【課題】化学強化前の研磨処理等を省略又は簡略化可能であり、且つ、化学強化後の反りを抑制可能であって、化学強化により圧縮応力層が形成される化学強化用フロートガラスを提供する。
【解決手段】フロート法により成形され、成形時に溶融金属と接するボトム面と、ボトム面に対向するトップ面とを有し、化学強化により圧縮応力層が形成される化学強化用フロートガラスであって、ボトム面側が凸となるように反っている。 （もっと読む）

【課題】塗膜の外観に優れ、さらにポットライフが長い水性塗料用組成物および二液硬化型水性塗料キットを提供する。
【解決手段】含フッ素共重合体（Ａ）：水酸基を有する含フッ素共重合体、化合物（Ｂ）：スルホ基または一部もしくは全部が中和されたスルホ基と、１を超える数のイソシアネート基とを有する化合物、および水性媒体（Ｃ）を含有する水性塗料用組成物。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカを含み、ｐＨが１〜５の研磨スラリーの調製方法であって、酸性となるようにｐＨ調整する際に、コロイダルシリカが凝集することが抑制された研磨スラリーの調製方法の提供。
【解決手段】コロイダルシリカを含み、ｐＨが１〜５の研磨スラリーの調製方法であって、ｐＨ調整時において、コロイダルシリカを含むスラリー原液と、酸と、の混合液のｐＨを０．５〜５に保持することを特徴とする研磨スラリーの調製方法。 （もっと読む）

【課題】配光角および光束の少なくとも一方が増加され、かつ生産性に優れる発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置は、発光素子３と、前記発光素子３を覆う蛍光体層４と、前記蛍光体層４上に配置された光トランスファー層６とを有する。前記蛍光体層４の屈折率をｎ_１、前記光トランスファー層６の屈折率をｎ_２としたとき、ｎ_２／ｎ_１≦１．０７、かつ前記蛍光体層４の中心軸を通る少なくとも１つの平面において、前記蛍光体層４の中心軸から側面部までの長さをｄ、前記発光素子３の厚みを除いた蛍光体層４と前記光トランスファー層６との合計した厚みをｔとしたとき、ｔ／ｄ＞０．４である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板積層体の外周端面に研磨ブラシを押し当ててもたわまず、均一にガラス基板積層体の外周端面を研磨できる支持治具を提供すること。
【解決手段】中心部に円形孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板を、複数枚支持する支持治具であって、前記支持治具は、前記円形孔に挿入されて複数枚の前記磁気記録媒体用ガラス基板の位置を合わせる支持軸を有し、前記支持軸は、ヤング率が１５０ＧＰａ以上である、支持治具。 （もっと読む）

【課題】低粘性ガラスを薄く幅広に成形できるガラスの成形装置及びガラスの成形方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るガラスの成形装置は、金型内へ溶融ガラスを流し込んで固化させるガラスの成形装置であって、所定の位置から金型内へ溶融ガラスを流し込む流込手段及び金型を所定の速度で搬送する搬送手段とを備え、金型は、矩形状の底面と、該底面から垂直方向に延在し、底面の少なくとも三方を囲む側面から形成される第１の金型と、第１の金型の底面上に配置され、第１の金型の側面との間で溶融ガラスの成形領域を形成し、第１の金型の搬送方向に対して平行移動可能な第２の金型とを有する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶマスクガラス基板の位置ずれや脱離、ガラス基板の変形が生じることがなく、保持によるガラス基板への傷の発生や異物の付着を抑制できるガラス基板保持手段を提供する。
【解決手段】ガラス基板２００の保持手段１００Ａは、ガラス基板の裏面を非接触で吸引する静電チャック機構と、ガラス基板の裏面の一部を支持する支持部材１１４とを有し、静電チャックの静電吸引力を発揮する作用面１１２の投影面積（ｍｍ²）と、ガラス基板の裏面の品質保証領域２１０の面積（ｍｍ²）と、の比（静電チャック機構の作用面の投影面積／ガラス基板の裏面の品質保証領域の面積）が０．５以上であり、静電チャック機構の作用面１１２と、ガラス基板２００の裏面との距離が２０μｍ超であり、支持部材１１４、ガラス基板２００の裏面の品質保証領域２１０より外側（裏面外周部）をなす４辺のうち、少なくとも２辺を含む領域をのみを支持するガラス基板保持手段。 （もっと読む）

【課題】特殊な添加剤を配合することなく、着色の無い塗膜を形成することができる水性塗料用含フッ素共重合体組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】イソシアネート基と反応する官能基を有する含フッ素共重合体（Ａ）、下式（１）で表わされる基を有するブロックポリイソシアネート（Ｂ）、及び水を含有することを特徴とする水性塗料用含フッ素共重合体組成物。


［式（１）において、Ｒ^１はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、Ｎ−置換カルバミル基、フェニル基、ニトロ基、ハロゲン原子又は式−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ^２（Ｒ^２は水素またはアルキル基である。）で表される基であり、ｎは０〜３の整数であり、ｎが２以上の場合には、Ｒ^１は同一であっても異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】異なる組成又は色調のガラスを一体成形するガラスの成形方法及び一体化ガラスを提供する。
【解決手段】組成又は色調の少なくとも一方が異なる第１ガラスＧ１，第２ガラスＧ２を一体化するガラスの成形方法であって、第１のガラスＧ１を加熱して溶融させる第１の工程と、溶融状態の第１のガラスＧ１と、固化状態の第２のガラスＧ２とを接触させる第２の工程と、溶融状態の第１のガラスＧ１と固化状態の第２のガラスＧ２とを接触させた状態で冷却し、第１のガラスＧ１を固化させる第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】製造過程の早い段階で簡便かつ高精度に回路パターンの不良の有無を検出することにより製造歩留まりの向上を図ったセラミックス回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックスグリーンシートに貫通孔を形成する工程と、セラミックスグリーンシートの貫通孔に導体ペーストを充填する工程と、セラミックスグリーンシートに導体ペーストによる回路パターンを印刷する工程と、各工程を経たセラミックスグリーンシートを単層または積層体として焼成する工程とを有し、各工程をロット単位で行うセラミックス回路基板の製造方法において、回路パターンを印刷する工程を、ロット毎に予め所定の枚数に対してそれぞれ回路パターンとこれを直列に接続する補助パターンを印刷して導通検査を実施し、該導通検査の結果に基づいて前記ロット単位で行うことを特徴とする、セラミックス回路基板の製造方法。 （もっと読む）