの後であっても、拡散板が変形することがないことを示す。
【０１０２】
同時に、これらの板は、好ましくは熱膨張性の低い効率を有し、したがって、少なくとも２０℃、特に少なくとも４０℃の加熱時に、多くとも０．５５％、特に多くとも０．３％の長手方向での膨張を生じる。
【０１０３】
本発明による拡散板は、他の光学的適用、たとえばリアプロジェクションスクリーンに使用することができる。
【０１０４】
実施例および比較例は、以下のように、本発明をより詳細に説明するのに用いられるが、この場合、これに制限されるものではない。
【０１０５】
実施例
Ａ）試験方法
平均粗さＲｚは、ＤＩＮ４７６８に対して、Taylor Hobson Talysurf 50試験器を用いて測定した。
【０１０６】
透過率τＤ６５／２゜は、ＤＩＮ５０３６に対して、Perkin Elmer Lambda 19試験器を用いて測定した。
【０１０７】
黄色度τＤ６５／１０゜は、ＤＩＮ６１６７に対して、Perkin Elmer Lambda 19試験器を用いて測定した。
【０１０８】
Ｒ８５゜光沢度は、８５゜でＤＩＮ６７５３０に対して、実験室用屈折率測定器（Ｄｒ．Ｌａｎｇｅ）を用いて測定した。
【０１０９】
散乱力および半輝度角を、ＤＩＮ５０３６に対して、ＧＯ−Ｔ−１５００ＬＭＴゴニオメーター試験ユニットを用いて測定した。
【０１１０】
Ｂ）プラスチック粒子の製造
プラスチック粒子Ｂ１）
球状プラスチック粒子を製造するために、水酸化アルミニウム−ピカリング（Pickering）−安定化剤を使用して、実際の重合開始前に、直接的に硫酸アルミニウムおよびソーダ溶液から沈澱させることにより製造した。この目的のために、Ａｌ２（ＳＯ４）３ １６ｇ、錯化剤（Trilon A）０．０３２ｇおよび乳化剤０．１６ｇ（Bayer AG からの乳化剤Ｋ３０；Ｃ１５パラフィンスルホネートのナトリウム塩）を、最初に、滅菌水０．８ｌ中に溶解した。１Ｎ炭酸ナトリウム溶液を、その後に約４０゜の温度で、水に溶解された硫酸アルミニウムに、撹拌しながら添加し、その際、得られたｐＨは、５〜５．５の範囲であった。この方法は、水中の安定化剤のコロイド状分散液を生じた。
【０１１１】
安定化剤の沈澱後に、水相を、ガラスビーカーに移した。メチルメタクリレート１１０ｇ、ベンジルメタクリレート８０ｇ、アリルメタクリレート１０ｇ、ジラウリルペルオキシド４ｇおよびｔｅｒｔ−ブチル２−エチルペルヘキサノエート０．４ｇを、ビーカー中に添加した。この混合物を、分散器によって、１５分に亘って７０００ｒｐｍで分散させた（UltraTurrax S50N-G45MF. Janke and Kunkel, Saufen）。
【０１１２】
引き続いて、これを剪断下に置き、反応混合物を反応器に装填し、この場合、これらの反応器は、適切な反応温度８０℃に予め加熱し、かつ撹拌しながら（６００ｒｐｍ）、約８０℃で（重合温度）、４５分に亘って（重合時間）重合させた。その後に、後反応相を約８５℃で、内部温度で１時間に亘って置いた。４５℃に冷却した後に、安定化剤を、５０％濃度の硫酸を添加することによって、水溶性硫酸アルミニウムに変換させた。このビーズを、濾過により後処理し、得られた懸濁液を、市販のテキスタイルフィルターに通し、かつ５０℃で２４時間に亘って加熱キャビネット中で乾燥させた。
【０１１３】
粒度分布は、レーザー吸光により試験した。粒子の平均粒径Ｖ５０は１８．６μｍであった。ビーズは球状をしており、繊維は検出されなかった。凝塊は生じなかった。得られた粒子は、プラスチック粒子Ｂ１として以下呼称する。
【０１１４】
プラスチック粒子Ｂ２）
ＤＥ３５２８１６５ Ｃ２によるプラスチック粒子を製造し、その際、粒子の構造は、本質的に前記プラスチック粒子Ｂ１）のものと同様であった。
【０１１５】
粒度分布をレーザー吸光により試験した。粒子の平均粒径Ｖ５０は４０．５μｍであった。ビーズは球状をしており、その際、繊維は検出されなかった。凝塊は生じなかった。得られた粒子は、以下プラスチック粒子Ｂ２と呼称する。
【０１１６】
Ｃ）例１〜６
種々の拡散板を、押出成形により製造した。この目的のために、最初に、プラスチック粒子Ｂ１、プラスチック粒子Ｂ２、約８．４μｍのＶ５０を有するスチレンをベースとするプラスチック粒子、この場合、これらは、商標、（Ｒ）Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ ＳＢＸ−８（Ｓｅｋｉｓｕｉ）として商業的に入手可能なもの、およびＢａＳＯ４粒子、この場合、これらのｄ５０（ｓｅｄ．）平均粒径の値は約５μｍであり、この場合、これらは、Ｐ６３硫酸バリウムＶＥＬＶＯＬＵＸ Ｍ（Ｓａｃｈｔｌｅｂｅｎ）として入手可能なものである、からの種々の散乱ビーズを含有する化合物ならびにＰＭＭＡ成形体組成物（Roehm GmbH&Co.KG）（メチルメタクリレート９７質量％およびメチルアクリレート３質量％のコポリマー）を押出成形し、プラスチックシートとした。ここで成形体組成物は、ＴｉｎｕｖｉｎＰ（ＵＶ安定化剤、Ｃｉｂａから入手可能）０．０５質量％を含有していた。ＢＲＥＹＥＲ（直径６０ｍｍ）押出機を使用した。押出ダイからの搬出口における溶融温度は、一般には２７０℃であった。ポリッシングスタックは、一般には、最大表面粗さを達成するよう設定した。
【０１１７】
第１表は、ポリメチルメタクリレートマトリックス中の粒子の割合およびシートの厚さを示す。
【０１１８】
【表１】
【０１１９】
【表２】
【０１２０】
