説明

株式会社IHIにより出願された特許

3,971 - 3,980 / 5,014


【課題】圧油の供給によってシリンダロッドを押し出せない事態においても、上刃部及び下刃部の取り外しを可能にする。
【解決手段】シリンダロッド91は刃部に契合する契合部91aを先端に有すると共に後端に雄ネジ91bが形成され、シリンダチューブ92はシリンダロッド91の両端を露出した状態で軸線方向に移動自在に収納し、ブシュ93はシリンダロッド91が挿通された状態でシリンダチューブ92内に収納されシリンダチューブ92の後端内壁92aに対向する受け部93bを備えると共に一端がシリンダチューブ92の後端から露出し、バネ94はシリンダロッド91が挿入された状態でシリンダチューブ92内に収納され一端がシリンダチューブ92の先端内壁92dに当接する一方他端がブシュ93の受け部93bに当接してブシュ93をシリンダチューブ92の後端側に付勢し、雌ネジ95は雄ネジ91bに螺合してブシュ93に当接する。 (もっと読む)


【課題】高温雰囲気の高いレイノルズ数におけるタービン翼の圧力損失を増大させることなく低温雰囲気の低いレイノルズ数における翼の圧力損失を低減させる。
【解決手段】相対的に高温度な高温雰囲気と相対的に低温度な低温雰囲気とに晒されるとともに、流体の流れる方向に沿って凹とされた凹曲面状の圧力面12と、流体の流れる方向に沿って凸とされた凸曲面状の負圧面とを備える翼であって、前記低温雰囲気に晒される場合に前記負圧面に前記流体の流れに沿った凹凸部を出現させ、前記高温雰囲気に晒される場合に前記負圧面を前記凸曲面に沿う滑らかな面とする凹凸形成手段を備える。 (もっと読む)


【課題】固体レーザを用いたレーザアニールにおいて、半導体膜のレーザ照射部分の位置変動に応じて矩形状ビームの短軸方向の焦点位置を容易に補正する。
【解決手段】入射光を短軸方向に集光する短軸用コンデンサレンズ29と、短軸用コンデンサレンズ29からの出射光を半導体膜3の表面に投影する投影レンズ30とを用いて、レーザ光1を半導体膜3の表面において矩形状ビームの短軸方向に集光し、半導体膜3のレーザ照射部分における半導体膜3の垂直方向の位置変動を検出し、この検出値に基づいて短軸用コンデンサレンズ29を光軸方向に移動させる。 (もっと読む)


【課題】製作が容易で、かつ削り屑の凝着を防止して作業の効率化を実現する電着砥石を提供する。
【解決手段】砥石1は、外周面を有する円盤状の台金3と、電着により前記外周面に固着した、メッキ層7と、前記メッキ層から部分的に突出した超砥粒5と、を含む、研削層と、前記研削層を覆う潤滑層9と、を備える。前記潤滑層は、クロムないしクロムを含むコバルト合金よりなり、めっき技術、塗布技術、溶射技術の何れかにより形成される。 (もっと読む)


【課題】 少ない動力で、確実にダストを排出することのできるダストかき寄せ機とそのダストかき寄せ機を備えた排ガス冷却塔を提供しようとする。
【解決手段】
従来のダストを含んだ排ガスを冷却する排ガス冷却塔にかわって、ダストを排出する排出口を設けられた円形の底面と該底面から上方に立ち上がった内壁面とを有する冷却塔本体と、前記底面の中央部に取り付けられ垂直軸回りに回転するスクレーパ取付フレームと該スクレーパ取付フレームに取り付けられた部材であるスクレーパと前記スクレーパ取付フレームを回転させる駆動機構とを有するダストかき寄せ機と、を備え、前記スクレーパが前記スクレーパ取付フレームに取り付けられ長手方向を前記底面の半径方向に沿った長手部材であるスクレーパフレームと該スクレーパフレームに支持され前記底面に溜まったダストを下に向いた縁で掃く板である複数の羽根板とを持つ、ものとした。 (もっと読む)


