ＴＲＰＶ３機能調節用化合物
【課題】ＴＲＰファミリーメンバーを調節する方法と組成を提供する。
【解決手段】ＴＲＰＶ３の活性化を含む病状の治療又は予防方法であって、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流(current)を抑制する有効量の化合物投与を含む方法。
【解決手段】ＴＲＰＶ３の活性化を含む病状の治療又は予防方法であって、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流(current)を抑制する有効量の化合物投与を含む方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＲＰＶ３の活性化を含む病状の治療又は予防方法であって、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流(current)を抑制する有効量の化合物投与を含む方法。
【請求項２】
前記化合物が１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介内向き電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項３】
前記化合物が１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介外向き電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項４】
前記化合物が５マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流の少なくとも９５％を抑制する請求項１の方法。
【請求項５】
前記化合物が一以上のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びｈＥＲＧチャネル活性抑制でのＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項１の方法。
【請求項６】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項１の方法。
【請求項７】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５の方法。
【請求項８】
前記化合物が１０マイクロモルを超えるＩＣ50でＴＲＰＶ１を抑制する請求項１の方法。
【請求項９】
前記化合物が１０マイクロモルを超えるＩＣ50でＴＲＰＶ１を抑制する請求項５の方法。
【請求項１０】
前記化合物が５００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項１の方法。
【請求項１１】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項１の方法。
【請求項１２】
病状を前記化合物で治療する治療指数が１０以上である請求項１の方法。
【請求項１３】
前記薬剤が分子量２０００原子質量単位（amu）以下を有する有機化合物である請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項１４】
前記薬剤を一以上の抗炎症薬、抗瘢痕薬、抗乾癬薬、抗増殖薬、抗真菌薬、抗ウイルス薬、消毒薬又は角質溶解薬と共に投与する請求項１の方法。
【請求項１５】
前記薬剤を局所投与する請求項１〜１２及び１４のいずれか１項の方法。
【請求項１６】
前記薬剤を経口投与する請求項１〜１２及び１４のいずれか１項の方法。
【請求項１７】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、そう痒過敏症の徴候の予防、治療若しくは緩和、又は火傷治療の一部として用いる請求項１〜１２及び１４のいずれか１項の方法。
【請求項１８】
前記疼痛が術後疼痛、癌疼痛又は神経障害性疼痛である請求項１７の方法。
【請求項１９】
前記薬剤を局所投与する請求項１７の方法。
【請求項２０】
前記薬剤を経口投与する請求項１７の方法。
【請求項２１】
前記薬剤を経皮、非経口、直腸内、膣内、鼻腔内、眼内、静脈内、筋肉内、動脈内、髄腔内、関節内、眼窩内、心臓内、皮内、腹腔内、経気管、皮下、角質下、関節内、嚢下、くも膜下、髄腔内、胸骨内経由又は吸入により投与する請求項１２の方法。
【請求項２２】
偏頭痛症状の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２３】
糖尿病性神経障害、炎症、過敏性腸症候群、クローン病、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、失禁、膀胱失禁、膀胱炎、熱病、のぼせ及び咳からなる群から選ばれる障害又は病状の徴候の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２４】
変形性関節症症状の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２５】
関節リュウマチ症状の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２６】
口腔粘膜炎症状の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２７】
患者の脱毛を促進するか育毛を抑制する脱毛術として用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２８】
前記薬剤を局所的、経口、非経口、経皮、直腸内、膣内、鼻腔内、眼内、静脈内、筋肉内、動脈内、髄腔内、関節内、眼窩内、心臓内、皮内、腹腔内、経気管、皮下、角質下、関節内、嚢下、くも膜下、髄腔内、胸骨内経由又は吸入により投与する請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２９】
前記化合物が１マイクロモル以下のＩＣ50で熱誘起ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項３０】
前記薬剤が１マイクロモル以下のＩＣ50で第１相と第２相両方のＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項３１】
前記薬剤が１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介の内向きと外向き電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項３２】
前記薬剤がＴＲＰＶ３と結合する請求項１の方法。
【請求項３３】
前記薬剤が１０マイクロモル以下のＩＣ50で一以上のＴＲＰＶ２，ＴＲＰＶ４、ＡＮＫＴＭ１及び／又はＴＲＰＭ８を抑制する請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項３４】
ＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる薬物の製造における、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介内向き電流を抑制する小分子薬剤の使用方法。
【請求項３５】
ＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる薬物の製造における、一以上のＴＲＰＶ５機能、ＴＲＰＶ６機能、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ機能及びＨＥＲＧ機能抑制でのＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する小分子薬剤の使用方法。
【請求項３６】
ＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる薬物の製造における、１マイクロモル以下のＩＣ50で熱誘起ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する小分子薬剤の使用方法。
【請求項３７】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、炎症、失禁、熱病、のぼせ及び／又は咳の予防、治療又は緩和するための薬物の製造における、請求項３４〜３６のいずれか１項の使用方法。
【請求項３８】
前記薬剤がＴＲＰＶ３と結合する請求項３４〜３６のいずれか１項の使用方法。
【請求項３９】
１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介内向き電流を抑制する薬剤と
薬学的に適用可能な賦形剤又は溶媒を含む医薬品製剤であり、
前記薬剤がＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる有効量を与える投薬剤形であるが、その薬剤は患者にＱＴ間隔延長を起こさない医薬品製剤。
【請求項４０】
一以上のＴＲＰＶ５機能、ＴＲＰＶ６機能、ＮａＶ１．２機能、ミトコンドリアユニポータ機能及びＨＥＲＧ機能抑制でのＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する薬剤と
薬学的に適用可能な賦形剤又は溶媒を含む医薬品製剤であり、
該薬剤がＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる有効量を与える投薬剤形であるが、ＱＴ間隔延長を起こさない医薬品製剤。
【請求項４１】
１マイクロモル以下のＩＣ50で熱誘起ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する薬剤と
薬学的に適用可能な賦形剤又は溶媒を含む医薬品製剤であり、
該薬剤がＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる有効量を与える投薬剤形であるが、ＱＴ間隔延長を起こさない医薬品製剤。
【請求項４２】
前記薬剤がＴＲＰＶ３と結合する請求項３９〜４１のいずれか１項の医薬品製剤。
【請求項４３】
前記薬剤が患者の体温調節を変えない請求項３９〜４１のいずれか１項の医薬品製剤。
【請求項４４】
２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤を含む皮膚又は粘膜でのＴＲＰＶ３活性を減少する局所用調合物。
【請求項４５】
前記薬剤がＴＲＰＶ３と結合する請求項４４の局所用調合物。
【請求項４６】
（i）高分子性基材と（ii）２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤を含む取り外し可能なパッチ又は包帯。
【請求項４７】
動物被験体の局所塗布用皮膚剥脱用組成物であり、下記を含む組成物：
局所ビヒクル；
カルボン酸類、ケト酸類、α−ヒドロキシ酸類、β−ヒドロキシ酸類、レチノイド類、過酸化物類及び有機アルコール類からなる群から選ばれる一以上の皮膚剥脱成分であり、該一以上の該皮膚剥脱剤成分が少なくとも全量の１２重量％で含有され、該被験体の皮膚刺激を誘起し、皮膚の剥離を起こすことが可能な皮膚剥脱成分；並びに
２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤であり、該薬剤が皮膚に塗布したとき鎮痛効果、抗刺激効果及び／又は抗炎症性効果に有効量で提供される薬剤。
【請求項４８】
２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤と、経口可能な医薬担体とを含む経口投与用鎮咳組成物であり、シロップ、エリキシル、懸濁物、スプレー、トローチ剤、咀嚼可能なトローチ剤、粉末及び咀嚼可能な錠剤からなる群から選ばれる水性ベース液体状又は口中で溶解する固体形状の組成物。
【請求項４９】
前記組成物が、前記薬剤に加え、抗ヒスタミン剤、５−リポキシゲナーゼインヒビター、ロイコトリエンインヒビター、Ｈ３インヒビター、β−アドレナリン受容体アゴニスト、キサンチン誘導体、α−アドレナリン受容体アゴニスト、マスト細胞安定化剤、去痰薬、ＮＫ１タチキニン受容体アンタゴニスト、ＮＫ２タチキニン受容体アンタゴニスト、ＮＫ３タチキニン受容体アンタゴニスト及びＧＡＢＡBアゴニストからなる群から選ばれる、咳、アレルギー又は喘息症状治療用の一以上の追加薬剤を含有する請求項４８の鎮咳組成物。
【請求項５０】
２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤を含む、肺又は鼻デリバリー用エアロゾル医薬品組成物を含む定量投与用エアロゾルディスペンサー。
【請求項５１】
定量投与用吸入器、ドライパウダー吸入器又はエアジェット噴霧器内に充填された請求項５０の調合物。
【請求項５２】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少する方法で、
有効量の式Ｉの化合物、その塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１】
ここで
Ａｒはアリール又はヘテロアリール基を表し、
ＹはＰｈ，ＯＡｒ１，ＳＡｒ１又はＮ（Ｕ）（Ａｒ１）を表し、
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
ＸはＣＨ2、Ｏ、Ｓ、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
ＷはＯ、Ｓ又はＮＲ’を表し、
ｎは１か、又はＸがＣＨ2の場合はｎは１若しくは２であり、
Ａｒ１は単環か双環のアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｐｈは任意に置換又は非置換の５〜７員のシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール環と任意に縮合する置換又は非置換フェニル環を表し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、
又はＵ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、
