LPSアンタゴニストB1287およびその立体異性体の調製のための試薬および方法
本発明は、LPSアンタゴニストリポ二糖類B1287およびその立体異性体を調製するための方法を提供し、この化合物は、内毒素血症(敗血症(sepsis)、敗血症(septicemia)および種々の形態の敗血症性ショックを含む)の予防的処置および積極的な処置に有用である。また、本発明の方法を実施するために有用な合成中間体が提供される。一つの局面において、本発明は、クロマトグラフィーの分離および塩基を用いた処理を含む、精製プロセスを提供する。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
以下の構造:
【化1】
を有する化合物を調製するための方法であって、該方法は、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化2】
を有する単糖類であって、
ここで、OX1は、グリコシル化を達成するために適切な脱離基を表し;そして
R2aおよびR2bは、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、単糖類;
のグリコシル化を、適切な条件下で、以下の構造:
【化3】
を有する単糖類であって、R3およびR4は、各々独立して、適切な酸素保護基である、単糖類を用いて達成し、
以下の構造:
【化4】
を有する二糖類の形成を達成する;
工程;
(b)工程(a)において形成された二糖類を、適切な条件下で脱保護して、以下の構造:
【化5】
を有する部分的に脱保護された二糖類の形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成された部分的に脱保護された二糖類を、適切な条件下で適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化6】
を有する二リン酸化二糖類の形成を達成する工程であって、ここで、R3aおよびR3bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、工程;ならびに
(d)工程(c)において形成された二リン酸化二糖類を、一種以上の適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化7】
を有する二糖類の形成を達成する、工程
を包含する、方法。
【請求項2】
請求項1に記載の方法であって、ここで、工程(c)において形成された前記二リン酸化二糖類を、適切な条件下で一種以上の適切な試薬で処理する工程が、以下の構造:
【化8】
を有する化合物の形成をもたらし、次いで該化合物を精製して、対応するテトラナトリウム塩:
【化9】
を生じる、方法。
【請求項3】
請求項1に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化10】
を有する前記糖類であって、
ここで、OX1が、グリコシル化反応を達成するための適切な脱離基を表し:そして
R2aおよびR2bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化11】
を有するアミンであって、R1が適切な酸素保護基であるアミンを、適切なバクセノイル酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化12】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(b)工程(a)で形成されたアミド中間体を、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化13】
を有するリン酸化糖類の形成を達成する工程であって、ここで、R2aおよびR2bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、工程;ならびに
(c)工程(b)において形成されたリン酸化糖類を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化14】
を有するアルコール中間体の形成を達成する工程;ならびに
(d)工程(c)において形成されたアルコール中間体を、適切な条件下で反応させ、以下の構造:
【化15】
を有する糖類の形成を達成する工程であって、ここで、OX1が、グリコシル化反応を達成するための適切な脱離基を表す、工程
を包含するプロセスにより調製される、方法。
【請求項4】
請求項1に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化16】
を有する前記糖類であって、
ここで、R3およびR4が、各々独立して、適切な酸素保護基である、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化17】
を有する糖類であって、
ここで、R3、R4、およびR5は、各々独立して、適切な酸素保護基であり;ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成し得;そして
R6aおよびR6bは、各々独立して、水素もしくは適切な窒素保護基であるか、またはR6aおよびR6bが一緒になって、5員または6員の複素環式環を形成し;ここで、R6aおよびR6bは、同時には水素でない;糖類を、
適切なデカニル誘導体と反応させ、以下の構造:
【化18】
を有するデカニルエーテルの形成を達成する工程;
(b)工程(a)において形成されたデカニルエーテルを、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化19】
を有する部分的に脱保護された中間体の形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成された中間体のアミノ部分を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化20】
を有するアミン中間体を与える、工程;
(d)工程(c)において形成されたアミン中間体を、適切な条件下で、適切な3−オキソ−テトラデカン酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化21】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(e)工程(d)において形成されたアミド中間体を、適切な条件下で、選択的に保護し、以下の構造:
【化22】
を有する保護された中間体の形成を達成する工程であって、ここで、P1が適切な酸素保護基である、工程;
(f)工程(e)において形成された保護された中間体を、適切な条件下で、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化23】
を有するカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成する、工程;ならびに
(g)工程(f)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化24】
を有する糖類の形成を達成する、工程;
を包含するプロセス、により調製される、方法。
【請求項5】
請求項1に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化25】
を有する前記糖類であって、
ここで、R3およびR4が、各々独立して、適切な酸素保護基である、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化26】
を有する糖類であって、
R3、R4、およびR5が、各々独立して、適切な酸素保護基であり;ここで、R4およびR5が、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成し得;そして
R6aおよびR6bが、各々独立して、水素または適切な窒素保護基であるか、またはR6aおよびR6bが、一緒になって、5員または6員の複素環式環を形成し;ここで、R6aおよびR6bは、同時には水素でない、糖類を、適切なデカニル誘導体と反応させ、以下の構造:
【化27】
を有するデカニルエーテルの形成を達成する、工程;
(b)工程(a)において形成されたデカニルエーテル中間体のアミド部分を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化28】
を有するアミンの形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成されたアミン中間体を、適切な条件下で、適切な3−オキソ−テトラデカン酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化29】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(d)工程(c)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化30】
を有する部分的に脱保護されたアミド中間体の形成を達成する工程;
(e)工程(d)において形成されたアミド中間体を、適切な条件下で、選択的に保護し、以下の構造:
【化31】
を有する保護された中間体の形成を達成する工程であって、ここで、P1が適切な酸素保護基である、工程;
(f)工程(e)において形成された保護された中間体を、適切な条件下で、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化32】
を有するカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成する、工程;ならびに
(g)工程(f)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化33】
を有する糖類の形成を達成する、工程;
を包含するプロセス、により調製される、方法。
【請求項6】
以下の構造:
【化34】
を有する化合物を調製するための方法であって、該方法は、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化35】
を有する単糖類であって、
ここで、OX1は、グリコシル化を達成するために適切な脱離基を表し;そして
R2aおよびR2bは、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、単糖類;
のグリコシル化を、適切な条件下で、以下の構造:
【化36】
を有する単糖類であって、R3およびR4は、各々独立して、適切な酸素保護基である、単糖類を用いて達成し、
以下の構造:
【化37】
を有する二糖類の形成を達成する;
工程;
(b)工程(a)において形成された二糖類を、適切な条件下で脱保護して、以下の構造:
【化38】
を有する部分的に脱保護された二糖類の形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成された部分的に脱保護された二糖類を、適切な条件下で適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化39】
を有する二リン酸化二糖類であって、ここで、R3aおよびR3bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである二リン酸化二糖類の形成を達成する、工程;ならびに
(d)工程(c)において形成された二リン酸化二糖類を、適切な条件下で、一種以上の適切な試薬で処理し、以下の構造:
【化40】
を有する二糖類の形成を達成する、工程
を包含する、方法。
【請求項7】
請求項6に記載の方法であって、ここで、工程(c)において形成された前記二リン酸化二糖類を、適切な条件下で、一種以上の適切な試薬で処理する工程が、以下の構造:
【化41】
を有する化合物の形成をもたらし、次いで該化合物を精製して、対応するテトラナトリウム塩:
【化42】
を生じる、方法。
【請求項8】
請求項6に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化43】
を有する前記糖類であって、
ここで、OX1が、グリコシル化反応を達成するための適切な脱離基を表し:そして
R2aおよびR2bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化44】
を有するアミンであって、R1が適切な酸素保護基であるアミンを、適切なバクセノイル酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化45】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(b)工程(a)において形成されたアミド中間体を、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化46】
