ＳＧＬＴの阻害物質として有用な化合物の調製方法
本発明は、腸又は腎臓に存在しているナトリウム−グルコース共輸送体（ＳＧＬＴ）に対して阻害活性を有する化合物の新規製造方法を目的とする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
【化１】
式中、環Ａ及び環Ｂが以下の
（１）環Ａは所望により置換された不飽和の単環式複素環であり、かつ環Ｂは所望により置換された不飽和の単環式複素環、所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環、又は所望により置換されたベンゼン環である；あるいは
（２）環Ａは所望により置換されたベンゼン環であり、かつ環Ｂは所望により置換された不飽和の単環式複素環、又は所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環であり、式中、Ｙは前記縮合ヘテロ二環式複素環の複素環と結合している；あるいは
（３）環Ａは所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環であり、式中、糖部分Ｘ−（糖）及び部分−Ｙ−（環Ｂ）は両方とも、前記縮合ヘテロ二環式複素環の同じ複素環にあり、かつ環Ｂは所望により置換された不飽和の単環式複素環、所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環、又は所望により置換されたベンゼン環である；のうちの１つであり、
Ｘは炭素原子であり、
Ｙは−（ＣＨ2）n−であり、ここでｎは１又は２であり、
但し環ＡにおいてはＸは不飽和結合の一部である、式（Ｉ）の化合物
あるいはそれらの薬剤として許容される塩又は溶媒和物の、調製プロセスであって、
【化２】
式中、Ｑ0がブロモ又はヨードである式Ｘの化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、約周囲温度〜約−７８℃の範囲の温度にて、ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体と、又はＣ1〜4アルキルマグネシウムクロリドと塩化リチウムの複合体と、又はＣ1〜4アルキルマグネシウムブロミドと塩化リチウムの複合体と反応させて、式中、Ｑ1が、対応するＭｇＣｌ又はＭｇＢｒである、対応する式（ＸＩ）の化合物を生成させることと、
【化３】
前記式（ＸＩ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、約周囲温度〜約−７８℃の範囲の温度にて、式中、Ｚは酸素保護基である式（ＸＩＩ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＩＩＩ）の化合物を生成させることと、
【化４】
前記式（ＸＩＩＩ）の化合物と反応させて、対応する式（Ｉ）の化合物を生成させることと、を含む、プロセス。
【請求項２】
【化５】
前記式（ＸＩＩＩ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、トリアルキルシランの存在下で、約０℃〜約還流温度の範囲の温度にてルイス酸と反応させて、対応する式（ＸＩＶ）の化合物を生成させることと、
【化６】
前記式（ＸＩＶ）の化合物を脱保護して、対応する式（Ｉ）の化合物を生成させることと、を更に含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
Ｘは炭素原子であり、
環Ａは４−メチルフェニル及び４−クロロフェニルからなる群から選択され、
Ｙは−ＣＨ2−であり、かつ環Ａの３位に結合し、
環Ｂは２−（５−（４−フルオロフェニル）−チエニル）及び２−（５−（６−フルオロ−ピリド−３−イル）−チエニル）からなる群から選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記式（Ｘ）の化合物をジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体と反応させ、ここで、前記ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体はジ（ｓｅｃ−ブチル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体であり、式中、Ｑ1がＭｇＣｌである、対応する式（ＸＩ）の化合物を生成させる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
式（Ｉ−Ｓ）の化合物
【化７】
あるいはそれらの溶媒和物の、調製プロセスであって、
【化８】
式中、Ｑ0がブロモ又はヨードである式（Ｘ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、約周囲温度〜約−７８℃の範囲の温度にて、ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体と、又はＣ1〜4アルキルマグネシウムクロリドと塩化リチウムの複合体と、又はＣ1〜4アルキルマグネシウムブロミドと塩化リチウムの複合体と反応させて、式中、Ｑ1が、対応するＭｇＣｌ又はＭｇＢｒである、対応する式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を生成させることと、
【化９】
前記式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、約周囲温度〜約−７８℃の範囲の温度にて、式中、Ｚは酸素保護基である式（ＸＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を生成させることと、
【化１０】
