【課題】活性エネルギー線照射直後から充分な機械強度を有し、且つ、活性エネルギー線を照射するまでは良好な貯蔵安定性を示す硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する硬化性組成物。（Ａ）一般式（１）：−Ｚ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ^１）＝ＣＨ_２で表される置換基を分子内に１個以上有する数平均分子量が３，０００以上のポリオキシアルキレン系重合体。（Ｂ）一般式（２）：−［Ｓｉ（Ｒ^２_２−ｂ）（Ｘ_ｂ）Ｏ］_ｎＳｉ（Ｒ^２_３−ａ）Ｘ_ａで表される反応性ケイ素基を分子内に１個以上有する数平均分子量が３，０００以上の（メタ）アクリル系重合体。（Ｃ）粘着付与樹脂。（Ｄ）重合開始剤。（Ｅ）シラノール縮合触媒。 （もっと読む）

【課題】耐雷撃性に優れた航空機用構造材料を提供する。
【解決手段】航空機用構造材料は、強化繊維及び樹脂を含む複合材料２と、高分子フィルムを熱処理して得られるグラファイトフィルム１と、を含む。 （もっと読む）

【課題】乾燥工程が不要でかつ、カットミスの少ないアクリル系樹脂組成物からなるミニペレットの製造方法を提供する。
【解決手段】押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、を実施する。 （もっと読む）

【課題】非晶質シリコン系光電変換ユニットと結晶質シリコン系光電変換ユニットとを積層してなる積層型光電変換装置において、性能と生産性の両面に渡って、従来の光電変換装置を凌駕する。
【解決手段】非晶質シリコン系光電変換ユニット３の逆導電型層および／または結晶質シリコン系光電変換ユニット４の一導電型層が、シリコンオキサイドからなり、その前記非晶質シリコン系光電変換ユニットの逆導電型層および／または前記結晶質シリコン系光電変換ユニットの一導電型層の厚さを１４０〜２４０ｎｍとする。 （もっと読む）

【課題】アウターシャフトとインナーシャフトの隙間を適切に設計できる上に、インナーシャフトを柔軟にでき、その結果、ステント留置性能の高めたステントデリバリーカテーテルを提供する。
【解決手段】インナーシャフトは、ガイドワイヤ誘導チューブ１２と、そのガイドワイヤ誘導チューブ１２を挿入するプッシャチューブ１１とを含んでいるが、樹脂製のプッシャチューブ１１のみが、スリットを含む。 （もっと読む）

【課題】 生分解性を有し且つ成形性や物性が良好で、発泡倍率及び独立気泡率が高いＰ３ＨＡ系予備発泡粒子および型内発泡成形体を提供すること。
【解決手段】 ３−ヒドロキシヘキサノエートの組成比が６〜１２モル％であるポリ（３−ヒドロキシブチレート−コ−３−ヒドロキシヘキサノエート）共重合体を７０％以上含有する樹脂１００重量部に対して、構成脂肪酸が炭素数１〜１２の脂肪族酸であるグリセリントリエステルを１〜１０重量部含有するポリ（３−ヒドロキシアルカノエート）系樹脂組成物からなる粒子を、１０５〜１２５℃で発泡してなり、発泡倍率が２０倍以上かつ独立気泡率が９０％以上である無架橋のポリ（３−ヒドロキシアルカノエート）系予備発泡粒子を、金型内で相互に融着して型内発泡成形体を作製すること。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、長期の塗装密着性に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 疎水化表面処理を施した針状ワラストナイトを、ポリアミド樹脂とスチレン系樹脂とからなる樹脂組成物中に分散する事で、優れた耐熱性や塗装密着性を有する熱可塑性樹脂組成物からなる塗装密着性に優れた樹脂成形体の提供。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、塗膜乾燥後のタックフリー性に優れ、感光性を有するため微細加工が可能であり、得られる硬化膜が柔軟性、難燃性、電気絶縁信頼性に優れ、硬化後の基板の反りが小さい黒色感光性樹脂組成物、樹脂フィルム、絶縁膜、絶縁膜付きプリント配線板を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）架橋ポリマー粒子、（Ｃ）熱硬化性樹脂、（Ｄ）光重合開始剤、（Ｅ）リン系難燃剤、（Ｆ）黒色着色剤を含有することを特徴とする黒色感光性樹脂組成物を用いることで上記課題を解決しうる。 （もっと読む）

【課題】ピンホールの発生が抑制されるとともに、電気抵抗率を所望通りに制御可能であり、かつ、生産性よく導電性ポリイミドフィルムを製造できる方法を提供する。
【解決手段】導電付与剤とポリイミド樹脂を含有する導電性ポリイミドフィルムの製造方法であって、（Ａ）３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、４，４’−オキシジアニリン、並びに、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物および／またはｐ−フェニレンジアミンジアミン化合物を含む、テトラカルボン酸二無水物およびジアミン化合物を反応させてなるポリアミド酸、（Ｂ）導電付与剤、および、（Ｃ）イミド化促進剤を含有する塗膜を、乾燥・イミド化する。 （もっと読む）

【課題】 シリコン系薄膜の製造方法に関して、大面積の基板を用いた場合においても、高品質かつ均一な薄膜を得られる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、高周波電極と、該高周波電極と対向して配置される基板と、該高周波電極と対向して配置され、かつ、該基板を保持するホルダとを含み、プラズマＣＶＤ装置を使用するシリコン系薄膜の製造方法であって、
該高周波電極面と該ホルダ面との距離（Ｅ／Ｈ）、および該高周波電極面と該ホルダに保持された基板の面との距離（Ｅ／Ｓ）の差Ｄ＝（Ｅ／Ｓ）−（Ｅ／Ｈ）が、
２ｍｍ以上４ｍｍ以下であり、かつ該距離（Ｅ／Ｓ）が、５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするシリコン系薄膜の製造方法である。好ましくは該シリコン系薄膜が非晶質シリコン系薄膜であることを特徴とする。 （もっと読む）