説明

株式会社日立国際電気により出願された特許

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【課題】基板に形成された高いアスペクト比の素子分離溝でも、空洞の発生を抑制して当該溝中にシリコン絶縁膜を埋め込むこと。
【解決手段】高いアスペクト比の素子分離溝が形成された基板を処理室に搬入する基板搬入工程と、前記処理室を第一ガスであるヘキサメチルジシラザン(HMDS)含有ガス雰囲気にするシリコン含有ガス雰囲気工程と、前記処理室を第二ガスであるパージガス雰囲気にする第一パージガス雰囲気工程と、前記処理室を第三ガスである酸素ガスであってプラズマ状態の酸素含有ガス雰囲気にする酸素含有ガス雰囲気工程と、前記処理室を第二ガスであるパージガス雰囲気にする第二パージガス雰囲気工程と、前記シリコン含有ガス雰囲気工程、前記第一パージガス雰囲気工程、前記酸素含有ガス雰囲気工程、及び前記第二パージガス雰囲気工程を繰り返す工程と、を有する半導体装置の製造方法、及びそれを実現する基板処理装置である。 (もっと読む)


【課題】膜応力の小さい低誘電率の絶縁膜を形成できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理室内へ無機シリコンガスと酸素含有ガスを供給している状態で、励起エネルギーを処理室内へ供給して、基板表面にシリコン酸化膜を形成するシリコン酸化膜形成工程と、処理室内へ有機シリコンガスを供給している状態で、励起エネルギーを処理室内へ供給して、基板表面にシリコン膜を形成するシリコン膜形成工程と、を行うことにより、処理室内の基板表面に絶縁膜を形成するよう、基板処理装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】光を用いて基板を処理する基板処理装置において、処理基板の大型化に対応することのできる技術を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、処理室内に設けられ基板を載置した状態で水平回転する基板載置部と、基板載置部に載置された基板に対向するように前記処理室外に設けられ処理室内へ光を照射する発光部と、処理室と発光部の間に設けられ処理室と発光部を隔てる仕切り部と、処理室内へ処理ガスを供給する処理ガス供給部と、処理室内の雰囲気を排気する排気部とを備えた基板処理装置において、仕切り部は、発光部から処理室内へ照射される光を透過する複数の透過窓と、該透過窓と透過窓との間に設けられ透過窓を固定する窓固定部とを備え、複数の透過窓のうち少なくとも1つの透過窓の面積は、基板の面積よりも小さくなるよう構成する。 (もっと読む)


【課題】処理室へ供給されるガスを充分に加熱することにより、ヘイズやスリップに起因する成膜不良を抑制することができる技術を提供する。
【解決手段】本発明における特徴は、例えば、図2に示すように、処理室209の外壁205とインナーチューブ206の間にガス導入空間210を設け、このガス導入空間210内に誘導加熱するための加熱体207を設けている点にある。これにより、ガス供給部211から供給される原料ガスは、まず、処理室209の内部に導入される前に先立って、ガス導入空間210内に導入され、このガス導入空間210に設けられている加熱体207によって加熱される。 (もっと読む)


【課題】周波数復調器の出力S/Nに基づき重み付け係数を決定することができるダイバーシチ受信機を提供する。
【解決手段】ブランチ1の周波数復調部出力を、BPF部202−1を通過させることでfmax〜B/2の帯域の全部または一部を得る。つまり、BPF部202−1を通過させることでS(信号成分)とN(雑音成分)を算出する。S(信号成分)とN(雑音成分)を2乗演算部203−1、平均化部204−1、及びブランチ逆数演算部205−1を通過させることで、BPF部202−1の出力電力の逆数となるブランチ1の周波数復調部出力のS/Nが得られ、このS/Nがブランチ1の重み付け係数となる。また、ブランチ2からブランチMの周波数復調部出力についても、同様にブランチ1からブランチMの重み付け係数が得られる。 (もっと読む)