前記式（ＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を反応させて、対応する式（Ｉ−Ｓ）の化合物を生成させることと、を含む、プロセス。
【請求項６】
【化１１】
前記式（ＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、シラン剤の存在下で、約０℃〜約還流温度の範囲の温度にてルイス酸と反応させて、対応する式（ＸＩＶ−Ｓ）の化合物を生成させることと、
【化１２】
前記式（ＸＩＶ−Ｓ）の化合物を脱保護して、対応する式（Ｉ−Ｓ）の化合物を生成させることと、を更に含む、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
前記ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体、又は前記Ｃ1〜4アルキルマグネシウムクロリドと塩化リチウムの複合体、又は前記Ｃ1〜4アルキルマグネシウムブロミドと塩化リチウムの複合体が、約１．０〜約１．５モル当量の範囲の量で存在する、請求項５に記載のプロセス。
【請求項８】
前記式（Ｘ−Ｓ）の化合物をジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体と反応させ、ここで、前記ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体はジ（ｓｅｃ−ブチル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体であり、式中、Ｑ1がＭｇＣｌである、対応する式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を生成させる、請求項５に記載のプロセス。
【請求項９】
前記ジ（ｓｅｃ−ブチル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体が、約１．０〜約１．５モル当量の範囲の量で存在する、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
Ｚがアセチル、ベンジル、ベンゾイル、ピバロイル及びイソブチリルからなる群から選択される、請求項５に記載のプロセス。
【請求項１１】
Ｚがアセチルである、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記式（ＸＩＩ−Ｓ）の化合物が、約１．０〜約２．０モル当量の範囲の量で存在する、請求項５に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を前記式（ＸＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させるときに、前記式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中の前記式（ＸＩＩ−Ｓ）の化合物の混合物に加える、請求項５に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記ルイス酸がＢＦ3・ＯＥｔ2、ＢＦ3・ＴＨＦ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛及び塩化鉄からなる群から選択され、前記シランがトリエチルシラン、トリイソプロピルシラン及びテトラメチルジシロキサンからなる群から選択される、請求項６に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記ルイス酸が塩化アルミニウムであり、前記塩化アルミニウムが約０．５〜約２．５モル当量の範囲の量で存在する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記シラン剤がテトラメチルジシロキサンであり、前記テトラメチルジシロキサンが約１．０〜約２．５モル当量の範囲の量で存在する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記ルイス酸が塩化アルミニウムであり、前記シラン剤がテトラメチルジシロキサンであり、前記塩化アルミニウムとテトラメチルジシロキサンのモル比が約１：１．２５である、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１８】
式（Ｉ−Ｓ）
【化１３】
の化合物の再結晶化プロセスであって、
工程Ａ：式（Ｉ−Ｓ）の化合物を有機溶媒に溶解させる工程と、
工程Ｂ：前記工程Ａの混合物を、約２５℃〜約４５℃の範囲の温度へと加熱する工程と、
工程Ｃ：前記工程Ｂで調製した混合物に水を加える工程であって、加える水の量が好ましくは約１．０〜約２．０モル当量の範囲の量である、水を加える工程と、
工程Ｄ：貧溶媒を工程Ｃで調製した前記混合物に加え、前記式（Ｉ−Ｓ）の化合物の沈殿物を生成させる工程と、を含む、プロセス。
【請求項１９】
式（Ｉ−Ｓ）
【化１４】
の化合物の再結晶化プロセスであって、
工程Ａ：式（Ｉ−Ｓ）の化合物を有機溶媒に溶解させる工程と、
工程Ｂ：前記工程Ａで調製した混合物に水を加える工程であって、加える水の量が好ましくは約１．０〜約２．０モル当量の範囲の量である、水を加える工程と、
工程Ｃ：前記工程Ｂの混合物を、約４０℃〜約６５℃の範囲の温度へと加熱する工程と、
工程Ｄ：工程Ｃで調製した前記混合物を冷却して、前記式（Ｉ−Ｓ）の化合物を生成させる工程と、を含む、プロセス。
【請求項２０】
式（ＸＶＩＩＩ−Ｓ）
【化１５】
の化合物の調製プロセスであって、
【化１６】
式中、Ｑ2がブロモ、クロロ又はヨードである式（ＸＶＩ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒中でマグネシウム剤と反応させて、式中、Ｑ3が、対応するグリニャール種である、対応する式（ＸＶＩＩ−Ｓ）の化合物を生成させることと；
【化１７】