を有するリン酸化糖類の形成を達成する工程であって、ここで、R2aおよびR2bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、工程;ならびに
(c)工程(b)において形成されたリン酸化糖類を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化47】
を有するアルコール中間体の形成を達成する工程;ならびに
(d)工程(c)において形成されたアルコール中間体を、適切な条件下で反応させ、以下の構造:
【化48】
を有する糖類の形成を達成する工程であって、ここで、OX1が、グリコシル化反応を達成するための適切な脱離基を表す、工程
を包含するプロセスにより調製される、方法。
【請求項9】
請求項6に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化49】
を有する前記糖類であって、
ここで、R3およびR4が、各々独立して、適切な酸素保護基である、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化50】
を有する糖類であって、
ここで、R3、R4、およびR5は、各々独立して、適切な酸素保護基であり;ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成し得;そして
R6aおよびR6bは、各々独立して、水素もしくは適切な窒素保護基であるか、またはR6aおよびR6bが一緒になって、5員または6員の複素環式環を形成し;ここで、R6aおよびR6bは、同時には水素でない、糖類を、
適切なデカニル誘導体と反応させ、以下の構造:
【化51】
を有するデカニルエーテルの形成を達成する、工程;
(b)工程(a)において形成されたデカニルエーテルを、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化52】
を有する部分的に脱保護された中間体の形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成された中間体のアミノ部分を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化53】
を有するアミン中間体を与える、工程;
(d)工程(c)において形成されたアミン中間体を、適切な条件下で、適切な3−オキソ−テトラデカン酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化54】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(e)工程(d)において形成されたアミド中間体を、適切な条件下で、選択的に保護し、以下の構造:
【化55】
を有する保護された中間体の形成を達成する工程であって、ここで、P1が適切な酸素保護基である、工程;
(f)工程(e)において形成された保護された中間体を、適切な条件下で、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化56】
を有するカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成する、工程;ならびに
(g)工程(f)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化57】
を有する糖類の形成を達成する、工程;
を包含するプロセスにより調製される、方法。
【請求項10】
請求項6に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化58】
を有する前記糖類であって、
ここで、R3およびR4が、各々独立して、適切な酸素保護基である、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化59】
を有する糖類であって、
R3、R4、およびR5が、各々独立して、適切な酸素保護基であり;ここで、R4およびR5が、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成し得;そして
R6aおよびR6bが、各々独立して、水素または置換可能な窒素保護基であるか、またはR6aおよびR6bが、一緒になって、5員または6員の複素環式環を形成し;ここで、R6aおよびR6bは、同時には水素でない、糖類を、適切なデカニル誘導体と反応させ、以下の構造:
【化60】
を有するデカニルエーテルの形成を達成する、工程;
(b)工程(a)において形成されたデカニルエーテル中間体のアミド部分を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化61】
を有するアミンの形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成されたアミン中間体を、適切な条件下で、適切な3−オキソ−テトラデカン酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化62】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程、
(d)工程(c)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化63】
を有する部分的に脱保護されたアミド中間体の形成を達成する工程;
(e)工程(d)において形成されたアミド中間体を、適切な条件下で、選択的に保護し、以下の構造:
【化64】
を有する保護された中間体の形成を達成する工程であって、ここで、P1が適切な酸素保護基である、工程;
(f)工程(e)において形成された保護された中間体を、適切な条件下で、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化65】
を有するカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成する、工程;ならびに
(g)工程(f)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化66】
を有する糖類の形成を達成する、工程;
を包含するプロセスにより調製される、方法。
【請求項11】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、X1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)RX1A、−C(=S)RX1A、−C(=NRX1A)RX1B、−SO2RX1Aであり、ここで、RX1AおよびRX1Bは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項12】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NRX1A)RX1Bまたは−SO2RX1Aであって、ここで、RX1AおよびRX1Bは、各々独立して、水素または脂肪族部分、脂環式部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項13】
請求項12に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NRX1A)RX1Bであって、ここで、RX1AおよびRX1Bは、各々独立して、水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、方法。
【請求項14】
請求項13に記載の方法であって、ここで、RX1Aは水素であり、RX1Bは−CCl3であり、そして、X1は、−C(=NH)CCl3である、方法。
【請求項15】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NH)CCl3であり、そして、前記グリコシル化の工程(a)は、強酸性条件下で実施される、方法。
【請求項16】
請求項15に記載の方法であって、ここで、前記強酸性条件は、アルカンスルホン酸を含む、方法。
【請求項17】
請求項16に記載の方法であって、ここで、前記アルカンスルホン酸は、MeSO3HまたはEtSO3Hである、方法。
【請求項18】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、前記グリコシル化の工程(a)において、以下の構造:
【化67】
を有する単糖類が、過剰に使用される、方法。
【請求項19】
請求項18に記載の方法であって、ここで、1.8当量と約2.0当量の間の前記単糖類が使用される、方法。
【請求項20】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R3は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項21】
請求項20に記載の方法であって、ここで、R3は、置換または非置換の低級アルケニル部分である、方法。
【請求項22】
請求項21に記載の方法であって、ここで、R3は、以下の構造:
【化68】
を有する部分である、方法。
【請求項23】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、脱保護の工程(b)において使用される前記反応条件が、適切な溶媒中に強酸を含む、方法。
【請求項24】
請求項23に記載の方法であって、ここで、前記強酸は、HFであり、そして前記溶媒は、アセトニトリルである、方法。
【請求項25】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R3は、以下の構造:
【化69】
を有する部分であり、脱保護の工程(b)の前記反応条件が、適切な溶媒中に強酸を含む、方法。
【請求項26】
請求項25に記載の方法であって、ここで、前記強酸は、HFであり、そして前記溶媒は、アセトニトリルである、方法。
【請求項27】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、工程(c)における前記試薬は、リン酸化剤である、方法。
【請求項28】
請求項27に記載の方法であって、ここで、前記リン酸化剤は、ビス(アリルオキシ)ジイソプロピルアミノホスフィンおよび酸化剤を含む、方法。
【請求項29】
請求項28に記載の方法であって、ここで、前記酸化剤は、オキソンである、方法。
【請求項30】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R2a、R2b、R3aおよびR3bは、各々独立して、置換または非置換のアルキニル部分である、方法。
【請求項31】
請求項30に記載の方法であって、ここで、R2a、R2b、R3aおよびR3bは、各々アリルである、方法。
【請求項32】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R4は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項33】
請求項32に記載の方法であって、ここで、R4は、−C(=O)ORAであり、ここで、RAは、置換または非置換の、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリールまたはヘテロアリールである、方法。
【請求項34】
請求項32に記載の方法であって、ここで、R4は、−C(=O)ORxであり、ここで、Rxは、置換または非置換の、アルキル、アルケニルである、方法。
【請求項35】
請求項34に記載の方法であって、ここで、Rxはアリルであり、そしてR4は、−C(=O)OCH2CH=CH2である、方法。
【請求項36】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R2a、R2b、R3aおよびR3bは、各々アリルであり、R4は、−C(=O)OCH2CH=CH2であり、そして、工程(d)における前記脱保護条件は、適切な溶媒中にPd(PPH3)を含む、方法。
【請求項37】
請求項36に記載の方法であって、ここで、工程(d)における前記脱保護条件が、トリフェニルホスホリンおよび酢酸をさらに含む、方法。
【請求項38】
請求項2または請求項7に記載の方法であって、ここで、工程(i)が、前記脱保護された二糖類をイオン交換クロマトグラフィーに供する工程を包含する、方法。
【請求項39】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、工程(d)が、工程(c)において形成された二リン酸化された二糖類を、PPh3およびHOAcの存在下でPd(PPh3)4を用いて処理する工程を包含する、方法。
【請求項40】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、R1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項41】
請求項40に記載の方法であって、ここで、R1は、置換または非置換の低級アルケニル部分である、方法。