得られた拡散板は、前記試験方法によって試験され、得られた試験結果については第２表に示す。
【０１２１】
【表３】
【０１２２】
【表４】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリメチルメタクリレートマトリックス、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状の散乱粒子（Ａ）、その際、平均粒径Ｖ５０は、０．１〜４０μｍの範囲を有し、かつ、屈折率は、ポリメチルメタクリレートマトリックスの屈折率に対し０．０２〜０．２の範囲の値で相違するものであり、および、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状粒子（Ｂ）、その際、平均粒径Ｖ５０は、１０〜１５０μｍの範囲を有し、かつ、屈折率は、ポリメチルメタクリレートマトリックスの屈折率に対し０〜０．２の範囲の値で相違するものである、を含有し、この場合、球状散乱粒子（Ａ）および粒子（Ｂ）の全濃度は、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して１〜６０質量％の範囲であり、かつ球状散乱粒子（Ａ）および球状粒子（Ｂ）は、異なる平均径Ｖ５０を有し、その際、拡散板の透過率は２０〜７０％であり、かつその散乱力は０．３よりも大きい、少なくとも１種の光散乱ポリメチルメタクリレート層を含有するＬＣＤ適用のための拡散板において、ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均表面粗さの二乗と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比 Ｒｚ２／ＤＰＢ３が、０．０００２〜０．１３００μｍ−１であることを特徴とする、ＬＣＤ適用のための拡散板。
【請求項２】
ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均表面粗さの二乗と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比 Ｒｚ２／ＤＰＢ３が、０．０００９〜０．０９００μｍ−１である、請求項１に記載の拡散板。
【請求項３】
粒子（Ｂ）ＣＰＢの濃度と、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓとの比ＣＰＢ／ｄｓが、２．５質量％／ｍｍ以上である、請求項１または２に記載の拡散板。
【請求項４】
光散乱ポリメチルメタクリレート層の光沢度Ｒ８５゜が４０以下である、請求項１から３までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項５】
比ＣＰＡ＊ｄｓ／ＤＰＡ３が０．００２５〜０．３質量％＊ｍｍ／μｍ２である、請求項１から４までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項６】
比ＣＰＢ＊ｄｓ／ＤＰＢ３が０．００００５〜０．０２質量％＊ｍｍ／μｍ２である、請求項１から５までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項７】
光散乱ポリメチルメタクリレート層が１〜１０ｍｍの厚さである、請求項１から６までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項８】
球状粒子（Ｂ）が架橋ポリスチレン、ポリシリコーンおよび／または架橋ポリ（メト）アクリレートを含む、請求項１から７までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項９】
散乱粒子（Ａ）がＢａＣＯ４を含有する、請求項１から８までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１０】
光散乱ポリメチルメタクリレート層が、ナトリウムＤライン（５８９ｎｍ）で測定した、２０℃での屈折率１．４６〜１．５４を有する、請求項１から９までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１１】
板の平均表面粗さＲｚが、６〜３０μｍである、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１２】
球状粒子（Ｂ）の平均粒径Ｖ５０が、散乱粒子（Ａ）の平均粒径よりも少なくとも５μｍ大きい、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１３】
球状散乱粒子（Ａ）の平均粒径Ｖ５０が、２〜１５μｍである、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１４】
球状粒子（Ｂ）の平均粒径Ｖ５０が、１５〜７０μｍである、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１５】
多くとも０．７Ｎの応力を使用してシート上に与えた引掻が、視覚的に検出できない、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１６】
シートの長時間の運転温度が少なくとも６０℃である、請求項１から１５までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１７】
