説明

株式会社日立国際電気により出願された特許

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支持具に支持される基板間のピッチを縮小し、処理枚数を増大させることができる熱処理装置を提供する。熱処理装置10は、基板72を処理する反応炉40と、反応炉40内で複数枚の基板72を複数段に支持する支持具30とを有する。この支持具30は、基板72と接触する複数の支持板58と、この複数の支持板58を支持する支持片66とを有し、支持板58と支持片66が厚さ方向の少なくとも一部において重なるように構成される。 (もっと読む)


【課題】
限られた情報量で音声情報を確実に受信側で受信可能な電子メールの添付ファイル形式で送信するボイスメールサービスシステムを提供することを目的とする。
【解決手段】
パソコン8から携帯電話機1にボイスメールを送信する場合は、プロバイダー側のプロバイダー処理装置で音声情報が電子メールの添付ファイル形式に変換され、ゲートウエイサーバ装置B6、インターネット5を介して、ゲートウエイサーバ装置A4、加入者処理装置3、基地局2を通じて送信したい相手の携帯電話機1に送信する。逆に、携帯電話機1からパソコン8にボイスメールを送信する場合は、基地局2を介し加入者系処理装置3で受け取った音声情報を電子メールの添付ファイル形式に変換し、ゲートウエイサーバ装置A4、インターネット50介して、ゲートウエイサーバ装置B6、プロバイダー処理装置7を通じて送信したい相手のパソコンに送信する。 (もっと読む)


各処理室での処理時間が異なる基板処理装置で、処理室への基板投入間隔を一定として且つ処理室での基板滞留を発生させない。基板の搬送空間となる搬送室と、基板の処理時間がそれぞれ異なり且つ基板の処理がそれぞれにより並行に行われることが可能であり且つ一の基板の処理がそれぞれにより順番に行われる複数の処理室と、搬送室に設けられて基板を搬送する機能を有する基板搬送手段を備え、そして、基板搬送制御手段が、同一の処理室に対する基板の投入時間の間隔を一定として、一の処理室から他の処理室への基板の搬送処理の1以上について、一の処理室による基板の処理が終了した後に当該基板を他の処理室へ搬送する際に、当該搬送処理に要する標準搬送時間と比べて長い時間をかけて当該
搬送処理が完了されるように基板搬送手段による基板の搬送処理を制御する。 (もっと読む)


基板保持具を構成する支柱や基板載置部などの影響による基板上の膜厚不均一部分
を無くし、基板の膜厚均一性を向上する。
基板処理装置は、ボート(基板保持具)に保持された複数のウェハ(基板)を処理室に収容し、加熱された処理室に処理ガスを供給して、ウェハを成膜処理する。ボートは、略垂直に設けられた少なくとも3本の支柱15と、支柱に多段に設けられて複数のウェハを所定の間隔で略水平に載置する複数のウェハ支持部16(基板載置部)と、支柱15に設置され、ウェハ支持部16に支持されるウェハに対して所定の間隔で略水平に設けられる複数のリング状プレート13とを有する。 (もっと読む)


基板装入工程または/および基板引出工程時に、反応室内からパーティクルを有効に排除することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
ウェハ(200)を反応室(201)に装入する工程または/およびウェハ(200)を引き出す工程では、ウェハ(200)を処理する工程における排気流量よりも大きな排気流量にて反応室(201)内を排気する。前記ウェハ(200)を装入する工程または/およびウェハ(200)を引き出す工程では、前記反応室(201)内に不活性ガスを導入しつつ排気することが好ましい。
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本発明は、人の手を介することなく、自動的に正常状態にある基板を回収することができる基板処理装置を提供することを目的とする。基板12を多段に保持する基板保持具26と、この基板保持具26に基板12を移載する基板移載機34とからなり、基板保持具26の基板保持状態は検知部60により検知される。検知部60は、フォトセンサ64a,64bを有し、このフォトセンサ64a,64bから検知された検知波形が正常波形と比較され、少なくとも異常と判断された基板12以外の基板12を基板移載機34にて移載するよう制御する制御部66が設けられている。 (もっと読む)


基板処理装置は、基板を処理する処理炉以外の場所で処理前および処理後の少なくとも一方の基板表面の放射率を測定する放射率測定部材(21、22、23)と、測定結果を保存する記憶部11とを備えている。 (もっと読む)


反応炉1内で基板10に成膜を行う工程と、成膜後の基板10を反応炉1よりアンロード後、反応炉1内に10基板がない状態で反応炉1内を強制冷却する工程とを有する半導体装置の製造方法を提供する。反応炉1内に付着した堆積膜の応力を自然空冷時よりも増大させて積極的に熱応力を発生させ、堆積膜に自然空冷時以上の強制的な亀裂を発生させる。亀裂の発生により飛散した微細パーティクルは大気圧状態での炉内パージにより強制的に、また効率的に反応炉外に排出される。 (もっと読む)


【課題】 入力レベルに対して出力レベルが線形となる領域の場合でも、歪のない安定した増幅を行うことができる歪補償増幅装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 増幅時に発生する歪を補償する歪補償増幅装置であって、入力信号から入力レベルを検出する入力レベル検出部8と、入力信号から歪相殺信号を生成し、入力信号と歪相殺信号を合成する歪相殺信号合成部と、歪相殺信号合成部の出力を増幅する増幅部6と、増幅部6の出力から出力レベルを検出する出力レベル検出部9と、増幅部6の出力における歪が小さくなるように歪相殺信号合成部を制御するとともに、入力レベルに対して増幅部6の出力レベルが線形となる領域であれば、歪相殺信号を生成しないように歪相殺信号合成部を制御する制御部20とを備えた。 (もっと読む)


本発明にかかるマルチキャリア信号処理装置は、アナログ処理ブロック14(アナログ回路素子)の周波数特性を補償するよう設定されたフィルタ係数に基づいて、生成されたマルチキャリア信号に対して補正処理を施す。より好ましくは、アナログ回路素子の温度を測定する温度測定部248をさらに設け、FIRフィルタ120は、アナログ回路素子の温度に応じたフィルタ係数に基づいて補正処理を行う。これにより、アナログ回路素子の温度依存性の影響を緩和することができる。 (もっと読む)


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