【請求項42】
請求項41に記載の方法であって、ここで、R1は、以下の構造:
【化70】
を有する部分である、方法。
【請求項43】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(a)の前記バクセノイル酸誘導体は、Δ−11−シス−バクセノイルクロリドである、方法。
【請求項44】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(a)の前記バクセノイル酸誘導体は、Δ−11−シス−バクセノイルクロリドであり、そして、前記アミンを、工程(a)における該バクセノイル酸誘導体と反応させるための反応条件が、弱塩基を含む、方法。
【請求項45】
請求項44に記載の方法であって、ここで、前記弱塩基は、NaHCO3水溶液またはK2CO3水溶液である、方法。
【請求項46】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(b)における前記試薬は、リン酸化剤である、方法。
【請求項47】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(b)における反応条件が、ビス(アリルオキシ)ジイソプロピルアミノホスフィンおよび酸化剤を含む、方法。
【請求項48】
請求項47に記載の方法であって、ここで、前記酸化剤は、オキソンである、方法。
【請求項49】
請求項47に記載の方法であって、ここで、前記反応条件が、さらにテトラゾールを含む、方法。
【請求項50】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(b)における前記反応条件が、ビス(アリルオキシ)ジイソプロピルアミノホスフィン(DPP)、ピリジニウムトリフルオロアセテートおよび酸化剤を含む、方法。
【請求項51】
請求項50に記載の方法であって、ここで、前記酸化剤は、過酸化水素である、方法。
【請求項52】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、R3a、R3b、R3aおよびR3bは各々独立して、置換または非置換のアルケニル部分である、方法。
【請求項53】
請求項52に記載の方法であって、ここで、R3a、R3b、R3aおよびR3bは各々アリルである、方法。
【請求項54】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、R1は、以下の構造:
【化71】
を有する部分であり、そして、工程(c)における前記脱保護反応が、強酸性の条件を含む、方法。
【請求項55】
請求項54に記載の方法であって、ここで、前記脱保護反応が、適切な溶媒中にHClを含む、方法。
【請求項56】
請求項55に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、THFまたはアセトニトリルである、方法。
【請求項57】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NH)RX1Bであり、ここで、RX1Bは、置換または非置換の低級アルキルであり、そして、工程(d)における前記アルコール中間体を反応させる工程は、該アルコール中間体を構造RX1BCNを有する部分と、弱塩基の存在下で反応させる工程を包含する、方法。
【請求項58】
請求項57に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NH)CX3であり、ここで、Xはハロゲン原子を表し、そして前記弱塩基は、K2CO3である、方法。
【請求項59】
請求項58に記載の方法であって、ここで、X1は−C(=NH)CCl3である、方法。
【請求項60】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、R3は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであって、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項61】
請求項60に記載の方法であって、ここで、R3は、置換または非置換の低級アルキニル部分である、方法。
【請求項62】
請求項61に記載の方法であって、ここで、R3は、以下の構造:
【化72】
を有する部分である、方法。
【請求項63】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであるか、または、R4およびR5は、一緒になって、置換もしくは非置換の5員もしくは6員の複素環式環を形成し;ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項64】
請求項63に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成する、方法。
【請求項65】
請求項64に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の1,3−ジオキサン部分を形成する、方法。
【請求項66】
請求項65に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン部分を形成する、方法。
【請求項67】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、R6aおよびR6bは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、−C(=O)Rx、−C(=O)ORx、−SRx、−SO2Rxであるか、または、R6aおよびR6bは、一緒になって、構造=CRxRyを有する部分を形成し、ここで、R6aおよびR6bは、同時に水素ではなく、そして、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAもしくは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項68】
請求項67に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そしてR6bは、−C(=O)Rxであり、ここで、Rxは、置換または非置換の低級アルキルである、方法。
【請求項69】
請求項68に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そしてR6bは、−C(=O)CX3であり、ここで、Xは、ハロゲン原子を表す、方法。
【請求項70】
請求項69に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そしてR6bは、−C(=O)CF3である、方法。
【請求項71】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、工程(a)に使用された前記デカニル誘導体は、構造CH3(CH2)9SO2Rxを有する部分であり、ここで、Rxは、アルキルまたはアリールである、方法。
【請求項72】
請求項71に記載の方法であって、ここで、Rxは、メチルであり、そして前記デカニル誘導体は、デカニルメシラートである、方法。
【請求項73】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、前記デカニル誘導体は、デカニルメシラートであり、そして工程(a)における前記糖類を反応させる工程が、該糖類を適切な溶媒中でNaHと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項74】
請求項73に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、THF/NMPである、方法。
【請求項75】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、工程(b)における前記デカニル誘導体を脱保護する工程は、該デカニル誘導体を酸性条件に供する工程を包含する、方法。
【請求項76】
請求項75に記載の方法であって、ここで、前記デカニル誘導体を脱保護する工程が、該デカニル誘導体をH2O中でAcOHと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項77】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、R6bは−C(=O)CF3であり、そして工程(c)における前記アミド部分を脱保護する工程が、該アミド部分を適切な溶媒中でtBuOKの存在下で脱保護し、続いてKOHを用いて処理する工程を包含する、方法。
【請求項78】
請求項77に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、DMSOである、方法。
【請求項79】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、工程(d)における前記3−オキソ−テトラデカン酸誘導体は、3−オキソ−テトラデカン酸そのものであり、そして、前記反応条件は、前記アミン中間体をNMP中でEDCの存在下で3−オキソ−テトラデカン酸と反応させる工程を包含する、方法。
【請求項80】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、P1はアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項81】
請求項80に記載の方法であって、ここで、P1は、シリル保護基である、方法。
【請求項82】
請求項81に記載の方法であって、ここで、P1は、トリアルキルシリル保護基である、方法。
【請求項83】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、P1はtert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)であり、そして、工程(e)における前記アミド中間体を選択的に保護する工程は、工程(d)において形成されたアミド中間体を適切な溶媒中で塩基の存在下でtert−ブチルジメチルシリルクロリド(TBDMSCl)と反応させる工程を包含する、方法。
【請求項84】
請求項83に記載の方法であって、ここで、前記塩基はイミダゾールであり、そして、前記溶媒はDMFである、方法。
【請求項85】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、P1はtert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)であり、そして、工程(f)において形成された前記中間体を脱保護する工程は、以下の構造:
【化73】
を有する糖類を、適切な溶媒系中でHOAcと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項86】
請求項85に記載の方法であって、ここで、前記溶媒系は、iPrOH/H2Oである、方法。
【請求項87】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、カルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成するために、工程(f)で使用される前記試薬が、トリホスゲンおよびアリルアルコールの組み合わせを含む、方法。
【請求項88】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、前記カルボン酸アリルエステル中間体を形成するために、工程(e)において形成された前記保護された中間体を反応させる工程は、(i)該保護された中間体を、適切な溶媒中で塩基の存在下で、トリホスゲンと反応させる工程、および(ii)インサイチュで形成されたホスゲン付加体を、適切な条件下で、アリルアルコールを用いてトラップする工程、を包含する、方法。
【請求項89】
請求項88に記載の方法であって、ここで、前記塩基は、ピリジンであり、そして、前記溶媒は、トルエンである、方法。
【請求項90】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、R3は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであって、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項91】
請求項90に記載の方法であって、ここで、R3は、置換または非置換の低級アルケニル部分である、方法。
【請求項92】
請求項91に記載の方法であって、ここで、R3は、以下の構造:
【化74】
を有する部分である、方法。
