説明

旭硝子株式会社により出願された特許

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不活性媒体として有用な新規含フッ素エーテル化合物の提供。
下式(1a)で表される化合物または下式(1b)で表される化合物等の下式(1)で表される化合物。
F1OCFRF2CFRF2ORF1・・・(1)
F(CFOCF(CF)CF(CF)O(CFF・・・(1a)
F(CFOCF(CF)CF(CF)O(CFF・・・(1b)
ただし、式中の記号は下記の意味を示す。
F1:炭素数4〜7の直鎖ペルフルオロアルキル基。
F2:フッ素原子、またはトリフルオロメチル基。 (もっと読む)


官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素化合物、含フッ素ポリマーおよびその製造方法を提供する 下記式(1)で表される含フッ素ジエンを提供する。 CF=CFCHCH(C(R)(R)(OH))CHCH=CH (1) ただし、RとRは、それぞれ独立にフッ素原子、あるいは炭素数5以下のフルオロアルキル基を表す。 (もっと読む)


初期の発電性能が高く、長期にわたって安定した出力特性を維持できる固体高分子型燃料電池用膜・電極接合体の提供。 触媒金属粒子がカーボン担体に担持された触媒粉末とイオン交換樹脂とを含む触媒層を有するアノード及びカソードと、該アノードの触媒層と該カソードの触媒層との間に配置されるイオン交換膜とを有する固体高分子型燃料電池用膜・電極接合体において、前記アノードの触媒層及び前記カソードの触媒層の少なくとも一方には、20℃で水に対する溶解度が3以下のアミンを含有させ、当該アミンの触媒粉末に対する含有量(W×N)/M×1000を0.03〜1とする(ただし、Wは前記アミンの触媒粉末1gあたりの含有量(g)、Mは前記アミンの分子量、Nは前記アミン1分子中における塩基性を有する窒素原子の数である。)。前記アミンとしては、特にHALSが好ましい。 (もっと読む)


含フッ素化合物からなるラジカル重合開始剤と、フッ素原子で水素原子の一部が置換されていてもよい炭素数1〜2の飽和炭化水素又は水素からなる連鎖移動剤とを用い、重合媒体中で、−SOX基(Xはフッ素原子又は塩素原子)を有しエチレン性二重結合を有するパーフルオロカーボンモノマー(エーテル結合性の酸素原子を含んでいてもよい)と二重結合を有しかつ炭素原子、ハロゲン原子及び酸素原子以外の原子を含まないパーハロゲノモノマーとを共重合させた後、フッ素化処理するパーフルオロカーボン重合体の製造方法。この方法により得られる−SOX基を有するパーフルオロカーボン重合体は、分子中に含有する不安定末端基が少なく、安定性に優れる。 (もっと読む)


内部からの電解液漏れ及び外部からの不要物質の浸入を防ぎつつ、端子と外装容器との間の絶縁を行うことのできる電気二重層キャパシタを提供する。
端子112に対し、鍔部113の上部側まで下側絶縁リング131を嵌め込む。そして、この状態の端子112を、外装容器121の内部側から封口板111の貫通穴111aの中央に挿入する。その後、円筒部112aと貫通穴111aとにより形成された隙間135に、Oリング133を圧入する。さらに、この圧入されたOリング133の上部側に、上側絶縁リング137を嵌め込む。そして、この上側絶縁リング137を押さえ込むようにして、押さえバネ139を端子112に装着する。
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銀系材料を導電層に用い、それを導電保護層により被覆して保護した配線付き基体形成用積層体であって、導電保護層とそれに積層される陰極との間の接触抵抗が極めて低い配線付き基体形成用積層体の提供。 基体と、前記基体上に形成された銀または銀合金を含む導体層と、前記導体層上に該導体層を被覆するように形成された、インジウム亜鉛酸化物を含む導電保護層とを有する、配線付き基体形成用積層体であって、前記導電保護層が、スパッタガス中の酸化性ガスの含有量が1.5体積%以下の雰囲気でのスパッタリングにより形成された導電保護層である、配線付き基体形成用積層体。 (もっと読む)


C光源ヘイズ率の高い、光透過性に優れた、高い導電性を有する透明導電膜付き基体およびその製造方法、上記基板を用いた光電変換素子の提供。 基体上に導電層が形成され、該導電層上に厚みが0.5〜10nmの酸化チタン層を有することを特徴とする透明導電膜付き基体。前記導電層が酸化スズ層であり、前記透明導電膜付き基体のC光源ヘイズ率が5〜90%であることが好ましい。前記基体と前記導電層との間に、基体側から高屈折率層、低屈折率層が順に積層されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】生産性に優れた高周波伝送線路を提供できる。
【解決手段】第1の誘電体基板3と第2の誘電体基板2との間に設けられている誘電体層7とを備え、第1の誘電体基板3の、誘電体層7の側の面には、第1のグランド導体4と、信号導体であって、その両側がそれぞれスロット領域25up、25dnを介してグランド導体4に囲まれている信号導体24とを有するコプレーナ伝送線路が設けられており、さらに、スロット領域25up、25dnのうちの一つが伸長されて、これらの伸長されている部分において、スロット部5(伸長部)が構成されており、第2の誘電体基板2の、誘電体層7の側の面には、スロット部5と立体交差するように電磁結合用信号導体1が設けられており、スロット部5と電磁結合用信号導体1とが立体交差することにより電磁結合されている。 (もっと読む)


簡易な処理のみで、接続損失が低く抑制され、かつコネクタの着脱を繰り返した場合であっても接続損失の増加が抑制されるプラスチック製光ファイバの端面処理方法の提供。フェルールに挿通固定されたプラスチック製光ファイバの端面に、重合体組成物液を塗布し、該重合体組成物を硬化させて塗膜を形成する端面処理方法であって、JIS−C−5961に規定された500回着脱試験において、接続損失の増加が1dB以下であることを特徴とする、プラスチック製光ファイバの端面処理方法であり、特に前記塗膜材質の硬さが、JIS−K−7215に規定されたデュロメータD硬さで90以下であることが好ましい。 (もっと読む)


透明な基材(2)上に電磁波遮蔽膜(100)が設けられた電磁波遮蔽積層体(1)であって、前記電磁波遮蔽膜(2)が、前記基材(2)側から順に、屈折率が2.0以上である物質からなる第1の高屈折率層(31)、酸化亜鉛を主成分とする第1の酸化物層(32)、銀を主成分とする導電層(33)および屈折率が2.0以上である物質からなる第2の高屈折率層(35)を有することを特徴とする電磁波遮蔽積層体。 (もっと読む)


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