ＭＡＬＤＩ質量分析法のためのマトリックス干渉の軽減
本教示は、分子のマトリックス支援レーザー脱離イオン化（ＭＡＬＤＩ）質量分析法のために有用なプレートおよびそのプレートを作製するためのプロセスに関する。疎水性コーティングおよびＭＡＬＤＩマトリックス材料とポリマーのような境界剤との混合物の薄膜コーティングを含む複合コーティングを備える、ＭＳ分析またはＭＳ−ＭＳ分析のために適したＭＡＬＤＩプレートが開示される。本教示に従って作製されるＭＡＬＤＩプレートは、ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルの低質量領域（１，０００ダルトン未満）におけるマトリックスイオンの抑制のために有用である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（優先権および関連出願）
本出願は、２００３年８月２１日に出願された米国仮特許出願第６０／４９６，７４６号による優先権を主張する。この仮出願は、本明細書中にその全体が参考として援用される。
【０００２】
（導入）
本教示は、分子のマトリックス支援レーザー脱離イオン化（ＭＡＬＤＩ）質量分析法のために有用なプレートおよびそのプレートを作製するためのプロセスに関する。より具体的には、本技術は、低分子（分子量１，０００ダルトン未満）の分析において有用なＭＡＬＤＩプレートに関する。
【背景技術】
【０００３】
ＭＡＬＤＩプロセスを使用する大きな生体分子（例えば、ＤＮＡ、ペプチドおよびタンパク質）の質量分析測定は、標準的な方法論である。しかし、代表的には１，０００ダルトン未満である低分子の分析のためには、このＭＡＬＤＩイオン化技術は完全には利用されていない。低分子のＭＡＬＤＩ分析を行うことにおける１つの困難は、サンプルスポットのレーザーによるアブレーションがまた、収集される質量スペクトルの低質量領域（小さな分析物が検出される範囲と同じ範囲）において検出されるマトリックスイオンの形成も引き起こすことである。さらなる干渉もまた、この質量範囲において検出され、そしてこれはマトリックスイオンとアルカリ金属との高い親和性、ならびにマトリックスが、同様にイオン化および検出されるクラスターを形成しやすいことに起因する。これらのクラスターは、多数のマトリックス分子を含み、同時にその多くがまた、多数のアルカリ金属イオンも含む。最終的に、ＭＡＬＤＩ生成質量スペクトルのその低質量領域（１，０００ダルトン未満）は非常に複雑であり、これが低分子分析物の検出を困難にする。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
（要旨）
種々の実施形態によると、ＭＳ分析に適したＭＡＬＤＩプレートは、一体型疎水性コーティングを備え、そしてＭＡＬＤＩマトリックス材料および挿入剤（例えば、ポリマー）の混合物の薄膜でその後のコーティングされるように適合される。本教示に従って作製されるＭＡＬＤＩプレートは、ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルの低質量領域（１，０００ダルトン未満）におけるマトリックスイオンの抑制のために有用である。これが、このようなＭＡＬＤＩプレートを、低分子（例えば、薬物、推定上の治療薬、それらの代謝物など）が純粋な溶液として与えられようと、生物学的基質（例えば、尿、胆汁、糞便、または血清）から抽出されようとに拘わらず、それらの低分子のＭＡＬＤＩ−ＭＳ分析のために特に有用なものにする特質である。
【０００５】
本教示のこれらの特徴および他の特徴が、本明細書中に記載される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
（種々の実施形態の説明）
目的の化合物に関する定性的情報および定量的情報の両方を提供する、低分子分析物（例えば、推定上の薬物分子）の分析のためのハイスループットな方法論に対する必要性が、近年、医薬品研究所においてかなり増加している。現在、これらの分子の分析に対する方法論は、タンデム型質量分析（ＭＳ／ＭＳとしてもまた公知）の使用に基づき、そして代表的にはエレクトロスプレーイオン化（ＥＳＩ）または大気圧イオン化（ＡＰＣＩ）を使用し、目的の分析物に対応するイオンを形成させる。これらのイオン源は、一般に、質量分析計（例えば、四重極、イオントラップ、およびハイブリッドトラップ四重極時間飛行分析計（Ｑ−ＴＯＦ））において使用される。
【０００７】
上記された方法論を使用する低分子サンプルのＭＳ分析は、一般に、各サンプル分析が分の時間スケールで行われる連続的なプロセスである。このようなＭＳ分析は、その分析が通常、質量分析計測定の線上にある急速なクロマトグラフィー分離と組み合わせて行われるという事実により、複雑にされる。複数のブランクサンプルおよび品質管理サンプルの使用に対するさらなる必要性が、ならびに再現性のあるクロマトグラフィー法に発展させるために必要とされる時間が、その時間スケールを構成する。先のサンプルからの分析物の持ち越しが何もないことを確認するための、収集されたデータの品質管理は、分析時間を増加させる。
【０００８】
飛行時間型質量分析計（ＴＯＦ−ＭＳ）（特に、ＭＡＬＤＩのイオン化を使用するもの）は、低分子の分析のために使用される場合、スピードの利点を提供し、分よりも秒でのサンプル混合物の分析を可能にする。ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳによる後の分析のための並行するサンプル調製は、サンプルのスループットの向上につながり得、そしてサンプル精製のための小さなクロマトグラフィー床を備える使い捨てのデバイスの使用が、あるサンプルから別のサンプルへの分析物の持ち越しを排除し得る。単回使用のＭＡＬＤＩサンプル支持体の使用は、収集されたデータの広範な品質評価の必要性を減少させ、そして同様にあるサンプルから別のサンプルへの分析物の持ち越しを排除し、それらにより、コストを減少させ、サンプルのスループットを向上させる。
【０００９】
種々の実施形態に従うと、マトリックスイオンの抑制能を有し、適切な導電性を有するＭＡＬＤＩプレートが提供される。少なくともそのプレートのサンプルスポット領域または標的表面に、疎水性コーティングが塗布され得、その少なくとも１部分の上に、マトリックス境界物質が適用される。このマトリックス境界物質は、例えば、αシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（αＣＨＣＡ）およびポリマーであり得る挿入剤（例えば、ニトロセルロース）の混合物であり得る。プレートは、第一にそのプレート表面に疎水性コーティングを適用することにより、調製され得る。このような疎水性コーティングは、分析サンプルおよびマトリックスの調製での液滴の拡散を減少させるために役立つ。種々の実施形態において、その疎水性コーティングは、一体型コーティングであり得る。一体型コーティングにより、出願人らは、本明細書中で、その一体型コーティングの分離を妨げる１つ以上の力の相互作用（例えば、疎水性相互作用、イオン性相互作用、ファンデルワールス力相互作用など）により創られ、その結果、そのコーティングが、その基板から無傷には剥がされ得ず、むしろそのコーティングは代表的に、化学的処理（例えば、溶媒の使用）または機械的な手段（例えば、研磨処理）により、除去され得る基板上の物理的コーティングを意味する。
【００１０】
種々の実施形態に従うＭＡＬＤＩプレートの調製のためのコーティングの適した疎水性物質は、同時係属中の米国特許出願番号第１０／２２７，０８８号に記載され、その開示は本明細書中に参照として援用される。この援用される参考文献と本出願との間に任意の差異または矛盾（定義される用語、用語の使用、記載される技術などを含むが、これらに限定されない）が存在する場合、本出願に従う。簡潔に述べると、合成ワックス（例えば、パラフィンワックス）、天然ワックス（例えば、蜜蝋）、脂質、エステル、有機酸、シリコンオイルまたはシリカポリマーが、その疎水性コーティングを形成するために有用な因子であり得る。これらの物質は、そのＭＡＬＤＩプレートに、純粋な物質として適用されても、互いの混合物として適用されても、市販の化学組成物（例えば、金属研磨ペースト剤または植物性油）の一部として適用されてもよい。種々の実施形態において、金属光沢剤の適用は、本教示に従う所望される疎水性表面を作製するために効果的である。