又はＵ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環との縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項５３】
前記化合物が式Ｉの化合物で表されるか、その塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグであり；
【化２】
ここで
Ａｒはアリール又はヘテロアリール基を表し、
ＹはＰｈ，ＯＡｒ１，ＳＡｒ１又はＮ（Ｕ）（Ａｒ１）を表し、
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｗは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ’を表し、
Ａｒ１は単環か双環のアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｐｈは任意に置換又は非置換の５〜７員のシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール環と任意に縮合する置換又は非置換フェニル環を表し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、
又はＵ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、
又はＵ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環と縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５２の方法。
【請求項５４】
ＹがＮ（Ｕ）（Ａｒ１）である請求項５３の方法。
【請求項５５】
Ｙは
【化３】
を表し、
ここで
Ｒ1とＲ2はそれぞれ独立して、不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ａｒ’はアリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｒ5はＣＨ2、酸素原子、ＮＲ6を表し、
Ｒ6は水素原子又は低級アルキル基を表し、
ｎは１、２、又は３である請求項５４の方法。
【請求項５６】
Ａｒ’がフェニル、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、オキサゾール、テトラゾール、チアヂアゾール、ピリジン、ピリマジン(pyrimadine)又はトリアゾールを表す請求項５５の方法。
【請求項５７】
各Ｒ1は独立に水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、且つ各Ｒ2は独立に水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステルアミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項５５の方法。
【請求項５８】
Ｙは下式を表し、ここでＲ1とＲ2はそれぞれ独立して、不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項５５の方法。
【化４】
【請求項５９】
それぞれ独立してＲ1は、水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、且つそれぞれ独立してＲ2は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項５８の方法。
【請求項６０】
Ｙは
【化５】
を表し、
ここで
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1を表し、且つ
Ｒ2は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基を表す請求項５８の方法。
【請求項６１】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1を表し、Ｒ2は水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表す請求項６０の方法。
【請求項６２】
Ａｒは
【化６】
を表し、
ここで
Ｃｙはアリール又はヘテロアリール環を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｒ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2a）を表し、
Ｒ2aは水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表す請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項６３】
Ｃｙがフェニル、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、オキサゾール、テトラゾール、チアヂアゾール、ピリジン、ピリマジン又はトリアゾールを表す請求項６２の方法。
【請求項６４】
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項６２の方法。
【請求項６５】
Ａが窒素原子、Ｚが酸素原子又は硫黄原子を表す請求項６２の方法。
【請求項６６】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項６２の方法。
【請求項６７】
Ａｒは
【化７】
を表し、
ここで
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2、ＮＲ又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2a）を表し、
Ｒ3は不在か、それが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、Ｒ2aは水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表す請求項６２の方法。
【請求項６８】
Ｚが酸素原子又は硫黄原子を表す請求項６７の方法。
【請求項６９】
Ｒ3は不在か、又は各Ｒ3を独立に低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項６７の方法。
【請求項７０】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項６７の方法。
【請求項７１】
Ａｒは
【化８】
を表し、
ここで
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2、又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2a）を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基を表し、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ｒ2aは水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表す請求項６７の方法。
【請求項７２】
Ｚが酸素原子又は硫黄原子を表す請求項７１の方法。
【請求項７３】
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子を表す請求項７１の方法。
【請求項７４】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項７１の方法。
【請求項７５】
Ａｒは
【化９】
を表し、
ここで
Ｇ’は窒素原子又はＮ又はＣ（Ｒ5）を表し、
Ｒ3は不在か、又はＣｙの一以上の置換基を表し、
Ｒ4は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、
Ｃｙはアリール又はヘテロアリール環を表す、
請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項７６】
Ｃｙはフェニル、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、オキサゾール、テトラゾール、チアヂアゾール、ピリジン、ピリマジン又はトリアゾールを表す請求項７５の方法。
【請求項７７】
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれ、
Ｒ4とＲ5はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項７５の方法。
【請求項７８】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項７５の方法。
【請求項７９】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項８０】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項８１】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項６２の方法。
【請求項８２】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項６７の方法。
【請求項８３】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項７１の方法。
【請求項８４】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項７５の方法。
【請求項８５】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項８６】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６２の方法。
【請求項８７】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６７の方法。
【請求項８８】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７１の方法。
【請求項８９】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制でＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７５の方法。
【請求項９０】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項９１】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６２の方法。
【請求項９２】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６７の方法。
【請求項９３】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７１の方法。
【請求項９４】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７５の方法。
【請求項９５】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項９６】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６２の方法。
【請求項９７】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６７の方法。
【請求項９８】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７１の方法。
【請求項９９】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７５の方法。
【請求項１００】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項１０１】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項６２の方法。
【請求項１０２】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項６７の方法。
【請求項１０３】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項７１の方法。
【請求項１０４】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項７５の方法。
【請求項１０５】
前記化合物を一以上の抗炎症薬、抗ざ瘡剤、抗しわ剤、抗瘢痕薬、抗乾癬薬、抗増殖薬、抗真菌薬、抗ウイルス薬、消毒薬、抗偏頭痛薬、角質溶解薬又は育毛阻害剤と共に投与する請求項５３の方法。
【請求項１０６】
前記化合物が患者にＱＴ間隔延長を起こさないＴＲＰＶ３抑制に対するＩＣ50を有する請求項５３の方法。
【請求項１０７】
前記化合物が患者の体温調節を変えないＴＲＰＶ３抑制に対するＩＣ50を有する請求項５３の方法。
【請求項１０８】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式Ｖの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１０】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2、又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2、又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は不在か、それが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表し、