シートの弾性率が少なくとも２０００ＭＰａである、請求項１から１６までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１８】
少なくとも２０℃での加熱による、シートの長手方向での熱膨張率が多くとも５％である、請求項１から１７までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１９】
ＤＩＮ５３３８７に対するシートの耐侯性が少なくとも５０００時間である、請求項１から１８までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２０】
シートの透過率が４０〜６５％の範囲である、請求項１から１９までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２１】
シートの黄色度が１２以下である、請求項１から２０までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２２】
シートの半輝度が１５゜以上である、請求項１から２１までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２３】
シートの散乱力が０．４５以上である、請求項１から２２までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２４】
ポリメチルメタクリレート、球状散乱粒子（Ａ）および球状粒子（Ｂ）を含有する成形体組成物を押出成形する、請求項１から２３に記載の拡散板の製造方法。
【請求項２５】
光学的適用のための、請求項１から２３までのいずれか１項に記載の拡散板の使用。
【請求項２６】
リアプロジェクションスクリーンとしての、請求項２５に記載の使用。
【請求項１】
ポリメチルメタクリレートマトリックス、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状の散乱粒子（Ａ）、その際、平均粒径Ｖ５０は、０．１〜４０μｍの範囲を有し、かつ、屈折率は、ポリメチルメタクリレートマトリックスの屈折率に対し０．０２〜０．２の範囲の値で相違するものであり、および、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して０．５〜５９．５質量％の球状粒子（Ｂ）、その際、平均粒径Ｖ５０は、１０〜１５０μｍの範囲を有し、かつ、屈折率は、ポリメチルメタクリレートマトリックスの屈折率に対し０〜０．２の範囲の値で相違するものである、を含有し、この場合、球状散乱粒子（Ａ）および粒子（Ｂ）の全濃度は、光散乱ポリメチルメタクリレート層の質量に対して１〜６０質量％の範囲であり、かつ球状散乱粒子（Ａ）および球状粒子（Ｂ）は、異なる平均径Ｖ５０を有し、その際、拡散板の透過率は２０〜７０％であり、かつその散乱力は０．３よりも大きい、少なくとも１種の光散乱ポリメチルメタクリレート層を含有するＬＣＤ適用のための拡散板において、ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均表面粗さの二乗と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比 Ｒｚ２／ＤＰＢ３が、０．０００２〜０．１３００μｍ−１であることを特徴とする、ＬＣＤ適用のための拡散板。
【請求項２】
ポリメチルメタクリレート層Ｒｚの平均表面粗さの二乗と、球状粒子（Ｂ）の粒径の三乗との比 Ｒｚ２／ＤＰＢ３が、０．０００９〜０．０９００μｍ−１である、請求項１に記載の拡散板。
【請求項３】
粒子（Ｂ）ＣＰＢの濃度と、光散乱ポリメチルメタクリレート層の厚さｄｓとの比ＣＰＢ／ｄｓが、２．５質量％／ｍｍ以上である、請求項１または２に記載の拡散板。
【請求項４】
光散乱ポリメチルメタクリレート層の光沢度Ｒ８５゜が４０以下である、請求項１から３までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項５】
比ＣＰＡ＊ｄｓ／ＤＰＡ３が０．００２５〜０．３質量％＊ｍｍ／μｍ２である、請求項１から４までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項６】
比ＣＰＢ＊ｄｓ／ＤＰＢ３が０．００００５〜０．０２質量％＊ｍｍ／μｍ２である、請求項１から５までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項７】
光散乱ポリメチルメタクリレート層が１〜１０ｍｍの厚さである、請求項１から６までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項８】
球状粒子（Ｂ）が架橋ポリスチレン、ポリシリコーンおよび／または架橋ポリ（メト）アクリレートを含む、請求項１から７までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項９】
散乱粒子（Ａ）がＢａＣＯ４を含有する、請求項１から８までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１０】
光散乱ポリメチルメタクリレート層が、ナトリウムＤライン（５８９ｎｍ）で測定した、２０℃での屈折率１．４６〜１．５４を有する、請求項１から９までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１１】