【００１１】
上記疎水性コーティングは、サンプル液滴を、より小さな領域に集中させる助けをし、それによりプレート上のサンプル構成成分の濃度を増加させる効果的な手段を確立し、同様にレーザーの自動的な位置決めを補助する。その疎水性コーティングの形成に引き続き、そのプレートは、マトリックス材料と挿入剤（例えば、溶媒中のポリマー）の混合物でコーティングされ得、その溶媒においてその挿入剤およびマトリックス材料はいずれも可溶性である。そして出願人らは、このさらなるコーティングが、マトリックスイオンの形成を抑制するために役に立つことを見出した。なぜこれらの結果が得られたのか関してはいずれの特定の理論にも束縛されることを意図しないが、観察からそのサンプルスポットは著しく小さく、従ってそのサンプルスポットをより小さな領域に集中させることに加えて、マトリックス対サンプル分析物比が、減少したサンプルスポットにおいて極めて低い。このより理想的なマトリックス対分析物比は、有利なイオン化条件を導き、それによりその分析物の一次イオン化を促進する。
【００１２】
適したマトリックス分子は、例えばαＣＨＣＡ、ジヒドロキシ安息香酸（ＤＨＢ）、シナピン酸（Ｓｉｎａｐｉｎｉｃ ａｃｉｄ）、ジトラノール、ポルフィリンなどのＭＡＬＤＩ−ＭＳ分析のために代表的に使用されるものを包含し得る。適したポリマー組成物は、ニトロセルロース、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどを包含し得る。種々の実施形態において、ニトロセルロースは、アセトン中でαＣＨＣＡと混合され得、この溶液が、その疎水性コーティングされたプレート上の少なくともサンプル標的領域上に薄膜コーティングを形成するために使用され得る。０．２５ｍｇ／ｍｌと１０ｍｇ／ｍｌとの間の各構成成分のマトリックス濃度およびポリマー濃度が、観察されるＭＡＬＤＩ−ＭＳデータにおいて、マトリックス信号の抑制を提供することが示されている。種々の実施形態において、０．２５ｍｇ／ｍｌ〜５ｍｇ／ｍｌの各構成成分のマトリックス濃度およびポリマー濃度が、使用され得る。種々の実施形態において、０．５ｍｇ／ｍＬ〜２．５ｍｇ／ｍＬのマトリックス濃度およびポリマー濃度が、使用され得る。種々の実施形態において、１ｍｇ／ｍＬ〜２ｍｇ／ｍＬのマトリックス濃度およびポリマー濃度が、使用され得る。
【００１３】
種々の実施形態において、複合コーティング（疎水性コーティングおよびマトリックス境界ポリマー）は、上記プレート表面に、薄膜（例えば、単分子膜）を形成し得る。そのプレートにその複合コーティングが塗布された後、分析物溶液の液滴が、その表面上に直接加えられ得、蒸発させられ得る。サンプルスポットがレーザーで照射され、目的の分析物の脱離およびイオン化を引き起こす場合、マトリックス材料および関連する付加物に対応するピークは、収集されたスペクトルに存在しなかった。この結果は、低質量領域における「きれいな」スペクトルを生成し、これは、干渉するマトリックスピークを欠くので、所望の低分子分析物を検出する能力を強化した。出願人らは、本教示において記載される技術が、低分子分析物に対するＭＳデータおよびＭＳ／ＭＳ ＭＡＬＤＩデータの両方の収集のために有用であり得ることを見出している。低分子分析物のＭＡＬＤＩ−ＭＳ／ＭＳ分析におけるマトリックスイオンの抑制の顕著な利点は、目的の分子が、マトリックスイオンと同じまたは近い分子量を有する場合に観察される。そのマトリックスイオンの抑制は、所望される分析物のみを断片化させ、そして類似の質量電荷比のマトリックスイオンからの寄与が最小かまたは全くなしで、生成物イオンスペクトルが目的の分子のみを示すように生成される。
【００１４】
マトリックス材料および境界ポリマー溶液を用いて上記プレートをコーティングするための方法は、薄膜コーティングを作製するための技術者に公知な方法を包含し、そしてスピンコーティング、ディップコーティング、ロールコーティングなどの技術を包含し得る。
【００１５】
図１ａは、分析される表面上に複数のサンプルスポット１２を有する、本教示に従うＭＡＬＤＩサンプルプレート１０を示す。そのプレートは、ステンレス鋼のような伝導性物質製であり得、そして四角形として示されているが、行われるＭＳ分析のために適切な、任意の適した形状またはサイズであり得る。図１ｂは、そのプレート１０の断面図である。上記疎水性コーティングおよび挿入剤混合物を含み得る複合コーティング１４は、少なくともサンプル標的領域を覆い得、そして代表的に、プレート１０の上面全体を覆い得る。その複合コーティング１４は、誇張され、それを有限の厚さの層として示しているが、代表的にはその複合コーティングは、そのステンレス鋼のＭＡＬＤＩプレートに塗布される単分子膜のような薄膜であり得る。
【００１６】
上述の記載ならびに以下の実施例は、ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルデータの低質量領域（１，０００ダルトン未満）におけるマトリックス信号に対応するピークの抑制のために使用され得るＭＡＬＤＩプレートの、調製および使用について記載する。
【実施例】
【００１７】
本教示の局面は、以下の実施例に照らしてさらに理解され得、これはいずれの方法においても本教示の範囲を制限すると解釈されるべきではない。
【００１８】
（実施例１：マトリックス抑制ＭＡＬＤＩプレートの調製）
従来のステンレス鋼ＭＡＬＤＩプレートの標的表面を、米国特許出願番号第１０／２２７，０８８号の教示に従って、市販のＰＯＬ金属光沢剤で研磨した。その金属光沢剤を塗布し、そしてそのＭＡＬＤＩプレートを光るまで研磨してこのプロセスを完了すると、その金属光沢剤の構成成分がそのプレート表面に残り、一体型疎水性コーティングを形成した。ポリマー／マトリックスコーティング溶液を、アセトン中でαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸およびニトロセルロースを溶解させる（約５０ｍｇの各構成成分を計量してガラス容器に入れ、そして５０ｍＬのアセトン中で可溶化した）ことにより調製した。マトリックス境界ポリマー層を、１００μＬのこの溶液を、金属研磨されたＭＡＬＤＩプレートの標的領域上に塗布することにより形成した。次いでそのプレートを直ちに、８，０００ＲＰＭにて２０秒間スピンし、残った溶媒を蒸発させて、そのプレート表面上の疎水性コーティング上に薄いコーティングを生成し、これは種々の溶媒に溶解されているサンプルの堆積を受け入れられる状態である。
【００１９】
（実施例２）
図２ａおよび図２ｂは、ポリマーコーティング標的プレートの使用が、どのくらいマトリックスイオン干渉を減少させるのかを示す。米国特許出願番号第１０／２２７，０８８号の教示に記載されるような、従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴技術が、図２ａに示される。この実施例において、６０％アセトニトリル中の１００ｎｇ／ｍＬテトラヒドロゾリン（ｍ／ｚ ２０１）溶液の０．５μＬアリコートを、７ｍｇ／ｍＬのαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸の乾燥液滴へ加え、Ｖｏｙａｇｅｒ−ＤＥＴＭ ＰＲＯワークステーション（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）で分析した。マトリックスイオンは、ｍ／ｚ １７２、１９０、２１２、３３５および３７９にて容易に観察され得るように、このＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳスペクトルにおいて支配種（ｄｏｍｉｎａｎｔ ｓｐｅｃｉｅｓ）である。図２ｂは、実施例１に与えられる手順により作製されたマトリックス境界ポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩプレートへ加えられた、テトラヒドゾリンの同じサンプルのさらなる０．５μＬアリコートの分析を示す。このスペクトルにおいて、ほとんどのマトリックス信号は除去され、一方ｍ／ｚ ２０１のその分析物信号は、明瞭に識別される。
