説明

芝浦メカトロニクス株式会社により出願された特許

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【課題】この発明は所定長さに切断された粘着テープの切断部の頭出し精度が低下するのを防止した粘着テープの貼着装置を提供することにある。
【解決手段】上記離型テープの供給リール11と、開閉駆動される一対の挟持片17a,18aを有する保持チャック17と送りチャック18を備え、これらチャックの一対の挟持片の開閉及び送りチャックの駆動によって離型テープを供給リールから所定の長さずつ間欠的に引き出して走行させる送り機構20と、送り機構によって引き出されて走行する離型テープに貼着された粘着テープを所定の長さに切断する切断機構31と、切断機構によって切断されて貼着位置に位置決めされた所定の長さの粘着テープを貼着位置で待機するTCPに加圧加熱して貼着する加圧ツール48を具備し、各チャックの少なくとも一方の挟持片の挟持面には、挟持面を油脂によって湿潤させるための油溝が形成されていて、油溝には挟持片に形成された油脂溜りから油脂が供給される。 (もっと読む)


【課題】安定した送液を維持し、さらに、作業性を向上させる。
【解決手段】送液装置は、液体が流れる液体流路と、液体流路を流れる液体を通して液体中に微小気泡を発生させる微小気泡発生装置8とを備え、微小気泡発生装置8は、貫通孔12aを有する微小気泡発生部材12を具備する。微小気泡発生部材12は、貫通孔12aの一端の開口であって液体が流入する流入口H1と、貫通孔12aの他端の開口であって流入口H1から流入した液体が流出する流出口H2とを有しており、少なくとも、流入口H1と流出口H2とが入れ替る回転範囲で回転可能に液体流路である内部流路11a内に設けられている。 (もっと読む)


【課題】複数のターゲットのそれぞれの裏面側に設けられた磁石からの磁場がプラズマ発生空間で互いに干渉し難い成膜装置を提供する。
【解決手段】大気よりも減圧された雰囲気を維持可能な真空槽と、前記真空槽のなかに設けられ、基板を載置することが可能な支持台と、前記真空槽のなかに設けられ、前記支持台の主面に、放電空間を介して、表面を対向させた複数のターゲットと、前記複数のターゲットのそれぞれの裏面側に設けられた磁石と、前記磁石のうちの少なくとも1つから前記放電空間へ向かう磁場を前記磁石と前記放電空間との間において低減させる低減手段と、を備えたことを特徴とする成膜装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】ペーストの塗布高さの測定精度を上げ、塗布製品の品質を向上させる。
【解決手段】ペースト塗布装置1は、塗布対象物Wの被塗布面にペーストを塗布する複数の塗布ヘッド3aと、それらの塗布ヘッド3aにそれぞれ一体的に設けられ被塗布面の変位を測定可能な複数のレーザ変位計3cと、制御を行う制御部とを備える。複数のレーザ変位計3cのうち少なくとも一つは光路面が塗布パターンにおける二直線のうち一方の直線に沿うように配置されており、少なくとも他の一つは光路面が二直線のうち他方の直線に沿うように配置されている。制御部は、被塗布面に描画された塗布パターンを形成するペーストの塗布高さを測定するとき、当該塗布パターンにおける直線状のペーストの延伸方向に光路面が沿った状態のレーザ変位計3cを直線状のペーストの延伸方向と交差する方向に移動させる制御を行う。 (もっと読む)