【請求項93】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであるか、または、R4およびR5は、一緒になって、置換もしくは非置換の、5員もしくは6員の複素環式環を形成し;ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここで、Zは、−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項94】
請求項93に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成する、方法。
【請求項95】
請求項94に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の1,3−ジオキサン部分を形成する、方法。
【請求項96】
請求項95に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン部分を形成する、方法。
【請求項97】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、R6aおよびR6bは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、−C(=O)Rx、−C(=O)ORx、−SRx、−SO2Rxであるか、または、R6aおよびR6bは、一緒になって、構造=CRxRyを有する部分を形成し、ここで、R6aおよびR6bは、同時に水素ではなく、そして、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項98】
請求項97に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そして、R6bは、−C(=O)Rxであり、ここで、Rxは、置換または非置換の低級アルキルである、方法。
【請求項99】
請求項98に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そして、R6bは、−C(=O)CX3であり、ここで、Xは、ハロゲン原子を表す、方法。
【請求項100】
請求項99に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そして、R6bは、−C(=O)CF3である、方法。
【請求項101】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(a)において使用される前記デカニル誘導体は、構造CH3(CH2)9SO2Rxを有する部分であり、ここで、Rxはアルキルまたはアリールである、方法。
【請求項102】
請求項101に記載の方法であって、ここで、Rxは、メチルであり、そして、前記デカニル誘導体は、デカニルメシラートである、方法。
【請求項103】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、前記デカニル誘導体は、デカニルメシラートであり、そして工程(a)における前記糖類を反応させる工程は、該糖類を適切な溶媒中でNaHと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項104】
請求項103に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、THF/NMPである、方法。
【請求項105】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そしてR6bは−C(=O)CF3であり、そして、工程(b)における前記デカニルエーテルの前記アミド部分を脱保護する工程は、該アミド部分を適切な溶媒中でtBuOKの存在下で脱保護し、続いてKOHを用いて処理する工程を包含する、方法。
【請求項106】
請求項105に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、DMSOである、方法。
【請求項107】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(c)における前記3−オキソ−テトラデカン酸誘導体は、3−オキソ−テトラデカン酸それ自体であり、そして、前記反応条件は、前記アミン中間体をNMP中でEDCの存在下で3−オキソ−テトラデカン酸と反応させることを含む、方法。
【請求項108】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(d)において前記中間体を脱保護する工程は、該中間体を酸性条件に供する工程を包含する、方法。
【請求項109】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(d)において中前記間体を脱保護する工程は、前記デカニル誘導体をH2O中でAcOHと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項110】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、P1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項111】
請求項110に記載の方法であって、ここで、P1は、シリル保護基である、
方法。
【請求項112】
請求項111に記載の方法であって、ここで、P1は、トリアルキルシリル保護基である、方法。
【請求項113】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、P1はtert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)であり、そして、工程(e)において前記アミド中間体を選択的に保護する工程は、工程(d)において形成された該アミド中間体を適切な溶媒中で塩基の存在下でtert−ブチルジメチルシリルクロリド(TBDMSCl)と反応させる工程を包含する、方法。
【請求項114】
請求項113に記載の方法であって、ここで、前記塩基は、イミダゾールであり、そして、前記溶媒は、DMFである、方法。
【請求項115】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、P1はtert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)であり、工程(f)において形成された前記中間体を脱保護する工程は、以下の構造:
【化75】
を有する糖類を、適切な溶媒系中でHOAcと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項116】
請求項115に記載の方法であって、ここで、前記溶媒系は、iPrOH/H2Oである、方法。
【請求項117】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(f)においてカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成するために使用される前記試薬は、トリホスゲンおよびアリルアルコールの組み合わせを含む、方法。
【請求項118】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(e)において形成された保護された前記中間体を反応させ、カルボン酸アリルエステル中間体を形成する工程は、(i)該保護された中間体を、適切な溶媒中で塩基の存在下でトリホスゲン付加体と反応させる工程、および(ii)インサイチュで形成されたホスゲンを、適切な条件下で、アリルアルコールでトラップする工程、を包含する、方法。
【請求項119】
請求項118に記載の方法であって、ここで、前記塩基は、ピリミジンであり、そして前記溶媒はトルエンである、方法。
【請求項120】
以下の構造式:
【化76】
を有する、化合物。
【請求項121】
以下の構造式:
【化77】
を有する、化合物。
【請求項122】
以下の構造式:
【化78】
を有する、化合物。
【請求項123】
以下の構造式:
【化79】
を有する、化合物。
【請求項124】
以下の構造式:
【化80】
を有する、化合物。
【請求項125】
以下の構造式:
【化81】
を有する、化合物。
【請求項126】
以下の構造式:
【化82】
を有する、化合物。
【請求項127】
以下の構造式:
【化83】
を有する、化合物。
【請求項128】
以下の構造式:
【化84】
を有する、化合物。
【請求項129】
以下の構造式:
【化85】
を有する、化合物。
【請求項130】
請求項120に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化86】
を有する、化合物。
【請求項131】
請求項121に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化87】
を有する、化合物。
【請求項132】
請求項122に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化88】
を有する、化合物。
【請求項133】
請求項123に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化89】
を有する、化合物。
【請求項134】
請求項124に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化90】
を有する、化合物。
【請求項135】
請求項125に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化91】
を有する、化合物。
【請求項136】
請求項126に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化92】
を有する、化合物。
【請求項137】
請求項127に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化93】
を有する、化合物。
【請求項138】
請求項128に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化94】
を有する、化合物。
【請求項139】
請求項129に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化95】
を有する、化合物。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
以下の構造式:
【化1】
を有する、化合物。
【請求項2】
以下の構造式:
【化2】
を有する、化合物。
【請求項3】
以下の構造式:
【化3】
を有する、化合物。
【請求項4】
以下の構造式:
【化4】
を有する、化合物。
【請求項5】
以下の構造式:
【化5】
を有する、化合物。
【請求項6】
以下の構造式:
【化6】
を有する、化合物。
【請求項7】
以下の構造式:
【化7】
を有する、化合物。
【請求項8】
以下の構造式:
【化8】
を有する、化合物。
【請求項9】
以下の構造式:
【化9】
を有する、化合物。
【請求項10】
請求項1に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化10】
を有する、化合物。
【請求項11】
請求項2に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化11】
を有する、化合物。
【請求項12】
請求項3に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化12】
を有する、化合物。
【請求項13】
請求項4に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化13】
を有する、化合物。
【請求項14】
請求項5に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化14】
を有する、化合物。
【請求項15】
請求項6に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化15】
を有する、化合物。
【請求項16】
請求項7に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化16】
を有する、化合物。
【請求項17】
請求項8に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化17】
を有する、化合物。
【請求項18】
請求項9に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化18】
を有する、化合物。
【請求項1】
以下の構造:
【化1】
を有する化合物を調製するための方法であって、該方法は、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化2】
を有する単糖類であって、
ここで、OX1は、グリコシル化を達成するために適切な脱離基を表し;そして