【００２０】
（実施例３）
図３ａおよび図３ｂは、異なる分子を、実施例１に記載されるように調製したマトリックス境界ポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩプレートを使用して分析した場合に観察された、抑制効果をさらに示す。従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴技術を、図３ａに示す。この実施例において、８０％アセトニトリル中の１００ｎｇ／ｍＬベラパミル（ｍ／ｚ ４５５）溶液の０．５μＬアリコートを、７ｍｇ／ｍＬのαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸の乾燥液滴へ加え、Ｖｏｙａｇｅｒ−ＤＥＴＭ ＰＲＯワークステーション（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）で分析した。ｍ／ｚ １７２、１９０、２１２、３３５、３７９および４４１にて観察されたマトリックスイオンが、このＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを支配する（ｄｏｍｉｎａｔｅ）。図３ｂは、実施例１に与えられる手順により作製されたポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩ標的プレートに加えられたベラパミル溶液の同じサンプル由来の、さらなる０．５μＬのアリコートを示す。このスペクトルにおいて、ほとんどのマトリックス信号が除去され、一方ｍ／ｚ ４５５の分析物信号は明瞭に識別される。
【００２１】
（実施例４）
図４ａおよび図４ｂはさらに、なお別の分子を、実施例１に記載されるように調製したマトリックス境界ポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩプレートを使用して分析した場合に観察される抑制効果を示す。従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴技術を、図４ａに示す。この実施例において、８０％アセトニトリル中の１０００ｎｇ／ｍＬハロペリドール（ｍ／ｚ ３７６）溶液の０．５μＬアリコートを、７ｍｇ／ｍＬのαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸の乾燥液滴へ加え、ｏＭＡＬＤＩＴＭ ２ソース（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えたＱＳＴＡＲ（登録商標）ＸＬシステムで、ＴＯＦ−ＭＳモードにおいて分析した。１７２、１９０、３３５および３７９に観察されたマトリックスイオンが、このＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを支配した。図４ｂは、実施例１に与えられる手順により作製されたポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩ標的プレートに加えられたハロペリドール溶液の同じサンプル由来の、さらなる０．５μＬのアリコートを示す。このスペクトルにおいて、ほとんどのマトリックス信号が除去され、一方ｍ／ｚ ３７６の分析物信号は明瞭に識別される。
【００２２】
（実施例５）
図５は、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマー薄膜ＭＡＬＤＩプレート上にスポットされた、８０％アセトニトリル中の１０００ｎｇ／ｍＬベラパミル溶液の０．５μＬアリコートについての、ｏＭＡＬＤＩＴＭ ２ソース（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えたＱＳＴＡＲ（登録商標）ＸＬシステムを使用して収集した、ＱｑＴＯＦ−ＭＳＭＳスペクトルを示す。このスペクトルは、マトリックスフラグメントイオンによる汚染を何も示さず、そしてＭＳ／ＭＳスキャンにおける分析物フラグメントイオンの明瞭な検出を示す。
【００２３】
（実施例６）
図６は、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマー薄膜ＭＡＬＤＩプレート上にスポットされた、８０％アセトニトリル中の１０００ｎｇ／ｍＬハロペリドール溶液の０．５μＬアリコートについての、ｏＭＡＬＤＩＴＭ ２ソース（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えたＱＳｔａｒ（登録商標）ＸＬシステムを使用して収集した、ＱｑＴＯＦ−ＭＳＭＳスペクトルを示す。このスペクトルは、マトリックスフラグメントイオンによる汚染を何も示さず、そしてＭＳ／ＭＳスキャンにおける分析物フラグメントイオンの明瞭な検出を示す。
【００２４】
（実施例７）
図７ａは、ヒト肝細胞と共にインキュベートされた１２．５μＭパパベリンの５μＬアリコートの、従来のＬＣ−ＭＡＬＤＩ取得を示す。これらのスペクトルを、ＴＯＦ／ＴＯＦＴＭオプティクス（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えた４７００Ｐｒｏｔｅｏｍｉｃｓ Ａｎａｌｙｚｅｒを使用して、ＴＯＦ−ＭＳモードにおいて収集した。このスペクトルは、マトリックスイオンがこのサンプルにおける支配種であることを明瞭に示し、そしてｍ／ｚ １７２、１９０、２１２、３３５、３７９および４４１に容易に観察され得る。親化合物および複数の代謝産物もまた、このスペクトルにおいて観察される。親化合物（ｍ／ｚ ３４０．１）をウェル４３に見出し、脱メチル化代謝産物（ｍ／ｚ ３２６．１）をウェル４０に見出し、水酸化代謝産物（ｍ／ｚ ３５６．１）をウェル４４に見出し、そして水酸化／脱メチル化代謝産物（ｍ／ｚ ３４１．１）をウェル４５に見出した。観察され得るように、いずれのこれらの分析物信号も、ＣＨＣＡ由来のシグナルと比較して示差的ではない。上記のＬＣ−ＭＡＬＤＩ実験を、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマー薄膜ＭＡＬＤＩプレートを使用して、パパベリンの同じサンプルにおいて繰り返す場合、図７ｂに示されるように、マトリックスイオンの干渉が除去されたため、親質量ならびに３つの代謝産物は容易に検出および同定される。
【００２５】
（実施例８）
図８ａは、ヒト肝細胞においてインキュベートされた１２．５μＭリスペリドンの５μＬアリコートの、従来のＬＣ−ＭＡＬＤＩ取得を示す。これらのスペクトルを、ＴＯＦ／ＴＯＦＴＭオプティクス（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えた４７００Ｐｒｏｔｅｏｍｉｃｓ Ａｎａｌｙｚｅｒを使用して、ＴＯＦ−ＭＳモードにおいて収集した。マトリックスイオンは、ちょうどそれらが先の実施例においてしたように、このＭＡＬＤＩ−ＴＯＦスペクトルを支配する。質量のクラスターを識別し得、そして親化合物（ｍ／ｚ ４１１．２）ならびに水酸化代謝産物（ｍ／ｚ ４２７．２）および脱水素代謝産物（ｍ／ｚ ４０９．２）を同定し得る。いずれのこれらの分析物信号も、ＣＨＣＡ由来のシグナルと比較して示差的ではない。本発明者らが、本教示に従って調製したＭＡＬＤＩプレートを使用したＬＣ−ＭＡＬＤＩ実験を繰り返す場合、図８ｂに示されるように、そのマトリックス信号のほとんどは除去されたが、一方ｍ／ｚ ４１１の分析物信号ならびにｍ／ｚ ４２７およびｍ／ｚ ４０９の一次代謝産物イオンは、明確に識別される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
