東ソー株式会社により出願された特許
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セラミックスの製造方法
【課題】セラミックスの製造においては、品質の安定化のため、密度分布が均一なセラミックスが求められており、特に電磁波加熱によるセラミックスの製造方法ではセッターと接する部分とその他の部分の密度差を低減することが求められている。
【解決手段】ITOやAZO等のセラミックス原料粉末の成形体を電磁波加熱によって焼結するセラミックスの製造方法において、成形体を載せるセッターとして多孔質構造を有するセラミックスからなるものを用いる。
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光学補償フィルム
【課題】本発明は、フィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた光学補償フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムを提供する。
【解決手段】ビニレンカーボネート系樹脂からなるフィルムであって、該フィルムの3次元屈折率がフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny(ここでnxとnyが等しい場合は直交する任意の二軸の屈折率)、フィルム面外の垂直方向の屈折率をnzとした場合に、nz>ny≧nxの関係にあり、波長450nmで測定した位相差と波長550nmで測定した位相差の比(R450/R550)が1.1以下にある光学補償フィルム。
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透明フィルム
【課題】光学特性、耐熱性に優れた液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ用基板に用いられる光学フィルムを提供する。
【解決手段】フマル酸ジエステル系樹脂および平均粒子径が200nm以下であるコロイダルシリカ等の球状無機粒子からなることを特徴とする透明フィルムであり、該球状無機粒子は、有機シラン化合物、もしくは(メタ)アクリロイル基、スチリル基、ビニル基等の重合性基を含む有機化合物によって表面処理されていることが好ましい。
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多層積層体及びその製造方法
【課題】 熱衝撃に強く、接着性に優れた積層体を提供する。
【解決手段】 金属層及び樹脂層の少なくとも1層と、弾性電気絶縁層から構成され、金属層及び/又は樹脂層と弾性電気絶縁層とが接着されている多層積層体であって、弾性電気絶縁層が、不飽和カルボン酸をグラフトした変性ポリオレフィンからなり、当該不飽和カルボン酸をグラフトした変性ポリオレフィンが140℃に加熱したキシレンに不溶のゲルを含まないことを特徴とする多層積層体、並びにその製造方法。
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有機EL素子
【課題】 低駆動電圧、高発光効率を実現する有機EL素子を提供する。
【解決手段】 一対の電極間に少なくとも正孔輸送層および発光ホスト材料に発光ドーパント材料が分散された発光層を有する有機EL素子において、正孔輸送層と発光層との間に発光ドーパント材料からなる層(発光ドーパント層)を設け、かつ発光ドーパント層の発光量子収率が40%以上とする。
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円筒形スパッタリングターゲットの製造方法
【課題】割れ、欠けを著しく低減できる円筒形スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】ITOまたはAZO等のセラミックス焼結体からなる複数個の円筒形ターゲット材間に、少なくとも表面がフッ素樹脂からなる介在物を挿入し、それらを封止した後に、円筒形基材の外側面にIn等の半田材を用いて接合し、半田材が固化した後に半田材の融点より低い温度まで加熱を行い、加熱の開始温度以上で介在物を取り除くことを特徴とする、円筒形スパッタリングターゲットの製造方法。
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ルテニウム化合物、その製造方法、ルテニウム含有薄膜及びその製造方法
【課題】良好な気化特性を持ち、酸素などの酸化性の反応剤を用いない非酸化性雰囲気下の条件でのCVD法又はALD法などによって金属ルテニウム薄膜を製造するための原料となる新規な化合物、その製造方法、それを用いて製造したルテニウム含有薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式(1)
(式中、R1及びR2は各々独立に水素原子又は炭素数1から6のアルキル基を示す。ただし、R2が水素原子の時、R1は水素原子及びメチル基ではない。)で表されるルテニウム化合物を、例えばジ−μクロロ−ビス[クロロ(η6−アレーン)ルテニウム]と1,3−シクロヘキサジエン類との反応等により製造し、それを原料として使用することにより、ルテニウム含有薄膜を製造する。
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不飽和カルボン酸グラフトポリオレフィン及びその製造法
【課題】 プラスチック材料のみならず異種材料との接着性に優れ、広範な有用性を有する不飽和カルボン酸グラフトポリオレフィンを提供する。
【解決手段】 140℃に加熱したキシレンに不溶のゲルを含まず、かつ、不飽和カルボン酸のグラフト量が0.1〜10重量%であることを特徴とする不飽和カルボン酸グラフトポリオレフィン、及びその製造法。
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クロスカップリング化合物の製造方法
【課題】 有機合成上、非常に重要な反応技術であるクロスカップリング反応において、従来ニッケル系触媒では解決できなかった、芳香族ホウ素化合物のボロン酸エステルを効率的に反応させ、クロスカップリング化合物を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】 塩基の存在下、塩化ニッケルとN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンとの錯体及びトリフェニルホスフィンからなる触媒組成物を用い、エーテル系溶媒中で、特定の芳香族ホウ素化合物と特定のハロゲン化合物等とを、芳香族ホウ素化合物に対し0.5〜3倍モル量の水を添加して反応させる。
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エチレン系重合体およびそれよりなるフィルム
【目的】熱安定性に優れると共に、幅広い成形加工温度範囲で成形加工性に優れ、かつ、低温ヒートシール性にも優れたエチレン系重合体およびフィルムを提供する。
【解決手段】下記(A)〜(H)の要件を満足することを特徴とするエチレン系重合体を用いる。
(A)密度(kg/m3)が910以上940未満、(B)MFR(g/10分)が0.1以上20以下、(C)末端ビニル数が1,000炭素原子当たり0.2個以下、(D)160℃で測定した溶融張力[MS160(mN)]とMFRの関係がMS160>90−130×log(MFR)、(E)190℃で測定した溶融張力[MS190(mN)]とMS160の関係が、MS160/MS190<1.8、
(F)流動の活性化エネルギー[Ea(kJ/mol)]と密度の関係が、127−0.107d<Ea<88−0.060d、(G)連続昇温溶出分別法による溶出温度−溶出量曲線にピークが複数個存在、(H)50℃におけるn−ヘプタン抽出量が0.2重量%以下
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