【課題】太陽光が直接照射される地表付近や海上付近において、遠距離被写体の撮像位置が短時間に不規則に変化することを補正する撮像装置を提供する。
【解決手段】水平走査に同期した水平走査より短い時間、ＬＥＤまたはＬＤを用いた光源から出力された所定の波長帯の光を目標物体に照射し、照射された所定の波長帯の光による目標物体からの反射光を、画面一斉の水平走査に同期した電子シャッタ露光で撮像し、撮像された映像について、前記近赤外光の画面の輪郭成分と可視光画面の輪郭成分との相関を検出し、画面各部の往復分と片道分の差から片道分の地表大気の揺らぎ成分の移動ベクトルを検出し、可視光映像の画面各部ごとに片道分の地表大気の揺らぎの移動ベクトルを補正する。 （もっと読む）

【課題】温度検出手段を反応室の外部に設けたことで、処理ガスが前記温度検出手段に接触し、成膜されるのを防止し、前記温度検出手段の測定値の信頼性及び再現性の向上を図る熱処理装置を提供する。
【解決手段】複数枚の基板上に単結晶膜又は多結晶膜を成長させる熱処理装置であって、複数枚の基板を保持するボートと、該ボートを囲む様に設けられ反応室３２を構成する筒状発熱材２３と、該筒状発熱材を囲む様に設けられた反応管２１と、前記筒状発熱材と前記反応管との間に設けられた筒状断熱部２５と、前記筒状発熱材と前記筒状断熱部との間に設けられた温度測定用チップ２４と、該温度測定用チップの温度を測定する放射温度計４２とを具備し、該放射温度計が前記反応管の下端より下方に配置される。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＣ部材の表面近傍に残留している金属元素を、ＳｉＣ部材の破損を抑制しつつ、短時間かつ低コストで除去する。
【解決手段】 炭化珪素からなる部材が内部に露出した反応容器と、反応容器内を加熱する加熱部と、反応容器内に非酸化性ガスを供給するガス供給部と、反応容器内を排気する排気部と、反応容器内に非酸化性ガスを供給しつつ反応容器内を排気すると共に、反応容器内を処理温度に加熱して所定時間保持するように、ガス供給部、排気部、及び加熱部を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の保持状態を良好に検知することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、搬送室を中心として第１ロードロック室、第２ロードロック室、二つの処理室が配置され、搬送室は、第１のロードロック室及び第２ロードロック室と二つの処理室との間で基板を搬送する基板搬送部を有し、基板搬送部は、第１フィンガ７２ａ及び第２フィンガ７２ｂが設けられた上アーム７４を有し、第１フィンガ７２ａは、第１貫通孔８３及び第２貫通孔８４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】同じ信号が周期的に含まれる周期性のあるデジタル変調信号を受信する受信装置の等化部４で、複雑な遅延プロファイルの環境下においても高精度な等化処理を行う。
【解決手段】主波検出手段１５では、伝送路特性について初期位相を検出し、伝送路特性について信号の重心を検出し、重心が直交座標系の原点となるように伝送路特性の信号をシフトさせ、シフトさせられた信号を極座標系の信号へ変換し、変換結果の位相の平均化された傾きを検出し、変換結果の振幅を平均化し、位相の平均化された傾きと振幅の平均化結果と初期位相に基づいて直交座標系の主波成分の信号を生成する。 （もっと読む）

【課題】デッドスペースを増加させることなく、基板の面内均一性を向上させることができる基板処理装置及び基板保持体及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の基板２を保持する基板保持体と、複数の基板２を前記基板保持体で保持しつつ処理する処理室とを備え、前記基板保持体は、基板２を載置可能に構成される基板載置部と、該基板載置部に載置された基板２の周縁一部のガス流れを規制する第１規制部材３５とを複数鉛直方向に第１間隙を成して備える固定支柱２６、底板３１と、前記基板載置部に載置された基板２の周縁他部のガス流れを規制する第２規制部材３６を複数鉛直方向に前記第１間隙を成して備え、前記第２規制部材３６を前記周縁他部のガス流れを規制する第１位置から前記第１規制部材３５と鉛直方向に於いて少なくとも一部が重なりあう第２位置迄退避可能に構成されている可動支柱２７、支柱支持腕３３とを有する。 （もっと読む）

【課題】映像、音声、ＴＣ（タイムコード）をコンピュータで取り込む際に、それぞれのデータの時間同期のずれを生じさせないようにする。
【解決手段】入力位相のあった映像データ、音声データ、ＴＣデータを映像信号取り込みボードに入力して、映像信号取り込みボードでフレーム番号を生成し、映像データ、音声データ、ＴＣデータに対して、取り込んだ時間が同じであれば、同じフレーム番号を付加する。また、映像データ取り込みアプリケーション内で、デバイスドライバから取り込んだ映像データ、音声データ、ＴＣデータに付加されたフレーム番号を、各々比較し、同じフレーム番号であれば、同じ時刻の入力データであると判断して各々の映像データ、音声データ、ＴＣデータを同期して外部に配信する。 （もっと読む）

【課題】爆発等の発生を抑制することができる熱処理装置、半導体装置の製造方法、及び、基板の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気コイル５０によりアウターチューブ４２内を電磁誘導加熱するとともに、アウターチューブ４２とライナーチューブ２０４との間には、不活性ガス供給ノズル２１０が設けられており、この不活性ガス供給ノズル２１０の不活性ガス供給孔２１２から窒素（Ｎ_２）等の不活性ガスを導入し、処理室４４外の周囲空間２１４を上方から下方に向かってパージする。周囲空間２１４を不活性ガス雰囲気とし、この周囲空間２１４内の大気（酸素）濃度を低くする。 （もっと読む）

【課題】液体原料の種類・蒸気圧に応じて基板処理装置への原料ガス供給方式を選択可能なバブラを提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、液体原料をバブリングするためのキャリアガスを供給するキャリアガス供給ライン１０３に設けられたキャリアガス用ＭＦＣ１０６、第１バルブ１０７及び第２バルブ１０８と、液体原料を気化して得た原料ガスを処理容器２００内に供給する原料ガス供給ライン１０９に設けられた低差圧ＭＦＣ１１２、第４バルブ１１１及び第５バルブ１１３と、原料ガス供給ライン１０９から分岐して前記低差圧ＭＦＣ１１２、前記第４バルブ１１１及び前記第５バルブ１１３をバイパスするように設けられたバイパスライン１１５及び第６バルブ１１６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】移載室内が高温状態である場合に該移載室の扉が開くことを抑止し、作業者の安全を確保する。
【解決手段】基板１０の処理を行う処理炉２１に連設される移載室１３を備えた基板処理装置１であって、移載室内の温度を測定する温度測定手段３４と、移載室の扉１９の施錠及び解錠を行うロック機構２０と、温度測定手段３４で測定された温度に基づいてロック機構２０を制御する制御手段とを具備する。 （もっと読む）