【課題】この発明はTCPに貼着された粘着テープから離型テープを確実に剥離できるようにした粘着テープの貼着装置を提供することにある。
【解決手段】TCP3を保持する吸着ヘッド18と、吸着ヘッドに保持されたTCPに対向するよう離型テープ20を所定方向に沿って間欠的に送る供給リール及び巻き取りリールと、離型テープが送られて所定長さに切断された粘着テープがTCPに対向したときに、離型テープの他方の面から粘着テープ19をTCPに加圧貼着する押圧ブロック34と、TCPに貼着された粘着テープから離型テープを剥離する剥離棒41と、剥離ローラによって離型テープを剥離するときにTCPに貼着された粘着テープを冷却するノズル体47を具備する。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で均一なプラズマを発生させることができるプラズマ発生装置およびプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置100は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生部2と、一端がマイクロ波発生部2と接続された第1の導波管3と、第1の導波管3のマイクロ波発生部2と接続された側とは反対の側に接続された第2の導波管4と、を備えている。第2の導波管4は、円環状のスロット5が設けられたH面と、H面に対して垂直な方向に伸びるE面と、を有している。H面に対して垂直な方向における第1の導波管3の断面寸法Lh1と、第2の導波管4の断面寸法Lh2と、は、同じとされ、E面に対して垂直な方向における第2の導波管4の断面寸法は、第1の導波管3の断面寸法よりも大きくされている。 (もっと読む)


【課題】貼り合わせの進行状態を検出することができる基板貼り合わせ装置および基板貼り合わせ方法を提供することである。
【解決手段】実施形態に係る基板貼り合わせ装置は、第1の基板を載置する載置部と、前記載置部に載置された前記第1の基板と所定の間隔をあけて対峙させた第2の基板の周縁部を支持する基板支持部と、前記第2の基板の貼り合わせ面の一部と、前記第1の基板の貼り合わせ面の一部と、を接触させる接触部と、平面視において、前記第2の基板の貼り合わせ面の一部と、前記第1の基板の貼り合わせ面の一部と、が接触する位置から並べて設けられた複数の受光部と、前記受光部に入射させる光を照射する投光部と、前記受光部からの出力に基づいて貼り合わせの進行状態を演算する演算部と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】ターンテーブルを用いて、ワークの位置決めと貼り合せと効率良く行うことができるとともに、安価で小型の貼合装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】ターンテーブルの少なくとも一ポジションに一対のワークを撮像する検出装置4が設けられ、撮像された画像に基づいて、一対のワークにおける方形の4頂点のうち3点を、それぞれ抽出する3点抽出部663と、抽出した3点のうち、方形の対角線の両端を構成する2点の中点を、ワークの重心として算出する重心算出部664と、抽出した3点のうち、方形の一辺を構成する2点に基づいて、ワークの傾きを算出する傾き算出部665と、重心及び傾きに基づいて、位置決め部の制御量を算出する位置決め演算部670と、を有する。 (もっと読む)


【課題】窓部の損傷を低減させることができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は処理容器2と、前記処理容器の内部を減圧する減圧部9と、被処理物を載置する載置部4と、内部にガスを供給するガス供給部18と、電磁波を透過させる窓部3と、前記窓部の外方に配置され、電磁場を発生させる複数の導体部21と複数の容量部とを有した負荷部20と、前記負荷部20に電力を印加する電源6bと、を備えている。前記導体部21と前記容量部とは電気的に交互に接続され、被処理物のプラズマ処理を行う場合には、前記容量部同士の間に設けられた前記導体部21において電位差の虚数成分が0(ゼロ)となる位置が生じるようにされ、前記負荷部20の第1の端子と、第2の端子と、の間における電位差の虚数成分の値が電位差の実数成分の値以下とされている。 (もっと読む)


【課題】トレイに対するマスクの位置ずれをより正確に検知する。
【解決手段】真空処理装置は、基板を真空処理する真空処理室と、前記基板と、前記基板を載置可能なトレイと、前記トレイに載置されるマスクと、からなる組体と、前記組体を前記真空処理室内に搬送する搬送アームと、前記真空処理室内に設置され、前記組体を支持する支持台と、前記真空処理室内に設置され、前記搬送アームと前記支持台の間で前記組体を移動させるリフタと、を備え、前記組体の状態を検出可能な複数の検出手段を有し、前記検出手段からの複数の検出結果によって前記マスクと前記トレイとの位置がずれた状態と判断する判断手段が設けられている。 (もっと読む)


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