【課題】撮像装置により撮像される画像に生じる色ずれを補正する色ずれ補正装置で、少ない測定ポイントで、簡易に色ずれを補正する。
【解決手段】色ずれ検出手段が、前記画像において、画素数より少ない複数の測定ポイントについて、色ずれに対する補正量を検出する。基準補正量検出手段が、前記画像をＭ（Ｍは２以上の値）個のエリアに分割した各エリアについて、前記色ずれ検出手段による検出結果に基づく直線近似を用いて、色ずれに対する基準となる補正量である基準補正量を検出する。画素補正量検出手段が、前記画像の画素について、前記基準補正量検出手段による検出結果に基づく直線近似を用いて、色ずれに対する補正量を検出する。 （もっと読む）

【課題】高精度なプロセス処理および高い安全性を実現することができる熱処理装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】熱処理装置１０は、基板を処理する反応管４２と、反応管４２を支持するマニホールド４４と、反応管４２の周囲に設けられ反応管４２内を加熱するヒータ４６と、ヒータ４６より下方の反応管４２の側方を囲うように設けられる囲い部５００と、囲い部５００と反応管４２との間の間隙５０６を強制排気する排気装置３０１と、反応管４２とマニホールド４４との間の当接部に設けられる密閉部材１５０と、を有し、囲い部５００には、排気装置が囲い部５００の外側の雰囲気を間隙５０６へ吸気する吸気口５０１が設けられる。 （もっと読む）

【課題】Ｐｏｉｎｔ−ｔｏ−ＰｏｉｎｔのＴＤＤ無線通信においてスペースダイバーシチの受信方式により安定した通信を行うことが可能な無線通信システムを提供する。
【解決手段】少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２と、上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２を介して対向する無線装置と無線通信を行う無線部１０２と、上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２の送受信の切替を制御する制御部１０３とを有し、上記制御部１０３は、所定のタイミング信号を受信することで上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２の送受信を切替える。 （もっと読む）

【課題】
汚染物やパーティクルがシリコン膜等を有する基板に混入することにより基板の品質や半導体装置の性能が劣化することを抑制し、表面粗さの小さいシリコン膜を形成する。
【解決する手段】
基板にシリコン膜を形成する膜形成工程と、前記シリコン膜に酸化種を供給し、前記シリコン膜を熱処理し前記シリコン膜の表層を酸化シリコン膜に改質する改質工程と、前記酸化シリコン膜を除去する除去工程と、を有する半導体装置の製造方法を提供することで上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】監視カメラ等からの複数の画像が監視用装置において多画面表示される場合、上述したように、監視カメラ等からの原画像に対してリサイズ処理が施されて表示されるため、表示データそのものを保存する場合には画質の劣化の問題が発生していた。
【解決手段】複数の画像の少なくとも一つにリサイズ処理を行った後、複数の画像を一つの画面に同時に表示出力する画像表示装置において、表示出力される複数の画像のそれぞれについて、リサイズ処理前の原画像のサイズを取得し、これら複数の原画像が、表示出力の際と同様の配置となるように、かつ、複数の原画像のサイズのうちの最大サイズを各原画像のそれぞれについての画像領域のサイズとして、これら複数の原画像が少なくとも一つの合成画像となるように合成する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で安価且つ簡易に取り付けることができる棚板に対する耐震構造を提供すること。
【解決手段】耐震構造２１は、棚板１０が支柱１７に対して前後左右上下方向に移動することを防止する。耐震構造２１は、折れ曲がった前端部１３ｃが支柱１７に固定されることで、棚板１０が前後方向に移動することを防止する棚板１０の側面パネル１３と、棚板１０を側面パネル１３側から挟み込み、棚板１０が左右上下方向に移動することを防止する挟み込み部材である１対の耐震レール２３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】W等の金属膜の酸化を防止しつつ、金属膜上に低温で酸化膜を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に金属膜が形成された少なくとも１枚のウエハ３１０を処理室３１８内に搬入する工程と、金属膜を含むウエハ３１０表面にシリコンを含む酸化膜を形成する工程と、を少なくとも備える半導体装置の製造方法であって、酸化膜の形成工程は、ウエハ３１０を所定の温度に加熱しながら、シリコン原子を含む第１の反応物質を処理室３１８内に供給する工程と、ウエハ３１０を所定の温度に加熱しながら、酸素原子を含む第２の反応物質と、水素とを処理室３１８内に供給する工程と、を有し、処理室３１８内の加熱温度と、水素に対する第２の反応物質の供給比を制御することにより、金属膜の酸化を制御する。 （もっと読む）

【課題】シールキャップアームや炉口シャッタアームの撓みを補正して、Ｏリングを十分潰すことができ、処理室を十分シールするができる閉塞補助機構を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を搬入する開口部を有し、搬入した基板に対し処理を行う処理室と、基板が処理室内にあるときに前記処理室の開口部を閉塞する第１の蓋体と、前記第１の蓋体を開閉動作させる第１の開閉機構と、基板が処理室内にないときに前記処理室の開口部を閉塞する第２の蓋体と、前記第２の蓋体を開閉動作させる第２の開閉機構と、前記第１の開閉機構の閉塞力を補助する第１の閉塞補助機構と、前記第２の開閉機構の閉塞力を補助する第２の閉塞補助機構とを備える基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】携帯無線機を簡易に組立及び分解でき、コネクタとＲＡＤＩＯ基板とを強固に接続できる携帯無線機における接続構造を提供すること。
【解決手段】接続構造２７は、アンテナを携帯無線機１０に接続する接続部であるコネクタ２３と、携帯無線機１０のデータを処理するＲＡＤＩＯ基板２５とを接続する。接続構造２７は、ＲＡＤＩＯ基板２５と、コネクタ２３とが固定され、コネクタ２３とＲＡＤＩＯ基板２５とを接続する接続部材である接続端子３３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】
レジスト層あるいはアモルファスカーボン層を表面に有する基板に、低温で良質の膜を形成する。
【解決手段】
レジスト層もしくはアモルファスカーボン層を表面に有する基板にＨＭＤＳガスを曝すＨＭＤＳガス暴露工程と、基板に酸素含有ガスを曝す酸素含有ガス暴露工程と、を行うことにより、少なくともレジスト層もしくはアモルファスカーボン層の上にシリコン酸化膜を形成する。これにより、基板の表面のレジストあるいはＡＣＬにダメージを与えることのない低い処理温度で、不純物が少なく、ウェットエッチングレートが低い膜をレジストあるいはＡＣＬの上に形成することができる。 （もっと読む）