当業者は、以下に記載される図面は、例示目的のみのためのものであることを理解する。この図面は、いずれの方法においても、本教示の範囲を制限することを意図されない。
【図１】図１ａは、本教示に従うＭＡＬＤＩプレートの平面図である。図１ｂは、図１ａに示されるＭＡＬＤＩプレートの断面である。
【図２】図２ａは、従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされたテトラヒドロゾリンサンプルに対するＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図２ｂは、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、テトラヒドロゾリンの同じサンプルのさらなるアリコートのＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図３】図３ａは、従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされたベラパミルに対するＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図３ｂは、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、ベラパミルの同じサンプルのさらなるアリコートのＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図４】図４ａは、従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされたハロペリドールサンプルに対するＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図４ｂは、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、ハロペリドールの同じサンプルのさらなるアリコートのＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図５】図５は、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、ベラパミルのサンプルから収集されたＭＡＬＤＩ ＱｑＴＯＦ−ＭＳ／ＭＳスペクトルを示す。
【図６】図６は、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、ハロペリドールのサンプルから収集されたＭＡＬＤＩ ＱｑＴＯＦ−ＭＳ／ＭＳスペクトルを示す。
【図７】図７ａは、ヒト肝細胞においてインキュベートされ、そして従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされた、パパベリンサンプルから得られたＬＣ−ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図７ｂは、ヒト肝細胞においてインキュベートされ、そして本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、パパベリンサンプルから得られたＬＣ−ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図８】図８ａは、ヒト肝細胞においてインキュベートされ、そして従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされた、リスペリドンサンプルから得られたＬＣ−ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図８ｂは、ヒト肝細胞においてインキュベートされ、そして本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、リスペリドンサンプルから得られたＬＣ−ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図１ａ】
【図１ｂ】
【技術分野】
【０００１】
（優先権および関連出願）
本出願は、２００３年８月２１日に出願された米国仮特許出願第６０／４９６，７４６号による優先権を主張する。この仮出願は、本明細書中にその全体が参考として援用される。
【０００２】
（導入）
本教示は、分子のマトリックス支援レーザー脱離イオン化（ＭＡＬＤＩ）質量分析法のために有用なプレートおよびそのプレートを作製するためのプロセスに関する。より具体的には、本技術は、低分子（分子量１，０００ダルトン未満）の分析において有用なＭＡＬＤＩプレートに関する。
【背景技術】
【０００３】
ＭＡＬＤＩプロセスを使用する大きな生体分子（例えば、ＤＮＡ、ペプチドおよびタンパク質）の質量分析測定は、標準的な方法論である。しかし、代表的には１，０００ダルトン未満である低分子の分析のためには、このＭＡＬＤＩイオン化技術は完全には利用されていない。低分子のＭＡＬＤＩ分析を行うことにおける１つの困難は、サンプルスポットのレーザーによるアブレーションがまた、収集される質量スペクトルの低質量領域（小さな分析物が検出される範囲と同じ範囲）において検出されるマトリックスイオンの形成も引き起こすことである。さらなる干渉もまた、この質量範囲において検出され、そしてこれはマトリックスイオンとアルカリ金属との高い親和性、ならびにマトリックスが、同様にイオン化および検出されるクラスターを形成しやすいことに起因する。これらのクラスターは、多数のマトリックス分子を含み、同時にその多くがまた、多数のアルカリ金属イオンも含む。最終的に、ＭＡＬＤＩ生成質量スペクトルのその低質量領域（１，０００ダルトン未満）は非常に複雑であり、これが低分子分析物の検出を困難にする。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
（要旨）
種々の実施形態によると、ＭＳ分析に適したＭＡＬＤＩプレートは、一体型疎水性コーティングを備え、そしてＭＡＬＤＩマトリックス材料および挿入剤（例えば、ポリマー）の混合物の薄膜でその後のコーティングされるように適合される。本教示に従って作製されるＭＡＬＤＩプレートは、ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルの低質量領域（１，０００ダルトン未満）におけるマトリックスイオンの抑制のために有用である。これが、このようなＭＡＬＤＩプレートを、低分子（例えば、薬物、推定上の治療薬、それらの代謝物など）が純粋な溶液として与えられようと、生物学的基質（例えば、尿、胆汁、糞便、または血清）から抽出されようとに拘わらず、それらの低分子のＭＡＬＤＩ−ＭＳ分析のために特に有用なものにする特質である。
【０００５】
本教示のこれらの特徴および他の特徴が、本明細書中に記載される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
（種々の実施形態の説明）
目的の化合物に関する定性的情報および定量的情報の両方を提供する、低分子分析物（例えば、推定上の薬物分子）の分析のためのハイスループットな方法論に対する必要性が、近年、医薬品研究所においてかなり増加している。現在、これらの分子の分析に対する方法論は、タンデム型質量分析（ＭＳ／ＭＳとしてもまた公知）の使用に基づき、そして代表的にはエレクトロスプレーイオン化（ＥＳＩ）または大気圧イオン化（ＡＰＣＩ）を使用し、目的の分析物に対応するイオンを形成させる。これらのイオン源は、一般に、質量分析計（例えば、四重極、イオントラップ、およびハイブリッドトラップ四重極時間飛行分析計（Ｑ−ＴＯＦ））において使用される。
【０００７】
