説明

株式会社日立国際電気により出願された特許

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【課題】低コストで必要な仕事関数及び耐酸化性を有する金属膜を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】基板上に形成された絶縁膜と、絶縁膜に隣接して設けられた金属膜と、を有し、金属膜は、第1の金属膜と第2の金属膜との積層構造を有しており、第1の金属膜は第2の金属膜よりも耐酸化性が高い物質で構成され、第2の金属膜は4.8eVよりも高い仕事関数を有する第1の金属膜とは異なる物質で構成され、第1の金属膜は第2の金属膜と絶縁膜との間に設けられている。 (もっと読む)


【課題】無線基地局装置のソフトウエアの更新が常に的確に行え、容易に新規機能の追加や信頼性の向上に対応できるようにした移動体通信システムを提供すること。
【解決手段】移動体通信システムの監視制御サーバ2にソフトウエア更新判別機能部21を設け、移動端末にアクセスする無線基地局装置のソフトウエア更新に当該無線基地局装置のソフトウエアバージョンと障害発生率及び負荷の状態を考慮することができ、対象となっている無線基地局装置に対するソフトウエアのバージョンアップに合理性が与えられるようにしたもの。 (もっと読む)


【課題】 積層された基板へ供給されるガスの流量と流速とを均一化することで、前記積載された基板に対してガスを均一に供給する。
【解決手段】 複数の基板を収容する反応室を形成する反応管と、反応管の内部に設けられたバッファ室と、反応室内に第1の処理ガスを導入する第1のガス導入部と、バッファ室内に第2の処理ガスを導入する第2のガス導入部と、を備え、第1のガス導入部は第1のガス供給口を有し、第2のガス導入部はガス導入口を有し、バッファ室は、第2の処理ガスを反応室内に供給する複数の第2のガス供給口を有し、第2のガス導入部にリモートプラズマユニットが設けられ、第2の処理ガスが活性化され、活性化された第2の処理ガスが複数の第2のガス供給口から反応室内に供給され、第1の処理ガスと活性化された第2の処理ガスとが交互に複数回供給されて基板の表面に薄膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】各部品の破壊や接触不良を検出する安定で信頼性の高い装置を提供する。
【解決手段】 基板を処理する処理室と、基板を加熱するヒータと、ヒータを内包し処理室内に設けられた基板支持台と、基板支持台を支持するシャフトと、シャフト内に挿通された配線と、配線を保持する保持部と、保持部に接続された温度検出部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】不純物が注入される基板の表面の荒れを抑制させる。
【解決手段】処理室内に基板を搬入して処理室内に設けられた基板載置部上に基板を載置する基板搬入工程と、ボロン含有ガス及び水素含有ガスをガス供給部により処理室内に供給し、処理室内の雰囲気を前記ボロン含有ガス及び水素含有ガスの混合雰囲気とするガス供給工程と、処理室内に供給されたボロン含有ガス及び水素含有ガスをプラズマ生成部によりプラズマ状態とし、プラズマ状態となったボロン含有ガス及び水素含有ガスを基板表面に供給して基板中にボロンを注入するプラズマドーピング工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】フロントガラスへの汚れの固着を軽減する。
【解決手段】カメラ内部搭載の放熱ファンから吐き出されるエアーを導出し、フロントガラスに吹き付けるようにした。具体的には、パン軸及びチルト軸の駆動手段を収納する密閉構造の筐体と前記筐体の外側を覆う外側ケースとを有するボディーと、前記ボディーのチルト軸により回動可能に支持されるカメラ部と、前記ボディーのパン軸を支持するベースと、を備える雲台一体型カメラにおいて、前記筐体と前記外側ケースとの間の空間に、前記筐体を空冷する気流を発生させるファンと、前記気流の少なくも一部を、前記カメラ部のフロントガラスに噴射する導風手段と、を更に備えた。 (もっと読む)


【課題】 複数のLANネットワーク間を無線回線又は迂回回路で接続する通信システムにおいて、無線回線の障害発生時にリンクダウン転送が行われた場合に、保守端末からの遠隔保守を可能として利便性を向上させ、迅速な障害復帰を図る通信システムを提供する。
【解決手段】 無線回線装置22が、無線回線における障害を検出すると、切替装置24に対するリンク信号の出力を停止し、一定時間が経過するとリンク信号の出力を再開し、切替装置24が、リンク信号の停止を検出するとLANネットワークの接続先を迂回回路42に切り替え、リンク信号の受信を検出するとLANネットワークの接続先を無線回線装置22に切り替え、保守端末23が、切替装置22によって切り替えられた無線回線装置23の保守を行う通信システムである。 (もっと読む)


【課題】高いアスペクト比で狭い幅の溝に、シリコン酸化膜を埋め込むことの可能な、スループットの高い半導体製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法において、基板を処理室内へ搬入する工程と、炭素及び水素を含むシリコン化合物ガスを処理室内へ供給して、処理室内を第1の圧力の状態にする工程と、処理室内を前記第1の圧力にした状態において、処理室内へ供給されたシリコン化合物ガスに紫外光を照射して、基板上にシリコン酸化膜を形成する工程と、処理室内を前記第1の圧力よりも低い第2の圧力の状態にする減圧処理工程とを行う。これにより、高アスペクト比で狭い幅の溝内に、緻密なシリコン酸化膜を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】 Niを含む膜の下地依存性による表面モフォロジ劣化を解決し、薄膜領域で連続膜を形成することができる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理容器内に基板を搬入する工程と、処理容器内で基板を加熱する工程と、処理容器内に還元性ガスを供給し排気して、加熱された状態の基板に対して前処理を行う工程と、処理容器内に不活性ガスを供給し排気して、処理容器内に残留する還元性ガスを除去する工程と、還元性ガスを除去した処理容器内にニッケルを含む原料を供給し排気して、前処理がなされた加熱された状態の基板上に所定膜厚のニッケルを含む膜を形成する処理を行う工程と、処理容器内から処理済基板を搬出する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】雲台カメラ装置に安価なポテンションメータを使用して、エンドレスで撮像装置の回転の位置検出をおこなうことができ、しかも、位置検出の分解能を高くする。
【解決手段】ポテンションメータで撮像装置の回転位置の検出をおこなうようにしたものであり、低分解能用の抵抗帯と高分解能用の抵抗帯を有している。ポテンションメータでは、同心円上に低分解能用の抵抗帯を1本以上、高分解能用の抵抗帯を2本以上配置し、高分解能用の抵抗帯は、同一円上で2本以上分離されている。そして、抵抗帯に同一電圧を印加することにより、低分解能と高分解能からなるポテンションメータの出力電圧の可変範囲を同一とし、回転角度対出力電圧の関係について、低分解能より高分解能の方が回転角度に対する出力電圧変化を大きくしている。 (もっと読む)


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