【課題】外乱による揺れと駆動系による揺れとを判別可能な撮像装置を提供すること。
【解決手段】撮像部２０１と、この撮像部の撮像方向を制御する電動駆動部２０２とを備える撮像装置であって、撮像部２０１により得られる複数フレームからなる映像データをもとに、撮像部２０１の揺れ量を補正する補正ベクトルを算出する補正処理部２０３と、この補正ベクトルと、電動駆動部２０２の正常動作時の揺れ量を示す速度ベクトルとに基づいて、外乱による揺れと電動駆動部２０２の劣化による揺れとを判別する揺れ状態判別部２０５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】温度センサを用いて熱処理を制御する際の不具合を抑制する基板処理装置及び基板処理装置の温度制御方法を提供する。
【解決手段】第１の放射温度計の第１の温度検出手段と、第１の放射温度計によって測定される温度の範囲の上限よりも高い温度を温度の範囲の上限とし、かつ、第１の放射温度計によって測定される温度の範囲の下限よりも高い温度を測定される温度の範囲の下限とする第２の放射温度計を用いて、温度を検出する第２の温度検出手段とを有し、前記第１の温度検出手段により検出された温度が第一の閾値を超えた場合には第２の温度検出手段に切り替え、前記第２の温度検出手段により検出された温度が前記第一の閾値より低い第二の閾値を下回った場合には第１の温度検出手段に切り替え、前記第１の温度検出手段又は前記第２の温度検出手段により検出された温度と予め定められた閾値とに基づいて、加熱手段の制御を切り替える。 （もっと読む）

【課題】ガス種による排気性のばらつきを解消し、ボックス内における処理ガスの対流を防止する基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数のウエハに対して処理ガスにより熱処理を施すための処理炉を収容する装置本体１００と、前記処理ガスの供給を制御するガス制御ユニットを収容するガスボックス３００と、を有し、前記ガスボックス３００の上方に設けられた吸気口３０５から外気を取り込み、前記ガスボックスの下部に設けられた排気口３０３から該ガスボックス内部の雰囲気を排気する。 （もっと読む）

【課題】障害の発生及び復旧を上位装置に正確に通知すること。
【解決手段】無線通信装置は、無線により地上設備２０５と送受信を行うＴＲＸ１系２０３及びＴＲＸ２系２０４と、ＴＲＸ１系２０３及び第２送受信部２０４を現用系／予備系にそれぞれ設定するメインＣＰＵ２０１とを具備する。メインＣＰＵ２０１は、障害の発生を検出すると、その旨の通知を現用系に設定したＴＲＸ１系２０３またはＴＲＸ２系２０４から地上設備２０５に送信させ、ＴＲＸ１系２０３およびＴＲＸ２系２０４のいずれか一方で受信された地上設備２０５からの発生応答に基づいて、当該障害の発生通知処理を終了する。 （もっと読む）

【課題】形成した絶縁膜のリーク電流を抑制することができる半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を収容した処理室にそれ単独で固体となる第１の元素を含む第１の処理ガスをＣＶＤ反応が生じる温度条件下で供給することで、前記基板上に前記第１の元素を含む第１の層を形成する工程と、前記処理室にそれ単独では固体とならない第２の元素を含む第２の処理ガスを供給することで、前記第２の処理ガスと前記第１の層を反応させ前記第１の元素および前記第２の元素を含む第２の層を形成する工程と、を１回ずつ含むサイクルを１サイクルとして、このサイクルを１回以上行うことで、所定膜厚の前記第１の元素および前記第２の元素を含む薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 基板処理装置が備えるそれぞれの系への電力の供給を個別に制御することで、電力の消費量を低減する。
【解決手段】 処理室内に搬入された基板を処理する処理系と、処理室内に搬入された基板の処理位置を調整する処理室内搬送系と、少なくとも処理系及び処理室内搬送系に電力を供給する主電源と、処理系への電力供給路上に設けられた第１の開閉器と、処理室内搬送系への電力供給路上に設けられた第２の開閉器と、を備える。 （もっと読む）

【課題】受信信号レベルが低く、Ｃ／Ｎが約−１０ｄＢ程度になる受信アンテナの方向調整の初期段階であっても、受信信号のレベルを検出する。
【解決手段】単一周波数の所定周期を有する受信信号の受信装置において、直交周波数変換し直交補正しながら直交Ａ／Ｄ変換した受信信号と送信部で挿入したプリアンブル信号の複素共役信号との複素乗算を行う。得られた複素乗算結果は１サンプル後の信号との差分演算を行うことで、キャリア周波数ずれによる回転成分を除去する。その後、プリアンブル期間での積分処理、フレーム方向の平均処理を施した後、最大値を検出する。この結果は低Ｃ／Ｎでの受信信号レベルを高精度に表現した値になることを利用し、低電界時の受信電力を推定する。 （もっと読む）

【課題】多様性に富んだ撮像条件のもとでストロボ光源による高速撮像に対応した撮像システムを提供すること。
【解決手段】撮像デバイスに画素周辺記録型撮像素子を用いたカメラ１にＬＥＤ投光器２-１〜２-ｎからなるストロボ光源を組み合わせ、これらＬＥＤ投光器２-１〜２-ｎをＦrame Ｏut Ｃontrol ユニット４により、前記画素周辺記録型撮像素子のフレーム期間を周期として予め設定してあるパターンに従って個別に又は複数個ずつ発光させるようにし、被写体の照明状態が任意に変更できるようにしたもの。 （もっと読む）

【課題】誤った遅延調整の実行を抑制させることで、歪補償性能の劣化を防止するようにした増幅装置を提供する。
【解決手段】入力信号を増幅器２により増幅する増幅装置において、入力信号を遅延させる遅延部３と、遅延された入力信号と増幅器１の出力を帰還させた帰還信号に基づいて、増幅器１による増幅において発生する歪を補償するための補正情報を作成する歪補償制御部４と、入力信号に対して補正情報に基づく歪補償処理を施す歪補償部１と、遅延された入力信号と帰還信号について、各信号の波形のずれの程度が小さくなるように遅延部３の遅延量を調整する遅延調整部５、入力信号に周波数成分が所定の低さの波形の区間が含まれることを検出し、当該区間についての各信号を遅延調整部５による調整に用いないように制御するバースト信号検出部６、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ガスクリーニングの際に供給されるＯ₂に起因するノズル内壁、ならびにノズル孔のエッチングを解決し、ＳｉＣ成膜における膜厚均一性悪化や結晶欠陥の発生などを防止する。
【解決手段】反応室内２２内のクリーニングを行う場合、石英からなるプレートを装填したボート１５を反応室２２に搬入し、反応室２２内を所望の圧力（真空度）、および所望の温度にする。その後、マスフローコントローラ４２，４５、およびバルブ４６，４９を制御し、クリーニングガス（Ｃｌ₂、Ａｒ）を供給する。このとき、プレートとクリーニングガスとの混合で起きる化学反応によってＯ₂ガスが発生する。この発生したＯ₂ガスが、ＳｉＣ膜ガスクリーニングの反応エッチングガスとなり、反応室内２２内のクリーニングが行われる。 （もっと読む）