式（ＸＶ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒中で、Ｎｉ又はＰｄ触媒の存在下で、前記式（ＸＶＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＶＩＩＩ−Ｓ）の化合物を生成させることと、を含む、プロセス。
【請求項２１】
式中、Ｑ2がブロモであり、Ｑ3がＭｇＢｒである、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記マグネシウム剤がマグネシウムである、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記Ｎｉ又はＰｄ触媒がＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）である、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２４】
前記式（ＸＶ−Ｓ）の化合物を、配位子の存在下で前記式（ＸＶＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させる、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２５】
前記Ｎｉ又はＰｄ触媒がＰｄ（ＯＡｃ）2であり、前記配位子が１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンである、請求項２４に記載のプロセス。
【請求項２６】
【化１８】
前記式（ＸＶＩＩＩ−Ｓ）の化合物を、式中、Ｑ0がブロモ又はヨードである式（ＸＩＸ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＸ−Ｓ）の化合物を生成させることと、
【化１９】
前記式（ＸＸ−Ｓ）の化合物を還元して、対応する式（Ｘ−Ｓ）の化合物を生成させることと、を更に含む、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２７】
式中、Ｑ0がヨードである、請求項２６に記載のプロセス。
【請求項２８】
【化２０】
式中、
ＲAはハロゲン又は低級アルキルであり、
環Ｃは、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ−低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ−低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、及びモノ−若しくはジ−低級アルキルカルバモイルからなる群から選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニルであり、
又は、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ−低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ−低級アルコキシ、モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、及びモノ−若しくはジ−低級アルキルカルバモイルからなる群から選択される１〜３個の置換基で置換されたヘテロシクリルである、
式（ＩＡ’）の化合物、あるいはこれらの薬剤として許容される塩の調製プロセスであって、
【化２１】
式中、Ｘ0がＣｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＣｌ・ＬｉＣｌからなる群から選択される式（Ｌ）の化合物、あるいは式（ＬＩ）の化合物を、式中、Ｒ1がトリ−低級アルキルシリルである式（ＬＩＩ）の化合物と反応させて、対応する式（ＬＩＩＩ）の化合物を生成させる工程と、
【化２２】
前記式（ＬＩＩＩ）の化合物を、酸の存在下で、式中、Ｒ2が低級アルキルである式（ＬＩＶ）のアルコールと反応させて対応する式（ＬＶ）の化合物を生成させる工程と、
【化２３】
前記式（ＬＶ）の化合物上のヒドロキシル基を保護して、式中、各Ｒ3が酸素保護基である対応する式（ＬＶＩ）の化合物を生成させる工程と、
【化２４】
前記式（ＬＶＩ）の化合物を還元して、対応する式（ＬＶＩＩ）の化合物を生成させる工程と、
【化２５】
前記式（ＬＶＩＩ）の化合物の酸素保護基を除去して、対応する式（ＩＡ’）の化合物を生成させる工程と、を含む、プロセス。
【請求項２９】
Ｒ1がトリメチルシリルであり、Ｒ2がメチル又はエチルであり、Ｒ3がアセチルである、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３０】
前記式（ＬＩＶ）のアルコールがメタノール又はエタノールであり、前記酸が有機酸である、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３１】
前記式（ＬＶＩ）の化合物を、酸の存在下でシラン剤と反応させることで還元する、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３２】
前記シラン剤がトリ−低級アルキルシランであり、前記酸がルイス酸である、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項１】
【化１】
式中、環Ａ及び環Ｂが以下の
（１）環Ａは所望により置換された不飽和の単環式複素環であり、かつ環Ｂは所望により置換された不飽和の単環式複素環、所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環、又は所望により置換されたベンゼン環である；あるいは