R2aおよびR2bは、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、単糖類;
のグリコシル化を、適切な条件下で、以下の構造:
【化3】
を有する単糖類であって、R3およびR4は、各々独立して、適切な酸素保護基である、単糖類を用いて達成し、
以下の構造:
【化4】
を有する二糖類の形成を達成する;
工程;
(b)工程(a)において形成された二糖類を、適切な条件下で脱保護して、以下の構造:
【化5】
を有する部分的に脱保護された二糖類の形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成された部分的に脱保護された二糖類を、適切な条件下で適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化6】
を有する二リン酸化二糖類の形成を達成する工程であって、ここで、R3aおよびR3bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、工程;ならびに
(d)工程(c)において形成された二リン酸化二糖類を、一種以上の適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化7】
を有する二糖類の形成を達成する、工程
を包含する、方法。
【請求項2】
請求項1に記載の方法であって、ここで、工程(c)において形成された前記二リン酸化二糖類を、適切な条件下で一種以上の適切な試薬で処理する工程が、以下の構造:
【化8】
を有する化合物の形成をもたらし、次いで該化合物を精製して、対応するテトラナトリウム塩:
【化9】
を生じる、方法。
【請求項3】
請求項1に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化10】
を有する前記糖類であって、
ここで、OX1が、グリコシル化反応を達成するための適切な脱離基を表し:そして
R2aおよびR2bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化11】
を有するアミンであって、R1が適切な酸素保護基であるアミンを、適切なバクセノイル酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化12】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(b)工程(a)で形成されたアミド中間体を、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化13】
を有するリン酸化糖類の形成を達成する工程であって、ここで、R2aおよびR2bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、工程;ならびに
(c)工程(b)において形成されたリン酸化糖類を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化14】
を有するアルコール中間体の形成を達成する工程;ならびに
(d)工程(c)において形成されたアルコール中間体を、適切な条件下で反応させ、以下の構造:
【化15】
を有する糖類の形成を達成する工程であって、ここで、OX1が、グリコシル化反応を達成するための適切な脱離基を表す、工程
を包含するプロセスにより調製される、方法。
【請求項4】
請求項1に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化16】
を有する前記糖類であって、
ここで、R3およびR4が、各々独立して、適切な酸素保護基である、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化17】
を有する糖類であって、
ここで、R3、R4、およびR5は、各々独立して、適切な酸素保護基であり;ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成し得;そして
R6aおよびR6bは、各々独立して、水素もしくは適切な窒素保護基であるか、またはR6aおよびR6bが一緒になって、5員または6員の複素環式環を形成し;ここで、R6aおよびR6bは、同時には水素でない;糖類を、
適切なデカニル誘導体と反応させ、以下の構造:
【化18】
を有するデカニルエーテルの形成を達成する工程;
(b)工程(a)において形成されたデカニルエーテルを、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化19】
を有する部分的に脱保護された中間体の形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成された中間体のアミノ部分を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化20】
を有するアミン中間体を与える、工程;
(d)工程(c)において形成されたアミン中間体を、適切な条件下で、適切な3−オキソ−テトラデカン酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化21】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(e)工程(d)において形成されたアミド中間体を、適切な条件下で、選択的に保護し、以下の構造:
【化22】
を有する保護された中間体の形成を達成する工程であって、ここで、P1が適切な酸素保護基である、工程;
(f)工程(e)において形成された保護された中間体を、適切な条件下で、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化23】
を有するカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成する、工程;ならびに
(g)工程(f)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化24】
を有する糖類の形成を達成する、工程;
を包含するプロセス、により調製される、方法。
【請求項5】
請求項1に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化25】
を有する前記糖類であって、
ここで、R3およびR4が、各々独立して、適切な酸素保護基である、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化26】
を有する糖類であって、
R3、R4、およびR5が、各々独立して、適切な酸素保護基であり;ここで、R4およびR5が、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成し得;そして
R6aおよびR6bが、各々独立して、水素または適切な窒素保護基であるか、またはR6aおよびR6bが、一緒になって、5員または6員の複素環式環を形成し;ここで、R6aおよびR6bは、同時には水素でない、糖類を、適切なデカニル誘導体と反応させ、以下の構造:
【化27】
を有するデカニルエーテルの形成を達成する、工程;
(b)工程(a)において形成されたデカニルエーテル中間体のアミド部分を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化28】
を有するアミンの形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成されたアミン中間体を、適切な条件下で、適切な3−オキソ−テトラデカン酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化29】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(d)工程(c)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化30】
を有する部分的に脱保護されたアミド中間体の形成を達成する工程;
(e)工程(d)において形成されたアミド中間体を、適切な条件下で、選択的に保護し、以下の構造:
【化31】
を有する保護された中間体の形成を達成する工程であって、ここで、P1が適切な酸素保護基である、工程;
(f)工程(e)において形成された保護された中間体を、適切な条件下で、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化32】
を有するカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成する、工程;ならびに
(g)工程(f)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化33】
を有する糖類の形成を達成する、工程;
を包含するプロセス、により調製される、方法。
【請求項6】
以下の構造:
【化34】
を有する化合物を調製するための方法であって、該方法は、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化35】
を有する単糖類であって、
ここで、OX1は、グリコシル化を達成するために適切な脱離基を表し;そして
R2aおよびR2bは、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、単糖類;
のグリコシル化を、適切な条件下で、以下の構造:
【化36】
を有する単糖類であって、R3およびR4は、各々独立して、適切な酸素保護基である、単糖類を用いて達成し、
以下の構造:
【化37】
を有する二糖類の形成を達成する;
工程;
(b)工程(a)において形成された二糖類を、適切な条件下で脱保護して、以下の構造:
【化38】
を有する部分的に脱保護された二糖類の形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成された部分的に脱保護された二糖類を、適切な条件下で適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化39】
を有する二リン酸化二糖類であって、ここで、R3aおよびR3bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである二リン酸化二糖類の形成を達成する、工程;ならびに
(d)工程(c)において形成された二リン酸化二糖類を、適切な条件下で、一種以上の適切な試薬で処理し、以下の構造:
【化40】
を有する二糖類の形成を達成する、工程
を包含する、方法。
【請求項7】
請求項6に記載の方法であって、ここで、工程(c)において形成された前記二リン酸化二糖類を、適切な条件下で、一種以上の適切な試薬で処理する工程が、以下の構造:
【化41】
を有する化合物の形成をもたらし、次いで該化合物を精製して、対応するテトラナトリウム塩:
【化42】
を生じる、方法。
【請求項8】
請求項6に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化43】
を有する前記糖類であって、
ここで、OX1が、グリコシル化反応を達成するための適切な脱離基を表し:そして
R2aおよびR2bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化44】
を有するアミンであって、R1が適切な酸素保護基であるアミンを、適切なバクセノイル酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化45】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(b)工程(a)において形成されたアミド中間体を、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化46】
を有するリン酸化糖類の形成を達成する工程であって、ここで、R2aおよびR2bが、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリールである、工程;ならびに
(c)工程(b)において形成されたリン酸化糖類を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化47】
を有するアルコール中間体の形成を達成する工程;ならびに
(d)工程(c)において形成されたアルコール中間体を、適切な条件下で反応させ、以下の構造:
【化48】
を有する糖類の形成を達成する工程であって、ここで、OX1が、グリコシル化反応を達成するための適切な脱離基を表す、工程
を包含するプロセスにより調製される、方法。
【請求項9】
請求項6に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化49】
を有する前記糖類であって、
ここで、R3およびR4が、各々独立して、適切な酸素保護基である、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化50】
