【課題】導電性ダイアモンド膜で被覆されたダイアモンド電極は電気化学的電位窓が広いので水処理などの広い分野での応用が期待されているが、ダイアモンドは基板に較べて熱膨張率が著しく小さいためダイアモンド膜に過大な熱応力が残留すること、膜と基板の確実な接着力が得難いこと、大型電極では良質な膜を均質に被覆し難いことなどの原因で、ダイアモンド膜の剥離損耗がダイアモンド電極の一課題であった。
【解決手段】低圧気相合成法などで基板上にダイアモンド膜を被覆した後に、該ダイアモンド膜を基板から一旦分離して導電性接着剤で別個の電極板に貼着することによって、熱応力は除去され、基板と電極板が独立してそれぞれ最適材料の選択が可能になり、大面積でも良質均質な被覆が可能になるなどで、ダイアモンド膜の接着が強固確実となり膜の剥離損耗を軽減できる。また本法によれば、小面積のダイアモンド膜を利用できるので大型電極でも高価な製造設備を必要としない。 （もっと読む）

【課題】トップリング（ウエハ保持機構）に保持されたウエハが離脱してプッシャー機構（ウエハ受渡機構）に着座するまでのウエハ受渡工程の所要時間を短縮できるウエハ受渡装置を提供する。
【解決手段】ウエハＷを保持するトップリング６０と、トップリング６０との間でウエハＷの受け渡しを行うプッシャー機構１０とを備えたウエハ受渡装置において、プッシャー機構１０は、ウエハＷを載置するウエハトレイ４０を備え、トップリング１０の下端面から離脱したウエハＷがウエハトレイ４０に着座するように構成し、プッシャー機構１０に、ウエハＷがウエハトレイ４０に適正に着座したことを検知するセンサ機構５０を備えた。センサ機構５０は、投光装置５１から投光されたセンサ光が、ウエハトレイ４０に着座したウエハＷによって遮断されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】２台以上の排熱発生機器と１台以上の排熱利用機器とを排熱搬送経路で接続した排熱利用システムにおいて、排熱発生機器の主機能に支障を来たすことなく排熱発生機器からの排熱を効率よく取得し、排熱利用機器に供給できる排熱利用システム及びその運転方法を提供する。
【解決手段】複数の排熱発生機器からなる排熱発生機器群１と、複数の排熱利用機器からなる排熱利用機器群２と、排熱発生機器群１と排熱利用機器群２を接続する排熱搬送経路３と、制御装置を備えた排熱利用システムであって、制御装置により排熱発生機器の主機能に支障を来たすことなく排熱発生機器からの排熱を効率よく取得し、排熱利用機器に供給できるように、排熱発生機器の排熱取得台数、排熱取得開始順序等を制御する。 （もっと読む）

基板処理装置（１）は基板の周縁部を研磨する第１研磨ユニット（４００Ａ）および第２研磨ユニット（４００Ｂ）を備えている。２台の研磨ユニット（４００Ａ，４００Ｂ）はそれぞれ基板の周縁部を研磨するベベル研磨部（４５０Ａ，４５０Ｂ）と基板のノッチ部を研磨するノッチ研磨部（４８０Ａ，４８０Ｂ）を具備し、基板処理装置（１）は２台の研磨ユニット（４００Ａ，４００Ｂ）の間に配設されたメンテナンス用のスペース（７）を具備する。２台の研磨ユニット（４００Ａ，４００Ｂ）のベベル研磨部（４５０Ａ，４５０Ｂ）はメンテナンス用のスペース（７）に面した位置に設置され、該メンテナンス用のスペース（７）からアクセスできるようになっている。
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【課題】直径３００ｍｍ以上の基板などの大型の被処理物を処理することができ、しかも均一でプラズマポテンシャルの低い高密度プラズマを生成することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、被処理物が収容されるプラズマ生成室１と、互いに対向する少なくとも１対の端面５ａ，５ｂを有する磁路構造体５と、磁路構造体５に巻きつけられたアンテナコイル１１と、アンテナコイル１１に高周波電流を供給する高周波発生源とを備え、プラズマ生成室１は、端面５ａ，５ｂの間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】 曲面を含む表面の全体をドライ洗浄することができる表面洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】 本発明の表面洗浄方法は、被洗浄物２を回転させ、被洗浄物２の被洗浄表面４に対して斜めにエネルギー粒子１を照射し、洗浄工程には、前記回転および前記照射を同時に実行する時間帯及び／または前記回転および前記照射の一方のみを実行する時間帯が存在する。また、本発明の表面洗浄装置は、被洗浄物２を保持する保持部５と、被洗浄物２を回転させる回転機構３０と、被洗浄物２にエネルギー粒子１を照射するエネルギー粒子照射機構１６とを備え、エネルギー粒子１は、保持部５に保持された被洗浄物２の被洗浄表面４に対して斜めに照射される。 （もっと読む）