（２）環Ａは所望により置換されたベンゼン環であり、かつ環Ｂは所望により置換された不飽和の単環式複素環、又は所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環であり、式中、Ｙは前記縮合ヘテロ二環式複素環の複素環と結合している；あるいは
（３）環Ａは所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環であり、式中、糖部分Ｘ−（糖）及び部分−Ｙ−（環Ｂ）は両方とも、前記縮合ヘテロ二環式複素環の同じ複素環にあり、かつ環Ｂは所望により置換された不飽和の単環式複素環、所望により置換された不飽和の縮合ヘテロ二環式複素環、又は所望により置換されたベンゼン環である；のうちの１つであり、
Ｘは炭素原子であり、
Ｙは−（ＣＨ2）n−であり、ここでｎは１又は２であり、
但し環ＡにおいてはＸは不飽和結合の一部である、式（Ｉ）の化合物
あるいはそれらの薬剤として許容される塩又は溶媒和物の、調製プロセスであって、
【化２】
式中、Ｑ0がブロモ又はヨードである式Ｘの化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、約周囲温度〜約−７８℃の範囲の温度にて、ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体と、又はＣ1〜4アルキルマグネシウムクロリドと塩化リチウムの複合体と、又はＣ1〜4アルキルマグネシウムブロミドと塩化リチウムの複合体と反応させて、式中、Ｑ1が、対応するＭｇＣｌ又はＭｇＢｒである、対応する式（ＸＩ）の化合物を生成させることと、
【化３】
前記式（ＸＩ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、約周囲温度〜約−７８℃の範囲の温度にて、式中、Ｚは酸素保護基である式（ＸＩＩ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＩＩＩ）の化合物を生成させることと、
【化４】
前記式（ＸＩＩＩ）の化合物と反応させて、対応する式（Ｉ）の化合物を生成させることと、を含む、プロセス。
【請求項２】
【化５】
前記式（ＸＩＩＩ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、トリアルキルシランの存在下で、約０℃〜約還流温度の範囲の温度にてルイス酸と反応させて、対応する式（ＸＩＶ）の化合物を生成させることと、
【化６】
前記式（ＸＩＶ）の化合物を脱保護して、対応する式（Ｉ）の化合物を生成させることと、を更に含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
Ｘは炭素原子であり、
環Ａは４−メチルフェニル及び４−クロロフェニルからなる群から選択され、
Ｙは−ＣＨ2−であり、かつ環Ａの３位に結合し、
環Ｂは２−（５−（４−フルオロフェニル）−チエニル）及び２−（５−（６−フルオロ−ピリド−３−イル）−チエニル）からなる群から選択される、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記式（Ｘ）の化合物をジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体と反応させ、ここで、前記ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体はジ（ｓｅｃ−ブチル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体であり、式中、Ｑ1がＭｇＣｌである、対応する式（ＸＩ）の化合物を生成させる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項５】
式（Ｉ−Ｓ）の化合物
【化７】
あるいはそれらの溶媒和物の、調製プロセスであって、
【化８】
式中、Ｑ0がブロモ又はヨードである式（Ｘ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、約周囲温度〜約−７８℃の範囲の温度にて、ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体と、又はＣ1〜4アルキルマグネシウムクロリドと塩化リチウムの複合体と、又はＣ1〜4アルキルマグネシウムブロミドと塩化リチウムの複合体と反応させて、式中、Ｑ1が、対応するＭｇＣｌ又はＭｇＢｒである、対応する式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を生成させることと、
【化９】
前記式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、約周囲温度〜約−７８℃の範囲の温度にて、式中、Ｚは酸素保護基である式（ＸＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を生成させることと、
【化１０】
前記式（ＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を反応させて、対応する式（Ｉ−Ｓ）の化合物を生成させることと、を含む、プロセス。
【請求項６】
【化１１】
前記式（ＸＩＩＩ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中で、シラン剤の存在下で、約０℃〜約還流温度の範囲の温度にてルイス酸と反応させて、対応する式（ＸＩＶ−Ｓ）の化合物を生成させることと、
【化１２】
前記式（ＸＩＶ−Ｓ）の化合物を脱保護して、対応する式（Ｉ−Ｓ）の化合物を生成させることと、を更に含む、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
前記ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体、又は前記Ｃ1〜4アルキルマグネシウムクロリドと塩化リチウムの複合体、又は前記Ｃ1〜4アルキルマグネシウムブロミドと塩化リチウムの複合体が、約１．０〜約１．５モル当量の範囲の量で存在する、請求項５に記載のプロセス。