を有する糖類であって、
ここで、R3、R4、およびR5は、各々独立して、適切な酸素保護基であり;ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成し得;そして
R6aおよびR6bは、各々独立して、水素もしくは適切な窒素保護基であるか、またはR6aおよびR6bが一緒になって、5員または6員の複素環式環を形成し;ここで、R6aおよびR6bは、同時には水素でない、糖類を、
適切なデカニル誘導体と反応させ、以下の構造:
【化51】
を有するデカニルエーテルの形成を達成する、工程;
(b)工程(a)において形成されたデカニルエーテルを、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化52】
を有する部分的に脱保護された中間体の形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成された中間体のアミノ部分を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化53】
を有するアミン中間体を与える、工程;
(d)工程(c)において形成されたアミン中間体を、適切な条件下で、適切な3−オキソ−テトラデカン酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化54】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程;
(e)工程(d)において形成されたアミド中間体を、適切な条件下で、選択的に保護し、以下の構造:
【化55】
を有する保護された中間体の形成を達成する工程であって、ここで、P1が適切な酸素保護基である、工程;
(f)工程(e)において形成された保護された中間体を、適切な条件下で、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化56】
を有するカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成する、工程;ならびに
(g)工程(f)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化57】
を有する糖類の形成を達成する、工程;
を包含するプロセスにより調製される、方法。
【請求項10】
請求項6に記載の方法であって、ここで、以下の構造:
【化58】
を有する前記糖類であって、
ここで、R3およびR4が、各々独立して、適切な酸素保護基である、糖類が、以下の工程:
(a)以下の構造:
【化59】
を有する糖類であって、
R3、R4、およびR5が、各々独立して、適切な酸素保護基であり;ここで、R4およびR5が、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成し得;そして
R6aおよびR6bが、各々独立して、水素または置換可能な窒素保護基であるか、またはR6aおよびR6bが、一緒になって、5員または6員の複素環式環を形成し;ここで、R6aおよびR6bは、同時には水素でない、糖類を、適切なデカニル誘導体と反応させ、以下の構造:
【化60】
を有するデカニルエーテルの形成を達成する、工程;
(b)工程(a)において形成されたデカニルエーテル中間体のアミド部分を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化61】
を有するアミンの形成を達成する、工程;
(c)工程(b)において形成されたアミン中間体を、適切な条件下で、適切な3−オキソ−テトラデカン酸誘導体と反応させ、以下の構造:
【化62】
を有するアミド中間体の形成を達成する、工程、
(d)工程(c)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化63】
を有する部分的に脱保護されたアミド中間体の形成を達成する工程;
(e)工程(d)において形成されたアミド中間体を、適切な条件下で、選択的に保護し、以下の構造:
【化64】
を有する保護された中間体の形成を達成する工程であって、ここで、P1が適切な酸素保護基である、工程;
(f)工程(e)において形成された保護された中間体を、適切な条件下で、適切な試薬と反応させ、以下の構造:
【化65】
を有するカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成する、工程;ならびに
(g)工程(f)において形成された中間体を、適切な条件下で脱保護し、以下の構造:
【化66】
を有する糖類の形成を達成する、工程;
を包含するプロセスにより調製される、方法。
【請求項11】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、X1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)RX1A、−C(=S)RX1A、−C(=NRX1A)RX1B、−SO2RX1Aであり、ここで、RX1AおよびRX1Bは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項12】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NRX1A)RX1Bまたは−SO2RX1Aであって、ここで、RX1AおよびRX1Bは、各々独立して、水素または脂肪族部分、脂環式部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項13】
請求項12に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NRX1A)RX1Bであって、ここで、RX1AおよびRX1Bは、各々独立して、水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、方法。
【請求項14】
請求項13に記載の方法であって、ここで、RX1Aは水素であり、RX1Bは−CCl3であり、そして、X1は、−C(=NH)CCl3である、方法。
【請求項15】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NH)CCl3であり、そして、前記グリコシル化の工程(a)は、強酸性条件下で実施される、方法。
【請求項16】
請求項15に記載の方法であって、ここで、前記強酸性条件は、アルカンスルホン酸を含む、方法。
【請求項17】
請求項16に記載の方法であって、ここで、前記アルカンスルホン酸は、MeSO3HまたはEtSO3Hである、方法。
【請求項18】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、前記グリコシル化の工程(a)において、以下の構造:
【化67】
を有する単糖類が、過剰に使用される、方法。
【請求項19】
請求項18に記載の方法であって、ここで、1.8当量と約2.0当量の間の前記単糖類が使用される、方法。
【請求項20】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R3は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項21】
請求項20に記載の方法であって、ここで、R3は、置換または非置換の低級アルケニル部分である、方法。
【請求項22】
請求項21に記載の方法であって、ここで、R3は、以下の構造:
【化68】
を有する部分である、方法。
【請求項23】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、脱保護の工程(b)において使用される前記反応条件が、適切な溶媒中に強酸を含む、方法。
【請求項24】
請求項23に記載の方法であって、ここで、前記強酸は、HFであり、そして前記溶媒は、アセトニトリルである、方法。
【請求項25】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R3は、以下の構造:
【化69】
を有する部分であり、脱保護の工程(b)の前記反応条件が、適切な溶媒中に強酸を含む、方法。
【請求項26】
請求項25に記載の方法であって、ここで、前記強酸は、HFであり、そして前記溶媒は、アセトニトリルである、方法。
【請求項27】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、工程(c)における前記試薬は、リン酸化剤である、方法。
【請求項28】
請求項27に記載の方法であって、ここで、前記リン酸化剤は、ビス(アリルオキシ)ジイソプロピルアミノホスフィンおよび酸化剤を含む、方法。
【請求項29】
請求項28に記載の方法であって、ここで、前記酸化剤は、オキソンである、方法。
【請求項30】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R2a、R2b、R3aおよびR3bは、各々独立して、置換または非置換のアルキニル部分である、方法。
【請求項31】
請求項30に記載の方法であって、ここで、R2a、R2b、R3aおよびR3bは、各々アリルである、方法。
【請求項32】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R4は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項33】
請求項32に記載の方法であって、ここで、R4は、−C(=O)ORAであり、ここで、RAは、置換または非置換の、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリールまたはヘテロアリールである、方法。
【請求項34】
請求項32に記載の方法であって、ここで、R4は、−C(=O)ORxであり、ここで、Rxは、置換または非置換の、アルキル、アルケニルである、方法。
【請求項35】
請求項34に記載の方法であって、ここで、Rxはアリルであり、そしてR4は、−C(=O)OCH2CH=CH2である、方法。
【請求項36】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、R2a、R2b、R3aおよびR3bは、各々アリルであり、R4は、−C(=O)OCH2CH=CH2であり、そして、工程(d)における前記脱保護条件は、適切な溶媒中にPd(PPH3)を含む、方法。
【請求項37】
請求項36に記載の方法であって、ここで、工程(d)における前記脱保護条件が、トリフェニルホスホリンおよび酢酸をさらに含む、方法。
【請求項38】
請求項2または請求項7に記載の方法であって、ここで、工程(i)が、前記脱保護された二糖類をイオン交換クロマトグラフィーに供する工程を包含する、方法。
【請求項39】
請求項1または請求項6に記載の方法であって、ここで、工程(d)が、工程(c)において形成された二リン酸化された二糖類を、PPh3およびHOAcの存在下でPd(PPh3)4を用いて処理する工程を包含する、方法。
【請求項40】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、R1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項41】
請求項40に記載の方法であって、ここで、R1は、置換または非置換の低級アルケニル部分である、方法。
【請求項42】
請求項41に記載の方法であって、ここで、R1は、以下の構造:
【化70】
を有する部分である、方法。
【請求項43】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(a)の前記バクセノイル酸誘導体は、Δ−11−シス−バクセノイルクロリドである、方法。
【請求項44】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(a)の前記バクセノイル酸誘導体は、Δ−11−シス−バクセノイルクロリドであり、そして、前記アミンを、工程(a)における該バクセノイル酸誘導体と反応させるための反応条件が、弱塩基を含む、方法。
【請求項45】
請求項44に記載の方法であって、ここで、前記弱塩基は、NaHCO3水溶液またはK2CO3水溶液である、方法。
【請求項46】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(b)における前記試薬は、リン酸化剤である、方法。
【請求項47】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(b)における反応条件が、ビス(アリルオキシ)ジイソプロピルアミノホスフィンおよび酸化剤を含む、方法。
【請求項48】
請求項47に記載の方法であって、ここで、前記酸化剤は、オキソンである、方法。
【請求項49】
請求項47に記載の方法であって、ここで、前記反応条件が、さらにテトラゾールを含む、方法。