上記された方法論を使用する低分子サンプルのＭＳ分析は、一般に、各サンプル分析が分の時間スケールで行われる連続的なプロセスである。このようなＭＳ分析は、その分析が通常、質量分析計測定の線上にある急速なクロマトグラフィー分離と組み合わせて行われるという事実により、複雑にされる。複数のブランクサンプルおよび品質管理サンプルの使用に対するさらなる必要性が、ならびに再現性のあるクロマトグラフィー法に発展させるために必要とされる時間が、その時間スケールを構成する。先のサンプルからの分析物の持ち越しが何もないことを確認するための、収集されたデータの品質管理は、分析時間を増加させる。
【０００８】
飛行時間型質量分析計（ＴＯＦ−ＭＳ）（特に、ＭＡＬＤＩのイオン化を使用するもの）は、低分子の分析のために使用される場合、スピードの利点を提供し、分よりも秒でのサンプル混合物の分析を可能にする。ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳによる後の分析のための並行するサンプル調製は、サンプルのスループットの向上につながり得、そしてサンプル精製のための小さなクロマトグラフィー床を備える使い捨てのデバイスの使用が、あるサンプルから別のサンプルへの分析物の持ち越しを排除し得る。単回使用のＭＡＬＤＩサンプル支持体の使用は、収集されたデータの広範な品質評価の必要性を減少させ、そして同様にあるサンプルから別のサンプルへの分析物の持ち越しを排除し、それらにより、コストを減少させ、サンプルのスループットを向上させる。
【０００９】
種々の実施形態に従うと、マトリックスイオンの抑制能を有し、適切な導電性を有するＭＡＬＤＩプレートが提供される。少なくともそのプレートのサンプルスポット領域または標的表面に、疎水性コーティングが塗布され得、その少なくとも１部分の上に、マトリックス境界物質が適用される。このマトリックス境界物質は、例えば、αシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（αＣＨＣＡ）およびポリマーであり得る挿入剤（例えば、ニトロセルロース）の混合物であり得る。プレートは、第一にそのプレート表面に疎水性コーティングを適用することにより、調製され得る。このような疎水性コーティングは、分析サンプルおよびマトリックスの調製での液滴の拡散を減少させるために役立つ。種々の実施形態において、その疎水性コーティングは、一体型コーティングであり得る。一体型コーティングにより、出願人らは、本明細書中で、その一体型コーティングの分離を妨げる１つ以上の力の相互作用（例えば、疎水性相互作用、イオン性相互作用、ファンデルワールス力相互作用など）により創られ、その結果、そのコーティングが、その基板から無傷には剥がされ得ず、むしろそのコーティングは代表的に、化学的処理（例えば、溶媒の使用）または機械的な手段（例えば、研磨処理）により、除去され得る基板上の物理的コーティングを意味する。
【００１０】
種々の実施形態に従うＭＡＬＤＩプレートの調製のためのコーティングの適した疎水性物質は、同時係属中の米国特許出願番号第１０／２２７，０８８号に記載され、その開示は本明細書中に参照として援用される。この援用される参考文献と本出願との間に任意の差異または矛盾（定義される用語、用語の使用、記載される技術などを含むが、これらに限定されない）が存在する場合、本出願に従う。簡潔に述べると、合成ワックス（例えば、パラフィンワックス）、天然ワックス（例えば、蜜蝋）、脂質、エステル、有機酸、シリコンオイルまたはシリカポリマーが、その疎水性コーティングを形成するために有用な因子であり得る。これらの物質は、そのＭＡＬＤＩプレートに、純粋な物質として適用されても、互いの混合物として適用されても、市販の化学組成物（例えば、金属研磨ペースト剤または植物性油）の一部として適用されてもよい。種々の実施形態において、金属光沢剤の適用は、本教示に従う所望される疎水性表面を作製するために効果的である。
【００１１】
上記疎水性コーティングは、サンプル液滴を、より小さな領域に集中させる助けをし、それによりプレート上のサンプル構成成分の濃度を増加させる効果的な手段を確立し、同様にレーザーの自動的な位置決めを補助する。その疎水性コーティングの形成に引き続き、そのプレートは、マトリックス材料と挿入剤（例えば、溶媒中のポリマー）の混合物でコーティングされ得、その溶媒においてその挿入剤およびマトリックス材料はいずれも可溶性である。そして出願人らは、このさらなるコーティングが、マトリックスイオンの形成を抑制するために役に立つことを見出した。なぜこれらの結果が得られたのか関してはいずれの特定の理論にも束縛されることを意図しないが、観察からそのサンプルスポットは著しく小さく、従ってそのサンプルスポットをより小さな領域に集中させることに加えて、マトリックス対サンプル分析物比が、減少したサンプルスポットにおいて極めて低い。このより理想的なマトリックス対分析物比は、有利なイオン化条件を導き、それによりその分析物の一次イオン化を促進する。
【００１２】
適したマトリックス分子は、例えばαＣＨＣＡ、ジヒドロキシ安息香酸（ＤＨＢ）、シナピン酸（Ｓｉｎａｐｉｎｉｃ ａｃｉｄ）、ジトラノール、ポルフィリンなどのＭＡＬＤＩ−ＭＳ分析のために代表的に使用されるものを包含し得る。適したポリマー組成物は、ニトロセルロース、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどを包含し得る。種々の実施形態において、ニトロセルロースは、アセトン中でαＣＨＣＡと混合され得、この溶液が、その疎水性コーティングされたプレート上の少なくともサンプル標的領域上に薄膜コーティングを形成するために使用され得る。０．２５ｍｇ／ｍｌと１０ｍｇ／ｍｌとの間の各構成成分のマトリックス濃度およびポリマー濃度が、観察されるＭＡＬＤＩ−ＭＳデータにおいて、マトリックス信号の抑制を提供することが示されている。種々の実施形態において、０．２５ｍｇ／ｍｌ〜５ｍｇ／ｍｌの各構成成分のマトリックス濃度およびポリマー濃度が、使用され得る。種々の実施形態において、０．５ｍｇ／ｍＬ〜２．５ｍｇ／ｍＬのマトリックス濃度およびポリマー濃度が、使用され得る。種々の実施形態において、１ｍｇ／ｍＬ〜２ｍｇ／ｍＬのマトリックス濃度およびポリマー濃度が、使用され得る。
【００１３】
種々の実施形態において、複合コーティング（疎水性コーティングおよびマトリックス境界ポリマー）は、上記プレート表面に、薄膜（例えば、単分子膜）を形成し得る。そのプレートにその複合コーティングが塗布された後、分析物溶液の液滴が、その表面上に直接加えられ得、蒸発させられ得る。サンプルスポットがレーザーで照射され、目的の分析物の脱離およびイオン化を引き起こす場合、マトリックス材料および関連する付加物に対応するピークは、収集されたスペクトルに存在しなかった。この結果は、低質量領域における「きれいな」スペクトルを生成し、これは、干渉するマトリックスピークを欠くので、所望の低分子分析物を検出する能力を強化した。出願人らは、本教示において記載される技術が、低分子分析物に対するＭＳデータおよびＭＳ／ＭＳ ＭＡＬＤＩデータの両方の収集のために有用であり得ることを見出している。低分子分析物のＭＡＬＤＩ−ＭＳ／ＭＳ分析におけるマトリックスイオンの抑制の顕著な利点は、目的の分子が、マトリックスイオンと同じまたは近い分子量を有する場合に観察される。そのマトリックスイオンの抑制は、所望される分析物のみを断片化させ、そして類似の質量電荷比のマトリックスイオンからの寄与が最小かまたは全くなしで、生成物イオンスペクトルが目的の分子のみを示すように生成される。
【００１４】
マトリックス材料および境界ポリマー溶液を用いて上記プレートをコーティングするための方法は、薄膜コーティングを作製するための技術者に公知な方法を包含し、そしてスピンコーティング、ディップコーティング、ロールコーティングなどの技術を包含し得る。
【００１５】
図１ａは、分析される表面上に複数のサンプルスポット１２を有する、本教示に従うＭＡＬＤＩサンプルプレート１０を示す。そのプレートは、ステンレス鋼のような伝導性物質製であり得、そして四角形として示されているが、行われるＭＳ分析のために適切な、任意の適した形状またはサイズであり得る。図１ｂは、そのプレート１０の断面図である。上記疎水性コーティングおよび挿入剤混合物を含み得る複合コーティング１４は、少なくともサンプル標的領域を覆い得、そして代表的に、プレート１０の上面全体を覆い得る。その複合コーティング１４は、誇張され、それを有限の厚さの層として示しているが、代表的にはその複合コーティングは、そのステンレス鋼のＭＡＬＤＩプレートに塗布される単分子膜のような薄膜であり得る。