【請求項８】
前記式（Ｘ−Ｓ）の化合物をジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体と反応させ、ここで、前記ジ（Ｃ1〜4アルキル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体はジ（ｓｅｃ−ブチル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体であり、式中、Ｑ1がＭｇＣｌである、対応する式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を生成させる、請求項５に記載のプロセス。
【請求項９】
前記ジ（ｓｅｃ−ブチル）マグネシウムと塩化リチウムの複合体が、約１．０〜約１．５モル当量の範囲の量で存在する、請求項８に記載のプロセス。
【請求項１０】
Ｚがアセチル、ベンジル、ベンゾイル、ピバロイル及びイソブチリルからなる群から選択される、請求項５に記載のプロセス。
【請求項１１】
Ｚがアセチルである、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記式（ＸＩＩ−Ｓ）の化合物が、約１．０〜約２．０モル当量の範囲の量で存在する、請求項５に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を前記式（ＸＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させるときに、前記式（ＸＩ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒又はそれらの混合物中の前記式（ＸＩＩ−Ｓ）の化合物の混合物に加える、請求項５に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記ルイス酸がＢＦ3・ＯＥｔ2、ＢＦ3・ＴＨＦ、塩化アルミニウム、塩化亜鉛及び塩化鉄からなる群から選択され、前記シランがトリエチルシラン、トリイソプロピルシラン及びテトラメチルジシロキサンからなる群から選択される、請求項６に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記ルイス酸が塩化アルミニウムであり、前記塩化アルミニウムが約０．５〜約２．５モル当量の範囲の量で存在する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記シラン剤がテトラメチルジシロキサンであり、前記テトラメチルジシロキサンが約１．０〜約２．５モル当量の範囲の量で存在する、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記ルイス酸が塩化アルミニウムであり、前記シラン剤がテトラメチルジシロキサンであり、前記塩化アルミニウムとテトラメチルジシロキサンのモル比が約１：１．２５である、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１８】
式（Ｉ−Ｓ）
【化１３】
の化合物の再結晶化プロセスであって、
工程Ａ：式（Ｉ−Ｓ）の化合物を有機溶媒に溶解させる工程と、
工程Ｂ：前記工程Ａの混合物を、約２５℃〜約４５℃の範囲の温度へと加熱する工程と、
工程Ｃ：前記工程Ｂで調製した混合物に水を加える工程であって、加える水の量が好ましくは約１．０〜約２．０モル当量の範囲の量である、水を加える工程と、
工程Ｄ：貧溶媒を工程Ｃで調製した前記混合物に加え、前記式（Ｉ−Ｓ）の化合物の沈殿物を生成させる工程と、を含む、プロセス。
【請求項１９】
式（Ｉ−Ｓ）
【化１４】
の化合物の再結晶化プロセスであって、
工程Ａ：式（Ｉ−Ｓ）の化合物を有機溶媒に溶解させる工程と、
工程Ｂ：前記工程Ａで調製した混合物に水を加える工程であって、加える水の量が好ましくは約１．０〜約２．０モル当量の範囲の量である、水を加える工程と、
工程Ｃ：前記工程Ｂの混合物を、約４０℃〜約６５℃の範囲の温度へと加熱する工程と、
工程Ｄ：工程Ｃで調製した前記混合物を冷却して、前記式（Ｉ−Ｓ）の化合物を生成させる工程と、を含む、プロセス。
【請求項２０】
式（ＸＶＩＩＩ−Ｓ）
【化１５】
の化合物の調製プロセスであって、
【化１６】
式中、Ｑ2がブロモ、クロロ又はヨードである式（ＸＶＩ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒中でマグネシウム剤と反応させて、式中、Ｑ3が、対応するグリニャール種である、対応する式（ＸＶＩＩ−Ｓ）の化合物を生成させることと；
【化１７】
式（ＸＶ−Ｓ）の化合物を、有機溶媒中で、Ｎｉ又はＰｄ触媒の存在下で、前記式（ＸＶＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＶＩＩＩ−Ｓ）の化合物を生成させることと、を含む、プロセス。
【請求項２１】
式中、Ｑ2がブロモであり、Ｑ3がＭｇＢｒである、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記マグネシウム剤がマグネシウムである、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記Ｎｉ又はＰｄ触媒がＮｉＣｌ2（ｄｐｐｅ）である、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２４】
前記式（ＸＶ−Ｓ）の化合物を、配位子の存在下で前記式（ＸＶＩＩ−Ｓ）の化合物と反応させる、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２５】