ここで該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１０９】
Ｘが硫黄素原子、Ｄが酸素原子を表す請求項１０８の方法。
【請求項１１０】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１０８又は１０９の方法。
【請求項１１１】
前記化合物は下式Ｖaで表され、
ここで
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１０８の方法。
【化１１】
【請求項１１２】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１１１の方法。
【請求項１１３】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１１１の方法。
【請求項１１４】
Ｒ1は水素原子、Ｒ2は水素原子又はメチルを表し環系内の窒素原子のオルソ位に位置し、Ｒ3は一以上の置換基を表し、環系内の窒素原子のメタ又はパラ位に位置する、請求項１１１の方法。
【請求項１１５】
前記化合物が下式Ｖｂで表され、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１０８の方法。
【化１２】
【請求項１１６】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2とＲ3は不在か、それぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１１５の方法。
【請求項１１７】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１１５の方法。
【請求項１１８】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が不在の請求項１１５の方法。
【請求項１１９】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式ＶＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１３】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2、又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ4は水素原子又は置換基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表し、
ここで該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１２０】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１１９の方法。
【請求項１２１】
前記化合物は下式ＶＩaで表され、
ここで
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ4は水素原子又は置換基である請求項１１９の方法。
【化１４】
【請求項１２２】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2、Ｒ3とＲ4は不在か、又はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１１９〜１２１のいずれか１項の方法。
【請求項１２３】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ4は水素原子、低級アルキル又はシアノ基から選ばれる請求項１１９〜１２１のいずれか１項の方法。
【請求項１２４】
Ｒ1とＲ2は不在で、Ｒ3は環系内の窒素原子のパラ位に位置するメトキシを表し、Ｒ4はシアノ基を表す請求項１１９〜１２１のいずれか１項の方法。
【請求項１２５】
前記化合物は式ＶＩｂで表され、
ここで
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ4は水素原子又は置換基を表す請求項１１９の方法。
【化１５】
【請求項１２６】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2、Ｒ3とＲ4は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１２５の方法。
【請求項１２７】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ4は水素原子、低級アルキル又はシアノ基から選ばれる請求項１２５の方法。
【請求項１２８】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式ＩＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１６】
ここで
Ｗは酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｘ’はＮＲ12を表し、
Ｒ12は水素原子又は低級アルキル基を表し、
ＡｒとＡｒ’は独立に置換又は非置換アリール又はヘテロアリール環を表し、
ここで該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１２９】
Ａｒがフェニル基を表す請求項１２８の方法。
【請求項１３０】
Ａｒ’がフェニル基を表す請求項１２８の方法。
【請求項１３１】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式ＩＩＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１７】
ここで
Ａｒは置換又は非置換アリール又はヘテロアリール環を表し、
Ｑは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ又はＣＨ2を表し、
Ｒはそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｒ’は水素原子、置換又は非置換の低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表し、
Ｒ”はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｖは不在か、又はＣ＝Ｏ、Ｃ＝Ｓ又はＳＯ2であり、
Ｗは＝Ｏ、＝Ｓ、アミノ、ヒドロキシル又はエーテルのような水素結合受容体を表し、
Ｅは水素原子、置換又は非置換低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキル、ハロゲン原子、カルボニル（例えばエステル、カルボキシル又はホルミル）、チオカルボニル（例えばチオエステル、チオカルボキシレート又はチオホルメート）、ケトン、アルデヒド、アミノ、アシルアミノ、アミド、アミジノ、シアノ、ニトロ、アジド、スルホニル、スルホキシド、サルフェート、スルホネート、スルファモイル、スルホンアミド又はホスホリルを表し、
ｘは０又は１を表し、ｘが０の場合にはＷとＶをそれぞれ有する二個の炭素原子は単結合又は二重結合で直接結合し、
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１３２】
Ｑは硫黄原子又はＣＨ2を表す請求項１３１の方法。
【請求項１３３】
Ｒは水素原子を表す請求項１３１の方法。
【請求項１３４】
Ｒ’は置換又は非置換アリール又はヘテロアリール環を表す請求項１３１の方法。
【請求項１３５】
Ｒ”は低級アルキルを表す請求項１３１の方法。
【請求項１３６】
ＥはＣＯ2Ｍｅ又はＣＯ2Ｅｔを表す請求項１３１の方法。
【請求項１３７】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式ＩＶの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１８】
ここで
ＡｒとＡｒ’は独立に置換又は非置換アリール又はヘテロアリール環を表し、
Ｒはそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘはそれぞれ独立して酸素原子、硫黄原子、ＮＲ、ＣＦ2又はＣＲ2を表し、
Ｍはそれぞれ独立して置換又は非置換のメチレン基を表し、
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１３８】
ＡｒとＡｒ’はフェニル又はピリジル環を表す請求項１３７の方法。
【請求項１３９】
Ｒは水素原子を表す請求項１３７の方法。
【請求項１４０】
Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表す請求項１３７の方法。
【請求項１４１】
ＭはＣＨ2を表わす請求項１３７の方法。
【請求項１４２】
ＸがＣＨ2である請求項５２の方法。
【請求項１４３】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防のためか、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できるヒト患者での使用に適した医薬品製剤であり、有効量の式Ｉの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグと一以上の薬学的に適用可能な賦形剤を含み、
【化１９】
ここで
Ａｒはアリール又はヘテロアリール基を表し、
ＹはＰｈ，ＯＡｒ１，ＳＡｒ１又はＮ（Ｕ）（Ａｒ１）を表し、
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｗは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ’を表し、
Ａｒ１は単環か双環のアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｐｈは任意に置換又は非置換の５〜７員のシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール環と任意に縮合する置換又は非置換フェニル環を表し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、
又はＵ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、
又はＵ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環との縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する医薬品製剤。
【請求項１４４】
ヒト患者での使用に適するに十分低い発熱活性を有する医薬品製剤であり、式Ｘの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグと一以上の薬学的に適用可能な賦形剤を含み、
【化２０】
ここで
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｗは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ’を表し、
Ｃｙはアリール又はヘテロアリール環を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
ＡはＮ又はＣ（Ｒ2a）を表し、
Ｒ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ａｒｌは単環又は双環でも良いアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、
又はＵ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、
又はＵ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環との縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｒ2aは水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表し
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下で一以上のバニロイド受容体ファミリーメンバーを抑制する医薬品製剤。
【請求項１４５】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防のためか、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる薬物の製造におけるＴＰＲＶ３インヒビターの使用方法であり、該ＴＲＰＶ３インヒビターが式Ｉの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグで表され、
【化２１】
ここで
Ａｒはアリール又はヘテロアリール基を表し、
ＹはＰｈ，ＯＡｒ１，ＳＡｒ１又はＮ（Ｕ）（Ａｒ１）を表し、
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｗは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ’を表し、
Ａｒ１は単環か双環のアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｐｈは任意に置換又は非置換の５〜７員のシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール環と任意に縮合する置換又は非置換フェニル環を表し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、又は
Ｕ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、又は
Ｕ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環との縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１４６】