【請求項50】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、工程(b)における前記反応条件が、ビス(アリルオキシ)ジイソプロピルアミノホスフィン(DPP)、ピリジニウムトリフルオロアセテートおよび酸化剤を含む、方法。
【請求項51】
請求項50に記載の方法であって、ここで、前記酸化剤は、過酸化水素である、方法。
【請求項52】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、R3a、R3b、R3aおよびR3bは各々独立して、置換または非置換のアルケニル部分である、方法。
【請求項53】
請求項52に記載の方法であって、ここで、R3a、R3b、R3aおよびR3bは各々アリルである、方法。
【請求項54】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、R1は、以下の構造:
【化71】
を有する部分であり、そして、工程(c)における前記脱保護反応が、強酸性の条件を含む、方法。
【請求項55】
請求項54に記載の方法であって、ここで、前記脱保護反応が、適切な溶媒中にHClを含む、方法。
【請求項56】
請求項55に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、THFまたはアセトニトリルである、方法。
【請求項57】
請求項3または請求項8に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NH)RX1Bであり、ここで、RX1Bは、置換または非置換の低級アルキルであり、そして、工程(d)における前記アルコール中間体を反応させる工程は、該アルコール中間体を構造RX1BCNを有する部分と、弱塩基の存在下で反応させる工程を包含する、方法。
【請求項58】
請求項57に記載の方法であって、ここで、X1は、−C(=NH)CX3であり、ここで、Xはハロゲン原子を表し、そして前記弱塩基は、K2CO3である、方法。
【請求項59】
請求項58に記載の方法であって、ここで、X1は−C(=NH)CCl3である、方法。
【請求項60】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、R3は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであって、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項61】
請求項60に記載の方法であって、ここで、R3は、置換または非置換の低級アルキニル部分である、方法。
【請求項62】
請求項61に記載の方法であって、ここで、R3は、以下の構造:
【化72】
を有する部分である、方法。
【請求項63】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであるか、または、R4およびR5は、一緒になって、置換もしくは非置換の5員もしくは6員の複素環式環を形成し;ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項64】
請求項63に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成する、方法。
【請求項65】
請求項64に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の1,3−ジオキサン部分を形成する、方法。
【請求項66】
請求項65に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン部分を形成する、方法。
【請求項67】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、R6aおよびR6bは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、−C(=O)Rx、−C(=O)ORx、−SRx、−SO2Rxであるか、または、R6aおよびR6bは、一緒になって、構造=CRxRyを有する部分を形成し、ここで、R6aおよびR6bは、同時に水素ではなく、そして、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAもしくは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項68】
請求項67に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そしてR6bは、−C(=O)Rxであり、ここで、Rxは、置換または非置換の低級アルキルである、方法。
【請求項69】
請求項68に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そしてR6bは、−C(=O)CX3であり、ここで、Xは、ハロゲン原子を表す、方法。
【請求項70】
請求項69に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そしてR6bは、−C(=O)CF3である、方法。
【請求項71】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、工程(a)に使用された前記デカニル誘導体は、構造CH3(CH2)9SO2Rxを有する部分であり、ここで、Rxは、アルキルまたはアリールである、方法。
【請求項72】
請求項71に記載の方法であって、ここで、Rxは、メチルであり、そして前記デカニル誘導体は、デカニルメシラートである、方法。
【請求項73】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、前記デカニル誘導体は、デカニルメシラートであり、そして工程(a)における前記糖類を反応させる工程が、該糖類を適切な溶媒中でNaHと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項74】
請求項73に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、THF/NMPである、方法。
【請求項75】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、工程(b)における前記デカニル誘導体を脱保護する工程は、該デカニル誘導体を酸性条件に供する工程を包含する、方法。
【請求項76】
請求項75に記載の方法であって、ここで、前記デカニル誘導体を脱保護する工程が、該デカニル誘導体をH2O中でAcOHと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項77】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、R6bは−C(=O)CF3であり、そして工程(c)における前記アミド部分を脱保護する工程が、該アミド部分を適切な溶媒中でtBuOKの存在下で脱保護し、続いてKOHを用いて処理する工程を包含する、方法。
【請求項78】
請求項77に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、DMSOである、方法。
【請求項79】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、工程(d)における前記3−オキソ−テトラデカン酸誘導体は、3−オキソ−テトラデカン酸そのものであり、そして、前記反応条件は、前記アミン中間体をNMP中でEDCの存在下で3−オキソ−テトラデカン酸と反応させる工程を包含する、方法。
【請求項80】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、P1はアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項81】
請求項80に記載の方法であって、ここで、P1は、シリル保護基である、方法。
【請求項82】
請求項81に記載の方法であって、ここで、P1は、トリアルキルシリル保護基である、方法。
【請求項83】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、P1はtert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)であり、そして、工程(e)における前記アミド中間体を選択的に保護する工程は、工程(d)において形成されたアミド中間体を適切な溶媒中で塩基の存在下でtert−ブチルジメチルシリルクロリド(TBDMSCl)と反応させる工程を包含する、方法。
【請求項84】
請求項83に記載の方法であって、ここで、前記塩基はイミダゾールであり、そして、前記溶媒はDMFである、方法。
【請求項85】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、P1はtert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)であり、そして、工程(f)において形成された前記中間体を脱保護する工程は、以下の構造:
【化73】
を有する糖類を、適切な溶媒系中でHOAcと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項86】
請求項85に記載の方法であって、ここで、前記溶媒系は、iPrOH/H2Oである、方法。
【請求項87】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、カルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成するために、工程(f)で使用される前記試薬が、トリホスゲンおよびアリルアルコールの組み合わせを含む、方法。
【請求項88】
請求項4または請求項9に記載の方法であって、ここで、前記カルボン酸アリルエステル中間体を形成するために、工程(e)において形成された前記保護された中間体を反応させる工程は、(i)該保護された中間体を、適切な溶媒中で塩基の存在下で、トリホスゲンと反応させる工程、および(ii)インサイチュで形成されたホスゲン付加体を、適切な条件下で、アリルアルコールを用いてトラップする工程、を包含する、方法。
【請求項89】
請求項88に記載の方法であって、ここで、前記塩基は、ピリジンであり、そして、前記溶媒は、トルエンである、方法。
【請求項90】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、R3は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであって、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項91】
請求項90に記載の方法であって、ここで、R3は、置換または非置換の低級アルケニル部分である、方法。
【請求項92】
請求項91に記載の方法であって、ここで、R3は、以下の構造:
【化74】
を有する部分である、方法。
【請求項93】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、各々独立して、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであるか、または、R4およびR5は、一緒になって、置換もしくは非置換の、5員もしくは6員の複素環式環を形成し;ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここで、Zは、−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項94】
請求項93に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の、5員または6員の複素環式環を形成する、方法。
【請求項95】
請求項94に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、置換または非置換の1,3−ジオキサン部分を形成する、方法。
【請求項96】
請求項95に記載の方法であって、ここで、R4およびR5は、一緒になって、2,2−ジメチル−1,3−ジオキサン部分を形成する、方法。
【請求項97】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、R6aおよびR6bは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、−C(=O)Rx、−C(=O)ORx、−SRx、−SO2Rxであるか、または、R6aおよびR6bは、一緒になって、構造=CRxRyを有する部分を形成し、ここで、R6aおよびR6bは、同時に水素ではなく、そして、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項98】
