【課題】 ウェハを確実に吸着保持する静電チャックを提供すること。
【解決手段】 ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック１４１０は、基板１４０５、電極１４１２板及び絶縁層１４０４を重ねて成り、ウェハの印加電圧が０ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 （もっと読む）

【課題】目視によらず、ポンプの回転方向を検出することができ、さらにはポンプを正方向に回転させることができるポンプ装置を提供する。
【解決手段】ポンプ装置は、ポンプＰと、モータＭと、インバータ部１２と、インバータ部１２の出力電力を制御する制御部とを備える。制御部は、演算処理部１６と、記憶部１７と、インバータ部１２からモータＭへ流れる出力電流を検出する電流検出部２０とを有する。演算処理部１６は、ポンプＰを第１の回転方向に駆動しているときの出力電流と、ポンプＰを第１の回転方向とは逆の第２の回転方向に駆動しているときの出力電流とを比較し、出力電流のより小さい方の回転方向をポンプＰの正回転方向に決定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電動機の運転状態に応じて、永久磁石型同期運転と誘導電動機運転との切り替えを行い、運転性能の改善と電力消費の低減を実現する真空ポンプを低コストで提供する。
【解決手段】ロータケーシング内に配置されたポンプロータと、ポンプロータを回転させる回転軸と、回転軸の端部に連結され複数の永久磁石が配置され、かつ、複数の永久磁石の周囲に２次導体が配置された電動機回転子を有し、回転軸を駆動してポンプロータを回転させる電動機と、電動機の運転状態を検出する検出部と、検出部により検出された電動機の運転状態に応じて、永久磁石を用いて回転軸を駆動する永久磁石型同期運転と、２次導体を用いて回転軸を駆動する誘導電動機運転と、を切り換える制御部と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭ装置での検査速度高速化技術の提供。
【解決手段】ウェーハ下方の第１サーチダイの左下隅がカメラ中央付近に位置するようにステージを移動し、パターンマッチ用テンプレート画像を取得する。第１サーチダイの右隣のダイを第２サーチダイとし、第２サーチダイの上隣のダイを第３サーチダイとし、ステージを移動し、上記テンプレート画像を用いて自動でパターンマッチを実行することで、第２サーチダイ及び第３サーチダイのパターンの厳密な座標値を取得する。第２サーチダイのパターンマッチ座標と第３サーチダイのパターンマッチ座標の関係より、上隣ダイのパターンへの移動量を算出した、第１サーチダイの上隣のダイのパターンが存在すると予想される座標へステージを移動。テンプレート画像を用いてパターンマッチを実行することで、観察中のパターンの厳密な座標値を更新取得することを繰り返して精度を高めてゆく。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダへのアクセスが容易で、かつ、めっき装置でウェハの処理を行いながら、基板ホルダのメンテナンスが容易に行えるめっき装置、めっき方法及びめっき装置に用いるワゴンを提供する。
【解決手段】基板のめっき処理を行うめっき処理部１３０と、前記基板を保持する基板ホルダ１１０と、前記基板ホルダ１１０を保持して搬送する基板ホルダ搬送部１４０と、前記基板ホルダ１１０を収納するワゴン１５０と、前記ワゴン１５０を収納するワゴン設置部１６０とを有し、前記ワゴン１５０は、前記ワゴン１５０を前記ワゴン設置部１６０の内外に移動する移動手段を有することを特徴とするめっき装置。 （もっと読む）

【課題】排水機場のセミクローズ水槽を含む吸込水槽やポンプゲートにおける吸込水槽の流速を高速化させた場合であっても、ポンプに有害な渦や気泡の巻き込みを防止できる、又は渦や気泡をポンプに導かない吸込水槽を提供する。
【解決手段】吸込水槽はポンプに水を導くための水路である。本発明は、ポンプＰの上流側に配置され、吸込水槽の一方の側面２５から他方の側面２５まで延びる渦防止構造体２０と、渦防止構造体２０の両端部に配置される流路形成部材２１とを有する。渦防止構造体２０は、水の流れに対向する前面２０ａを有し、流路形成部材２１は、吸込水槽の側面２５から渦防止構造体２０の前面２０ａに向かって傾斜する傾斜面２１ａを有する。 （もっと読む）

【課題】下地層の上の上層膜のみを選択的に除去することができ、基板上のデバイスにダメージを与えず、さらには研磨痕を低減することができる効率のよい研磨方法を提供する。
【解決手段】この研磨方法は、基板Ｗの周縁部と研磨テープ１とを摺接させる工程と、基板Ｗの周縁部に接触している研磨テープ１に研磨液を供給する工程とを含む。研磨テープ１は、基材テープと、該基材テープ上に形成された固定砥粒とを有している。研磨液は、立体障害を起こす分子を含む添加剤と、アルカリ性薬液とを含んだアルカリ性研磨液である。 （もっと読む）

【課題】アノードへ確実に通電することができ、アノードの交換を容易に行うことができ、アノード交換における作業時間の効率化を図ることができるアノードホルダを提供する。
【解決手段】アノードホルダ１０は、アノード５を収容するアノードホルダベース１１と、アノードホルダベース１１の前面側に取り付けられアノード５の一部を覆うアノードマスク１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】インバータ、特にパワースイッチング素子を効率よく冷却することができるモータ組立体を提供する。
【解決手段】モータ組立体２は、ポンプ１に連結されるモータ５と、モータ５の側部に固定され、冷却フィン１８を有するインバータ６と、インバータ６の内部に配置され、インバータ６の内部の気体を攪拌するファン機構４と、モータ５の回転軸に取り付けられ、モータ５の反ポンプ側に配置された冷却ファン８と、モータ５の少なくとも一部と冷却ファン８とを覆い、モータ５と隙間を介して配置されたカバー７と、モータ５とカバー７との間の隙間に配置された少なくとも１つのガイド部材２１とを備える。ガイド部材２１は、冷却ファン８からの気体をインバータ６の冷却フィン１８に導く形状を有している。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダを、大掛かりな回転機構を用いることなく、水平状態から垂直状態、または垂直状態から水平状態に姿勢を変換することができるめっき装置、めっき処理方法及びめっき装置用基板ホルダの姿勢変換方法を提供する。
【解決手段】基板を着脱可能に保持する基板ホルダ１１０を水平に載置するためのテーブル１２０と、めっき処理部１３０と、基板ホルダを保持する保持部を有し、テーブルとめっき処理部との間で基板ホルダを搬送するための基板ホルダ搬送部１４０と、を備え、テーブルは、基板ホルダの一端部を支持し、かつ水平方向に移動可能な水平移動機構１２１を有し、基板ホルダ搬送部は、基板ホルダの他端部が水平移動機構に支持された状態で、保持部を昇降させることにより、水平移動機構の水平方向の移動をともなって、基板ホルダを垂直状態から水平状態または水平状態から垂直状態に変換させる昇降機構を有することを特徴とするめっき装置。 （もっと読む）