式ＶＩＩの化合物、又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化２２】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2’は置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、且つ
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表す。
【請求項１４７】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１４６の化合物。
【請求項１４８】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2’、Ｒ2、とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１４６の化合物。
【請求項１４９】
前記化合物が式ＶＩＩaで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ2’は置換基を表す請求項１４６の化合物。
【化２３】
【請求項１５０】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ2’ は低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５１】
各Ｒ1は独立に、水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５２】
各Ｒ2は不在か、又は独立に、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５３】
Ｒ2’は、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５４】
各Ｒ3は不在か、又は独立に低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５５】
Ｒ1とＲ2は不在で、Ｒ2’はＣＨ3を表し、Ｒ3は環系内の窒素原子のメタ又はパラ位に位置する一以上の置換基を表す請求項１４９の化合物。
【請求項１５６】
前記化合物が式ＶＩＩｂで表され、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ2’は置換基を表す請求項１４６の化合物。
【化２４】
【請求項１５７】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ2’ は低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１５８】
各Ｒ1は独立に水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１５９】
Ｒ2は不在か、又は各Ｒ2は独立に低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１６０】
Ｒ2’は、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１６１】
Ｒ3は不在か、又は各Ｒ3は独立に低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１６２】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が不在な請求項１５６の化合物。
【請求項１６３】
式ＶＩＩＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化２５】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1とＲ2はそれぞれ独立して、不在か、それが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ａｒ’はアリール又はヘテロアリール基を表し、
ｎは１，２又は３を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ5はＣＨ2、酸素原子、ＮＲ6を表し、
Ｒ6は水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表す。
【請求項１６４】
Ａｒ’はフェニル、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、オキサゾール、テトラゾール、チアヂアゾール、ピリジン、ピリマジン又はトリアゾールを表す請求項１６３の化合物。
【請求項１６５】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１６３の化合物。
【請求項１６６】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１６３の化合物。
【請求項１６７】
前記化合物が式ＶＩＩＩaで表され、
ここで
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１６３の化合物。
【化２６】
【請求項１６８】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１６７の化合物。
【請求項１６９】
式ＩＸの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化２７】
ここで
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3’は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ、低級アルキル、ペルフルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はＣＨＲ3aを表し、
Ｒ3”は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル、アリール、ヘテロアリール又はＣＨＲ3aを表し、
Ｒ3aはアミノ、ヘテロシクリル、カルボキシル、エステル、アリール又はヘテロアリールを表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表し、
Ｒ’が水素原子の場合はＲ”は水素原子でも低級アルキルでもなく、Ｒ’がハロゲン原子の場合はＲ”は水素原子でないと仮定する。
【請求項１７０】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１６９の化合物。
【請求項１７１】
前記化合物が式ＩＸaで表される化合物であり
【化２８】
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2は不在か、又は置換基を表し、
Ｒ3は不在か、又は置換基を表し、
Ｒ3’は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ、低級アルキル、ペルフルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はＣＨＲ3aを表し、
Ｒ3”は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル、アリール、ヘテロアリール又はＣＨＲ3aを表し、
Ｒ3aはアミノ、ヘテロシクリル、カルボキシル、エステル、アリール又はヘテロアリールを表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表し、
Ｒ’が水素原子の場合はＲ”は水素原子でも低級アルキルでもなく、Ｒ’がハロゲン原子の場合はＲ”は水素原子でないと仮定する請求項１６９の化合物。
【請求項１７２】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１７１の化合物。
【請求項１７３】
式Ｘの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化２９】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表す。
【請求項１７４】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１７３の化合物。
【請求項１７５】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１７３の化合物。
【請求項１７６】
前記化合物が式Ｘaで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１７３の化合物。
【化３０】
【請求項１７７】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１７６の化合物。
【請求項１７８】
Ｒ1は水素原子であり、Ｒ2とＲ3は不在である請求項１７６の化合物。
【請求項１７９】
前記化合物が式Ｘｂで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１７３の化合物。
【化３１】
【請求項１８０】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１７９の化合物。
【請求項１８１】
式ＸＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化３２】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3bは置換基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表す。
【請求項１８２】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１８１の化合物。
【請求項１８３】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ3bは低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１８１の化合物。
【請求項１８４】
前記化合物が式ＸＩaで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ3bは置換基を表す請求項１８１の化合物。
【化３３】
【請求項１８５】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ3bは低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１８４の化合物。
【請求項１８６】
Ｒ1は水素原子、Ｒ2とＲ3は不在でＲ3bはハロゲン原子である請求項１８４の化合物。
【請求項１８７】
前記化合物が式ＸＩｂで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ3bは置換基を表す請求項１８１の化合物。
【化３４】
【請求項１８８】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ3bは低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１８７の化合物。
【請求項１８９】
ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する方法で、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する有効量の化合物と細胞を接触することを含む方法。
【請求項１９０】
ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する薬物の製造における、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する小分子薬剤の使用方法。
【請求項１】
ＴＲＰＶ３の活性化を含む病状の治療又は予防方法であって、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流(current)を抑制する有効量の化合物投与を含む方法。
【請求項２】
前記化合物が１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介内向き電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項３】
前記化合物が１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介外向き電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項４】
前記化合物が５マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流の少なくとも９５％を抑制する請求項１の方法。
【請求項５】
前記化合物が一以上のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びｈＥＲＧチャネル活性抑制でのＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項１の方法。
【請求項６】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項１の方法。
【請求項７】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５の方法。
【請求項８】
前記化合物が１０マイクロモルを超えるＩＣ50でＴＲＰＶ１を抑制する請求項１の方法。
【請求項９】
前記化合物が１０マイクロモルを超えるＩＣ50でＴＲＰＶ１を抑制する請求項５の方法。
【請求項１０】
前記化合物が５００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項１の方法。