【課題】添加剤による経費の問題がなく、効率よく安定的にアンモニアの酸化及び脱窒を実施可能な廃水の処理技術を提供する。
を提供する。
【解決手段】硝化細菌及び脱窒細菌の存在下で廃水に酸素を供給して、硝化細菌によって廃水に含まれるアンモニア態窒素を亜硝酸態窒素に変換する酸化処理と、脱窒細菌によって亜硝酸態窒素及びアンモニア態窒素から窒素ガスへ変換する脱窒処理とを進行させる。硝化細菌の亜硝酸態窒素生成速度が脱窒細菌の処理能力以下となるように廃水への酸素の供給を制御して酸化処理及び脱窒処理が同時に進行し、硝化細菌の処理速度が律速となる。廃水の溶存酸素濃度の測定に基づいて処理の終了を検知する。 (もっと読む)


【課題】
往復動ガス圧縮機に於いて、簡単な構成で、各段のピストンリングの面圧を均等化し、高圧側のピストンリングが局部的に摩耗する等の不具合を解消し、ピストンリングの長寿命化を図り、更に往復動ガス圧縮機のメンテナンスコストの低減を図る。
【解決手段】
シリンダ内をピストン18が往復動してガスの圧縮を行う高圧ガス圧縮機に於いて、前記ピストンにピストンリング23が多段に嵌装され、該ピストンリングは一部が欠切されて隙間を形成し、該隙間は高圧側で大きく、低圧側に向って小さくなっている。
(もっと読む)


【課題】外部から流体を吸い込むための吸込口と、吸い込まれた前記流体の流路を内部に形成する内壁面とを有する流路形成構造体において、吸込口の正面方向の側方から吸込口へ向かう流れ(例えば、横風)があっても、流路内における吸込口近傍での流体剥離を抑制できる剥離抑制装置を提供する。
【解決手段】流路形成構造体の剥離抑制装置であって、吸込口3aおよびその正面近傍領域を、吸込口3aの正面方向の周りから囲むように該正面方向に延び、該正面方向の側方から吸込口3aへ向かう流体の流れを抑制する側方流抑制部材7からなる。 (もっと読む)


【課題】簡素で高効率のモータ制御装置、モータ制御方法を提案する。
【解決手段】同期モータ10およびそれを駆動するインバータ20と、それに入力する電源電圧値を検出する電源電圧検出部30と、駆動電流値を検出する電流検出部40と、回転速度を検出する速度検出部50と、実測された回転速度と指定された速度指令値との差に基づいた電流指令値を生成する電流指令値生成部70と、電流指令値生成部70が生成した電流指令値と駆動電流値より電圧指令値を生成する電圧指令値生成部80と、電圧指令値に基づいてインバータ20を制御するインバータ制御部90と、を備えるモータ制御装置1において、実測された電源電圧値と電圧指令値により変調率を生成して電流指令値生成部70に入力する変調率生成部100を有し、変調率生成部100は進角制御における変調率を所定の下限値から下回らないように変調率下限値を設けた。 (もっと読む)


【課題】流動層ガス化炉を、有機物原料が供給されて熱分解反応によりタールを含む熱分解ガスを生成する室と、熱分解反応によって生成した熱分解残渣を導入してガス化ガスを生成する室とに分けることによって、良質のガス化ガスの生成が高められるようにする。
【解決手段】流動層ガス化炉2を第1室31と第2室32とで構成し、第1室31に有機物原料Mを供給するようにし、第1室31で有機物原料Mを熱分解反応させて熱分解ガス55を生成し、第1室31で有機物原料Mが熱分解反応して生成した熱分解残渣M’は第2室32の流動層16の内部に導入してガス化反応によりガス化ガス35を生成する。 (もっと読む)


3,971 - 3,980 / 5,014