【課題】反応室内に収容した複数の基板を、温度を均一に支持しながら短時間で加熱することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数の基板を収容する反応室と、前記反応室に処理ガスを供給するガス供給管と、前記反応室内の雰囲気を排気する排気管と、前記反応室内に設けられた加熱部と、前記反応室内に設けられ、前記反応室内の雰囲気を循環させるファンとから、基板処理装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】電力増幅器が故障した影響を最小限に抑える放送用送信装置を提供する。
【解決手段】第2の電力増幅器105が故障すると、第2の電力増幅器105から故障情報の監視信号が自動制御装置114に出力され、自動制御装置114は、内蔵する可変コンデンサ115と可変コンデンサ116の容量を大きくするための制御信号を生成し、第2のLPF106に出力する。第2のLPF106はこの制御信号により可変コンデンサ115と可変コンデンサ116の通過特性を変化させることで可変コンデンサ115と可変コンデンサ116の容量を大きくし、故障した第2の電力増幅器105の出力電力における通過帯域の周波数を低く抑え、故障した第2の電力増幅器105の減衰量を大きくする。このように減衰量を大きくすることで、合成器113の入力端113bを開放端と見なすことで合成器113は第2の電力増幅器105を擬似的に切り離す。 (もっと読む)


【課題】基地局を介した移動局間通信や指令台と移動局間の通信において、ハウリングや話し辛さを防止する。
【解決手段】スピーカと小音量のレシーバを有する移動局と、基地局と、基地局を介し移動局と交信しスピーカを有する指令台とを備え、移動局又は指令台が送信する通話信号に送信元の移動局又は指令台を特定する識別子が含まれる無線通信システムにおいて、基地局は、第1周波数により通話信号を送信し第2周波数により通話信号を受信するととともに、指令台からの通話信号を受信中の場合は、指令台からの通話信号を無線送信し、指令台からの通話信号を受信中でない場合は、送信元移動局からの通話信号を折り返して無線送信するように構成され、移動局は、受信した通話信号の識別子が自局と同一である場合はスピーカとレシーバをOFFする。 (もっと読む)


【課題】特に装置出力電力が大きい場合であっても出力端におけるVSWR値を精度よく検出できる新規な無線増幅装置のVSWR検出回路の提供。
【解決手段】増幅された進行波成分電力を分配する方向性結合器12と、装置出力端18にて反射された反射波成分電力を取り出すサーキュレータ13と、前記分配された進行波成分電力値と反射波成分電力値とに基づいてVSWR値を検出するVSWR検出手段を備え、当該VSWR検出手段は、前記分配された進行波成分電力の振幅と位相を変化させた電力と前記サーキュレータをリークしてくるリーク進行波成分電力とを合成して当該リーク進行波成分電力を除去すると共に、前記進行波成分電力と反射波成分電力との相対位相差が半波長の整数倍になるように制御する。 (もっと読む)


【課題】 位相回転補正処理を用いずに、FFT区間更新前後のシンボル差分電力を無効にし、周波数方向平均された雑音電力を用いてキャリア毎の尤度を算出する。
【解決手段】 設定部102が演算部103にFFT開始位置を設定又は位置更新し、当該位置更新通知情報を出力し、演算部103が受信時間信号を周波数信号に変換し、抽出部104が周波数信号からパイロットキャリアを抽出し、電力算出部106(204)がパイロットキャリアの差分電力を算出し、判定部106(206)が位置更新通知情報を用いて差分電力の有効を判定し、周波数方向平均部107が有効な差分電力の平均を算出し、それを平均雑音電力とする。また、推定部105がパイロットキャリアに対して周波数内挿を行うことで伝送路特性を推定し、等化部108が伝送路特性と受信周波数信号を用いて等化信号を算出し、尤度算出部109が等化信号と伝送路特性と平均雑音電力を用いて尤度を算出する。 (もっと読む)


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