【請求項１１】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項１の方法。
【請求項１２】
病状を前記化合物で治療する治療指数が１０以上である請求項１の方法。
【請求項１３】
前記薬剤が分子量２０００原子質量単位（amu）以下を有する有機化合物である請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項１４】
前記薬剤を一以上の抗炎症薬、抗瘢痕薬、抗乾癬薬、抗増殖薬、抗真菌薬、抗ウイルス薬、消毒薬又は角質溶解薬と共に投与する請求項１の方法。
【請求項１５】
前記薬剤を局所投与する請求項１〜１２及び１４のいずれか１項の方法。
【請求項１６】
前記薬剤を経口投与する請求項１〜１２及び１４のいずれか１項の方法。
【請求項１７】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、そう痒過敏症の徴候の予防、治療若しくは緩和、又は火傷治療の一部として用いる請求項１〜１２及び１４のいずれか１項の方法。
【請求項１８】
前記疼痛が術後疼痛、癌疼痛又は神経障害性疼痛である請求項１７の方法。
【請求項１９】
前記薬剤を局所投与する請求項１７の方法。
【請求項２０】
前記薬剤を経口投与する請求項１７の方法。
【請求項２１】
前記薬剤を経皮、非経口、直腸内、膣内、鼻腔内、眼内、静脈内、筋肉内、動脈内、髄腔内、関節内、眼窩内、心臓内、皮内、腹腔内、経気管、皮下、角質下、関節内、嚢下、くも膜下、髄腔内、胸骨内経由又は吸入により投与する請求項１２の方法。
【請求項２２】
偏頭痛症状の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２３】
糖尿病性神経障害、炎症、過敏性腸症候群、クローン病、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、失禁、膀胱失禁、膀胱炎、熱病、のぼせ及び咳からなる群から選ばれる障害又は病状の徴候の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２４】
変形性関節症症状の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２５】
関節リュウマチ症状の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２６】
口腔粘膜炎症状の予防、治療又は緩和に用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２７】
患者の脱毛を促進するか育毛を抑制する脱毛術として用いられる請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２８】
前記薬剤を局所的、経口、非経口、経皮、直腸内、膣内、鼻腔内、眼内、静脈内、筋肉内、動脈内、髄腔内、関節内、眼窩内、心臓内、皮内、腹腔内、経気管、皮下、角質下、関節内、嚢下、くも膜下、髄腔内、胸骨内経由又は吸入により投与する請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項２９】
前記化合物が１マイクロモル以下のＩＣ50で熱誘起ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項３０】
前記薬剤が１マイクロモル以下のＩＣ50で第１相と第２相両方のＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項３１】
前記薬剤が１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介の内向きと外向き電流を抑制する請求項１の方法。
【請求項３２】
前記薬剤がＴＲＰＶ３と結合する請求項１の方法。
【請求項３３】
前記薬剤が１０マイクロモル以下のＩＣ50で一以上のＴＲＰＶ２，ＴＲＰＶ４、ＡＮＫＴＭ１及び／又はＴＲＰＭ８を抑制する請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項３４】
ＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる薬物の製造における、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介内向き電流を抑制する小分子薬剤の使用方法。
【請求項３５】
ＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる薬物の製造における、一以上のＴＲＰＶ５機能、ＴＲＰＶ６機能、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ機能及びＨＥＲＧ機能抑制でのＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する小分子薬剤の使用方法。
【請求項３６】
ＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる薬物の製造における、１マイクロモル以下のＩＣ50で熱誘起ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する小分子薬剤の使用方法。
【請求項３７】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、炎症、失禁、熱病、のぼせ及び／又は咳の予防、治療又は緩和するための薬物の製造における、請求項３４〜３６のいずれか１項の使用方法。
【請求項３８】
前記薬剤がＴＲＰＶ３と結合する請求項３４〜３６のいずれか１項の使用方法。
【請求項３９】
１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介内向き電流を抑制する薬剤と
薬学的に適用可能な賦形剤又は溶媒を含む医薬品製剤であり、
前記薬剤がＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる有効量を与える投薬剤形であるが、その薬剤は患者にＱＴ間隔延長を起こさない医薬品製剤。
【請求項４０】
一以上のＴＲＰＶ５機能、ＴＲＰＶ６機能、ＮａＶ１．２機能、ミトコンドリアユニポータ機能及びＨＥＲＧ機能抑制でのＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する薬剤と
薬学的に適用可能な賦形剤又は溶媒を含む医薬品製剤であり、
該薬剤がＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる有効量を与える投薬剤形であるが、ＱＴ間隔延長を起こさない医薬品製剤。
【請求項４１】
１マイクロモル以下のＩＣ50で熱誘起ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する薬剤と
薬学的に適用可能な賦形剤又は溶媒を含む医薬品製剤であり、
該薬剤がＴＲＰＶ３活性化を含む疾患、障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和、又はＴＲＰＶ３活性の減少により患者の重症度を減少できる有効量を与える投薬剤形であるが、ＱＴ間隔延長を起こさない医薬品製剤。
【請求項４２】
前記薬剤がＴＲＰＶ３と結合する請求項３９〜４１のいずれか１項の医薬品製剤。
【請求項４３】
前記薬剤が患者の体温調節を変えない請求項３９〜４１のいずれか１項の医薬品製剤。
【請求項４４】
２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤を含む皮膚又は粘膜でのＴＲＰＶ３活性を減少する局所用調合物。
【請求項４５】
前記薬剤がＴＲＰＶ３と結合する請求項４４の局所用調合物。
【請求項４６】
（i）高分子性基材と（ii）２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤を含む取り外し可能なパッチ又は包帯。
【請求項４７】
動物被験体の局所塗布用皮膚剥脱用組成物であり、下記を含む組成物：
局所ビヒクル；
カルボン酸類、ケト酸類、α−ヒドロキシ酸類、β−ヒドロキシ酸類、レチノイド類、過酸化物類及び有機アルコール類からなる群から選ばれる一以上の皮膚剥脱成分であり、該一以上の該皮膚剥脱剤成分が少なくとも全量の１２重量％で含有され、該被験体の皮膚刺激を誘起し、皮膚の剥離を起こすことが可能な皮膚剥脱成分；並びに
２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤であり、該薬剤が皮膚に塗布したとき鎮痛効果、抗刺激効果及び／又は抗炎症性効果に有効量で提供される薬剤。
【請求項４８】
２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤と、経口可能な医薬担体とを含む経口投与用鎮咳組成物であり、シロップ、エリキシル、懸濁物、スプレー、トローチ剤、咀嚼可能なトローチ剤、粉末及び咀嚼可能な錠剤からなる群から選ばれる水性ベース液体状又は口中で溶解する固体形状の組成物。
【請求項４９】
前記組成物が、前記薬剤に加え、抗ヒスタミン剤、５−リポキシゲナーゼインヒビター、ロイコトリエンインヒビター、Ｈ３インヒビター、β−アドレナリン受容体アゴニスト、キサンチン誘導体、α−アドレナリン受容体アゴニスト、マスト細胞安定化剤、去痰薬、ＮＫ１タチキニン受容体アンタゴニスト、ＮＫ２タチキニン受容体アンタゴニスト、ＮＫ３タチキニン受容体アンタゴニスト及びＧＡＢＡBアゴニストからなる群から選ばれる、咳、アレルギー又は喘息症状治療用の一以上の追加薬剤を含有する請求項４８の鎮咳組成物。
【請求項５０】
２−ＡＰＢ誘起及び熱誘起両者のＴＲＰＶ３仲介電流を１マイクロモル以下のＩＣ50で抑制する薬剤を含む、肺又は鼻デリバリー用エアロゾル医薬品組成物を含む定量投与用エアロゾルディスペンサー。
【請求項５１】
定量投与用吸入器、ドライパウダー吸入器又はエアジェット噴霧器内に充填された請求項５０の調合物。
【請求項５２】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少する方法で、
有効量の式Ｉの化合物、その塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１】
ここで
Ａｒはアリール又はヘテロアリール基を表し、
ＹはＰｈ，ＯＡｒ１，ＳＡｒ１又はＮ（Ｕ）（Ａｒ１）を表し、
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
ＸはＣＨ2、Ｏ、Ｓ、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
ＷはＯ、Ｓ又はＮＲ’を表し、
ｎは１か、又はＸがＣＨ2の場合はｎは１若しくは２であり、
Ａｒ１は単環か双環のアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｐｈは任意に置換又は非置換の５〜７員のシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール環と任意に縮合する置換又は非置換フェニル環を表し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、
又はＵ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、
又はＵ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環との縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項５３】
前記化合物が式Ｉの化合物で表されるか、その塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグであり；
【化２】
ここで
Ａｒはアリール又はヘテロアリール基を表し、
ＹはＰｈ，ＯＡｒ１，ＳＡｒ１又はＮ（Ｕ）（Ａｒ１）を表し、
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｗは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ’を表し、
Ａｒ１は単環か双環のアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｐｈは任意に置換又は非置換の５〜７員のシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール環と任意に縮合する置換又は非置換フェニル環を表し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、
又はＵ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、
又はＵ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環と縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５２の方法。
【請求項５４】
ＹがＮ（Ｕ）（Ａｒ１）である請求項５３の方法。
【請求項５５】
Ｙは
【化３】
を表し、
ここで
Ｒ1とＲ2はそれぞれ独立して、不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ａｒ’はアリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｒ5はＣＨ2、酸素原子、ＮＲ6を表し、
Ｒ6は水素原子又は低級アルキル基を表し、
ｎは１、２、又は３である請求項５４の方法。
【請求項５６】
Ａｒ’がフェニル、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、オキサゾール、テトラゾール、チアヂアゾール、ピリジン、ピリマジン(pyrimadine)又はトリアゾールを表す請求項５５の方法。
【請求項５７】