【００１６】
上述の記載ならびに以下の実施例は、ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルデータの低質量領域（１，０００ダルトン未満）におけるマトリックス信号に対応するピークの抑制のために使用され得るＭＡＬＤＩプレートの、調製および使用について記載する。
【実施例】
【００１７】
本教示の局面は、以下の実施例に照らしてさらに理解され得、これはいずれの方法においても本教示の範囲を制限すると解釈されるべきではない。
【００１８】
（実施例１：マトリックス抑制ＭＡＬＤＩプレートの調製）
従来のステンレス鋼ＭＡＬＤＩプレートの標的表面を、米国特許出願番号第１０／２２７，０８８号の教示に従って、市販のＰＯＬ金属光沢剤で研磨した。その金属光沢剤を塗布し、そしてそのＭＡＬＤＩプレートを光るまで研磨してこのプロセスを完了すると、その金属光沢剤の構成成分がそのプレート表面に残り、一体型疎水性コーティングを形成した。ポリマー／マトリックスコーティング溶液を、アセトン中でαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸およびニトロセルロースを溶解させる（約５０ｍｇの各構成成分を計量してガラス容器に入れ、そして５０ｍＬのアセトン中で可溶化した）ことにより調製した。マトリックス境界ポリマー層を、１００μＬのこの溶液を、金属研磨されたＭＡＬＤＩプレートの標的領域上に塗布することにより形成した。次いでそのプレートを直ちに、８，０００ＲＰＭにて２０秒間スピンし、残った溶媒を蒸発させて、そのプレート表面上の疎水性コーティング上に薄いコーティングを生成し、これは種々の溶媒に溶解されているサンプルの堆積を受け入れられる状態である。
【００１９】
（実施例２）
図２ａおよび図２ｂは、ポリマーコーティング標的プレートの使用が、どのくらいマトリックスイオン干渉を減少させるのかを示す。米国特許出願番号第１０／２２７，０８８号の教示に記載されるような、従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴技術が、図２ａに示される。この実施例において、６０％アセトニトリル中の１００ｎｇ／ｍＬテトラヒドロゾリン（ｍ／ｚ ２０１）溶液の０．５μＬアリコートを、７ｍｇ／ｍＬのαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸の乾燥液滴へ加え、Ｖｏｙａｇｅｒ−ＤＥＴＭ ＰＲＯワークステーション（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）で分析した。マトリックスイオンは、ｍ／ｚ １７２、１９０、２１２、３３５および３７９にて容易に観察され得るように、このＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳスペクトルにおいて支配種（ｄｏｍｉｎａｎｔ ｓｐｅｃｉｅｓ）である。図２ｂは、実施例１に与えられる手順により作製されたマトリックス境界ポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩプレートへ加えられた、テトラヒドゾリンの同じサンプルのさらなる０．５μＬアリコートの分析を示す。このスペクトルにおいて、ほとんどのマトリックス信号は除去され、一方ｍ／ｚ ２０１のその分析物信号は、明瞭に識別される。
【００２０】
（実施例３）
図３ａおよび図３ｂは、異なる分子を、実施例１に記載されるように調製したマトリックス境界ポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩプレートを使用して分析した場合に観察された、抑制効果をさらに示す。従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴技術を、図３ａに示す。この実施例において、８０％アセトニトリル中の１００ｎｇ／ｍＬベラパミル（ｍ／ｚ ４５５）溶液の０．５μＬアリコートを、７ｍｇ／ｍＬのαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸の乾燥液滴へ加え、Ｖｏｙａｇｅｒ−ＤＥＴＭ ＰＲＯワークステーション（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）で分析した。ｍ／ｚ １７２、１９０、２１２、３３５、３７９および４４１にて観察されたマトリックスイオンが、このＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを支配する（ｄｏｍｉｎａｔｅ）。図３ｂは、実施例１に与えられる手順により作製されたポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩ標的プレートに加えられたベラパミル溶液の同じサンプル由来の、さらなる０．５μＬのアリコートを示す。このスペクトルにおいて、ほとんどのマトリックス信号が除去され、一方ｍ／ｚ ４５５の分析物信号は明瞭に識別される。
【００２１】
（実施例４）
図４ａおよび図４ｂはさらに、なお別の分子を、実施例１に記載されるように調製したマトリックス境界ポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩプレートを使用して分析した場合に観察される抑制効果を示す。従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴技術を、図４ａに示す。この実施例において、８０％アセトニトリル中の１０００ｎｇ／ｍＬハロペリドール（ｍ／ｚ ３７６）溶液の０．５μＬアリコートを、７ｍｇ／ｍＬのαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸の乾燥液滴へ加え、ｏＭＡＬＤＩＴＭ ２ソース（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えたＱＳＴＡＲ（登録商標）ＸＬシステムで、ＴＯＦ−ＭＳモードにおいて分析した。１７２、１９０、３３５および３７９に観察されたマトリックスイオンが、このＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを支配した。図４ｂは、実施例１に与えられる手順により作製されたポリマーコーティングされたＭＡＬＤＩ標的プレートに加えられたハロペリドール溶液の同じサンプル由来の、さらなる０．５μＬのアリコートを示す。このスペクトルにおいて、ほとんどのマトリックス信号が除去され、一方ｍ／ｚ ３７６の分析物信号は明瞭に識別される。
【００２２】
（実施例５）
図５は、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマー薄膜ＭＡＬＤＩプレート上にスポットされた、８０％アセトニトリル中の１０００ｎｇ／ｍＬベラパミル溶液の０．５μＬアリコートについての、ｏＭＡＬＤＩＴＭ ２ソース（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えたＱＳＴＡＲ（登録商標）ＸＬシステムを使用して収集した、ＱｑＴＯＦ−ＭＳＭＳスペクトルを示す。このスペクトルは、マトリックスフラグメントイオンによる汚染を何も示さず、そしてＭＳ／ＭＳスキャンにおける分析物フラグメントイオンの明瞭な検出を示す。
【００２３】
（実施例６）