基板処理装置（１）は、基板（Ｗ）の周縁部を研磨する第１、第２研磨ユニット（７０Ａ，７０Ｂ）と、基板（Ｗ）を洗浄する１次洗浄ユニット（１００）と、１次洗浄ユニット（１００）で洗浄された基板（Ｗ）の乾燥を行う２次洗浄・乾燥ユニット（１１０）と、基板（Ｗ）の周縁部の測定を行う測定ユニット（３０）を備えている。測定ユニット（３０）は、直径計測機構、断面形状測定機構、表面状態測定機構など、第１、第２研磨ユニット（７０Ａ，７０Ｂ）の研磨に必要な測定を行なう機構を備えている。
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【課題】高スループットで電位コントラストの測定等を高信頼性で行うことができ、構造が簡単な電子線装置、及び該装置を用いて歩留まり良くデバイスを製造するためのデバイス製造方法を提供すること
【解決手段】パターンが形成された試料を電子線で照射し、該試料の評価を行うための電子線装置は、電子線源ＥＧ、対物レンズ１４、電磁偏向器１１、１２及び二次電子線検出器１７を収容した電子光学鏡筒１を備え、対物レンズ１４は、上部電極１８、中央電極１９及び下部電極２０から構成され、上部電極１８、中央電極１９及び下部電極２０に電圧を印加するための制御電源２１を更に備え、制御電源２１は、中央電極１９に一定値の電圧を印加し、上部電極１８でダイナミック・フォーカスを行って対物レンズ１４が合焦条件を満たすよう動作する。 （もっと読む）

【課題】高くて均一なろ過フラックスと低くて均一なろ過水濁度が確保、維持できる活性汚泥処理水の固液分離方法及びその装置を提供する。
【解決手段】被処理水を活性汚泥処理生物反応槽に導入し、生物反応槽の汚泥混合液を複数のろ過モジュールを浸漬設置するろ過分離槽に導入し、水頭圧でろ過モジュールからろ過水を得て、ろ過後の汚泥混合液を生物反応槽に返送する処理法において、ろ過分離槽内ろ過モジュール間に仕切り壁を設置し、各ろ過モジュール下部に散気管を設け、ろ過時は仕切り壁を介した両側のろ過モジュールからろ過水を得ながら、ろ過モジュール下部散気管への通気は仕切り壁を介した一方に対して行った後、他方に行い、切り換えて交互に行い、ろ過モジュールの洗浄時は、ろ過を停止し、ろ過モジュールの空気洗浄は所定時間毎に仕切り壁を介した両方のろ過モジュールに対して交互に実施する固液分離方法、装置。 （もっと読む）

【課題】 フロートスイッチの数を最小限にした安価かつ簡易な構成で、複数台の水中ポンプを交互に自動運転することができるポンプ装置を提供する。
【解決手段】 第１の水中ポンプ１は、第１の運転開始水位Ｌ_Ｓ１と第１の運転停止水位Ｌ_Ｅ１とを検出する第１のフロートスイッチ１０を有しており、第１の運転開始水位Ｌ_Ｓ１が検出されたときに運転を開始し、第１の運転停止水位Ｌ_Ｅ１が検出されたときに運転を停止するように構成されている。第２の水中ポンプ２は、第２の運転開始水位Ｌ_Ｓ２と、第２の運転停止水位Ｌ_Ｅ２とを検出する第２のフロートスイッチ２０と、異常水位Ｌ_Ａを検出する第３のフロートスイッチ３０とを有しており、第２の運転開始水位Ｌ_Ｓ２が検出されたときに所定の回数に１回の割合で運転を開始し、第２の運転停止水位Ｌ_Ｅ２が検出されたときに運転を停止し、異常水位Ｌ_Ａが検出されたときに運転を開始するように構成されている。 （もっと読む）