各Ｒ1は独立に水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、且つ各Ｒ2は独立に水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステルアミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項５５の方法。
【請求項５８】
Ｙは下式を表し、ここでＲ1とＲ2はそれぞれ独立して、不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項５５の方法。
【化４】
【請求項５９】
それぞれ独立してＲ1は、水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、且つそれぞれ独立してＲ2は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項５８の方法。
【請求項６０】
Ｙは
【化５】
を表し、
ここで
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1を表し、且つ
Ｒ2は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基を表す請求項５８の方法。
【請求項６１】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1を表し、Ｒ2は水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表す請求項６０の方法。
【請求項６２】
Ａｒは
【化６】
を表し、
ここで
Ｃｙはアリール又はヘテロアリール環を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｒ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2a）を表し、
Ｒ2aは水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表す請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項６３】
Ｃｙがフェニル、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、オキサゾール、テトラゾール、チアヂアゾール、ピリジン、ピリマジン又はトリアゾールを表す請求項６２の方法。
【請求項６４】
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項６２の方法。
【請求項６５】
Ａが窒素原子、Ｚが酸素原子又は硫黄原子を表す請求項６２の方法。
【請求項６６】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項６２の方法。
【請求項６７】
Ａｒは
【化７】
を表し、
ここで
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2、ＮＲ又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2a）を表し、
Ｒ3は不在か、それが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、Ｒ2aは水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表す請求項６２の方法。
【請求項６８】
Ｚが酸素原子又は硫黄原子を表す請求項６７の方法。
【請求項６９】
Ｒ3は不在か、又は各Ｒ3を独立に低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項６７の方法。
【請求項７０】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項６７の方法。
【請求項７１】
Ａｒは
【化８】
を表し、
ここで
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2、又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2a）を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基を表し、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ｒ2aは水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表す請求項６７の方法。
【請求項７２】
Ｚが酸素原子又は硫黄原子を表す請求項７１の方法。
【請求項７３】
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子を表す請求項７１の方法。
【請求項７４】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項７１の方法。
【請求項７５】
Ａｒは
【化９】
を表し、
ここで
Ｇ’は窒素原子又はＮ又はＣ（Ｒ5）を表し、
Ｒ3は不在か、又はＣｙの一以上の置換基を表し、
Ｒ4は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、
Ｃｙはアリール又はヘテロアリール環を表す、
請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項７６】
Ｃｙはフェニル、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、オキサゾール、テトラゾール、チアヂアゾール、ピリジン、ピリマジン又はトリアゾールを表す請求項７５の方法。
【請求項７７】
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれ、
Ｒ4とＲ5はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項７５の方法。
【請求項７８】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項７５の方法。
【請求項７９】
Ｒが水素原子、Ｗが酸素原子又は硫黄原子で、Ｘが酸素原子又は硫黄原子である請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項８０】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項８１】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項６２の方法。
【請求項８２】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項６７の方法。
【請求項８３】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項７１の方法。
【請求項８４】
前記化合物がＴＲＰＶ３仲介内向け電流を抑制する請求項７５の方法。
【請求項８５】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項８６】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６２の方法。
【請求項８７】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６７の方法。
【請求項８８】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７１の方法。
【請求項８９】
前記化合物が少なくとも一のＴＲＰＶ５、ＴＲＰＶ６、ＮａＶ１．２、ミトコンドリアユニポータ及びＨＥＲＧ抑制でＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７５の方法。
【請求項９０】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項９１】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６２の方法。
【請求項９２】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６７の方法。
【請求項９３】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７１の方法。
【請求項９４】
前記化合物がＴＲＰＶ１抑制のＩＣ50より少なくとも一桁小さいＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７５の方法。
【請求項９５】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項９６】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６２の方法。
【請求項９７】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項６７の方法。
【請求項９８】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７１の方法。
【請求項９９】
前記化合物が１００ナノモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３を抑制する請求項７５の方法。
【請求項１００】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項５３〜６１のいずれか１項の方法。
【請求項１０１】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項６２の方法。
【請求項１０２】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項６７の方法。
【請求項１０３】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項７１の方法。
【請求項１０４】
急性疼痛、慢性疼痛、触覚過敏症、火傷、炎症、糖尿病性神経障害、乾癬、湿疹、皮膚炎、ヘルペス後神経痛（帯状疱疹）、偏頭痛、失禁、熱病、のぼせ、変形性関節症、関節リュウマチ及び咳からなる群から選ばれる障害若しくは病状の徴候の予防、治療若しくは緩和に用いられるか、又は患者の脱毛を促進するか育毛を抑制するための脱毛術として用いられる請求項７５の方法。
【請求項１０５】
前記化合物を一以上の抗炎症薬、抗ざ瘡剤、抗しわ剤、抗瘢痕薬、抗乾癬薬、抗増殖薬、抗真菌薬、抗ウイルス薬、消毒薬、抗偏頭痛薬、角質溶解薬又は育毛阻害剤と共に投与する請求項５３の方法。
【請求項１０６】
前記化合物が患者にＱＴ間隔延長を起こさないＴＲＰＶ３抑制に対するＩＣ50を有する請求項５３の方法。
【請求項１０７】
前記化合物が患者の体温調節を変えないＴＲＰＶ３抑制に対するＩＣ50を有する請求項５３の方法。
【請求項１０８】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式Ｖの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１０】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2、又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2、又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は不在か、それが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表し、
ここで該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１０９】
Ｘが硫黄素原子、Ｄが酸素原子を表す請求項１０８の方法。
【請求項１１０】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１０８又は１０９の方法。
【請求項１１１】
前記化合物は下式Ｖaで表され、
ここで
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１０８の方法。
【化１１】
【請求項１１２】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１１１の方法。
【請求項１１３】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１１１の方法。
【請求項１１４】
Ｒ1は水素原子、Ｒ2は水素原子又はメチルを表し環系内の窒素原子のオルソ位に位置し、Ｒ3は一以上の置換基を表し、環系内の窒素原子のメタ又はパラ位に位置する、請求項１１１の方法。
【請求項１１５】
前記化合物が下式Ｖｂで表され、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１０８の方法。
【化１２】
【請求項１１６】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2とＲ3は不在か、それぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１１５の方法。
【請求項１１７】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１１５の方法。
【請求項１１８】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が不在の請求項１１５の方法。
【請求項１１９】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式ＶＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１３】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2、又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ4は水素原子又は置換基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表し、