板の平均表面粗さＲｚが、６〜３０μｍである、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１２】
球状粒子（Ｂ）の平均粒径Ｖ５０が、散乱粒子（Ａ）の平均粒径よりも少なくとも５μｍ大きい、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１３】
球状散乱粒子（Ａ）の平均粒径Ｖ５０が、２〜１５μｍである、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１４】
球状粒子（Ｂ）の平均粒径Ｖ５０が、１５〜７０μｍである、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１５】
多くとも０．７Ｎの応力を使用してシート上に与えた引掻が、視覚的に検出できない、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１６】
シートの長時間の運転温度が少なくとも６０℃である、請求項１から１５までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１７】
シートの弾性率が少なくとも２０００ＭＰａである、請求項１から１６までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１８】
少なくとも２０℃での加熱による、シートの長手方向での熱膨張率が多くとも５％である、請求項１から１７までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項１９】
ＤＩＮ５３３８７に対するシートの耐侯性が少なくとも５０００時間である、請求項１から１８までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２０】
シートの透過率が４０〜６５％の範囲である、請求項１から１９までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２１】
シートの黄色度が１２以下である、請求項１から２０までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２２】
シートの半輝度が１５゜以上である、請求項１から２１までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２３】
シートの散乱力が０．４５以上である、請求項１から２２までのいずれか１項に記載の拡散板。
【請求項２４】
ポリメチルメタクリレート、球状散乱粒子（Ａ）および球状粒子（Ｂ）を含有する成形体組成物を押出成形する、請求項１から２３に記載の拡散板の製造方法。
【請求項２５】
光学的適用のための、請求項１から２３までのいずれか１項に記載の拡散板の使用。
【請求項２６】
リアプロジェクションスクリーンとしての、請求項２５に記載の使用。
【公表番号】特表２００７−５０１４２５（Ｐ２００７−５０１４２５Ａ）
【公表日】平成１９年１月２５日（２００７．１．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５２２２４１（Ｐ２００６−５２２２４１）
【出願日】平成１６年５月１２日（２００４．５．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００４／００５０５８
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０２２２４５
【国際公開日】平成１７年３月１０日（２００５．３．１０）
【出願人】（３９０００９１２８）レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト (293)
【氏名又は名称原語表記】Ｒｏｅｈｍ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．ＫＧ
【住所又は居所原語表記】Ｋｉｒｓｃｈｅｎａｌｌｅｅ，Ｄ−６４２９３ Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年１月２５日（２００７．１．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年５月１２日（２００４．５．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００４／００５０５８
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０２２２４５
【国際公開日】平成１７年３月１０日（２００５．３．１０）
【出願人】（３９０００９１２８）レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト (293)
【氏名又は名称原語表記】Ｒｏｅｈｍ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．ＫＧ
【住所又は居所原語表記】Ｋｉｒｓｃｈｅｎａｌｌｅｅ，Ｄ−６４２９３ Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】
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