説明

日産化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】 新規な殺虫、殺ダニ、殺線虫、殺軟体動物、殺菌又は殺バクテリア剤組成物及び病害虫の防除方法を提供する。
【解決手段】 式(1):
【化1】


[式中、AはC-Y又は窒素原子を表し、A及びAはC-H等を表し、AはC-H又は窒素原子を表し、Gはベンゼン環等を表し、Lは-CH(R)-等を表し、Xはハロゲン原子、トリフルオロメチル等を表し、Rは-C(O)R1a、-C(O)NHR1c等を表し、Rは水素原子、メチル、エチル、シクロプロピルメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、シアノメチル、アリル、プロパルギル等を表し、Rはトリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル等を表し、mは0〜5の整数を表す。]で表される置換イソキサゾリン化合物及びその塩より選ばれる1種又は2種以上と、公知の有害生物防除活性を有する有効成分より選ばれる1種又は2種以上を含有する殺虫、殺ダニ、殺線虫、殺軟体動物、殺菌又は殺バクテリア剤組成物。 (もっと読む)


【課題】露光波長に対して強い吸収を持ち、上層のレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】下記式(1)


(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Xは直接結合又はフェニレン基を表し、Aはナフチル基又はアントラセニル基を表す。)で表される構造単位を有するポリマー、少なくとも2つのビニルエーテル基を有する化合物、光酸発生剤及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】樹脂液中に通常の分散方法で分散することにより、無機微粒子が凝集することなく分散してポリマーシリカナノコンポジットが得られる方法を提供すること。
【解決手段】下記の(a)工程及び(b)工程による。
(a)工程:平均一次粒子径5〜100nmの疎水性シリカ粉末と樹脂液とを混合する工程、(b)工程:(a)工程で得られたシリカ含有樹脂液を硬化させる工程。前記疎水性シリカ粉末に、シリカ表面の1nm2当たり1.0〜5.0個のトリメチルシリル基が結合した疎水性シリカ粉末を用いる。 (もっと読む)


【課題】 形成した被覆物が耐温水性、耐候性、耐光性及び光沢性に優れ、特に紫外線による変色がほぼ完全に抑制され、且つ光活性によるクラックの発生がほぼ完全に抑制されたコーティング組成物及び光学部材を提供する。
【解決手段】2〜50nmの1次粒子径を有する酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子又は五酸化アンチモン−二酸化珪素複合コロイド粒子で変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子、又は酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子又は五酸化アンチモン−二酸化珪素複合コロイド粒子で変性された酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン複合コロイド粒子及びオキシカルボン酸を含有するコーティング組成物による。 (もっと読む)


【課題】ゲルの製造方法の提供。
【解決手段】0℃乃至80℃の温度下で湿式粉砕を行う方法の適用により、低分子ゲル化剤を水又は有機溶剤又はこれらの混合溶剤に分散させてゲル化させることを特徴とする、ゲルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】動物の寄生虫及び衛生害虫としての有害な節足動物や線虫類に対する新規な防除剤を提供する。
【解決手段】下式(1)で表される置換ジヒドロピロール化合物又はその塩より選ばれる1種又は2種以上を有効成分として含有する寄生虫及び衛生害虫防除剤。


[式中、AはC-X又は窒素原子を表し、A及びAはC-H等を表し、AはC-H又は窒素原子等を表し、Wは酸素原子等を表し、Xはハロゲン原子、トリフルオロメチル基等を表し、Xはハロゲン原子、トリフルオロメチル基等を表し、Xは水素原子、ハロゲン原子等を表し、Yはハロゲン原子、メチル基等を表し、Rはトリフルオロメチル基等を表し、RはC〜Cハロアルキル基、ピリジルメチル基、チアゾリルメチル基等を表し、Rは水素原子、シアノメチル基、メトキシメチル基、メトキシカルボニル基等を表す。] (もっと読む)


【課題】貴金属を使用しない水素ガスの製造方法の提供、詳細には、光増感作用を示す固体光触媒である酸化チタンと、触媒部位となる卑金属錯体化合物とを組み合わせた、酸化チタン−卑金属錯体光水素発生触媒を提供すること。
【解決手段】卑金属の錯体と二酸化チタンとを含むことを特徴とする光水素発生触媒。 (もっと読む)


【課題】温和な条件で、安全に、副反応及び目的物の分解が十分に低減され効率的に、オレフィン置換イソシアヌレート類をエポキシ化してエポキシ置換イソシアヌレート類を製造する方法を提供する。
【解決手段】(1)周期律表第VI族元素の酸化物の塩、(2)界面活性剤、(3)リン酸類及び/又はホスホン酸類を含有する触媒系を用いてエポキシ化反応不活性有機溶媒中でオレフィン置換イソシアヌレートを過酸化水素水と酸化反応させて少なくとも1つ以上の炭素炭素二重結合をエポキシ化させることを特徴とするエポキシ置換イソシアヌレートの製造方法。 (もっと読む)


【課題】イオン性重合体を含むレジスト下層膜形成組成物であって、帯電防止機能及び溶剤耐性を有するレジスト下層膜を形成することができる該組成物及び該組成物から形成されるレジスト下層膜を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】下記式(1):


で表される構造単位[a]及び[b]を有するイオン性重合体、架橋剤、架橋反応を促進させる化合物及び有機溶媒を含む、レジスト下層膜形成組成物。 (もっと読む)


【課題】炭素ナノ材料の分散剤としての応用が期待できる新規なイオン性高分岐ポリマー、並びに、炭素ナノ材料分散剤、及び炭素ナノ材料組成物を提供すること。
【解決手段】分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にカルボキシル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBとを、該モノマーA及び該モノマーBの合計モル数に対して、5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させる段階と、前記重合段階の前、前記重合段階の間、又は前記重合段階に続いて、前記カルボキシル基に窒素原子含有塩基性化合物を反応させる段階とにより得られる、イオン性高分岐ポリマー、該ポリマーよりなる炭素ナノ材料分散剤、及び該分散剤を含む炭素ナノ材料組成物。 (もっと読む)


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