ここで該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１２０】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１１９の方法。
【請求項１２１】
前記化合物は下式ＶＩaで表され、
ここで
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ4は水素原子又は置換基である請求項１１９の方法。
【化１４】
【請求項１２２】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2、Ｒ3とＲ4は不在か、又はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１１９〜１２１のいずれか１項の方法。
【請求項１２３】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ4は水素原子、低級アルキル又はシアノ基から選ばれる請求項１１９〜１２１のいずれか１項の方法。
【請求項１２４】
Ｒ1とＲ2は不在で、Ｒ3は環系内の窒素原子のパラ位に位置するメトキシを表し、Ｒ4はシアノ基を表す請求項１１９〜１２１のいずれか１項の方法。
【請求項１２５】
前記化合物は式ＶＩｂで表され、
ここで
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ4は水素原子又は置換基を表す請求項１１９の方法。
【化１５】
【請求項１２６】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2、Ｒ3とＲ4は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１２５の方法。
【請求項１２７】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれ、
Ｒ4は水素原子、低級アルキル又はシアノ基から選ばれる請求項１２５の方法。
【請求項１２８】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式ＩＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１６】
ここで
Ｗは酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｘ’はＮＲ12を表し、
Ｒ12は水素原子又は低級アルキル基を表し、
ＡｒとＡｒ’は独立に置換又は非置換アリール又はヘテロアリール環を表し、
ここで該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１２９】
Ａｒがフェニル基を表す請求項１２８の方法。
【請求項１３０】
Ａｒ’がフェニル基を表す請求項１２８の方法。
【請求項１３１】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式ＩＩＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１７】
ここで
Ａｒは置換又は非置換アリール又はヘテロアリール環を表し、
Ｑは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ又はＣＨ2を表し、
Ｒはそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｒ’は水素原子、置換又は非置換の低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表し、
Ｒ”はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｖは不在か、又はＣ＝Ｏ、Ｃ＝Ｓ又はＳＯ2であり、
Ｗは＝Ｏ、＝Ｓ、アミノ、ヒドロキシル又はエーテルのような水素結合受容体を表し、
Ｅは水素原子、置換又は非置換低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキル、ハロゲン原子、カルボニル（例えばエステル、カルボキシル又はホルミル）、チオカルボニル（例えばチオエステル、チオカルボキシレート又はチオホルメート）、ケトン、アルデヒド、アミノ、アシルアミノ、アミド、アミジノ、シアノ、ニトロ、アジド、スルホニル、スルホキシド、サルフェート、スルホネート、スルファモイル、スルホンアミド又はホスホリルを表し、
ｘは０又は１を表し、ｘが０の場合にはＷとＶをそれぞれ有する二個の炭素原子は単結合又は二重結合で直接結合し、
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１３２】
Ｑは硫黄原子又はＣＨ2を表す請求項１３１の方法。
【請求項１３３】
Ｒは水素原子を表す請求項１３１の方法。
【請求項１３４】
Ｒ’は置換又は非置換アリール又はヘテロアリール環を表す請求項１３１の方法。
【請求項１３５】
Ｒ”は低級アルキルを表す請求項１３１の方法。
【請求項１３６】
ＥはＣＯ2Ｍｅ又はＣＯ2Ｅｔを表す請求項１３１の方法。
【請求項１３７】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防方法、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる方法で、有効量の式ＩＶの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグの投与を含む方法であり：
【化１８】
ここで
ＡｒとＡｒ’は独立に置換又は非置換アリール又はヘテロアリール環を表し、
Ｒはそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘはそれぞれ独立して酸素原子、硫黄原子、ＮＲ、ＣＦ2又はＣＲ2を表し、
Ｍはそれぞれ独立して置換又は非置換のメチレン基を表し、
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１３８】
ＡｒとＡｒ’はフェニル又はピリジル環を表す請求項１３７の方法。
【請求項１３９】
Ｒは水素原子を表す請求項１３７の方法。
【請求項１４０】
Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表す請求項１３７の方法。
【請求項１４１】
ＭはＣＨ2を表わす請求項１３７の方法。
【請求項１４２】
ＸがＣＨ2である請求項５２の方法。
【請求項１４３】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防のためか、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できるヒト患者での使用に適した医薬品製剤であり、有効量の式Ｉの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグと一以上の薬学的に適用可能な賦形剤を含み、
【化１９】
ここで
Ａｒはアリール又はヘテロアリール基を表し、
ＹはＰｈ，ＯＡｒ１，ＳＡｒ１又はＮ（Ｕ）（Ａｒ１）を表し、
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｗは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ’を表し、
Ａｒ１は単環か双環のアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｐｈは任意に置換又は非置換の５〜７員のシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール環と任意に縮合する置換又は非置換フェニル環を表し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、
又はＵ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、
又はＵ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環との縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する医薬品製剤。
【請求項１４４】
ヒト患者での使用に適するに十分低い発熱活性を有する医薬品製剤であり、式Ｘの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグと一以上の薬学的に適用可能な賦形剤を含み、
【化２０】
ここで
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｗは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ’を表し、
Ｃｙはアリール又はヘテロアリール環を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ11、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
ＡはＮ又はＣ（Ｒ2a）を表し、
Ｒ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ａｒｌは単環又は双環でも良いアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、
又はＵ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、
又はＵ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環との縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｒ2aは水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子を表し
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
Ｒ11は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下で一以上のバニロイド受容体ファミリーメンバーを抑制する医薬品製剤。
【請求項１４５】
ＴＲＰＶ３活性化を含む病状の治療又は予防のためか、又はＴＲＰＶ３活性の減少により重症度を減少できる薬物の製造におけるＴＰＲＶ３インヒビターの使用方法であり、該ＴＲＰＶ３インヒビターが式Ｉの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグで表され、
【化２１】
ここで
Ａｒはアリール又はヘテロアリール基を表し、
ＹはＰｈ，ＯＡｒ１，ＳＡｒ１又はＮ（Ｕ）（Ａｒ１）を表し、
Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｘは酸素原子、硫黄原子、ＮＲ10、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｗは酸素原子、硫黄原子又はＮＲ’を表し、
Ａｒ１は単環か双環のアラルキル、ヘテロアラルキル、アリール又はヘテロアリール基を表し、
Ｐｈは任意に置換又は非置換の５〜７員のシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール環と任意に縮合する置換又は非置換フェニル環を表し、
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｕは水素原子、低級アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、アラルキル又はヘテロアラルキルを表すか、又は
Ｕ、Ｎ及びＲ’は一緒になって５〜７員の複素環を形成するか、又は
Ｕ、Ａｒ１及びＮが一緒になってＡｒ１のアリール又はヘテロアリール環との縮合環を形成し、その結果双環構造を形成し、
Ｒ10は水素原子、低級アルキル又はシアノ基を表し、且つ
該化合物はＩＣ50が１０マイクロモル以下でＴＲＰＶ３を抑制する方法。
【請求項１４６】
式ＶＩＩの化合物、又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化２２】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2’は置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、且つ
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表す。
【請求項１４７】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１４６の化合物。
【請求項１４８】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、
Ｒ2’、Ｒ2、とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１４６の化合物。
【請求項１４９】
前記化合物が式ＶＩＩaで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ2’は置換基を表す請求項１４６の化合物。
【化２３】
【請求項１５０】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ2’ は低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５１】
各Ｒ1は独立に、水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５２】
