【課題】Ｐｏｉｎｔ−ｔｏ−ＰｏｉｎｔのＴＤＤ無線通信においてスペースダイバーシチの受信方式により安定した通信を行うことが可能な無線通信システムを提供する。
【解決手段】少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２と、上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２を介して対向する無線装置と無線通信を行う無線部１０２と、上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２の送受信の切替を制御する制御部１０３とを有し、上記制御部１０３は、所定のタイミング信号を受信することで上記少なくとも２つのアンテナ１０１−１，１０１−２の送受信を切替える。 （もっと読む）

【課題】
汚染物やパーティクルがシリコン膜等を有する基板に混入することにより基板の品質や半導体装置の性能が劣化することを抑制し、表面粗さの小さいシリコン膜を形成する。
【解決する手段】
基板にシリコン膜を形成する膜形成工程と、前記シリコン膜に酸化種を供給し、前記シリコン膜を熱処理し前記シリコン膜の表層を酸化シリコン膜に改質する改質工程と、前記酸化シリコン膜を除去する除去工程と、を有する半導体装置の製造方法を提供することで上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】監視カメラ等からの複数の画像が監視用装置において多画面表示される場合、上述したように、監視カメラ等からの原画像に対してリサイズ処理が施されて表示されるため、表示データそのものを保存する場合には画質の劣化の問題が発生していた。
【解決手段】複数の画像の少なくとも一つにリサイズ処理を行った後、複数の画像を一つの画面に同時に表示出力する画像表示装置において、表示出力される複数の画像のそれぞれについて、リサイズ処理前の原画像のサイズを取得し、これら複数の原画像が、表示出力の際と同様の配置となるように、かつ、複数の原画像のサイズのうちの最大サイズを各原画像のそれぞれについての画像領域のサイズとして、これら複数の原画像が少なくとも一つの合成画像となるように合成する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で安価且つ簡易に取り付けることができる棚板に対する耐震構造を提供すること。
【解決手段】耐震構造２１は、棚板１０が支柱１７に対して前後左右上下方向に移動することを防止する。耐震構造２１は、折れ曲がった前端部１３ｃが支柱１７に固定されることで、棚板１０が前後方向に移動することを防止する棚板１０の側面パネル１３と、棚板１０を側面パネル１３側から挟み込み、棚板１０が左右上下方向に移動することを防止する挟み込み部材である１対の耐震レール２３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】W等の金属膜の酸化を防止しつつ、金属膜上に低温で酸化膜を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に金属膜が形成された少なくとも１枚のウエハ３１０を処理室３１８内に搬入する工程と、金属膜を含むウエハ３１０表面にシリコンを含む酸化膜を形成する工程と、を少なくとも備える半導体装置の製造方法であって、酸化膜の形成工程は、ウエハ３１０を所定の温度に加熱しながら、シリコン原子を含む第１の反応物質を処理室３１８内に供給する工程と、ウエハ３１０を所定の温度に加熱しながら、酸素原子を含む第２の反応物質と、水素とを処理室３１８内に供給する工程と、を有し、処理室３１８内の加熱温度と、水素に対する第２の反応物質の供給比を制御することにより、金属膜の酸化を制御する。 （もっと読む）

【課題】シールキャップアームや炉口シャッタアームの撓みを補正して、Ｏリングを十分潰すことができ、処理室を十分シールするができる閉塞補助機構を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を搬入する開口部を有し、搬入した基板に対し処理を行う処理室と、基板が処理室内にあるときに前記処理室の開口部を閉塞する第１の蓋体と、前記第１の蓋体を開閉動作させる第１の開閉機構と、基板が処理室内にないときに前記処理室の開口部を閉塞する第２の蓋体と、前記第２の蓋体を開閉動作させる第２の開閉機構と、前記第１の開閉機構の閉塞力を補助する第１の閉塞補助機構と、前記第２の開閉機構の閉塞力を補助する第２の閉塞補助機構とを備える基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】予期した明るさの画像が容易に得られるようにした撮像装置を提供すること。
【解決手段】撮像素子に設定される画像信号１フレーム当りの露光時間が任意に設定できるようにした撮像装置において、縦方向の寸法と横方向の寸法により面積が決まる方形の図形Ｇ１が表示可能な画像表示用のモニタを設け、露光時間の設定値と撮像レンズの絞り値により図形Ｇ１の縦方向の寸法が決り、画像信号のフレームレートにより図形Ｇ１の横方向の寸法が決るようにしたもの。露光量が図形Ｇ１の大きさに置き換えて表現されているので、感覚的に露光量がどの程度のものか容易に把握できる。 （もっと読む）

【課題】 基板上に成膜される薄膜の膜質を向上させる。
【解決手段】 イオンを発生するイオン発生部と、ターゲットを複数配列させたターゲット群を保持し、ターゲット群のうち所定のターゲットにイオンが入射するようターゲット群を回動させるターゲット保持部と、所定のターゲットにて発生したスパッタ粒子が入射されるように基板を保持する基板を保持する基板保持部と、ターゲット保持部に保持され、各ターゲットに対向する部位に第１開口部がそれぞれ形成されると共に、隣接する各ターゲット間を仕切る隔壁を複数有し、所定のターゲットにて発生したスパッタ粒子が他のターゲットに飛散することを抑制する飛散抑制部と、飛散抑制部と基板との間に設けられ、所定のターゲットを露出させるように第２開口部が形成されると共に、他のターゲットに対向する第１開口部を覆うように構成され、所定のターゲットにて発生したスパッタ粒子が他のターゲットに入射することを抑制する入射抑制部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マッピング情報を活用できる基板処理システムを提供する。
【解決手段】マッピング情報を活用できる基板処理システムは、複数枚のウエハを収納したポッドのキャリア識別子を認識する主制御部と、ウエハを搬送する動作制御部を主制御部からの指示に従って制御する搬送制御部と、ポッドのスロットにおけるウエハの有無を検知するマッピング装置と、を備えており、主制御部はキャリア識別子にマッピング装置の検知結果を含むマッピング情報を関連付けて蓄積してキャリア識別子−マッピング情報蓄積テーブル９１を作成する。テーブル９１に基づいて特定キャリア履歴ファイル９２を抽出することにより、マッピング情報を活用できる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス頻度を低減でき、適切なメンテナンス時期を見極めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、イオンを発生させるイオン源４０と、イオン源４０からのイオンビーム４５を受けるターゲット３６と、第一真空容器１１内に収容されてターゲット３６からのスパッタ粒子４６を受けるウエハ１を保持するウエハホルダ１８と、第二真空容器２２へのスパッタ粒子４６の付着を抑制する防着板５１と、防着板５１へ付着するスパッタ粒子４６の付着量を予測する付着量予測部６１とを備える。 （もっと読む）