前記Ｎｉ又はＰｄ触媒がＰｄ（ＯＡｃ）2であり、前記配位子が１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンである、請求項２４に記載のプロセス。
【請求項２６】
【化１８】
前記式（ＸＶＩＩＩ−Ｓ）の化合物を、式中、Ｑ0がブロモ又はヨードである式（ＸＩＸ−Ｓ）の化合物と反応させて、対応する式（ＸＸ−Ｓ）の化合物を生成させることと、
【化１９】
前記式（ＸＸ−Ｓ）の化合物を還元して、対応する式（Ｘ−Ｓ）の化合物を生成させることと、を更に含む、請求項２０に記載のプロセス。
【請求項２７】
式中、Ｑ0がヨードである、請求項２６に記載のプロセス。
【請求項２８】
【化２０】
式中、
ＲAはハロゲン又は低級アルキルであり、
環Ｃは、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ−低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ−低級アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンオキシ、モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、及びモノ−若しくはジ−低級アルキルカルバモイルからなる群から選択される１〜３個の置換基で置換されたフェニルであり、
又は、ハロゲン、シアノ、低級アルキル、ハロ−低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ−低級アルコキシ、モノ−若しくはジ−低級アルキルアミノ、カルバモイル、及びモノ−若しくはジ−低級アルキルカルバモイルからなる群から選択される１〜３個の置換基で置換されたヘテロシクリルである、
式（ＩＡ’）の化合物、あるいはこれらの薬剤として許容される塩の調製プロセスであって、
【化２１】
式中、Ｘ0がＣｌ、Ｂｒ、Ｉ及びＣｌ・ＬｉＣｌからなる群から選択される式（Ｌ）の化合物、あるいは式（ＬＩ）の化合物を、式中、Ｒ1がトリ−低級アルキルシリルである式（ＬＩＩ）の化合物と反応させて、対応する式（ＬＩＩＩ）の化合物を生成させる工程と、
【化２２】
前記式（ＬＩＩＩ）の化合物を、酸の存在下で、式中、Ｒ2が低級アルキルである式（ＬＩＶ）のアルコールと反応させて対応する式（ＬＶ）の化合物を生成させる工程と、
【化２３】
前記式（ＬＶ）の化合物上のヒドロキシル基を保護して、式中、各Ｒ3が酸素保護基である対応する式（ＬＶＩ）の化合物を生成させる工程と、
【化２４】
前記式（ＬＶＩ）の化合物を還元して、対応する式（ＬＶＩＩ）の化合物を生成させる工程と、
【化２５】
前記式（ＬＶＩＩ）の化合物の酸素保護基を除去して、対応する式（ＩＡ’）の化合物を生成させる工程と、を含む、プロセス。
【請求項２９】
Ｒ1がトリメチルシリルであり、Ｒ2がメチル又はエチルであり、Ｒ3がアセチルである、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３０】
前記式（ＬＩＶ）のアルコールがメタノール又はエタノールであり、前記酸が有機酸である、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３１】
前記式（ＬＶＩ）の化合物を、酸の存在下でシラン剤と反応させることで還元する、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３２】
前記シラン剤がトリ−低級アルキルシランであり、前記酸がルイス酸である、請求項２８に記載のプロセス。
【公表番号】特表２０１２−５０５８５８（Ｐ２０１２−５０５８５８Ａ）
【公表日】平成２４年３月８日（２０１２．３．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５３１４８９（Ｐ２０１１−５３１４８９）
【出願日】平成２１年１０月１５日（２００９．１０．１５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００９／０６３５０３
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０４３６８２
【国際公開日】平成２２年４月２２日（２０１０．４．２２）
【出願人】（３９００３３００８）ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ (616)
【氏名又は名称原語表記】ＪＡＮＳＳＥＮ ＰＨＡＲＭＡＣＥＵＴＩＣＡ ＮＡＡＭＬＯＺＥ ＶＥＮＮＯＯＴＳＣＨＡＰ
【出願人】（０００００２９５６）田辺三菱製薬株式会社 (225)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年３月８日（２０１２．３．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月１５日（２００９．１０．１５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００９／０６３５０３
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／０４３６８２
【国際公開日】平成２２年４月２２日（２０１０．４．２２）
【出願人】（３９００３３００８）ジヤンセン・フアーマシユーチカ・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ (616)
【氏名又は名称原語表記】ＪＡＮＳＳＥＮ ＰＨＡＲＭＡＣＥＵＴＩＣＡ ＮＡＡＭＬＯＺＥ ＶＥＮＮＯＯＴＳＣＨＡＰ
【出願人】（０００００２９５６）田辺三菱製薬株式会社 (225)
【Ｆターム（参考）】
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