図６は、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマー薄膜ＭＡＬＤＩプレート上にスポットされた、８０％アセトニトリル中の１０００ｎｇ／ｍＬハロペリドール溶液の０．５μＬアリコートについての、ｏＭＡＬＤＩＴＭ ２ソース（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えたＱＳｔａｒ（登録商標）ＸＬシステムを使用して収集した、ＱｑＴＯＦ−ＭＳＭＳスペクトルを示す。このスペクトルは、マトリックスフラグメントイオンによる汚染を何も示さず、そしてＭＳ／ＭＳスキャンにおける分析物フラグメントイオンの明瞭な検出を示す。
【００２４】
（実施例７）
図７ａは、ヒト肝細胞と共にインキュベートされた１２．５μＭパパベリンの５μＬアリコートの、従来のＬＣ−ＭＡＬＤＩ取得を示す。これらのスペクトルを、ＴＯＦ／ＴＯＦＴＭオプティクス（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えた４７００Ｐｒｏｔｅｏｍｉｃｓ Ａｎａｌｙｚｅｒを使用して、ＴＯＦ−ＭＳモードにおいて収集した。このスペクトルは、マトリックスイオンがこのサンプルにおける支配種であることを明瞭に示し、そしてｍ／ｚ １７２、１９０、２１２、３３５、３７９および４４１に容易に観察され得る。親化合物および複数の代謝産物もまた、このスペクトルにおいて観察される。親化合物（ｍ／ｚ ３４０．１）をウェル４３に見出し、脱メチル化代謝産物（ｍ／ｚ ３２６．１）をウェル４０に見出し、水酸化代謝産物（ｍ／ｚ ３５６．１）をウェル４４に見出し、そして水酸化／脱メチル化代謝産物（ｍ／ｚ ３４１．１）をウェル４５に見出した。観察され得るように、いずれのこれらの分析物信号も、ＣＨＣＡ由来のシグナルと比較して示差的ではない。上記のＬＣ−ＭＡＬＤＩ実験を、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマー薄膜ＭＡＬＤＩプレートを使用して、パパベリンの同じサンプルにおいて繰り返す場合、図７ｂに示されるように、マトリックスイオンの干渉が除去されたため、親質量ならびに３つの代謝産物は容易に検出および同定される。
【００２５】
（実施例８）
図８ａは、ヒト肝細胞においてインキュベートされた１２．５μＭリスペリドンの５μＬアリコートの、従来のＬＣ−ＭＡＬＤＩ取得を示す。これらのスペクトルを、ＴＯＦ／ＴＯＦＴＭオプティクス（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｓｙｓｔｅｍｓ）を備えた４７００Ｐｒｏｔｅｏｍｉｃｓ Ａｎａｌｙｚｅｒを使用して、ＴＯＦ−ＭＳモードにおいて収集した。マトリックスイオンは、ちょうどそれらが先の実施例においてしたように、このＭＡＬＤＩ−ＴＯＦスペクトルを支配する。質量のクラスターを識別し得、そして親化合物（ｍ／ｚ ４１１．２）ならびに水酸化代謝産物（ｍ／ｚ ４２７．２）および脱水素代謝産物（ｍ／ｚ ４０９．２）を同定し得る。いずれのこれらの分析物信号も、ＣＨＣＡ由来のシグナルと比較して示差的ではない。本発明者らが、本教示に従って調製したＭＡＬＤＩプレートを使用したＬＣ−ＭＡＬＤＩ実験を繰り返す場合、図８ｂに示されるように、そのマトリックス信号のほとんどは除去されたが、一方ｍ／ｚ ４１１の分析物信号ならびにｍ／ｚ ４２７およびｍ／ｚ ４０９の一次代謝産物イオンは、明確に識別される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
当業者は、以下に記載される図面は、例示目的のみのためのものであることを理解する。この図面は、いずれの方法においても、本教示の範囲を制限することを意図されない。
【図１】図１ａは、本教示に従うＭＡＬＤＩプレートの平面図である。図１ｂは、図１ａに示されるＭＡＬＤＩプレートの断面である。
【図２】図２ａは、従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされたテトラヒドロゾリンサンプルに対するＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図２ｂは、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、テトラヒドロゾリンの同じサンプルのさらなるアリコートのＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図３】図３ａは、従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされたベラパミルに対するＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図３ｂは、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、ベラパミルの同じサンプルのさらなるアリコートのＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図４】図４ａは、従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされたハロペリドールサンプルに対するＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図４ｂは、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、ハロペリドールの同じサンプルのさらなるアリコートのＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図５】図５は、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、ベラパミルのサンプルから収集されたＭＡＬＤＩ ＱｑＴＯＦ−ＭＳ／ＭＳスペクトルを示す。
【図６】図６は、本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、ハロペリドールのサンプルから収集されたＭＡＬＤＩ ＱｑＴＯＦ−ＭＳ／ＭＳスペクトルを示す。
【図７】図７ａは、ヒト肝細胞においてインキュベートされ、そして従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされた、パパベリンサンプルから得られたＬＣ−ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図７ｂは、ヒト肝細胞においてインキュベートされ、そして本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、パパベリンサンプルから得られたＬＣ−ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図８】図８ａは、ヒト肝細胞においてインキュベートされ、そして従来のＭＡＬＤＩ乾燥液滴サンプル調製技術を使用してスポットされた、リスペリドンサンプルから得られたＬＣ−ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。図８ｂは、ヒト肝細胞においてインキュベートされ、そして本教示に従って調製されたマトリックス境界ポリマーＭＡＬＤＩプレートの薄膜上にスポットされた、リスペリドンサンプルから得られたＬＣ−ＭＡＬＤＩ ＴＯＦ−ＭＳスペクトルを示す。
【図１ａ】
【図１ｂ】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＭＡＬＤＩ分析のためのサンプルプレートであって、該サンプルプレートは、第一の表面を有する導電性の基板を備え、該第一の表面の少なくとも一部が、疎水性コーティングおよびマトリックスと境界ポリマーとの薄膜混合物のコーティングを含む複合コーティングでコーティングされている、サンプルプレート。
【請求項２】
前記基板が、ステンレス鋼製である、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項３】
前記マトリックスが、αシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸である、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項４】
