説明

東ソー株式会社により出願された特許

1,141 - 1,150 / 1,901


【課題】異種成分と複合化されたアルミナ焼結体では、アルミナ焼結体の異種成分との界面での光散乱により高い透光性を有する焼結体を得ることが困難であった。
【解決手段】アルミナと同等の屈折率を有するβ−アルミナ構造型アルミネート化合物とアルミナの複合焼結体において、β−アルミナ構造型アルミネート化合物を1〜50wt%とすることにより試料厚み1mmにおける600nm波長の全光線透過率45%以上、曲げ強度は500MPa以上の高透光性、高強度のアルミナ焼結体を得る。焼結粒径は10μm以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の表面を切り込み加工により研磨する際、加工時においてガラス基板の表面に加工不要な凸部が現れても、加工を要する要加工部のみを加工可能とする研磨方法を提供する。
【解決手段】回転テーブル上に粘弾性素材のバッキングパッド14によりガラス基板1を保持し、工具面を固定した研磨工具15により回転するガラス基板1の表面を切り込み加工により研磨加工する際、研磨工具15に対し、ガラス基板1の加工を要する箇所の通過時間を短くし、加工を不要とする箇所での通過時間を長くした。 (もっと読む)


【課題】本発明は、フィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた光学補償フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムを提供する。
【解決手段】β−置換アクリル酸エステル系樹脂からなるフィルムであって、該フィルムの3次元屈折率がフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny(ここでnxとnyが等しい場合は直交する任意の二軸の屈折率)、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnzとした場合に、nz>ny≧nxの関係にあることを特徴とする光学補償フィルム。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高分子量で生産性の高いフマル酸エステル重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 リンゴ酸エステルの含有率が0.3重量%以下であるフマル酸エステルをラジカル重合開始剤存在下で重合を行なうことを特徴とするフマル酸エステル重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 アミン触媒の揮発による臭気問題がほとんど発生しない、機械物性の優れるポリウレタン樹脂を、成形性、生産性よく製造できる方法及び触媒を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)


[式中、Rは炭素数3〜18の直鎖又は分枝アルキレン基、脂環式アルキレン基であり、Rは炭素数が1〜4の直鎖又は分枝状のアルキル基である。]で示される化合物からなるアミン触媒の存在下、ポリオールとポリイソシアネートを反応させて、ポリウレタン樹脂を製造する。 (もっと読む)


【課題】従来のアルミナ焼結体では曲げ強度、靭性及び透光性を全て兼ね備えたものが得られず、強度と審美性の両方を要求される歯科材料に適する透光性アルミナ焼結体が得られていなかった。
【解決手段】破壊靭性が4.5MPa・m0.5以上、曲げ強度350MPa以上、なおかつ波長600nmの可視光に対する全光線透過率(試料厚さ1mm)が60%以上である透光性アルミナ焼結体を提供する。焼結結晶粒子が平均アスペクト比1.5以上、平均長軸長さ15μm以下の細長板状及び/又は柱状粒子の焼結体であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 クロロプレンゴムの架橋を安定的に向上させ、優れたゴム物性を有する加硫ゴムを製造し得るクロロプレンポリマーラテックス組成物を提供する。
【解決手段】 クロロプレンポリマー100重量部に対して、2〜20重量部のハイドロタルサイトを含有することを特徴とする加硫ゴム製造用クロロプレンポリマーラテックス組成物及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、優れた耐熱性、透明性を有する光学材料に好適な新規なN−アルキルマレイミド系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式(1)で表されるN−アルキルマレイミド50〜100重量%およびその他共重合可能な単量体0〜50重量%からなる単量体混合物を、水溶性セルロース類の存在下に、油溶性ラジカル重合開始剤を用いて水性媒体中で懸濁重合することを特徴とするN−アルキルマレイミド系重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 ポリウレタンフォーム製造用触媒、エポキシ硬化剤、レジスト剥離剤、鋼用腐食防止剤として有用なN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンを効率的に経済性良く製造する方法を提供する。
【解決手段】 不純物としてホルムアルデヒド及びN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンを含有する粗製N,N−ジメチルアニリン(例えば、ホルムアルデヒド誘導体とアニリンを還元触媒及び水素存在下で反応させて得られる反応液)を、180℃以上の温度で加熱処理した後、還元触媒、及び水素の存在下で核水添反応する。 (もっと読む)


【課題】アルカノールアミン系のレジスト除去用組成物では、レジスト除去能力が十分でなく、特に有機溶媒を分解しやすく、しかも半導体、フラットパネルディスプレー材料へのダメージが大きかった。
【解決手段】N−(シアノアルキル)−N’−(2−ヒドロキシアルキル)エチレンジアミンを含んでなるレジスト除去用組成物では、レジスト除去能が高く、なおかつ有機溶媒を分解せず、半導体、フラットパネルディスプレー材料へのダメージがない。N−(シアノアルキル)−N’−(2−ヒドロキシアルキル)エチレンジアミンとしては、N−(シアノアルキル)−N’−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、(2−シアノエチル)−N’−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン、N−(2−メチル−2−シアノエチル)−N’−(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン等が好ましい。 (もっと読む)


1,141 - 1,150 / 1,901