請求項97に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そして、R6bは、−C(=O)Rxであり、ここで、Rxは、置換または非置換の低級アルキルである、方法。
【請求項99】
請求項98に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そして、R6bは、−C(=O)CX3であり、ここで、Xは、ハロゲン原子を表す、方法。
【請求項100】
請求項99に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そして、R6bは、−C(=O)CF3である、方法。
【請求項101】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(a)において使用される前記デカニル誘導体は、構造CH3(CH2)9SO2Rxを有する部分であり、ここで、Rxはアルキルまたはアリールである、方法。
【請求項102】
請求項101に記載の方法であって、ここで、Rxは、メチルであり、そして、前記デカニル誘導体は、デカニルメシラートである、方法。
【請求項103】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、前記デカニル誘導体は、デカニルメシラートであり、そして工程(a)における前記糖類を反応させる工程は、該糖類を適切な溶媒中でNaHと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項104】
請求項103に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、THF/NMPである、方法。
【請求項105】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、R6aは水素であり、そしてR6bは−C(=O)CF3であり、そして、工程(b)における前記デカニルエーテルの前記アミド部分を脱保護する工程は、該アミド部分を適切な溶媒中でtBuOKの存在下で脱保護し、続いてKOHを用いて処理する工程を包含する、方法。
【請求項106】
請求項105に記載の方法であって、ここで、前記溶媒は、DMSOである、方法。
【請求項107】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(c)における前記3−オキソ−テトラデカン酸誘導体は、3−オキソ−テトラデカン酸それ自体であり、そして、前記反応条件は、前記アミン中間体をNMP中でEDCの存在下で3−オキソ−テトラデカン酸と反応させることを含む、方法。
【請求項108】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(d)において前記中間体を脱保護する工程は、該中間体を酸性条件に供する工程を包含する、方法。
【請求項109】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(d)において中前記間体を脱保護する工程は、前記デカニル誘導体をH2O中でAcOHと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項110】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、P1は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、ヘテロアリール、シリル、−C(=O)Rx、−C(=S)Rx、−C(=NRx)Ry、−SO2Rxであり、ここで、RxおよびRyは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、ヘテロシクロアルキニル、ヘテロ脂肪族、ヘテロ脂環式、アリール、ヘテロアリール、−C(=O)RAまたは−ZRAであり、ここでZは−O−、−S−、−NRBであり、ここで、RAおよびRBの各存在は、独立して水素、またはアルキル部分、アルケニル部分、アルキニル部分、シクロアルキル部分、シクロアルケニル部分、シクロアルキニル部分、ヘテロアルキル部分、ヘテロアルケニル部分、ヘテロアルキニル部分、ヘテロシクロアルキル部分、ヘテロシクロアルケニル部分、ヘテロシクロアルキニル部分、ヘテロ脂肪族部分、ヘテロ脂環式部分、アリール部分もしくはヘテロアリール部分である、方法。
【請求項111】
請求項110に記載の方法であって、ここで、P1は、シリル保護基である、
方法。
【請求項112】
請求項111に記載の方法であって、ここで、P1は、トリアルキルシリル保護基である、方法。
【請求項113】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、P1はtert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)であり、そして、工程(e)において前記アミド中間体を選択的に保護する工程は、工程(d)において形成された該アミド中間体を適切な溶媒中で塩基の存在下でtert−ブチルジメチルシリルクロリド(TBDMSCl)と反応させる工程を包含する、方法。
【請求項114】
請求項113に記載の方法であって、ここで、前記塩基は、イミダゾールであり、そして、前記溶媒は、DMFである、方法。
【請求項115】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、P1はtert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)であり、工程(f)において形成された前記中間体を脱保護する工程は、以下の構造:
【化75】
を有する糖類を、適切な溶媒系中でHOAcと反応させる工程を包含する、方法。
【請求項116】
請求項115に記載の方法であって、ここで、前記溶媒系は、iPrOH/H2Oである、方法。
【請求項117】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(f)においてカルボン酸アリルエステル中間体の形成を達成するために使用される前記試薬は、トリホスゲンおよびアリルアルコールの組み合わせを含む、方法。
【請求項118】
請求項5または請求項10に記載の方法であって、ここで、工程(e)において形成された保護された前記中間体を反応させ、カルボン酸アリルエステル中間体を形成する工程は、(i)該保護された中間体を、適切な溶媒中で塩基の存在下でトリホスゲン付加体と反応させる工程、および(ii)インサイチュで形成されたホスゲンを、適切な条件下で、アリルアルコールでトラップする工程、を包含する、方法。
【請求項119】
請求項118に記載の方法であって、ここで、前記塩基は、ピリミジンであり、そして前記溶媒はトルエンである、方法。
【請求項120】
以下の構造式:
【化76】
を有する、化合物。
【請求項121】
以下の構造式:
【化77】
を有する、化合物。
【請求項122】
以下の構造式:
【化78】
を有する、化合物。
【請求項123】
以下の構造式:
【化79】
を有する、化合物。
【請求項124】
以下の構造式:
【化80】
を有する、化合物。
【請求項125】
以下の構造式:
【化81】
を有する、化合物。
【請求項126】
以下の構造式:
【化82】
を有する、化合物。
【請求項127】
以下の構造式:
【化83】
を有する、化合物。
【請求項128】
以下の構造式:
【化84】
を有する、化合物。
【請求項129】
以下の構造式:
【化85】
を有する、化合物。
【請求項130】
請求項120に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化86】
を有する、化合物。
【請求項131】
請求項121に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化87】
を有する、化合物。
【請求項132】
請求項122に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化88】
を有する、化合物。
【請求項133】
請求項123に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化89】
を有する、化合物。
【請求項134】
請求項124に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化90】
を有する、化合物。
【請求項135】
請求項125に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化91】
を有する、化合物。
【請求項136】
請求項126に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化92】
を有する、化合物。
【請求項137】
請求項127に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化93】
を有する、化合物。
【請求項138】
請求項128に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化94】
を有する、化合物。
【請求項139】
請求項129に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化95】
を有する、化合物。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
以下の構造式:
【化1】
を有する、化合物。
【請求項2】
以下の構造式:
【化2】
を有する、化合物。
【請求項3】
以下の構造式:
【化3】
を有する、化合物。
【請求項4】
以下の構造式:
【化4】
を有する、化合物。
【請求項5】
以下の構造式:
【化5】
を有する、化合物。
【請求項6】
以下の構造式:
【化6】
を有する、化合物。
【請求項7】
以下の構造式:
【化7】
を有する、化合物。
【請求項8】
以下の構造式:
【化8】
を有する、化合物。
【請求項9】
以下の構造式:
【化9】
を有する、化合物。
【請求項10】
請求項1に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化10】
を有する、化合物。
【請求項11】
請求項2に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化11】
を有する、化合物。
【請求項12】
請求項3に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化12】
を有する、化合物。
【請求項13】
請求項4に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化13】
を有する、化合物。
【請求項14】
請求項5に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化14】
を有する、化合物。
【請求項15】
請求項6に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化15】
を有する、化合物。
【請求項16】
請求項7に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化16】
を有する、化合物。
【請求項17】
請求項8に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化17】
を有する、化合物。
【請求項18】
請求項9に記載の化合物であって、ここで、以下の構造式:
【化18】
を有する、化合物。
【公表番号】特表2006−518394(P2006−518394A)
【公表日】平成18年8月10日(2006.8.10)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2006−503710(P2006−503710)
【出願日】平成16年2月18日(2004.2.18)
【国際出願番号】PCT/US2004/004921
【国際公開番号】WO2004/074303
【国際公開日】平成16年9月2日(2004.9.2)
【出願人】(000000217)エーザイ株式会社 (102)
【Fターム(参考)】
【公表日】平成18年8月10日(2006.8.10)
【国際特許分類】
【出願日】平成16年2月18日(2004.2.18)
【国際出願番号】PCT/US2004/004921
【国際公開番号】WO2004/074303
【国際公開日】平成16年9月2日(2004.9.2)
【出願人】(000000217)エーザイ株式会社 (102)
【Fターム(参考)】
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