【課題】傘歯車のバックラッシを適正に確保・調整することができ、且つ、正逆、負荷の大小の如何に拘わらず、この適正なバックラッシを維持する。
【解決手段】ハイポイドギヤ（傘歯車）５０を、ベアリングＢＬを介して支持する動力伝達装置５６において、前記軸受ＢＬをころ（転動体５８）が両方向のスラスト負荷を遊びなく支持し得る構造とすると共に、ころ５８のピッチ円Ｐｃ２をハイポイドギヤ５０の歯５０Ａの内端５０Ａ１より半径方向外側に位置させる。 （もっと読む）

【課題】ロボットの関節を駆動するのに最適な、特に軸方向長を短縮できる装置を得る。
【解決手段】扁平モータ４０と減速機３８とを備え、ロボットの第１部材３４と第２部材３６とを相対的に回転駆動するロボットの関節駆動装置３０であって、減速機３８の出力フランジ（出力軸）４４が、前記第１部材３４に固定され、減速機ケーシング４２が、（モータケーシング４３を介して）第２部材３６に固定され、減速機３８の入力軸５２が、片持ち状態で減速機ケーシング４２から突出された片持突出部５２Ａを有し、この片持ち突出部５２Ａに扁平モータ４０のロータ８０が固定される。 （もっと読む）

【課題】作業効率を低下させずに、圧縮成形工程において基板上に相互に離間して複数配置された半導体素子同士の間への圧縮成形用樹脂の流動などを最小限に低減することで、樹脂封止不良を低減する。
【解決手段】圧縮成形工程前において、被成形品（１０２、１０４）の凹凸（１０４Ａ）に対応して凸凹形状（１２０Ａ）が形成されている。又、基板１０２上に相互に離間して複数配置された半導体素子１０４を圧縮成形工程によって封止する際に用いる圧縮成形用樹脂１００であって、前記圧縮成形工程前において、前記各半導体素子１０４の配置位置１０４Ａに対応して複数の凹部１２０Ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】反応器から貯留容器までのＲＩ化合物の移送時間を短縮できるＲＩ化合物合成装置を提供する。
【解決手段】反応器７内での合成反応により^１８Ｆ−ＦＤＧを得るＦＤＧ合成装置１において、^１８Ｆ−ＦＤＧを分注前に貯留するバイアル１３と、反応器７とバイアル１３とを気密に接続する移送チューブ１５と、反応器７からバイアル１３に^１８Ｆ−ＦＤＧを圧送する圧送手段２５と、バイアル１３に接続された吸引チューブ２９を介してバイアル１３の気体を吸引して減圧する減圧手段３７とを備える。このＦＤＧ合成装置１では、減圧手段３７によってバイアル１３内を減圧するので、バイアル１３内を大気開放して大気圧に維持する場合に比べて、圧送手段２５による^１８Ｆ−ＦＤＧの圧送効率は向上し、所定量の^１８Ｆ−ＦＤＧを反応器７からバイアル１３へ移送する際の時間は短縮する。 （もっと読む）

【課題】 ＭＲＩクライオスタットのネックチューブ内のヘリウムガス内に搭載される多段パルスチューブの蓄冷器とパルスチューブとの間の異なる温度特性に関連した対流損失を低減すること。
【解決手段】 ＭＲＩクライオスタットのネックチューブ内のヘリウムガス内に搭載される多段パルスチューブの蓄冷器とパルスチューブとの間の異なる温度特性に関連した対流損失は、一以上のパルスチューブと蓄冷器の間にスペーサを設けることにより低減される。 （もっと読む）

【課題】
ＤＯＥを用い、複数のレーザビーム源から出射したレーザビームを加算して、パワー密度を高めた照射光を形成する。
【解決手段】
レーザビーム照射方法は、第１のレーザビームを、第１の位置で第１の反射ミラーにより第１の方向に平行な方向に反射させ、発散光として進行させる工程と、 第２のレーザビームを、第１の位置の近傍の第２の位置で第２の反射ミラーにより第１の方向に平行な方向に反射させ、発散光として進行させる工程と、第３のレーザビームを、第１の反射ミラーと第２の反射ミラーの間を通って、第１の方向に平行に発散光として進行させる工程と、重なりを持って第１の方向に進行する、第１、第２、第３のレーザビームの合波光を受け、平行ビームにする工程と、平行ビームを回折光学素子に入射させ、回折を生じさせる工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ＭＡＰ封止により一括封止された半導体製品をダイシング処理しても、いずれに不良半導体チップが入っているかを容易に判別可能とする。
【解決手段】基板１０の複数箇所に搭載された半導体チップ２０を一括して樹脂にて封止する樹脂封止装置１００であって、半導体チップ２０のうち不良半導体チップ２０Ｂの基板１０上の位置情報を、当該基板１０上に付された不良マーキング１１から取得するマーキング検出器２と、取得した位置情報に基づいて、全てのダイシング処理後においても不良半導体チップ２０Ｂを特定可能な位置に不良マーキング３０を付するインクジェット機構３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で対象物の三次元的な傾斜角度調整が可能となるチルトステージを提供する。
【解決手段】第１のリニアアクチュエータ４によって第１の作動片８が鉛直方向へ移動し、チルトテーブル２は、滑動面２ｂと支持面３ｂとの間の空気膜を介してＹ軸周りに傾動することとなる。また、第２のリニアアクチュエータ６によって第２の作動片９が鉛直方向へ移動し、チルトテーブル２は、滑動面２ｂと支持面３ｂとの間の空気膜を介してＸ軸周りに傾動することとなる。そして、第１の作動片８の上下動と第２の作動片９の上下動とを組み合わせることによって、水平面に対して様々な傾斜角度で傾動させることとなる。 （もっと読む）

【課題】輻射熱の影響を抑えつつ高い排気性能を実現するクライオポンプを提供する。
【解決手段】クライオポンプ１０は、排気されるべき気体が進入する吸気口２０を有するクライオポンプ容器１２と、クライオポンプ容器１２の内部に配設される第２冷却ステージ２２を備える冷凍機１４と、第２冷却ステージ２２に熱的に接続される中間部材２８と、第２冷却ステージ２２よりも気体進入方向Ａに関して吸気口２０から離れた位置に中間部材２８との接続部３２を有し、接続部３２から吸気口２０に向けて延在するクライオパネル２４と、を備える。例えば、吊り下げ型のパネル構造体１６を有するクライオポンプ１０が提供される。 （もっと読む）

【課題】貼り合わせられる上部基板Ｗｕに対して搭載する下部基板Ｗｄの高い平行度を出すことが可能なステージ装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】ステージ装置３４は、下部基板Ｗｄを保持する基板保持テーブル３６と、一方の軸の周りに基板保持テーブル３６を傾動させる第１駆動機構４６と、他方の軸の周りに基板保持テーブル３６を傾動させる第２駆動機構４８と、第１及び第２駆動機構４６，４８の駆動を制御する制御装置９０を備える。そして、制御装置９０は、基板保持テーブル３６に保持された下部基板Ｗｄが上部基板Ｗｕに当接した際、下部基板Ｗｄから基板保持テーブル３６に作用する力の一方の軸周りの力成分と他方の軸周りの力成分とをそれぞれ算出し、各力成分に基づいて下部基板Ｗｄが上部基板Ｗｕに平行になるように第１及び第２駆動機構４６，４８を駆動して、両基板を平行にさせる。 （もっと読む）