【課題】優れた耐酸化性を有し、塗布法による半導体活性相形成が可能な、ビフェニレン誘導体、それを用いた耐酸化性有機半導体材料並びにそれからなる有機薄膜、発光材料、及び該ビフェニレン誘導体を簡便に経済的に製造する方法の提供。
【解決手段】式（１）で示されることを特徴とするビフェニレン誘導体。


（ここで、置換基Ｒ^１〜Ｒ^８は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子、炭素数２〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数２〜３０のアルケニル基、又は炭素数４〜２０のアリール基を示し、ｍは１又は２であり、ｎは０〜２の整数を示す。但し、Ｒ^１及びＲ^２は同時に水素原子であることはない。） （もっと読む）

【課題】優れた耐酸化性を有し、塗布法による半導体活性相形成が可能な、ヘテロアセン誘導体の製造方法及びヘテロアセン誘導体の前駆体であるテトラハロターフェニル誘導体を提供する。
【解決手段】 一般式（１ａ）で示されるヘテロアセン誘導体の製造方法であり、一般式（２ａ）で示されるテトラハロターフェニル誘導体をメタル化剤を用いてジメタル化し、硫黄、セレン、あるいはテルルと反応させた後、環化することを特徴とするヘテロアセン誘導体の製造方法；一般式（１ｂ）で示されるヘテロアセン誘導体の製造方法であり、一般式（２ｂ）で示されるテトラハロターフェニル誘導体をメタル化剤を用いてジメタル化し、硫黄、セレン、あるいはテルルと反応させた後、環化することを特徴とするヘテロアセン誘導体の製造方法及び新規なテトラハロターフェニル誘導体。 （もっと読む）

【課題】フェニル基置換１，３，５−トリアジン化合物を製造し、これを構成成分とするりん光性の有機電界発光素子を得る。
【解決手段】一般式（１）


［式中、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、各々独立してフェニル基等を示し、Ｒ^１，Ｒ^２およびＲ^３は、各々独立して水素原子等を示す。Ｘは、同一または相異なって、フェニレン基等を示す。ｐおよびｑは、同一または相異なって、０〜２の整数を示す。Ａｒ^３およびＡｒ^４は、同一または相異なってピリジル基等を示す。］で表されることを特徴とするフェニル基置換１，３，５−トリアジン化合物を製造し、これを構成成分とするりん光性の有機電界発光素子を作製する。 （もっと読む）

【課題】 組成物のバンバリー作業性、押出機のダイ掃除性及びロール作業性が優れるクロロスルホン化ポリエチレンを提供する。
【解決手段】 重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比が１４以上であるクロロスルホン化ポリエチレン、又は重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比が１４以上であり、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）／重量平均分子量（Ｍｗ）の比が７．０以下であるクロロスルホン化ポリエチレン。 （もっと読む）

【課題】 塩化ビニル単量体又は塩化ビニル単量体とこれに共重合し得る単量体との混合単量体を、重合開始剤の存在下において水性媒体中で重合を行うに際して、重合時間を大幅に短縮し、塩化ビニル単量体とこれに共重合し得る単量体の反応性比が高いペースト塩ビの製造方法を提供する。
【解決手段】 塩化ビニル単量体又は塩化ビニル単量体とこれに共重合し得る単量体との混合単量体を、重合開始剤の存在下において水性媒体中で重合を行い、ペースト加工用塩化ビニル系樹脂を製造するに際し、重合開始前に塩化ビニル単量体又は該混合単量体の全仕込み量に対して１５重量％〜４５重量％の塩化ビニル単量体又は該混合単量体（１段目仕込み単量体）を仕込み、重合を開始後、残りの単量体を２段階以上に分割して、追加仕込みし、それぞれの追加仕込みは、仕込まれた単量体の重合転化率が８０％を超えて９５％に達するまでの期間に開始することを特徴とするペースト加工用塩化ビニル系樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アーキングやノジュールの発生を低減させ、製品の品質が安定しているＩＴＯ等の酸化物焼結体よりなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】酸化物焼結体からなる酸化物スパッタリングターゲットにおいて、ターゲットの被スパッタリング領域の算術平均粗さ（Ｒａ）や最大高さ粗さ（Ｒｚ）と酸化物焼結体の結晶粒径（ｄ）とが以下の少なくとも１式を満たすことにより、アーキングやノジュールの発生を低減することができる。
０．０５μｍ≦Ｒａ（μｍ）≦ｄ（μｍ）×０．２ （１）式
０．４μｍ≦Ｒｚ（μｍ）≦ｄ（μｍ）×１．８ （２）式 （もっと読む）

【課題】 組成物のバンバリー排出性と押出機のダイ掃除性が良好で、押出成形した加硫物のヘタリ率が小さく、かつ加硫物の引張応力が大きいクロロスルホン化ポリエチレンを提供する。
【解決手段】 Ｚ平均分子量（Ｍｚ）／重量平均分子量（Ｍｗ）の比が６．０以上であり、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の比が２．０〜７．０であることを特徴とするクロロスルホン化ポリエチレン、その製造法及び用途。 （もっと読む）

【課題】低温で保存しても凍結せず、接着物性が良好であるクロロプレンラテックスを提供する。
【解決手段】カルボン酸のアルカリ金属塩からなる乳化剤及び、ＨＬＢが９〜１６である下記一般式（１）で表されるノニオン系乳化剤を含むことを特徴とするクロロプレンラテックス、並びにその製造法。Ｒ−Ｏ（ＣＨ_２ＣＸＨＯ）ｎＨ（１）（式中、Ｒは炭素数９〜１６で分岐を有するアルキル鎖からなる親油基を表し、Ｘは水素又は炭素数１〜２のアルキル鎖を表し、ｎはノニオン系乳化剤のＨＬＢが９〜１６になる範囲の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 高活性かつ高選択的にエチレンを製造する方法を提供する。
【解決手段】 エタノールの脱水反応によりエチレンを製造するにあたり、プロトン型フェリエライトを用いた触媒の存在下で、エタノールを接触させることを特徴とするエチレンの製造法。 （もっと読む）

【課題】内径部を有する円板状の研磨材を備えた研磨工具でガラス基板を研磨後、研磨材の内周の摩耗量が極端に小さかったり、大きかったりすることがあり、研磨材の表面を修正加工する必要が生じ、またガラス基板を目的形状に研磨できない場合がある。
【解決手段】中心に内径穴１５ｃが形成された円板状の研磨材１５ｄを工具保持円盤１５ｂの片面側に固定し、工具保持円盤１５ｂを研磨装置により回転させて研磨材１５ｄに当接する被研磨部材の表面を研磨する研磨装置用の研磨工具において、円板状の研磨材１５ｄは、前記内径穴１５ｃの内径に対する外径の比である内外径比を１０％以上、２０％以下とした。 （もっと読む）