前記境界ポリマーが、ニトロセルロースである、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項５】
レーザー脱離によるイオン化の際に、質量電荷比が１，０００ダルトンより少ないマトリックスイオンは抑制される、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項６】
前記疎水性コーティングが、パラフィン組成物、脂質、脂肪酸、エステル、シリコンオイルもしくはワックスのうちのいずれか１つ、またはそれらの組み合わせの一体型コーティング、あるいは金属表面をきれいにし、かつ保護するために設計された前述のものの混合物を含む光沢剤を含む、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項７】
ＭＡＬＤＩ ＭＳ分析またはＭＳ−ＭＳ分析のためのサンプルプレートを作製するためのプロセスであって、該プロセスは、導電性の基板の第一の表面上に疎水性コーティングを形成する工程；ならびに、該第一の表面および該疎水性コーティング上に、マトリックスおよび境界ポリマーを含有する溶液中の混合物を用いて、第二のコーティングを形成し、該基板上に複合コーティングを形成する工程、を包含する、プロセス。
【請求項８】
前記マトリックスおよび境界ポリマーの混合物が、αシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸およびニトロセルロースの混合物であり、該混合物のどちらの構成成分も、約１ｍｇ／ｍＬと約２ｍｇ／ｍＬとの間の濃度である、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】
前記マトリックスおよび境界ポリマー混合物が、アセトン中のαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸およびニトロセルロースの混合物である、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記疎水性コーティングが、パラフィン組成物、脂質、脂肪酸、エステル、シリコンオイルもしくはワックスのうちのいずれか１つ、またはそれらの組み合わせの一体型コーティング、あるいは金属表面をきれいにし、かつ保護するために設計された前述のものの混合物を含む光沢剤を含む、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記導電性の基板が、ステンレス鋼である、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１２】
レーザー脱離によるイオン化の際に、質量電荷比が１，０００ダルトンより少ないマトリックスイオンは抑制される、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１】
ＭＡＬＤＩ分析のためのサンプルプレートであって、該サンプルプレートは、第一の表面を有する導電性の基板を備え、該第一の表面の少なくとも一部が、疎水性コーティングおよびマトリックスと境界ポリマーとの薄膜混合物のコーティングを含む複合コーティングでコーティングされている、サンプルプレート。
【請求項２】
前記基板が、ステンレス鋼製である、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項３】
前記マトリックスが、αシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸である、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項４】
前記境界ポリマーが、ニトロセルロースである、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項５】
レーザー脱離によるイオン化の際に、質量電荷比が１，０００ダルトンより少ないマトリックスイオンは抑制される、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項６】
前記疎水性コーティングが、パラフィン組成物、脂質、脂肪酸、エステル、シリコンオイルもしくはワックスのうちのいずれか１つ、またはそれらの組み合わせの一体型コーティング、あるいは金属表面をきれいにし、かつ保護するために設計された前述のものの混合物を含む光沢剤を含む、請求項１に記載のサンプルプレート。
【請求項７】
ＭＡＬＤＩ ＭＳ分析またはＭＳ−ＭＳ分析のためのサンプルプレートを作製するためのプロセスであって、該プロセスは、導電性の基板の第一の表面上に疎水性コーティングを形成する工程；ならびに、該第一の表面および該疎水性コーティング上に、マトリックスおよび境界ポリマーを含有する溶液中の混合物を用いて、第二のコーティングを形成し、該基板上に複合コーティングを形成する工程、を包含する、プロセス。
【請求項８】
前記マトリックスおよび境界ポリマーの混合物が、αシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸およびニトロセルロースの混合物であり、該混合物のどちらの構成成分も、約１ｍｇ／ｍＬと約２ｍｇ／ｍＬとの間の濃度である、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】
前記マトリックスおよび境界ポリマー混合物が、アセトン中のαシアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸およびニトロセルロースの混合物である、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記疎水性コーティングが、パラフィン組成物、脂質、脂肪酸、エステル、シリコンオイルもしくはワックスのうちのいずれか１つ、またはそれらの組み合わせの一体型コーティング、あるいは金属表面をきれいにし、かつ保護するために設計された前述のものの混合物を含む光沢剤を含む、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記導電性の基板が、ステンレス鋼である、請求項７に記載のプロセス。
【請求項１２】
レーザー脱離によるイオン化の際に、質量電荷比が１，０００ダルトンより少ないマトリックスイオンは抑制される、請求項７に記載のプロセス。
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公表番号】特表２００７−５０２９８０（Ｐ２００７−５０２９８０Ａ）
【公表日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５２３８９８（Ｐ２００６−５２３８９８）
【出願日】平成１６年８月９日（２００４．８．９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００４／０２５６３１
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０２２５８３
【国際公開日】平成１７年３月１０日（２００５．３．１０）
【出願人】（５０５１２３６９７）アプレラ コーポレイション (21)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年８月９日（２００４．８．９）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００４／０２５６３１
【国際公開番号】ＷＯ２００５／０２２５８３
【国際公開日】平成１７年３月１０日（２００５．３．１０）
【出願人】（５０５１２３６９７）アプレラ コーポレイション (21)
【Ｆターム（参考）】
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