各Ｒ2は不在か、又は独立に、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５３】
Ｒ2’は、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５４】
各Ｒ3は不在か、又は独立に低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１４９の化合物。
【請求項１５５】
Ｒ1とＲ2は不在で、Ｒ2’はＣＨ3を表し、Ｒ3は環系内の窒素原子のメタ又はパラ位に位置する一以上の置換基を表す請求項１４９の化合物。
【請求項１５６】
前記化合物が式ＶＩＩｂで表され、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ2’は置換基を表す請求項１４６の化合物。
【化２４】
【請求項１５７】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ2’ は低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１５８】
各Ｒ1は独立に水素原子、低級アルキル、アルコキシ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニルを形成するＲ1から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１５９】
Ｒ2は不在か、又は各Ｒ2は独立に低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１６０】
Ｒ2’は、低級アルキル、アルコキシ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１６１】
Ｒ3は不在か、又は各Ｒ3は独立に低級アルキル、アルコキシ、ＣＦ3、ニトロ又はハロゲン原子から選ばれる請求項１５６の化合物。
【請求項１６２】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が不在な請求項１５６の化合物。
【請求項１６３】
式ＶＩＩＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化２５】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1とＲ2はそれぞれ独立して、不在か、それが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ａｒ’はアリール又はヘテロアリール基を表し、
ｎは１，２又は３を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ5はＣＨ2、酸素原子、ＮＲ6を表し、
Ｒ6は水素原子又は低級アルキル基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表す。
【請求項１６４】
Ａｒ’はフェニル、チオフェン、イミダゾール、チアゾール、フラン、オキサゾール、テトラゾール、チアヂアゾール、ピリジン、ピリマジン又はトリアゾールを表す請求項１６３の化合物。
【請求項１６５】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１６３の化合物。
【請求項１６６】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１６３の化合物。
【請求項１６７】
前記化合物が式ＶＩＩＩaで表され、
ここで
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１６３の化合物。
【化２６】
【請求項１６８】
Ｒ1は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１６７の化合物。
【請求項１６９】
式ＩＸの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化２７】
ここで
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3’は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ、低級アルキル、ペルフルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はＣＨＲ3aを表し、
Ｒ3”は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル、アリール、ヘテロアリール又はＣＨＲ3aを表し、
Ｒ3aはアミノ、ヘテロシクリル、カルボキシル、エステル、アリール又はヘテロアリールを表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表し、
Ｒ’が水素原子の場合はＲ”は水素原子でも低級アルキルでもなく、Ｒ’がハロゲン原子の場合はＲ”は水素原子でないと仮定する。
【請求項１７０】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１６９の化合物。
【請求項１７１】
前記化合物が式ＩＸaで表される化合物であり
【化２８】
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2は不在か、又は置換基を表し、
Ｒ3は不在か、又は置換基を表し、
Ｒ3’は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ、低級アルキル、ペルフルオロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はＣＨＲ3aを表し、
Ｒ3”は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル、アリール、ヘテロアリール又はＣＨＲ3aを表し、
Ｒ3aはアミノ、ヘテロシクリル、カルボキシル、エステル、アリール又はヘテロアリールを表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表し、
Ｒ’が水素原子の場合はＲ”は水素原子でも低級アルキルでもなく、Ｒ’がハロゲン原子の場合はＲ”は水素原子でないと仮定する請求項１６９の化合物。
【請求項１７２】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１７１の化合物。
【請求項１７３】
式Ｘの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化２９】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表す。
【請求項１７４】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１７３の化合物。
【請求項１７５】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3はそれぞれ独立して水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１７３の化合物。
【請求項１７６】
前記化合物が式Ｘaで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１７３の化合物。
【化３０】
【請求項１７７】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１７６の化合物。
【請求項１７８】
Ｒ1は水素原子であり、Ｒ2とＲ3は不在である請求項１７６の化合物。
【請求項１７９】
前記化合物が式Ｘｂで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表す請求項１７３の化合物。
【化３１】
【請求項１８０】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１７９の化合物。
【請求項１８１】
式ＸＩの化合物又はその塩、溶媒和物、水和物、酸化代謝産物又はプロドラッグ；
【化３２】
ここで
Ｘは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、Ｎ（ＣＮ）、ＣＦ2又はＣ（ＣＮ）2を表し、
Ａは窒素原子又はＣ（Ｒ2）を表し、
Ｇは窒素原子又はＣ（Ｒ3）を表し、
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、
Ｒ3bは置換基を表し、
Ｄは酸素原子又は窒素原子を表す。
【請求項１８２】
Ｘは硫黄原子を表し、Ｄは酸素原子を表す請求項１８１の化合物。
【請求項１８３】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ3bは低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１８１の化合物。
【請求項１８４】
前記化合物が式ＸＩaで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ3bは置換基を表す請求項１８１の化合物。
【化３３】
【請求項１８５】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ3bは低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１８４の化合物。
【請求項１８６】
Ｒ1は水素原子、Ｒ2とＲ3は不在でＲ3bはハロゲン原子である請求項１８４の化合物。
【請求項１８７】
前記化合物が式ＸＩｂで表され、
ここで
Ｒ1は水素原子又は置換基を表し、
Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれが結合している環の一以上の置換基を表し、
Ｒ3bは置換基を表す請求項１８１の化合物。
【化３４】
【請求項１８８】
Ｒ1は水素原子、低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ又はそれが結合している炭素原子と一緒になりカルボニル又はチオカルボニルを形成するＲ1から選ばれ、Ｒ2とＲ3は不在か、又はそれぞれ独立して低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ニトロ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノから選ばれ、Ｒ3bは低級アルキル、アルコキシ、カルボキシル、エステル、アミド、スルホンアミド、ヘテロシクリル、シクロアルキル、ヒドロキシル、アミノ、アシルアミノ、チオエーテル、スルホニルアミノ、ハロゲン原子、ＣＦ3又はシアノ基から選ばれる請求項１８７の化合物。
【請求項１８９】
ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する方法で、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する有効量の化合物と細胞を接触することを含む方法。
【請求項１９０】
ＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する薬物の製造における、１マイクロモル以下のＩＣ50でＴＲＰＶ３仲介電流を抑制する小分子薬剤の使用方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４−１】
【図１４−２】
【図１４−３】
【図１４−４】
【図１４−５】
【図１４−６】
【図１４−７】
【図１５】
【図１６−１】
【図１６−２】
【図１６−３】
【図１７】
【図１８−１】
【図１８−２】
【図１８−３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４−１】
【図１４−２】
【図１４−３】
【図１４−４】
【図１４−５】
【図１４−６】
【図１４−７】
【図１５】
【図１６−１】
【図１６−２】
【図１６−３】
【図１７】
【図１８−１】
【図１８−２】
【図１８−３】
【公開番号】特開２０１３−８２７５５（Ｐ２０１３−８２７５５Ａ）
【公開日】平成２５年５月９日（２０１３．５．９）
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願２０１３−２３８２２（Ｐ２０１３−２３８２２）
【出願日】平成２５年２月８日（２０１３．２．８）
【分割の表示】特願２００８−５１１２９５（Ｐ２００８−５１１２９５）の分割
【原出願日】平成１８年５月９日（２００６．５．９）
【出願人】（５０７３７２４７５）ハイドラ バイオサイエンシズ インコーポレイテッド (6)
【氏名又は名称原語表記】ＨＹＤＲＡ ＢＩＯＳＣＩＥＮＣＥＳ，ＩＮＣ．
【住所又は居所原語表記】７９０ Ｍｅｍｏｒｉａｌ Ｄｒｉｖｅ，Ｓｕｉｔｅ ２０３，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，ＭＡ ０２１３９ Ｕ．Ｓ．Ａ．
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月９日（２０１３．５．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１３−２３８２２（Ｐ２０１３−２３８２２）
【出願日】平成２５年２月８日（２０１３．２．８）
【分割の表示】特願２００８−５１１２９５（Ｐ２００８−５１１２９５）の分割
【原出願日】平成１８年５月９日（２００６．５．９）
【出願人】（５０７３７２４７５）ハイドラ バイオサイエンシズ インコーポレイテッド (6)
【氏名又は名称原語表記】ＨＹＤＲＡ ＢＩＯＳＣＩＥＮＣＥＳ，ＩＮＣ．
【住所又は居所原語表記】７９０ Ｍｅｍｏｒｉａｌ Ｄｒｉｖｅ，Ｓｕｉｔｅ ２０３，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，ＭＡ ０２１３９ Ｕ．Ｓ．Ａ．
【Ｆターム（参考）】
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