説明

東ソー株式会社により出願された特許

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【課題】コア−シェル構造を有するLEV型ゼオライトと、その合成方法を提供するものである。
【解決手段】コアとシェルを有し、コアとシェルのSi/Alモル比が異なる、コア−シェル構造を有するLEV型ゼオライトである。このゼオライトは、FAU型ゼオライトと、ナトリウムイオンと、水酸化物イオンと、LEV型ゼオライト種結晶と、水とを含有する混合物を水熱合成する方法により合成できる。 (もっと読む)


【課題】 溶離液(バッファ)の種類が増大しても高圧状態での切り替え回数を最小限にできる(圧力変動を最小限にできる)流路系を提供すること。
【解決手段】 押出液を送液する送液手段と、第1の溶液を充填可能なループと前記ループに第1の溶液を充填する第1の充填手段とを設け第1の充填手段で第1の溶液を前記ループに充填可能な状態と前記ループに充填した第1の溶液を送液手段で送液された押出液により送液可能な状態とを切り替え可能な第1の流路切り替え手段と、第n(nは2以上)の溶液を充填可能なループと前記ループに第nの溶液を充填する第nの充填手段とを設け第nの充填手段で第nの溶液を前記ループに充填可能な状態と前記ループに充填した第nの溶液を送液手段で送液された押出液により送液可能な状態とを切り替え可能な第nの流路切り替え手段と、を備え、第nの流路切り替え手段を、第(n−1)の流路切り替え手段に設けたループに備えた、流路系により、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 粒子形状が良好で成型加工性に優れるオレフィン重合体を製造可能なオレフィン重合用触媒の開発。
【解決手段】成分(A)固体状アルミノキサン化合物、成分(B)有機金属化合物、成分(C)周期表第4族のメタロセン化合物、成分(D)成分(C)とは異なる周期表第4族のメタロセン化合物を構成成分とする重合用触媒を用いる。 (もっと読む)


【課題】
遷移金属元素を着色剤として明確な色調及び高い透明性を有し、意匠性および審美性が共に優れる着色透光性ジルコニア焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
イットリアを6mol%以上15mol%以下含有し、鉄、ニッケル、マンガン、コバルト、クロム、銅及びバナジウムからなる群から選ばれる少なくとも1種以上を酸化物換算で0.02mol%以上0.5mol%以下含有し、気孔率が高くとも1000ppmであることを特徴とする着色透光性ジルコニア焼結体。平均結晶粒径が大きくとも60μmであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 優れたレジスト剥離性を示すとともに、アルミ及び銅を腐食しない安価なレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】 非環状エチレンアミン、オクチル酸及び環状アミンを含むレジスト剥離剤を用いて銅配線用レジスト又はアルミ配線用レジストを剥離する。 (もっと読む)


【課題】種々の樹脂を材料として、親水性樹脂を製造可能な方法を提供すること。
【解決手段】炭素−水素結合を有する樹脂に、下記一般式(1)(式中、R、R、R及びRは、同一又は異なって、水素原子、低級アルキル基又はシアノ基であり、mは1からから500の整数であり、nは1から200の整数である)で示される繰り返し単位を有する表面改質剤を反応させることにより課題を解決する。
【化1】
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【課題】窒素酸化物を還元除去する触媒として、水熱耐久処理の後に、従来の銅が担持されているチャバザイト型ゼオライト触媒と比べ、低温における窒素酸化物浄化率が同等である上に、高温における窒素酸化物浄化率が高い、銅が担持されたチャバザイト型ゼオライトからなる触媒、及び、これに用いられる銅が担持されたチャバザイト型ゼオライトを提供する。
【解決手段】SiO/Alモル比が15〜50であって、平均粒子径が1.5μm以上であり、銅が担持されていて、銅のアルミニウムに対する原子割合が0.15〜0.30であるチャバザイト型ゼオライト。
【効果】水熱耐久処理の後に、150℃及び500℃において高い触媒活性を持続する。 (もっと読む)


【課題】 特に耐トラッキング性などの電気特性、機械的強度、溶融流動性、および成形品外観に優れることから、電気・電子部品又は自動車電装部品などの電気部品用途に有用なポリアリーレンスルフィド組成物を提供する。
【解決手段】 ポリアリーレンスルフィド(A)20〜60重量%、エチレン−脂肪酸ビニルエステル−ビニルアルコール共重合体(B)5〜30重量%、繊維状充填剤(C)10〜50重量%及び非繊維状充填剤(D)10〜50重量%からなるポリアリーレンスルフィド組成物。 (もっと読む)


【課題】 特に耐トラッキング性などの電気特性、機械的強度、溶融流動性、金型離型性、及び成形品外観に優れることから、電気・電子部品又は自動車電装部品などの電気部品用途に有用なポリアリーレンスルフィド組成物を提供する。
【解決手段】 ポリアリーレンスルフィド(A)20〜50重量%、エチレン−脂肪酸ビニルエステル−ビニルアルコール共重合体(B)0.5〜20重量%、2CaO・3B・5HOで表されるホウ酸カルシウムの水和物(C)20〜69.5重量%及び繊維状充填剤(D)10〜50重量%からなるポリアリーレンスルフィド組成物。 (もっと読む)


【課題】CVD法を用いて、微細な段差を有する基板をルテニウム薄膜で被覆するには、低温で薄膜を形成させることが必要であり、低温で成膜可能なルテニウム化合物が望まれていた。
【解決手段】ビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウム、及びビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウムに対して0.1〜100重量%の熱分解温度100℃〜300℃のルテニウム錯体を含有するルテニウム錯体混合物を原料として用い、CVD法等によりルテニウム含有膜を製造する。 (もっと読む)


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