説明

日産化学工業株式会社により出願された特許

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【課題】哺乳動物または鳥類等の寄生虫およびシロアリ科害虫の新規な防除方法を提供する。
【解決手段】式(1):


[式中、A1はC-Y等を表し、A2及びA3はC-H等を表し、A4はC-H又は窒素原子等を表し、Wは酸素原子又は硫黄原子を表し、X1はハロゲン原子、トリフルオロメチル等を表し、X2は水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル等を表し、X3は水素原子、ハロゲン原子等を表し、Yは水素原子、ハロゲン原子、メチル等を表し、R1はトリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル等を表し、R2はC1〜C4アルキル等を表し、R3は水素原子、メチル、エチル等を表し、R4は水素原子、メチル等を表し、R9はシクロプロピル等を表し、R18はメチル、エチル等を表し、pは0〜2の整数を表す。]で表される置換イソキサゾリン化合物およびその塩より選ばれる1種以上の有効量を投与または施用する非農園芸害虫の防除方法。 (もっと読む)


【課題】有機スイッチング素子のスイッチング特性のばらつきを抑制し、再現性を高めた素子を提供すること。
【解決手段】金属微粒子を含有する有機薄膜を2つの電極で挟んだ構造のスイッチング素子を製造する方法において、A)下側電極の上に、第一の高分子化合物を含有する有機下膜を形成する段階と、B)該有機下膜の上に、第一の金属微粒子を蒸着する段階と、C)続いて、その上に、前記第一の金属微粒子と同じ又は異なる第二の金属微粒子が前記第一の高分子化合物と同種又は異種の分散剤としての第二の高分子化合物によって分散されている有機上膜を形成する段階と、D)該有機上膜及び該有機下膜からなる金属微粒子を含有する有機薄膜を上側電極及び下側電極で挟んだ構造に作り上げる段階とを含み、前記第一の高分子化合物及び第二の高分子化合物は、ジチオカルバメート基を有する高分子化合物である、有機スイッチング素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】有害生物防除剤として有用な置換イソキサゾリン化合物の新規な製造中間体を提供する。
【解決手段】一般式(1):


[式中、A1、A2、A3及びA4はC-Y又は窒素原子を表し、Wは酸素原子又は硫黄原子を表し、Yは水素原子、ハロゲン原子等を表し、R1はアルキル、ハロアルキル、R6によって任意に置換されたアルキル、-N(R11)R10等を表し、R2は水素原子、メチル等を表し、R3は水素原子、シアノ、メチル等を表し、R6はシクロアルキル、-S(O)pR16等を表し、R10はアルキル、ハロアルキル、シクロプロピル等を表し、R11は水素原子等を表し、R16はメチル、エチル等を表し、pは0〜2の整数を表す。]で表される置換アセトフェノン化合物。 (もっと読む)


【課題】低コストで製造工程が平易であり、しかもコア部とクラッド部の屈折率差が大きく、小型の集積回路に好適な光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
下記の(A)工程乃至(E)工程を含む光導波路の製造方法:(A)工程:ベースの表面上に、互いに或る間隔の空間を形成するパターンを為すクラッド型材を配置する工程、(B)工程:配置されたクラッド型材の上側及びクラッド型材が配置されていないベース表面上に、チタン原子とケイ素原子を含む酸化物前駆物質を含有する液を用いて塗膜を形成する工程、(C)工程:前記塗膜に、所定のパターンを有するフォトマスクを通して放射線を照射し、続いて加熱処理し、これにより放射線照射された屈折率のより高いコア部を形成する工程、(D)工程:放射線未照射又は低放射線照射の領域を現像により溶解・除去する工程、及び(E)工程:クラッド型材をベース表面より除去し、オールエアクラッド光導波路の構造に作り上げる工程。 (もっと読む)


【課題】高収率、高純度にて、安定的に、かつ簡便に実施しうるポリアミド酸エステルの製造方法を提供する。
【解決手段】4−(4,6−ジアルコキシー1,3,5−トリアジンー2−イル)−4−アルキルモルホリニウムハライド及び塩基の存在下に、ジカルボン酸ジエステルとジアミンとを重縮合させる。前記塩基が、トリアルキルアミン又はN−アルキルモルホリンであり、温度が−20〜80℃にて重縮合させる製造方法であり、さらに、ジカルボン酸ジエステルとジアミンとジカルボン酸とを重縮合させる製造方法。 (もっと読む)


【課題】 上塗りフォトレジストの溶剤に対してレジスト下層膜中の光酸発生剤が溶出することがないこと、レジスト下層膜の感度調節が可能なこと、及びフォトレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 下記式(1):
【化1】


(ただし、Qは2〜6価の有機基であり、Rは単結合又は2価の連結基を示し、n1は1〜6の整数であり、n2は2〜6の整数である。)で示される架橋剤を含む感光性レジスト下層膜形成組成物。Qがベンゼン環、シクロヘキサン環、又はトリアジントリオン環である。アルカリ可溶性樹脂(A)、式(1)に記載の架橋剤(B)、光酸発生剤(C)、及び溶剤(D)を含む。アルカリ可溶性樹脂(A)が、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、カルボン酸エステル基、又はそれらの組み合わせを有する。 (もっと読む)


【課題】 不整脈治療剤の提供。
【解決手段】 式(I)
【化1】


〔R及びRは、C1−6アルキル基などを意味し、Rは、水酸基などを意味し、Rは水素原子などを意味し、XはC1−6アルキレン基などを意味し、Rは、水素原子などを意味し、Rは、C1−6アルキル基、C3−8シクロアルキル基、C3−8シクロアルケニル基、C6−14アリール基、C2−9ヘテロアリール基又はC2−9ヘテロシクリル基などを意味し、Vは置換基群Vより選ばれる置換基を意味し、mは0から2の整数などを意味し、Aはベンゼン環と二つの炭素原子を共有して縮環する5、6又は7員環を意味する。〕で表されるベンゾピラン誘導体又はその医薬的に許容される塩。 (もっと読む)


【課題】Si−O結合に起因する高透明性及び高耐熱性を活かし、更に高屈折率を示すシクロファン構造を有する加水分解性シランを提供する。
【解決手段】シクロファンを含む加水分解性シラン。シクロファンが[n,n]パラシクロファン(ただしnは1〜6の整数)である加水分解性シラン。上記シランが下記一般式(1):


〔ただし、Rは下記式(2):


で示される化合物である加水分解性シラン。上記シランが式(3):


で示される化合物である加水分解性シランである。 (もっと読む)


【課題】アルコール化合物の新規な酸化方法を提供する。
【解決手段】下記スキーム:
【化1】


で表される、多環式N−オキシル化合物を触媒として用い、亜硝酸化合物の存在下、酸素を用いることを特徴とするアルコール化合物の酸化方法。 (もっと読む)


【課題】アルコール化合物の新規な酸化方法を提供する
【解決手段】下記式(1)
【化1】


(式中、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子などを表し、R3とR4とは互いに結合して−CH2CHR7CH2−であってもよく、R6とR7とは一緒になってメチレンでもよく、−CH2CHR7CH2−及びメチレンのそれぞれの水素原子はR5で置換されていてもよい。)で表されるオキソアンモニウム硝酸塩の存在下に酸化剤として酸素を用いて酸化を行う。 (もっと読む)


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